JP6728502B2 - 活性ガス生成装置 - Google Patents
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Description
(構成)
図1はこの発明の実施の形態である活性ガス生成装置の構成を示す説明図である。同図においてXYZ直交座標系を示している。
本実施の形態の活性ガス生成装置において、第1の給電部である給電体23が、平面視して第1の金属電極である金属電極10A及び10Bの全体を覆う形状を有することを第1の特徴している。本実施の形態の活性ガス生成装置は上記第1の特徴を有するため、金属電極10A及び10Bの上方に配置された給電体23によって、金属電極10A及び10Bの端部周辺領域の電位を均すことにより、金属電極10A及び10Bにおける端部の電界強度を低く抑えることができる。
以下、本実施の形態の効果のシミュレーション結果を参照して説明する。図4及び図5は従来の活性ガス生成装置によるシミュレーション結果を示す説明図である。図4の着目領域R51の拡大図が図5となる。
2 接地側電極構成部
5 高周波電源
10A,10B,20A,20B 金属電極
11,21 誘電体電極
15A,15B,25A,25B カバー誘電体
23 給電体
30 金属筐体
33A,33B 給電部
Claims (4)
- 放電空間(7)に供給された原料ガスを活性化して得られる活性ガスを生成する活性ガス生成装置であって、
第1の電極構成部(1)と
前記第1の電極構成部の下方に設けられる第2の電極構成部(2)と、
前記第1及び第2の電極構成部に前記第1の電極構成部が高電圧となるように交流電圧を印加する交流電源部(5)とを備え、前記交流電源部による前記交流電圧の印加により、前記第1及び第2の電極構成部間に形成される放電空間に供給された原料ガスを活性化して得られる活性ガスが前記第2の電極構成部に設けられたガス噴出口(55)から噴出され、
前記第1の電極構成部は、第1の誘電体電極(11)と前記第1の誘電体電極の上面上に選択的に形成される第1の金属電極(10A,10B)とを有し、前記第2の電極構成部は、第2の誘電体電極(21)と前記第2の誘電体電極の下面上に選択的に形成される第2の金属電極(20A,20B)とを有し、
前記活性ガス生成装置は、
前記第1の金属電極の上方に設けられ、前記第1の金属電極に前記交流電圧を伝達する第1の給電部(23)と、
前記第2の金属電極の下方に設けられ、前記第2の金属電極に前記交流電圧を伝達する第2の給電部(33A,33B)とをさらに備え、
前記第1の給電部は平面視して前記第1の金属電極の全体を覆う形状を有することを特徴とする、
活性ガス生成装置。 - 請求項1記載の活性ガス生成装置であって、
前記第2の給電部は平面視して前記第2の金属電極の全体を覆う形状を有することを特徴とする、
活性ガス生成装置。 - 請求項1または請求項2記載の活性ガス生成装置であって、
前記第1の金属電極の端部を全て覆うように、前記第1の誘電体電極の上面上に形成される第1の誘電体膜(15A,15B)と、
前記第2の金属電極の端部を全て覆うように、前記第2の誘電体電極の下面上に形成される第2の誘電体膜(25A,25B)とをさらに備える、
活性ガス生成装置。 - 請求項3記載の活性ガス生成装置であって、
前記第2の金属電極は、平面視して前記第2の誘電体電極の中央領域(R22)を挟んで互いに対向して形成される一対の第2の部分金属電極(20A,20B)を含み、
前記第1の金属電極は、平面視して前記一対の第2の部分金属電極と重複する領域を有する一対の第1の部分金属電極(10A,10B)を含み、
前記第1の誘電体膜は、前記一対の第1の部分金属電極それぞれの端部を全て覆うように、前記第1の誘電体電極の上面上に形成される一対の第1の部分誘電体膜(15A,15B)を含み、
前記第2の誘電体膜は、前記一対の第2の部分金属電極それぞれの端部を全て覆うように、前記第2の誘電体電極の下面上に形成される一対の第2の部分誘電体膜(25A,25B)を含み、
前記ガス噴出口は前記中央領域に形成される、
活性ガス生成装置。
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