JP4929759B2 - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明に係るプラズマ処理方法を実施するためのプラズマ処理装置の第1実施形態を模式的に示す断面図、図2は本実施形態における走査ヘッドの内部機構を示す断面図である。
図3は本発明に係るプラズマ処理方法を実施するためのプラズマ処理装置の第2実施形態を模式的に示す断面図である。なお、前記第1実施形態と同一又は対応する部分には、同一の符号を付して異なる部分のみを説明する。
11…ステージ電極(第1の電極)
12…アルミニウム電極(第1の電極)
13…ガラス基板(被処理体)
14…下部固体誘電体(第2の固体誘電体)
15…上部固体誘電体(第1の固体誘電体)
16…走査ヘッド
17…ヘッド電極(第2の電極)
23…交流電源
30…プラズマ処理装置
31…固体誘電体
Claims (6)
- 第1の電極と、当該第1の電極と相対的に移動可能な第2の電極とを有し、前記第1の電極と前記第2の電極との間に誘電体の被処理体及び固体誘電体を設置し、当該固体誘電体が当該被処理体の外周側の全てに接し、
前記固体誘電体は、前記被処理体の外周側に接し、かつ当該接する側の部分において前記第2の電極の前記第1の電極側に対向する面を有した第1の固体誘電体と、当該第1の固体誘電体と前記第1の電極との間に配置され、かつ一部が前記被処理体の外周側の部分と前記第1の電極との間に配置される第2の固体誘電体とを備え、
前記第1の電極の前記第2の電極側の全面が前記被処理体及び前記第2の固体誘電体のそれぞれに当接している状態で前記第1、第2の電極間に処理ガスを導入すると共に、前記第1、第2の電極間に電圧を印加し、前記第2の電極を前記第1の電極及び前記被処理体に対して相対的に移動させつつ、前記第1、第2の電極間で発生したプラズマ放電により前記被処理体を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1に記載のプラズマ処理方法において、
前記第2の電極の移動方向と垂直であって前記被処理体の処理表面と平行である垂直方向の幅手の長さに対して、前記固体誘電体の前記垂直方向の長さが、前記第2の電極の前記幅手の長さより長いことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1又は2に記載のプラズマ処理方法において、
前記固体誘電体の比誘電率が、前記被処理体の比誘電率と同等であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記固体誘電体の電気抵抗値が、前記被処理体の電気抵抗値と同等であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記第1の電極が平板電極であって、前記第2の電極が短冊状に形成された可動電極であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1乃至5のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記被処理体は、カラーフィルタを作製するためのガラス基板であることを特徴とするプラズマ処理方法。
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