KR20190106705A - 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

[과제]
[해결 수단] 하우징에 대해서 천정면 유닛(83)이 착탈 가능하게 구성되어 있다. 히터 유닛(115)은, 받이 부재(105)와 훅 가동부(107)에 의해서 천정면 유닛(83)에 장착되고, 떼어내진다. 따라서, 시즈히터 및 배선을 포함하는 히터 유닛(115)을 천정면 유닛(83)으로부터 용이하게 떼어낼 수 있으므로, 천정면 유닛(83)을 약액 등으로 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 메인테넌스 시에는, 가장 승화물이 퇴적하기 쉬운 배기구(49)나 내부 배기관(113)을 구비하고 있는 천정면 부재(91)를 떼어내어 약액 등에 침지하거나 하여 세정할 수 있어, 시즈히터 주위를 용이하게 청정화할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이용 기판, 플라즈마 디스플레이용 기판, 유기 EL용 기판, FED(Field Emission Display)용 기판, 광디스플레이용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 태양 전지용 기판 등의 각종 기판(이하, 간단히 기판이라고 칭한다)에 대해서, 열처리를 실시하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

종래, 이런 종류의 장치로서, 재치(載置)된 기판을 가열하는 열처리 플레이트와, 열처리 플레이트의 상부를 둘러싸며, 열처리 플레이트에 대해서 승강 가능하게 구성되고, 열처리 플레이트에 의한 열처리 분위기를 형성하는 커버 부재와, 열처리 플레이트와 커버 부재를 둘러싼 하우징과, 커버 부재의 천정면과 열처리 플레이트의 상면의 사이에 설치된 천판과, 천판의 하면과 열처리 플레이트의 상면의 간격을 조정하는 위치 조정 부재를 구비한 것이 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 또한, 도시되어 있지 않지만 커버 부재에는, 그 일부위에 배기구가 형성되어 있고, 열처리 분위기의 기체를 배기구로부터 하우징의 외부로 배기하고 있다.

최근에는, 미세 가공 프로세스를 위해서, 예를 들면, 도포 탄소막이라고 하는 하층막을 기판에 형성하는 경우가 있다. 이 하층막의 생성을 위해서는, 종래부터 행해지고 있는 열처리(예를 들면, 100~180℃)보다 고온(예를 들면, 300~500℃)에서 기판을 열처리하는데, 그 때 승화물을 포함하는 기체가 발생한다. 거기서, 배기구나 커버 부재에 승화물이 부착하지 않도록 배기구를 포함하는 커버 부재의 상면에 히터를 장착하고, 커버 부재를 가열함으로써 배기구나 커버 부재 등으로의 승화물의 부착을 억제하고 있다.

일본국 특허공개 2000－3843호 공보

그러나, 이러한 구성을 갖는 종래예의 경우에는, 다음과 같은 문제가 있다.

즉, 종래의 장치는, 히터로 가열하고 있다고는 해도, 배기구나 커버 부재에 승화물이 서서히 부착하여 퇴적한다. 퇴적한 승화물은, 배기 효율을 떨어뜨리거나, 처리 중의 기판에 낙하하여 기판을 오염하거나 하는 등의 문제를 일으킨다. 따라서, 정기적으로 메인테넌스를 실시하여 커버 부재를 세정할 필요가 있는데, 커버 부재에는 히터가 장착되어 있으므로, 커버 부재를 하우징으로부터 떼어내도 약액 등으로 청정하게 하는 것이 곤란하다. 또한, 종래보다 고온에서의 열처리로 인하여, 커버 부재에 나사 고정된 히터는, 나사가 눌어붙기 때문에 떼어내는 것을 용이하게는 할 수 없는 것도 곤란성을 높이고 있다. 또한, 이러한 과제는, 도포 탄소막이라고 하는 하층막이 피착된 기판과는 다른 기판에 있어서도 발생할 수 있다.

본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 메인테넌스 시에 히터 주위를 용이하게 청정화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해서, 다음과 같은 구성을 취한다.

즉, 청구항 1에 기재된 발명은, 기판에 대해서 열처리를 실시하는 기판 처리 장치에 있어서, 상면에 재치(載置)된 기판을 가열하여 열처리를 실시하는 열처리 플레이트와, 상기 열처리 플레이트의 상방을 덮어, 열처리 플레이트에 의한 열처리 분위기를 형성하는 하우징과, 상기 하우징의 천정면을 구성하고, 상기 열처리 분위기의 기체를 배출하는 배기구가 형성되어 있는 천정면 유닛과, 상기 천정면을 가열하는 히터 유닛을 구비하고, 상기 천정면 유닛은, 상기 하우징에 착탈 가능하게 구성되어 있음과 더불어, 상기 히터 유닛은, 히터와, 상기 히터를 위한 배선을 포함하고, 상기 히터 유닛을 상기 천정면 유닛에 대해서 장착하고, 상기 천정면 유닛으로부터 상기 히터 유닛을 떼어내기 위한 착탈부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.

［작용·효과］청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 열처리 플레이트에 의해 고온으로 되어 있는 열처리 분위기를 덮고 있는 하우징에 대해서 천정면 유닛이 착탈 가능하게 구성되어 있다. 히터 유닛은, 착탈부에 의해서 천정면 유닛에 장착되고, 떼어내진다. 따라서, 히터 및 배선을 포함하는 히터 유닛을 천정면 유닛으로부터 용이하게 떼어낼 수 있으므로, 천정면 유닛을 약액 등으로 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 메인테넌스 시에 히터 주위를 용이하게 청정화할 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 천정면 유닛은, 상기 배기구가 형성된 천정면 부재와, 상기 천정면 부재에 설치된 축부와, 상기 축부에 요동 가능하게 일단측이 장착되고, 상기 히터 유닛을 상기 천정면 부재의 상면과의 사이에서 협지하는 누름 부재를 구비하고, 상기 착탈부는, 고정구로 구성되어 있고, 상기 고정구는, 상기 누름 부재의 타단측과, 상기 천정면 부재 중 한쪽에 설치된 받이 부재와, 상기 누름 부재의 타단측과, 상기 천정면 부재 중 다른 쪽에 설치되어, 상기 받이 부재에 거는 훅과, 상기 훅을 조작하여, 상기 훅을 상기 받이 부재에 걸거나, 상기 훅을 상기 받이 부재로부터 빼거나 하는 레버를 갖는 훅 가동부를 구비하고 있는 것이 바람직하다(청구항 2).

히터 유닛은, 누름 부재에 의해 천정면 유닛의 천정면 부재에 협지되어 있다. 누름 부재와 천정면 부재는, 받이 부재와 훅 가동부로 이루어지는 고정구에 의해서 착탈 가능하게 장착되어 있다. 따라서, 고정구의 훅을 받이 부재로부터 빼내는 조작에 의해, 히터 유닛을 누름 부재에 의한 협지로부터 개방할 수 있다. 그 결과, 나사 고정에 의한 눌어붙음에 의해 히터를 떼어낼 수 없는 사태를 회피할 수 있어, 용이하게 히터를 히터 유닛마다 천정면 유닛으로부터 떼어낼 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 천정면 부재의 상면에 세워져 설치된 복수 개의 지지 핀과, 상기 복수 개의 지지 핀에 대응하는 위치에 형성된 복수 개의 개구를 구비하고, 상기 천정면 부재의 상부를 덮기 위한 덮개 부재를 추가로 구비하고 있음과 더불어, 상기 복수 개의 지지 핀은, 상기 천정면 부재의 면에 대해서 평행한 관통구가 상부에 형성되어 있고, 상기 덮개 부재는, 상기 덮개 부재의 개구에 삽입통과된 상기 지지 핀의 관통구에 분할 핀이 통과된 상태로 상기 천정면 부재에 대해서 고정되고, 상기 히터 유닛을 덮고 있는 것이 바람직하다(청구항 3).

히터 유닛을 덮고 있는 덮개 부재는, 분할 핀을 떼어냄으로써, 천정면 부재에 세워져 설치된 복수 개의 지지 핀으로부터 떼어내진다. 따라서, 나사 고정에 의한 눌어붙음에 의해 덮개 부재를 떼어낼 수 없는 사태를 회피할 수 있어, 용이하게 히터 유닛을 노출시킬 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 천정면 부재는, 상기 배기구와 일단측이 연통 접속되고, 타단측이 상기 하우징의 외부를 향하여 연장되어 설치된 내부 배기관을 상면에 구비하고, 상기 히터 유닛은, 상기 히터가 장착된 히터 장착 부재와, 상기 히터 장착 부재에 형성되고, 상기 천정면 부재의 상면으로부터 돌출하고 있는 상기 내부 배기관의 측면을 둘러싸는 배기 덕트 수납 개구를 구비하고, 상기 히터는, 상기 히터 장착 부재의 중앙보다 바깥 가장자리측과, 상기 배기 덕트 수납 개구의 외측을 따라서 배치되어 있는 것이 바람직하다(청구항 4).

히터는, 히터 장착 부재의 중앙보다 바깥 가장자리측과, 배기 덕트 수납 개구의 외측을 따라서 배치되어 있다. 따라서, 천정면 부재의 전체와, 천정면 부재에 형성되어 있는 내부 배기관을 함께 가열할 수 있다. 따라서, 배기의 온도 저하를 효율적으로 억제할 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 기판은, 가열됨으로써 승화물을 포함하는 기체를 발생시키는 피막이 형성되어 있는 것이 바람직하다(청구항 5).

승화물을 포함하는 기체를 발생시키는 피막이 피착된 기판이 처리 대상이어도, 퇴적한 승화물의 제거를 메인테넌스에 의해 용이하게 할 수 있다. 따라서, 이러한 기판의 열처리에 적합하다.

본 발명과 관련되는 기판 처리 장치에 의하면, 열처리 플레이트에 의해 고온으로 되어 있는 열처리 분위기를 덮고 있는 하우징에 대해서 천정면 유닛이 착탈 가능하게 구성되어 있다. 히터 유닛은, 착탈부에 의해서 천정면 유닛에 장착되고, 떼어내진다. 따라서, 히터 및 배선을 포함하는 히터 유닛을 천정면 유닛으로부터 용이하게 떼어낼 수 있으므로, 천정면 유닛을 약액 등으로 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 메인테넌스 시에 히터 주위를 용이하게 청정화할 수 있다.

도 1은, 실시예와 관련되는 기판 처리 장치의 전체 구성을 나타내는 개략 구성도이다.
도 2는, 가동 천판의 평면도이다.
도 3은, 승강 핀의 선단부 부근을 나타내는 종단면도이다.
도 4는, 천정면 유닛을 하우징으로부터 꺼낸 상태를 나타내는 사시도이다.
도 5는, 천정면 유닛을 나타내는 사시도이다.
도 6은, 천정면 유닛으로부터 덮개 부재를 떼어낸 상태를 나타내는 사시도이다.
도 7은, 천정면 유닛으로부터 히터 유닛을 떼어낸 상태를 나타내는 사시도이다.
도 8은, 히터 유닛에 있어서의 히터의 장착 상태를 나타내는 평면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 대해 설명한다.

도 1은, 실시예와 관련되는 기판 처리 장치의 전체 구성을 나타내는 개략 구성도이며, 도 2는, 가동 천판의 평면도이며, 도 3은, 승강 핀의 선단부 부근을 나타내는 종단면도이다.

실시예와 관련되는 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)에 대해서 열처리를 행하는 것이다. 구체적으로는, 미세 가공 프로세스를 위해서, 예를 들면, 도포 탄소막이라고 하는 하층막을 형성할 때의 열처리를 실시한다. 이 하층막의 생성을 위해서는, 300~500℃ 정도의 고온에서 열처리가 행해진다.

기판 처리 장치(1)는, 하부 베이스 플레이트(3)와, 수냉식 베이스 플레이트(5)와, 열처리 플레이트(7)와, 가동 천판 유닛(9)과, 승강 핀 유닛(11)과, 하우징(13)과, 셔터 유닛(15)을 구비하고 있다.

이 기판 처리 장치(1)는, 인접하여 배치된 반송 아암(17)으로부터 기판(W)이 반입되고, 열처리를 행한 후, 처리가 끝난 기판(W)이 반송 아암(17)에 의해서 반출된다.

하부 베이스 플레이트(3)는, 상면에 지주(19)가 세워져 설치되고, 그 상부에 수냉식 베이스 플레이트(5)가 배치되어 있다. 수냉식 베이스 플레이트(5)는, 열처리 플레이트(7)의 열이 하방으로 전달되는 것을 억제한다. 구체적으로는, 수냉식 베이스 플레이트(5)는, 예를 들면, 내부에 냉매가 유통 가능한 냉매 유로(21)가 전체에 걸쳐 형성되어 있다. 이 냉매 유로(21)에는, 예를 들면, 냉매로서 냉각수가 유통된다. 이 냉각수는, 예를 들면, 20℃로 온도 조절되어 있다.

열처리 플레이트(7)는, 평면에서 볼 때 원형상을 나타낸다. 그 직경은, 기판(W)의 직경보다 약간 크다. 열처리 플레이트(7)는, 도시하지 않는 히터 등의 가열 수단을 내장하고 있고, 예를 들면, 표면 온도가 400℃가 되도록 가열된다. 열처리 플레이트(7)는, 그 하면과 수냉식 베이스 플레이트(5)의 상면의 사이에 설치된 지주(23)에 의해, 수냉식 베이스 플레이트(5)로부터 상방으로 이격한 상태로 배치되어 있다. 열처리 플레이트(7)는, 평면에서 볼 때 정삼각형의 각 정점에 대응하는 위치에 관통구(25)가 형성되어 있다.

열처리 플레이트(7)에는, 가동 천판 유닛(9)이 부설되어 있다. 가동 천판 유닛(9)은, 승강 베이스 플레이트(27)와, 승강 기구(29)와, 지주(31)와, 가동 천판(33)을 구비하고 있다.

승강 베이스 플레이트(27)는, 지주(23)나, 후술하는 승강 핀(41)의 간섭을 회피하는 개구를 구비하고 있다. 승강 기구(29)는, 예를 들면, 에어 실린더로 구성되어 있다. 승강 기구(29)는, 작동축을 갖는 부분을 상방을 향한 자세로 수냉식 베이스 플레이트(5)에 밀착하여 장착되어 있다. 이 승강 기구(29)는, 작동축의 선단부의 높이가 임의의 위치에서 고정할 수 있다. 승강 기구(29)는, 그 작동축이 승강 베이스 플레이트(27)의 바닥면에 연결되어 있다. 승강 기구(29)의 작동축을 승강시키면, 승강 베이스 플레이트(27)의 높이 위치를 가변할 수 있다. 승강 베이스 플레이트(27)는, 그 상면에, 예를 들면, 4개의 지주(31)가 세워져 설치되어 있다. 4개의 지주(31)의 상단에는, 가동 천판(33)이 장착되어 있다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 가동 천판(33)은, 평면에서 볼 때, 중앙부에 개구(35)가 형성되어 있다. 개구(35)는, 평면에서 볼 때 기판(W)의 직경보다 작게 형성되어 있다. 이 가동 천판(33)은, 승강 기구(29)가 작동함으로써, 승강 베이스 플레이트(27)와 함께 승강한다. 가동 천판(33)의 승강 위치는, 기판(W)에 열처리를 실시할 때의 하강 위치와, 기판(W)을 반입할 때의 상승 위치에 걸쳐 이동된다. 또한, 하강 위치는, 기판(W)의 상면과 가동 천판(33)의 하면의 거리가 약 10mm인 것이 바람직하다. 이것은, 발명자 등의 실험에 의해, 기판(W)의 표면에 있어서의 온도 분포의 면내 균일성을 향상하려면, 이 거리가 바람직한 것을 알 수 있었기 때문이다.

가동 천판(33)은, 그 대각길이가, 열처리 플레이트(7)의 직경보다 길게 형성된 직사각형상를 나타낸다. 4개의 지주(31)는, 각각의 상단이 가동 천판(33)의 하면에 있어서의 네 모퉁이에 연결되어 있다. 가동 천판(33)의 네 모퉁이는, 열원인 평면에서 볼 때의 원형상의 열처리 플레이트(7)로부터 먼 위치에 해당한다. 따라서, 열처리 플레이트(7)의 복사열에 의해 가동 천판(33)이 가열되어도, 지주(31)에는 열이 전해지기 어렵게 할 수 있다. 따라서, 승강 기구(29)가 열의 영향을 받기 어렵고, 고장의 발생을 억제할 수 있다.

상술한 가동 천판(33)은, 세라믹 또는 금속과 세라믹의 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다. 이것에 의해 고온의 열처리를 실시해도, 열에 의한 변형을 방지할 수 있다.

승강 핀 유닛(11)은, 구동 기구(37)와, 승강 링(39)과, 3개의 승강 핀(41)을 구비하고 있다. 또한, 승강 핀(41)은, 도시의 관계상, 2개만을 그리고 있다.

구동 기구(37)는, 예를 들면, 에어 실린더로 구성되어 있다. 구동 기구(37)는, 그 작동축을 갖는 부분을 하방으로 향하고, 반대측을 수냉식 베이스 플레이트(5)의 하면에 밀착시킨 상태로 장착되어 있다. 작동축의 하부에는, 승강 링(39)이 연결되어 있다. 승강 링(39)의 상면에는, 3개의 승강 핀(41)이 세워져 설치되어 있다. 구동 기구(39)는, 그 작동축의 높이 위치를, 3개의 승강 핀(41)이 열처리 플레이트(7)의 상면으로부터 상방으로 돌출한 수도(受渡) 위치(도 1 중의 이점쇄선)와, 3개의 승강 핀(41)이 열처리 플레이트(7)의 상면으로부터 하방으로 몰입한 처리 위치(도 1 중의 실선)의 2개소에 걸쳐 조절 가능하다. 3개의 승강 핀(41)은, 열처리 플레이트(7)에 형성되어 있는 3개소의 관통구(25)에 삽입통과되어 있다.

승강 핀(41)은, 도 3에 나타내는 바와 같이 구성되어 있는 것이 바람직하다. 승강 핀(41)은, 심부(41a)와, 외통(41b)과, 석영 볼(41c)을 구비하고 있다. 심부(41a)는, 몸통부(41d)의 상부에 해당하는 선단부(41e)가, 몸통부(41d)보다 소경으로 형성되어 있다. 외통(41b)은, 선단부 이외가 석영 볼(41c)의 외경보다 약간 큰 내경으로 형성되어 있다. 외통(41b)의 선단부는, 석영 볼(41c)의 직경보다 작은 내경으로 형성되어 있다. 석영 볼(41c)은, 그 직경이 선단부(41e)보다 약간 작게 형성되어 있다. 따라서, 석영 볼(41c)을 선단부(41e)의 상면에 재치한 상태로, 외통(41b)를 씌우면, 석영 볼(41c)의 1/3 정도가 외통(41b)으로부터 돌출한 상태가 된다. 이 상태에서, 심부(41d)와 외통(41b)을 관통하는 관통구(41f)에 계합 핀(41g)을 압입함으로써, 외통(41b)을 석영 볼(41c)과 함께 심부(41a)에 고정하여 승강 핀(41)이 구성된다. 또한, 석영 볼(41c) 이외의 부재는 금속제이다.

고온 환경에 견딜 수 있는 재료로서는 석영이 적합하지만, 강도나 비용을 고려하면 승강 핀(41)의 전체를 석영제로 하는 것은 곤란하다. 거기서, 상술한 것과 같이 선단부의 석영 볼(41c)만을 석영제로 함으로써 비용을 억제할 수 있다. 또한, 석영은, 기판(W)의 재료인 단결정 실리콘보다 고도가 약간 낮으므로, 기판(W)의 하면을 손상할 우려가 낮고, 게다가, 구형이므로 접촉 면적을 최소한으로 할 수 있다.

하우징(13)은, 열처리 플레이트(7)의 상방을 덮어, 열처리 플레이트(7)에 의한 열처리 분위기를 형성한다. 하우징(13)은, 그 한쪽면에 반입출구(43)가 형성되어 있다. 반입출구(43)는, 열처리 플레이트(7)의 상면 부근의 높이 위치로부터 위에 개구되어 있다. 반송 아암(17)은, 이 반입출구(43)를 통하여 기판(W)의 반입출을 실시한다.

반입출구(43)에는, 셔터 유닛(15)이 부설되어 있다. 셔터 유닛(15)은, 구동 기구(45)와, 셔터 본체(47)를 구비하고 있다. 구동 기구(45)는, 그 작동축의 부분이 상방을 향해진 자세로, 일부가 수냉식 베이스 플레이트(5)에 밀착되어 장착되어 있다. 작동축의 상부에는, 셔터 본체(47)가 연결되어 있다. 구동 기구(45)가 작동축을 신장시키면, 셔터 본체(47)가 상승되어 반입출구(43)가 폐색되고(도 1에 나타내는 실선), 구동 기구(45)가 작동축을 수축시키면, 셔터 본체(47)가 하강되어 반입출구(43)가 개방된다(도 1에 나타내는 이점쇄선).

하우징(13)은, 그 천정면에 배기구(49)가 형성되어 있다. 배기구(49)는, 배기관(51)에 연통 접속되어 있다. 하우징(13)의 배기구(49)와, 열처리 플레이트(7)의 상면의 간격은, 예를 들면, 30mm 정도이다. 배기관(51)은, 배기 설비(52)에 연통 접속되어 있다. 배기 설비(52)는, 외부로부터의 지시에 의해 배기 유량을 조정 가능하게 구성되어 있다. 배기관(51)의 일부에는, 샘플링 포트(51a)를 개재하여 압력 센서(53)가 배치되어 있다. 이 압력 센서(53)는, 배기관(51) 내의 배기 압력을 검출한다.

하우징(13)은, 천정면의 상면에 시즈히터(55)가 설치되어 있다. 이 시즈히터(55)는, 하우징(13)이나 배기관(51)을 가열하여, 승화물을 포함하는 기체가 하우징(13)에 닿았을 때, 기체가 냉각되어 승화물이 하우징(13)의 내벽에 부착하는 것을 방지한다.

또한, 상술한 시즈히터(55)가 본 발명에 있어서의 「히터」에 상당한다.

제어부(61)는, 도시하지 않는 CPU나 메모리로부터 구성되어 있다. 제어부(61)는, 열처리 플레이트(7)의 온도 제어, 가동 천판 유닛(9)의 승강 제어, 승강 핀 유닛(11)의 구동 제어, 셔터 유닛(15)의 개폐 제어, 시즈히터(55)의 온도 제어, 압력 센서(53)에 의거하는 배기 제어 등을 실시한다. 또한, 제어부(61)는, 가동 천판 유닛(9)의 승강 제어에 있어서의 하강 위치를 기판(W)에 따라서 여러 가지로 조작할 수 있다. 예를 들면, 기판(W)마다의 처리 조건이나 순서를 규정한 레시피에 가동 천판(33)의 하강 위치를 규정하도록 해두고, 도시하지 않는 지시부를 조작하여, 기판(W)의 표면으로부터의 가동 천판(33)의 거리에 상당하는 파라미터를 미리 레시피에 지시해둔다. 제어부(61)는, 예를 들면, 기판(W)을 처리함에 있어서, 장치 오퍼레이터에 의해서 지시된 기판(W)에 따른 레시피를 참조하고, 그 파라미터에 따라서 승강 기구(29)를 조작한다. 이것에 의해, 기판(W)마다 가동 천판(33)의 하강 위치를 조정할 수 있다.

다음으로, 도 4~도 8을 참조하여, 상술한 하우징(13)의 상세에 대하여 설명한다.

도 4는, 천정면 유닛을 하우징으로부터 꺼낸 상태를 나타내는 사시도이고, 도 5는, 천정면 유닛을 나타내는 사시도이며, 도 6은, 천정면 유닛으로부터 덮개 부재를 떼어낸 상태를 나타내는 사시도이고, 도 7은, 천정면 유닛으로부터 히터 유닛을 떼어낸 상태를 나타내는 사시도이며, 도 8은, 히터 유닛에 있어서의 히터의 장착 상태를 나타내는 평면도이다. 또한, 이들 도면 중, 도 4에서는, 상술한 가동 천판(33)이나 지주(31) 등을 생략하고 있다.

하우징(13)은, 하우징 본체(81)와, 천정면 유닛(83)을 구비하고 있다. 하우징 본체(81)는, 열처리 플레이트(7)의 측방의 세 방면을 둘러싸서 배치되어 있다. 하우징 본체(81)의 일측면(도 4의 왼쪽 상방)에는, 반입출구(43)가 형성되어 있다. 하우징 본체(81)는, 반입출구(43)의 양측의 내측면에, 가이드 레일(85)이 형성되어 있다. 이 가이드 레일(85)에는, 하우징 본체(81)의 일측면으로부터 끼워지고 떼어내지는 천정면 유닛(83)이 장착되어 있다. 이 천정면 유닛(83)은, 예를 들면, 도시하지 않는 스냅 고정구 등으로 하우징 본체(81)에 대해서 착탈 가능하게 장착되어 있다.

천정면 유닛(83)은, 그 하면이 하우징(13)의 천정면을 구성한다. 천정면 유닛(83)은, 그 하면에, 열처리 플레이트(7)로 형성되는 열처리 분위기의 기체를 배출하는 배기구(49)가 형성되어 있다. 천정면 유닛(83)은, 상면이 덮개 커버(87)로 덮여 있다. 덮개 커버(87)는 도 5에 나타내는 바와 같이, 상면의 네 모퉁이에 개구(89)가 형성되어 있다.

또한, 상술한 덮개 커버(87)는, 본 발명에 있어서의 「덮개 부재」에 상당한다.

도 6에 나타내는 바와 같이, 천정면 유닛(83)은, 천정면 부재(91)와, 축부(93)와, 누름 부재(95)를 구비하고 있다. 천정면 부재(91)는, 평면에서 볼 때에 있어서의 거의 중앙부에 배기구(49)가 형성되어 있다. 그 주위에는, 예를 들면, 4개의 지지 핀(97)이 세워져 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 이들 각 지지 핀(97)은, 천정면 부재(91)의 네 모퉁이에 세워져 설치되어 있다. 지지 핀(97)은, 선단측의 정부보다 약간 하부에 형성된 지지면(97a)과, 지지면(97a)보다 선단측에 형성된 관통구(97b)를 구비하고 있다. 관통구(97b)는, 그 축심이 천정면 부재(91)의 면에 대해서 거의 평행하게 형성되어 있다. 각 관통구(97b)에는, 분할 핀(99)(스냅 핀이라고도 불린다)이 장착되어 있다. 덮개 커버(87)는, 각 개구(89)가 각 지지 핀(97)에 대응하는 위치에 형성되어 있다. 덮개 커버(87)는, 각 개구(89)가 각 지지 핀(97)에 삽입통과되어, 분할 핀(99)이 장착됨으로써, 각 지지 핀(97)의 지지면(97a)에서 당접 지지된다. 이것에 의해 덮개 커버(87)는, 천정면 부재(91)에 고정된다.

또한, 상술한 덮개 커버(87)가 본 발명에 있어서의 「덮개 부재」에 상당한다.

도 6에 나타내는 바와 같이, 천정면 부재(91) 중, 반입출구(43)가 형성되어 있는 방향에는, 축부(93)가 장착되어 있다. 이 축부(93)는, 예를 들면, 경첩으로 구성되어 있고, 그 회전축(P)이 수평 방향으로 향해져서 장착되어 있다. 이 축부(93)에는, 누름 부재(95)의 일단측이 장착되어 있다. 누름 부재(95)는, 판형 부재로 구성되고, 기계적 강도를 높이기 위해서, 그 길이 방향의 가장자리부가 상부에 굽힘 가공되어 있다. 누름 부재(95)의 타단측에는, 탄성부(101)를 개재하여 손잡이부(103)가 형성되어 있다. 탄성부(101)는, 굽힘 가공에 의해 누름 부재(95)에 탄성력을 갖게 하고, 협지 시에 부세(付勢)한다. 손잡이부(103)는, 축부(93)를 중심으로 하여 누름 부재(95)를 요동시킬 때 작업자가 손으로 드는 부분을 구성한다. 손잡이부(103)의 측면에는, 받이 부재(105)가 장착되어 있다. 받이 부재(105)는, 종단면이 J자형을 나타낸다.

천정면 부재(91)는, 누름 부재(95)의 손잡이부(103)측의 측면에, 훅 가동부(107)가 장착되어 있다. 훅 가동부(107)는, 받이 부재(105)에 계지(係止) 가능한 훅(109)과, 훅(109)을 조작하여, 훅(109)을 받이 부재(105)에 걸거나, 훅(109)을 받이 부재(105)로부터 빼거나 하는 레버(111)를 구비하고 있다.

상술한 받이 부재(105)와 훅 가동부(107)는, 본 발명에 있어서의 「고정구」에 상당한다. 또한, 받이 부재(105)와 훅 가동부(107)는, 아울러서 스냅 고정구나 드로우 래치(draw latch)라고도 불린다.

천정면 유닛(83)을 구성하는 천정면 부재(91)는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 배기구(49)와 일단측이 연통 접속되고, 타단측이 하우징(13)의 외부를 향하여 연장된 내부 배기관(113)이 상면에 배치되어 있다. 이 내부 배기관(113)은, 도 1 및 도 4에 나타내는 배기관(51)에 연통 접속되어 있다. 천정면 유닛(83)은, 천정면 부재(91)의 상면에 히터 유닛(115)을 구비하고 있다. 히터 유닛(115)은, 천정면 부재(91)를 가열하고, 하우징(13)에 있어서의 천정면 및 배기구(49)를 가열한다.

히터 유닛(115)은, 베이스판(117)과, 히터 커버(119)를 구비하고 있다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 베이스판(117)은, 내부 배기관(113)에 대응하는 위치에 노치부(121)가 형성되어 있다. 노치부(121)는, 내부 배기관(113)의 외측면을 따라서 베이스판(117)을 노치하여 구성되어 있다. 히터 커버(119)는, 내부 배기관(113)에 대응하는 위치에 개구부(122)가 형성되어 있으며, 베이스판(117)의 상면에 씌우도록 장착되어 있다.

베이스판(117)은, 도 8에 나타내는 바와 같이, 그 상면에 시즈히터(55)가 장착되어 있다. 시즈히터(55)는, 베이스판(117)의 중앙보다 바깥 가장자리측과, 노치부(121), 즉, 내부 배기관(113)의 외측을 따라서 배치되어 있다. 시즈히터(55)는, 천정면 부재(91)의 네 모퉁이 중 일각에 해당하는 베이스판(117)의 일부위에 배치된 접속 단자(135)에 전기적으로 접속되어 있다. 베이스판(117)은, 베이스판(117)의 한 변을 따라서 연장된 배선통(137)을 구비하고 있고, 접속 단자(135)는, 배선통(137)에 배치된 배선(139)의 일단측과 전기적으로 접속되어 있다. 배선통(137)은, 하부에 커넥터(141)를 구비하고, 커넥터(141)는, 배선(139)의 타단측과 전기적으로 접속되어 있다. 커넥터(141)는, 도시하지 않는 장치의 커넥터 착탈 가능하게 구성되어 있으며, 연결되면 전기적으로 연결된다.

히터 유닛(115)은, 누름 부재(95)에 의해 천정면 유닛(83)의 천정면 부재(91)에 협지되어 있다. 누름 부재(95)와 천정면 부재(91)는, 받이 부재(105)와 훅 가동부(107)로 이루어지는 고정구에 의해서 착탈 가능하게 장착되어 있다. 따라서, 훅 가동부(107)의 훅(109)을 받이 부재(105)로부터 빼는 조작에 의해, 히터 유닛(115)을 누름 부재(95)에 의한 협지로부터 개방할 수 있다. 그 결과, 나사 고정에 의한 눌어붙음에 의해 시즈히터(55)를 떼어낼 수 없는 사태를 회피할 수 있어, 용이하게 시즈히터(55)를 히터 유닛(115)마다 천정면 유닛(83)으로부터 떼어낼 수 있다.

또한, 상술한 베이스판(117)이 본 발명에 있어서의 「히터 장착 부재」에 상당하고, 노치부(121)가 본 발명에 있어서의 「내부 배기관 수납 개구」에 상당한다.

상술한 구성의 기판 처리 장치(1)에서는, 열처리 플레이트(7)에 의해 고온으로 되어 있는 열처리 분위기를 덮고 있는 하우징(13)에 대해서 천정면 유닛(83)이 착탈 가능하게 구성되어 있다. 히터 유닛(115)은, 받이 부재(105)와 훅 가동부(107)에 의해서 천정면 유닛(83)에 장착되고, 떼어내진다. 따라서, 시즈히터(55) 및 배선(139)을 포함하는 히터 유닛(115)을 천정면 유닛(83)으로부터 용이하게 떼어낼 수 있으므로, 천정면 유닛(83)을 약액 등으로 청정하게 할 수 있다. 그 결과, 메인테넌스 시에는, 가장 승화물이 퇴적하기 쉬운 배기구(49)나 내부 배기관(113)을 구비하고 있는 천정면 부재(91)를 떼어내어 약액 등에 침지하거나 하여 세정할 수 있어, 시즈히터(55) 주위를 용이하게 청정화할 수 있다.

또한, 덮개 커버(87)는, 분할 핀(99)을 떼어냄으로써, 천정면 부재(91)에 세워져 설치된 4개의 지지 핀(97)으로부터 떼어내진다. 따라서, 나사 고정에 의한 눌어붙음에 의해 덮개 커버(87)를 떼어낼 수 없는 사태를 회피할 수 있어, 용이하게 히터 유닛(115)을 노출시킬 수 있다.

또한, 히터 유닛(115)은, 상술한 구성으로 되어 있으므로, 천정면 부재(91)의 전체와, 천정면 부재(91)에 형성되어 있는 내부 배기관(113)을 함께 가열할 수 있다. 따라서, 배기의 온도 저하를 효율적으로 억제할 수 있다.

본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되지 않고, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.

(1) 상술한 실시예에서는, 가동 천판 유닛(9)을 구비하고 있는데, 본 발명은 이 구성을 필수로 하는 것은 아니다.

(2) 상술한 실시예에서는, 가열됨으로써 승화물을 포함하는 기체를 발생시키는 피막이 형성되어 있는 기판(W)을 처리 대상으로 하고 있는데, 본 발명은 이러한 기판(W)에 한정되지 않는다. 즉, 배기구(49) 주위에 오염이 퇴적하는 열처리를 실시하는 경우라면 적용할 수 있다.

(3) 상술한 실시예에서는, 고정구의 받이 부재(105)로서 종단면이 J자형의 것을 예로 설명했는데, 본 발명에 있어서의 받이 부재(105)는 이러한 형상의 것에 한정되지 않는다. 즉, 훅(109)으로 계지 가능한 형상이면 어떠한 형상이어도 된다.

(4) 상술한 실시예에서는, 히터로서 시즈히터(55)를 예시했는데, 본 발명은 히터가 시즈히터(55)에 한정되는 것은 아니고, 다른 종류의 히터여도 된다.

(5) 상술한 실시예에서는, 시즈히터(55)는, 베이스판(117)의 중앙보다 바깥 가장자리측과, 내부 배기관(113)의 외측을 따라서 배치되어 있는데, 본 발명은 이러한 배치에 한정되지 않는다. 예를 들면, 시즈히터(55)를 베이스판(117) 상에서 세세하게 사행(蛇行)시켜 내부 배기관(113)의 외측에 배치하도록 구성해도 된다.

(6) 상술한 실시예에서는, 덮개 커버(87)가 분할 핀(99)에 의해 착탈 가능하게 장착되어 있는데, 받이 부재(105)와 훅 가동부(107)와 같은 고정구로 장착하도록 해도 된다.

(7) 상술한 실시예에서는, 받이 부재(105)가 누름 부재(95)에 장착되고, 훅 가동부(107)가 천정면 부재(91)에 장착되어 있는데, 본 발명은 이러한 형태에 한정되지 않는다. 즉, 이들의 장착 위치를 서로 바꿔 넣은 형태여도 된다.

1 기판 처리 장치
W 기판
3 하부 베이스 플레이트
5 수냉식 베이스 플레이트
7 열처리 플레이트
9 가동 천판 유닛
11 승강 핀 유닛
13 하우징
15 셔터 유닛
29 승강 기구
33 가동 천판
35 개구
37 구동 기구
41 승강 핀
43 반입출구
47 셔터 본체
51 배기관
61 제어부
81 하우징 본체 81
83 천정면 유닛
87 덮개 커버
89 개구
91 천정면 부재
93 축부
95 누름 부재
97 지지 핀
99 분할 핀
107 훅 가동부
109 훅
111 레버
113 내부 배기관
115 히터 유닛
121 노치부
122 개구부

Claims (5)

1. 기판에 대해서 열처리를 실시하는 기판 처리 장치에 있어서,
   상면에 재치(載置)된 기판을 가열하여 열처리를 실시하는 열처리 플레이트와,
   상기 열처리 플레이트의 상방을 덮어, 열처리 플레이트에 의한 열처리 분위기를 형성하는 하우징과,
   상기 하우징의 천정면을 구성하고, 상기 열처리 분위기의 기체를 배출하는 배기구가 형성되어 있는 천정면 유닛과,
   상기 천정면을 가열하는 히터 유닛을 구비하고,
   상기 천정면 유닛은, 상기 하우징에 착탈 가능하게 구성되어 있음과 더불어,
   상기 히터 유닛은, 히터와, 상기 히터를 위한 배선을 포함하고,
   상기 히터 유닛을 상기 천정면 유닛에 대해서 장착하고, 상기 천정면 유닛으로부터 상기 히터 유닛을 떼어내기 위한 착탈부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 천정면 유닛은,
   상기 배기구가 형성된 천정면 부재와,
   상기 천정면 부재에 설치된 축부와,
   상기 축부에 요동 가능하게 일단측이 장착되고, 상기 히터 유닛을 상기 천정면 부재의 상면과의 사이에서 협지하는 누름 부재를 구비하고,
   상기 착탈부는, 고정구로 구성되어 있고,
   상기 고정구는,
   상기 누름 부재의 타단측과, 상기 천정면 부재 중 한쪽에 설치된 받이 부재와,
   상기 누름 부재의 타단측과, 상기 천정면 부재 중 다른 쪽에 설치되어, 상기 받이 부재에 거는 훅과, 상기 훅을 조작하여, 상기 훅을 상기 받이 부재에 걸거나, 상기 훅을 상기 받이 부재로부터 빼거나 하는 레버를 갖는 훅 가동부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
3. 청구항 2에 있어서,
   상기 천정면 부재의 상면에 세워져 설치된 복수 개의 지지 핀과,
   상기 복수 개의 지지 핀에 대응하는 위치에 형성된 복수 개의 개구를 구비하고, 상기 천정면 부재의 상부를 덮기 위한 덮개 부재를 추가로 구비하고 있음과 더불어,
   상기 복수 개의 지지 핀은, 상기 천정면 부재의 면에 대해서 평행한 관통구가 상부에 형성되어 있고,
   상기 덮개 부재는, 상기 덮개 부재의 개구에 삽입통과된 상기 지지 핀의 관통구에 분할 핀이 통과된 상태로 상기 천정면 부재에 대해서 고정되고, 상기 히터 유닛을 덮고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
   상기 천정면 부재는, 상기 배기구와 일단측이 연통 접속되고, 타단측이 상기 하우징의 외부를 향하여 연장되어 설치된 내부 배기관을 상면에 구비하고,
   상기 히터 유닛은,
   상기 히터가 장착된 히터 장착 부재와,
   상기 히터 장착 부재에 형성되고, 상기 천정면 부재의 상면으로부터 돌출하고 있는 상기 내부 배기관의 측면을 둘러싸는 배기 덕트 수납 개구를 구비하고,
   상기 히터는, 상기 히터 장착 부재의 중앙보다 바깥 가장자리측과, 상기 배기 덕트 수납 개구의 외측을 따라서 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
5. 청구항 1에 있어서,
   상기 기판은, 가열됨으로써 승화물을 포함하는 기체를 발생시키는 피막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.

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