JP4853049B2 - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
このプラズマ処理方法は、カラーフィルタ用の基材となる透明なガラス板1を被処理体とするもので、図6(A)に示すように、このガラス板1の表面にはあらかじめブラックマトリックス2が印刷等により形成されている。ブラックマトリックス2は有機材料である例えばポリイミドやカーボンブラックあるいはチタンブラックを含有する黒色系のインクを用いた印刷等により形成される。
図4に示すように、この実施の形態2のプラズマ処理方法では、閉塞部材として凹溝24内に嵌り込むガイドレール23を使用する。
図5に示すように、この実施の形態3のプラズマ処理方法では、閉塞部材として複数条の凹溝26内に嵌り込むラビリンスレール25を使用する。
2…ブラックマトリックス
3…凹部
4,5,6…着色用インク
9…第一の電極
10…第二の電極
23…ガイドレール
25…ラビリンスレール
a…外気
b…処理ガス
P…相対平行移動方向
Claims (4)
- 相対的に平行移動可能な第一の電極と第二の電極とを設け、第一の電極に対向するように第二の電極に板状の被処理体を設置し、両電極を相対平行移動させつつ両電極間に電圧を印加すると共に処理ガスを導入し、両電極間で発生したプラズマを被処理体に照射し、上記第一の電極が上記第二の電極及び被処理体に対して相対平行移動する際に、この第一の電極と被処理体との間のプラズマ処理空間を第一の電極における相対平行移動方向に平行な両端部において閉塞部材により閉塞するようにしたプラズマ処理方法において、上記閉塞部材を上記第二の電極側から上記第一の電極側に向かって、上記第二の電極上における被処理体の表面よりも高く隆起させておくことを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項1に記載のプラズマ処理方法において、上記閉塞部材をあらかじめ上記相対平行移動方向に沿って伸ばしておくことを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項1に記載のプラズマ処理方法において、閉塞部材として凹溝内に嵌り込むガイドレールを用いることを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項1に記載のプラズマ処理方法において、閉塞部材として複数条の凹溝内に嵌り込むラビリンスレールを用いることを特徴とするプラズマ処理方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006055976A JP4853049B2 (ja) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | プラズマ処理方法 |
US11/680,743 US8084080B2 (en) | 2006-03-02 | 2007-03-01 | Plasma processing method and plasma processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006055976A JP4853049B2 (ja) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | プラズマ処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007229651A JP2007229651A (ja) | 2007-09-13 |
JP4853049B2 true JP4853049B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=38471785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006055976A Expired - Fee Related JP4853049B2 (ja) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | プラズマ処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8084080B2 (ja) |
JP (1) | JP4853049B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015155325A1 (en) * | 2014-04-11 | 2015-10-15 | Oce-Technologies B.V. | A plasma generating device |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2666821B1 (fr) * | 1990-09-19 | 1992-10-23 | Ugine Aciers | Dispositif de traitement superficiel d'une plaque ou d'une tole d'un materiau metallique par plasma basse temperature. |
JP3343629B2 (ja) * | 1993-11-30 | 2002-11-11 | アネルバ株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP3704983B2 (ja) * | 1998-12-25 | 2005-10-12 | セイコーエプソン株式会社 | 表面処理装置 |
AU2001224729A1 (en) * | 2000-01-10 | 2001-07-24 | Tokyo Electron Limited | Segmented electrode assembly and method for plasma processing |
WO2002007184A2 (en) * | 2000-07-13 | 2002-01-24 | Tokyo Electron Limited | Adjustable segmented electrode apparatus and method |
JP2002320845A (ja) | 2001-04-24 | 2002-11-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 常圧プラズマ処理装置 |
JP3793451B2 (ja) * | 2001-12-05 | 2006-07-05 | 積水化学工業株式会社 | 放電プラズマ処理装置 |
JP4120455B2 (ja) * | 2003-04-22 | 2008-07-16 | セイコーエプソン株式会社 | パターンの形成方法及びデバイスの製造方法 |
JP4247056B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2009-04-02 | 積水化学工業株式会社 | 常圧プラズマ処理装置 |
US20070065597A1 (en) * | 2005-09-15 | 2007-03-22 | Asm Japan K.K. | Plasma CVD film formation apparatus provided with mask |
JP4929759B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2012-05-09 | 大日本印刷株式会社 | プラズマ処理方法 |
-
2006
- 2006-03-02 JP JP2006055976A patent/JP4853049B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2007
- 2007-03-01 US US11/680,743 patent/US8084080B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8084080B2 (en) | 2011-12-27 |
JP2007229651A (ja) | 2007-09-13 |
US20070207276A1 (en) | 2007-09-06 |
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A621 | Written request for application examination |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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