KR20180116329A - 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents

비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180116329A
KR20180116329A KR1020187026813A KR20187026813A KR20180116329A KR 20180116329 A KR20180116329 A KR 20180116329A KR 1020187026813 A KR1020187026813 A KR 1020187026813A KR 20187026813 A KR20187026813 A KR 20187026813A KR 20180116329 A KR20180116329 A KR 20180116329A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
piezoelectric
transformers
transformer
piezoelectric transformer
input voltage
Prior art date
Application number
KR1020187026813A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102183551B1 (ko
Inventor
마이클 웨일구니
파볼 쿠데라
Original Assignee
에프코스 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에프코스 아게 filed Critical 에프코스 아게
Publication of KR20180116329A publication Critical patent/KR20180116329A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102183551B1 publication Critical patent/KR102183551B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
    • H01L41/044—
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
    • H05H1/2481—Generating plasma using acoustic pressure discharges the plasma being activated using piezoelectric actuators
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/40—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and electrical output, e.g. functioning as transformers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80—Constructional details
    • H10N30/802—Circuitry or processes for operating piezoelectric or electrostrictive devices not otherwise provided for, e.g. drive circuits
    • H10N30/804—Circuitry or processes for operating piezoelectric or electrostrictive devices not otherwise provided for, e.g. drive circuits for piezoelectric transformers
    • H05H2001/2481—

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

본 발명은 제1 압전 변압기(1), 제2 압전 변압기(101), 및 상기 각각의 압전 변압기(1, 101)에 입력 전압을 인가하도록 형성된 제어 회로를 구비하며, 상기 제1 압전 변압기(1)에 인가되는 입력 전압은 상기 제2 압전 변압기(101)에 인가되는 입력 전압에 대하여 90°만큼 위상 변위된, 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 하나 이상의 제1 압전 변압기(1) 및 하나 이상의 제2 압전 변압기(101)를 이용해서 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 방법과도 관련이 있다.

Description

비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 방법
본 발명은 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 플라즈마 발생 방법에 관한 것이다.
이와 같은 장치는, 특히 공정 가스를 이온화하기 위해서 이용될 수 있는 높은 전위가 그 출력 측에서 발생하는, 제1 및 제2 압전 변압기(transformer)를 구비한다. 압전 변압기에 의해 발생된 플라즈마가 작용할 수 있는 용적은 그 원리로 인해 압전 변압기의 출력 측 앞에 있는 일 영역에 제한되어 있다. 특히, 산업적인 적용예에서는, 더 큰 면적을 처리할 필요성이 종종 있다. 그에 상응하게, 이를 위해서는, 변압기의 상호 손상을 야기하지 않으면서 가급적 좁게 나란히 배열되어야만 하는 복수의 압전 변압기가 사용되어야 한다.
EP 1902599 B1호에는, 서로에 대해 약간의 간격을 두고 배열된 복수의 압전 변압기를 180°만큼 위상 변위된 입력 전압으로써 작동시키는 것이 공지되어 있다. 하지만, 이 경우에는, 변압기에 의해 발생된 플라즈마의 상호 소거가 불가피한 것으로 나타났다.
본 발명의 과제는 특히 변압기의 상호 손상을 야기하지 않으면서 복수의 압전 변압기를 서로에 대해 약간의 간격을 두고 배열하는 것을 가능하게 하는, 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 개선된 장치를 제공하는 것이다.
또 다른 과제는 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 개선된 방법을 제공하는 것이다.
상기 과제는 본 발명의 청구항 1에 따른 장치에 의해서 그리고 제2 독립 청구항에 따른 방법에 의해서 해결된다.
제1 압전 변압기, 제2 압전 변압기 및 제어 회로를 구비하는, 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치가 제안된다. 제어 회로는, 각각의 압전 변압기에 입력 전압을 인가하도록 형성되어 있으며, 이 경우 제1 변압기에 인가되는 입력 전압은 제2 변압기에 인가되는 입력 전압에 대하여 90°만큼 위상 변위되어 있다.
이 경우, 위상 변위는 항상 상대적으로 지시되어 있다. 그에 상응하게, +90°에 해당하는 양의 위상 변위 또는 -90°에 해당하는 음의 위상 변위로 명확하게 지시되지 않는 한, 90°라는 위상 변위의 지시는 위상 변위의 크기로서 간주 될 수 있다.
2개의 압전 변압기가 90°만큼 서로에 대해 변위된 입력 전압으로써 작동되면, 제1 압전 변압기에서 그리고 제2 압전 변압기에서는 항상 플라즈마의 발생이 교대로 이루어진다. 이와 같은 방식에 의해서는, 2개의 변압기가 동시에 플라즈마를 발생하여 2개의 플라즈마 발생이 서로에 대하여 악영향을 미치게 되는 상황이 피해질 수 있다. 플라즈마가 제1 변압기에 의해서 그리고 제2 변압기에 의해서 교대로 발생함으로써, 전체적으로 개선된 플라즈마 발생률에 도달할 수 있다.
제1 및 제2 압전 변압기는 서로에 대해 5㎝ 미만의 간격을 두고 배열될 수 있다. 변압기들의 작은 간격은, 2개의 변압기가 플라즈마 발생 시 서로를 방해하지 않음으로써 가능해진다. 2개의 변압기는 서로에 대해 적어도 5㎜의 간격을 가져야만 한다.
제어 회로는, 압전 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 동일한 주파수를 갖도록 형성될 수 있다. 그렇지 않은 경우에는, 입력 전압이 서로 상이한 주파수로 인해 분산됨으로써, 결과적으로 영구 작동 중에 90°의 위상 변위가 유지될 수 없게 된다. 그밖에, 이 경우에는, 부유 및 상응하는 부유 효과도 나타날 수 있다. 변압기가 동일한 주파수로 제어됨으로써, 부유 현상의 형성이 피해질 수 있다.
변압기는, 루우핑(looping) 방법에 의해서 동일한 길이 및 이로써 동일한 공진 주파수로 조정될 수 있다. 대안적으로는, 변압기의 제어를 위해, 본 발명에 따른 장치의 압전 변압기의 공진 주파수의 평균값으로부터 나타나는 주파수가 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 장치는 또한 추가의 압전 변압기를 구비할 수 있으며, 이 경우 제어 회로는, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 서로에 대해 각각 90°만큼 위상 변위되도록 설계될 수 있다.
추가 압전 변압기의 사용에 의해서는, 본 발명에 따른 장치를 이용해서 큰 면적을 처리하는 것이 가능해질 수 있으며, 이 경우에는 압전 변압기의 개수를 증가시킴으로써 동시에 처리될 면적이 확대된다.
압전 변압기는 서로에 대해 평행하게 배열될 수 있고, 단 하나의 행을 형성할 수 있다.
압전 변압기는 서로에 대해 평행하게 배열될 수 있고, 2개 이상의 행 및 2개 이상의 열을 갖는 어레이를 형성할 수 있다. 제어 회로는, 상기 어레이의 동일한 대각선상에 배열되어 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 0°만큼 위상 변위되도록, 변압기에 입력 전압을 인가하도록 설계될 수 있다.
제1 및 제2 압전 변압기는, 이들 변압기의 출력 측 정면이 서로 마주 놓이도록 배열될 수 있다. 이 경우에는, 처리될 대상물, 예를 들어 박막이 2개 변압기의 출력 측 정면 사이에 형성된 간극을 관통해서 가이드 될 수 있다. 그에 상응하게, 서로 마주 놓여 있는 그 대상물의 2개 표면에는, 본 발명에 따른 장치에 의해서 발생된 플라즈마가 동시에 제공될 수 있다.
대안적으로 또는 보완적으로, 본 발명에 따른 장치는, 제1 압전 변압기 및 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 단 하나의 행을 형성하는 추가의 압전 변압기를 구비하는 제1 그룹의 압전 변압기, 및 제2 압전 변압기 및 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 단 하나의 행을 형성하는 추가의 압전 변압기를 구비하는 제2 그룹의 압전 변압기를 구비한다. 제1 그룹의 압전 변압기 및 제2 그룹의 압전 변압기는 서로 마주 놓이도록 배열될 수 있으며, 이 경우 제어 회로는, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대하여 90°만큼 위상 변위되도록, 그리고 또한 서로 마주 놓여 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대하여 90°만큼 위상 변위되도록, 하나의 행의 변압기에 입력 전압을 인가하도록 설계되어 있다.
대안적으로 또는 보완적으로, 본 발명에 따른 장치는, 제1 압전 변압기 및 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 2개 이상의 열 및 2개 이상의 행을 갖는 어레이를 형성하는 추가의 압전 변압기를 구비하는 제1 그룹의 압전 변압기, 및 제2 압전 변압기 및 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 2개 이상의 열 및 2개 이상의 행을 갖는 어레이를 형성하는 추가의 압전 변압기를 구비하는 제2 그룹의 압전 변압기를 구비한다. 제1 그룹의 압전 변압기 및 제2 그룹의 압전 변압기는 서로 마주 놓이도록 배열될 수 있으며, 이 경우 제어 회로는, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대하여 90°만큼 위상 변위되도록, 어레이의 동일한 대각선상에 배열되어 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대하여 0°만큼 위상 변위되도록, 그리고 또한 서로 마주 놓여 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대하여 90°만큼 위상 변위되도록, 변압기에 입력 전압을 각각 인가하도록 설계되어 있다.
또 다른 일 양상에 따라, 본 발명은, 하나 이상의 제1 압전 변압기 및 제2 압전 변압기를 이용해서 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 방법과 관련이 있으며, 이 경우 제1 압전 변압기에 그리고 제2 압전 변압기에는 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위된 입력 전압이 인가된다.
본 발명에 따른 방법은, 특히 전술된 장치에 의해서 실행될 수 있다. 그에 상응하게, 장치와 관련하여 개시된 각각의 기능적이고 구조적인 특징은 방법에도 적용된다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 변압기의 상호 손상을 야기하지 않으면서 복수의 압전 변압기를 서로에 대해 약간의 간격을 두고 배열하는 것을 가능하게 된다.
이하에서는, 본 발명이 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명된다.
도 1은 압전 변압기를 사시도로 도시한다.
도 2a 내지 도 2c는 2개의 압전 변압기에 의한 플라즈마 발생을 도시하며, 이 경우 각각의 도면들에서는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 서로에 대한 위상 변위에 있어서 변한다.
도 3 및 도 4는 변압기의 출력 측 정면에서 발생하는 출력 전압의 파형을 도시한다.
도 5는 압전 변압기가 단 하나의 행으로 배열되어 있는 플라즈마 발생 장치를 도시한다.
도 6은 압전 변압기로 이루어진 어레이를 도시한다.
도 7은 압전 변압기들이 서로 마주 놓여 있는 플라즈마 발생 장치를 도시한다.
도 1은, 압전 변압기(1)를 사시도로 보여준다. 압전 변압기(1)는 특히 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치에 사용될 수 있다.
압전 변압기(1)는, 압전기를 기본으로 하고 종래의 자기 변압기와 달리 전기 기계식 시스템을 나타내는 공진 변압기의 구조적 형상이다. 압전 변압기(1)는, 예를 들어 로즈(rose)-타입의 변압기이다.
압전 변압기(1)는 입력 영역(2) 및 출력 영역(3)을 구비하며, 이 경우 출력 영역(3)은 세로 방향(z)으로 입력 영역(2)에 연결된다. 입력 영역(2)에서는, 압전 변압기(1)가 전극(4)을 구비하며, 이 전극에는 교류 전압이 인가될 수 있다. 전극(4)은 압전 변압기(1)의 세로 방향(z)으로 연장된다. 전극(4)은, 세로 방향(z)에 대해 수직인 적층 방향(x)으로 압전 재료(5)와 교대로 적층되어 있다. 이때, 압전 재료(5)는 적층 방향(x)으로 분극되어 있다.
전극(4)은 압전 변압기(1)의 내부에 배열되어 있고, 또한 내부 전극으로서도 지칭된다. 압전 변압기(1)는 제1 측면(6) 및 상기 제1 측면(6)에 마주 놓여 있는 제2 측면(7)을 구비한다. 제1 측면(6)에는, 제1 외부 전극(8)이 배열되어 있다. 제2 측면(7)에는, 제2 외부 전극(도시되지 않음)이 배열되어 있다. 내부에 놓인 전극(4)은 적층 방향(x)으로 제1 외부 전극(8) 또는 제2 외부 전극과 교대로 전기적으로 접촉한다.
또한, 압전 변압기(1)는, 서로 마주 놓여 있고 제1 측면(6) 및 제2 측면(7)에 대해 수직으로 배열된 제3 측면(20) 및 제4 측면(21)을 구비한다. 제3 및 제4 측면(20, 21)의 표면 법선은 각각 적층 방향(x)을 지시한다.
입력 영역(2)은, 전극(4) 사이에 인가되는 적은 교류 전압에 의해서 제어될 수 있다. 압전 효과로 인해, 입력 측에 인가되는 교류 전류는 먼저 기계적인 진동으로 변환된다. 이 경우, 기계적인 진동의 주파수는 압전 변압기(1)의 기하학적인 구조 및 기계적인 구조에 현저하게 의존한다.
출력 영역(3)은 압전 재료(9)를 구비하고, 내부에 놓인 전극이 없다. 출력 영역에 있는 압전 재료(9)는 세로 방향(z)으로 분극되어 있다. 출력 영역(3)의 압전 재료(9)로서는, 입력 영역(2)의 압전 재료(5)에서와 동일한 재료가 사용될 수 있으며, 이 경우 압전 재료(5 및 9)는 분극 방향이 서로 상이할 수 있다. 출력 영역(3)에서는, 압전 재료(9)가 단 하나의 모놀리식 층으로 형성되어 있으며, 이 층은 완전히 세로 방향(z)으로 분극되어 있다. 이 경우, 출력 영역(3) 내의 압전 재료(9)는 단 하나의 분극 방향만을 갖는다.
입력 영역(2) 내의 전극(4)에 교류 전압이 인가되면, 압전 재료(5, 9) 내부에서는, 출력 영역(3) 내에서의 압전 효과에 의해서 출력 전압을 발생하는 기계적인 웨이브가 형성된다. 출력 영역(3)은 출력 측 정면(10)을 구비한다. 따라서 출력 영역(3) 내에서는, 입력 영역(2)의 전극(4)의 단부와 정면(10) 사이에서 전기 전압이 발생한다. 이 경우, 출력 측 정면(10)에서는 고전압이 발생된다. 이 경우에는, 출력 측 정면과 압전 변압기의 주변 사이에서도, 공정 가스를 이온화하는 전기장을 발생하기에 충분한 높은 전위차가 발생된다.
상기와 같은 방식으로, 압전 변압기(1)는, 전기적인 여기에 의해서 가스 또는 액체를 이온화할 수 있는 높은 전기장을 발생한다. 이 경우에는, 개별 가스 또는 개별 액체의 원자 또는 분자가 이온화되어 플라즈마를 형성한다. 압전 변압기(1)의 표면에서의 전계 강도가 플라즈마의 점화 전계 강도를 초과하는 경우에는 항상 이온화가 이루어진다. 이 경우에는, 원자 또는 분자의 이온화를 위해서 필요한 전계 강도가 플라즈마의 점화 전계 강도로서 지칭된다.
도 2a 내지 도 2c는, 제1 압전 변압기(1) 및 제2 압전 변압기(101)를 구비하는 장치를 이용한 플라즈마 형성을 개략적으로 보여준다. 또한, 이 장치는 2개의 압전 변압기(1, 101) 각각에 입력 전압을 인가하는 것을 가능하게 하는 제어 회로도 구비한다.
제1 변압기(1) 및 제2 변압기(101)는 서로에 대해 평행하게 배열되어 있다. 특히, 제1 변압기(1)의 출력 영역(3)은 제2 변압기(101)의 출력 영역(103)에 직접 이웃하여 배열되어 있다. 제1 변압기의 출력 측 정면(10)의 표면 법선과 제2 변압기(101)의 출력 측 정면(10)의 표면 법선은 서로에 대해 평행하다. 제1 변압기(1)와 제2 변압기(101) 사이에는 간극(11)이 존재한다.
복수의 압전 변압기(1, 101)를 비-열적인 대기압-플라즈마를 형성하기 위한 장치에 사용함으로써, 동시에 더 큰 면적을 플라즈마로써 처리하는 것이 가능해진다. 특히 산업적인 적용예들에서, 효율적인 공정 형성을 위해 중요한 사실은, 짧은 처리 시간 안에 비-열적인 대기압-플라즈마가 큰 면적에 제공될 수 있다는 것이다.
도 2a는, 2개의 변압기(1, 101)에 각각 입력 전압이 인가되는 본 발명에 따르지 않는 배열을 보여주며, 이 경우에는 제1 변압기(1)에 인가되는 입력 전압 및 제2 변압기(101)에 인가되는 입력 전압이 서로에 대해 위상 변위되어 있지 않다. 이 경우, 2개의 변압기(1, 101) 각각에는 사인파 형상의 입력 전압이 인가된다. 그에 상응하게, 출력 측 정면(10, 110)에서 발생하는 전위의 시간 파형도 마찬가지로 사인파 형상의 파형을 가지며, 이 경우 2개의 변압기(1, 101)에서는 동일 시점에 최대 전위가 발생된다.
도 2a에서는, 파선에 의해, 2개 변압기(1, 101)에 의해 발생된 전위의 자장 파형이 지시되어 있다. 이 경우 파선들은 각각 등전위 선들이다.
도 2a는, 2개의 변압기(1, 101)에서 개별 출력 측 정면(10, 110)에서 최대 전위가 발생되는 시점에서의 전위 파형을 관찰한다. 2개 변압기(1, 101) 사이에 있는 간극(11) 내에서의 전위가 거의 일정하게 유지되는 전위 파형이 나타난다. 그와 달리, 높은 자장 기울기는 간극(11)으로부터 멀어지는 방향을 지시하는 출력 측 정면(10, 110)의 에지에서 나타난다. 이곳에서는, 파선으로 도시된 등전위 선들이 서로 좁게 나란히 놓여 있다.
플라즈마의 점화를 위해서는 높은 자장 기울기가 필요하다. 그에 상응하게, 플라즈마 발생 시, 2개 압전 변압기(1, 101)가 위상 동일하게 제어되는 경우에는 다음과 같은 이미지가 나타난다: 2개 변압기(1, 101) 사이에 있는 간극(11)의 영역에서는, 전위 레벨링으로 인해 플라즈마가 점화되지 않는다. 오로지, 간극(11)으로부터 멀어지는 방향을 가리키는 출력 측 정면(10, 110)의 에지에서만 플라즈마 점화가 이루어지는데, 그 이유는 다만 이곳에만 충분히 높은 자장 기울기가 존재하기 때문이다.
상기와 같은 압전 변압기(1, 101)의 제어에 의해서 발생 가능한 플라즈마의 양은 단 하나의 압전 변압기(1)에 의해서 달성 가능한 플라즈마 양보다 훨씬 더 높지는 않다.
도 2b는, 2개 압전 변압기(1, 101)의 본 발명에 따르지 않는 또 다른 제어 방식을 보여준다. 이 경우에는, 2개의 압전 변압기(1, 101) 각각에 서로에 대해 180°만큼 위상 변위된 사인파 형상의 입력 전압이 인가된다.
그에 상응하게, 동일 시점에 제2 압전 변압기(101)의 출력 측 정면(110)에 최대 음의 전위가 인가되는 경우에는, 제1 압전 변압기(1)의 출력 측 정면(10)에 최대 양의 전위가 인가된다.
이 경우에는, 특히 2개의 압전 변압기(1, 101) 사이에 있는 간극(11) 내에서 높은 자장 기울기가 설정된다. 그에 상응하게, 제2 압전 변압기(101) 쪽을 강하게 지향하고 있는 플라즈마 제트가 발생되는 플라즈마 점화가 제1 압전 변압기(10)에서 이루어진다. 제2 압전 변압기(101)의 경우에는, 제1 압전 변압기(1) 쪽을 강하게 지향하고 있는 플라즈마 제트가 발생되는 플라즈마 점화가 이루어진다.
간극(11)으로부터 멀어지는 방향으로 향하는 출력 측 정면(10, 110)의 에지에서는, 간극(11)에 비해 더 적은 자장 기울기가 설정된다. 그렇기 때문에, 이들 에지에서는 플라즈마 점화가 이루어지지 않게 된다. 그렇기 때문에, 전체적으로 볼 때, 이 경우에 발생된 플라즈마의 양은 동일한 시간 안에 단 하나의 압전 변압기(1)에 의해 발생된 플라즈마의 양보다 훨씬 더 높지는 않다.
도 2c는, 제2 압전 변압기(101)에 인가되는 입력 전압에 대하여 90°만큼 위상 변위된 입력 전압이 제1 압전 변압기(1)에 인가되는 제어 방식을 관찰한다. 2개의 입력 전압은 각각 사인파 형상의 파형을 갖는다.
이 경우, 제2 압전 변압기(101)가 거의 자장이 없는 경우에는, 제1 압전 변압기(1)의 출력 측 정면(10)에서 발생하는 전위가 자신의 최댓값에 도달하게 된다. 그에 상응하게, 제1 압전 변압기(1)에 의한 플라즈마 발생은 제2 압전 변압기(101)에 의해서 현저한 영향을 받지 않는다.
또한, 제1 압전 변압기(1)가 거의 자장이 없는 경우에는, 제2 압전 변압기(101)의 출력 측 정면(110)에서 발생하는 전위가 최댓값에 도달하게 된다. 그에 상응하게, 제2 압전 변압기(101)에 의한 플라즈마 발생은 제1 압전 변압기(1)에 의해서 현저한 영향을 받지 않는다.
그에 상응하게, 도 2c에 도시된 구성은, 단 하나의 압전 변압기(1)에 의해서 달성 가능한 플라즈마 발생률보다 훨씬 더 큰 플라즈마 발생률을 야기한다. 또한, 발생된 플라즈마는 전방으로의 방향으로 큰 입체각에 설쳐 균일하게 발생된다.
도 3은, 제1 압전 변압기(1)의 출력 측 정면(10)에서 발생된 전위의 시간 파형 및 제2 압전 변압기(101)의 출력 측 정면(110)에서 발생된 전위의 시간 파형을 보여준다. 이 시간 파형에서, 곡선(U1)은 제1 압전 변압기(1)의 출력 측 정면(10)에서 발생된 전위의 시간 파형을 보여주고, 곡선(U2)은 제2 압전 변압기(101)의 출력 측 정면(110)에서 발생된 전위의 시간 파형을 보여준다. 제2 압전 변압기(101)에 인가되는 입력 전압은, 제1 압전 변압기(1)에 인가된 입력 전압에 대하여 +90°만큼 위상 변위되어 있다.
플라즈마 및 오존은 제1 압전 변압기(1)에 의해 유전체 배리어 방전(DBD = D ielectric B arrier D ischarge)에 의해서 발생될 수 있다. 유전체 배리어 방전의 결과인 플라즈마 발생은 대체로 출력 측 정면(10, 110)에서 발생된 전위의 변경 속도에 의존한다. 이때, 도 3에 도시된 바와 같이, 서로에 대해 직접 이웃하는 2개의 압전 변압기(1, 101)에서 발생된 전위가 90°만큼 서로에 대해 변위된 경우에, 이들 전위는 각각 교대로 최대의 변경 속도를 나타낸다.
예시적으로, 곡선(U1)은 시점(t1)에 최대의 증가 속도를 갖는다. 그와 달리, 곡선(U2)은 시점(t1)에 다만 최소의 변경만을 갖는다. 그에 상응하게, 시점(t1)에서, 제1 압전 변압기(1)에서는 플라즈마가 점화되고, 제2 압전 변압기(101)에서는 플라즈마가 점화되지 않는다. 이로써, 2개의 변압기(1, 101)가 항상 서로에 대해 교대로 플라즈마를 발생하기 때문에, 이들은 상호 플라즈마 발생을 방해하지 않게 된다.
도 4는, 마찬가지로 제1 및 제2 압전 변압기(1, 101)의 출력 측 정면(10, 110)에서 발생된 전위의 파형을 보여주며, 이 경우에는 제2 압전 변압기(101)의 입력 전압이 제1 압전 변압기(1)의 입력 전압에 대하여 -90°만큼 위상 변위되어 있다. 재차, 이미 도 3에서 설명된 구성, 즉 2개의 변압기(1, 101)가 항상 서로에 대해 교대로 플라즈마를 발생하는 구성이 나타나는데, 그 이유는 각각 다른 변압기(1, 101)가 거의 일정한 전위를 나타내는 경우에는, 상기 변압기들이 각각 출력 측 전위의 증가 속도의 최댓값에 도달하기 때문이다.
이로써, 90°만큼 변위된 2개 변압기(1, 101)의 제어는, 2개의 변압기(1, 101)에 의해서 발생된 플라즈마 양이 최대로 될 수 있도록, 기하학적인 자장 기울기뿐만 아니라 발생된 자장의 변경 속도의 시간 파형까지도 최적화할 수 있다.
도 5는, 제1 압전 변압기(1) 및 제2 압전 변압기(101) 옆에 제3 변압기(201) 및 제4 변압기(301)를 구비하는, 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치를 보여준다. 또한, 이 장치는 추가의 압전 변압기들을 더 구비할 수 있다. 이 경우, 압전 변압기(1, 101, 201, 301)는 서로에 대해 평행하게 배열되어 있다. 압전 변압기의 출력 측 정면의 표면 법선들은 서로에 대해 평행하다.
또한, 압전 변압기(1, 101, 201, 301)는 서로에 대해 약간의 간격을 두고 배열되어 있다. 압전 변압기(1, 101, 201, 301)는 5㎜ 이상 내지 5㎝ 미만의 간격을 두고 서로에 대해 배열될 수 있다. 압전 변압기(1, 101, 201, 301)는, 이들 변압기가 하나의 행을 형성하도록 배열되어 있다. 이와 같이 압전 변압기(1, 101, 201, 301)가 단 하나의 행으로 배열된 상태는, 예를 들어 컨베이어 벨트 상에 있는 박막에 플라즈마가 효과적으로 제공되는 것을 가능하게 한다.
제1 변압기(1)는 제2 변압기(101)에 직접 이웃한다. 제2 변압기(101)는 제1 변압기(1)에 그리고 제3 변압기(201)에 직접 이웃하며, 이와 같은 배열 상태는 이후에도 유사하게 적용된다.
본 발명에 따른 장치는, 또한 압전 변압기(1, 101, 201, 301) 각각에 입력 전압을 인가하는 제어 회로를 구비한다. 이 경우에는, 서로에 대해 각각 이웃하는 압전 변압기들에 각각 90°만큼 서로에 대해 위상 변위된 입력 전압이 인가되도록, 입력 전압이 인가된다.
이제부터는, 제1 내지 제4 압전 변압기(1, 101, 201, 301)의 제어가 예로서 관찰된다.
제1 실시예에 따라, 제어 회로는 제1 및 제3 압전 변압기(1, 201)에는 각각 동일한 입력 전압, 다시 말해 서로에 대해 위상 변위되지 않은 입력 전압을 인가할 수 있고, 제2 및 제4 압전 변압기(101, 301)에는 각각 제1 및 제3 압전 변압기(1, 201)에 인가되는 입력 전압에 대하여 90°만큼 위상 변위된 입력 전압을 인가할 수 있다.
제2 실시예에 따라, 제1 변압기(1)의 입력 전압은 0°의 위상 변위를 갖고, 제2 변압기(101) 및 제4 변압기(301)의 입력 전압은 각각 +90°의 위상 변위를 가지며, 제3 변압기(201)의 입력 전압은 +180°의 위상 변위를 갖는다. 제1 내지 제4 압전 변압기(1, 101, 201, 301)에 인가되는 입력 전압의 또 다른 가능한 위상 변위들은 아래의 표로부터 인용될 수 있다. 이 경우, 위상 변위들은 항상 서로에 대해 상대적으로 보일 수 있다. 그에 상응하게, 양의 부호 및 음의 부호 그리고 n°만큼 변위된 위상 변위를 갖는 전체적인 순열(permutation)도 가능하다.
제1 변압기 제2 변압기 제3 변압기 제4 변압기
예 1 0° +90° 0° +90°
예 2 0° +90° +180° +90°
예 3 0° +90° 0° -90°
예 4 0° +90° +180° +270°
상기 표에는, 제1 내지 제4 압전 변압기(1, 101, 201, 301)에 인가되는 입력 전압의 위상 변위들이 각각 기재되어 있다. 이 경우, 위상 변위들은 항상 서로에 대해 상대적으로 보일 수 있다. 그에 상응하게, 양의 부호 및 음의 부호를 갖는 전체적인 순열도 가능하다. 또한, 모든 위상 변위들이 임의의 크기인 n°만큼 변위되는 전체적인 변위도 포함되어 있다.도 6은, 본 발명에 따른 장치의 또 다른 일 실시예를 보여준다. 본 도면에는, 본 발명에 따른 장치의 압전 변압기(1, 101, 201, 301)의 출력 측 정면(10, 110)이 평면도로 도시되어 있다. 이들 압전 변압기는 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고, 복수의 행 및 복수의 열을 갖는 하나의 어레이(1, 101, 201, 301)를 형성한다. 예를 들어, 제1 및 제3 변압기(1, 201)는 하나의 행에 배열되어 있다. 제1 및 제2 변압기(1, 101)는 하나의 열에 배열되어 있다. 제1 및 제4 변압기(1, 301)는 동일한 대각선을 따라 배열되어 있다. 제2 및 제3 변압기(101, 201)도 동일한 대각선을 따라 배열되어 있다.
변압기(1, 101, 201, 301)는, 서로에 대해 직접 이웃하는 압전 변압기(1, 101)에 각각 90°만큼 서로에 대해 위상 변위된 입력 전압이 공급되도록 제어된다. 하나의 대각선상에 놓여 있는 압전 변압기(1, 301 또는 101, 201)에는 각각 서로에 대해 위상 변위되지 않은 입력 전압이 공급된다. 이로 인해, 대각선을 따라서 이루어지는 플라즈마의 점화가 방지될 수 있다.
도 7은, 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치의 또 다른 일 실시예를 보여준다. 본 실시예에서, 제1 압전 변압기(1) 및 제2 압전 변압기(101)는 서로 마주 놓이도록 배열되어 있다. 특히, 제1 압전 변압기(1)의 출력 측 정면(10)은 제2 압전 변압기(101)의 출력 측 정면(110) 쪽을 향하고 있다.
이 경우에도, 2개의 압전 변압기(1, 101)에는, 제1 압전 변압기(1)에 인가되는 입력 전압이 제2 압전 변압기(101)에 인가되는 입력 전압에 대하여 90°만큼 위상 변위되도록, 제어 회로로부터 입력 전압이 공급된다.
도 7에 도시된 장치는, 특히 일 박막의 2개의 면이 동시에 플라즈마를 처리하기에 적합하다. 이 경우, 박막은, 압전 변압기(1, 101)의 2개의 출력 측 정면(10, 110) 사이에 형성된 중간 공간(12)을 관통해서 가이드 될 수 있다. 이 경우, 박막의 상부 면은 제1 압전 변압기(1) 쪽을 향할 수 있고, 박막의 하부 면은 제2 압전 변압기(101) 쪽을 향할 수 있다. 제1 압전 변압기(1)는 박막의 상부 면에 의해서 처리되는 플라즈마를 발생하고, 제2 압전 변압기(101)는 박막의 하부 면에 의해서 처리되는 플라즈마를 발생한다.
압전 변압기(1)가 단 하나의 행에 대하여 또는 복수의 열 및 복수의 행을 구비하는 하나의 어레이에 대하여 배열되어 있는 도 5 및 도 6에 도시된 실시예들도 서로 마주 놓여 있는 배열 상태로 구현될 수 있다. 이 경우, 제1 그룹의 압전 변압기들은 하나의 행 또는 하나의 어레이를 형성할 수 있고, 마찬가지로 하나의 행 또는 하나의 어레이를 형성하는 제2 그룹의 압전 변압기에 대하여 배열될 수 있다. 이때, 변압기들에 입력 전압이 공급되며, 이 경우에 주의를 기울어야 할 사실은, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기들에는 각각 서로에 대해 90°만큼 변위된 입력 전압이 공급되어야 한다는 것, 서로에 대해 마주 놓여 있는 변압기들에도 마찬가지로 서로에 대해 90°만큼 변위된 입력 전압이 공급되어야 한다는 것, 그리고 하나의 대각선상에 배열된 변압기들에는 각각 위상 동일한 입력 전압이 공급되어야 한다는 것이다.
1: 제1 압전 변압기
2: 입력 영역
3: 출력 영역
4: 전극
5: 압전 재료
6: 제1 측면
7: 제2 측면
8: 제1 외부 전극
9: 압전 재료
10: 출력 측 정면
11: 간극
12: 중간 공간
101: 제2 압전 변압기
103: 출력 영역
110: 출력 측 정면
201: 제3 압전 변압기
301: 제4 압전 변압기
x: 적측 방향
z: 세로 방향

Claims (10)

  1. 제1 압전 변압기(1), 제2 압전 변압기(101), 및 상기 각각의 압전 변압기(1, 101)에 입력 전압을 인가하도록 형성된 제어 회로를 구비하며, 상기 제1 압전 변압기(1)에 인가되는 입력 전압은 상기 제2 압전 변압기(101)에 인가되는 입력 전압에 대하여 90°만큼 위상 변위된, 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 압전 변압기(1, 101)가 5㎝ 미만의 간격을 두고 서로에 대해 배열되어 있는, 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제어 회로는, 상기 압전 변압기(1, 101)에 인가되는 입력 전압이 각각 동일한 주파수를 갖도록 형성되어 있는, 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가의 압전 변압기(201, 301)를 구비하며, 제어 회로는, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기(1, 101)에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위되도록, 상기 변압기(1, 101, 201, 301)에 입력 전압을 인가하도록 설계되어 있는, 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 압전 변압기(1, 101, 201, 301)가 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 단 하나의 행을 형성하는, 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 압전 변압기(1, 101, 201, 301)가 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고, 2개 이상의 행 및 2개 이상의 열을 갖는 하나의 어레이를 형성하며,
    제어 회로는, 상기 어레이의 동일한 대각선상에 배열되어 있는 변압기(1, 301)에 각각 서로에 대해 0°만큼 위상 변위된 입력 전압이 인가되도록, 상기 변압기(1, 101, 201, 301)에 입력 전압을 인가하도록 설계되어 있는, 장치.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 압전 변압기(1, 101)는, 이들의 출력 측 정면(10, 110)이 서로 마주 놓이도록 배열되어 있는, 장치.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 그룹의 압전 변압기는, 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 단 하나의 행을 형성하는 제1 압전 변압기(1) 및 추가의 압전 변압기들을 구비하며,
    제2 그룹의 압전 변압기는, 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 단 하나의 행을 형성하는 제2 압전 변압기(101) 및 추가의 압전 변압기들을 구비하며,
    상기 제1 그룹의 압전 변압기와 상기 제2 그룹의 압전 변압기는 서로 마주 놓이도록 배열되어 있으며,
    제어 회로는, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위되도록, 그리고 또한 서로 마주 놓여 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위되도록, 하나의 행의 변압기들에 각각 입력 전압을 인가하도록 설계되어 있는, 장치.
  9. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 그룹의 압전 변압기는, 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 2개 이상의 열 및 2개 이상의 행을 갖는 하나의 어레이를 형성하는 제1 압전 변압기(1) 및 추가의 압전 변압기들을 구비하며,
    제2 그룹의 압전 변압기는, 서로에 대해 평행하게 배열되어 있고 2개 이상의 열 및 2개 이상의 행을 갖는 하나의 어레이를 형성하는 제2 압전 변압기(101) 및 추가의 압전 변압기들을 구비하며,
    상기 제1 그룹의 압전 변압기와 상기 제2 그룹의 압전 변압기는 서로 마주 놓이도록 배열되어 있으며,
    제어 회로는, 서로에 대해 직접 이웃하는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위되도록, 그리고 상기 어레이의 동일한 대각선상에 배열되어 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 0°만큼 위상 변위되도록, 그리고 또한 서로 마주 놓여 있는 변압기들에 인가되는 입력 전압이 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위되도록, 변압기들에 각각 입력 전압을 인가하도록 설계되어 있는, 장치.
  10. 제1 압전 변압기(1) 및 제2 압전 변압기(101)에 각각 서로에 대해 90°만큼 위상 변위된 입력 전압이 인가되는,
    하나 이상의 제1 압전 변압기(1) 및 하나 이상의 제2 압전 변압기(101)를 이용해서 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 방법.
KR1020187026813A 2016-03-11 2017-01-25 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 방법 KR102183551B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016104490.3A DE102016104490B3 (de) 2016-03-11 2016-03-11 Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas
DE102016104490.3 2016-03-11
PCT/EP2017/051559 WO2017153084A1 (de) 2016-03-11 2017-01-25 Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines nichtthermischen atmosphärendruck-plasmas

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180116329A true KR20180116329A (ko) 2018-10-24
KR102183551B1 KR102183551B1 (ko) 2020-11-27

Family

ID=57906618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187026813A KR102183551B1 (ko) 2016-03-11 2017-01-25 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11076475B2 (ko)
EP (1) EP3427552B1 (ko)
JP (1) JP6600834B2 (ko)
KR (1) KR102183551B1 (ko)
CN (1) CN108702837B (ko)
DE (1) DE102016104490B3 (ko)
WO (1) WO2017153084A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017105401B4 (de) 2017-03-14 2019-01-31 Tdk Electronics Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas
DE102018105895A1 (de) * 2018-03-14 2019-09-19 Tdk Electronics Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines nicht-thermischen Atmosphärendruck-Plasmas und Verfahren zum Betrieb eines piezoelektrischen Transformators
DE102020100828B4 (de) * 2020-01-15 2023-03-09 Tdk Electronics Ag Vorrichtung zur Erzeugung einer dielektrischen Barriereentladung und Verfahren zur Behandlung eines zu aktivierenden Objekts

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5747914A (en) * 1997-02-05 1998-05-05 Motorola Inc. Driving circuit for multisectional piezoelectric transformers using pulse-position-modulation/phase modulation
US20020074903A1 (en) * 2000-12-20 2002-06-20 Phillips James R. Piezoelectric transformer with dual-phase input drive
JP2005294178A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Kazuo Okano コロナ放電型イオナイザ
US20090122941A1 (en) * 2005-07-14 2009-05-14 Jurgen Engemann Device for Producing an Atmospheric Pressure Plasma
WO2009127297A1 (de) * 2008-04-15 2009-10-22 Maschinenfabrik Reinhausen Gmbh Vorrichtung zur erzeugung eines atmosphärendruck-plasmas
EP2141968A2 (de) * 2008-07-04 2010-01-06 MASCHINENFABRIK REINHAUSEN GmbH Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas
WO2014115050A1 (de) * 2013-01-22 2014-07-31 Reinhausen Plasma Gmbh Vorrichtung zur erzeugung eines plasmas und handgerät mit der vorrichtung

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996039794A1 (fr) 1995-06-05 1996-12-12 Tohoku Unicom Co., Ltd. Alimentation servant a une decharge par electrodes multiples
JP2001102195A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Sony Corp イオン発生装置
US20040232806A1 (en) 2003-05-16 2004-11-25 Hiroshi Nakatsuka Piezoelectric transformer, power supply circuit and lighting unit using the same
IES20050301A2 (en) * 2005-05-11 2006-11-15 Univ Dublin City Plasma source
US7755254B2 (en) * 2006-12-04 2010-07-13 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb-type piezoelectric/electrostrictive element
JP5064085B2 (ja) 2007-04-06 2012-10-31 富山県 プラズマ処理装置
JP5201958B2 (ja) 2007-11-22 2013-06-05 国立大学法人東京工業大学 圧電トランス電極を用いたイオナイザ及びそれによる除電用イオン発生方法
US8689537B1 (en) * 2008-10-20 2014-04-08 Cu Aerospace, Llc Micro-cavity discharge thruster (MCDT)
JP5052537B2 (ja) 2009-01-27 2012-10-17 三井造船株式会社 プラズマ生成装置およびプラズマ生成方法
KR20110134217A (ko) 2010-06-08 2011-12-14 다이나믹솔라디자인 주식회사 다중 분할 전극 세트를 위한 급전장치를 구비한 플라즈마 챔버
EP2779803B1 (en) * 2011-11-11 2020-01-08 Saga University Plasma generation device for suppressing localised discharges
DE102012103938A1 (de) * 2012-05-04 2013-11-07 Reinhausen Plasma Gmbh Plasmamodul für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung und Plasmaerzeugungsvorrichtung
US8896211B2 (en) * 2013-01-16 2014-11-25 Orteron (T.O) Ltd Physical means and methods for inducing regenerative effects on living tissues and fluids
DE102013107448B4 (de) * 2013-07-15 2016-11-24 Relyon Plasma Gmbh Anordnung zur Keimreduktion mittels Plasma
DE102013109887A1 (de) * 2013-09-10 2015-03-12 Reinhausen Plasma Gmbh Handgerät und Verfahren zur Plasmabehandlung
DE102014110405A1 (de) * 2014-07-23 2016-01-28 Epcos Ag Piezoelektrischer Transformator
DE102015112410A1 (de) * 2015-07-29 2017-02-02 Epcos Ag Verfahren zur Frequenzregelung eines piezoelektrischen Transformators sowie Schaltungsanordnung mit einem piezoelektrischen Transformator
DE102015113656A1 (de) * 2015-08-18 2017-02-23 Epcos Ag Plasmagenerator und Verfahren zur Einstellung eines Ionenverhältnisses
DE102015117106A1 (de) * 2015-10-07 2017-04-13 Epcos Ag Piezoelektrischer Transformator
DE102015120160B4 (de) * 2015-11-20 2023-02-23 Tdk Electronics Ag Piezoelektrischer Transformator
DE102016102488A1 (de) * 2016-02-12 2017-08-17 Epcos Ag Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Transformators und piezoelektrischer Transformator
DE102016104104A1 (de) * 2016-03-07 2017-09-07 Epcos Ag Verfahren zur Herstellung von Ozon und Vorrichtung zur Ozongenerierung
DE102017105410A1 (de) * 2017-03-14 2018-09-20 Epcos Ag Plasmagenerator
DE102017105415B4 (de) * 2017-03-14 2018-10-11 Epcos Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines nicht-thermischen Atmosphärendruck-Plasmas und Verfahren zur Frequenzregelung eines piezoelektrischen Transformators
DE102017105401B4 (de) * 2017-03-14 2019-01-31 Tdk Electronics Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5747914A (en) * 1997-02-05 1998-05-05 Motorola Inc. Driving circuit for multisectional piezoelectric transformers using pulse-position-modulation/phase modulation
US20020074903A1 (en) * 2000-12-20 2002-06-20 Phillips James R. Piezoelectric transformer with dual-phase input drive
JP2005294178A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Kazuo Okano コロナ放電型イオナイザ
US20090122941A1 (en) * 2005-07-14 2009-05-14 Jurgen Engemann Device for Producing an Atmospheric Pressure Plasma
WO2009127297A1 (de) * 2008-04-15 2009-10-22 Maschinenfabrik Reinhausen Gmbh Vorrichtung zur erzeugung eines atmosphärendruck-plasmas
EP2141968A2 (de) * 2008-07-04 2010-01-06 MASCHINENFABRIK REINHAUSEN GmbH Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas
WO2014115050A1 (de) * 2013-01-22 2014-07-31 Reinhausen Plasma Gmbh Vorrichtung zur erzeugung eines plasmas und handgerät mit der vorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
CN108702837A (zh) 2018-10-23
US11076475B2 (en) 2021-07-27
WO2017153084A1 (de) 2017-09-14
EP3427552B1 (de) 2024-03-06
JP2019507943A (ja) 2019-03-22
EP3427552A1 (de) 2019-01-16
KR102183551B1 (ko) 2020-11-27
US20200187343A1 (en) 2020-06-11
JP6600834B2 (ja) 2019-11-06
CN108702837B (zh) 2021-05-18
DE102016104490B3 (de) 2017-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20130081761A1 (en) Radical passing device and substrate processing apparatus
TWI482194B (zh) 電漿處理裝置及電漿處理方法
TWI756276B (zh) 具有兩互連之微波電漿源的電漿處理裝置及操作此類電漿處理裝置之方法
KR102183551B1 (ko) 비-열적인 대기압-플라즈마를 발생하기 위한 장치 및 방법
US20090122941A1 (en) Device for Producing an Atmospheric Pressure Plasma
KR940022771A (ko) 플라즈마 처리장치
EP3214906B1 (en) Electrical discharge generator
JP6728502B2 (ja) 活性ガス生成装置
JP2006516805A (ja) プラズマチャンバにおけるイオン衝撃エネルギーを最小化するメカニズム
US11101426B2 (en) Piezoelectric transformer
WO2020021831A1 (ja) プラズマ発生装置
KR100719804B1 (ko) 다중 안테나 구조
JP2006302624A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP6652641B2 (ja) 圧電トランス
JP2009064618A (ja) プラズマプロセス装置
JP2006196224A (ja) プラズマ処理装置
JP7018119B2 (ja) 大気圧プラズマ発生装置、大気圧プラズマ発生回路、及び、大気圧プラズマ発生方法
JP2008004488A (ja) 空間に均一な濃度分布のイオンを供給するイオン発生素子及びイオン発生器並びに除電器
JP2011009047A (ja) プラズマ処理装置用のセラミック被覆電極及びプラズマ処理装置
JP6033651B2 (ja) プラズマ発生体及びプラズマ発生装置
KR101533688B1 (ko) 반전 비반전 전원 공급 구조를 갖는 용량 결합 플라즈마 챔버
KR20170047935A (ko) 이중 주파수 전원 공급기 및 이를 이용한 대기압 플라즈마 발생 장치, 그 방법
JPH10241899A (ja) プラズマ処理装置
TW200400781A (en) Atmospheric pressure plasma generator
JP2005243408A (ja) イオン発生用放電体およびイオン発生方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)