KR20190055052A - 자성 물품 - Google Patents

자성 물품 Download PDF

Info

Publication number
KR20190055052A
KR20190055052A KR1020190057101A KR20190057101A KR20190055052A KR 20190055052 A KR20190055052 A KR 20190055052A KR 1020190057101 A KR1020190057101 A KR 1020190057101A KR 20190057101 A KR20190057101 A KR 20190057101A KR 20190055052 A KR20190055052 A KR 20190055052A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
article
slml
magnetic
reflector
Prior art date
Application number
KR1020190057101A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102257492B1 (ko
Inventor
요하네스 세이델
마크 테비스
캉닝 리앙
제프리 제임스 쿠나
제리 지에바
토마스 콜만 폴
Original Assignee
비아비 솔루션즈 아이엔씨.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 비아비 솔루션즈 아이엔씨. filed Critical 비아비 솔루션즈 아이엔씨.
Publication of KR20190055052A publication Critical patent/KR20190055052A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102257492B1 publication Critical patent/KR102257492B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F3/00—Labels, tag tickets, or similar identification or indication means; Seals; Postage or like stamps
    • G09F3/02—Forms or constructions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29—Securities; Bank notes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/369—Magnetised or magnetisable materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/378—Special inks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/0015—Pigments exhibiting interference colours, e.g. transparent platelets of appropriate thinness or flaky substrates, e.g. mica, bearing appropriate thin transparent coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C09D11/037—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the pigment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
    • H01L23/142—Metallic substrates having insulating layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/05—5 or more layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/42—Magnetic properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2265—Oxides; Hydroxides of metals of iron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2200/00—Compositional and structural details of pigments exhibiting interference colours
    • C09C2200/10—Interference pigments characterized by the core material
    • C09C2200/1004—Interference pigments characterized by the core material the core comprising at least one inorganic oxide, e.g. Al2O3, TiO2 or SiO2
    • C09C2200/1008—Interference pigments characterized by the core material the core comprising at least one inorganic oxide, e.g. Al2O3, TiO2 or SiO2 comprising at least one metal layer adjacent to the core material, e.g. core-M or M-core-M
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2200/00—Compositional and structural details of pigments exhibiting interference colours
    • C09C2200/10—Interference pigments characterized by the core material
    • C09C2200/1054—Interference pigments characterized by the core material the core consisting of a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2200/00—Compositional and structural details of pigments exhibiting interference colours
    • C09C2200/24—Interference pigments comprising a metallic reflector or absorber layer, which is not adjacent to the core
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2200/00—Compositional and structural details of pigments exhibiting interference colours
    • C09C2200/30—Interference pigments characterised by the thickness of the core or layers thereon or by the total thickness of the final pigment particle
    • C09C2200/301—Thickness of the core
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2200/00—Compositional and structural details of pigments exhibiting interference colours
    • C09C2200/30—Interference pigments characterised by the thickness of the core or layers thereon or by the total thickness of the final pigment particle
    • C09C2200/304—Thickness of intermediate layers adjacent to the core, e.g. metallic layers, protective layers, rutilisation enhancing layers or reflective layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2200/00—Compositional and structural details of pigments exhibiting interference colours
    • C09C2200/50—Interference pigments comprising a layer or a core consisting of or comprising discrete particles, e.g. nanometric or submicrometer-sized particles
    • C09C2200/507—Organic particles, e.g. polymers or dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2220/00—Methods of preparing the interference pigments
    • C09C2220/10—Wet methods, e.g. co-precipitation
    • C09C2220/106—Wet methods, e.g. co-precipitation comprising only a drying or calcination step of the finally coated pigment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C2220/00—Methods of preparing the interference pigments
    • C09C2220/20—PVD, CVD methods or coating in a gas-phase using a fluidized bed
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F3/00—Labels, tag tickets, or similar identification or indication means; Seals; Postage or like stamps
    • G09F3/02—Forms or constructions
    • G09F2003/0257—Multilayer

Abstract

제1 면 및 상기 제1 면과는 반대쪽에 있는 제2 면을 구비하는 자성-함유 층; 상기 자성-함유 층의 상기 제1 면의 외부에 있는 제1 반사체층; 상기 자성-함유 층의 상기 제2 면의 외부에 있는 제2 반사체층; 상기 제1 반사체층의 외부에 있는 제1 선택적 광 변조기 층(selective light modulator layer); 상기 제2 반사체층의 외부에 있는 제2 선택적 광 변조기 층; 상기 제1 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제1 흡수체층; 및 상기 제2 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제2 흡수체층을 포함하되; 상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나가 적어도 1종의 경화제 및 적어도 1종의 코팅 조제를 포함하는, 물품이 개시되어 있다. 개시된 물품을 제조하는 방법이 또한 개시되어 있다.

Description

자성 물품{MAGNETIC ARTICLES}
관련 출원
본 출원은 2016년 6월 27일자로 출원된 미국 가출원 제62/355,188호에 대한 우선권의 유익을 주장하며, 이 기초출원의 전체 개시내용은 본 명세서에 참고로 편입된다.
발명의 기술분야
본 개시내용은 일반적으로 (i) 강한 색을 포함할 수 있고, (ii) 각도색도성(goniochromatic)일 수 있으며, 그리고 (iii) 높은 플롭(flop)을 가질 수 있고, 즉, 각도가 변함에 따라서 명도, 색조, 또는 색도(혹은 채도: chromaticity)가 변하는 반사성 및 금속성 외관을 가질 수 있는 물품에 관한 것이다. 물품을 제조하는 방법이 또한 개시되어 있다.
플레이크(flake)와 같은 물품은, 증대된 광학 특성을 가진 소비자 애플리케이션 및 통화의 보안 특징부(security feature)로서 사용될 수 있다.　불행하게도, 기상 증착 공정(vapor deposition process)과 같은 현재의 제조 방법은, 플레이크를 제조하기 위하여 값비싸고 복잡한 장비를 요구한다. 현존하는 더 저렴한 방법은 보안 특징부로서 사용하기 위하여 불량한 품질의 안료를 제공한다. 부가적으로, 증발에 의한 중합체 박막의 증착은 불량한 층간 접착성을 초래한다. 또한, 진공에서의 작업은 시간 경과에 따른 이 장비의 생산성에 부정적으로 영향을 미친다. 게다가, 이 장비의 유지 보수와 관련된 광범위한 비생산 시간이 있고, 이것은 챔버를 펌핑하고 환기시킬 것을 요구한다. 나아가, 플레이크, 포일(foil) 및 시트(sheet)의 형태의 광학 디바이스와 같은 물품을 제조하는데 이용하기 위하여 입수 가능한 재료의 유형은 저압 하에서 기화될 수 있는 것들만으로 제한됨으로써, 대부분의 유기 재료를 제외시킨다.
일 양상에 있어서, 제1 면 및 상기 제1 면과는 반대쪽에 있는 제2 면을 구비하는 자성-함유 층; 자성-함유 층의 제1 면의 외부에 있는 제1 반사체층; 자성-함유 층의 제2 면의 외부에 있는 제2 반사체층; 제1 반사체층의 외부에 있는 제1 선택적 광 변조기 층(selective light modulator layer); 제2 반사체층의 외부에 있는 제2 선택적 광 변조기 층; 제1 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제1 금속층; 및 제2 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제2 금속층을 포함하되; 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나가 적어도 1종의 경화제, 및 적어도 1종의 코팅 조제를 포함하는, 물품이 개시되어 있다.
다른 양상에 있어서, 제1 면 및 상기 제1 면과는 반대쪽에 있는 제2 면을 구비하는 자성-함유 층; 자성-함유 층의 제1 면의 외부에 있는 제1 반사체층; 자성-함유 층의 제2 면의 외부에 있는 제2 반사체층; 제1 반사체층의 외부에 있는 제1 선택적 광 변조기 층; 제2 반사체층의 외부에 있는 제2 선택적 광 변조기 층; 제1 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제1 금속층; 및 제2 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제2 금속층을 포함하되; 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나가 적어도 1종의 경화제, 및 적어도 1종의 산소 억제 이동 조성물을 포함하는, 물품이 개시되어 있다.
추가의 양상에 있어서, 기판 상에 제1 금속층을 증착시키는 단계; 제1 금속층 상에 제1 선택적 광 변조기 층을 증착시키는 단계; 제1 선택적 광 변조기 층 상에 제1 반사체층을 증착시키는 단계; 제1 반사체층 상에 자성 함유 층을 증착시키는 단계; 자성 함유 층 상에 제2 반사체층을 증착시키는 단계; 제2 반사체층 제2 선택적 광 변조기 층을 증착시키는 단계; 및 제2 선택적 광 변조기 층 상에 제2 금속층을 증착시키는 단계를 포함하되; 여기서 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나가 액체 코팅 공정을 이용해서 증착되는, 물품의 형성 방법이 개시된다.
각종 실시형태의 추가의 특징 및 이점은, 부분적으로는 후술하는 설명에서 제시될 것이고 그리고 부분적으로 설명으로부터 명백할 것이거나 또는 각종 실시형태의 실시에 의해 학습될 수 있다. 각종 실시형태의 목적 및 기타 이점은 본 명세서의 설명에서 특별히 언급된 요소들 및 조합에 의해서 실현되고 달성될 것이다.
수개의 양상 및 실시형태에서의 본 개시내용은 상세한 설명 및 첨부 도면으로부터 더욱 충분히 이해될 수 있다:
도 1은 본 개시내용의 일례에 따른 물품의 단면도;
도 2는 본 개시내용의 일례에 따른 이형층을 가진 기판으로부터 분리되기 전의 물품의 단면도; 및
도 3은 선택적 광 변조기 층을 증착시키는 단계들을 도시한 액체 코팅 공정의 단면도.
본 명세서 및 도면 전체를 통하여 동일한 참조 부호는 동일한 요소를 나타낸다.
전술한 일반적인 설명 및 이하의 상세한 설명 둘 다는 단지 예시적이고 설명적이며, 본 교시내용의 각종 실시형태의 설명을 제공하도록 의도된 것임을 이해해야 한다.
광의의 다양한 실시형태에 있어서, 본 명세서에서는, 플레이크, 시트 또는 포일 형태의 광학 디바이스와 같은 물품, 및 물품의 제조 방법이 개시되어 있다.
일 양상에 있어서, 물품(10)은 제1 면 및 제1 면과는 반대쪽에 있는 제2 면을 구비하는 자성-함유 층(16); 자성-함유 층(16)의 제1 면의 외부에 있는 제1 반사체층(14); 자성-함유 층(16)의 제2 면의 외부에 있는 제2 반사체층(14'); 제1 반사체층(14)의 외부에 있는 제1 선택적 광 변조기 층(12); 제2 반사체층(14')의 외부에 있는 제2 선택적 광 변조기 층(12'); 제1 선택적 광 변조기 층(12)의 외부에 있는 제1 흡수체층(18); 및 제2 선택적 광 변조기 층(12')의 외부에 있는 제2 흡수체층(18')을 포함할 수 있으며; 여기서 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층(12, 12') 중 적어도 하나는 적어도 1종의 경화제, 및 적어도 1종의 코팅 조제를 포함한다. 다른 양상에 있어서, 물품(10)은, 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층(12, 12') 중 적어도 하나가 적어도 1종의 경화제, 및 적어도 1종의 산소 억제 이동 조성물를 포함하는 것을 포함할 수 있다.
도 1 내지 도 2는 본 개시내용의 각종 예에 따른 플레이크, 포일 또는 시트의 형태의 광학 디바이스와 같은 각종 물품(10)을 예시한다. 이들 도면은 특정 층들을 특정 수순으로 예시하고 있지만, 당업자라면 물품(10)이 임의의 개수의 층을 임의의 수순으로 포함할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 부가적으로, 임의의 특정 층의 조성은 임의의 다른 층의 조성과 동일할 수 있거나 상이할 수 있다. 또한 본 명세서에 개시된 물품(10)은 추가의 층, 예컨대, 중간층 또는 개입층을 포함할 수 있는 것이 상정된다. 또한 물품(10)의 층들은 산화에 의하는 것과 같이 표면 개질될 수 있는 것이 상정된다.
몇몇 예에 있어서, 물품(10)은 광 간섭을 나타낼 수 있다. 대안적으로, 몇몇 예에 있어서, 물품(10)은 광 간섭을 나타내지 않을 수 있다. 일 양상에 있어서, 물품(10)은 색을 발생시키기 위하여 간섭을 이용할 수 있다. 다른 양상에 있어서, 물품(10)은 색을 발생시키기 위하여 간섭을 이용하지 않을 수 있다. 예를 들어, 이하에 더욱 상세히 설명되는 바와 같이, 색의 외관은 선택적 광 변조기 층(selective light modulator layer: SLML) 내 선택적 광 변조기 시스템(selective light modulator system: SLMS), 예컨대, 첨가제, 선택적 광 변조기 입자(selective light modulator particle: SLMP) 또는 선택적 광 변조기 분자(selective light modulator molecule: SLMM)을 포함함으로써 발생될 수 있다.
일 양상에 있어서, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 대상체 또는 기판(20) 상에 이용될 수 있는 포일, 플레이크, 또는 시트의 형태일 수 있다. 일 양상에 있어서, 광학 디바이스는 시트의 부분들을 포함할 수 있다. 다른 양상에 있어서, 물품(10)은 광학 디바이스 및 액체 매질을 포함할 수 있다. 다른 양상에 있어서, 물품(10)은, 예를 들어, 100㎚ 내지 100㎛의 두께와 100㎚ 내지 1㎜의 크기를 가진 플레이크 형태의 광학 디바이스이다. 물품(10)은 (액체 매질과 조합하여) 색 변환 착색제일 수 있거나, 또는 통화용의 보안 특징부로서 사용될 수 있다. 물품(10)의 사용에 공통적인 몇몇 속성은 높은 채도(또는 강한 색), 시야각에 관한 색 변화(각도색도 또는 무지갯빛이라고도 알려짐), 및 플롭(시야각이 변화함에 따라서 명도, 색조, 또는 색도를 달리하는 반사성 외관)을 포함할 수 있다.
시트, 플레이크 또는 포일의 형태의 광학 디바이스와 같은 물품(10)은, 적어도 하나의 유전체층, 예컨대, 제1 선택적 광 변조기 층(SLML)(12), 제2 SLML(12'), 제3 SLML(12"), 제4 SLML(12"') 등을 포함할 수 있다. 하나보다 많은 SLML(12, 12')이 광학부품에 존재한다면, 각각의 SLML은 그들 각각의 조성 및 물성의 관점에서 독립적일 수 있다. 예를 들어, 제1 SLML(12)은 제1 굴절률을 가진 조성을 지닐 수 있지만, 동일한 물품 내의 제2 SLML(12')은 상이한 굴절률을 가진 상이한 조성을 지닐 수 있다. 다른 예로서, 제1 SLML(12)은 제1 두께의 조성을 지닐 수 있지만, 제2 SLML(12')은 제1 두께와는 다른 제2 두께의 동일 조성을 지닐 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 플레이크, 시트 또는 포일 형태의 물품(10)은 또한 SLML(14, 14', 14" 또는 14"')의 표면 상에 경질 코트 또는 보호층을 포함할 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 이들 층(경질 코트 또는 보호층)은 광학 품질을 지닐 것을 요구하지 않는다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 자성-함유 층(16) 및/또는 제1 및 제2 반사체층(14, 14)의 적어도 2개의 표면/측면, 예를 들어, 도시된 바와 같은 우측 및 좌측 표면/측면에는 SLML(12, 12')이 없을 수 있다. 일 양상에 있어서, 물품(10)이 플레이크 또는 포일 형태이면, 자성-함유 층(16) 및/또는 제1 및 제2 반사체층(14, 14')은 도 1 및 도 2에 예시된 4개보다 많은 표면을 포함할 수 있다. 이들 경우에, 예를 들어, 자성-함유 층(16) 및/또는 제1 및 제2 반사체층(14, 14')의 1개, 2개, 3개, 4개 또는 5개의 표면에는 SLML(12)이 없다. 몇몇 예에 있어서, 자성-함유 층(16) 및/또는 제1 및 제2 반사체층(14, 14)의 1개, 2개, 3개, 4개 또는 5개의 표면, 따라서 물품(10)은 공기에 개방될 수 있다. 일례에 있어서, 외부 SLML을 포함하지 않는 반사체의 개방 측면, 즉, 표면은 플롭을 이용할 수 있다.
자성-함유층(16)은 자성 투과성, 자성 배향성 재료, 자성 재료 및 이들의 조합물을 포함할 수 있다. 자성 재료, 예컨대, 강자성 및 페리자성(ferrimagnetic) 재료는, 니켈, 코발트, 철, 가돌리늄, 테르븀, 디스프로슘, 에르븀, 및 이들의 합금 또는 산화물을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 코발트 니켈 합금이 이용될 수 있으며, 코발트 및 니켈은 각각 약 80% 및 약 20%의 중량비를 갖는다. 코발트 니켈 합금 내의 이들 금속의 각각에 대한 비는 플러스 또는 마이너스 약 10%만큼 변동될 수 있다. 합금의 기타 예는, Fe/Si, Fe/Ni, Fe/Co, Fe/Ni/Mo, Fe/Cr, Ni/Cr, 및 이들의 조합물을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 일 양상에 있어서, 자성-함유층(16)은 산화철 입자를 함유하는 중합체를 포함할 수 있다. SmCo5, NdCo5, Sm2Co17, Nd2Fe14B, Sr6Fe2O3, TbFe2, Al-Ni-Co 유형, 및 이들의 조합물의 경질 자석은 또한 Fe3O4, NiFe2O4, MnFe2O4, CoFe2O4 유형의 스피넬 페라이트, 또는 YIG 또는 GdIG 유형의 가넷(garnet), 및 이들의 조합물도 사용될 수 있다. 일 양상에 있어서, 자성 재료는 페라이트 스테인리스강일 수 있다. 자성 재료는 이의 반사 또는 흡수 특성뿐만 아니라 이의 자성 특성에 대해서 선택될 수 있다. 자성-함유층(16)은, 자성 및 비자성 입자, 또는 비자성 매질 내에 자성 입자를 가진 재료, 예를 들어, 기판(20) 상에 증착된 코발트-도핑된 아연 산화물 필름에 의해 형성될 수 있다.
이 넓은 범위의 자성 재료를 사용할 수 있지만, "연질" 자석이 일 양상에서 사용될 수 있다. 본 명세서에서 이용되는 바와 같이 용어 "연질 자석"은 강자성 특성을 나타내지만 자력에 노출된 후에 실질적으로 제로가 되는 임의의 재료를 지칭한다. 연질 자석은 자기장에 대한 빠른 반응을 보일 수 있지만, 인가된 매우 낮은(보자력(Hc) = 0.05-300 에르스텟(Oe)) 또는 제로 자기 서명을 갖거나 자기장이 제거된 후 매우 낮은 한 자기력선을 유지한다. 마찬가지로, 본 명세서에서 이용되는 바와 같이, 용어 "경질 자석"(영구 자석이라고도 불림)은 강자성 특성을 나타내고 그리고 자력에 노출 후 오래 지속하는 잔류 자기를 갖는 임의의 재료를 지칭한다. 강자성 물질은 실질적으로 1보다 큰 투자율을 가지며 자성 히스테리시스 특성을 나타내는 임의의 재료이다. 일 양상에 있어서, 재료가 자기장 내에서 물품(10)의 배향을 가능하게 하는 한 임의의 자성 재료가 자성-함유층(16)에 사용될 수 있다.
자성-함유층(16)은 약 10㎚ 내지 약 100㎚, 예를 들어 약 35㎚ 내지 약 45㎚, 추가의 예로서 약 40㎚ 범위의 두께를 가질 수 있다. 자성-함유층(16)은 실질적으로 불투명하도록 하는 두께로 증착될 수 있다. 일 양상에 있어서, 자성-함유층(16)은 실질적으로 불투명하지 않도록 하는 두께로 증착될 수 있다.
자성-함유 층(16)은 통상의 증착 공정, 예컨대, 물리적 기상 증착 수법뿐만 아니라; 자기 스퍼터링을 포함하는 스퍼터링; 열적 증발; 전자빔 증발; 및 음극 아크 증발을 이용해서 형성될 수 있다 일 양상에 있어서, 자성-함유 층(16)은 또한 제1 또는 제2 선택적 광 변조기 층(12, 12')을 형성하는 것과 유사한 방식으로 본 명세서에 기재된 바와 같은 액체 코팅 공정을 이용해서 형성될 수 있다.
제1 반사체층(14) and 제2 반사체층(14')은 각각 독립적으로 광대역 반사체, 예컨대, 스펙트럼 및 램버시안(Lambertian) 반사체(예컨대, 백색 TiO2)일 수 있다. 제1 반사체층(14) 및/또는 제2 반사체층(14')은 각각 독립적으로 금속, 비금속, 및/또는 금속 합금을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 이용되는 용어 "금속성" 또는 "금속층"은, 달리 기술되지 않는 한, 모든 금속, 금속 합금, 순수한 금속 또는 금속 합금을 함유하는 재료, 화합물, 조성물 및/또는 층을 포함하도록 의도된다.
일례에 있어서, 제1 및 제2 반사체층(14, 14')용의 재료는 각각 독립적으로 목적하는 스펙트럼 영역에서 반사 특성을 갖는 임의의 물질, 예를 들어, 원하는 스펙트럼 범위에서 5% 내지 100% 범위의 반사율을 갖는 임의의 재료를 포함할 수 있다. 반사 재료의 예는 양호한 반사 특성을 가지며, 저렴하고, 그리고 얇은 층으로 형성되거나 증착되기 쉬운 알루미늄일 수 있다. 알루미늄 대신에 다른 반사 재료를 사용할 수도 있다. 예를 들어, 구리, 은, 금, 백금, 팔라듐, 니켈, 코발트, 니오븀, 크롬, 주석 및 이들 또는 다른 금속의 조합물 또는 합금이 반사 재료로서 사용될 수 있다. 일 양상에 있어서, 제1 및/또는 제2 반사체층(14, 14')용의 재료는 백색 또는 연한 색 금속일 수 있다. 다른 예에서, 제1 반사체층(14) 및/또는 제2 반사체층(14')은 전이 금속 및 란탄 금속 및 이들의 조합물뿐만 아니라; 금속 탄화물, 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 황화물, 이들의 조합물, 또는 금속과 이들 재료 중 하나 이상의 혼합물을 포함할 수 있지만, 이들로 제한되는 것은 아니다.
제1 및/또는 제2 반사체층(14, 14')의 두께는 약 5㎚ 내지 5000㎚의 범위일 수 있지만, 이 범위는 제한적으로 취해서는 안 된다. 예를 들어, 두께 하한은 제1 반사체층(14) 및/또는 제2 반사체층(14')이 0.8의 최대 투과율을 제공하도록 선택될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 알루미늄을 포함하는 제1 반사체층(14) 및/또는 제2 반사체층(14')에 대해서, 최소 광학 밀도(OD)는 약 550㎚의 파장에서 약 0.1 내지 약 4일 수 있다.
충분한 광학 밀도를 얻고/얻거나 원하는 효과를 얻기 위해, 제1 반사체층(14) 및/또는 제2 반사체층(14')의 조성에 따라서 더 높거나 더 낮은 최소 두께가 요구될 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 상한은 약 5000㎚, 약 4000㎚, 약 3000㎚, 약 1500㎚, 약 200㎚, 및/또는 약 100㎚일 수 있다. 일 양상에 있어서, 제1 반사체층(14) 및/또는 제2 반사체층(14')의 두께는 약 10㎚ 내지 약 5000㎚, 예를 들어, 약 15㎚ 내지 약 4000㎚, 약 20㎚ 내지 약 3000㎚, 약 25㎚ 내지 약 2000㎚, 약 30㎚ 내지 약 1000㎚, 약 40㎚ 내지 약 750㎚, 또는 약 50㎚ 내지 약 500㎚, 예컨대, 약 60㎚ 내지 약 250㎚ 또는 약 70㎚ 내지 약 200㎚의 범위일 수 있다.
예를 들어, 도 1 및 도 2의 시트, 포일 또는 플레이크의 형태의 물품(10)은, 제1 선택적 광 변조기 층(SLML)(12) 및 제2 선택적 광 변조기 층(12')을 포함할 수 있다. SLML은 약 0.2㎛ 내지 약 20㎛의 범위의 파장을 갖는 전자기 방사선의 스펙트럼의 상이한 선택된 영역에서 광 강도를 변조(흡수 및/또는 방출)시키는 것을 목표로 하는 복수의 광학 기능을 포함하는 물리적 층일 수 있다.
SLML(12, 12')(및/또는 SLML(12, 12') 내의 재료)은 각각 선택적으로 광을 변조시킬 수 있다. 예를 들어 SLML은 특정 파장의 전송량을 제어할 수 있다. 몇몇 예에 있어서, SLML은 에너지의 특정 파장(예컨대, 가시 및/또는 비가시 범위)을 흡수할 수 있다. 예를 들어, SLML(12, 12')은 "착색된 층" 및/또는 "파장 선택적 흡수층"일 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 흡수된 특정 파장은, 예를 들어, 플레이크 형태의 물품(10)이 특정 색을 나타내게 할 수 있다. 예를 들어, SLML(12, 12')은 인간의 눈에 적색으로 보일 수 있다(예를 들어, SLML은 대략 620㎚ 미만의 파장을 흡수하고 이에 따라서 적색으로 나타나는 에너지의 파장을 반사 또는 투과시킬 수 있다). 이것은, 예컨대, 중합체를 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아닌 유전체 재료와 같은 호스트 재료에 착색제(예컨대, 유기 및/또는 무기 안료 및/또는 염료)인 SLMP를 첨가함으로써 달성될 수 있다. 예를 들어, 몇몇 경우에, SLML은 착색된 플라스틱일 수 있다.
몇몇 예에 있어서, 흡수된 특정 파장의 일부 또는 전부는 가시 범위 내에 있을 수 있다(예를 들어, SLML은 가시광을 통해 흡수될 수 있지만, 적외선에서는 투과성일 수 있다). 예를 들어, 플레이크 형태의 얻어진 물품(10)은, 흑색으로 보이지만 적외선에서 광을 반사할 것이다. 위에서 기술된 몇몇 예에서, 물품(10) 및/또는 SLML(12, 12')의 흡수된 파장(및/또는 특정 가시색)은, 적어도 부분적으로, SLML(12, 12')의 두께에 좌우될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, SLML(12, 12')에 의해 흡수된 에너지의 파장(및/또는 이들 층 및/또는 플레이크가 나타내는 색)은 부분적으로 SLML에 대한 특정 양상의 추가에 좌우될 수 있다. SLML(12, 12')은, 에너지의 특정 파장을 흡수하는 외에, 열화에 대해 자성-함유 층(16) 및/또는 제1 및 제2 반사체층(14, 14')을 강화시키는 것; 기판으로부터의 방출을 가능하게 하는 것; 크기 조절을 가능하게 하는 것; 제1 및 제2 반사체(14, 14')에서 사용된 알루미늄 또는 다른 금속 및 재료의 산화와 같은 환경 열화에 대한 약간의 저항성을 제공하는 것; 및 SLML(12, 12')의 조성 및 두께에 기초하여 광의 투과, 반사 및 흡수의 높은 성능을 제공하는 것 중 적어도 하나를 달성할 수 있다.
몇몇 예에 있어서, 에너지의 특정 파장 및/또는 가시광의 파장을 선택적으로 흡수하는 SLML(12, 12')에 부가적으로 또는 대안으로서, 예를 들어, 시트, 포일 또는 플레이크 형태의 물품(10)의 SLML(12, 12')은 굴절률을 제어할 수 있고/있거나, SLML(12, 12')은 굴절률을 제어할 수 있는 SLMP를 포함할 수 있다. SLML(12, 12')의 굴절률을 제어할 수 있는 SLMP는 흡수 제어용 SLMP(예컨대, 착색제)에 부가하여 또는 이의 대안으로서 호스트 재료에 포함될 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 호스트 재료는 SLML(12, 12') 내의 흡수 제어용 SLMP 및 굴절률 SLMP 둘 다와 조합될 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 동일한 SLMP는 흡수 및 굴절률 둘 다를 제어할 수 있다.
제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 제1 및 제2 반사체층(14, 14')의 외부에 있을 수 있다. 제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 약 1.5 초과 또는 미만의 굴절률을 가질 수 있다. 예를 들어, 각각의 SLML(12, 12')은 대략 1.5의 굴절률을 지닐 수 있다. 각각의 SLML(12, 12')의 굴절률은 요구되는 색 이동도를 제공하도록 선택될 수 있으며, 여기서 색 이동은 시야각을 이용해서 L*a*b* 색 공간에서 측정된 색조 각도의 변화로서 정의될 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 각각의 SLML(12, 12')은 약 1.1 내지 약 3.0, 약 1.0 내지 약 1.3, 또는 약 1.1 내지 약 1.2의 범위의 굴절률을 포함할 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 각각의 SLML(12, 12')의 굴절률은 약 1.5 미만, 약 1.3 미만, 또는 약 1.2 미만일 수 있다. 몇몇 예에 있어서, SLML(12, 12')은 서로 실질적으로 동일한 굴절률 또는 상이한 굴절률을 지닐 수 있다.
제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 약 1㎚ 내지 약 10000㎚, 약 10㎚ 내지 약 1000㎚, 약 20㎚ 내지 약 500㎚, 약 1㎚, 내지 약 100㎚, 약 10㎚ 내지 약 1000㎚, 약 1㎚ 내지 약 5000㎚의 범위의 두께를 가질 수 있다. 일 양상에 있어서, 광학 디바이스와 같은 물품(10)은, 1:1 내지 1:50의 두께 대 폭의 애스펙트비를 가질 수 있다.
그러나, 본 명세서에 기재된 물품(10)의 유익들 중 하나는, 몇몇 예에 있어서, 광학 효과가 두께 변동에 비교적 민감하지 않은 것으로 보인다는 점이다. 따라서, 몇몇 양상에 있어서, 각각의 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 약 5% 미만의 광학 두께의 변동을 가질 수 있다. 일 양상에 있어서, 각각의 SLML(12, 12')은 층을 가로질러 약 3% 미만의 광학 두께의 변동을 가질 수 있다. 일 양상에 있어서, 각각의 SLML(12, 12')은 독립적으로 50㎚의 두께를 가진 층을 가로질러 약 1% 미만의 광학 두께의 변동을 가질 수 있다.
각 양상에 있어서, 제1 및 제2 SLML(12, 12')은 독립적으로 투명한 무색 층일 수 있거나, 투명한 착색층일 수 있거나, 또는 착색층일 수 있다.
제1 및 제2 SLML(12, 12')의 성능은 SLML(12, 12')의 각각에 존재하는 재료의 선택에 기초하여 결정될 수 있다. SLML(12, 12')의 각각은 SLML(12, 12')의 각각의 조성에 기초하여 광의 투과, 반사 및 흡수의 높은 성능을 달성할 수 있는 것으로 여겨진다. 일 양상에 있어서, SLML(12, 12')의 각각은 SLML(12, 12')의 각각의 광학 성능의 제어를 증가시키도록 구성된 광범위한 재료를 허용하는 조성물을 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, SLML(12, 12')의 각각은 다음의 특성들 중 적어도 하나를 개선할 수 있다: 플레이크 핸들링, 부식, 정렬 및 물품(10) 내의 임의의 다른 층, 예컨대, 제1 및 제2 반사체층(14, 14')의 환경 성능.
제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 호스트 재료를 단독으로, 또는 선택적 광 변조기 시스템(SLMS)과 조합된 호스트 재료를 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 제 1 SLML(12) 및 제 2 SLML(12') 중 적어도 하나는 호스트 재료를 포함한다. 다른 양상에 있어서, 제 1 SLML(12) 및 제 2 SLML(12') 중 적어도 하나는 호스트 재료 및 SLMS를 포함한다. SLMS는 선택적 광 변조기 분자(SLMM), 선택적 광 변조기 입자(SLMP), 첨가제, 또는 이들의 조합물을 포함할 수 있다.
SLML(12, 12')의 조성물은 약 0.01% 내지 약 100%, 예를 들어, 약 0.05% 내지 약 80%, 및 또 다른 예로서 약 1% 내지 약 30%의 범위의 고체 함량을 가질 수 있다. 몇몇 양상에서, 고체 함량은 3%보다 클 수 있다. 몇몇 양상에서, SLML(12, 12')의 조성물은 약 3% 내지 약 100%, 예를 들어 약 4% 내지 50%의 고형분을 가질 수 있다.
제1 및/또는 제2 SLML(12, 12')의 각각의 호스트 재료는 독립적으로 코팅 액체로서 도포되고 광학적 및 구조적 목적을 제공하는 필름 형성 재료일 수 있다. 호스트 재료는, 추가의 광 변조기 특성을 물품(10)에 제공하기 위해, 필요한 경우, 선택적 광 변조기 시스템(SLMS)과 같은 게스트 시스템을 도입하기 위한 호스트(매트릭스)로서 사용될 수 있다.
호스트 재료는 유전체 재료일 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 호스트 재료는 유기 중합체, 무기 중합체 및 복합 재료 중 적어도 하나일 수 있다. 유기 중합체의 비제한적인 예는 열가소성 수지, 예컨대, 폴리에스터, 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 아크릴, 아크릴레이트, 폴리비닐에스터, 폴리에터, 폴리티올, 실리콘, 플루오로카본 및 이들의 각종 공중합체; 열경화성 수지, 예컨대, 에폭시, 폴리우레탄, 아크릴레이트, 멜라민 폼알데하이드, 유레아 폼알데하이드, 및 페놀 폼알데하이드; 및 에너지 경화성 재료, 예컨대, 아크릴레이트, 에폭시, 비닐, 비닐 에스터, 스타이렌 및 실란을 포함한다. 무기 중합체의 비제한적인 예는 실란, 실록산, 티타네이트, 지르코네이트, 알루미네이트, 실리케이트, 포스파잔, 폴리보라질렌 및 폴리티아질을 포함한다.
제1 및 제2 SLML(12, 12')의 각각은 약 0.001% 내지 약 100 중량%의 호스트 재료를 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 호스트 재료는 약 0.01% 내지 약 95 중량%, 예를 들어 약 0.1% 내지 약 90% 범위의 양으로 SLML에, 추가의 예로서 약 1% 내지 약 87 중량%의 SLML에 존재할 수 있다.
호스트 재료와 함께 SLML(12, 12')에서 사용하기 위한 SLMS는 각각 독립적으로 선택적 광 변조기 입자(SLMP), 선택적 광 변조기 분자(SLMM), 첨가제 또는 이들의 조합물을 포함할 수 있다. SLMS는 또한 다른 재료를 포함할 수 있다. SLMS는 선택 영역 또는 관심 대상 전체 스펙트럼 범위(0.2㎛ 내지 20㎛)에서 (흡수, 반사, 형광 등에 의해) 전자기 방사선의 진폭 변조를 제공할 수 있다.
제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 SLMS에 SLMP를 포함할 수 있다. SLMP는 광 변조를 선택적으로 제어하기 위해 호스트 재료와 조합된 임의의 입자일 수 있고, 이는 색 이동 입자, 염료, 착색제를 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 착색제는 염료, 안료, 반사 안료, 색 변환 안료, 양자점(quantum dot) 및 선택적 반사기를 포함한다. SLMP의 비제한적인 예는 유기 안료, 무기 안료, 양자점, 나노 입자(선택적으로 반사 및/또는 흡수), 마이셀 등을 포함한다. 나노 입자는 높은 값의 굴절률(약 550㎚의 파장에서 n > 1.6)을 갖는 유기 및 금속 유기 재료; 금속 산화물, 예컨대, TiO2, ZrO2, In2O3, In2O3-SnO, SnO2, FexOy(여기서 x 및 y는 각각 독립적으로 0보다 큰 정수임) 및 WO3; 금속 황화물, 예컨대, ZnS 및 CuxSy(여기서 x 및 y는 각각 독립적으로 0보다 큰 정수임; 칼코게나이드, 양자점, 금속 나노입자; 카보네이트; 플루오린화물; 및 이들의 혼합물을 포함할 수 있지만, 이들로 제한되는 것은 아니다.
SLMM의 예는, 유기 염료, 무기 염료, 마이셀, 및 발색단을 함유하는 다른 분자 시스템을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다.
몇몇 양상에 있어서, 제1 및 제2 SLML(12, 12')의 각각의 SLMS는 적어도 1종의 첨가제, 예컨대, 경화제, 및 코팅 조제를 포함할 수 있다. 몇몇 다른 양상에있어서, 제1 및 제2 SLML(12, 12')의 각각의 SLMS는 적어도 1종의 첨가제, 예컨대, 경화제, 및 적어도 1종의 산소 억제 이동 조성물을 포함할 수 있다.
경화제는 호스트 재료의 경화, 유리화, 가교결합 또는 중합을 개시시킬 수 있는 화합물 또는 재료일 수 있다. 경화제의 비제한적인 예는 용매, (에너지 또는 화학물질에 의한) 라디칼 발생제, (에너지 또는 화학물질에 의한) 산 발생제, 축합 개시제 및 산/염기 촉매 중 적어도 1종을 포함한다.
코팅 조제의 비제한적인 예는 평활제, 습윤제, 소포제, 접착 촉진제, 산화방지제, UV 안정화제, 경화 억제 완화제, 방오제, 부식 방지제, 광증감제(photosensitizer), 2차 가교제 및 향상된 적외선 건조를 위한 적외선 흡수제를 포함한다. 일 양상에 있어서, 산화방지제는 SLML(12, 12')의 조성 중에 약 25ppm 내지 약 5 중량%의 범위의 양으로 존재할 수 있다.
제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 용매를 포함할 수 있다. 용매의 비제한적인 예는 아세테이트, 예컨대, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트 및 부틸 아세테이트; 아세톤; 물; 케톤, 예컨대, 다이메틸 케톤(DMK), 메틸에틸 케톤(MEK), sec-부틸 메틸 케톤(SBMK), tert-부틸 메틸 케톤(TBMK), 사이클로펜탄온 및 아니솔; 글리콜 유도체, 예컨대, 프로필렌 글리콜 메틸 에터, 및 프로필렌 글리콜 메틸 에터 아세테이트; 알코올, 예컨대, 아이소프로필 알코올, 및 다이아세톤 알코올; 에스터, 예컨대, 말로네이트; 복소환식 용매, 예컨대, n-메틸 피롤리돈; 탄화수소, 예컨대, 톨루엔 및 자일렌; 유착(coalescing) 용매, 예컨대, 글리콜 에터; 및 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 용매는, SLML(12, 12')의 조성물의 총 중량에 대해서, 약 0% 내지 약 99.9%, 예를 들어 약 0.005% 내지 약 99%, 추가의 예로서 약 0.05% 내지 약 90 중량%의 범위의 양으로 제1 및 제2SLML(12, 12')의 각각에 존재할 수 있다.
몇몇 예에 있어서, 제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 (i) 광개시제, (ii) 산소 억제 이동 조성물, (iii) 평활제, 및 (iv) 소포제 중 적어도 1종을 가진 조성물을 포함한다. 일 양상에 있어서, 제1 및 제2 SLML(12, 12')은 경화제 및 산소 억제 이동 조성물을 포함할 수 있다.
산소 억제 완화 조성물은 자유 라디칼 재료의 산소 억제를 완화시키는데 사용될 수 있다. 분자 산소는 광개시제, 증감제(sensitizer)의 삼중항 상태를 소광시킬 수 있거나, 또는 자유 라디칼을 제거하여 코팅 특성 및/또는 미경화 액체 표면을 감소시킬 수 있다. 산소 저감 완화 조성물은 산소 억제를 감소시킬 수 있거나 또는 임의의 SLML(12, 12')의 경화를 향상시킬 수 있다.
산소 억제 완화 조성물은 1종 초과의 화합물을 포함할 수 있다. 산소 억제 완화 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트, 예를 들어 적어도 1종의 아크릴레이트 단량체 및 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머를 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 산소 억제 완화 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트 단량체 및 2종의 아크릴레이트 올리고머를 포함할 수 있다. 산소 억제 완화 조성물에서 사용하기 위한 아크릴레이트의 비제한적인 예는 아크릴레이트; 메타크릴레이트; 에폭시 아크릴레이트, 예컨대, 변성된 에폭시 아크릴레이트; 폴리에스터 아크릴레이트, 예컨대, 산 작용성 폴리에스터 아크릴레이트, 4작용성 폴리에스터 아크릴레이트, 변성된 폴리에스터 아크릴레이트, 및 바이오-소스 폴리에스터 아크릴레이트; 폴리에터 아크릴레이트, 예컨대, 아민 작용성 아크릴레이트 공-개시제 및 3급 아민 공-개시제를 포함하는 아민 변성된 폴리에터 아크릴레이트; 우레탄 아크릴레이트, 예컨대, 방향족 우레탄 아크릴레이트, 변성된 지방족 우레탄 아크릴레이트, 지방족 우레탄 아크릴레이트, 및 지방족 알로포네이트계 우레탄 아크릴레이트; 및 이들의 단량체 및 올리고머를 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 산소 억제 완화 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머, 예컨대, 2종의 올리고머를 포함할 수 있다. 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머는 폴리에스터 아크릴레이트 및 폴리에터 아크릴레이트, 예컨대, 머캅토 변성된 폴리에스터 아크릴레이트 및 아민 변성된 폴리에터 테트라아크릴레이트로부터 선택/채택될 수 있다. 산소 억제 완화 조성물은 또한 적어도 하나의 단량체, 예컨대, 1,6-헥산다이올 다이아크릴레이트를 포함할 수 있다. 산소 억제 완화 조성물은, SLML(12, 12')의 조성물의 총 중량에 대해서, 약 5% 내지 약 95%, 예를 들어 약 10% 내지 약 90%, 추가의 예로서 약 15% 내지 약 85 중량%의 범위의 양으로 제1 및/또는 제2 SLML(12, 12')에 존재할 수 있다.
몇몇 예에 있어서, SLML(12, 12')의 호스트 재료는 양이온성 시스템과 같은 비라디칼 경화 시스템을 사용할 수 있다. 양이온성 시스템은 자유 라디칼 공정의 산소 억제의 완화에 덜 민감하며, 이에 따라서 산소 억제 완화 조성물을 필요로 하지 않을 수 있다. 일례에 있어서, 단량체 에틸-3-하이드록시메틸옥세탄의 사용은 산소 완화 조성물을 필요로 하지 않는다.
일 양상에 있어서, 제1 및 제2 SLML(12, 12')은 각각 독립적으로 적어도 1종의 광개시제, 예컨대, 2종의 광개시제, 또는 3종의 광개시제를 포함할 수 있다. 광개시제는 보다 짧은 파장에 사용될 수 있다. 광개시제는 화학선 파장에 대해서 활성일 수 있다. 광개시제는 I형 광개시제 또는 II형 광개시제일 수 있다. SLML(12, 12')은 단지 I형 광개시제, 단지 II형 광개시제, 또는 I형 및 II형 광개시제 둘 다의 조합물을 포함할 수 있다. 광개시제는, SLML(12, 12')의 조성물의 총 중량에 대해서, 약 0.25% 내지 약 15%, 예를 들어 약 0.5% 내지 약 10%, 추가의 예로서 약 1% 내지 약 5 중량%의 범위의 양으로 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있다.
광개시제는 포스핀옥사이드일 수 있다. 포스핀옥사이드는 모노아실 포스핀옥사이드 및 비스 아실 포스핀 옥사이드를 포함할 수 있지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 모노 아실 포스핀 옥사이드는 다이페닐(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀옥사이드일 수 있다. 비스 아실 포스핀 옥사이드는 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드일 수 있다. 일 양상에 있어서, 적어도 하나의 포스핀옥사이드는 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있다, 예를 들어, 2종의 포스핀옥사이드는 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있다.
증감제는 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있고 I형 및/또는 II형 광개시제용의 증감제로서 작용할 수 있다. 증감제는 또한 II형 광개시제로서 작용할 수 있다. 일 양상에 있어서, 증감제는 SLML(12, 12')의 조성물의 총 중량에 대해서 약 0.05% 내지 약 10%, 예를 들어 약 0.1% 내지 약 7%, 추가의 예로서 약 1% 내지 약 5 중량%의 범위의 양으로 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있다. 증감제는 티옥산톤, 예컨대, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤일 수 있다.
일 양상에 있어서, SLML(12, 12')은 평활제를 포함할 수 있다. 평활제는 폴리아크릴레이트일 수 있다, 평활제는 SLML(12, 12')의 조성물의 분화구(cratering)를 제거할 수 있다. 평활제는, SLML(12, 12')의 조성물의 총 중량에 대해서, 약 0.05% 내지 약 10%, 예를 들어 약 1% 내지 약 7%, 추가의 예로서 약 2% 내지 약 5 중량%의 범위의 양으로 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있다.
SLML(12, 12')은 또한 소포제를 포함할 수 있다. 소포제는 표면 장력을 저감시킬 수 있다, 소포제는 실리콘 무함유 액체 유기 중합체일 수 있다. 소포제는 SLML(12, 12')의 조성물의 총 중량에 대해서 약 0.05% 내지 약 5%, 예를 들어 약 0.2% 내지 약 4%, 추가의 예로서 약 0.4% 내지 약 3 중량%의 범위의 양으로 SLML(12, 12')의 조성물에 존재할 수 있다.
도 1 내지 도 2를 참조하면, 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')의 각각은 이들의 대응하는 SLML(12, 12')의 외부에 있을 수 있다. 비록 배치형태가 있을 수 있지만, 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은 각각 독립적으로 금속, 비금속 또는 금속 합금을 포함할 수 있다. 일례에 있어서, 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')용의 재료는 선택적 흡수 재료 및 비선택적 흡수 재료 둘 다를 포함하는 임의의 흡수체 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은 층이 적어도 부분적으로 흡수성이거나 반투명성인 두께로 증착된 비선택적 흡수성 금속 재료로 형성될 수 있다. 비선택적 흡수성 재료의 예는 회색 금속, 예컨대, 크롬 또는 니켈일 수 있다. 선택적 흡수성 재료의 예는 구리 또는 금속일 수 있다. 일 양상에 있어서, 흡수성 재료는 크롬일 수 있다. 적합한 흡수체 재료의 비제한적인 예는, 금속성 흡수체, 예컨대, 크롬, 알루미늄, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 티타늄, 바나듐, 코발트, 철, 주석, 텅스텐, 몰리브덴, 로듐, 니오븀, 구리뿐만 아니라, 기타 흡수체, 예컨대, 탄소, 흑연, 규소, 게르마늄, 서멧, 산화제2철 또는 다른 금속 산화물, 유전체 매트릭스에 혼합된 금속, 및 가시 스펙트럼에 균일 또는 선택적 흡수체로서 작용할 수 있는 기타 물질을 포함한다. 상기 흡수체 재료의 각종 조합물, 혼합물, 화합물 또는 합금이 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')을 형성하기 위하여 이용될 수 있다.
상기 흡수체 재료의 적합한 합금의 예는 인코넬(Inconel)(Ni-Cr-Fe), 스테인리스 강, 하스텔로이(Hastalloy)(Ni-Mo=Fe; Ni-Mo-Fe-Cr; Ni-Si-Cu) 및 티타늄계 합금, 예컨대, 탄소와 혼합된 티타늄(Ti/C), 텅스텐과 혼합된 티타늄(Ti/W), 니오븀과 혼합된 티타늄(Ti/Nb) 및 규소와 혼합된 티타늄(Ti/Si), 및 이들의 조합물을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')용의 적합한 화합물의 기타 예는, 티타늄계 화합물, 예컨대, 규화티타늄(TiSi2), 붕화티타늄(TiB2) 및 이들의 조합물을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 대안적으로, 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은 Ti의 매트릭스에 증착된 티타늄계 합금으로 구성될 수 있거나, 또는 티타늄계 합금의 매트릭스에 증착된 Ti로 구성될 수 있다. 예를 들어, 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은 크롬을 포함할 수 있다.
제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은 또한 독립적으로 코발트 니켈 합금과 같은 자성 재료로 형성될 수 있다. 이것은 요구되는 재료의 수를 저감함으로써 자성 색 변환 디바이스 또는 구조의 제조를 단순화시킬 수 있다.
제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은, 흡수체층 재료의 광학 상수 및 목적하는 피크 이동에 따라서, 약 5㎚ 내지 약 10㎚와 같은 약 1㎚ 내지 약 50㎚의 범위의 물리적 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 제1 및 제2 흡수체층(18, 18')은 각각 동일한 재료 또는 상이한 재료로 구성될 수 있고, 각 층에 대해서 동일 또는 상이한 물리적 두께를 가질 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 층(12, 12'. 14, 14', 16, 18 및 18')을 포함한다. 그러나, 물품(10)은 특정 구현예에 대해서 바람직한 임의의 수순 또는 배치형태로 더 많은 또는 더 적은 층을 포함할 수 있음에 유의해야 한다.
일 양상에 있어서, 플레이크, 포일 또는 시트의 형태의 광학 디바이스와 같은 물품(10)은, 또한 도 2에 도시된 바와 같이 기판(20) 및 이형층(22)을 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 이형층(22)은 기판(20)과 제1 흡수체층(18) 사이에 배치될 수 있다.
본 명세서에 기재된 광학 디바이스와 같은 물품(10)은 임의의 방식으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 플레이크(예컨대, 도 1 및 도 2의 물품(10))가 제조되고 나서, 광학 비다이스를 형성하는 더 작은 조각으로 분할, 파손, 분쇄 등될 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 플레이크(예컨대, 도 1 및 도 2의 물품(10))는 이하에 그리고/또는 도 3에 관하여 기재된 공정을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아닌 액상 코팅 공정에 의해 생성될 수 있다.
또한, 본 명세서에 기재된 바와 같은 플레이크 형태의 광학 디바이스와 같은 물품(10)의 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 방법은 기판 상에 20 제1 흡수체층(18)을 증착시키는 단계; 제1 흡수체층(18) 상에 제1 선택적 광 변조기 층(12)을 증착시키는 단계; 제1 선택적 광 변조기 층(12) 상에 제1 반사체층(14)을 증착시키는 단계; 제1 반사체층(14) 상에 자성-함유 층(16)을 증착시키는 단계; 자성-함유 층(16) 상에 제2 반사체층(14')을 증착시키는 단계; 제2 반사체층(14') 상에 제2 선택적 광 변조기 층(12')을 증착시키는 단계; 및 제2 선택적 광 변조기 층(12') 상에 제2 흡수체층(18')을 증착시키는 단계를 포함할 수 있되, 여기서 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층(12, 12') 중 적어도 하나는 액체 코팅 공정을 이용해서 증착된다.
도 1 및 도 2에 도시된 양상과 관련하여, 일반적으로, 물품(10)을 제조하는 방법은, 도 2에 도시된 바와 같이, 이형층(22)을 가진 기판(20)의 외부에서 당해 기판 상에 증착된 제1 흡수체층(18)을 포함할 수 있다.
기판(20)은 가요성 재료로 이루어질 수 있다. 기판(20)은 증착된 층들을 수용할 수 있는 임의의 적합한 재료일 수 있다. 적합한 기판 재료의 비제한적인 예는 중합체 웹, 예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 유리, 실리콘 웨이퍼 등을 포함한다. 기판(20)은 두께가 다양할 수 있지만, 예를 들어 약 2㎛ 내지 약 100㎛, 추가의 예로서 약 10 내지 약 50㎛의 범위일 수 있다.
제1 흡수체층(18)은 통상의 증착 공정, 예컨대, 플라즈마 증강 및 유동상과 같은 변형된 수법을 비롯하여, 물리적 기상 증착, 화학적 기상 증착, 박막 증착, 원자층 증착 등에 의해서 기판(20) 상에 증착될 수 있다. 일단 제1 흡수체층(18)이 기판(20) 상에 증착되었다면, 증착된 제1 흡수체층(18) 및 기판(20)은 증착 장치로부터 제거될 수 있다. 기판(20) 및 증착된 제1 흡수체층(18)은 이어서 증착된 제1 흡수체층(18) 상에 제1 SLML(12)을 증착시키기 위하여 액체 코팅 장치, 예컨대, 슬롯 다이 장치에 도입될 수 있다. 일단 제1 SLML(12)이 증착되고 경화되었다면, 제1 반사체층(14)은 이어서 통상의 증착 공정에 의해 제1 SLML(12) 상에 증착될 수 있다. 일단 제1 반사체층(14)이 증착되었다면, 자성-함유 층(16)이 제1 반사체층(14) 상에 증착될 수 있다. 상기 공정은 이어서 역순으로 반복될 수 있다. 예를 들어, 제2 반사체층(14')은 통상의 증착 공정을 이용해서 자성-함유 층(16) 상에 증착될 수 있다. 기판(20) 및 증착된 층들은 증착 장치로부터 제거되어 액체 코팅 장치로 도입될 수 있다. 액체 코팅 공정을 이용해서, 제2 SLML(12')이 제2 반사체층(14') 상에 증착될 수 있다. 일단 제2 SLML(12')이 경화되었다면, 기판(20)과 모든 증착된 층은 제2 흡수체층(18')을 증착시키도록 통상의 증착 공정 장치로 이송될 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 자성-함유 층(16)은 또한 액체 코팅 공정을 이용해서 증착될 수 있다. 액체 코팅 공정은 슬롯-비드, 슬라이드 비드, 슬롯 커튼, 슬라이드 커튼, 단일 및 다층 코팅, 인장된 웹 슬롯, 그라비어, 롤 코팅 및 기판 상에 액체를 도포하여 액체층 또는 필름을 형성하고 이어서 최종 SLML 층으로 건조 및/또는 경화시키는 기타 액체 코팅 및 인쇄 공정을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다.
기판(20)은, 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 이어서 물품(10)을 생성하기 위하여 증착된 층들로부터 분리될 수 있다. 일 양상에 있어서, 기판(20)은 연관된 이형층(22)을 무르게 하기 위하여 냉각될 수 있다. 다른 양상에 있어서, 이형층(22)은 예를 들어 가열에 의해 그리고/또는 광자 또는 e-빔 에너지에 의한 경화에 의해 무르게 되어 가교결합도를 증가시킬 수 있고, 이것은 스트리핑을 가능하게 할 수 있다. 증착된 층들은 이어서 표면의 첨예한 굽힘 또는 브러싱에 의한 것과 같이 기계적으로 스트리핑될 수 있다. 이형되고 스트리핑된 층들은, 공지된 수법을 이용해서, 플레이크, 포일 또는 시트 형태의 광학 디바이스와 같은 물품(10)으로 크기조절될 수 있다.
다른 양상에 있어서, 증착된 층들은 기판(20)으로부터 다른 표면으로 전사될 수 있다. 증착된 층들은 잘 규정된 크기 및 형상을 가진 커다란 플레이트를 생성하기 위하여 펀칭되거나 절단될 수 있다.
위에서 기술된 바와 같이, 제1 및 제2 SLML(12, 12')의 각각은 슬롯 다이 공정과 같은 액체 코팅 공정에 의해 증착될 수 있다. 그러나, 슬롯 다이 공정과 같은 액체 코팅 공정은 약 50 내지 약 700㎚와 같은 광학 두께에서 안정적으로 작동할 수 없었던 것으로 이미 여겨져 있었다. 특히, 매우 얇은 습윤 필름(wet film)은, 용매가 증발함에 따라서 고체가 모세관힘에 의해 둘러싸고 있는 얇은 영역으로부터 이동되는 두꺼운 영역의 섬들을 통상 형성하고 있다. 이러한 망상 외관은, 가변 두께가 광학 코팅의 저감된 색 균일성 및 낮은 색도뿐만 아니라, 반점형/텍스처화 외관을 초래하는 광범위한 색과 같은 광범위한 광로 길이를 초래할 수 있으므로 광학 코팅과 양립되지 않았다.
본 개시내용의 양상에 있어서, SLML(12, 12')은 슬롯 다이 공정과 같은 액체 코팅 공정을 이용해서 형성될 수 있다. 일 양상에 있어서, 액체 코팅 공정은 슬롯-비드, 슬라이드 비드, 슬롯 커튼, 슬라이드 커튼, 단일 및 다층 코팅, 인장된 웹 슬롯, 그라비어, 롤 코팅 및 기판 상에 액체를 도포하여 액체층 또는 필름을 형성하고 이어서 최종 SLML 층으로 건조 및/또는 경화시키는 기타 액체 코팅 및 인쇄 공정을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 액체 코팅 공정은 증기 증착과 같은 다른 증착 수법에 비해서 더 빠른 속도에서 SLML(12, 12')의 조성물의 전사를 허용할 수 있다.
부가적으로, 액체 코팅 공정은 간단한 장비 셋업으로 SLML(12, 12')에서 이용될 더 폭넓은 광범위한 재료를 허용할 수 있다. 개시된 액체 코팅 공정을 사용해서 형성된 SLML(12, 12')은 개선된 광학 성능을 나타낼 수 있는 것으로 여겨진다.
도 3은 액체 코팅 공정을 이용한 SLML(예컨대, 유전체층)(12, 12')의 형성을 예시한다. SLML의 조성물(액체 코팅 조성물)은 다이 슬롯(320) 내로 삽입되어 기판(340) 상에 증착되어 습윤 필름을 형성할 수 있다. 위에서 개시된 공정을 참조하면, 기판(340)은 이형층(22)을 가진 또는 가지지 않은 기판(20), 및 도 2에 도시한 바와 같은 증착된 제1 흡수체층(18)을 포함할 수 있다. 다른 양상에서, 기판(340)은 기판(20), 제1 흡수체층(18), 제1 SLML(12), 제1 반사체층(14), 자성-함유층(16) 및 제2 반사체층(14')을 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 기판(340)은 기판(20) 및/또는 증착된 층들의 임의의 조합일 수 있다. 슬롯 다이(320)의 바닥부에서부터 기판(340)까지의 거리는 슬롯 간극(G)이다. 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 액체 코팅 조성물은 건조 필름 두께(H)보다 큰 습윤 필름 두께(D)에서 증착될 수 있다. 습윤 필름이 기판(340) 상에 증착된 후에, 습윤 필름에 존재하는 임의의 용매가 증발될 수 있다. 액체 코팅 공정은 계속해서 습윤 필름을 경화시켜, 정확한 광학 두께(H)(약 50 내지 약 700㎚의 범위)를 가진 경화된 자체-평활화 SLML(12, 12')을 얻는다. 자체-평활화되는 층을 가로질러서 저감된 SLML(12, 12')의 능력이 광학 두께 변동을 가진 층을 초래하는 것으로 여겨진다. 궁극적으로, 자체-평활화 SLML(12, 12')을 포함하는 물품(10)이 증가된 광학 정밀도를 나타낼 수 있다. 이해를 용이하게 하기 위하여, 용어 "습윤 필름" 및 "건조 필름"은 SLML(12, 12')을 초래하는 액체 코팅 공정의 각종 단계에서의 조성물을 지칭하는데 이용될 것이다.
액체 코팅 공정은 코팅 속도 및 슬롯 간극(G) 중 적어도 하나를 조정하여 미리 결정된 두께(D)를 가진 습윤 필름을 달성할 수 있다. SLML(12, 12')은 각각 약 0.1㎛ 내지 약 500㎛, 예를 들어 약 0.1㎛ 내지 약 5㎛의 범위의 습윤 필름 두께(D)로 증착될 수 있다. 개시된 범위의 습윤 필름 두께(D)로 형성된 SLML(12, 12')은, 즉, 골(ribbing) 또는 줄무늬(streak)와 같은 파손 또는 결합 없이, 안정적인 SLML을 초래할 수 있다. 일 양상에 있어서, 습윤 필름은 약 100 m/분까지의 코팅 속도로 슬롯 다이 비드 모드를 이용해서 안정적인 습윤 필름에 대해서 약 10㎛의 두께를 지닐 수 있다. 다른 양상에 있어서, 습윤 필름은 약 1200 m/분까지의 코팅 속도로 슬롯 다이 커튼 모드를 이용해서 안정적인 습윤 필름에 대해서 약 6 내지 7㎛의 두께를 지닐 수 있다.
액체 코팅 공정은 약 0.1 내지 약 1000 m/분의 속도에서 약 1 내지 약 100의 슬롯 간극(G) 대 습윤 필름 두께(D)의 비를 포함할 수 있다. 일 양상에 있어서, 이 비는 약 100 m/분의 코팅 속도에서 약 9이다. 일 양상에 있어서, 상기 비는 약 50 m/분의 코팅 속도에서 약 20일 수 있다. 액체 코팅 공정은 약 0 내지 약 1000㎛ 범위의 슬롯 간극(G)을 가질 수 있다. 더 작은 슬롯 간극은 저감된 습윤 필름 두께를 허용할 수 있다. 슬롯-비드 모드에서 더 높은 코팅 속도는 10㎛보다 큰 습윤 필름 두께로 달성될 수 있다.
액체 코팅 공정은 약 0.1 내지 약 1000 m/분, 예를 들어 약 25 m/분 내지 약 950 m/분, 예를 들어 약 100 m/분 내지 약 900 m/분, 추가의 예로서 약 200 m/분 내지 약 850 m/분의 범위의 코팅 속도를 가질 수 있다. 일 양상에 있어서, 코팅 속도는 약 150 m/분 초과, 초과의 예에서 약 500 m/분 초과이다.
일 양상에 있어서, 비드 모드 액체 코팅 공정용의 코팅 속도는 약 0.1 m/분 내지 약 600 m/분, 예를 들어 약 50 내지 약 150 m/분의 범위일 수 있다. 다른 양상에 있어서, 커튼 모드 액체 코팅 공정용의 코팅 속도는 약 200 m/분 내지 약 1500 m/분, 예를 들어 약 300 m/분 내지 약 1200 m/분의 범위일 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 용매는, 예컨대, 습윤 필름이 경화되기 전에 습윤 필름으로부터 증발될 수 있다. 일 양상에 있어서, 약 100%, 예를 들어 약 99.9%, 추가의 예로서 약 99.8%의 용매가 SLML(12, 12')의 경화 전에 SLML(12, 12')의 조성물로부터 증발될 수 있다. 추가의 양상에 있어서, 흔적량의 용매가 경화된/건조 SLML(12, 12')에 존재할 수 있다. 일 양상에 있어서, 더 큰 본래의 중량 퍼센트의 용매를 가진 습윤 필름은 저감된 필름 두께(H)를 가진 건조 필름을 초래할 수 있다. 특히, 높은 중량 퍼센트의 용매를 갖고 높은 습윤 필름 두께(D)에서 증착되는 습윤 필름은 낮은 건조 필름 두께(H)를 가진 SLML(12, 12')을 초래할 수 있다. 용매의 증발 후, 습윤 필름이 액체를 남김으로써 액체 코팅 공정에서 후속의 경화 단계 동안 스키닝(skinning) 및 섬 형성과 같은 문제를 회피하는 것에 유의하는 것이 중요하다.
습윤 필름의 역학 점도(dynamic viscosity)는 약 0.5 내지 약 50 cP, 예를 들어 약 1 내지 약 45 cP, 추가의 예로서 약 2 내지 약 40 cP의 범위일 수 있다. 점도 측정 온도는 25℃이고, 레올로지(rheology)는 0.025㎜의 간극 설정에서 0.3° 각도로 콘/플레이트 40㎜ 직경을 이용하는 용매 트랩이 장착된 안톤 파르(Anton Paar) MCR 101 레오미터(rheometer)로 측정되었다.
일 양상에 있어서, SLML(12, 12')의 조성물 및 용매는 습윤 필름이 액체 코팅 공정을 이용해서 SLML의 정밀 코팅을 위한 뉴턴(Newtonian) 거동을 나타내도록 선택될 수 있다. 습윤 필름은 약 10,000 s-1 이상까지의 뉴턴 거동 전단 속도를 나타낼 수 있다. 일 양상에 있어서, 액체 코팅 공정의 전단 속도는 약 25 m/분까지의 코팅 속도에 대해서 약 1000 s-1, 예를 들어 약 100 m/분까지의 코팅 속도에 대해서 약 3900 s-1, 추가의 예로서 약 200 m/분까지의 코팅 속도에 대해서 약 7900 s-1일 수 있다. 최대 전단 속도는, 예컨대, 약 1㎛ 두께와 같은 매우 얇은 습윤 필름 상에서 일어날 수 있는 것이 이해될 것이다. 습윤 필름 두께가 증가함에 따라서, 전단 속도는 감소, 예를 들어, 10㎛ 습윤 필름에 대해서 15% 감소, 추가의 예로서 20㎛ 습윤 필름에 대해서 30% 감소될 것으로 예상될 수 있다.
습윤 필름으로부터 용매의 증발은 유사가소성(pseudoplastic)으로의 점도 거동의 변화를 초래할 수 있고, 이것은 정밀 SLML을 달성하는데 유익할 수 있다. 임의의 용매가 증발된 후에, 증착된 제1 및 제2 SLML(12, 12')의 역학 점도는, 약 10 cP 내지 약 3000 cP, 예를 들어 약 20 cP 내지 약 2500 cP, 추가의 예로서 약 30 cP 내지 약 2000 cP의 범위일 수 있다. 습윤 필름으로부터, 만약 존재한다면, 용매를 증발시킬 때, 유사가소성 거동으로의 점도의 증가가 있을 수 있다. 유사가소성 거동은 습윤 필름의 자체-평활화를 허용할 수 있다.
일 양상에 있어서, 상기 방법은 공지된 수법을 이용해서 습윤 필름에 존재하는 용매를 증발시키는 단계를 포함할 수 있다. 용매를 증발시키는데 요구되는 시간의 양은 웹/기판의 속도 및 드라이어 용량에 좌우될 수 있다. 일 양상에 있어서, 드라이어(도시 생략)의 온도는 약 120℃ 미만, 예를 들어, 약 100℃ 미만, 추가의 예로서 약 80℃ 미만일 수 있다.
액체 코팅 공정을 이용해서 증착된 습윤 필름은 공지된 수법을 이용해서 경화될 수 있다. 일 양상에 있어서, 습윤 필름은 자외광, 가시광, 적외선 또는 전자빔을 이용하여 경화될 수 있다. 경화는 불활성 또는 주위 분위기에서 진행될 수 있다. 일 양상에 있어서, 경화 단계는 약 395㎚의 파장을 가진 자외광원을 이용한다. 자외광원은 약 200 mJ/㎠ 내지 약 1000 mJ/㎠의 범위, 예를 들어 약 250 mJ/㎠ 내지 약 900 mJ/㎠, 추가의 예로서 약 300 mJ/㎠ 내지 약 850 mJ/㎠의 범위의 선량에서 습윤 필름에 인가될 수 있다.
습윤 필름은 공지된 수법에 의해서 가교결합될 수 있다. 비제한적인 예는 광유도 중합, 예컨대, 자유 라디칼 중합, 분광 감지 광유도 자유 라디칼 중합, 광유도 양이온성 중합, 분광 감지 광유도 양이온성 중합, 및 광유도 고리화첨가; 전자빔 유도 중합, 예컨대, 전자빔 유도 자유 라디칼 중합, 전자빔 유도 양이온성 중합, 및 전자빔 유도 고리화첨가; 및 열적 유도 중합, 예컨대, 열적 유도 양이온성 중합을 포함한다.
액체 코팅 공정을 이용해서 형성된 SLML(12, 12')은 개선된 광학 성능을 나타낼 수 있고, 즉, 정밀 SLML일 수 있다. 몇몇 예에 있어서, 정밀 SLML(12, 12')은 층을 가로질러 약 3% 미만 광학 두께 변동, 약 5% 광학 두께 변동, 또는 약 7% 광학 두께 변동을 가진 개선된 광학 성능을 나타낼 수 있고, 즉, 정밀 SLML일 수 있다.
본 명세서에 개시된 방법에서 이용하기 위한 통상의 증착 공정은 물리적 기상 증착(PVD), 입자의 기계적 진동 베드 상에의 스퍼터링, 금속-유기 화합물의 열분해에 의한 분해, 및 CVD 유동상을 포함하지만, 이들로 제한되는 것은 아니다.
일례에 있어서, SLML은 SLMM으로서 용매 염료를 사용하는 지환식 에폭시 수지 호스트를 포함하고, 반사체는 알루미늄을 포함한다.
일례에 있어서, SLML은 SLMP로서 다이케토피롤로피롤 불용성 적색 염료를 사용하는 지환식 에폭시 수지 호스트를 포함하고, 반사체는 알루미늄을 포함한다.
일례에 있어서, SLML은 SLMP로서 백색 안료(티타니아)를 사용하는 아크릴레이트 올리고머 수지 호스트를 포함한다.
일례에 있어서, SLML은 SLML으로서 흑색 IR 투과성 안료를 이용하는 아크릴레이트 올리고머 수지 호스트를 포함하고, 반사체는 알루미늄을 포함한다.
청구항 10의 물품; 및 액체 매질을 포함하는 색 변환 착색제. 청구항 10의 물품에 있어서, 경화제는 자외광, 가시광, 적외선, 또는 전자빔 에너지 중 적어도 하나를 이용한다. 청구항 10의 물품에 있어서, 산소 억제 이동 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트 단량체 및 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머를 포함한다.
기판 상에 제1 흡수체층을 증착시키는 단계; 제1 흡수체층 상에 제1 선택적 광 변조기 층을 증착시키는 단계; 제1 선택적 광 변조기 층 상에 제1 반사체층을 증착시키는 단계; 제1 반사체층 상에 자성-함유 층을 증착시키는 단계; 자성-함유 층 상에 제2 반사체층을 증착시키는 단계; 제2 반사체층 상에 제2 선택적 광 변조기 층을 증착시키는 단계; 및 제2 선택적 광 변조기 층 상에 제2 흡수체층을 증착시키는 단계를 포함하되; 여기서 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나가 액체 코팅 공정을 이용해서 증착되는, 물품의 형성 방법.
청구항 14의 방법에 있어서, 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층은 각각 독립적으로 약 0.1㎛ 내지 약 500㎛의 범위의 습윤 필름 두께를 갖는다. 청구항 14의 방법에 있어서, 자성-함유 층은 액체 코팅 공정을 이용해서 증착된다. 청구항 14의 방법에 있어서, 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층은 각각 독립적으로 용매를 포함하고, 액체 코팅 공정은 증착된 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층으로부터 용매를 증발시키는 단계 및 경화시키는 단계를 더 포함한다. 청구항 14의 방법에 있어서, 액체 코팅 공정은 약 100 m/분의 코팅 속도에서 약 9의 슬롯 간극 대 습윤 필름 두께의 비를 포함한다. 청구항 14의 방법에 있어서, 액체 코팅 공정은 약 50 m/분의 코팅 속도에서 약 20의 슬롯 간극 대 습윤 필름 두께의 비를 포함한다. 청구항 15의 방법에 있어서, 습윤 필름 두께는 약 0.1㎛ 내지 약 5㎛의 범위이고 안정적인 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층을 초래한다.
상기 설명으로부터, 당업자는 본 교시내용이 다양한 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있다. 따라서, 이러한 교시가 그의 특정 실시형태 및 예와 관련하여 설명되었지만, 본 발명의 진정한 범위는 그렇게 제한되어서는 안 된다. 다양한 변경 및 수정이 본 명세서의 교시내용의 범위를 벗어나는 일 없이 이루어질 수 있다.
이 범위의 개시내용은 광범위하게 해석되어야 한다. 이것은 등가물, 수단, 시스템 및 본 명세서에 개시된 장치, 활동 및 기계적 작용을 달성하는 방법을 개시하는 것으로 의도된다. 본 명세서에 개시된 각 장치, 물품, 방법, 수단, 기계적 요소 또는 기구에 대해서, 이 개시내용은 또한 그의 개시내용에 포괄되고 본 명세서에 개시된 많은 양상, 기구 및 장치를 실시하기 위한 등가물, 수단, 시스템 및 방법을 교시하는 것으로 의도된다. 부가적으로, 이 개시내용은 코팅제 및 이의 많은 양상, 특징 및 요소에 관한 것이다. 이러한 장치는 그의 용도 및 동작에서 동적일 수 있고, 이 개시내용은 등가물, 수단, 시스템, 및 제조 장치 및/또는 광학 디바이스의 사용 방법 및 본 명세서에 개시된 동작 및 기능의 정신 및 설명과 부합하는 이의 많은 양상을 포괄하도록 의도된다. 본 출원의 청구범위는 마찬가지로 광범위하게 해석되어야 한다.
본 명세서에서의 발명의 설명은 이의 많은 실시형태에서 속성상 단지 예시적이며, 따라서 본 발명의 요지로부터 벗어나지 않은 변화가 본 발명의 범위 내인 것으로 의도된다. 이러한 변화는 본 발명의 정신과 범위로부터 벗어나는 것으로 간주되어서는 안 된다.

Claims (10)

  1. 물품으로서,
    제1 면 및 상기 제1 면과는 반대쪽에 있는 제2 면을 구비하는 자성-함유 층;
    상기 자성-함유 층의 상기 제1 면의 외부에 있는 제1 반사체층;
    상기 자성-함유 층의 상기 제2 면의 외부에 있는 제2 반사체층;
    상기 제1 반사체층의 외부에 있는 제1 선택적 광 변조기 층(selective light modulator layer);
    상기 제2 반사체층의 외부에 있는 제2 선택적 광 변조기 층;
    상기 제1 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제1 흡수체층; 및
    상기 제2 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제2 흡수체층을 포함하되;
    상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나가 적어도 1종의 경화제 및 적어도 1종의 코팅 조제를 포함하는, 물품.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 경화제는 용매, (에너지 또는 화학물질에 의한) 라디칼 발생제, (에너지 또는 화학물질에 의한) 산 발생제, 축합 개시제, 및 산/염기 촉매 중 적어도 1종인, 물품.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 적어도 하나의 코팅 조제는 평활제, 습윤제, 소포제, 접착 촉진제, 산화방지제, UV 안정화제, 경화 억제 완화제, 방오제, 부식 방지제, 광증감제(photosensitizer), 2차 가교제 및 향상된 적외선 건조를 위한 적외선 흡수제를 포함하는, 물품.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 자성-함유 층은 산화철 입자를 함유하는 중합체를 포함하는, 물품.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층은 각각 독립적으로 용매를 포함하는, 물품.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층은 각각 독립적으로 상기 층을 가로질러서 약 3% 미만의 두께 변동을 갖는, 물품.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층은 각각 독립적으로 상기 층을 가로질러서 약 1% 미만의 두께 변동을 갖는, 물품.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층은 각각 독립적으로 약 1㎚ 내지 약 10000㎚의 두께를 갖는, 물품.
  9. 청구항 1의 물품 및 액체 매질을 포함하는, 색 변환 착색제(color shifting colorant).
  10. 물품으로서,
    제1 면 및 상기 제1 면과는 반대쪽에 있는 제2 면을 구비하는 자성-함유 층;
    상기 자성-함유 층의 상기 제1 면의 외부에 있는 제1 반사체층;
    상기 자성-함유 층의 상기 제2 면의 외부에 있는 제2 반사체층;
    상기 제1 반사체층의 외부에 있는 제1 선택적 광 변조기 층;
    상기 제2 반사체층의 외부에 있는 제2 선택적 광 변조기 층;
    상기 제1 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제1 흡수체층; 및
    상기 제2 선택적 광 변조기 층의 외부에 있는 제2 흡수체층을 포함하되;
    상기 제1 및 제2 선택적 광 변조기 층 중 적어도 하나는 적어도 1종의 경화제, 및 적어도 1종의 산소 억제 이동 조성물을 포함하는, 물품.
KR1020190057101A 2016-06-27 2019-05-15 자성 물품 KR102257492B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662355188P 2016-06-27 2016-06-27
US62/355,188 2016-06-27
KR1020170080746A KR101980877B1 (ko) 2016-06-27 2017-06-26 자성 물품

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170080746A Division KR101980877B1 (ko) 2016-06-27 2017-06-26 자성 물품

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190055052A true KR20190055052A (ko) 2019-05-22
KR102257492B1 KR102257492B1 (ko) 2021-05-31

Family

ID=59350612

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170080746A KR101980877B1 (ko) 2016-06-27 2017-06-26 자성 물품
KR1020190057101A KR102257492B1 (ko) 2016-06-27 2019-05-15 자성 물품

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170080746A KR101980877B1 (ko) 2016-06-27 2017-06-26 자성 물품

Country Status (8)

Country Link
US (3) US10207479B2 (ko)
EP (2) EP3584288B1 (ko)
JP (1) JP2018028656A (ko)
KR (2) KR101980877B1 (ko)
CN (3) CN111524447B (ko)
CA (1) CA2971821C (ko)
DK (1) DK3263650T3 (ko)
HK (1) HK1249650A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3584288B1 (en) * 2016-06-27 2021-08-18 Viavi Solutions Inc. Magnetic articles
US20200004100A1 (en) * 2018-06-29 2020-01-02 Viavi Solutions Inc. Optical devices with functional molecules

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000510961A (ja) * 1996-05-14 2000-08-22 カラーリンク，インコーポレイテッド 色選択性光変調器
JP2005509691A (ja) * 2001-04-27 2005-04-14 フレックス プロダクツ インコーポレイテッド 多層磁性ピグメントおよび箔
JP2011237598A (ja) * 2010-05-11 2011-11-24 Ricoh Co Ltd 光変調素子、空間光変調器、画像生成装置、画像表示装置、光スイッチ
JP2012097135A (ja) * 2010-10-29 2012-05-24 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 磁性酸化鉄粒子分散液及びその製造方法
JP2013242396A (ja) * 2012-05-18 2013-12-05 Konica Minolta Inc 光学フィルムの製造方法
WO2016076333A1 (ja) * 2014-11-11 2016-05-19 コニカミノルタ株式会社 光学反射フィルムの製造方法

Family Cites Families (99)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5227892Y2 (ko) 1972-08-11 1977-06-24
US4017326A (en) 1975-02-13 1977-04-12 Chester Davis Enhancement of iridescent colors to provide vivid recording colors
JPS55160060A (en) 1979-05-30 1980-12-12 Dainichi Seika Kogyo Kk Metallic pigment and production thereof
US5569535A (en) 1979-12-28 1996-10-29 Flex Products, Inc. High chroma multilayer interference platelets
DE3370195D1 (en) 1982-06-30 1987-04-16 Teijin Ltd Optical laminar structure
JPS60184001U (ja) 1984-05-18 1985-12-06 新日本無線株式会社 赤外線用反射鏡
JPH0136891Y2 (ko) 1985-07-17 1989-11-08
GB8904185D0 (en) 1989-02-23 1989-04-05 British Telecomm Fabry-perot modulator
DE3905790A1 (de) 1989-02-24 1990-09-06 Bayer Ag Mehrschichten-verbundwerkstoff
US5136404A (en) * 1990-08-09 1992-08-04 Western Publishing Company Liquid crystal writing slate with improved light-transmission retention
US5471331A (en) * 1992-02-04 1995-11-28 Nippon Hoso Kyokai Spatial light modulator element with amorphous film of germanium, carbon and silicon for light blocking layer
US5928839A (en) 1992-05-15 1999-07-27 Morton International, Inc. Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof
US5591527A (en) 1994-11-02 1997-01-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical security articles and methods for making same
US6235105B1 (en) 1994-12-06 2001-05-22 General Atomics Thin film pigmented optical coating compositions
US5877895A (en) 1995-03-20 1999-03-02 Catalina Coatings, Inc. Multicolor interference coating
US6952301B2 (en) 1995-06-19 2005-10-04 Reflectivity, Inc Spatial light modulators with light blocking and absorbing areas
JP3624359B2 (ja) * 1995-10-18 2005-03-02 富士通株式会社 光変調素子、その製造方法、及び、光学装置
TW372314B (en) * 1996-11-25 1999-10-21 Hitachi Maxell Data recording medium and data regeneration apparatus thereof
JP3162313B2 (ja) * 1997-01-20 2001-04-25 工業技術院長 薄膜製造方法および薄膜製造装置
DE19707806A1 (de) 1997-02-27 1998-09-03 Merck Patent Gmbh Multischicht-Interferenzpigment mit transparenter Mittelschicht
DE19707805A1 (de) 1997-02-27 1998-09-03 Merck Patent Gmbh Multischicht-Interferenzpigment mit absorbierender Mittelschicht
US6157486A (en) * 1998-01-13 2000-12-05 3M Innovative Properties Company Retroreflective dichroic reflector
DE19820225A1 (de) 1998-05-06 1999-11-11 Basf Ag Mehrschichtige cholesterische Pigmente
US6139613A (en) * 1998-08-21 2000-10-31 Aveka, Inc. Multilayer pigments and their manufacture
US6157489A (en) 1998-11-24 2000-12-05 Flex Products, Inc. Color shifting thin film pigments
US6150022A (en) 1998-12-07 2000-11-21 Flex Products, Inc. Bright metal flake based pigments
US6369147B1 (en) 1999-01-25 2002-04-09 Ciba Specialty Chemicals Corporation Color effect pigments and method of forming the same
US6545809B1 (en) 1999-10-20 2003-04-08 Flex Products, Inc. Color shifting carbon-containing interference pigments
US6686042B1 (en) 2000-09-22 2004-02-03 Flex Products, Inc. Optically variable pigments and foils with enhanced color shifting properties
US6569529B1 (en) * 2000-10-10 2003-05-27 Flex Product, Inc. Titanium-containing interference pigments and foils with color shifting properties
US7518284B2 (en) 2000-11-02 2009-04-14 Danfoss A/S Dielectric composite and a method of manufacturing a dielectric composite
US6572784B1 (en) * 2000-11-17 2003-06-03 Flex Products, Inc. Luminescent pigments and foils with color-shifting properties
EP1239307A1 (en) * 2001-03-09 2002-09-11 Sicpa Holding S.A. Magnetic thin film interference device
US6808806B2 (en) * 2001-05-07 2004-10-26 Flex Products, Inc. Methods for producing imaged coated articles by using magnetic pigments
US7625632B2 (en) * 2002-07-15 2009-12-01 Jds Uniphase Corporation Alignable diffractive pigment flakes and method and apparatus for alignment and images formed therefrom
US6841238B2 (en) 2002-04-05 2005-01-11 Flex Products, Inc. Chromatic diffractive pigments and foils
EP1459267A2 (de) 2001-12-21 2004-09-22 Giesecke & Devrient GmbH Vorrichtungen und verfahren zur bearbeitung von blattgut
JP4083564B2 (ja) 2001-12-26 2008-04-30 住友ベークライト株式会社 有機層の形成方法及びガスバリア性プラスチックフィルム
CN101261339A (zh) 2002-03-14 2008-09-10 日本电气株式会社 光调制显示器件、其制作方法以及装有此光调制显示器件的显示装置
US6997981B1 (en) 2002-05-20 2006-02-14 Jds Uniphase Corporation Thermal control interface coatings and pigments
EP1544220B1 (en) 2002-07-22 2007-01-10 Mitsui Chemicals, Inc. Resin composition containing ultrafine inorganic particle
US6818291B2 (en) 2002-08-17 2004-11-16 3M Innovative Properties Company Durable transparent EMI shielding film
JP4201259B2 (ja) * 2002-08-22 2008-12-24 日東電工株式会社 被膜シートの製造方法
US20090081460A1 (en) * 2002-09-13 2009-03-26 Jds Uniphase Corporation Reinforced Glitter
US20080236447A1 (en) * 2002-09-13 2008-10-02 Jds Uniphase Corporation Flake For Covert Security Applications
US6979704B1 (en) 2002-10-29 2005-12-27 Jds Uniphase Corporation Optical polymer blend with bimodal particle sizes
EP1561765A4 (en) 2002-11-08 2007-07-04 Mitsubishi Chem Corp RADIATION-HARDENING RESIN COMPOSITION AND HARDENED PRODUCT THEREOF
US7169472B2 (en) 2003-02-13 2007-01-30 Jds Uniphase Corporation Robust multilayer magnetic pigments and foils
US7417782B2 (en) 2005-02-23 2008-08-26 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for spatial light modulation
GB2403724A (en) 2003-07-11 2005-01-12 Qinetiq Ltd Thermal infrared reflective coatings
JP2005209691A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Sony Corp 透明電極パターニング方法及び液晶表示装置の製造方法
JP2006176742A (ja) 2004-01-22 2006-07-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd 着色された光輝性顔料
US20050196584A1 (en) 2004-03-08 2005-09-08 Eastman Kodak Company Continuous support interleaving
CN1946818A (zh) 2004-04-22 2007-04-11 捷时雅股份有限公司 低折射率涂层组合物
WO2005103175A1 (en) 2004-04-22 2005-11-03 Jsr Corporation Low refractive index coating composition
KR100849729B1 (ko) 2004-04-28 2008-08-01 신닛뽄세이테쯔 카부시키카이샤 가시광선 반사판 및 그것을 구비한 전기·전자기기
KR100826359B1 (ko) 2004-07-29 2008-05-02 삼성전기주식회사 적층 하이브리드형 광변조기 모듈 패키지 및 그 제조방법
DE102004044576B4 (de) * 2004-09-13 2007-09-27 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung und deren Verwendung
JP2006095491A (ja) 2004-09-30 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルム
KR100683688B1 (ko) 2004-11-04 2007-02-15 삼성에스디아이 주식회사 유전체층 형성 장치 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이패널의 제조 방법
US7767123B2 (en) 2005-05-25 2010-08-03 Jds Uniphase Corporation Producing two distinct flake products using a single substrate
CN100592980C (zh) 2005-05-25 2010-03-03 Jds尤尼弗思公司 利用一个基底制造两种不同的片产品的方法及该片产品
JP5232365B2 (ja) 2005-06-01 2013-07-10 富士フイルム株式会社 フッ素化光重合開始剤を含む光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、およびそれを用いた画像表示装置
US7629051B2 (en) 2005-06-01 2009-12-08 Fujifilm Corporation Optical film containing fluorinated photopolymerization initiator, antireflective film, polarizing plate and image display unit including same
AU2006202315B2 (en) 2005-06-17 2011-01-27 Viavi Solutions Inc. Covert security coating
JP2007075797A (ja) 2005-09-16 2007-03-29 Fujifilm Corp 塗布方法、装置、光学フィルムの製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法
DE102005061684A1 (de) 2005-12-21 2007-06-28 Eckart Gmbh & Co. Kg Weißes, IR-Strahlung reflektierendes Pigment, dessen Herstellung und Verwendung
JP2007232958A (ja) 2006-02-28 2007-09-13 Kimoto & Co Ltd 明室用反射型スクリーン
ATE522838T1 (de) 2006-06-01 2011-09-15 Light Resonance Technologies Llc Lichtfilter/-modulator und array von filtern/modulatoren
JP5081422B2 (ja) 2006-10-03 2012-11-28 株式会社コーセー 白色複合粉体及びそれを配合した化粧料
KR100894177B1 (ko) 2006-12-27 2009-04-22 삼성전기주식회사 광 변조기 모듈 패키지
RU2485152C2 (ru) 2007-06-05 2013-06-20 Бэнк оф Канада Составы печатной краски или тонера, способы их применения и продукты, получаемые из них
US20090004478A1 (en) 2007-06-29 2009-01-01 3M Innovative Properties Company Flexible hardcoat compositions, articles, and methods
WO2009079279A2 (en) 2007-12-17 2009-06-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Photovoltaics with interferometric back side masks
JP5110157B2 (ja) 2008-03-05 2012-12-26 日立化成工業株式会社 調光フィルムの製造方法及び調光フィルム
CN102077060B (zh) * 2008-06-04 2014-10-29 G·帕特尔 一种基于腐蚀金属的监测系统
JP5420986B2 (ja) 2008-06-30 2014-02-19 富士フイルム株式会社 光学補償フィルム、及び液晶表示装置
CA2656506A1 (en) * 2009-02-27 2010-08-27 Bank Of Canada Security device
JP5594611B2 (ja) 2009-03-06 2014-09-24 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． スロットダイ塗工方法
JP2010247369A (ja) 2009-04-13 2010-11-04 Fujifilm Corp ガスバリア積層体の製造方法およびガスバリア積層体
DE102009019761B4 (de) * 2009-05-05 2017-08-24 SECCO-Spezial-Elektronik und Computer-Cooperations-Gesellschaft mbH Verfahren zur Aufbringung optischer Filterstrukturen auf ein Trägersubstrat
FR2950080B1 (fr) 2009-09-17 2012-03-02 Essilor Int Procede et dispositif de depot chimique en phase gazeuse d'un film polymere sur un substrat
AR085378A1 (es) 2011-02-23 2013-09-25 Omya Development Ag Composicon para recubrimiento que comprende particulas que comprenden carbonato de calcio submicron, proceso para preparar la misma y uso de particulas que comprenden carbonato de calcio submicron en composiciones para recubrimiento
DE102011103882A1 (de) 2011-03-25 2012-09-27 Eckart Gmbh Kupferhaltige Metallpigmente mit Metalloxidschicht und Kunststoffschicht, Verfahren zu deren Herstellung, Beschichtungsmittel und beschichteter Gegenstand
US8815337B2 (en) 2011-04-21 2014-08-26 Sigma Laboratories Of Arizona, Llc Methods for fabrication of polymer-based optically variable devices
JP2013051248A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Panasonic Corp 液剤塗布装置及び液剤塗布方法
EP2791716A1 (en) * 2011-12-15 2014-10-22 3M Innovative Properties Company A personalized security article and methods of authenticating a security article and verifying a bearer of a security article
US20130164529A1 (en) 2011-12-21 2013-06-27 Silberline Manufacturing Company, Inc. Colored platelets
KR101341150B1 (ko) 2011-12-22 2013-12-11 한국조폐공사 고반사 보호막을 갖는 자성입자 및 그 제조방법
CN104756199B (zh) 2012-03-30 2017-03-01 帝人株式会社 透明导电层压材料
JP5892883B2 (ja) 2012-07-10 2016-03-23 株式会社瑞光 吸収体製造装置
US10020807B2 (en) 2013-02-26 2018-07-10 C3Nano Inc. Fused metal nanostructured networks, fusing solutions with reducing agents and methods for forming metal networks
FI128031B (en) 2013-03-13 2019-08-15 Nordkalk Oy Ab A process for preparing nanoparticles in a concentrated slurry
KR102100289B1 (ko) 2013-10-24 2020-04-13 주식회사 다이셀 은 나노 입자 함유 분산액의 제조 방법 및 은 나노 입자 함유 분산액
DE102013226162A1 (de) 2013-12-17 2015-06-18 Evonik Degussa Gmbh Silanmodifizierte Kieselsäure, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
WO2015106277A1 (en) * 2014-01-13 2015-07-16 The Regents Of The University Of California Wide-range infra-red-reflection and ultra-violet-cut transparent filters based on magnetically responsive photonic crystals
CN106032407A (zh) * 2015-03-18 2016-10-19 常州新墨能源科技有限公司 一种石墨烯及白色石墨烯掺杂的柔性透明导电膜涂层材料
US10036125B2 (en) * 2015-05-11 2018-07-31 Nanotech Security Corp. Security device
EP3584288B1 (en) * 2016-06-27 2021-08-18 Viavi Solutions Inc. Magnetic articles

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000510961A (ja) * 1996-05-14 2000-08-22 カラーリンク，インコーポレイテッド 色選択性光変調器
JP2005509691A (ja) * 2001-04-27 2005-04-14 フレックス プロダクツ インコーポレイテッド 多層磁性ピグメントおよび箔
JP2011237598A (ja) * 2010-05-11 2011-11-24 Ricoh Co Ltd 光変調素子、空間光変調器、画像生成装置、画像表示装置、光スイッチ
JP2012097135A (ja) * 2010-10-29 2012-05-24 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 磁性酸化鉄粒子分散液及びその製造方法
JP2013242396A (ja) * 2012-05-18 2013-12-05 Konica Minolta Inc 光学フィルムの製造方法
WO2016076333A1 (ja) * 2014-11-11 2016-05-19 コニカミノルタ株式会社 光学反射フィルムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DK3263650T3 (da) 2019-11-04
HK1249650A1 (zh) 2018-11-02
CN112885229A (zh) 2021-06-01
CN111524447A (zh) 2020-08-11
US20200023615A1 (en) 2020-01-23
EP3584288B1 (en) 2021-08-18
CA2971821A1 (en) 2017-12-27
US20170368798A1 (en) 2017-12-28
JP2018028656A (ja) 2018-02-22
CN111524447B (zh) 2022-04-08
EP3263650A1 (en) 2018-01-03
CA2971821C (en) 2019-09-03
CN112885229B (zh) 2023-02-17
CN107545834B (zh) 2021-02-02
KR101980877B1 (ko) 2019-05-21
US10882280B2 (en) 2021-01-05
CN107545834A (zh) 2018-01-05
EP3584288A1 (en) 2019-12-25
EP3263650B1 (en) 2019-08-14
US10207479B2 (en) 2019-02-19
KR20180001507A (ko) 2018-01-04
US10493724B2 (en) 2019-12-03
KR102257492B1 (ko) 2021-05-31
US20190143645A1 (en) 2019-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102337537B1 (ko) 비대칭 층 구조를 가진 광학 장치
KR102171417B1 (ko) 물품의 제조 방법
KR102349406B1 (ko) 높은 색도 안료 플레이크 및 포일
KR102171416B1 (ko) 시트의 제조 방법
KR102257492B1 (ko) 자성 물품

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant