DE19826418C2 - Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasma sowie ein Herstellungsverfahren für die Vorrichtung sowie Verwendung der Vorrichtung - Google Patents
Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasma sowie ein Herstellungsverfahren für die Vorrichtung sowie Verwendung der VorrichtungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas nach dem
Oberbegriff des Patentanspruches 1 oder 2, ein Verfahren zur Herstellung solch einer Vor
richtung sowie eine Verwendung dieser Vorrichtung.
Es ist bereits eine gattungsgemäße Vorrichtung bekannt (DE 196 05 226 A1), bei der zur Er
zeugung eines Plasmas bei Umgebungstemperaturen Elektroden vorgesehen sind, die an ihrer
Oberseite scharfe Kanten aufweisen, wobei sich jeweils zwei der Elektroden in einem Ab
stand gegenüber liegen, der in der Größenordnung von einigen nm bis mm liegt. Durch Anle
gen einer elektrischen Spannung an die Elektroden ist ein Plasma erzeugbar. Es können damit
zwei- oder auch dreidimensionale Plasmen erzeugt werden durch eine entsprechende Anord
nung der Elektroden. Weiterhin sind dort Ausführungsbeispiele von Plasmaquellen genannt.
Ferner ist der JP 01192703 A ein Tieftemperaturplasmagenerator zur Luftsterilisation zu ent
nehmen, der neben einer Hochspannungsquelle im wesentlichen einander gegenüberliegende
Elektrodenreihen, bestehend aus jeweils einer Anzahl einzelner Elektroden, sowie eine Zwi
schenelektrode aufweist, die in wohl definiertem Abstand zwischen den beiden Elektroden
reihen angeordnet ist. Eine gleichförmige elektrische Entladung wird hierbei über eine zwi
schen der Hochspannungsquelle und zumindest einer Elektrodenreihe angeordnete Konden
satorreihe sichergestellt, wobei jede Elektrode in Reihe mit einem Kondensator geschaltet ist.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die gattungsgemäße Vorrichtung derart wei
terzuentwickeln, daß die Nachteile des Stands der Technik überwunden werden, insbesondere
das Anwendungsspektrum der Vorrichtung erweitert wird.
Diese Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale von Patentanspruch 1 bzw. 2 ge
löst.
In Anspruch 3 ist ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung und in
Anspruch 4 ist eine Verwendung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung beschrieben.
Gegenüber der Vorrichtung der DE 196 05 226 A1 erweist es sich hierbei als vorteilhaft, daß
eine definierte Erzeugung eines Plasmas über eine größere Fläche oder ein größeres Volumen
einfacher möglich wird. Es hat sich bei der bekannten Vorrichtung nämlich gelegentlich ge
zeigt, daß das Plasma lokal und zufällig in einem Teilbereich zündet. Demgegenüber kann
durch Anordnung einer niederohmigen Versorgungselektrode mit den vorgesehenen Mi
kroschaltern gemäß einer erfindungsgemäßen Ausführungsform ein definiertes Plasma er
zeugt werden. In Kenntnis dieser Umstände läßt sich dies dadurch erklären, daß beim Stand
der Technik der erzeugte Stromfluß einen Spannungsabfall am elektrischen Innenwiderstand
des Versorgungsgerätes sowie den elektrischen Widerständen der Zuleitungen und der Plas
maelektroden bedingt. Dadurch reicht unter Umständen die an den das Plasma erzeugenden
Elektroden anliegende Spannung nicht mehr aus, um das Plasma in dem restlichen Bereich zu
zünden. Erfindungsgemäß wird deshalb die elektrische Energie unabhängig in einzelne Ein
heiten eingespeist. Es wird durch den modularen Aufbau der einzelnen Einheiten die Erzeu
gung von homogenen Plasmaflächen bzw. Plasmavolumina ermöglicht.
Es können also durch Zusammensetzen der einzelnen Einheiten, die eine typische Größenord
nung von Länge, Breite und Höhe von ca. 0,1 mm haben können, geometrisch variabel und
sehr kompakt große Flächen oder Volumina zusammengesetzt werden. Durch die Verwen
dung der Mikroschalter können in den einzelnen Einheiten unabhängig voneinander, d. h. ins
besondere ohne Beeinflussung durch Plasmabedigungen benachbarter Einheiten zeitlich und
örtlich kontrolliert Plasmen gezündet werden.
Die Mikroschalter können durch einen statischen ohmschen Widerstand oder durch ein dyna
misches Element gebildet werden.
Der Wert des elektrischen Widerstandes des Mikroschalters im geschlossenen, d. h. elektrisch
leitenden, Zustand muß dabei so gewählt werden, daß die Summe aus diesem Widerstand und
dem Plasmawiderstand größer ist als die Summe der Widerstandswerte von Versorgungsge
rät, Zuleitungen und den Plamaelektroden.
Bei einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform sind die Elektroden in einzelne Ein
heiten unterteilt, wobei infolge der Unterteilung in die einzelnen Einheiten bei einer Ansteue
rung der Elektroden mehrere kleine Mikroplasmen entstehen, wobei diese zu Flächen bzw.
Volumina zusammengesetzt werden, und die Einkopplung der elektrischen Energie in jede
der Einheiten bei Verwendung von Wechselspannung durch eine kapazitive Kopplung der
Versorgungselektrode über eine elektrisch isolierende Schicht zu den das Plasma erzeugenden
Elektroden übertragbar ist. Durch diese rein kapazitive Einkopplung der elektrischen Energie
kann anstelle bestimmter Materialien zur Erzeugung von definierten Mikroschaltern praktisch
jedes isolierende Material genutzt werden. Dies erlaubt eine kostengünstigere Fertigung der
Plasmaquelle sowie einen effizienten Schutz der Elektroden vor den Einflüssen des Plasmas
selbst zur Vermeidung von Abnutzung oder stofflicher Veränderung der Elektroden.
Es ist möglich, jede der einzelnen Einheiten zeitlich und örtlich unabhängig durch Wech
selspannung zu zünden.
Erfindungsgemäß ist ein Verfahren zur Herstellung einer der genannten Vorrichtungen vorge
sehen, bei dem die die Plasmen erzeugenden Elektroden mittels Mikro- oder Nanostruktur
technik hergestellt und die Mikroschalter mittels mehrlagiger Elektrodenbeschichtungstechnik
in die Einheiten integriert werden. Dadurch wird die Vorrichtung, die einen Mikroschalter
enthält, einfach herstellbar.
Erfindungsgemäße Vorrichtungen können zur definierten Erzeugung eines flächenmäßig oder
volumenmäßig ausgedehnten Plasmas verwendet werden. Es können somit beispielsweise
großflächige Plasmavolumina erzeugt werden, die eine effiziente Nutzung der elektrischen
Energie an großen Plasmaoberflächen bei minimalem Plasmavolumen erlauben, beispielswei
se zur Bearbeitung von Oberflächen, wie deren Reinigung oder Ätzung oder Beschichtung
oder Bedruckung, oder der Visualiesierung, indem das Plasma als großflächige spektrale
Lichtquelle und/oder Spektrallampe verwendet wird oder als flacher Bildschirm.
Mehrere solcher Plasmaflächen lassen sich zur Erzeugung großvolumiger Plasmen zusam
mensetzen, beispielsweise zur chemischen Umsetzung, wie der Synthese komplexer chemi
scher Verbindungen aus einfachen Grundbausteinen, wie beispielsweise zur Erzeugung höhe
rer Kohlenwasserstoffe aus Methan.
Es wird die Erzeugung eines Plasmas bei Druck in der Größenordnung von 1 mbar bis zu 1,5 bar
ermöglicht.
Ausführungsbeispiele zur entkoppelten Einspeisung der elektrischen Energie in geeignete
Mikroplasmaelektroden sind in der Zeichnung dargestellt. Es zeigt dabei im einzelnen:
Fig. 1 eine erste erfindungsgemäße Vorrichtung zur entkoppelten Erzeugung eines
homogenen Flächenplasmas auf Basis von Poren in dünnen Folien,
Fig. 2 eine Kombination von zwei Folienelementen aus Fig. 1 zu einem Volumen
plasmaelement,
Fig. 3 eine zweite erfindungsgemäße Vorrichtung zur entkoppelten Erzeugung eines
homogenen Flächenplasmas auf Basis von Spitzen auf Flächen in der Aufsicht,
und
Fig. 4 eine dritte erfungsgemäße Vorrichtung zur entkoppelten Erzeugung eines ho
mogenen Flächenplasmas auf Basis von Spitzen auf Flächen in einem Schnitt
bild.
Fig. 1 zeigt einen Folienträger 101, der Löcher 102 besitzt, um die ringförmig Elektroden
103 zur Erzeugung von Plasmen in einzelnen Einheiten angebracht sind. Die elektrische
Spannung zur Ausbildung des Plasmas wird zwischen zwei gegenüberliegenden Elektroden
103 auf beiden Seiten des Folienträgers 101 angelegt. Als Mikroschalter dient hier eine ho
mogen aufgebrachte Widerstands- oder Isolationsschicht 104, die den Folienträger 101 und
die Elektroden 103 bedeckt. Die Schicht 104 ist wiederum von einer niederohmigen Versor
gungselektrode 105 bedeckt.
Die Elektroden 103 können alternativ auch durch einzelne, auf den Folienträger 101 aufge
brachte Mikroschalter von einer leiterbahnförmigen Versorgungselektrode versorgt werden.
Auf einem großflächigen Folienträger 101 können zahlreiche der soeben beschriebenen An
ordnungen angebracht sein.
Fig. 2 zeigt beispielhaft die Kombination von zwei Folienplasmaelementen 201 und 202,
jeweils wie gezeigt und erläutert in Fig. 1, zu einem Volumenplasma. Dabei können beliebig
viele der Folienplasmaelemente aneinandergereiht werden.
Fig. 3 zeigt in Aufsicht die beiden Mikroplasmaelektroden 301 und 302, zwischen denen die
elektrische Spannung zur Ausbildung des Plasmas ausgebildet wird. Das Plasma ist darge
stellt durch die Feldlinien 303. Die niederohmige Versorgungselektrode 304 speist über die
Mikroschalter 305 die Mikroplasmaelektroden 302.
Auf einem großflächigen Träger können zahlreiche der soeben beschriebenen Anordnungen
angebracht werden.
Fig. 4 zeigt in einem Schnitt die in Fig. 3 dargestellte Geometrie. Mit 401 und 402 werden
das Plasma erzeugende Elektroden bezeichnet, zwischen denen sich ein elektrisches Feld 403
ausbildet. In die Mikroplasmaelektroden 402 wird von einer niederohmigen Versorgungse
lektrode 404 über Mikroschalter 405 elektrische Energie eingespeist.
Claims (4)
1. Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas bei Umgebungstemperaturen, wobei zur Erzeu
gung des Plasmas Elektroden vorgesehen sind, die an ihrer Oberseite scharfe Kanten auf
weisen, wobei sich die Elektroden paarweise gegenüber stehen und durch Anlegen einer
Spannung an die Elektroden ein Plasma erzeugbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß
die Elektroden derart in einzelne Einheiten unterteilt sind, daß infolge der Unterteilung in
die einzelnen Einheiten bei einer Ansteuerung der Elektroden mehrere kleine Mikroplas
men entstehen, wobei diese zu Flächen bzw. Volumina zusammensetzbar sind, und die
Einkopplung der elektrischen Energie in jede der Einheiten über unabhängige Mi
kroschalter durch die einzelnen Einheiten verbindende niederohmige Versorgungselektro
den erfolgt.
2. Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas bei Umgebungstemperaturen, wobei zur Erzeu
gung des Plasmas Elektroden vorgesehen sind, die an ihrer Oberseite scharfe Kanten auf
weisen, wobei sich die Elektroden paarweise gegenüber stehen und wobei durch Anlegen
einer Spannung an die Elektroden ein Plasma erzeugbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß
die Elektroden derart in einzelne Einheiten unterteilt sind, daß infolge der Unterteilung in
die einzelnen Einheiten bei einer Ansteuerung der Elektroden mehrere kleine Mikroplas
men entstehen, wobei diese zu Flächen bzw. Volumina zusammensetzbar sind, und die
Einkopplung der elektrischen Energie in jede der Einheiten bei Verwendung von Wech
selspannung durch eine kapazitive Kopplung der Versorgungselektrode mit den das Plas
ma erzeugenden Elektroden über eine elektrisch isolierende Schicht erfolgt.
3. Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die die Plas
men erzeugenden Elektroden mittels Mikro- oder Nanostrukturtechnik hergestellt werden,
und die Mikroschalter mittels mehrlagiger Elektrodenbeschichtungstechnik in die Einhei
ten integriert werden.
4. Verwendung einer Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2 zur definierten Erzeugung eines
flächenmäßig oder volumenmäßig ausgedehnten Plasmas.
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DE (1) | DE19826418C2 (de) |
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- 1998-06-16 DE DE19826418A patent/DE19826418C2/de not_active Expired - Fee Related
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