KR20180108435A - 기판 유지 회전 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 유지 회전 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법 Download PDF

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KR20180108435A
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판 유지 회전 장치는, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부는, 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치로서 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치와, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치로서 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제1 및 제2의 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부는, 상기 회전축선에 가까워진 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제1의 유지 위치와 상기 제2의 유지 위치의 사이에서 둘레 방향 이동하게 된다.

Description

기판 유지 회전 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE HOLDING/ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
이 발명은, 기판 유지 회전 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 유지 대상 또는 처리 대상의 기판에는, 예를 들어, 반도체 웨이퍼, 액정표시장치용 기판, 플라즈마 디스플레이용 기판, FED(Field Emission Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판, 태양전지용 기판 등이 포함된다.
반도체 장치나 액정표시장치 등의 제조 공정에서는, 반도체 웨이퍼나 액정표시장치용 유리 기판 등의 기판에 대해서 처리액을 이용한 처리가 행해진다. 기판을 1장씩 처리하는 매엽식의 기판 처리 장치는, 예를 들어, 기판을 수평으로 유지하여 회전시키는 스핀 척과, 스핀 척에 유지되어 있는 기판의 상면에 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 구비하고 있다. 스핀 척으로서, 복수의 협지 부재를 기판의 주연부에 접촉시켜 당해 기판을 수평 방향으로 끼움으로써 기판을 수평으로 유지하는 협지식의 척이 채용되는 경우가 있다.
협지식의 척에서는, 복수개의 협지 부재는, 기판의 외주 형상에 대응하는 원주 상에서 적당한 간격을 두고 설치되어 있다. 복수의 협지 부재를 기판에 종시(終始) 접촉시키면, 기판의 주연부에 있어서의 협지 부재의 접촉 지지 위치에 있어서 처리 불량이 발생할 우려가 있다. 구체적으로는, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치에 있어서 처리액이 고루 퍼지지 않는 것에 따르는 처리 잔사가 생기거나, 반대로, 협지 부재를 타고 처리액이 반대측으로 크게 돌아들어가는 결과, 반대면의 주연부의 처리폭이 흐트러지거나 할 우려가 있다.
이러한 문제를 해소하기 위해, US Unexamined Patent Application Publication No.2004/0159343 A1 공보에는, 스핀 베이스와, 스핀 베이스의 주연부에 세워진 6개의 협지 부재 중 3개의 협지 부재를, 협지 위치와 비협지 위치의 사이에서 변위시킴으로써 당해 협지 부재를 개폐하는 제1의 개폐 기구와, 6개의 협지 부재 중 나머지 3개의 협지 부재를, 협지 위치와 비협지 위치의 사이에서 변위시킴으로써 당해 협지 부재를 개폐하는 제2의 개폐 기구를 포함하는 스핀 척이 개시되어 있다. 이러한 스핀 척에서는, 기판의 회전을 계속한 채로, 제1의 협지 부재군에 의해서 기판을 협지하고, 또한 제2의 협지 부재군은 기판을 협지하고 있지 않는 제1 협지 상태로부터, 제1 및 제2의 협지 부재군에 의해서 기판을 협지한 중간 상태를 거쳐, 제2의 협지 부재군에 의해서 기판을 협지하고, 또한 제1의 협지 부재군은 기판을 협지하지 않는 제2 협지 상태로 이행시키고 있다. 따라서, 처리액을 이용한 처리 중에, 서로 상이한 복수의 협지 부재로 기판을 바꾸는, 즉, 기판의 주연부에 접촉하는 협지 부재를 전환함으로써, 처리액을 이용한 처리 중에 있어서의, 협지 부재의 처리 영향을 최소한으로 억제하고 있다.
그런데, 기판의 주연부에 있어서의 협지 부재의 접촉 지지 위치는 불변이기 때문에, 특허 문헌 1과 같이 협지 부재에 의한 기판 바꿈을 행해도, 당해 접촉 지지 위치에 있어서 처리 불량이 많이 발생할 우려가 있다. 이 경우, 기판의 주연부의 접촉 지지 위치에 있어서의 처리의 진행이, 주연부의 다른 영역과 비교해 늦어질 우려가 있다.
기판의 주연부의 각 처에 있어서, 처리를 균일하게 행할 필요가 있다. 그러기 위해서는, 기판을 회전시키면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 원주를 따라서 이동시키는 것이 요망되고 있다. 즉, 기판 유지 회전 장치(스핀 척)에 의해서 기판을 양호하게 유지하면서, 기판을 회전시키고 있는 동안에 기판의 주연부에 있어서의 가동 핀(협지 부재)에 의한 접촉 지지 위치를 변화시킬 필요가 있다.
그래서, 이 발명의 목적의 하나는, 기판을 양호하게 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시키는 것이 가능한 기판 유지 회전 장치를 제공하는 것이다. 또, 이 발명의 다른 목적은, 기판의 주연부의 전역을 양호하게 처리할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것이다.
이 발명은, 기판을 수평으로 유지하면서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선 둘레로 회전시키는 기판 유지 회전 장치로서, 상기 회전축선을 중심으로 하는 원주를 따라서 늘어놓아진 복수의 가동 핀으로서, 기판의 주연부에 접촉해서 기판을 지지하는 지지부를 갖는 가동 핀과, 상기 복수의 가동 핀을, 상기 회전축선 둘레로 회전시키는 회전 유닛을 포함하고, 상기 복수의 가동 핀은, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제1의 핀군과, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제2의 핀군을 포함하고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치로서 상기 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치와, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치로서, 상기 회전축선에 가까워지고 또한 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제1 및 제2의 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 회전축선에 가까워진 상기 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제1의 유지 위치와 상기 제2의 유지 위치의 사이에서 둘레 방향 이동시키는 제1의 이동 유닛을 더 포함하는, 기판 유지 회전 장치를 제공한다.
이 구성에 따르면, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태에서는, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판이 지지되어 있다. 이 상태로, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시킴으로써, 기판을 회전축선 둘레로 회동시키는 것이 가능하다. 이것에 의해서, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시키는 것이 가능하다.
이 발명의 일 실시 형태에서는, 상기 제1의 이동 유닛은, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을, 제1의 둘레 방향 위치와, 상기 제1의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격한 제2의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 유닛을 포함하고, 상기 제1의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제1의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이며, 상기 제2의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제2의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이다.
이 구성에 따르면, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이, 제1의 둘레 방향 위치와, 제1의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격한 제2의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동하게 된다. 제1의 둘레 방향 위치에 있을 때의, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부의 유지 위치를 제1의 유지 위치로 하고, 또한 제2의 둘레 방향 위치에 있을 때의, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부의 유지 위치를 제2의 유지 위치로 함으로써, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 제1의 유지 위치와 제2의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치하는 구성을, 비교적 간단한 구성으로 실현할 수 있다.
상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 회전 유닛이 연결된 스핀 베이스와, 상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게, 또한 상기 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을 지지하는 핀 지지 부재를 더 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀은, 상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게 설치되어 있고, 상기 제1의 둘레 방향 이동 유닛은, 상기 핀 지지 부재를, 상기 스핀 베이스에 대해서 상기 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 회동 유닛을 포함하고 있어도 된다.
이 구성에 따르면, 기판 유지 회전 장치가, 회전 유닛이 연결된 스핀 베이스와, 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게 또한 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치된 핀 지지 부재를 포함한다. 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 핀 지지 부재와 동반 회전 가능하게 설치되고, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게 설치되어 있다. 이것에 의해서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 둘레 방향 이동시키는 구성(제1의 둘레 방향 이동 유닛)을, 비교적 간단한 구성으로 실현할 수 있다.
또, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능해도 된다. 이 경우, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치와 상기 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 이동 유닛과, 상기 제1의 이동 유닛 및 상기 제2의 이동 유닛을 제어하기 위한 제어 장치를 더 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 상기 제어 장치가, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 개방 위치에 있는 상태로, 상기 제1의 이동 유닛에 의해서, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제1의 유지 위치로부터 상기 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제2의 이동 유닛에 의해서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 유지 위치로 이동시키는 제1의 이동 공정을 실행해도 된다.
이 구성에 따르면, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태에서는, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판이 지지되어 있다. 이 상태로, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키면, 지지부의 이동에 수반하여, 기판이 회전축선 둘레로 회동한다. 또, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제2의 유지 위치에 도달한 이후에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 그 결과, 기판이, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 뿐만이 아니고, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서만 기판을 지지하면서, 당해 각 가동 핀을 둘레 방향 이동시킴으로써, 기판을 회전축선 둘레로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
또, 상기 제어 장치는, 상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과, 상기 제2의 이동 공정 후에, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 실행해도 된다.
이 구성에 따르면, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치로 이동하게 된 이후에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가, 제2의 유지 위치로부터 개방 위치로 이동하게 되고, 그 후, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가, 개방 위치로부터 제1의 유지 위치로 이동하게 된다. 이것에 의해서, 제1의 둘레 방향 이동 공정에 의해서 제2의 유지 위치까지 이동하게 된, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 제1의 유지 위치에 복귀시킬 수 있다.
또, 상기 제어 장치는, 상기 제1 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 개시에 앞서, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제4의 이동 공정을 더 실행해도 된다.
이 구성에 따르면, 제1의 둘레 방향 이동 공정의 개시에 앞서, 제1 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시킨다. 이것에 의해서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태를 실현할 수 있어, 그 상태로, 제1의 둘레 방향 이동 공정을 실행 개시하는 것이 가능하게 된다.
또, 상기 제어 장치는, 상기 회전 유닛을 제어하여, 상기 복수의 가동 핀을, 상기 회전축선 둘레로 회전시키는 회전 공정을 더 실행하고, 상기 제어 장치는, 상기 회전 공정에 병행해, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정 및 상기 제1의 이동 공정을 실행해도 된다.
이 구성에 따르면, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 회전하고 있고, 또한 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태에 있어서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시킨다. 또, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제2의 유지 위치에 도달한 이후에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 이들에 의해서, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
또, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 유지 위치에 포함되는 소정의 제3의 유지 위치와 상기 유지 위치에 포함되고, 또한 상기 제3의 유지 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격하는 제4의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제3 및 제4의 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제3의 유지 위치와 상기 제4의 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제3의 이동 유닛과, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치와 상기 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제4의 이동 유닛을 더 포함하고, 상기 제어 장치는, 상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제4의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과, 상기 제2의 이동 공정 후, 상기 제3의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제3의 유지 위치로부터 상기 제4의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제2의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제2의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 실행해도 된다.
이 구성에 따르면, 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 제2의 유지 위치로부터 개방 위치로 이동시킨다. 이것에 의해서, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태가 된다. 이 상태에서는, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판이 지지되어 있다. 이 상태로, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제3의 유지 위치로부터 제4의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키면, 지지부의 이동에 수반하여, 기판이 회전축선 둘레로 회동한다. 또, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제4의 유지 위치에 도달한 이후에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 그 결과, 기판이, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 뿐만이 아니고, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서만 기판을 지지하면서, 당해 각 가동 핀을 둘레 방향 이동시킴으로써, 기판을 회전축선 둘레로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다. 따라서, 일련의 바꿈 동작에 의해서, 기판을 2단계로 회동시킬 수 있다. 그러므로, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 크게 변화시킬 수 있다.
또, 상기 제2의 이동 유닛은, 상기 회전축선 둘레로 원환을 이루는 제1의 환상 자석과, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제1의 구동용 자석을 갖고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를 상기 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 전환하는 제1의 전환 기구와, 상기 제1의 환상 자석의 하방에 대향하며, 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖는 제1의 승강 자석과, 상기 제1의 승강 자석을, 당해 제1의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제1의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제1의 승강 유닛을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 상기 제4의 이동 유닛은, 상기 회전축선 둘레로 원환을 이루는 제2의 환상 자석과, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제2의 구동용 자석을 갖고, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를 상기 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 전환하는 제2의 전환 기구와, 상기 제2의 환상 자석의 하방에 대향하며, 상기 제2의 환상 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖는 제2의 승강 자석과, 상기 제2의 승강 자석을, 당해 제2의 승강 자석이 상기 제2의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제2의 승강 자석이 상기 제2의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제2의 승강 유닛을 포함하고 있어도 된다.
이 구성에 따르면, 제1의 승강 자석의 승강에 의해서, 제1의 환상 자석을 승강시킬 수 있다. 제1의 환상 자석의 승강에 의해서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있다.
또, 제2의 승강 자석의 승강에 의해서, 제2의 환상 자석을 승강시킬 수 있다. 제2의 환상 자석의 승강에 의해서, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있다.
그리고, 제1의 환상 자석 및 제2의 환상 자석이 각각 원환 형상이므로, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있고, 제2의 환상 자석이 원환 형상이므로, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있다.
또, 상기 제2의 이동 유닛은, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 한쪽으로 탄성 가압하는 제1의 탄성 가압 유닛과, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제1의 구동용 자석이며, 서로 동일한 자극 방향을 갖는 제1의 구동용 자석과, 상기 회전축선을 따르는 축선에 직교하는 방향에 관해 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖고, 당해 반발력 또는 당해 흡인력에 의해서, 상기 제1의 핀군의 상기 지지부를 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 다른쪽으로 탄성 가압하는 제3의 승강 자석과, 상기 제3의 승강 자석을, 당해 제3의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제3의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제1의 승강 이동 유닛을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 상기 제4의 이동 유닛은, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 한쪽으로 탄성 가압하는 제2의 탄성 가압 유닛과, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제2의 구동용 자석이며, 상기 제1의 구동용 자석과는 반대의, 서로 동일한 자극 방향을 갖는 제2의 구동용 자석과, 상기 회전축선을 따르는 축선에 직교하는 방향에 관해 상기 제2의 구동용 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖고, 당해 반발력 또는 당해 흡인력에 의해서, 상기 제2의 핀군의 상기 지지부를 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 다른쪽으로 탄성 가압하는 제4의 승강 자석과, 상기 제4의 승강 자석을, 당해 제4의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제4의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제2의 승강 이동 유닛을 포함하고 있어도 된다.
이 구성에 따르면, 제3의 승강 자석의 승강에 의해서, 제1의 구동용 자석을, 회전축선을 따르는 축선 둘레로 회동시킬 수 있다. 그 때문에, 제3의 승강 자석의 승강에 의해서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있다. 제1의 구동용 자석이 제1의 구동용 자석과 반대의 자극 방향을 갖고 있으므로, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 이동시키지 않고, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 이동시킬 수 있다.
또, 제4의 승강 자석의 승강에 의해서, 제1의 구동용 자석을, 회전축선을 따르는 축선 둘레로 회동시킬 수 있다. 그 때문에, 제4의 승강 자석의 승강에 의해서, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있다. 제1의 구동용 자석이 제1의 구동용 자석과 반대의 자극 방향을 갖고 있으므로, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 이동시키지 않고, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 이동시킬 수 있다.
또, 상기 제3의 승강 자석 및 상기 제4의 승강 자석은, 각각, 서로 동수의 복수개 설치되어 있고, 복수의 상기 제3의 승강 자석 및 복수의 상기 제4의 승강 자석은, 기판의 회전 방향에 관해 교호로, 또한 전체적으로 상기 회전축선과 동축의 원환 형상을 이루도록 배치되어 있어도 된다.
이 구성에 따르면, 복수의 제3의 승강 자석 및 복수의 제4의 승강 자석은, 기판의 회전 방향에 관해 교호로 배치되어 있다. 또, 복수의 제3의 승강 자석 및 복수의 제4의 승강 자석은, 전체적으로 상기 회전축선과 동축의 원환 형상을 이루도록 배치되어 있다. 이 경우, 개개의 승강 자석(제3의 승강 자석 또는 제4의 이동 자석)에 주목하면, 당해 승강 자석은, 회전축선의 동축 원주 상에 있어서 기판의 회전 방향으로 간헐적으로 배치되어 있다. 이 경우에서도, 회전대의 회전 속도 여하 및/또는 각 승강 자석의 둘레 방향 길이 여하에 따라, 자계 발생 영역을 원환 형상으로 설치하는 것은 가능하다. 따라서, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있고, 또, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 유지 위치와 개방 위치의 사이에서 이동시킬 수 있다.
또, 상기 제3의 이동 유닛은, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을, 제3의 둘레 방향 위치와, 상기 제3의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격한 제4의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 둘레 방향 이동 유닛을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 상기 제3의 유지 위치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제3의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이며, 상기 제4의 유지 위치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제4의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치여도 된다.
이 구성에 따르면, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이, 제3의 둘레 방향 위치와, 제3의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격한 제4의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동하게 된다. 제3의 둘레 방향 위치에 있을 때의, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부의 유지 위치를 제3의 유지 위치로 하고, 또한 제4의 둘레 방향 위치에 있을 때의, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부의 유지 위치를 제4의 유지 위치로 함으로써, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 제3의 유지 위치와 제4의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치하는 구성을, 비교적 간단한 구성으로 실현할 수 있다.
상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 회전 유닛이 연결된 스핀 베이스와, 상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게, 또한 상기 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을 지지하는 제1의 핀 지지 부재와, 상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게, 또한 상기 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되고, 상기 제1의 핀 지지 부재와는 별도의 부재이며, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을 지지하는 제2의 핀 지지 부재를 더 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 상기 제1의 이동 유닛은, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을, 제1의 둘레 방향 위치와, 상기 제1의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격한 제2의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 유닛을 포함하고 있어도 된다. 또, 상기 제1의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제1의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이며, 상기 제2의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제2의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치여도 된다. 또한, 상기 제1의 둘레 방향 이동 유닛은, 상기 제1의 핀 지지 부재를 상기 스핀 베이스에 대해서 상기 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 제1의 회동 유닛 및 상기 제2의 핀 지지 부재를 상기 스핀 베이스에 대해서 상기 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 제2의 회동 유닛 중 한쪽을 포함하고 있어도 된다. 게다가, 상기 제2의 둘레 방향 이동 유닛은, 상기 제1의 회동 유닛 및 상기 제2의 회동 유닛의 다른쪽을 포함하고 있어도 된다.
이 구성에 따르면, 기판 유지 회전 장치가, 회전 유닛이 연결된 스핀 베이스와, 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게 설치된 제1의 핀 지지 부재와, 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게 설치된 제2의 핀 지지 부재를 포함한다. 또, 제1 및 제2의 핀 지지 부재는, 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되어 있다. 또한, 제1 및 제2의 핀군의 한쪽에 포함되는 각 가동 핀이 제1의 핀 지지 부재와 동반 회전 가능하게 설치되고, 제1 및 제2의 핀군의 다른쪽에 포함되는 각 가동 핀이 제2의 핀 지지 부재와 동반 회전 가능하게 설치되어 있다. 이것에 의해서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부와, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 독립적으로 스핀 베이스에 대해서 둘레 방향 이동시킬 수 있고, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 둘레 방향 이동시키는 구성(제1의 둘레 방향 이동 유닛)과, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 둘레 방향 이동시키는 구성(제2의 둘레 방향 이동 유닛)을, 각각 비교적 간단한 구성으로 실현할 수 있다.
이 발명은, 기판을 수평으로 유지하면서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선 둘레로 회전시키는 기판 유지 회전 장치로서, 상기 회전축선을 중심으로 하는 원주를 따라서 늘어놓아진 복수의 가동 핀이며, 기판의 주연부에 접촉해서 기판을 지지하는 지지부를 갖는 가동 핀과, 상기 복수의 가동 핀을, 상기 회전축선 둘레로 회전시키는 회전 유닛을 포함하고, 상기 복수의 가동 핀은, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제1의 핀군과, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제2의 핀군을 포함하고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치이며 상기 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치와, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치이며, 상기 회전축선에 가까워지고 또한 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제1 및 제2의 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 회전축선에 가까워진 상기 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제1의 유지 위치와 상기 제2의 유지 위치의 사이에서 둘레 방향 이동시키는 제1의 이동 유닛을 더 포함하는, 기판 유지 회전 장치와, 상기 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판의 주면에, 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하는, 기판 처리 장치를 제공한다.
이 구성에 따르면, 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판의 주면에 처리액이 공급됨으로써, 당해 기판의 주면이 처리액을 이용하여 처리된다. 기판 유지 회전 장치가, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 개방 위치에 있는 상태에서는, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판이 지지되어 있다. 이 상태로, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키면, 지지부의 이동에 수반하여, 기판이 회전축선 둘레로 회동한다. 또, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제2의 유지 위치에 도달한 이후에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 그 결과, 기판이, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 뿐만이 아니고, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서도 유지되게 된다. 이들에 의해서, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
이 발명의 일 실시 형태에서는, 상기 회전 유닛 및 상기 처리액 공급 유닛을 제어하는 제어 장치를 더 포함하고, 상기 제어 장치는, 상기 회전 유닛에 의해서, 상기 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판을 상기 회전축선 둘레로 회전시키면서, 상기 처리액 공급 유닛에 의해서, 당해 기판의 주면에 처리액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 처리액 처리 공정을 실행한다.
이 구성에 따르면, 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판의 주면에 처리액이 공급됨으로써, 당해 기판의 주면이 처리액을 이용하여 처리된다. 상술한 기판 유지 회전 장치에서는, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시키는 것이 가능하기 때문에, 이것에 의해서, 기판의 주연부의 전역을 양호하게 처리할 수 있다.
또, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치와 상기 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 이동 유닛을 더 포함하고, 상기 제어 장치가, 상기 제1의 이동 유닛 및 상기 제2의 이동 유닛을 더 제어하는 것이며, 상기 제어 장치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 개방 위치에 있는 상태로, 상기 제1의 이동 유닛에 의해서, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제1의 유지 위치로부터 상기 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제2의 이동 유닛에 의해서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 유지 위치로 이동시키는 제1의 이동 공정을, 상기 처리액 처리 공정에 병행해 실행해도 된다.
이 구성에 따르면, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 회전하고 있고, 또한 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 개방 위치에 있는 상태에 있어서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시킨다. 또, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제2의 유지 위치에 도달한 이후에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 이들에 의해서, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
이 발명은, 기판을 수평으로 유지하면서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선 둘레로 회전시키는 기판 유지 회전 장치로서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선을 중심으로 하는 원주를 따라서 늘어놓아진 복수의 가동 핀이며, 기판의 주연부에 접촉해서 기판을 지지하는 지지부를 갖는 가동 핀을 포함하고, 상기 복수의 가동 핀은, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제1의 핀군과, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제2의 핀군을 포함하고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능한 기판 유지 회전 장치를 포함하는 기판 처리 장치에 있어서 실행되는 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 유지 회전 장치에 수평 자세로 기판을 유지시키는 기판 유지 공정과, 상기 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판을 상기 회전축선 둘레로 회전시키면서, 당해 기판의 주면에 처리액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 처리액 처리 공정과, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치이며 상기 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치로부터, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치이며, 상기 회전축선에 가까워지고 또한 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 유지 위치로 이동시키는 제1의 이동 공정을 포함하는, 기판 처리 방법을 제공한다.
이 방법에 의하면, 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판의 주면에 처리액이 공급됨으로써, 당해 기판의 주면이 처리액을 이용하여 처리된다. 기판 유지 회전 장치가, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태에서는, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판이 지지되어 있다. 이 상태로, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키면, 지지부의 이동에 수반하여, 기판이 회전축선 둘레로 회동한다. 또, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제2의 유지 위치에 도달한 이후에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 그 결과, 기판이, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 뿐만이 아니고, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서만 기판을 지지하면서, 당해 각 가동 핀을 둘레 방향 이동시킴으로써, 기판을 회전축선 둘레로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과, 상기 제2의 이동 공정 후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 포함하고 있어도 된다.
이 방법에 의하면, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치로 이동하게 된 이후에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가, 제2의 유지 위치로부터 개방 위치로 이동하게 되고, 그 후, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가, 개방 위치로부터 제1의 유지 위치로 이동하게 된다. 이것에 의해서, 제1의 둘레 방향 이동 공정에 의해서 제2의 유지 위치까지 이동하게 된, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 제1의 유지 위치에 복귀시킬 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 상기 제1 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 개시에 앞서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제4의 이동 공정을 더 포함하고 있어도 된다.
이 방법에 의하면, 제1의 둘레 방향 이동 공정의 개시에 앞서, 제1 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시킨다. 이것에 의해서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 개방 위치에 있는 상태를 실현할 수 있어, 그 상태로, 제1의 둘레 방향 이동 공정을 실행 개시하는 것이 가능하게 된다.
상기 기판 유지 회전 장치에 있어서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 유지 위치에 포함되는 소정의 제3의 유지 위치와 상기 유지 위치 중 상기 제3의 유지 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격하는 제4의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제3 및 제4의 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 기판 처리 방법은, 상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과, 상기 제2의 이동 공정 후, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제3의 유지 위치로부터 상기 제4의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제2의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제2의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 포함하고 있어도 된다.
이 방법에 의하면, 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 제2의 유지 위치로부터 개방 위치로 이동시킨다. 이것에 의해서, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태가 된다. 이 상태에서는, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판이 지지되어 있다. 이 상태로, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제3의 유지 위치로부터 제4의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키면, 지지부의 이동에 수반하여, 기판이 회전축선 둘레로 회동한다. 또, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제4의 유지 위치에 도달한 이후에, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 그 결과, 기판이, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 뿐만이 아니고, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서만 기판을 지지하면서, 당해 각 가동 핀을 둘레 방향 이동시킴으로써, 기판을 회전축선 둘레로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판을 양호하게 수평 유지하면서, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다. 따라서, 일련의 바꿈 동작에 의해서, 기판을 2단계로 회동시킬 수 있다. 그러므로, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 크게 변화시킬 수 있다.
상기 제1의 둘레 방향 이동 공정 및 제1의 이동 공정은, 상기 처리액 처리 공정에 병행해 실행되어 있어도 된다.
이 방법에 의하면, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 회전하고 있고, 또한 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 개방 위치에 있는 상태에 있어서, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를 제1의 유지 위치로부터 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시킨다. 또, 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 제2의 유지 위치에 도달한 이후에, 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부를, 개방 위치로부터 유지 위치로 이동시킨다. 이들에 의해서, 기판을 회전시키고 있는 동안에, 기판의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
본 발명에 있어서의 상술한, 또는 또 다른 목적, 특징 및 효과는, 첨부 도면을 참조하여 다음에 서술하는 실시 형태의 설명에 의해서 밝혀진다.
도 1은, 본 발명의 제1의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치의 내부의 레이아웃을 설명하기 위한 평면도이다.
도 2는, 상기 기판 처리 장치에 구비된 처리 유닛의 구성예를 설명하기 위한 도해적인 단면도이다.
도 3은, 상기 처리 유닛에 구비된 스핀 척의, 보다 구체적인 구성을 설명하기 위한 측면도이다.
도 4는, 상기 스핀 척의, 보다 구체적인 구성을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5A, 5B는, 제1의 가동 핀의 근방의 구성을 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 6A, 6B는, 제2의 가동 핀의 근방의 구성을 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 7A는, 제1의 가동 핀의 지지부에 있어서의, 제1 및 제2의 유지 위치 및 제1 및 제2의 개방 위치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 7B는, 제2의 가동 핀의 지지부에 있어서의, 제3 및 제4의 유지 위치 및 제3 및 제4의 개방 위치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 8은, 상기 기판 처리 장치의 주요부의 전기적 구성을 설명하기 위한 블럭도이다.
도 9는, 상기 처리 유닛에 의해서 실행되는 기판 처리의 일례를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 10A~10F는, 기판 회동 공정의 움직임을 설명하기 위한 모식적인 평면도이다.
도 11A~11F는, 본 발명의 제2의 실시 형태에 따른 기판 회동 공정의 움직임을 설명하기 위한 모식적인 평면도이다.
도 12는, 본 발명의 제3의 실시 형태에 따른 처리 유닛의 구성예를 설명하기 위한 도해적인 단면도이다.
도 13은, 상기 처리 유닛에 구비된 스핀 척의, 보다 구체적인 구성을 설명하기 위한 평면도이다.
도 14A, 14B는, 제1의 가동 핀의 근방의 구성을 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 15A, 15B는, 제1의 가동 핀의 근방의 구성을 확대해서 나타내는 단면도이다. 도 15A에는, 제1의 지지부가 유지 위치에 있는 상태를 나타낸다.
도 16A~16C는, 제1의 가동 핀 및 제2의 가동 핀의 상태를 나타내는 모식적인 도이다.
도 17A~17C는, 제1의 가동 핀 및 제2의 가동 핀의 상태를 나타내는 모식적인 도이다.
도 18은, 상기 기판 처리 장치의 주요부의 전기적 구성을 설명하기 위한 블럭도이다.
이하에서는, 이 발명의 실시의 형태를, 첨부 도면을 참조해서 상세하게 설명한다.
도 1은, 이 발명의 제1의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)의 내부의 레이아웃을 설명하기 위한 도해적인 평면도이다.
기판 처리 장치(1)는, 반도체 웨이퍼 등의 원판 형상의 기판 W를, 처리액이나 처리 가스에 의해서 한 장씩 처리하는 매엽식의 장치이다. 기판 처리 장치(1)는, 처리액을 이용하여 기판 W를 처리하는 복수의 처리 유닛(2)과, 처리 유닛(2)으로 처리되는 복수매의 기판 W를 수용하는 캐리어 C가 재치(載置)되는 로드 포트 LP와, 로드 포트 LP와 처리 유닛(2)의 사이에서 기판 W를 반송하는 반송 로봇 IR 및 CR과, 기판 처리 장치(1)를 제어하는 제어 장치(3)를 포함한다. 반송 로봇 IR은, 캐리어 C와 기판 반송 로봇 CR의 사이에서 핸드 H1을 이용하여 기판 W를 반송한다. 기판 반송 로봇 CR은, 반송 로봇 IR과 처리 유닛(2)의 사이에서 핸드 H2를 이용하여 기판 W를 반송한다. 복수의 처리 유닛(2)은, 예를 들어, 서로 동일한 구성을 갖고 있다.
도 2는, 처리 유닛(2)의 구성예를 설명하기 위한 도해적인 단면도이다. 처리 유닛(2)은, 내부 공간을 갖는 상자형의 챔버(4)와, 챔버(4)내에서 한 장의 기판 W를 수평인 자세로 유지하고, 기판 W의 중심을 통과하는 연직인 회전축선 A1 둘레로 기판 W를 회전시키는 스핀 척(기판 유지 회전 장치)(5)과, 스핀 척(5)에 유지된 기판 W의 상면에, 약액을 공급하기 위한 약액 공급 유닛(처리액 공급 유닛)(6)과, 기판 W의 상면에, 린스액을 공급하기 위한 린스액 공급 유닛(처리액 공급 유닛)(7)과, 스핀 척(5)을 둘러싸는 통 형상의 처리 컵(도시하지 않는다)을 포함한다.
도 3은, 스핀 척(5)의, 보다 구체적인 구성을 설명하기 위한 측면도이다. 도 4는, 스핀 척(5)의, 보다 구체적인 구성을 설명하기 위한 평면도이다. 도 5A, 5B는, 제1의 가동 핀(10A)의 근방의 구성을 확대해서 나타내는 단면도이다. 도 6A, 6B는, 제2의 가동 핀(10B)의 근방의 구성을 확대해서 나타내는 단면도이다. 도 3은, 도 4를 절단면선 III-III에서 본 도이다.
도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 스핀 척(5)은, 연직 방향을 따르는 회전축선 A1의 둘레로 회전 가능한 스핀 베이스(8)와, 스핀 베이스(8)의 상면의 주연부에 둘레 방향을 따라서 거의 등간격을 두고 설치된 복수개(이 실시 형태에서는 6개)의 가동 핀(10)과, 스핀 베이스(8)의 회전 중심의 하면에 고정된 회전축(11)과, 회전축(11)을 회전축선 A1 둘레로 회전시키는 스핀 모터(회전 유닛)(12)를 포함한다. 스핀 척(5)에 구비되는 유지에 이용되는 핀은 모두, 기판 W의 주연부에 접촉하는 지지부(제1의 지지부(42)나, 제2의 지지부(52))가 가동하는 가동 핀이다. 스핀 베이스(8)의 둘레 방향 Y는, 제1의 둘레 방향 Y1과, 제1의 둘레 방향 Y1과는 반대의 제2의 둘레 방향 Y2를 포함한다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 각 가동 핀(10)은, 스핀 베이스(8)의 상면의 주연부에 있어서, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원주 상에 대략의 간격으로 배치되어 있다. 6개의 가동 핀(10)은, 서로 이웃하지 않는 3개의 가동 핀(10)마다, 동시에 개폐되는 하나의 군으로 설정되어 있다. 바꾸어 말하면, 6개의 가동 핀(10)은, 제1의 핀군에 포함되는 3개의 가동 핀(10A)과, 제2의 핀군에 포함되는 3개의 가동 핀(10B)을 포함한다. 이하, 제1의 핀군에 포함되는 가동 핀을 제1의 가동 핀(10A)이라고 부르고, 제2의 핀군에 포함되는 가동 핀을 제2의 가동 핀(10B)이라고 부른다. 제1의 가동 핀(10A)과, 제2의 가동 핀(10B)은, 스핀 베이스(8)의 둘레 방향 Y에 관해 교호로 배치되어 있다. 제1의 핀군에 주목하면, 3개의 제1의 가동 핀(10A)은 등간격(120°간격)으로 배치되어 있다. 또, 제2의 핀군에 주목하면, 3개의 제2의 가동 핀(10B)은 등간격(120°간격)으로 배치되어 있다.
3개의 제1의 가동 핀(10A)은, 스핀 베이스(8)에 대해서 회전축선 A1 둘레로, 서로 동반해서 회동 가능하게 설치되어 있다. 구체적으로는, 스핀 척(5)은, 3개의 제1의 가동 핀(10A)을 일괄하여 지지하는 제1의 핀 지지 부재(16)를 더 포함한다. 제1의 핀 지지 부재(16)는, 회전축선 A1 상에 배치된 중심으로부터 등간격으로 3방향으로 방사형으로 연장되는 판 형상 부재이다. 제1의 핀 지지 부재(16)는, 스핀 베이스(8)에 대해서 회전축선 A1 둘레로 회동 가능하게 설치되어 있다. 스핀 척(5)은, 스핀 베이스(8)에 대한 제1의 핀 지지 부재(16)의 회동 범위를 소정 각도 범위로 규제하기 위한 제1의 회동 규제 구조(17)(도 2에서는 미도시. 도 3 및 도 4 참조)를 구비하고 있다. 제1의 회동 규제 구조(17)는, 예를 들어, 제1의 핀 지지 부재(16)에 형성된, 둘레 방향 Y를 따라서 연장되는 제1의 긴 구멍(18)(도 2에서는 미도시. 도 3 및 도 4 참조)과, 스핀 베이스(8)에 세워져 제1의 긴 구멍(18)에 삽입 통과되는 제1의 삽입 통과 핀(19)(도 2에서는 미도시. 도 3 및 도 4 참조)을 포함한다. 제1의 삽입 통과 핀(19)은, 제1의 긴 구멍(18)의 둘레 방향 단부와 접촉해서 제1의 핀 지지 부재(16)의 회동을 규제한다. 이 실시 형태에서는, 스핀 베이스(8)에 대한 제1의 핀 지지 부재(16)의 회동 범위는, 수°(예를 들어 약 5°)이다.
3개의 제2의 가동 핀(10B)은, 스핀 베이스(8)에 대해서 회전축선 A1 둘레로, 서로 동반해서 회동 가능하게 설치되어 있다. 구체적으로는, 스핀 척(5)은, 3개의 제2의 가동 핀(10B)을 일괄하여 지지하는 제2의 핀 지지 부재(21)를 더 포함한다. 이 실시 형태에서는, 제2의 핀 지지 부재(21)는, 스핀 베이스(8)와 제1의 핀 지지 부재(16)의 사이에 배치되어 있다.
제2의 핀 지지 부재(21)는, 회전축선 A1 상에 배치된 중심으로부터, 등간격으로 3방향으로 방사형으로 연장되는 판 형상 부재이다. 이 실시 형태에서는, 제1의 핀 지지 부재(16)와, 제2의 핀 지지 부재(21)는, 회전축선 A1 둘레의 위상이, 약 60°어긋나 있다.
제2의 핀 지지 부재(21)는, 스핀 베이스(8)에 대해서 회전축선 A1 둘레로 회동 가능하게 설치되어 있다. 스핀 척(5)은, 스핀 베이스(8)에 대한 제2의 핀 지지 부재(21)의 회동 범위를 소정 각도 범위로 규제하기 위한 제2의 회동 규제 구조(22)(도 2에서는 미도시. 도 3 및 도 4 참조)를 구비하고 있다. 제2의 회동 규제 구조(22)는, 예를 들어, 제2의 핀 지지 부재(21)에 형성된, 둘레 방향 Y를 따라서 연장되는 제2의 긴 구멍(23)(도 2에서는 미도시. 도 3 및 도 4 참조)과, 스핀 베이스(8)에 세워져 제2의 긴 구멍(23)에 삽입 통과되는 제2의 삽입 통과 핀(24)(도 2에서는 미도시. 도 3 및 도 4 참조)을 포함한다. 제2의 삽입 통과 핀(24)은, 제2의 긴 구멍(23)의 둘레 방향 단부와 접촉해서 제2의 핀 지지 부재(21)의 회동을 규제한다. 이 실시 형태에서는, 스핀 베이스(8)에 대한 제2의 핀 지지 부재(21)의 회동 범위는, 수°(예를 들어 약 5°)이다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 스핀 척(5)은, 제1의 핀 지지 부재(16)를 스핀 베이스(8)에 대해서 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 제1의 회동 유닛(제1의 둘레 방향 이동 유닛)(26)과, 제2의 핀 지지 부재(21)를 스핀 베이스(8)에 대해서 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 제2의 회동 유닛(제2의 둘레 방향 이동 유닛)(27)을 더 포함한다. 제1의 회동 유닛(26)은, 제1의 핀 지지 부재(16)에 결합되어 있고, 제2의 회동 유닛(27)은, 제2의 핀 지지 부재(21)에 결합되어 있다. 제1의 회동 유닛(26) 및 제2의 회동 유닛(27)은, 각각, 예를 들어 전동 모터이다. 전동 모터는, 정역회전 가능하게 설치되어 있다.
제1의 회동 유닛(26)이 정방향으로 회전하면, 제1의 핀 지지 부재(16)는, 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향(둘레 방향의 한쪽) Y1로 회동한다. 또, 제1의 회동 유닛(26)이 역방향으로 회전하면, 제1의 핀 지지 부재(16)는, 스핀 베이스(8)에 대해서 제2의 둘레 방향 Y2로 회동한다. 제1의 회동 유닛(26)은, 스핀 베이스(8)에 대한 제1의 핀 지지 부재(16)를, 제1의 둘레 방향 위치 P51(도 7A 참조)과, 제1의 둘레 방향 위치보다 제1의 둘레 방향 Y1로 소정 각도(수°(예를 들어 약 5°)) 어긋난 제2의 둘레 방향 위치 P52(도 7A 참조)의 사이에서 회동 가능하게 설치되어 있다.
제2의 회동 유닛(27)이 정방향으로 회전하면, 제2의 핀 지지 부재(21)는, 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향 Y1로 회동한다. 또, 제2의 회동 유닛(27)이 역방향으로 회전하면, 제2의 핀 지지 부재(21)는, 스핀 베이스(8)에 대해서 제2의 둘레 방향 Y2로 회동한다. 제2의 회동 유닛(27)은, 스핀 베이스(8)에 대한 제2의 핀 지지 부재(21)를, 제3의 둘레 방향 위치 P53(도 7B 참조)과, 제3의 둘레 방향 위치보다 제1의 둘레 방향 Y1로 소정 각도(수°(예를 들어 약 5°)) 어긋난 제4의 둘레 방향 위치 P54(도 7B 참조)의 사이에서 회동 가능하게 설치되어 있다.
도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 제1의 핀 지지 부재(16)에는, 제1의 개폐용 자석(제1의 환상 자석)(28)이 일체적으로 설치되어 있다. 제1의 개폐용 자석(28)은 영구 자석이며, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원환 형상을 이루고 있다. 제1의 개폐용 자석(28)의 자극 방향은, 상하 방향을 따르는 방향이다. 제1의 개폐용 자석(28)은 승강 가능하게 설치되어 있다. 3개의 제1의 가동 핀(10A)에는 일대일 대응으로 제1의 링크 기구(제1의 전환 기구)(29)가 설치되어 있고, 각 제1의 링크 기구(29)는, 제1의 개폐용 자석(28)에 접속되어 있다. 제1의 링크 기구(29)는, 링크나 캠 플로워 등을 포함하는 구성이다. 제1의 개폐용 자석(28)의 승강에 의거하여, 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)를 유지 위치와, 개방 위치의 사이에서 변위시킬 수 있다.
도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 제2의 핀 지지 부재(21)에는, 제2의 개폐용 자석(제2의 환상 자석)(30)이 일체적으로 설치되어 있다. 제2의 개폐용 자석(30)은 영구 자석이며, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원환 형상을 이루고 있다. 제2의 개폐용 자석(30)의 자극 방향은, 상하 방향을 따르는 방향이다. 제2의 개폐용 자석(30)은 승강 가능하게 설치되어 있다. 3개의 제2의 가동 핀(10B)에는 일대일 대응으로 제2의 링크 기구(제2의 전환 기구)(31)가 설치되어 있고, 각 제2의 링크 기구(31)는, 제2의 개폐용 자석(30)에 접속되어 있다. 제2의 링크 기구(31)는, 링크나 캠 플로워 등을 포함하는 구성이다. 제2의 개폐용 자석(30)의 승강에 의거하여, 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)를 유지 위치와, 개방 위치의 사이에서 변위시킬 수 있다. 이 실시 형태에서는, 제2의 개폐용 자석(30)은, 제1의 개폐용 자석(28)의 외주를 둘러싸는 대경의 링이다.
도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 스핀 베이스(8)의 하방에는, 제1의 승강 자석(33) 및 제2의 승강 자석(34)이 설치되어 있다.
제1의 승강 자석(33)은, 제1의 개폐용 자석(28)의 하방에 대향하고 있다. 제1의 승강 자석(33)은 영구 자석이며, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원환 형상을 이루고 있다. 제1의 승강 자석(33)의 자극 방향은 상하 방향을 따르는 방향이며, 제1의 승강 자석(33)의 상면은, 제1의 개폐용 자석(28)의 하면과 동극성을 갖고 있다.
제1의 승강 자석(33)에는, 제1의 승강 자석(33)을 승강시키는 제1의 승강 유닛(제2의 이동 유닛)(35)이 결합되어 있다. 제1의 승강 유닛(35)은, 예를 들어, 상하 방향으로 신축 가능하게 설치된 실린더를 포함하는 구성이다. 또, 제1의 승강 유닛(35)이, 전동 모터를 이용하여 구성되어 있어도 된다.
제1의 실시 형태에서는, 제1의 개폐용 자석(28), 제1의 링크 기구(29), 제1의 승강 자석(33) 및 제1의 승강 유닛(35)에 의해서, 제2의 이동 유닛이 구성되어 있다.
제2의 승강 자석(34)은, 제2의 개폐용 자석(30)의 하방에 대향하고 있다. 제2의 승강 자석(34)은 영구 자석이며, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원환 형상을 이루고 있다. 제2의 승강 자석(34)의 자극 방향은 상하 방향을 따르는 방향이며, 제2의 승강 자석(34)의 상면은, 제2의 개폐용 자석(30)의 하면과 동극성을 갖고 있다.
제2의 승강 자석(34)에는, 제2의 승강 자석(34)을 승강시키는 제2의 승강 유닛(36)이 결합되어 있다. 제2의 승강 유닛(36)은, 예를 들어, 상하 방향으로 신축 가능하게 설치된 실린더를 포함하는 구성이다. 또, 제2의 승강 유닛(36)이, 전동 모터를 이용하여 구성되어 있어도 된다.
제1의 실시 형태에서는, 제2의 개폐용 자석(30), 제2의 링크 기구(31), 제2의 승강 자석(34) 및 제2의 승강 유닛(36)에 의해서, 제4의 이동 유닛이 구성되어 있다.
도 5A, 5B에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 가동 핀(10A)은, 제1의 핀 지지 부재(16)에 결합된 제1의 축부(41)와, 제1의 축부(41)의 상단에 일체적으로 형성된 제1의 지지부(42)를 포함하고, 제1의 축부(41) 및 제1의 지지부(42)가 각각 원기둥 형상으로 형성되어 있다. 제1의 지지부(42)는, 제1의 축부(41)의 중심축선으로부터 편심해서 설치되어 있다. 제1의 축부(41)의 상단과 제1의 지지부(42)의 하단의 사이를 연결하는 표면은, 제1의 지지부(42)로부터 제1의 축부(41)의 둘레면을 향해서 하강하는 제1의 테이퍼면(43)을 형성하고 있다.
도 5A, 5B에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 가동 핀(10A)은, 제1의 축부(41)가 그 중심축선과 동축의 회동축선 A2 둘레로 회전 가능하도록 제1의 핀 지지 부재(16)에 결합되어 있다. 보다 상세하게는, 제1의 축부(41)의 하단부에는, 제1의 핀 지지 부재(16)에 대해서 제1의 베어링(44)을 통하여 지지된 제1의 지지축(45)이 설치되어 있다.
도 5A, 5B에 나타내는 바와 같이, 제1의 가동 핀(10A)은, 회동축선 A2로부터 편심한 위치에 제1의 지지부(42)를 갖고 있다. 즉, 제1의 지지부(42)의 중심축선은 회동축선 A2로부터 어긋나 있다. 따라서, 제1의 축부(41)의 회전에 의해서, 제1의 지지부(42)는, 중심축선이 회전축선 A1로부터 떨어진 먼 개방 위치(도 5B에 나타내는 위치)와, 중심축선이 회전축선 A1에 가까워진 유지 위치(도 5A에 나타내는 위치)의 사이에서 변위하게 된다. 제1의 가동 핀(10A)이 개방 위치에 위치하는 상태에서는, 기판 W의 둘레 단면과 소정의 갭이 형성된다.
도 5A에서는, 제1의 승강 자석(33)이 하 위치에 있는 상태를 나타내고, 도 5B에서는, 제1의 승강 자석(33)이 상 위치에 있는 상태를 나타낸다. 도 5A에 나타내는 바와 같이, 제1의 승강 자석(33)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제1의 승강 자석(33)으로부터의 자력이 제1의 개폐용 자석(28)에 작용하지 않는다. 그 때문에, 제1의 개폐용 자석(28)은 하 위치에 있다. 제1의 개폐용 자석(28)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제1의 링크 기구(29)는, 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)를 유지 위치에 배치한다. 따라서, 제1의 승강 자석(33)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)가 유지 위치에 배치되어 있다.
도 5A에 나타내는 상태로부터, 제1의 승강 자석(33)을 상승시켜, 상 위치에 배치한다. 제1의 승강 자석(33)의 상면이 제1의 개폐용 자석(28)에 접근함으로써, 제1의 개폐용 자석(28)에 이반(離反) 자력이 발생하여, 제1의 개폐용 자석(28)이 상 위치에 배치된다. 제1의 개폐용 자석(28)이 상 위치에 있는 상태에서는, 제1의 링크 기구(29)는, 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)를 개방 위치에 배치한다. 따라서, 제1의 승강 자석(33)이 상 위치에 있는 상태에서는, 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)가 개방 위치에 배치되어 있다.
도 6A, 6B에 나타내는 바와 같이, 각 제2의 가동 핀(10B)은, 제2의 핀 지지 부재(21)에 결합된 제2의 축부(51)와, 제2의 축부(51)의 상단에 일체적으로 형성된 제2의 지지부(52)를 포함하고, 제2의 축부(51) 및 제2의 지지부(52)가 각각 원기둥 형상으로 형성되어 있다. 제2의 지지부(52)는, 제2의 축부(51)의 중심축선으로부터 편심해서 설치되어 있다. 제2의 축부(51)의 상단과 제2의 지지부(52)의 하단의 사이를 연결하는 표면은, 제2의 지지부(52)로부터 제2의 축부(51)의 둘레면을 향해서 하강하는 제2의 테이퍼면(53)을 형성하고 있다.
도 6A, 6B에 나타내는 바와 같이, 각 제2의 가동 핀(10B)은, 제2의 축부(51)가 그 중심축선과 동축의 회동축선 A3둘레로 회전 가능하도록 제2의 핀 지지 부재(21)에 결합되어 있다. 보다 상세하게는, 제2의 축부(51)의 하단부에는, 제2의 핀 지지 부재(21)에 대해서 제2의 베어링(54)을 통하여 지지된 제2의 지지축(55)이 설치되어 있다.
도 6A, 6B에 나타내는 바와 같이, 제2의 가동 핀(10B)은, 회동축선 A3으로부터 편심한 위치에 제2의 지지부(52)를 갖고 있다. 즉, 제2의 지지부(52)의 중심축선은 회동축선 A3으로부터 어긋나 있다. 따라서, 제2의 축부(51)의 회전에 의해서, 제2의 지지부(52)는, 중심축선이 회전축선 A1로부터 떨어진 먼 개방 위치(도 6B에 나타내는 위치)와, 중심축선이 회전축선 A1에 가까워진 유지 위치(도 6A에 나타내는 위치)의 사이에서 변위하게 된다. 제2의 가동 핀(10B)이 개방 위치에 위치하는 상태에서는, 기판 W의 둘레 단면과 소정의 갭이 형성된다.
도 6A에서는, 제2의 승강 자석(34)이 하 위치에 있는 상태를 나타내고, 도 6B에서는, 제2의 승강 자석(34)이 상 위치에 있는 상태를 나타낸다. 도 6A에 나타내는 바와 같이, 제2의 승강 자석(34)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제2의 승강 자석(34)으로부터의 자력이 제2의 개폐용 자석(30)에 작용하지 않는다. 그 때문에, 제2의 개폐용 자석(30)은 하 위치에 있다. 제2의 개폐용 자석(30)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제2의 링크 기구(31)는, 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)를 유지 위치에 배치한다. 따라서, 제2의 승강 자석(34)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)가 유지 위치에 배치되어 있다.
도 6A에 나타내는 상태로부터, 제2의 승강 자석(34)을 상승시켜, 상 위치에 배치한다. 제2의 승강 자석(34)의 상면이 제2의 개폐용 자석(30)에 접근함으로써, 제2의 개폐용 자석(30)에 이반 자력이 발생하여, 제2의 개폐용 자석(30)이 상 위치에 배치된다. 제2의 개폐용 자석(30)이 상 위치에 있는 상태에서는, 제2의 링크 기구(31)는, 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)를 개방 위치에 배치한다. 따라서, 제2의 승강 자석(34)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)가 개방 위치에 배치되어 있다.
따라서, 제1의 실시 형태에 따른 스핀 척(5)에서는, 제1의 가동 핀(10A) 및 제2의 가동 핀(10B)의 회전축선 A1 둘레의 회전 중에, 3개의 제1의 가동 핀(10A)과, 3개의 제2의 가동 핀(10B)을 개별적으로 개폐시키는 것이 가능하다.
또한, 각 제1의 가동 핀(10A)이 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향 위치 P51(도 7A 참조)로부터 제2의 둘레 방향 위치 P52(도 7A 참조)에 도달하는 어느 위치에 있는 경우여도, 각 제1의 가동 핀(10A)을 개폐시키는 것이 가능하다. 또, 각 제2의 가동 핀(10B)이 스핀 베이스(8)에 대해서 제3의 둘레 방향 위치 P53(도 7B 참조)으로부터 제4의 둘레 방향 위치 P54(도 7B 참조)에 도달하는 어느 위치에 있는 경우여도, 각 제2의 가동 핀(10B)을 개폐시키는 것이 가능하다.
도 7A는, 제1의 지지부(42)의 유지 위치 및 개방 위치를 설명하기 위한 평면도이다.
제1의 핀 지지 부재(16)가 제1의 둘레 방향 위치에 있을 때의 제1의 지지부(42)의 위치를, 제1의 둘레 방향 위치 P51로 한다. 이 상태에 있어서의 제1의 지지부(42)의 유지 위치를, 제1의 유지 위치 P1이라고 부르고, 이 상태에 있어서의 제1의 지지부(42)의 개방 위치를, 제1의 개방 위치 P6이라고 부른다. 또, 제1의 핀 지지 부재(16)가 제2의 둘레 방향 위치에 있을 때의 제1의 지지부(42)의 위치를, 제2의 둘레 방향 위치 P52로 한다. 이 상태에 있어서의 제1의 지지부(42)의 유지 위치를, 제2의 유지 위치 P2라고 부르고, 이 상태에 있어서의 제1의 지지부(42)의 개방 위치를, 제2의 개방 위치 P7이라고 부른다.
도 7B는, 제2의 지지부(52)의 유지 위치 및 개방 위치를 설명하기 위한 평면도이다.
제2의 핀 지지 부재(21)가 제3의 둘레 방향 위치에 있을 때의 제2의 지지부(52)의 위치를, 제3의 둘레 방향 위치 P53으로 한다. 이 상태에 있어서의 제2의 지지부(52)의 유지 위치를, 제3의 유지 위치 P11이라고 부르고, 이 상태에 있어서의 제2의 지지부(52)의 개방 위치를, 제3의 개방 위치 P16이라고 부른다. 또, 제2의 핀 지지 부재(21)가 제4의 둘레 방향 위치에 있을 때의 제2의 지지부(52)의 위치를, 제4의 둘레 방향 위치 P54로 한다. 이 상태에 있어서의 제2의 지지부(52)의 유지 위치를, 제4의 유지 위치 P12라고 부르고, 이 상태에 있어서의 제2의 지지부(52)의 개방 위치를, 제4의 개방 위치 P17이라고 부른다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 약액 공급 유닛(6)은, 약액 노즐(71)을 포함한다. 약액 노즐(71)은, 예를 들어, 연속류의 상태로 액을 토출하는 스트레이트 노즐이며, 스핀 척(5)의 상방에서, 그 토출구를 기판 W의 상면의 회전 중심 부근을 향해서 고정적으로 배치되어 있다. 약액 노즐(71)에는, 에칭액 공급원으로부터의 약액이 공급되는 약액 배관(72)이 접속되어 있다. 약액 배관(72)에는, 약액 노즐(71)로부터의 에칭액의 공급/공급 정지를 전환하기 위한 약액 밸브(73)가 개재되어 있다. 약액 노즐(71)에 공급되는 약액은, 예를 들어, 황산, 아세트산, 질산, 염산, 불화수소산, 암모니아수, 과산화 수소수, 유기산(예를 들어 구연산, 옥살산 등), 유기 알칼리(예를 들어, TMAH： 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드 등), 소수화제(예를 들어 TMS, HMDS 등), 유기용제(예를 들어, IPA： 이소프로필알코올 등), 및 계면활성제, 부식방지제 중 적어도 1개를 포함하는 액이다. 약액 공급 유닛(6)은, 약액 노즐(71)을 이동시킴으로써, 기판 W의 상면에 대한 약액의 착액(着液) 위치를 기판 W의 면내에서 주사시키는 약액 노즐 이동 장치를 구비하고 있어도 된다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 린스액 공급 유닛(7)은, 린스액 노즐(76)을 포함한다. 린스액 노즐(76)은, 예를 들어, 연속류의 상태로 액을 토출하는 스트레이트 노즐이며, 스핀 척(5)의 상방에서, 그 토출구를 기판 W의 상면의 회전 중심 부근을 향해서 고정적으로 배치되어 있다. 린스액 노즐(76)에는, 린스액 공급원으로부터의 린스액이 공급되는 린스액 배관(77)이 접속되어 있다. 린스액 배관(77)에는, 린스액 노즐(76)로부터의 린스액의 공급/공급 정지를 전환하기 위한 린스액 밸브(78)가 개재되어 있다. 린스액 노즐(76)에 공급되는 물로서, DIW(탈이온수)를 들 수 있지만, 탄산수, 전해이온수, 수소수, 오존수, 희석 농도(예를 들어, 10~100ppm 정도)의 염산수, 환원수(수소수), 탈기수 등이어도 된다. 린스액 공급 유닛(7)은, 린스액 노즐(76)을 이동시킴으로써, 기판 W의 상면에 대한 린스액의 착액 위치를 기판 W의 면내에서 주사시키는 린스액 노즐 이동 장치를 구비하고 있어도 된다.
도 8은, 기판 처리 장치(1)의 주요부의 전기적 구성을 설명하기 위한 블럭도이다.
제어 장치(3)는, 예를 들어 마이크로 컴퓨터를 이용하여 구성되어 있다. 제어 장치(3)는 CPU 등의 연산 유닛, 고정 메모리 디바이스, 하드 디스크 드라이브 등의 기억 유닛, 및 입출력 유닛을 갖고 있다. 기억 유닛에는, 연산 유닛이 실행하는 프로그램이 기억되어 있다.
또, 제어 장치(3)에는, 제어 대상으로서, 스핀 모터(12), 제1의 회동 유닛(26), 제2의 회동 유닛(27), 약액 밸브(73), 린스액 밸브(78), 제1의 승강 유닛(35), 제2의 승강 유닛(36) 등이 접속되어 있다. 제어 장치(3)는, 미리 정해진 프로그램에 따라서, 스핀 모터(12), 제1의 회동 유닛(26), 제2의 회동 유닛(27), 제1의 승강 유닛(35), 제2의 승강 유닛(36) 등의 동작을 제어한다. 또한, 제어 장치(3)는, 미리 정해진 프로그램에 따라서, 약액 밸브(73), 린스액 밸브(78) 등을 개폐한다.
도 9는, 처리 유닛(2)에 의해서 실행되는 기판 처리의 일례를 설명하기 위한 흐름도이다. 도 10A~10F는, 약액 처리 공정(S4) 및 린스액 처리 공정(S5)에 있어서 실행되는 기판 회동 공정을 설명하기 위한 모식적인 평면도이다. 이하, 기판 회동 공정에 대해서, 도 2~도 4, 도 7A, 7B, 도 8 및 도 9를 참조하면서 설명한다. 도 10A~10F에 대해서는, 적당히 참조한다.
처리 유닛(2)에 의해서 실행되는 기판 처리는, 세정 처리 또는 에칭 처리이다. 스핀 척(5)에 유지되어 있는 기판 W의 상면을 처리 대상으로 한다. 이하, 도 2~도 4, 도 8 및 도 9를 참조하면서, 기판 처리의 일례에 대해서 설명한다.
처리 유닛(2)에 의해서 기판 W에 기판 처리가 실시될 때에는, 미처리의 기판 W가, 챔버(4)의 내부에 반입된다(도 9의 단계 S1).
구체적으로는, 제어 장치(3)는, 기판 W를 유지하고 있는 기판 반송 로봇 CR의 핸드 H2를 챔버(4)의 내부에 진입시킨다. 이것에 의해서, 기판 W가, 그 표면을 상방을 향한 상태로 스핀 척(5)에 수도된다. 그 후, 제어 장치(3)는, 기판 W를 파지한다(도 9의 단계 S2： 기판 W 척). 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 제1 및 제2의 승강 유닛(35, 36)을 제어하여, 그때까지 상 위치에 있던 제1 및 제2의 개폐용 자석(28, 30)을 하 위치에 배치하고, 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42) 및 제2의 지지부(제2의 가동 핀(10B)의 지지부)(52)를 각각 유지 위치에 배치한다. 이것에 의해서, 3개의 제1의 가동 핀(10A) 및 3개의 제2의 가동 핀(10B)의 각각이 기판 W의 주연부에 접촉해, 이것에 의해서, 6개의 가동 핀(10)에 의해서 기판 W가 유지된다.
6개의 가동 핀(10)에 의해서 기판 W를 파지한 후, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(12)에 의해서 기판 W의 회전을 개시시킨다(도 9의 단계 S3). 기판 W는 미리 정한 액처리 속도(수십~천수백rpm의 범위내에서, 예를 들어 약 1000rpm)까지 상승하게 되고, 그 액처리 속도로 유지된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 약액을 이용하여 기판 W의 상면을 처리하는 약액 처리 공정(도 9의 단계 S4)을 행한다. 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(12)를 제어하여, 스핀 베이스(8) 및 제1 및 제2의 가동 핀(10A, 10B)을, 회전축선 A1 둘레로 회전 방향 Dr1로 액처리 속도로 회전시키면서, 약액 밸브(73)를 열므로써, 기판 W의 상면 중앙부를 향해서 약액 노즐(71)로부터 약액을 토출한다. 기판 W의 상면 중앙부에 공급된 약액은, 기판 W의 회전에 의한 원심력을 받아 기판 W의 상면 위를 기판 W의 주연부를 향해서 흐른다. 이것에 의해서, 기판 W의 상면의 전역에 약액이 고루 퍼져, 기판 W의 상면의 전역이 약액에 의해서 처리된다.
약액 처리 공정(S4)에 있어서는, 기판 W를, 스핀 베이스(8)에 대해서 회동시키는 기판 회동 공정이 실행된다. 약액 처리 공정(S4)의 개시시에는, 기판 W의 주연부는, 도 10A에 나타내는 바와 같이, 제1의 지지부(42)가 제1의 유지 위치 P1에 배치된 3개의 제1의 가동 핀(10A)과, 제2의 지지부(52)가 제4의 유지 위치 P12에 배치된 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 접촉 지지되어 있다.
약액 처리 공정(S4)에 있어서, 기판 회동 공정을 실행하는 타이밍이 되면, 제어 장치(3)는, 도 10A에 나타내는 상태로부터, 제2의 승강 유닛(36)을 제어하여, 그때까지 하 위치에 있던 제2의 개폐용 자석(30)을 상 위치에 배치하고, 각 제2의 지지부(제2의 가동 핀(10B)의 지지부)(52)를, 제4의 유지 위치 P12로부터 제4의 개방 위치 P17로 이동시킨다(제4의 이동 공정). 이것에 의해서, 도 10B에 나타내는 바와 같이, 제1의 지지부(42)가 제1의 유지 위치 P1에 있고 또한 제2의 지지부(52)가 제4의 개방 위치 P17에 배치된다. 3개의 제2의 지지부(52)가 기판 W의 주연부로부터 이반하는 결과, 기판 W가, 3개의 제1의 가동 핀(10A)에 의해서만 파지되는 상태가 된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 회동 유닛(26)을 제어하여, 3개의 제1의 가동 핀(10A)을 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향 Y1로 상대 이동시킨다. 이것에 의해서, 각 제1의 지지부(42)는, 유지 위치를 유지하면서 제1의 유지 위치 P1로부터 제2의 유지 위치 P2로 이동하게 된다(제1의 둘레 방향 이동 공정). 이들 각 제1의 지지부(42)의 상대 이동에 수반하여, 도 10C에 흰색 화살표로 나타내는 바와 같이, 기판 W가 회전축선 A1 둘레로 스핀 베이스(8)에 대해서 회동 방향 Dr2(제1의 둘레 방향 Y1과 동일 방향)으로 상대적으로 회동하게 된다. 제1의 지지부(42)의, 제1의 유지 위치 P1로부터 제2의 유지 위치 P2로의 1회의 이동에 수반하는 기판 W의 회동각은, 예를 들어 수°(예를 들어 약 5°정도)이다. 이 실시 형태에서는, 제1의 가동 핀(10A)의 둘레 방향 Y을 따르는 이동 방향(즉 제1의 둘레 방향 Y1)이, 회전 방향 Dr1과 역방향이다. 따라서, 기판 W의 회동 방향 Dr2는, 회전 방향 Dr1과 역방향이 된다.
또, 제어 장치(3)는, 각 제1의 지지부(42)의 제2의 유지 위치 P2로의 이동에 병행해, 제2의 회동 유닛(27)을 제어하여, 3개의 제2의 가동 핀(10B)을 스핀 베이스(8)에 대해서 제2의 둘레 방향 Y2로 이동시킨다. 이것에 의해서, 그때까지 제4의 개방 위치 P17에 위치하고 있던 각 제2의 지지부(52)가, 도 10C에 나타내는 바와 같이 제3의 개방 위치 P16에 배치된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제2의 승강 유닛(36)을 제어하여, 그때까지 상 위치에 있던 제2의 개폐용 자석(30)을 하 위치에 배치하고, 각 제2의 지지부(제2의 가동 핀(10B)의 지지부)(52)를, 도 10D에 나타내는 바와 같이, 제3의 개방 위치 P16으로부터 제3의 유지 위치 P11로 이동시킨다(제4의 이동 공정). 이것에 의해서, 제3의 유지 위치 P11에 배치된 3개의 제2의 지지부(52)가 기판 W의 주연부에 접촉하는 결과, 3개의 제1의 가동 핀(10A) 및 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 기판 W가 파지되는 상태가 된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 승강 유닛(35)을 제어하여, 그때까지 하 위치에 있던 제1의 개폐용 자석(28)을 상 위치에 배치하고, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)를, 제2의 유지 위치 P2로부터 제2의 개방 위치 P7로 이동시킨다. 이것에 의해서, 도 10D에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)가 제2의 개방 위치 P7에 배치된다. 3개의 제1의 지지부(42)가 기판 W의 주연부로부터 이격하는 결과, 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서만 기판 W가 파지되는 상태가 된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제2의 회동 유닛(27)을 제어하여, 3개의 제2의 가동 핀(10B)을 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향 Y1로 상대 이동시킨다. 이것에 의해서, 각 제2의 지지부(52)는, 유지 위치를 유지하면서 제3의 유지 위치 P11로부터 제4의 유지 위치 P12로 이동하게 된다(제2의 둘레 방향 이동 공정). 이들 각 제2의 지지부(52)의 상대 이동에 수반하여, 도 10E에 흰색 화살표로 나타내는 바와 같이, 기판 W가 회전축선 A1 둘레로 스핀 베이스(8)에 대해서 회동 방향 Dr2로 상대적으로 회동하게 된다. 제2의 지지부(52)의, 제3의 유지 위치 P11로부터 제4의 유지 위치 P12로의 1회의 이동에 수반하는 기판 W의 회동각은, 예를 들어 수°(예를 들어 약 5°정도)이다.
또, 제어 장치(3)는, 각 제2의 지지부(52)의 제4의 유지 위치 P12로의 이동에 병행해, 제1의 회동 유닛(26)을 제어하여, 3개의 제1의 가동 핀(10A)을 스핀 베이스(8)에 대해서 제2의 둘레 방향 Y2로 이동시킨다. 이것에 의해서, 그때까지 제2의 개방 위치 P7에 위치하고 있던 각 제1의 지지부(42)가, 도 10E에 나타내는 바와 같이 제1의 개방 위치 P6에 배치된다(제2의 이동 공정).
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 승강 유닛(35)을 제어하여, 그때까지 상 위치에 있던 제1의 개폐용 자석(28)을 하 위치에 배치하고, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)를, 제1의 개방 위치 P6으로부터 제1의 유지 위치 P1로 이동시킨다. 이것에 의해서, 도 10F에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)가 제1의 유지 위치 P1로 되돌려진다(제3의 이동 공정). 3개의 제1의 지지부(42)가 기판 W의 주연부에 접촉하는 결과, 3개의 제1의 가동 핀(10A) 및 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 기판 W가 파지되는 상태가 된다.
이것에 의해서, 1회의 기판 회동 동작(일련의 바꿈 동작)에 있어서, 기판 W를 2회분 회동시킬 수 있다(합계 약 10°). 그러므로, 1회의 기판 회동 동작(일련의 바꿈 동작)에 있어서, 기판 W의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 크게 변화시킬 수 있다. 이러한 기판 회동 동작은, 약액 처리 공정(S4)에 있어서, 소정 시간을 두고 간헐적으로 실행된다.
약액의 토출 개시부터 미리 정한 기간이 경과하면, 제어 장치(3)는, 약액 밸브(73)를 닫고, 약액 노즐(71)로부터의 약액의 토출을 정지한다. 이것에 의해서, 약액 처리 공정(S4)이 종료된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 기판 W의 상면에 부착되어 있는 약액을 씻어내는 린스액 처리 공정(도 9의 단계 S5)을 행한다. 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(12)를 제어하여, 스핀 베이스(8) 및 제1 및 제2의 가동 핀(10A, 10B)을, 회전축선 A1 둘레로 회전 방향 Dr1로 액처리 속도로 회전시키면서, 린스액 밸브(78)를 열므로써, 기판 W의 상면 중앙부를 향해서 린스액 노즐(76)로부터 린스액을 토출한다. 기판 W의 상면 중앙부에 공급된 린스액은, 기판 W의 회전에 의한 원심력을 받아 기판 W의 상면 위를 기판 W의 주연부를 향해서 흐른다. 이것에 의해서, 기판 W의 상면의 전역에 린스액이 고루 퍼져, 기판 W의 상면의 전역에 있어서, 기판 W의 상면에 부착되어 있는 약액이 씻어내어진다.
린스액 처리 공정(S5)에 있어서는, 기판 W를, 스핀 베이스(8)에 대해서 회동시키는 기판 회동 공정이 실행된다. 린스액 처리 공정(S5)에서 행해지는 기판 회동 공정은, 약액 처리 공정(S4)에서 행해지는 기판 회동 공정과 동일한 공정이므로, 상세한 설명은 생략한다. 이러한 기판 회동 동작은, 린스액 처리 공정(S5)에 있어서, 소정 시간을 두고 간헐적으로 실행된다.
린스액의 토출 개시부터 미리 정한 기간이 경과하면, 제어 장치(3)는, 린스액 밸브(78)를 닫고, 린스액 노즐(76)로부터의 린스액의 토출을 정지한다. 이것에 의해서, 린스액 처리 공정(S5)이 종료된다.
다음에, 기판 W를 건조시키는 스핀 드라이(도 9의 단계 S6)가 행해진다. 구체적으로는, 제어 장치(3)는 스핀 모터(12)를 제어하여, 각 처리 공정 S4, S5에 있어서의 회전 속도보다 큰 건조 회전 속도(예를 들어 수천rpm. 예를 들어 2천rpm 이상)까지 기판 W를 가속시켜, 그 건조 회전 속도로 기판 W를 회전시킨다. 이것에 의해서, 큰 원심력이 기판 W상의 액체에 가해져, 기판 W의 주연부에 부착되어 있는 액체가 기판 W의 주위에 뿌려진다. 이와 같이 하여, 기판 W의 주연부로부터 액체가 제거되어, 기판 W의 주연부가 건조된다.
기판 W의 고속 회전의 개시부터 소정 기간이 경과하면, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(12)를 제어함으로써, 스핀 척(5)에 의한 기판 W의 회전을 정지시킨다(도 9의 단계 S7).
그 후, 제어 장치(3)는, 기판 W의 파지를 해제한다(도 9의 단계 S8：척 해제). 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 제1 및 제2의 승강 유닛(35, 36)을 제어하여, 그때까지 하 위치에 있던 제1 및 제2의 개폐용 자석(28, 30)을 상 위치에 배치하고, 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42) 및 제2의 지지부(제2의 가동 핀(10B)의 지지부)(52)를 각각 개방 위치에 배치한다. 이것에 의해서, 3개의 제1의 지지부(42) 및 3개의 제2의 지지부(52)의 각각이 기판 W의 주연부로부터 이반하여, 기판 W의 파지가 해제된다. 그 후, 처리 완료된 W가, 기판 반송 로봇 CR의 핸드 H2에 의해서, 챔버(4)내로부터 반출된다(도 9의 단계 S9).
이상에 의해서 제1의 실시 형태에 따르면, 각 제1의 지지부(42)가 제1의 유지 위치 P1에 있고 또한 각 제2의 지지부(52)가 개방 위치에 있는 상태에서는, 각 제1의 가동 핀(10A)에 의해서만 기판 W가 지지되어 있다. 이 상태로, 각 제1의 지지부(42)를, 유지 위치를 유지하면서 제1의 유지 위치 P1로부터 제2의 유지 위치 P2로 제1의 둘레 방향 Y1로 이동시키면, 제1의 지지부(42)의 이동에 수반하여, 기판 W가 스핀 베이스(8)에 대해서, 회전축선 A1 둘레로 회동 방향 Dr2로 상대적으로 회동한다. 또, 각 제1의 지지부(42)가 제2의 유지 위치 P2에 도달한 이후에, 각 제2의 지지부(52)를, 제3의 개방 위치 P16으로부터 제3의 유지 위치 P11로 이동시킨다. 그 결과, 기판 W가, 각 제1의 가동 핀(10A) 뿐만이 아니고, 각 제2의 가동 핀(10B)에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 각 제1의 가동 핀(10A)에 의해서만 기판 W를 지지하면서, 당해 각 제1의 가동 핀(10A)을 제1의 둘레 방향 Y1로 이동시킴으로써, 스핀 베이스(8)에 대해서 기판 W를 회동 방향 Dr2로 상대적으로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판 W를 양호하게 수평 유지하면서, 기판 W의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 회동 방향 Dr2로 상대적으로 변화시킬 수 있다.
또, 제2의 지지부(52)의, 제3의 유지 위치 P11로의 이동의 종료 이후에, 각 제1의 지지부(42)를, 제2의 유지 위치 P2로부터 제2의 개방 위치 P7로 이동시킨다. 이것에 의해서, 각 제2의 지지부(52)가 제3의 유지 위치 P11에 있고 또한 각 제1의 가동 핀(10A)이 제2의 개방 위치 P7에 있는 상태가 된다. 이 상태에서는, 각 제2의 가동 핀(10B)에 의해서만 기판 W가 지지되어 있다. 이 상태로, 각 제2의 지지부(52)를, 유지 위치를 유지하면서 제3의 유지 위치 P11로부터 제4의 유지 위치 P12로 제1의 둘레 방향 Y1로 이동시키면, 제2의 지지부(52)의 이동에 수반하여, 기판 W가 스핀 베이스(8)에 대해서, 회전축선 A1 둘레로 회동 방향 Dr2로 상대적으로 회동한다. 또, 각 제2의 지지부(52)가 제4의 유지 위치 P12에 도달한 이후에, 각 제1의 지지부(42)를, 제1의 개방 위치 P6으로부터 제1의 유지 위치 P1로 이동시킨다. 그 결과, 기판 W가, 각 제2의 가동 핀(10B) 뿐만이 아니고, 각 제1의 가동 핀(10A)에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 각 제2의 가동 핀(10B)에 의해서만 기판 W를 지지하면서, 당해 각 제2의 가동 핀(10B)을 제1의 둘레 방향 Y1로 이동시킴으로써, 기판 W를 회동 방향 Dr2로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판 W를 양호하게 수평 유지하면서, 기판 W의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다.
다음에, 제2의 실시 형태에 대해서 설명한다.
제2의 실시 형태에 따른 스핀 척이, 제1의 실시 형태에 따른 스핀 척(5)의 구성과 다른 점은, 제2의 핀 지지 부재(21)가, 스핀 베이스(8)에 대해서 상대 회동 불가능하게 설치되어 있는 점이다. 즉, 제2의 가동 핀(10B)이, 스핀 베이스(8)에 대해서 상대 회동 불가능하게 설치되어 있다. 제1의 회동 유닛(26)이, 핀 지지 부재(제1의 핀 지지 부재(16))를 회동시키는 회동 유닛으로서 기능한다. 제2의 핀 지지 부재(21)가 스핀 베이스(8)에 대해서 회동하지 않기 때문에, 제2의 회동 유닛(27)도 설치되어 있지 않다. 그 외의 점에 있어서, 제2의 실시 형태에 따른 스핀 척은, 제1의 실시 형태에 따른 스핀 척(5)의 구성과 공통되어 있다.
제2 실시 형태에서는, 제2의 지지부(52)를 취할 수 있는 위치는, 제3의 유지 위치 P11(도 7B 참조) 또는 제3의 개방 위치 P16(도 7B 참조) 밖에 없다. 즉, 제2의 지지부(52)를 취할 수 있는 위치로서, 제4의 유지 위치 P12(도 7B 참조) 및 제4의 개방 위치 P17(도 7B 참조)는 존재하지 않는다.
제2의 실시 형태에 따른 처리 유닛에 있어서도 도 9에 나타내는 처리와 동일한 처리가 실행된다. 약액 처리 공정(도 9의 S4) 및 린스액 처리 공정(도 9의 S5)에 있어서는, 기판 W를, 스핀 베이스(8)에 대해서 회동시키는 기판 회동 공정이 실행된다.
도 11A~11F는, 제2의 실시 형태에 따른 약액 처리 공정(S4) 및 린스액 처리 공정(S5)에 있어서 실행되는 기판 회동 공정을 설명하기 위한 모식적인 평면도이다. 약액 처리 공정(S4) 또는 린스액 처리 공정(S5)의 개시시에는, 기판 W의 주연부는, 도 11A에 나타내는 바와 같이, 제1의 지지부(42)가 제1의 유지 위치 P1에 배치된 3개의 제1의 가동 핀(10A)과, 제2의 지지부(52)가 제3의 유지 위치 P11에 배치된 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 접촉 지지되어 있다.
약액 처리 공정(S4) 또는 린스액 처리 공정(S5)에 있어서, 기판 회동 공정을 실행하는 타이밍이 되면, 제어 장치(3)는, 도 11A에 나타내는 상태로부터, 제2의 승강 유닛(36)을 제어하여, 그때까지 하 위치에 있던 제2의 개폐용 자석(30)을 상 위치에 배치하고, 각 제2의 지지부(제2의 가동 핀(10B)의 지지부)(52)를, 제3의 유지 위치 P11로부터 제3의 개방 위치 P16으로 이동시킨다(제4의 이동 공정). 이것에 의해서, 도 11B에 나타내는 바와 같이, 제1의 지지부(42)가 제1의 유지 위치 P1에 있고 또한 제2의 지지부(52)가 제3의 개방 위치 P16에 배치된다. 3개의 제2의 지지부(52)가 기판 W의 주연부로부터 이반하는 결과, 기판 W가, 3개의 제1의 가동 핀(10A)에 의해서만 파지되는 상태가 된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 회동 유닛(26)을 제어하여, 3개의 제1의 가동 핀(10A)을 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향 Y1로 상대 이동시킨다. 이것에 의해서, 각 제1의 지지부(42)는, 유지 위치를 유지하면서 제1의 유지 위치 P1로부터 제2의 유지 위치 P2로 이동하게 된다(제1의 둘레 방향 이동 공정). 이들 각 제1의 지지부(42)의 상대 이동에 수반하여, 도 10C에 흰색 화살표로 나타내는 바와 같이, 기판 W가 회전축선 A1 둘레로 스핀 베이스(8)에 대해서 회동 방향 Dr2(제1의 둘레 방향 Y1과 동일 방향)으로 상대적으로 회동하게 된다. 제1의 지지부(42)의, 제1의 유지 위치 P1로부터 제2의 유지 위치 P2로의 1회의 이동에 수반하는 기판 W의 회동각은, 예를 들어 수°(예를 들어 약 5°정도)이다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제2의 승강 유닛(36)을 제어하여, 그때까지 상 위치에 있던 제2의 개폐용 자석(30)을 하 위치에 배치하고, 각 제2의 지지부(제2의 가동 핀(10B)의 지지부)(52)를, 도 11D에 나타내는 바와 같이, 제3의 개방 위치 P16으로부터 제3의 유지 위치 P11로 이동시킨다(제1의 이동 공정). 이것에 의해서, 제3의 유지 위치 P11에 배치된 3개의 제2의 지지부(52)가 기판 W의 주연부에 접촉하는 결과, 3개의 제1의 가동 핀(10A) 및 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 기판 W가 파지되는 상태가 된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 승강 유닛(35)을 제어하여, 그때까지 하 위치에 있던 제1의 개폐용 자석(28)을 상 위치에 배치하고, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)를, 제2의 유지 위치 P2로부터 제2의 개방 위치 P7로 이동시킨다. 이것에 의해서, 도 11D에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)가 제2의 개방 위치 P7에 배치된다. 3개의 제1의 지지부(42)가 기판 W의 주연부로부터 이격하는 결과, 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서만 기판 W가 파지되는 상태가 된다.
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 회동 유닛(26)을 제어하여, 3개의 제1의 가동 핀(10A)을 스핀 베이스(8)에 대해서 제2의 둘레 방향 Y2로 이동시킨다. 이것에 의해서, 그때까지 제2의 개방 위치 P7에 위치하고 있던 각 제1의 지지부(42)가, 도 11E에 나타내는 바와 같이 제1의 개방 위치 P6에 배치된다(제2의 이동 공정).
다음에, 제어 장치(3)는, 제1의 승강 유닛(35)을 제어하여, 그때까지 상 위치에 있던 제1의 개폐용 자석(28)을 하 위치에 배치하고, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)를, 제1의 개방 위치 P6으로부터 제1의 유지 위치 P1로 이동시킨다. 이것에 의해서, 도 11F에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 지지부(제1의 가동 핀(10A)의 지지부)(42)가 제1의 유지 위치 P1로 되돌려진다(제3의 이동 공정). 3개의 제1의 지지부(42)가 기판 W의 주연부에 접촉하는 결과, 3개의 제1의 가동 핀(10A) 및 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 기판 W가 파지되는 상태가 된다.
이 기판 회동 동작(일련의 바꿈 동작)에서는, 1회의 기판 회동 동작에 있어서, 기판 W를 1회분 밖에 회동시킬 수 없기는 하지만, 기판 W의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 변화시킬 수 있다. 이러한 기판 회동 동작은, 약액 처리 공정(S4) 및 린스액 처리 공정(S5)에 있어서, 소정 시간을 두고 간헐적으로 실행된다.
이상에 의해서 제2의 실시 형태에 따르면, 각 제1의 가동 핀(10A)이 제1의 유지 위치 P1에 있고 또한 각 제2의 가동 핀(10B)이 제3의 개방 위치 P16에 있는 상태에서는, 각 제1의 가동 핀(10A)에 의해서 기판 W가 지지되어 있다. 이 상태로, 각 제1의 지지부(42)를, 유지 위치를 유지하면서 제1의 유지 위치 P1로부터 제2의 유지 위치 P2로 제1의 둘레 방향 Y1로 이동시키면(제1의 둘레 방향 이동 공정의 실행), 제1의 지지부(42)의 이동에 수반하여, 기판 W가 회전축선 A1 둘레로, 회동 방향 Dr2로 회동한다. 또, 각 제1의 지지부(42)가 제2의 유지 위치 P2에 도달한 이후에, 각 제2의 지지부(52)를, 제3의 개방 위치 P16으로부터 제3의 유지 위치 P11로 이동시킨다. 그 결과, 기판 W가, 각 제1의 가동 핀(10A) 뿐만이 아니고, 각 제2의 가동 핀(10B)에 의해서도 유지되게 된다. 즉, 각 제1의 가동 핀(10A)에 의해서만 기판 W를 지지하면서, 당해 각 제1의 가동 핀(10A)을 제1의 둘레 방향 Y1로 이동시킴으로써, 기판 W를 회동 방향 Dr2로 회동시킬 수 있다. 이것에 의해서, 기판 W를 양호하게 수평 유지하면서, 기판 W의 주연부에 있어서의 접촉 지지 위치를 회동 방향 Dr2로 변화시킬 수 있다.
도 12는, 본 발명의 제3의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(301)의 처리 유닛의 구성예를 설명하기 위한 도해적인 단면도이다. 도 13은, 상기 처리 유닛에 포함되는 스핀 척(305)의, 보다 구체적인 구성을 설명하기 위한 평면도이다. 제3의 실시 형태에 있어서, 상술한 제1의 실시 형태(도 1~도 10에 나타내는 실시 형태)와 공통되는 부분에는, 도 1~도 10의 경우와 동일한 참조 부호를 붙이고 설명을 생략한다.
제3의 실시 형태에 따른 스핀 척(305)이, 제1의 실시 형태에 따른 스핀 척(5)과 다른 주된 점은, 제1의 가동 핀(10A) 및 제2의 가동 핀(10B)에 각각 설치된 제1 및 제2의 구동용 자석(311, 312)에, 제3 및 제4의 승강 자석(333, 334)으로부터의 자력을 각각 작용시킴으로써, 제1 및 제2의 가동 핀(10A, 10B)을 각각 개폐시키도록 한 점이다. 보다 구체적으로는, 제2의 이동 유닛으로서, 제1의 개폐용 자석(28)(도 3 참조), 제1의 링크 기구(29)(도 3 참조), 제1의 승강 자석(33)(도 3 참조 및 제1의 승강 유닛(35)(도 3 참조)에 대신해서, 제1의 구동용 자석(311), 제1의 탄성 가압용 자석(313), 제3의 승강 자석(333) 및 제3의 승강 유닛(335)을 설치한 점이다. 또, 제4의 이동 유닛으로서, 제2의 개폐용 자석(30)(도 3 참조), 제2의 링크 기구(31)(도 3 참조), 제2의 승강 자석(34)(도 3 참조) 및 제2의 승강 유닛(36)(도 3 참조)에 대신해서 제2의 구동용 자석(312), 제2의 탄성 가압용 자석(314), 제4의 승강 자석(334) 및 제4의 승강 유닛(336)을 설치한 점이다.
도 12 및 도 13에 나타내는 바와 같이, 각 제1의 가동 핀(10A)에 대응해서 1개의 제1의 구동용 자석(311)이 설치되어 있다. 제1의 구동용 자석(311)은 영구 자석이며, 수평으로 직선 형상으로 연장되어 있다. 복수(예를 들어 3개)의 제1의 가동 핀(10A)에 대응하는 3개의 제1의 구동용 자석(311)의 자극 방향은, 제1의 가동 핀(10A)에 외력이 부여되어 있지 않은 상태로, 기판 W의 회전 반경 방향에 관해서 공통되어 있다.
도 12 및 도 13에 나타내는 바와 같이, 각 제2의 가동 핀(10B)에 대응해서 1개의 제2의 구동용 자석(312)이 설치되어 있다. 제2의 구동용 자석(312)은 영구 자석이며, 수평으로 직선 형상으로 연장되어 있다. 복수(예를 들어 3개)의 제2의 가동 핀(10B)에 대응하는 3개의 제2의 구동용 자석(312)의 자극 방향은, 대응하는 제2의 가동 핀(10B)에 외력이 부여되어 있지 않은 상태로, 기판 W의 회전 반경 방향에 관해서 공통되어 있다. 제2의 구동용 자석(311)의 자극 방향과, 제2의 구동용 자석(312)의 자극 방향은, 기판 W의 회전 반경 방향에 있어서 상이하다.
스핀 척(305)의 스핀 베이스(8)에는, 가동 핀(10)의 수와 동수(6)의 탄성 가압 유닛으로서의 탄성 가압용 자석이 설치되어 있다. 탄성 가압용 자석은, 가동 핀(10)에 일대일 대응으로 설치되어 있고, 대응하는 가동 핀(10)에 인접해서 배치되어 있다. 이 실시 형태에서는, 도 13에 나타내는 바와 같이, 탄성 가압용 자석은, 대응하는 가동 핀(10)의 주위에 있어서, 가동 핀(10)의 평면에서 보았을 때의 중심 위치보다, 회전축선 A1로부터 이반하는 방향에 치우쳐 배치되어 있다. 복수의 탄성 가압용 자석은, 제1의 가동 핀(10A)에 대응해서 설치되고, 제1의 구동용 자석(311)과의 사이에서 자력을 미치는 3개의 제1의 탄성 가압용 자석(313)과, 제2의 가동 핀(10B)에 대응해서 설치되고, 제2의 구동용 자석(312)과의 사이에서 자력을 미치는 3개의 제2의 탄성 가압용 자석(314)을 포함한다. 제1의 탄성 가압용 자석(313) 및 제2의 탄성 가압용 자석(314)은, 스핀 베이스(8)의 둘레 방향 Y에 관해 교호로, 또한 스핀 베이스(8)에 대해서 승강 불가능하게 설치되어 있다.
스핀 베이스(8)의 하방에는, 제3의 승강 자석(333) 및 제4의 승강 자석(334)이 설치되어 있다. 제3의 승강 자석(333) 및 제4의 승강 자석(334)의 자극 방향은, 함께 상하 방향을 따르는 방향이지만 서로 역방향이다. 제3의 승강 자석(333)의 상면이 예를 들어 N극인 경우에는, 제4의 승강 자석(334)의 상면은 역극성의 S극을 갖고 있다.
도 13에 나타내는 바와 같이, 이 실시 형태에서는, 제3의 승강 자석(333) 및 제4의 승강 자석(334)은 각각 3개씩 설치되어 있다. 3개의 제3의 승강 자석(333) 및 3개의 제4의 승강 자석(334)은, 평면에서 봐서, 둘레 방향 Y에 관해 교호로 배치되어 있다.
3개의 제3의 승강 자석(333)은, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원호 형상을 이루고, 서로 공통의 높이 위치에서 또한 둘레 방향 Y로 간격을 두고 배치되어 있다. 3개의 제3의 승강 자석(333)은, 회전축선 A1과 동축의 원주 상에 있어서 둘레 방향 Y로 등간격을 두고 배치되어 있다. 제3의 승강 자석(333)에는, 당해 복수의 제3의 승강 자석(333)을 일괄하여 승강시키는 제3의 승강 유닛(335)이 연결되어 있다. 제3의 승강 유닛(335)은, 예를 들어, 상하 방향으로 신축 가능하게 설치된 실린더를 포함하는 구성이다. 또, 제3의 승강 유닛(335)이, 전동 모터를 이용하여 구성되어 있어도 된다. 또, 제3의 승강 유닛(335)은, 제3의 승강 자석(333)을 개별적으로 승강시키는 복수의 개별 승강 유닛을 포함하는 구성이어도 된다.
제3의 실시 형태에서는, 제1의 구동용 자석(311), 제1의 탄성 가압용 자석(313), 제3의 승강 자석(333) 및 제3의 승강 유닛(335)에 의해서 제2의 이동 유닛이 구성되어 있다.
3개의 제4의 승강 자석(334)은, 회전축선 A1을 중심으로 하는 원호 형상을 이루고, 서로 공통의 높이 위치에서 또한 둘레 방향 Y로 간격을 두고 배치되어 있다. 3개의 제4의 승강 자석(334)은, 회전축선 A1과 동축의 원주 상에 있어서 둘레 방향 Y로 등간격을 두고 배치되어 있다. 제4의 승강 자석(334)에는, 당해 복수의 제4의 승강 자석(334)을 일괄하여 승강시키는 제4의 승강 유닛(336)이 연결되어 있다. 제4의 승강 유닛(336)은, 예를 들어, 상하 방향으로 신축 가능하게 설치된 실린더를 포함하는 구성이다. 또, 제4의 승강 유닛(336)이, 전동 모터를 이용하여 구성되어 있어도 된다. 또, 제4의 승강 유닛(336)은, 제4의 승강 자석(334)을 개별적으로 승강시키는 복수의 개별 승강 유닛을 포함하는 구성이어도 된다.
제3의 실시 형태에서는, 제2의 구동용 자석(312), 제2의 탄성 가압용 자석(314), 제4의 승강 자석(334) 및 제4의 승강 유닛(336)에 의해서 제4의 이동 유닛이 구성되어 있다.
도 14A, 14B에 나타내는 바와 같이, 제1의 구동용 자석(311)은, 각 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지축(45)의 하단에 결합되어 있다.
도 14A에서는, 제3의 승강 자석(333)이 하 위치에 있는 상태를 나타내고, 도 14B에서는, 제3의 승강 자석(333)이 상 위치에 있는 상태를 나타낸다. 제3의 승강 자석(333)과 제1의 구동용 자석(311)의 둘레 방향 Y위치가 맞춰져 있는 상태여도, 도 14A에 나타내는 바와 같이, 제3의 승강 자석(333)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제3의 승강 자석(333)으로부터의 자력이 제1의 구동용 자석(311)에 작용하지 않는다. 그 때문에, 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)는, 유지 위치에 위치하고 있다. 이 상태로, 제1의 구동용 자석(311)은, 예를 들어, N극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 안쪽으로 향하고, 또한 S극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 바깥쪽으로 향하도록 배치되어 있다.
도 14A에 나타내는 상태로부터, 제3의 승강 자석(333)을 상승시켜, 상 위치에 배치한다. 제3의 승강 자석(333)의 상면이 제1의 구동용 자석(311)에 접근함으로써, 제1의 구동용 자석(311)에 흡인 자력이 발생하여, 제1의 구동용 자석(311)과 제3의 승강 자석(333)의 사이에 흡인력이 발생한다. 제3의 승강 자석(333)이 상 위치에 배치된 상태에 있어서, 제1의 구동용 자석(311)에 작용하는 흡인 자력의 크기는, 제1의 탄성 가압용 자석(313)으로부터의 흡인 자력을 크게 상회하고 있고, 이것에 의해서, 제1의 지지부(42)가 회전축선 A1에 가까워진 유지 위치로부터, 회전축선 A1(도 12 참조)로부터 이반한 개방 위치로 이동한다. 이것에 의해서, 제1의 지지부(42)가 개방 위치로 탄성 가압된다. 이 상태에서는, 도 14B에 나타내는 바와 같이, 제1의 구동용 자석(311)은, 예를 들어 S극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 안쪽으로 향하고, 또한 N극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 바깥쪽으로 향한다.
도 15A에서는, 제4의 승강 자석(334)이 하 위치에 있는 상태를 나타내고, 도 15B에서는, 제4의 승강 자석(334)이 상 위치에 있는 상태를 나타낸다. 제4의 승강 자석(334)과 제2의 구동용 자석(312)의 둘레 방향 Y위치가 맞춰져 있는 상태여도, 도 15A에 나타내는 바와 같이, 제4의 승강 자석(334)이 하 위치에 있는 상태에서는, 제4의 승강 자석(334)으로부터의 자력이 제2의 구동용 자석(312)에 작용하지 않는다. 그 때문에, 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)는, 유지 위치에 위치하고 있다. 이 상태로, 제2의 구동용 자석(312)은, 예를 들어, S극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 안쪽으로 향하고, 또한 N극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 바깥쪽으로 향하도록 배치되어 있다.
도 15A에 나타내는 상태로부터, 제4의 승강 자석(334)을 상승시켜, 상 위치에 배치한다. 제4의 승강 자석(334)의 상면이 제2의 구동용 자석(312)에 접근함으로써, 제2의 구동용 자석(312)에 흡인 자력이 발생하여, 제2의 구동용 자석(312)과 제4의 승강 자석(334)의 사이에 흡인력이 발생한다. 제4의 승강 자석(334)이 상 위치에 배치된 상태에 있어서, 제2의 구동용 자석(312)에 작용하는 흡인 자력의 크기는, 제2의 탄성 가압용 자석(314)로부터의 흡인 자력을 크게 상회하고 있고, 이것에 의해서, 제2의 지지부(52)가 회전축선 A1에 가까워진 유지 위치로부터, 회전축선 A1(도 12 참조)로부터 이반한 개방 위치로 이동한다. 이것에 의해서, 제2의 지지부(52)가 개방 위치로 탄성 가압된다. 이 상태에서는, 도 15B에 나타내는 바와 같이, 제2의 구동용 자석(312)은, 예를 들어 N극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 안쪽으로 향하고, 또한 S극이 스핀 베이스(8)의 경 방향의 바깥쪽으로 향한다.
도 16A~16C 및 도 17A~17C는, 제1의 가동 핀(10A) 및 제2의 가동 핀(10B)의 상태를 나타내는 모식적인 도이다. 도 16A, 16B, 17A, 17B에는, 제3 및 제4의 승강 자석(333, 334)의 상태를 나타내고 있고, 도 16C 및 도 17C에는, 각 가동 핀(10)의 지지부(제1의 지지부(42) 및 제2의 지지부(52))의 개폐 상황을 나타내고 있다.
제3 및 제4의 승강 자석(333, 334)은, 스핀 베이스(8)의 둘레 방향으로 60°의 등간격으로 배치되어 있고, 또, 가동 핀(10)도 60°등간격으로 배치되어 있다. 따라서, 도 16A 및 도 17A에 나타내는 바와 같이, 각 제3의 승강 자석(333)과 각 제1의 구동용 자석(311)의 각도 위치가 맞춰지고, 또한 각 제4의 승강 자석(334)과, 각 제2의 구동용 자석(312)의 각도 위치가 맞춰지는 초기 상태를 만들어 낼 수 있다.
도 16A~16C에서는, 제3의 승강 자석(333)을 상 위치에 배치하고 또한 제4의 승강 자석(334)을 하 위치에 배치한 상태를 나타낸다. 이 경우, 도 16A에 나타내는, 스핀 베이스(8)가 상기 초기 상태에 있고 또한 정지(靜止)하고 있는 상태에서는, 3개의 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)는 개방 위치(open)에 배치되고, 또한 3개의 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)는 유지 위치(close)에 배치된다.
도 16A에 나타내는 상태로부터, 스핀 베이스(8)를 회전시킨 상태를 생각한다. 스핀 베이스(8)의 회전 속도는 액처리 속도(수십~천수백rpm의 범위내에서, 예를 들어 약 1000rpm)로 한다. 스핀 베이스(8)의 회전 상태에서는, 스핀 베이스(8)의 회전에 수반하여 회전하는 제1 및 제2의 구동용 자석(311, 312)이 통과하는 환상 영역을 따라서, 자계 발생 영역(315)(도 16B 참조)이 형성된다. 이 자계 발생 영역(315)의 둘레 방향 Y 길이(각도)는, 대응하는 제3의 승강 자석(333)의 둘레 방향 길이(각도)보다 길어진다. 제3의 승강 자석(333)의 둘레 방향 길이(각도)가 약 50~55°이며, 또한, 제3의 승강 자석(333)이 스핀 베이스(8)의 둘레 방향 Y로 3개 설치되어 있으므로, 기판 W를 액처리 속도로 회전시켰을 때에는, 스핀 베이스(8)의 회전에 수반하여 회전하는 제1 및 제2의 구동용 자석(311, 312)이 통과하는 환상 영역을 따라서, 전체 둘레 환상의 자계 발생 영역(315)(도 16B 참조)이 형성된다.
자계 발생 영역(315)(도 16B 참조)이 전체 둘레 환상을 이루고 있으므로, 스핀 베이스(8)의 회전 자세에 의존하지 않고, 제3의 승강 자석(333)으로부터의 흡인 자력이 제1의 구동용 자석(311)에 작용한다. 그 때문에, 스핀 베이스(8)의 회전 상태에 있어서, 도 16C에 나타내는 바와 같이, 3개의 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)는 개방 위치(open)에 배치된다. 3개의 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)는, 물론 유지 위치(close)에 배치된다. 이 때, 기판 W는, 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서 지지되어, 양호하게 회전된다. 또, 도 16C에서는, 제1의 지지부(42)가, 제1 및 제2의 개방 위치 P6, P7 중 어느 한 쪽에 배치되고(도 7A를 아울러 참조), 또, 제2의 지지부(52)가, 제3 및 제4의 유지 위치 P11, P12 중 어느 한 쪽에 배치된다(도 7B를 아울러 참조). 도 16C에서는, 제1 및 제2의 지지부(42, 52)가 배치될 수 있는 위치를 태선으로 나타내고 있다.
도 17A~17C에서는, 제4의 승강 자석(334)을 상 위치에 배치하고 또한 제3의 승강 자석(333)을 하 위치에 배치한 상태를 나타낸다. 이 경우, 도 17A에 나타내는, 스핀 베이스(8)가 상기 초기 상태에 있고 또한 정지하고 있는 상태에서는, 3개의 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)는 개방 위치(open)에 배치되고, 또한 3개의 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)는 유지 위치(close)에 배치된다.
도 17A에 나타내는 상태로부터, 스핀 베이스(8)를 회전시킨 상태를 생각한다. 스핀 베이스(8)의 회전 속도는, 액처리 속도(수십~천수백rpm의 범위내에서, 예를 들어 약 1000rpm)로 한다. 스핀 베이스(8)의 회전 상태에서는, 스핀 베이스(8)의 회전에 수반하여 회전하는 제1 및 제2의 구동용 자석(311, 312)이 통과하는 환상 영역을 따라서, 자계 발생 영역(316)(도 17B 참조)이 형성된다. 이 자계 발생 영역(316)의 둘레 방향 Y 길이(각도)는, 대응하는 제4의 승강 자석(334)의 둘레 방향 길이(각도)보다 길어진다. 제4의 승강 자석(334)의 둘레 방향 길이(각도)가 약 50~55°이며, 또한, 제4의 승강 자석(334)이 스핀 베이스(8)의 둘레 방향 Y로 3개 설치되어 있으므로, 기판 W를 액처리 속도로 회전시켰을 때에는, 스핀 베이스(8)의 회전에 수반하여 회전하는 제1 및 제2의 구동용 자석(311, 312)이 통과하는 환상 영역을 따라서, 전체 둘레 환상의 자계 발생 영역(316)(도 17B 참조)이 형성된다.
자계 발생 영역(316)(도 17B 참조)이 전체 둘레 환상을 이루고 있으므로, 스핀 베이스(8)의 회전 자세에 의존하지 않고, 제4의 승강 자석(334)으로부터의 흡인 자력이 제2의 구동용 자석(312)에 작용한다. 그 때문에, 스핀 베이스(8)의 회전 상태에 있어서, 도 17C에 나타내는 바와 같이, 3개의 제2의 가동 핀(10B)의 제2의 지지부(52)는 개방 위치(open)에 배치된다. 3개의 제1의 가동 핀(10A)의 제1의 지지부(42)는, 물론 유지 위치(close)에 배치된다. 이 때, 기판 W는, 3개의 제1의 가동 핀(10A)에 의해서 지지되어, 양호하게 회전된다. 또, 도 17C에서는, 제2의 지지부(52)가, 제3 및 제4의 개방 위치 P16, P17 중 어느 한 쪽에 배치되고(도 7B를 아울러 참조), 또, 제1의 지지부(42)가, 제1 및 제2의 유지 위치 P1, P2 중 어느 한 쪽에 배치된다(도 7A를 아울러 참조). 도 17C에서는, 제1 및 제2의 지지부(42, 52)가 배치될 수 있는 위치를 태선으로 나타내고 있다.
이와 같이, 기판 W의 회전 상태에 있어서, 제3의 승강 자석(333)을 상 위치에 배치하고 또한 제4의 승강 자석(334)을 하 위치에 배치한 상태(도 16A~16C 참조)로 함으로써, 3개의 제2의 가동 핀(10B)에 의해서만 기판 W가 지지되어 있는 상태를 실현할 수 있다. 또, 제4의 승강 자석(334)을 상 위치에 배치하고 또한 제3의 승강 자석(333)을 하 위치에 배치한 상태(도 17A~17C 참조)로 함으로써, 3개의 제1의 가동 핀(10A)에 의해서만 기판 W가 지지되어 있는 상태를 전환할 수 있다.
도 18은, 기판 처리 장치(301)의 주요부의 전기적 구성을 설명하기 위한 블럭도이다. 제어 장치(3)에는, 제어 대상으로서, 제3의 승강 유닛(335), 제4의 승강 유닛(336) 등이 더 접속되어 있다. 제어 장치(3)는, 미리 정해진 프로그램에 따라서, 제3의 승강 유닛(335), 제4의 승강 유닛(336) 등의 동작을 더 제어한다.
제3의 실시 형태에 따른 스핀 척(305)에서는, 제1의 가동 핀(10A) 및 제2의 가동 핀(10B)의 회전축선 A1 둘레의 회전 중에, 3개의 제1의 가동 핀(10A)과, 3개의 제2의 가동 핀(10B)을 개별적으로 개폐시키는 것이 가능하다.
또한, 각 제1의 가동 핀(10A)이 스핀 베이스(8)에 대해서 제1의 둘레 방향 위치 P51(도 7A 참조)로부터 제2의 둘레 방향 위치 P52(도 7A 참조)에 도달하는 어느 위치에 있는 경우여도, 각 제1의 가동 핀(10A)을 개폐시키는 것이 가능하다. 또, 각 제2의 가동 핀(10B)이 스핀 베이스(8)에 대해서 제3의 둘레 방향 위치 P53(도 7B 참조)으로부터 제4의 둘레 방향 위치 P54(도 7B 참조)에 도달하는 어느 위치에 있는 경우여도, 각 제2의 가동 핀(10B)을 개폐시키는 것이 가능하다.
제3의 실시 형태에 따른 처리 유닛에서는, 도 9에 나타내는 처리와 동일한 처리가 실행된다. 약액 처리 공정(도 9의 S4) 및 린스액 처리 공정(도 9의 S5)에 있어서는, 기판 W를, 스핀 베이스(8)에 대해서 회동시키는 기판 회동 공정(도 10A~도 10F 참조)이 실행된다.
이상, 이 발명의 3개의 실시 형태에 대해서 설명했지만, 이 발명은 또 다른 형태로 실시할 수 있다.
예를 들어, 제1 및 제3의 실시 형태에 있어서, 기판 회동 공정으로서, 도 11A~11F에 나타내는 공정을 실행하도록 해도 된다. 즉, 제1의 가동 핀(10A)을 이용한 기판 회동 공정 및 제2의 가동 핀(10B)을 이용한 기판 회동 공정의 쌍방을 실행하는 것이 아니고, 제1의 가동 핀(10A)을 이용한 기판 회동 공정 및 제2의 가동 핀(10B)을 이용한 기판 회동 공정의 한쪽만을 실행하도록 해도 된다.
또, 제2의 실시 형태와 제3의 실시 형태를 조합해도 된다. 이 경우, 제2의 핀 지지 부재(21)가, 스핀 베이스(8)에 대해서 상대 회동 불가능하게 설치되고, 그 때문에, 제2의 가동 핀(10B)이, 스핀 베이스(8)에 대해서 상대 회동 불가능하게 설치되어 있다. 제2의 핀 지지 부재(21)가 스핀 베이스(8)에 대해서 회동하지 않기 때문에, 제2의 회동 유닛(27)도 설치되어 있지 않다. 이 경우, 기판 회동 공정으로서, 도 11A~11F에 나타내는 공정이 실행된다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 기판 회동 공정이, 약액 처리 공정(S4) 및 린스액 처리 공정(S5)의 쌍방이 아니고, 약액 처리 공정(S4) 및 린스액 처리 공정(S5)의 한쪽(예를 들어 약액 처리 공정(S4))만에 있어서 행해지도록 되어 있어도 된다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 약액 처리 공정(S4) 및/또는 린스액 처리 공정(S5)에 있어서 행해지는 기판 회동 공정은, 연속해서 복수회 행해지도록 되어 있어도 된다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 기판 회동 공정에 있어서의 기판 W의 회동 방향을, 약액 처리 공정(S4) 및 린스액 처리 공정(S5)에 있어서의 기판 W의 회전 방향과 역방향이 아니고, 약액 처리 공정 및 린스액 처리 공정에 있어서의 기판 W의 회전 방향과 동일 방향으로 해도 된다.
또, 제2의 실시 형태에 있어서, 제2의 핀 지지 부재(21)가 아니고, 제1의 핀 지지 부재(16)가 스핀 베이스(8)에 대해서 상대 회동 불가능하게 설치되어 있어도 된다. 즉, 제2의 가동 핀(10B)이 둘레 방향 Y로 이동하지 않고, 제1의 가동 핀(10A)이 둘레 방향 Y로 이동하는 것으로서 설명했지만, 반대로, 제1의 가동 핀(10A)이 둘레 방향 Y로 이동하지 않고, 제2의 가동 핀(10B)이 둘레 방향 Y로 이동하는 구성이어도 된다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 제1 및 제2의 가동 핀(10A, 10B)을, 3대(합계 6개) 설치하는 구성을 예로 들어 설명했지만, 제1 및 제2의 가동 핀(10A, 10B)은 4쌍 이상 설치되어 있어도 된다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 스핀 척(5, 305)에 유지되어 있는 기판 W의 하면에 처리액(약액 또는 린스액)을 공급하는 것이어도 된다. 이 경우, 기판 W의 주연부에 있어서의 기판 지지 위치에 있어서 기판 W의 하면으로부터 기판 W의 상면으로 돌아들어가는 것을 허용함으로써, 기판 W의 주연부를, 처리액을 이용하여 처리가 안되는 부분 없이 양호하게 처리할 수 있다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 스핀 척(5, 305)에 있어서, 가동 핀(제1 및/또는 제2의 가동 핀(10A, 10B))이 둘레 방향 Y로 움직이지 않고, 지지부(제1의 지지부(42) 및/또는 제2의 지지부(52))만이 이동하는 구성이어도 된다.
또, 각 가동 핀(10)의 개방 위치로서 2개(제1 및 제2의 개방 위치 P6, P7, 또는 제3 및 제4의 개방 위치 P16, P17) 설치하도록 했지만, 각 가동 핀(10)의 개방 위치로서 1개만이 설치되게 되어 있어도 된다.
또, 제1~제3의 실시 형태에 있어서, 기판 회동 공정을, 스핀 드라이(도 9의 단계 S6)에 있어서 행하도록 해도 된다. 기판 회동 공정은, 제1의 가동 핀(10A)과 제2의 가동 핀(10B)의 사이에서의 기판 W의 바꿈 동작을 포함하기 때문에, 기판 W를 2천rpm 이상으로 회전시키는 스핀 드라이(S6)에 있어서 기판 회동 공정을 행함으로써, 제1의 가동 핀(10A) 및 제2의 가동 핀(10B)에 있어서의 액잔사를 해소할 수 있다.
제1~제3의 실시 형태에 있어서, 기판 회동 공정을, 기판 W가 회전하고 있는 동안에 행하는 것으로서 설명했지만, 기판 W가 회전 정지하고 있는 동안에 기판 회동 공정이 실행되게 되어 있어도 된다.
또, 기판 처리 장치(1, 301)가 원판 형상의 반도체 기판을 처리하는 장치인 경우에 대해서 설명했지만, 기판 처리 장치(1, 301)는, 액정표시장치용 유리 기판 등의 다각형의 기판을 처리하는 장치여도 된다.
그 외, 특허 청구의 범위에 기재된 사항의 범위에서 여러 가지의 설계 변경을 실시하는 것이 가능하다.
본 발명의 실시 형태에 대해서 상세하게 설명해 왔지만, 이들은 본 발명의 기술적 내용을 분명히 하기 위해서 이용된 구체예에 지나지 않고, 본 발명은 이러한 구체예에 한정해서 해석되어야 하는 것이 아니고, 본 발명의 범위는 첨부의 청구의 범위에 의해서만 한정된다.
이 출원은, 2017년 3월 24일에 일본 특허청에 제출된 특원 2017-60022호에 대응하고 있고, 이 출원의 전체 개시는 여기에 인용에 의해서 편입되는 것으로 한다.

Claims (21)

  1. 기판을 수평으로 유지하면서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선 둘레로 회전시키는 기판 유지 회전 장치로서,
    상기 회전축선을 중심으로 하는 원주를 따라서 늘어놓아진 복수의 가동 핀으로서, 기판의 주연부에 접촉해 기판을 지지하는 지지부를 갖는 가동 핀과,
    상기 복수의 가동 핀을, 상기 회전축선 둘레로 회전시키는 회전 유닛을 포함하고,
    상기 복수의 가동 핀은, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제1의 핀군과, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제2의 핀군을 포함하고,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치로서 상기 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치와, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치로서, 상기 회전축선에 가까워지고 또한 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제1 및 제2의 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 회전축선에 가까워진 상기 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고,
    상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제1의 유지 위치와 상기 제2의 유지 위치의 사이에서 둘레 방향 이동시키는 제1의 이동 유닛을 더 포함하는, 기판 유지 회전 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1의 이동 유닛은, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을, 제1의 둘레 방향 위치와, 상기 제1의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격한 제2의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 유닛을 포함하고,
    상기 제1의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제1의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이며, 상기 제2의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제2의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치인, 기판 유지 회전 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 기판 유지 회전 장치는,
    상기 회전 유닛이 연결된 스핀 베이스와,
    상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게, 또한 상기 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을 지지하는 핀 지지 부재를 더 포함하고, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀은, 상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게 설치되어 있으며,
    상기 제1의 둘레 방향 이동 유닛은, 상기 핀 지지 부재를, 상기 스핀 베이스에 대해서 상기 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 회동 유닛을 포함하는, 기판 유지 회전 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고,
    상기 기판 유지 회전 장치는,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치와 상기 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 이동 유닛과,
    상기 제1의 이동 유닛 및 상기 제2의 이동 유닛을 제어하기 위한 제어 장치를 더 포함하고,
    상기 제어 장치가, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 개방 위치에 있는 상태로, 상기 제1의 이동 유닛에 의해서, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제1의 유지 위치로부터 상기 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제2의 이동 유닛에 의해서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 유지 위치로 이동시키는 제1의 이동 공정을 실행하는, 기판 유지 회전 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 제어 장치는, 상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과, 상기 제2의 이동 공정 후에, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 실행하는, 기판 유지 회전 장치.
  6. 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,
    상기 제어 장치는, 상기 제1 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 개시에 앞서, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제4의 이동 공정을 더 실행하는, 기판 유지 회전 장치.
  7. 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,
    상기 제어 장치는, 상기 회전 유닛을 제어하여, 상기 복수의 가동 핀을, 상기 회전축선 둘레로 회전시키는 회전 공정을 더 실행하고,
    상기 제어 장치는, 상기 회전 공정에 병행해, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정 및 상기 제1의 이동 공정을 실행하는, 기판 유지 회전 장치.
  8. 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 유지 위치에 포함되는 소정의 제3의 유지 위치와, 상기 유지 위치에 포함되고, 또한 상기 제3의 유지 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격하는 제4의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제3 및 제4의 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고,
    상기 기판 유지 회전 장치는,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제3의 유지 위치와 상기 제4의 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제3의 이동 유닛과,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치와 상기 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제4의 이동 유닛을 더 포함하고,
    상기 제어 장치는, 상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제4의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과, 상기 제2의 이동 공정 후, 상기 제3의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제3의 유지 위치로부터 상기 제4의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제2의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제2의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 이동 유닛을 제어하여, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 실행하는, 기판 유지 회전 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제2의 이동 유닛은,
    상기 회전축선 둘레로 원환을 이루는 제1의 환상 자석과,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제1의 구동용 자석을 갖고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를 상기 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 전환하는 제1의 전환 기구와,
    상기 제1의 환상 자석의 하방에 대향하며, 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖는 제1의 승강 자석과,
    상기 제1의 승강 자석을, 당해 제1의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제1의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제1의 승강 유닛을 포함하고,
    상기 제4의 이동 유닛은,
    상기 회전축선 둘레로 원환을 이루는 제2의 환상 자석과,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제2의 구동용 자석을 갖고, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를 상기 유지 위치와 상기 개방 위치의 사이에서 전환하는 제2의 전환 기구와,
    상기 제2의 환상 자석의 하방에 대향하며, 상기 제2의 환상 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖는 제2의 승강 자석과,
    상기 제2의 승강 자석을, 당해 제2의 승강 자석이 상기 제2의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제2의 승강 자석이 상기 제2의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제2의 승강 유닛을 포함하는, 기판 유지 회전 장치.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 제2의 이동 유닛은,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 한쪽으로 탄성 가압하는 제1의 탄성 가압 유닛과,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제1의 구동용 자석으로서, 서로 동일한 자극 방향을 갖는 제1의 구동용 자석과,
    상기 회전축선을 따르는 축선에 직교하는 방향에 관해 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖고, 당해 반발력 또는 당해 흡인력에 의해서, 상기 제1의 핀군의 상기 지지부를 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 다른쪽으로 탄성 가압하는 제3의 승강 자석과,
    상기 제3의 승강 자석을, 당해 제3의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제3의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제1의 승강 이동 유닛을 포함하고,
    상기 제4의 이동 유닛은,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 한쪽으로 탄성 가압하는 제2의 탄성 가압 유닛과,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 동반 회전 가능하게 설치된 제2의 구동용 자석으로서, 상기 제1의 구동용 자석과는 반대의, 서로 동일한 자극 방향을 갖는 제2의 구동용 자석과,
    상기 회전축선을 따르는 축선에 직교하는 방향에 관해 상기 제2의 구동용 자석과의 사이에 반발력 또는 흡인력을 부여하는 자극 방향을 갖고, 당해 반발력 또는 당해 흡인력에 의해서, 상기 제2의 핀군의 상기 지지부를 상기 개방 위치 및 상기 유지 위치의 다른쪽으로 탄성 가압하는 제4의 승강 자석과,
    상기 제4의 승강 자석을, 당해 제4의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 상기 반발력 또는 상기 흡인력을 부여하는 상 위치와, 상기 제4의 승강 자석이 상기 제1의 구동용 자석과의 사이에 부여하는 상기 반발력 또는 상기 흡인력이 상 위치의 경우보다 작은 하 위치의 사이에서 승강시키는 제2의 승강 이동 유닛을 포함하는, 기판 유지 회전 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 제3의 승강 자석 및 상기 제4의 승강 자석은, 각각, 서로 동수의 복수개 설치되어 있고,
    복수의 상기 제3의 승강 자석 및 복수의 상기 제4의 승강 자석은, 기판의 회전 방향에 관해 교호로, 또한 전체적으로 상기 회전축선과 동축의 원환 형상을 이루도록 배치되어 있는, 기판 유지 회전 장치.
  12. 청구항 8에 있어서,
    상기 제3의 이동 유닛은, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을, 제3의 둘레 방향 위치와, 상기 제3의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격한 제4의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 둘레 방향 이동 유닛을 포함하고,
    상기 제3의 유지 위치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제3의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이며, 상기 제4의 유지 위치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제4의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치인, 기판 유지 회전 장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 기판 유지 회전 장치는,
    상기 회전 유닛이 연결된 스핀 베이스와,
    상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게, 또한 상기 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을 지지하는 제1의 핀 지지 부재와,
    상기 스핀 베이스와 동반 회전 가능하게, 또한 상기 스핀 베이스에 대해서 상대 회동 가능하게 설치되고, 상기 제1의 핀 지지 부재와는 별도의 부재이며, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을 지지하는 제2의 핀 지지 부재를 더 포함하고,
    상기 제1의 이동 유닛은, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀을, 제1의 둘레 방향 위치와, 상기 제1의 둘레 방향 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격한 제2의 둘레 방향 위치의 사이에서 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 유닛을 포함하고,
    상기 제1의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제1의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이며, 상기 제2의 유지 위치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 제2의 둘레 방향 위치에 있을 때의 상기 지지부의 상기 유지 위치이고,
    상기 제1의 둘레 방향 이동 유닛은, 상기 제1의 핀 지지 부재를 상기 스핀 베이스에 대해서 상기 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 제1의 회동 유닛 및 상기 제2의 핀 지지 부재를 상기 스핀 베이스에 대해서 상기 회전축선 둘레로 상대 회동시키는 제2의 회동 유닛 중 한쪽을 포함하고,
    상기 제2의 둘레 방향 이동 유닛은, 상기 제1의 회동 유닛 및 상기 제2의 회동 유닛 중 다른쪽을 포함하는, 기판 유지 회전 장치.
  14. 기판을 수평으로 유지하면서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선 둘레로 회전시키는 기판 유지 회전 장치로서, 상기 회전축선을 중심으로 하는 원주를 따라서 늘어놓아진 복수의 가동 핀으로서, 기판의 주연부에 접촉해 기판을 지지하는 지지부를 갖는 가동 핀과, 상기 복수의 가동 핀을, 상기 회전축선 둘레로 회전시키는 회전 유닛을 포함하고, 상기 복수의 가동 핀은, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제1의 핀군과, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제2의 핀군을 포함하고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치로서 상기 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치와, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치로서, 상기 회전축선에 가까워지고 또한 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 제1 및 제2의 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 회전축선에 가까워진 상기 유지 위치와 상기 회전축선으로부터 떨어진 먼 상기 개방 위치의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치를 유지하면서, 상기 제1의 유지 위치와 상기 제2의 유지 위치의 사이에서 둘레 방향 이동시키는 제1의 이동 유닛을 더 포함하는, 기판 유지 회전 장치와,
    상기 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판의 주면에, 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하는, 기판 처리 장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 회전 유닛 및 상기 처리액 공급 유닛을 제어하는 제어 장치를 더 포함하고,
    상기 제어 장치는, 상기 회전 유닛에 의해서, 상기 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판을 상기 회전축선 둘레로 회전시키면서, 상기 처리액 공급 유닛에 의해서, 당해 기판의 주면에 처리액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 처리액 처리 공정을 실행하는, 기판 처리 장치.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 상기 기판 유지 회전 장치는, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치와 상기 유지 위치의 사이에서 이동시키는 제2의 이동 유닛을 더 포함하고, 상기 제어 장치가, 상기 제1의 이동 유닛 및 상기 제2의 이동 유닛을 더 제어하는 것이며, 상기 제어 장치는, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀이 상기 개방 위치에 있는 상태로, 상기 제1의 이동 유닛에 의해서, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제1의 유지 위치로부터 상기 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제2의 이동 유닛에 의해서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 유지 위치로 이동시키는 제1의 이동 공정을, 상기 처리액 처리 공정에 병행해 실행하는, 기판 처리 장치.
  17. 기판을 수평으로 유지하면서, 연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선 둘레로 회전시키는 기판 유지 회전 장치로서,
    연직 방향을 따라서 연장되는 소정의 회전축선을 중심으로 하는 원주를 따라서 늘어놓아진 복수의 가동 핀으로서, 기판의 주연부에 접촉해 기판을 지지하는 지지부를 갖는 가동 핀을 포함하고, 상기 복수의 가동 핀은, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제1의 핀군과, 적어도 3개의 가동 핀을 포함하는 제2의 핀군을 포함하고, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 지지부가 유지 위치에 있고 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능하고, 또한 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 있고 또한 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 개방 위치에 있는 경우에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀에 의해서 기판을 지지하는 것이 가능한 기판 유지 회전 장치를 포함하는 기판 처리 장치에 있어서 실행되는 기판 처리 방법으로서,
    상기 기판 유지 회전 장치에 수평 자세로 기판을 유지시키는 기판 유지 공정과,
    상기 기판 유지 회전 장치에 유지되어 있는 기판을 상기 회전축선 둘레로 회전시키면서, 당해 기판의 주면에 처리액을 공급하여 상기 기판을 처리하는 처리액 처리 공정과,
    상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치에 포함되는 제1의 유지 위치로서 상기 회전축선에 가까워진 소정의 제1의 유지 위치로부터, 상기 유지 위치에 포함되는 제2의 유지 위치로서, 상기 회전축선에 가까워지고 또한 상기 제1의 유지 위치로부터 둘레 방향의 한쪽으로 이격하는 제2의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제1의 둘레 방향 이동 공정과,
    상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 유지 위치로 이동시키는 제1의 이동 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과,
    상기 제2의 이동 공정 후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  19. 청구항 17 또는 청구항 18에 있어서,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 제1 및 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부가 상기 유지 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 상기 제1의 둘레 방향 이동 공정의 개시에 앞서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제4의 이동 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  20. 청구항 17 또는 청구항 18에 있어서,
    상기 기판 유지 회전 장치에 있어서, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부는, 상기 유지 위치에 포함되는 소정의 제3의 유지 위치와 상기 유지 위치 중 상기 제3의 유지 위치로부터 둘레 방향의 상기 한쪽으로 이격하는 제4의 유지 위치의 사이에서 이동 가능하게, 또한 상기 개방 위치와의 사이에서 이동 가능하게 설치되어 있고,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 제1의 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제2의 유지 위치로부터 상기 개방 위치로 이동시키는 제2의 이동 공정과,
    상기 제2의 이동 공정 후, 상기 제2의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 제3의 유지 위치로부터 상기 제4의 유지 위치로 둘레 방향 이동시키는 제2의 둘레 방향 이동 공정과, 상기 제2의 둘레 방향 이동 공정의 종료 이후에, 상기 제1의 핀군에 포함되는 각 가동 핀의 상기 지지부를, 상기 개방 위치로부터 상기 제1의 유지 위치로 이동시키는 제3의 이동 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  21. 청구항 17 또는 청구항 18에 있어서,
    상기 제1의 둘레 방향 이동 공정 및 제1의 이동 공정은, 상기 처리액 처리 공정에 병행해 실행되는, 기판 처리 방법.
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