KR20180101511A - 광학 적층체의 제조 방법 - Google Patents

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KR20180101511A
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다이스케 마츠모토
레이 고우
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 편광판의 접합면에 큰 기포가 맞물려 들어감으로 인한 광학 적층체의 품질 저하를 막아, 광학 적층체를 효율적으로 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
적어도 보호 필름과 제1 점착제층과 편광판을 갖는 광학 적층체의 제조 방법으로서, 상기 보호 필름과 상기 제1 점착제층과 상기 편광판을 접합하여 광학 적층체의 전구체를 제작하는 공정 및 상기 광학 적층체의 전구체를 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법.

Description

광학 적층체의 제조 방법
본 발명은 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
편광판을 갖는 광학 적층체는, 노트북 PC, 휴대전화 등의 모바일 기기나 대형 텔레비전 등의 액정 표시 장치에 있어서의 편광의 공급 소자로서 또는 편광의 검출 소자로서 널리 이용되고 있다. 상기 광학 적층체는, 예컨대 액정 표시 장치의 제조 시에 그 표면을 보호할 목적으로 상기 편광판과 점착제층과 보호 필름이 접합되어 있다. 또한, 예컨대, 상기 편광판과 보호 필름의 사이에는, 필요에 따라서 광학 필름, 예컨대 휘도 향상 필름 등의 기능성 필름이 점착제층을 통해 접합되어 있다. 이와 같이 하여 제조된 광학 적층체는, 액정 패널에 추가 점착제층을 통해 점착되어, 액정 표시 장치의 구성 부품으로 된다.
이러한 광학 적층체에 이용하는 점착제층은 예컨대 편광판에 점착제를 도포함으로써 형성된다(예컨대 특허문헌 1).
또한, 재접합이 가능한 재박리성 양면 점착 시트를 이용하여 편광판과 그 밖의 광학 부재 및 보호 필름 등을 접합하는 기술이 제안되어 있다(예컨대 특허문헌 2).
특허문헌 1: 일본 특허공개 평11-337730호 공보 특허문헌 2: 일본 특허공개 2010-180367호 공보
그러나, 특허문헌 1에 기재된 편광판과 같이, 점착제층을 통해 필름끼리를 접합하여 이루어지는 광학 적층체에서는, 예컨대 편광판과 점착제층의 접합면에 기포가 맞물려 들어간다고 하는 문제가 생길 수 있다.
예컨대, 편광판과 보호 필름을 접합할 때에, 접합면에 존재하는 기포가 점착제층 등에 맞물려 들어감으로써, 편광판과 점착제층의 접합면에 기포가 맞들려 들어갈 수 있다. 또한, 접합면에 먼지, 금속 가루 등의 이물이 부착되어 있으면, 편광판과 보호 필름을 접합했을 때에, 이물이 존재하고 있는 부분의 보호 필름, 편광판이 주위보다도 부상되고, 그 결과, 이물의 주위에 기포가 맞물려 들어간 상태가 되는 경우가 있다.
특히 최근 액정 표시 장치의 박육경량화 요구 때문에, 편광판의 두께를 얇게 하기 위해서, 예컨대 점착제층의 두께를 종래보다도 얇게 할 것이 요구되고 있다. 점착제층의 두께를 종래보다도 얇게 하면, 이물의 부착에 의한 기포의 맞물림이 종래의 점착제층보다도 한층 더 현저하게 인식되게 된다.
구체적으로는, 종래의 두께의 점착제층에서는, 어느 정도 크기의 이물은 점착제층에 매몰되기 때문에 이물의 부착에 의한 기포의 맞물림 문제는 그다지 생기지 않는다. 또한, 기포가 맞물려 들어갔다고 해도 기포 사이즈는 그다지 크지 않다. 이에 대하여, 점착제층의 두께를 종래보다도 얇게 하면, 종래에는 문제가 되지 않은 크기의 이물이라도 그 크기가 점착제층의 두께보다도 상대적으로 커져 점착제층에 매몰되지 않는다. 그 결과, 이물에 의한 기포 맞물림이 생길 우려가 종래보다도 높아지고, 또한 생기는 기포 사이즈는 종래보다도 커진다.
한편, 특허문헌 2에 기재된 재접착 가능한 재박리성 양면 점착 시트와 같이, 점착제층을 재박리하여 재접합함으로써 기포 및 이물을 제거하는 것이 제안되어 있다. 그러나, 재접합 가능한 점착제층은, 재박리할 수 없는 점착제층과 비교하여, 점착력, 내열성, 방습성 등의 물성이 뒤떨어질 수 있다. 이 때문에, 재박리성의 점착제층을 액정 표시 장치 등에 이용하여 고온 조건 하에 노출된 경우, 이 점착제층에 기인한 광학적인 결점이 생길 수 있다. 또한, 재박리 시에 새로운 이물의 부착 및 기포의 맞물림이 생길 수 있다.
이와 같이, 예컨대 편광판의 접합면에 큰 기포가 맞물려 들어가면, 편광판, 나아가서는 광학 적층체의 품질이 저하한다. 그 결과로서 광학 적층체의 생산성이나 수율이 감소(불량율이 증가)된다고 하는 문제점이 생길 수 있다.
본 발명은 상기한 과제에 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 예컨대 편광판의 접합면에 큰 기포가 맞물려 들어감으로 인한 광학 적층체의 품질 저하를 막아, 광학 적층체를 효율적으로 제조하는 방법을 제공하는 데에 있다.
본 발명은 이하를 포함한다.
[1] 적어도, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판을 갖는 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 보호 필름과 상기 제1 점착제층과 상기 편광판을 접합하여 광학 적층체의 전구체를 제작하는 공정, 및
상기 광학 적층체의 전구체를, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정
을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
[2] 상기 광학 적층체가 기능성 필름과 제2 점착제층을 추가로 갖는 [1]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 기능성 필름과 상기 제2 점착제층을 접합시키는 공정, 및
상기 제2 점착제층을, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정
을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
[3] 상기 광학 적층체가 제3 점착제층 및 박리지를 추가로 갖는 [1] 또는 [2]에 기재한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
제3 점착제층과 박리지를 접합시키는 공정, 및
상기 제3 점착제층을, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정
을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
[4] 상기 광학 적층체의 두께가 200 ㎛ 이하인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.
[5] 상기 편광판의 두께가 10∼65 ㎛ 이하인 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.
[6] 보호 필름의 두께가 100 ㎛ 이하인 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재한 광학 적층체의 제조 방법.
본 발명의 제조 방법은, 광학 적층체의 제조 시에 생길 수 있는 기포의 사이즈를 효율적으로 축소할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기포의 사이즈를 계산하는 방법을 설명하는 도면이다.
도 3은 광학 적층체의 단면도와 휨량의 관계를 도시하는 개략도이다.
도 4(a)는 관찰된 기포를 도시하고, 도 4(b)는 본 발명의 제조 방법에 의해 기포가 제거된 것을 도시한 도면이다.
이하, 본 발명에 따른 제조 방법에 관해서 적절하게 도면을 이용하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시양태에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서 중에 기재된 학술문헌 및 특허문헌 모두가 본 명세서에 있어서 참고로서 원용된다.
본 발명에 있어서의 제조 방법은, 적어도, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판을 갖는 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 보호 필름과 상기 제1 점착제층과 상기 편광판을 접합하여 광학 적층체의 전구체를 제작하는 공정, 및
상기 광학 적층체의 전구체를, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정(이하, 「전구체의 후처리 공정」 또는 「제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정」이라고도 한다)
을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 제1 점착제층에 존재하는 기포의 사이즈를 효과적으로 축소할 수 있고, 기포를 효과적으로 제거할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서, 압력 단위가 「MPaG」로 표시되는 경우, 그 압력은, 특별히 지정이 없는 한, 게이지압을 의미한다.
또한, 얻어진 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화량에 관해서도 억제할 수 있다.
본 발명에 있어서의 광학 적층체는, 적어도 보호 필름과 제1 점착제층과 편광판을 가지고, 예컨대 보호 필름과 제1 점착제층과 편광판이 이 순서로 적층되어 있다. 본 발명은, 상기 보호 필름과 상기 제1 점착제층과 상기 편광판을 접합하여, 광학 적층체의 전구체를 제작하는 공정, 및 광학 적층체의 전구체를 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정을 포함한다.
보호 필름과 상기 제1 점착제층과 상기 편광판을 접합하여 광학 적층체의 전구체를 제작하는 공정은 해당 기술 분야에서 이미 알려진 방법을 사용할 수 있다. 예컨대, 보호 필름과 제1 점착제층을 접합하고, 그 후, 제1 점착제층에 있어서의 보호 필름과는 반대쪽의 면과 편광판을 접합하여도 좋다. 혹은, 편광판과 제1 점착제층을 접합하고, 그 후, 제1 점착제층에 있어서의 편광판과는 반대쪽의 면과 보호 필름을 접합하여도 좋다.
본 발명은, 광학 적층체의 전구체를, 50℃ 미만의 온도, 예컨대 10∼40℃의 온도, 다른 예에서는 15∼30℃의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 가압 분위기 중, 예컨대 0.2∼0.7 MPaG의 가압 분위기 중, 다른 예에서는 0.2∼0.6 MPaG의 분위기 중에 배치함으로써, 제1 점착제층에 있어서의 기포를 축소하거나 또는 제거할 수 있다.
이들 온도 범위 및 압력 범위인 한, 온도와 압력의 조합은 한정되지 않는다. 예컨대, 온도가 15∼30℃인 경우, 압력은 0.2∼0.5 MPaG라도 좋다. 예컨대, 온도는, 상기 범위에 더하여, 10∼45℃라도 좋고, 30℃ 초과∼50℃ 미만이라도 좋고, 35℃∼45℃라도 좋다.
또한, 가압 분위기는, 상기 범위에 더하여, 0.3∼0.6 MPaG, 0.35∼0.55 MPaG의 범위라도 좋다.
압력이 높을수록 기포를 축소하는 효과는 높아진다. 가압 처리의 안전성을 고려하면 압력은 0.7 MPaG 이하일 수 있다.
처리 온도의 하한치는 예컨대 -10℃ 이상이며, 어떤 양태에서는 5℃ 이상이다. 이러한 범위이면, 예컨대 제1 점착제층 등에 이용할 수 있는 점착제가 유동성을 유지하고 있기 때문에, 효율적으로 기포를 감소 및/또는 제거할 수 있다.
전구체의 후처리 공정에 드는 가압 시간은 예컨대 24시간 이하, 예컨대 1시간 이하이고, 특히 30분 이하이다. 이러한 범위에서 가압을 행함으로써, 기포의 제거를 효과적으로 행할 수 있고, 또한 광학 적층체의 수축을 예방할 수 있다. 또한, 얻어진 광학 적층체의 휨량이 현저히 커지는 것을 막을 수 있다.
예컨대 3∼30분에 걸쳐 처리를 행한다. 여기서, 본 명세서에 있어서 가압 시간이란, 특별히 기재가 없는 한, 가압의 시작에서부터 소정의 압력에 달하고, 그 후 일정한 압력을 유지한 시간의 합계이다. 또한, 압력을 단계적으로 증가시키더라도 좋고, 일정한 상승률로 압력을 증가시키더라도 좋다.
가압 후의 감압 시간은 부여한 압력, 온도 등에 따라서 적절하게 설정할 수 있다. 감압 시간은 예컨대 0.5∼30분, 다른 양태에서는 8∼30분이다. 예컨대, 가압 처리를 0.2∼0.7 MPaG의 범위, 상온(25℃)에서 행한 경우, 감압 시간은 5∼30분, 예컨대 8∼30분이라도 좋다. 다른 예에서는, 가압 처리를 0.2∼0.6 MPaG의 범위, 상온에서 행한 경우, 감압 시간은 8∼30분이라도 좋다.
이러한 조건으로 감압을 행함으로써, 기포 사이즈의 축소 및 기포 제거를 효과적으로 행할 수 있고, 또한 광학 적층체의 수축을 예방할 수 있다. 또한, 얻어진 광학 적층체의 휨량이 현저히 커지는 것을 막을 수 있다.
본 명세서에 있어서 감압 시간이란, 특별히 기재가 없는 한, 감압의 시작에서부터 상압에 달하기까지의 시간을 의미한다. 감압을 단계적으로 행하여도 좋고, 일정한 변화율로 압력을 저하시키더라도 좋다.
본 명세서에 있어서, 가압 처리의 압력을 0.2∼0.7 MPaG로 설정한다는 것은, 이러한 범위 내라면 임의의 값을 취할 수 있다는 것을 의미한다. 예컨대, 가압 처리의 압력은 0.3∼0.65 MPaG라도 좋고, 0.4∼0.6 MPaG라도 좋다. 또한, 기포 제거에 부쳐지는 점착제층의 두께, 점착제층의 수에 따라서, 이들 값을 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 적절하게 설정할 수 있다.
본 발명은, 전구체의 후처리 공정에 더하여, 필요에 따라서 광학 적층체의 전구체를 제작하기 전의 단계에서, 제1 점착제층에 존재하는 기포를 축소하거나 또는 제거하는 추가 공정(이하, 「전구체의 예비 처리 공정」이라고도 한다)을 포함하여도 좋다.
예컨대, 광학 적층체의 제조 방법은, 보호 필름과 제1 점착제층을 접합한 후, 전구체의 예비 처리 공정을 포함하고, 그 후, 전구체의 후처리 공정을 포함하여도 좋다.
제1 점착제층과 편광판을 접합한 후, 전구체의 후처리 공정을 포함하여도 좋다. 광학 적층체의 전구체를 제작하기 전의 단계에서, 전구체의 예비 처리 공정을 포함함으로써, 더욱 효과적으로 기포를 제거할 수 있다.
여기서, 제1 점착제층에 존재하는 기포는, 제1 점착제층과 인접하는 층과의 계면, 예컨대, 보호 필름과 제1 점착제층의 계면에 존재하는 기포라도 좋고, 제1 점착제층과 편광판과의 계면에 존재하는 기포라도 좋고, 제1 점착제층 내부에 존재하는 기포라도 좋고, 이들의 조합에 있어서 존재하는 기포라도 좋다. 또한, 이러한 예는, 제1 점착제층뿐만 아니라 후술하는 제2 점착제층 및 제3 점착제층에도 해당된다.
본 명세서에 있어서 기포를 축소한다는 것은, 점착제층에 맞물려 들어간 기포의 사이즈를 작게 하는 것이다. 기포의 축소 및 제거가 행해지는 메카니즘은, 이 설에 한정되지 않지만, 예컨대, 점착제층에 존재하고 있는 기포를 광학 적층체의 단부에서 밖으로 밀어냄으로써 기포의 사이즈를 보다 작게 할 수 있는 것으로 추정된다. 그렇기 때문에, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 광학 적층체의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없어, 품질이 높은 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있다. 그 결과, 광학 적층체의 생산성이나 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다. 또한, 본 발명의 제조 방법은, 상기 소정의 온도 또한 압력 조건 하에서 기포 제거를 행하기 때문에, 편광판 등의 수축에 의해 생길 수 있는 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다. 나아가서는, 얻어진 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화량에 관해서도 억제할 수 있다.
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 있어서는, 예컨대 광학 적층체의 전구체가 장척인 경우, 상기 장척의 광학 적층체의 전구체를, 칩 형상의 광학 적층체의 전구체로 절단하는 공정(절단 공정이라고도 한다)을 추가로 포함하고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름 등의 원료를 절단한 후에, 제1 점착제층 등과 접합하여, 상기한 기포 제거 공정에 부치더라도 좋다. 예컨대, 본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 상기한 기포 제거 공정을 상기 절단 공정 후에 행하여도 좋다. 광학 적층체의 전구체의 크기(면적)가 작으면, 광학 적층체의 전구체로부터 기포를 효율적으로 밀어낼 수 있기 때문이다.
본 발명의 제조 방법은, 전구체의 후처리 공정에 이어서, 필요하다면 해당 기술 분야에서 공지된 추가 절단 공정, 다른 광학 부재의 적층 공정을 포함하여도 좋다.
본 발명은, 또한, 광학 적층체가 기능성 필름과 제2 점착제층을 추가로 갖는, 상기한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
상기 기능성 필름과 상기 제2 점착제층을 접합하는 공정, 및
상기 제2 점착제층을, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정(이하, 「제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정」이라고도 한다)
을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 적어도 제2 점착제층에 존재하는 기포의 사이즈를 효과적으로 축소할 수 있고, 기포를 효과적으로 제거할 수 있다.
또한, 얻어진 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화량에 관해서도 억제할 수 있다.
예컨대, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판을 이 순서로 접합하여도 좋다. 마찬가지로, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판과, 제2 점착제층과, 기능성 필름을 이 순서로 접합하여도 좋다. 이들 각 층의 접합 순서 및 접합 양태는 적절하게 설정할 수 있다.
여기서, 제2 점착제층에 존재하는 기포는, 제2 점착제층과 인접하는 층과의 계면, 예컨대, 기능성 필름과 제2 점착제층과의 계면에 존재하는 기포라도 좋고, 제2 점착제층과 편광판과의 계면에 존재하는 기포라도 좋고, 제2 점착제층 내부에 존재하는 기포라도 좋고, 이들의 조합에 있어서 존재하는 기포라도 좋다.
제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은, 기능성 필름과 제2 점착제층을 접합한 후에 행하여도 좋다.
또한, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층을 접합한 후에 행하여도 좋다.
예컨대, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층을 접합하고, 얻어진 광학 적층체의 전구체를 50℃ 미만의 온도, 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하여, 제2 점착제층에 존재하는 기포를 축소하거나 또는 제거하고, 이어서, 제2 점착제층에 있어서의 기능성 필름과는 반대쪽의 면에 편광판을 접합하고, 편광판을 포함하는 광학 적층체의 전구체를 50℃ 미만의 온도, 0.2 MPaG 이상의 분위기중에 배치하고, 제2 점착제층에 존재하는 기포를 축소하거나 또는 제거하여, 광학 적층체를 얻더라도 좋다.
나아가서는, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판을 접합한 후에, 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하고, 제2 점착제층에 존재하는 기포를 축소하거나 또는 제거하여, 광학 적층체를 얻더라도 좋다.
어느 형태라도, 제2 점착제층이 50℃ 미만의 온도, 0.2 MPaG 이상의 분위기중에 배치됨으로써, 제2 점착제층에 존재하는 기포를 효율적으로 제거할 수 있다.
보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판을 접합하는 공정도 해당 기술 분야에서 이미 알려진 방법으로 행해지고, 또한, 점착제층 등을 접합하는 순서도 적절하게 선택할 수 있다. 이 공정을 거쳐 광학 적층체의 전구체를 얻을 수 있다.
제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은, 상기 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 함께 행하여도 좋으며, 예컨대 제1 및 제2 점착제층을 갖는 광학 적층체의 전구체를 제작한 후, 전구체의 후처리 공정을 행하여도 좋다. 이러한 경우, 본 명세서에서는 상기 「전구체의 후처리 공정」에 「제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정」이 포함되게 된다.
또한, 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정을 단독으로 행하여도 좋다. 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은, 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 함께 행하는 경우, 상기 전구체의 후처리 공정에 부쳐지는 조건에 따라서 행할 수 있다. 또한, 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정을 각각 독립적으로 행하는 경우, 처리 온도, 압력 등의 조건은 동일하여도 좋고, 다르더라도 좋다. 실시된 제1및 제2 점착제층의 종류, 두께 등에 따라 이들 조건을 적절하게 설정할 수 있다.
예컨대, 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은, 제2 점착제층을 50℃ 미만의 온도, 예컨대 10∼40℃의 온도, 다른 예에서는 15∼30℃의 온도, 그리고 0.2 MPaG 이상의 분위기 중, 예컨대 0.2∼0.7 MPaG의 분위기 중, 다른 예에서는 0.2∼0.6 MPaG의 분위기 중에 배치함으로써, 제2 점착제층에 존재하는 기포를 축소하거나 또는 제거할 수 있다.
이들 온도 범위 및 압력 범위인 한, 온도와 압력의 조합은 한정되지 않는다. 예컨대 온도 15∼30℃인 경우, 압력은 0.2∼0.5 MPaG라도 좋다.
예컨대, 온도는, 상기 범위에 더하여, 10∼45℃라도 좋고, 30℃ 초과∼50℃ 미만이라도 좋고, 35℃∼45℃라도 좋다.
또한, 가압 분위기는, 상기 범위에 더하여, 0.3∼0.6 MPaG, 0.35∼0.55 MPaG의 범위라도 좋다.
압력이 높을수록 기포를 축소하는 효과는 높아진다. 가압 처리의 안전성을 고려하면 압력은 0.7 MPaG 이하일 수 있다.
처리 온도의 하한치는 예컨대 5℃ 이상이다. 이러한 범위이면, 예컨대 제1 점착제층 및 제2 점착제층에 이용할 수 있는 점착제가 유동성을 유지하고 있기 때문에, 효율적으로 기포를 감소 및/또는 제거할 수 있다.
전구체의 후처리 공정에 드는 가압 시간은 예컨대 24시간 이하, 예컨대 1시간 이하이고, 특히 30분 이하이다. 예컨대 3∼30분에 걸쳐 처리를 행한다. 이러한 범위에서 가압을 행함으로써, 기포 사이즈의 축소 및 기포 제거를 효과적으로 행할 수 있고, 게다가 광학 적층체의 수축을 예방할 수 있다. 또한, 얻어진 광학 적층체의 휨량이 현저히 커지는 것을 막을 수 있다.
가압 후의 감압 시간은 부여한 압력, 온도 등에 따라서 적절하게 설정할 수 있다. 감압 시간은 예컨대 0.5∼30분, 다른 양태에서는 8∼30분이다. 예컨대 가압 처리를 0.2∼0.7 MPaG의 범위, 상온에서 행한 경우, 감압 시간은 5∼30분, 예컨대 8∼30분이라도 좋다. 다른 예에서는 가압 처리를 0.2∼0.6 MPaG의 범위, 상온에서 행한 경우, 감압 시간은 8∼30분이라도 좋다.
이러한 범위에서 감압을 행함으로써, 기포 사이즈의 축소 및 기포의 제거를 효과적으로 행할 수 있고, 게다가 광학 적층체의 수축을 예방할 수 있다. 또한, 얻어진 광학 적층체의 휨량이 현저히 커지는 것을 막을 수 있다.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 광학 적층체의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없어, 품질이 높은 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있다. 그 결과, 광학 적층체의 생산성이나 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다. 또한, 본 발명의 제조 방법은, 상기 소정의 온도 또한 압력 조건 하에서 기포 제거를 행하기 때문에, 편광판 등의 수축에 의해 생길 수 있는 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다. 나아가서는, 얻어진 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화량에 관해서도 억제할 수 있고, 그 결과, 광학 적층체의 생산성 및 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다.
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에서는, 예컨대 광학 적층체의 전구체가 장척인 경우, 상기 장척의 광학 적층체의 전구체를 칩 형상의 광학 적층체의 전구체로 절단하는 공정(절단 공정이라고도 한다)을 추가로 포함하고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름 등의 원료를 절단한 후에, 제1 점착제층 등과 접합하여, 상기한 기포 제거 공정에 부치더라도 좋다. 예컨대, 본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 상기한 기포 제거 공정을 상기 절단 공정 후에 행하여도 좋다. 광학 적층체의 전구체의 크기(면적)가 작으면, 광학 적층체의 전구체로부터 기포를 효율적으로 밀어낼 수 있기 때문이다.
본 발명은, 또한, 광학 적층체가 제3 점착제층 및 박리지를 추가로 갖는, 상기한 광학 적층체의 제조 방법으로서,
제3 점착제층과 박리지를 접합하는 공정, 및
상기 제3 점착제층을, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정(이하, 「제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정」이라고도 한다)
을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법을 제공한다.
상기 공정을 포함함으로써, 적어도 제3 점착제층에 존재하는 기포의 사이즈를 효과적으로 축소할 수 있고, 기포를 효과적으로 제거할 수 있다.
또한, 얻어진 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화량에 관해서도 억제할 수 있다.
예컨대, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판과, 제3 점착제층과, 박리지를 이 순서로 접합하여도 좋다. 마찬가지로, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판과, 제2 점착제층과, 기능성 필름과, 제3 점착제층과, 박리지를 이 순서로 접합하여도 좋다. 이들 각 층의 접합 순서 및 접합 양태는 적절하게 설정할 수 있다.
여기서, 제3 점착제층에 존재하는 기포는, 제3 점착제층과 인접하는 층과의 계면, 예컨대, 편광판과 제3 점착제층과의 계면에 존재하는 기포라도 좋고, 제3 점착제층과 박리지와의 계면에 존재하는 기포라도 좋고, 제3 점착제층 내부에 존재하는 기포라도 좋고, 이들의 조합에 있어서 존재하는 기포라도 좋다.
제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은 편광판과 제3 점착제층을 접합한 후에 행하여도 좋다.
또한, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판과, 제3 점착제층을 접합한 후에 행하여도 좋다.
예컨대, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판과, 제3 점착제층과, 박리지를 접합하고, 얻어진 광학 적층체의 전구체를 50℃ 미만의 온도, 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하고, 상기 전구체의 후처리 공정을 거쳐 광학 적층체를 얻더라도 좋다. 이러한 경우, 본 명세서에서는 상기 「전구체의 후처리 공정」에 「제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정」이 포함되게 된다.
어느 형태라도, 제3 점착제층이 50℃ 미만의 온도, 0.2 MPaG 이상의 분위기중에 배치됨으로써, 제3 점착제층에 존재하는 기포를 효율적으로 제거할 수 있다.
제3 점착제와 박리지를 편광판 등에 접합하는 공정도 해당 기술 분야에서 이미 알려진 방법으로 행해지고, 또한 점착제층 등을 접합하는 순서도 적절하게 선택할 수 있다. 이 공정을 거쳐 광학 적층체의 전구체를 얻을 수 있다.
제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은, 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 함께 행하여도 좋고, 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 함께 행하여도 좋고, 제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정을 단독으로 행하여도 좋다. 또한, 제1∼제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정의 순서는 한정되지 않는다. 예컨대, 제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정을, 상기 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과, 상기 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 함께 행하는 경우, 예컨대, 상기 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정에 부쳐지는 조건에 따라서 행할 수 있다. 또한, 이들 전구체의 후처리 공정을 각각 독립적으로 행하는 경우, 처리 온도, 압력 등의 조건은 동일하여도 좋고, 다르더라도 좋다.
또한, 제1 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정과 제2 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정을 동일 공정에서 행하고, 제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정을 독립적으로 행하는 경우, 처리 온도, 압력 등의 조건은 양자에 있어서 동일하여도 좋고, 다르더라도 좋다. 실시된 제1∼제3 점착제층의 종류, 두께 등에 따라 이들 조건을 적절하게 설정할 수 있다.
예컨대, 제3 점착제층을 포함하는 전구체의 후처리 공정은, 제3 점착제층을 50℃ 미만의 온도, 예컨대 10∼40℃의 온도, 다른 예에서는 15∼30℃의 온도 및 0.2 MPaG 이상의 분위기 중, 예컨대 0.2∼0.7 MPaG의 분위기 중, 다른 예에서는 0.2∼0.6 MPaG의 분위기 중에 배치함으로써, 제3 점착제층에 존재하는 기포를 축소하거나 또는 제거할 수 있다.
이들 온도 범위 및 압력 범위인 한, 온도와 압력의 조합은 한정되지 않는다. 예컨대 온도 15∼30℃인 경우, 압력은 0.2∼0.5 MPaG라도 좋다.
예컨대, 온도는, 상기 범위에 더하여, 10∼45℃라도 좋고, 30℃ 초과∼50℃ 미만이라도 좋고, 35℃∼45℃라도 좋다.
또한, 가압 분위기는, 상기 범위에 더하여, 0.3∼0.6 MPaG, 0.35∼0.55 MPaG의 범위라도 좋다.
압력이 높을수록 기포를 축소하는 효과는 높아진다. 가압 처리의 안전성을 고려하면 압력은 0.7 MPaG 이하일 수 있다.
처리 온도의 하한치는 예컨대 5℃ 이상이다. 이러한 범위이면, 예컨대 제1 점착제층, 제2 점착제층 및 제3 점착제층에 이용할 수 있는 점착제가 유동성을 유지하고 있기 때문에, 효율적으로 기포를 감소 및/또는 제거할 수 있다.
상기 전구체의 후처리 공정에 드는 가압 시간은 예컨대 24시간 이하, 예컨대 1시간 이하이고, 특히 30분 이하이다. 예컨대 3∼30분에 걸쳐 처리를 행한다. 이러한 범위에서 가압을 행함으로써, 기포 사이즈의 축소 및 기포의 제거를 효과적으로 행할 수 있고, 게다가 광학 적층체의 수축을 예방할 수 있다. 또한, 얻어진 광학 적층체의 휨량이 현저히 커지는 것을 막을 수 있다.
가압 후의 감압 시간은 부여한 압력, 온도 등에 따라서 적절하게 설정할 수 있다. 감압 시간은 예컨대 0.5∼30분, 다른 양태에서는 8∼30분이다. 예컨대 가압 처리를 0.2∼0.7 MPaG의 범위, 상온에서 행한 경우, 감압 시간은 5∼30분, 예컨대 8∼30분이라도 좋다. 다른 예에서는 가압 처리를 0.2∼0.6 MPaG의 범위, 상온에서 행한 경우, 감압 시간은 8∼30분이라도 좋다.
이러한 범위에서 감압을 행함으로써, 기포 사이즈의 축소 및 기포의 제거를 효과적으로 행할 수 있고, 게다가 광학 적층체의 수축을 예방할 수 있다. 또한, 얻어진 광학 적층체의 휨량이 현저히 커지는 것을 막을 수 있다.
본 발명의 제조 방법에 따르면, 광학 적층체의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없어, 품질이 높은 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있다. 그 결과, 광학 적층체의 생산성이나 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다. 또한, 본 발명의 제조 방법은, 상기 소정의 온도 또한 압력 조건 하에서 기포 제거를 행하기 때문에, 편광판 등의 수축에 의해 생길 수 있는 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다. 나아가서는, 얻어진 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화량에 관해서도 억제할 수 있고, 그 결과, 광학 적층체의 생산성 및 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다.
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에서는, 예컨대 광학 적층체의 전구체가 장척인 경우, 상기 장척의 광학 적층체의 전구체를 칩 형상의 광학 적층체의 전구체로 절단하는 공정(절단 공정이라고도 한다)을 추가로 포함하고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름 등의 원료를 절단한 후에, 제1 점착제층 등과 접합하여, 상기한 기포 제거 공정에 부치더라도 좋다. 예컨대, 본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 상기한 기포 제거 공정을 상기 절단 공정 후에 행하여도 좋다. 광학 적층체의 전구체의 크기(면적)가 작으면, 광학 적층체의 전구체로부터 기포를 효율적으로 밀어낼 수 있기 때문이다.
예컨대, 편광판과, 제3 점착제층과, 박리지를 접합하는 공정은 해당 기술 분야에서 이미 알려진 방법으로 행해지고, 또한, 점착제층 등을 접합하는 순서도 적절하게 선택할 수 있다. 이 공정을 거쳐 광학 적층체의 전구체를 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 상기 광학 적층체는, 닙부를 형성하는 한 쌍의 가압 롤러에 의해서 필름끼리를 상기 점착제층을 통해 압착하여 이루어지는 광학 적층체라도 좋다.
닙부를 형성하는 한 쌍의 가압 롤러에 의해 필름끼리를 상기 점착제층을 통해 압착하는 방법(라미네이션법)에 의해서 상기 필름끼리를 접합하여 이루어지는 광학 적층체에서는, 점착제층에 있어서 기포의 맞물림이 생길 수 있다. 이 때문에, 라미네이션법에 의해서 접합한 편광판에 관해서, 본 발명에 따른 소정의 공정에 제공함으로써, 점착제층에 있어서 광학 적층체의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없거나 또는 매우 저감된 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있다.
또한, 최근 편광판의 두께를 얇게 하기 위해서, 편광자 보호 필름과 편광자를 갖는 편광판의 두께를 얇게 하고 있다. 편광판의 두께를 얇게 하면, 편광자의 열수축에 의한 물성 변화가 생길 수 있다. 그러나, 본 발명의 제조 방법이라면, 편광판에 열수축은 일어나기 어려워, 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다.
본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 상기 점착제층은 감압성 점착제로 이루어지는 것이 보다 바람직하다.
상기 구성이라면, 상온에서 압력을 가함으로써, 필름, 편광판 등을 서로 접합시킬 수 있다.
본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 상기 감압성 점착제는 25℃ 에 있어서의 저장 탄성률이 0.05 MPa∼1.0 MPa라도 좋다. 제1∼제3 점착제층의 저장 탄성률은 동일하여도 좋고, 서로 다르더라도 좋다. 예컨대, 제1 점착제층의 저장 탄성률은 0.1∼0.3 MPa이고, 제2 점착제층의 저장 탄성률은 0.4∼0.7 MPa이고, 제3 점착제층의 저장 탄성률은 0.3∼0.6 MPa이다.
일반적으로, 50℃에 있어서의 저장 탄성률이 0.01 MPa 정도인 비교적 부드러운 점착제가 이용되어 왔다. 본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에서는, 50℃ 미만의 온도, 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 광학 적층체의 전구체를 배치하는 전구체의 후처리 공정을 포함하기 때문에, 일반적으로 이용되고 있는 점착제보다도 딱딱한 점착제를 이용할 수 있다. 또한, 점착제의 50℃에 있어서의 저장 탄성률이 상기 범위인 점착제를 이용하면, 점착제층의 강도를 높일 수 있기 때문에, 점착제층의 두께를 더욱 얇게 할 수 있다.
특히 박형 편광판을 얻기 위해서는, 가공성, 내구성의 특성을 해치지 않는 범위에서 보다 얇은 점착제층을 형성하는 것이 바람직하고, 점착제층(1)의 두께는 1 ㎛∼70 ㎛일 수 있다. 예컨대, 제1 점착제층의 두께는 15∼25 ㎛, 제2 점착제층의 두께는 10∼20 ㎛, 제3 점착제층의 두께는 15∼25 ㎛일 수 있다.
일반적으로 제1∼3 점착제층의 두께는 25 ㎛ 정도였다. 본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에 의하면, 점착제층의 두께가 25 ㎛보다도 얇은 경우라도 광학 적층체의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없는 광학 적층체를 제조할 수 있다. 또한, 점착제층의 두께가 상기 범위 내라면, 얻어지는 광학 적층체의 두께를 보다 얇게 할 수 있다.
본 발명의 조건에 따라서 광학 적층체를 제조함으로써, 제1∼제3 점착제층에 존재하고 있는 기포를, 상업적으로 만족할 수 있을 정도, 즉 광학 적층체의 품질을 저하시키지 않을 정도로까지 작게 할 수 있다. 구체적으로는, 예컨대 후술하는 「기포 사이즈의 확인 방법」에 의해서 기포의 사이즈를 측정한 경우에 있어서, 기포의 직경이 600 ㎛ 이하, 바람직하게는 400 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100 ㎛ 이하가 될 때까지 작게 할 수 있다.
예컨대, 기포 사이즈는 다음과 같은 식으로 측정할 수 있다.
기포의 사이즈를 계산하는 방법을 도 2에 기초하여 설명한다. 도 2는 본 발명의 기포 사이즈를 계산하는 방법을 설명하는 도면으로, (a)는 점 형상의 기포(점형 기포)의 크기를 계산하는 방법을 설명하는 도면이고, (b)는 반점 형상의 기포(반점형 기포)의 크기를 계산하는 방법을 설명하는 도면이다. 또한, 도 2의 (a) 및 (b) 중에 나타낸 화살표 E는 편광판의 광학축 방향을 나타내고 있다.
도 2의 (a)에 도시한 것과 같이, 점형 기포의 사이즈(Φ1)는, 편광판의 광학축 방향 및 그것에 직교하는 방향으로 변을 가지며 또한 측정 대상이 되는 점형 기포에 외접하는 직사각형(도 2의 (a) 중에 파선으로 나타낸 직사각형)에 있어서의, 편광판의 광학축 방향의 변의 길이를 a로 하고, 편광판의 광학축 방향에 직교하는 방향의 변의 길이를 b로 하여, 이하의 식(1)
Φ1=(a+b)/2 … (1)
으로부터 구할 수 있다.
또한, 도 2의 (b)에 도시한 것과 같이, 반점형 기포의 사이즈(Φ2)는, 편광판의 광학축 방향 및 그것에 직교하는 방향으로 변을 가지며 또한 측정 대상이 되는 반점형 기포를 구성하는 모든 기포를 내포하는 최소의 직사각형(도 2의 (b) 중에 파선으로 나타내는 직사각형)에 있어서의, 편광판의 광학축 방향의 변의 길이를 c로 하고, 편광판의 광학축 방향에 직교하는 방향의 변의 길이를 d로 하여, 이하의 식(2)
Φ2=(c+d)/2 … (2)
으로부터 구할 수 있다.
또한, 본 명세서에서는, 도 2의 (b)에 도시한 것과 같이, 직경 500 ㎛ 정도의 범위에서 복수의 비교적 작은 기포가 예컨대 환상으로 배열되어 이루어지는 기포군을 하나의 반점형 기포로서 규정하고, 그 이외의 기포를 점형 기포로 규정했다.
기포의 축소 및 제거에 관한 평가는, 예컨대 기포 사이즈의 변화율 평균을 산출하여도 좋다. 기포 사이즈의 변화율 평균은, 가압 처리 전의 기포 사이즈에서 가압 처리 후의 기포 사이즈를 뺀 차를, 가압 처리 전의 기포 사이즈로 나눈 값으로부터 산출되는 비율이다. (구체적인 산출 방법은 실시예에 기재했다). 본 명세서에서는, 기포 사이즈의 변화율이 높을수록 효율적으로 기포 사이즈의 감소 및 기포 제거를 행할 수 있었음을 의미한다.
기포 사이즈의 변화율 평균은 예컨대 1∼70%이고, 특히 10∼60%이다.
또한, 기포의 축소 및 제거에 관한 평가는 기포 축소율을 산출하여 평가하여도 좋다(구체적인 산출 방법은 실시예에 기재했다). 기포 축소율의 값이 100%이면, 관찰된 기포 전체에 있어서 기포의 사이즈가 축소되었음을 의미한다. 기포 축소율은 예컨대 10∼100%이고, 특히 30∼100%이다.
또한, 기포의 축소 및 제거에 관한 평가는, 기포의 사이즈가 10% 이상 감소한 비율을 산출함으로써 행하여도 좋다. 본 발명의 제조 방법에 의하면, 예컨대 기포의 사이즈가 10% 이상 감소한 기포의 비율은 100%가 되는 경우가 있다. 기포의 사이즈가 10% 이상 감소한 기포의 비율은 예컨대 20∼100%이다.
상기 평가 대신에 또는 더하여, 해당 기술 분야에서 이미 알려진 방법에 의해 기포 사이즈를 측정하여 평가하여도 좋다.
상술한 분위기 중에서, 접합시킨 편광판을 가압 조건 하에서 가열 처리하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 공지된 오토클레이브를 이용하여 편광판을 가열 처리할 수 있다. 전구체의 후처리 공정에 있어서, 가열 대상이 되는 접합시킨 편광판을 둘러싸는 주위의 기체는, 편광판 등의 필름에 악영향을 미치지 않는 한, 특별히 한정되는 것은 아니다. 예컨대 공기, 질소 가스 등의 불활성 가스일 수 있다. 통상은 공기가 적용된다.
여기서, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체의 일례를 도 1에 도시한다. 도 1은 광학 적층체(10)의 개략의 구성을 도시하는 단면도이다.
예컨대, 도 1에 도시한 것과 같이, 광학 적층체(10)는, 보호 필름(2), 제1 점착제층(1a), 기능성 필름(4), 제2 점착제층(1b), 편광판(3), 제3 점착제층(1c) 및 박리지(5)를 포함한다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 제1∼제3 점착제층을 통합하여 점착제층(1)이라고도 기재할 수 있다.
점착제층(1)을 통해 필름끼리를 접합하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 일 실시양태에 있어서, 닙부를 형성하는 한 쌍의 가압 롤러에 의해서 필름끼리를 압착하는 방법, 즉 라미네이션법(예컨대 일본 특허공개 2005-213314호 공보 등을 참조)을 채용하여도 좋다. 라미네이션법에서는, 필름끼리를 접합할 때에, 점착제층(1)에 있어서의 기포의 맞물림이 생길 수 있다. 이 때문에, 라미네이션법에 의해서 접합한 편광판 등을, 본 발명에 따른 전구체의 후처리 공정에 제공함으로써, 점착제층에 있어서 광학 적층체의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없는 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있다.
본 발명에 있어서의 광학 적층체는, 적어도 보호 필름과 제1 점착제층과 편광판을 갖는 광학 적층체라면, 그 구성은 도 1에 도시한 광학 적층체(10)에 한정되는 것이 아니다. 예컨대, 도 1에 도시한 광학 적층체(10)에 있어서 기능성 필름(4)을 복수 층 설치하여도 좋다.
광학 적층체의 두께는 예컨대 300 ㎛ 이하이며, 예컨대 200 ㎛ 이하이다. 본 발명에 따른 제조 방법에 의하면, 이러한 두께의 광학 적층체라도 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다. 그 결과, 예컨대 액정 디스플레이에 있어서, 액정패널을 둘러싸는 프레임(액자)의 폭을 좁게 한 것(좁은 액자)에 접착하는 광학 필름으로서, 치수 정밀도 요구가 높은 필름을 제조할 수 있다. 또한, 휨량의 억제에 의해 광학 필름을 접착한 후의 액정 디스플레이의 휨량을 억제할 수 있다.
점착제층(1)(점착제층(1a), 점착제층(1b) 및 점착제층(1c))은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 해당 기술 분야에 이용되는 공지된 점착제를 도포함으로써 형성된다. 이러한 점착제로서는, 구체적으로는 예컨대 아크릴계, 고무계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계의 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 한 점착제가 보다 적합하다.
또한, 상온에서 압력을 가함으로써 접착할 수 있으므로, 점착제로서는 감압성 점착제(pressure sensitive adhesive)를 적합하게 이용할 수 있다. 상기 「감압성 점착제」로서는, 특별히 한정되지 않지만, 구체적으로는 예컨대 아크릴계 폴리머; 실리콘계 폴리머; 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에테르 등을 베이스 폴리머로 하는 것으로 구성되어 있다. 아크릴계 폴리머와 같이, 광학적인 투명성이 우수하고, 알맞은 습윤성이나 응집력을 유지하고, 기재와의 접착성도 우수하고, 나아가서는 내후성이나 내열성 등을 가지고, 가열이나 가습의 조건 하에서 들뜸이나 벗겨짐 등의 박리 문제를 일으키지 않는 것을 선택하여 이용하는 것이 보다 바람직하다.
상기 「점착제」는 1 종류를 단독으로 이용하여도 좋고, 2 종류 이상을 조합하여 이용하여도 좋다.
광학 적층체가 복수의 점착제층을 갖고 있는 경우, 구체적으로는 예컨대 도 1에 도시한 것과 같이, 광학 적층체(10)가 점착제층(1a∼1c)을 갖고 있는 경우는, 점착제층(1a∼1c) 모두가 1 종류(동일)의 점착제로 이루어져 있어도 좋고, 상기 점착제층에 따라 점착제의 종류가 서로 다르더라도 좋다. 또한, 점착제층(1a∼1c) 모두의 두께가 동일하여도 좋고, 각각의 점착제층의 두께가 다르더라도 좋다.
보호 필름(2)으로서는 공지된 보호 필름이 적합하게 이용된다. 보다 구체적으로는 보호 필름(2)으로서는 예컨대, 폴리에스테르 필름, 폴리에틸렌텔레프탈레이트(PET) 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름 등의 공지된 보호 필름을 들 수 있다.
보호 필름(2)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 10 ㎛∼100 ㎛이다. 다른 실시양태에서는 보호 필름(2)의 두께는 35∼45 ㎛이다.
편광판(3)으로서는 공지된 편광판이 적합하게 이용된다. 구체적으로는, 편광판(3)으로서는 편광자의 양면에 보호막이 점착되어 있는 공지된 편광판을 들 수 있다. 또한, 편광판(3)으로서 편광자의 한쪽에 보호막이 점착되어 있는 공지된 편광판을 이용하여도 좋다. 예컨대, 편광자와 보호막의 점착에는 공지된 접착제를 이용하여도 좋으며, 일례로서 폴리비닐알코올계 접착제가 사용될 수 있다.
상기 「편광자」로서는, 예컨대, 폴리비닐알코올(PVA), 부분 포르말화 폴리비닐알코올, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체의 부분 비누화물, 셀룰로오스 등의 친수성 고분자 등으로 이루어지는 필름에, 일축 연신 및 요오드 등의 색소에 의한 염색 처리를 실시함과 더불어 색상 조정 등의 각종 처리를 실시한 필름을 들 수 있다. 단, 편광자의 제조 방법은 상기 제조 방법에 한정되는 것이 아니라, 공지된 편광자가 적합하게 이용된다.
상기 「보호막」으로서는, 예컨대, TAC(트리아세틸셀룰로오스) 필름, 시클로올레핀 수지(COP) 필름, 디아세틸셀룰로오스 등의 아세트산셀룰로오스 수지 필름; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지 필름; 폴리카보네이트 수지 필름; 아크릴 수지 필름; 폴리프로필렌 수지 필름 등의 공지된 필름을 들 수 있다.
편광판(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 10∼100 ㎛이고, 특히 10∼65 ㎛이다. 편광판(3)은, 실용상에 있어서 지장이 없는 범위에서 상기 3층(보호막, 편광자, 보호막) 이외에 또 다른 층을 갖추고 있어도 좋고, 편광자의 한쪽의 면에만 보호막을 갖추더라도 좋다. 구체적으로는, 예컨대 편광판(3)은 편광자와 보호막을 점착하는 접착제층을 추가로 구비하고 있어도 좋다.
편광판(3)의 두께가 이러한 범위에 있음으로써, 예컨대 액정 디스플레이의 박형화가 가능하게 된다. 편광판(3)의 두께가 이러한 범위라도, 액정 패널을 둘러싸는 프레임(액자)의 폭을 좁게 한 것(좁은 액자)에 접착하는 광학 필름으로서, 치수 정밀도 요구가 높은 필름을 제조할 수 있다. 또한, 휨량의 억제에 의해 광학 필름을 접착한 후의 액정 디스플레이의 휨량을 억제할 수 있다.
또한, 편광판에 포함되는 편광자의 두께는 예컨대 2∼30 ㎛, 다른 양태에서는 5∼15 ㎛이다.
기능성 필름(4)은 광학적인 기능성을 갖춘 필름 및 층이며, 예컨대, 휘도 향상 필름층, 위상차 필름층, 방현층, 도전층, 하드코트층 및 반사 방지층 등을 들 수 있다. 기능성 필름(4)은 이들 층을 조합하여 이용하여도 좋고, 단독으로 이용하여도 좋다. 기능성 필름(4)의 두께는 예컨대 5∼50 ㎛이다.
또한, 광학 적층체(10)를 액정 패널 등에 점착하기 위해서, 광학 적층체(10)의 액정 패널 등에 점착되는 쪽의 면에는 제3 점착제층(1c)이 형성되고, 박리 필름(프로텍트 필름 또는 세퍼레이터라고도 부른다)이 접합되어 있어도 좋다.
절단 공정은, 광학 적층체가 장척의 편광판인 경우에, 상기 장척의 광학 적층체(「편광판 원반」이라고도 부른다)를 칩 형상의 광학 적층체로 절단하는 공정이다.
절단 공정에서는, 편광판 원반을 소정의 크기를 갖는 칩 형상의 광학 적층체로 절단할 수 있는 한, 절단 방법은 특별히 한정되지 않는다. 절단 수단으로서는, 예컨대, 날붙이, 레이저 커터 등의 공지된 커터가 적합하게 이용된다.
칩 형상의 광학 적층체의 크기는, 액정 패널의 크기와 마찬가지로, 목적에 따라서 적절하게 설정할 수 있지만, 대체로 액정 패널 대각으로 1.5 인치∼60 인치인 것이 바람직하고, 소형 내지 중형의 액정 패널에 적용되는 1.5 인치∼18 인치인 것이 보다 바람직하고, 휴대 전자 단말에 적용되는 3.5 인치∼6 인치인 것이 더욱 바람직하다.
상기 「전구체의 후처리 공정」 및 상기 「절단 공정」의 순서는 특별히 한정되지 않고, 전구체의 후처리 공정 후에 절단 공정을 행하여도 좋고, 절단 공정 후에 전구체의 후처리 공정을 행하여도 좋다. 전구체의 후처리 공정과, 소정의 압력 및 온도 조건 하에서 광학 적층체의 전구체를 처리함으로써, 점착제층에 존재하고 있는 기포를 광학 적층체의 전구체 단부로부터 밖으로 밀어내고 있다고 추정되기 때문에, 전구체의 후처리 공정에 제공하는 광학 적층체의 전구체의 크기(면적)가 작을수록 광학 적층체의 전구체로부터 기포를 효율적으로 밀어낼 수 있다. 그렇기 때문에, 절단 공정 후에 전구체의 후처리 공정을 행하는 것이 보다 바람직하다. 광학 적층체가 장척의 광학 적층체인 경우에는, 이것을 소정의 크기를 갖는 칩 형상의 광학 적층체로 절단하여, 광학 적층체의 크기(면적)를 작게 하고 나서 기포를 축소하거나 또는 제거하는 공정을 행함으로써, 점착제층에 존재하고 있는 기포를 보다 효율적으로 축소 또는 제거할 수 있다.
본 발명에 따른 제조 방법에 의하면, 점착제층에 기포가 맞물려 들어가는 일이 없는 편광판을 효율적으로 제조할 수 있다. 그 결과, 편광판의 생산성이나 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다고 하는 효과를 발휘한다.
본 발명에 따른 제조 방법에 의하면, 광학 적층체의 수축을 저감할 수 있다. 예컨대, 긴 변 방향의 변화량은, 얻어진 광학 적층체에 있어서의 긴 변 길이(LAC후)에서 광학 적층체의 전구체에 있어서의 긴 변 길이(LAC전)를 뺀 차로 나타내어진다. 예컨대, 길이 10∼13 cm, 폭 6∼10 cm 미만의 광학 적층체의 경우, 상기 긴 변 방향의 변화량은 -0.02∼+0.02 mm의 사이이며, 예컨대 -0.01∼+0.01 mm의 사이이다. 마찬가지로, 짧은 변 방향의 변화량은, 얻어진 광학 적층체에 있어서의 짧은 변 길이(WAC후)에서 광학 적층체의 전구체에 있어서의 짧은 변 길이(WAC전)를 뺀 차로 나타내어진다. 예컨대, 길이 10∼13 cm, 폭 6∼10 cm 미만의 광학 적층체의 경우, 상기 짧은 변 방향의 변화량은 -0.02∼+0.02 mm의 사이이며, 예컨대 -0.01∼+0.01 mm의 사이이다.
또한, 본 명세서에 있어서 변화량이 마이너스의 값을 취하는 경우, 광학 적층체의 전구체가 수축하여, 광학 적층체를 얻을 수 있었음을 의미한다.
긴 변 방향의 변화량(이하, 긴 변 변화량이라고 기재하는 경우도 있다) 및 짧은 변 방향의 변화량(이하, 짧은 변 변화량이라고 기재하는 경우도 있다)이 상기 범위 내임으로써, 광학 적층체의 현저한 수축이 생기지 않고, 박형의 광학 적층체에 요구되는 치수 정밀도를 유지할 수 있다.
또한, 긴 변 방향의 치수 변화율 및 짧은 변 방향의 치수 변화율을 이용하여 본 발명에 있어서의 제조 방법을 평가하여도 좋다. 긴 변 방향의 치수 변화율(이하, 「치수 변화율긴변」이라고 기재하는 경우도 있다)은 다음의 식에 따라 유도된다
치수 변화율긴변=(LAC후-LAC전)/LAC전×100
마찬가지로, 짧은 변 방향의 치수 변화율(이하, 「치수 변화율짧은변」이라고 기재하는 경우도 있다)은 다음의 식에 따라서 유도된다
치수 변화율짧은변=(WAC후-WAC전)/WAC전×100
「치수 변화율긴변」은 예컨대 -0.05∼0.10%의 범위이고, 「치수 변화율짧은변」은 예컨대 -0.03∼0.05%의 범위이다. 치수 변화율이 상기 범위 내임으로써, 광학 적층체의 현저한 수축이 생기는 일 없이 박형의 광학 적층체에 요구되는 치수 정밀도를 유지할 수 있다.
또한, 본 명세서에 있어서 변화량이 마이너스의 값을 취하는 경우, 광학 적층체의 전구체가 수축하여, 광학 적층체를 얻을 수 있었음을 의미한다.
예컨대, 광학 적층체의 전구체를, 30℃ 초과∼50℃ 미만, 구체적으로는 35℃∼45℃의 온도, 그리고 0.2 MPaG 이상, 예컨대 0.2∼0.7 MPaG의 분위기 중에 20분 이하, 예컨대 1분∼10분간 배치하는 경우, 광학 적층체의 전구체의 「치수 변화율긴변」은 예컨대 -0.01∼0.01%의 범위일 수 있고, 광학 적층체의 전구체의 「치수 변화율짧은변」은 예컨대 -0.01∼0.01%의 범위일 수 있다.
본 발명에 따른 제조 방법에 의하면, 광학 적층체의 휘어짐을 저감할 수 있다. 이러한 휘어짐에 관해서, 본 발명에서는 예컨대 휨량의 변화량 등을 측정함으로써 평가할 수 있다.
예컨대, 광학 적층체의 휨량에서 광학 적층체의 전구체의 휨량을 뺀 차로부터 휨량의 변화량을 구함으로써, 광학 적층체의 휘어짐의 대소를 평가할 수 있다.
구체적으로는, 광학 적층체(10)에 있어서의 휨량은, 예컨대 도 3에 도시한 것과 같이, 광학 적층체(10)를 컬의 방향이 도 3에서 나타내는 방향이 되도록 수평인 유리 패널(60)에 얹어, 면내 중심부의 수평면(70)(유리 패널(60)의 수평면)에 대한, 단부 고조의 상대 높이(Δhw)를 측정한 것이다.
또한, 광학 적층체의 전구체의 휨량은, 상기 광학 적층체와 마찬가지로, 예컨대, 본 발명에 따른 제조 방법을 거쳐 얻어진 광학 적층체의 전구체를 컬의 방향이 도 3에서 나타내는 방향이 되도록 수평인 유리 패널에 얹어, 면내 중심부의 수평면(유리 패널의 수평면)에 대한, 단부 고조의 상대 높이를 측정한 것이다.
휨량의 변화량은, 이와 같이 하여 구한 광학 적층체의 휨량에서 광학 적층체의 전구체의 휨량을 뺀 차이다.
여기서, 휨량의 변화량을 절대치로 나타내면, 변화량의 절대치가 커짐에 따라서 광학 적층체의 휘어짐도 커지는 것을 의미한다.
도 3에 참고로서 광학 적층체의 단면도와 휨량의 관계를 나타낸 개략도를 도시한다.
본 명세서에서는, 보호 필름 방향으로 광학 적층체 등이 휘는 것을, 정(正)컬 방향으로 휘어짐이 생겼다고 기재하고, 휨량의 값은 플러스의 값으로 표시된다. 한편, 보호 필름과는 반대쪽의 면으로 향하여 광학 적층체가 휘는 것을, 역(逆)컬 방향으로 휘어짐이 생겼다고 기재하고, 휨량의 값은 마이너스의 값으로 표시된다.
광학 적층체의 휨량, 즉, 기포 사이즈의 축소 및 기포 제거의 적어도 한쪽을 행한 후에 있어서의 광학 적층체 휨량은, 예컨대 -5∼+5 mm이고, 다른 양태에서는 -2∼+2 mm이다.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 광학 적층체의 휘어짐은, 예컨대 정컬 방향으로 생기고, 휨량의 변화량은 -1∼+1 mm의 사이, 다른 양태에서는 -0.5∼+0.5 mm의 사이가 된다. 이러한 범위에 휨량의 변화량을 가짐으로써, 편광판의 외관에 악영향이 미치게 되는 것을 예방할 수 있고, 예컨대, 액정 표시 장치에 광학 적층체를 내장했을 때에, 액정 표시 장치의 단부에 빛샘이 생기고, 표시의 품질이 저하하는 것도 피할 수 있다.
예컨대, 길이 10∼13 cm, 폭 6∼10 cm 미만, 두께 60∼200 ㎛의 광학 적층체의 경우, 휨량의 변화량은 -1∼+1 mm일 수 있다.
본 발명에 의해 얻어진 광학 적층체는, 예컨대 액정 표시 장치에 적용할 수 있다. 예컨대, 본 발명에 의해 얻어진 광학 적층체를 액정 패널에 점착하여 이루어지는 구성일 수 있다.
상기 「액정 패널」로서는 공지된 액정 패널이 적합하게 이용된다. 구체적으로 액정 패널로서는, 한 쌍의 유리 기판 등의 기판과 액정층으로 이루어지며, 기판과 액정층의 사이에 배향막이 배치되어 이루어지는 공지된 액정 패널을 들 수 있고, 예컨대 횡전계식 액정 셀, TFT(Thin Film Transistor) 방식 액정 셀, STN(Super Twisted Nematic) 방식 액정 셀, IPS(In-Plane Switching) 방식 액정 셀, VA(Vertical Alignment) 방식 액정 셀 등을 들 수 있다.
액정 표시 장치는 본 발명에 따른 편광판과 액정 패널을 점착제층을 통해 점착함으로써 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 본 발명에 따른 광학 적층체를 액정 패널에 점착하여 이루어지기 때문에, 품질이 높은 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. 이 때문에, 생산성이나 수율이 높은 액정 표시 장치로 될 수 있다.
본 발명은 상술한 각 실시양태에 한정되는 것이 아니라, 청구항에 기재한 범위에서 다양한 변경이 가능하고, 다른 실시양태에 각각 개시된 기술적 수단을 적절하게 조합하여 얻어지는 실시양태에 관해서도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
[실시예]
이하, 본 발명을 실시예에 의해서 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
(사용한 재료)
(전구체 A)
점착제 부착 보호 필름-A1: PET 수지 필름(두께 38 ㎛)에 아크릴 수지계 점착제(두께 15 ㎛, 저장 탄성률 0.2 MPa)를 도포한 것(후지모리고교 제조).
제2 점착제: 아크릴 수지계 점착제, 두께 15 ㎛, 저장 탄성률 0.5 MPa
제3 점착제: 아크릴 수지계 점착제, 두께 20 ㎛, 저장 탄성률 0.4 MPa
편광판-A1: 스미토모카가쿠 제조, SR024CUT, 두께 20 ㎛, 편광판 구성: PVA/COP, 폴리비닐알코올계 접착제
박리지: PET 수지 필름(두께 38 ㎛)에 실리콘계 이형제를 도포한 것
기능성 필름: 쓰리엠사 제조, 휘도 향상 필름, APF-V3-HC, 두께 28 ㎛
(전구체 B)
점착제 부착 보호 필름-B1: PET 수지 필름(두께 38 ㎛)에 아크릴 수지계 점착제(두께 20 ㎛, 저장 탄성률 0.2 MPa)를 도포한 것(후지모리고교 제조).
편광판-B1: 스미토모카가쿠 제조, SRCZ4QJ-HCB, 두께 60 ㎛, 편광판 구성: TAC/PVA/COP, 폴리비닐알코올계 접착제.
(전구체 C)
점착제 부착 보호 필름-C1: PET 수지 필름(두께 38 ㎛)에 아크릴 수지계 점착제(두께 25 ㎛, 저장 탄성률 0.2 MPa)를 도포한 것(후지모리고교 제조).
편광판-C1: 스미토모카가쿠 제조, SRW062A, 두께 100 ㎛, 편광판 구성: TAC/PVA/COP, 폴리비닐알코올계 접착제.
(저장 탄성률의 측정)
제1 점착제층에 이용한 아크릴계 감압성 점착제의 25℃에 있어서의 저장 탄성률은 0.2 MPa였다. 제2 점착제층에 이용한 아크릴계 감압성 점착제의 50℃에 있어서의 저장 탄성률은 0.5 MPa였다. 제3 점착제층에 이용한 아크릴계 감압성 점착제의 50℃에 있어서의 저장 탄성률은 0.4 MPa였다. 상기 점착제의 저장 탄성률(σ)은, 측정 대상의 점착제로 이루어지는 직경 8 mm×두께 1 mm의 원주형의 시험편을 제작하고, 동적 점탄성 측정 장치(Dynamic Analyzer RDA II: Reometric사 제조)를 이용하여, 주파수 1 Hz의 비틀림 전단법으로 초기 왜곡 1 N으로 하여, 온도 23℃ 또는 50℃의 조건으로 측정했다(WO2009/119435 A1의 단락〔0164〕의 기재를 참조).
(제조예 A1)
광학 적층체의 전구체 A의 제작
보호 필름과, 제1 점착제층과, 기능성 필름과, 제2 점착제층과, 편광판과, 제3 점착제층과, 박리지를 접합하여, 광학 적층체 A의 전구체를 제작했다. 얻어진 광학 적층체 A의 전구체에 있어서의 기포 사이즈 등의 각종 물성치를 후술하는 방법에 따라서 측정했다.
(실시예 A1)
광학 적층체 A-1의 제조
광학 적층체 A의 전구체를 10.6 cm×9.1 cm의 크기로 재단하여, 광학 적층체 A의 전구체에 있어서의 보호 필름과 제1 점착제층의 사이에, 100 ㎛ 직경의 유사 이물을 도입하여, 인공적인 기포를 제작했다.
이어서, 광학 적층체 A의 전구체를, 오토클레이브(구리하라세이사쿠쇼 제조, 형번 YK-750L)를 이용하여, 압력 0.2 MPaG, 온도 상온 25℃의 환경 하에서 5분간에 걸쳐 가압하고, 이어서, 10분에 걸쳐 오토클레이브 내의 압력을 상압(0) MPaG으로 감압하는 것을 포함하는, 전구체의 후처리 공정을 거쳐, 광학 적층체 A-1을 제조했다. 또한, 상기 압력 및 온도는 오토클레이브에 표시되어 있는 값(게이지압)을 읽어낸 것이다. 또한, 오토클레이브 내에 있어서의 기체는 공기였다.
(기포 사이즈의 측정)
실시예 및 비교예에 있어서의 기포 제거 처리 전의 기포(점형 기포)의 크기를 이하에 기재한 방법에 의해서 측정했다. 기포 사이즈의 측정에는 OLYMPUS 제조의 현미경(BX51)을 이용하여 행했다.
전구체에 있어서의 기포 사이즈, 점형 기포의 사이즈(ΦAC전)는, 예컨대 도 2의 (a)에 도시한 것과 같이, 편광판의 광학축 방향 및 그것에 직교하는 방향으로 변을 가지며 또한 측정 대상이 되는 점형 기포에 외접하는 직사각형(도 2의 (a) 중에 파선으로 나타낸 직사각형)에 있어서의, 편광판의 광학축 방향의 변의 길이를 a로 하고, 편광판의 광학축 방향에 직교하는 방향의 변의 길이를 b로 하여, 이하의 식(1)
ΦAC전=(a+b)/2 … (1)
으로부터 구했다.
마찬가지로, 광학 적층체, 즉 기포 제거 공정 후의 점형 기포의 사이즈(ΦAC후)를 상기와 같은 식으로 측정했다. 또한, 이들 기포 사이즈의 측정을 여러 번 행하여, 그 평균치를 표에 기재했다.
예컨대, 실시예 A3에 있어서 인공적으로 제작한 기포를 도 4(a)에 도시한다. 기포의 중심 부분에는 이물이 확인된다. 또한, 도 4(b)는 본 발명의 제조 방법을 거친 후의, 도 4(a)에 도시한 이물 주위의 상태를 도시하는 사진이다. 이와 같이, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 전구체에 존재한 기포를 효과적으로 제거할 수 있다.
(기포 사이즈 변화율 평균의 산출)
기포 사이즈 변화율 평균(Φ)은, 다음 식
Φ=(ΦAC전-ΦAC후)/ΦAC전
에 따라서 산출했다. 본 명세서에서는, 기포 사이즈의 변화율이 높을수록 효율적으로 기포 사이즈의 감소 및 기포 제거를 행할 수 있었음을 의미한다. 실시예에 관한 기포 사이즈 변화율 평균의 결과를 표 1에 나타낸다.
(기포 축소율의 산출)
기포 축소율의 평가는, 다음 식
기포 축소율=기포 축소한 수/평가 n수
에 따라서 산출했다. 환언하면, ΦAC전>ΦAC후가 된 기포 샘플의 비율을 나타내는 평가이다. 이 기포 축소율의 값이 100%이면, 관찰된 기포 모두에 있어서 기포 사이즈가 축소되었음을 의미한다.
또한, 실시예 A1에 있어서, 기포 사이즈가 10% 이상 감소한 기포의 비율에 관해서 산출한 바, 100%였다. 또한, 실시예 A1에 있어서, 기포 사이즈를 여러 번 측정한 바, 본 발명의 제조 방법을 거침으로써 기포가 소실된 예도 있었다.
또한, 기포가 소실된 비율을 나타내는 기포 삭감률, 가압 후의 기포 사이즈의 최대치, 최소치 및 평균치를 표 1에 나타낸다.
실시예 A2∼A6
상기 실시예 A1에서 제작한 광학 적층체의 전구체 A를 이용하여, 표 1에 기재한 압력, 온도, 가압 시간, 감압 시간의 조건 이외에는 실시예 A1과 같은 조건으로 광학 적층체 A-2∼A-6을 제작했다. 이들 실시예에 있어서의 각종 평가 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 예컨대, 실시예 A3에 있어서, 여러 개의 시료에 대하여, 기포 사이즈가 10% 이상 감소한 기포의 비율에 관해서 산출한 바, 상기 비율의 최고치는 100%였다.
비교예 A1∼A2
상기 실시예 A1에서 제작한 광학 적층체의 전구체 A를 이용하여, 예컨대 압력 0.5 MPaG, 온도 70℃, 가압 시간 5분, 감압 시간 20분의 조건으로 광학 적층체 AC1을 제작했다. 비교예에 있어서의 각종 평가 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 표 중, 「기포 용출」이란, 오토클레이브 내에서의 처리 중에, 새로운 기포가 발생하여, 기포 사이즈의 측정 등을 할 수 없었던 상태를 의미한다.
Figure pct00001
또한, 본 발명에 따른 제조 방법에 의해 얻어진, 실시예 A3 등에 기재한 광학 적층체에 관해서, 후술하는 것과 같이 하여 각종 물성치를 측정했다. 얻어진 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다. 같은 평가를 비교예 A1 등의 광학 적층체에 관해서도 행했다. 얻어진 결과를 표 2 및 표 3에 나타낸다.
(치수 변화량 및 치수 변화율의 측정)
예컨대, 실시예 A3에서 얻어진 광학 적층체 A3 및 비교예 A1에서 제작한 광학 적층체 AC1에 관해서, 긴 변 방향의 변화량, 짧은 변 방향의 변화량, 긴 변 방향의 변화율 및 짧은 변 방향의 변화율을 측정했다. 각종 변화량 및 변화율은 다음과 같이 산출했다. 또한, 어느 적층체에 있어서나 편광자의 흡수축은 폭 방향으로 존재했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
치수 변화량으로서 긴 변 변화량 및 짧은 변 변화량을 산출했다. 각종 치수의 측정에는, 2차원 측정기(쥬오덴키게이키세이사쿠쇼, GS-8550)를 이용하며, 측정을 여러 번 행하여 평균치를 이용했다.
긴 변 변화량은, 얻어진 광학 적층체에 있어서의 긴 변 길이(LAC후)에서 광학 적층체의 전구체에 있어서의 긴 변 길이(LAC전)를 뺀 차이다. 짧은 변 변화량은, 얻어진 광학 적층체에 있어서의 짧은 변 길이(WAC후)에서 광학 적층체의 전구체에 있어서의 짧은 변 길이(WAC전)를 뺀 차로 나타내어진다. 얻어진 결과의 부호가 마이너스로 표시되는 경우, 긴 변 방향으로 수축이 생겼음을 의미한다. 결과를 표 2에 나타낸다.
또한, 실시예 및 비교예에 있어서의 광학 적층체의 전구체의 사이즈는 106.41 mm×60.92 mm인 것을 사용했다.
치수 변화율로서, 치수 변화율긴변 및 치수 변화율짧은변을 산출했다.
긴 변 변화율=(LAC후-LAC전)/LAC전×100으로부터 산출되고,
짧은 변 변화율=(WAC후-WAC전)/WAC전×100으로부터 산출된다.
결과를 표 2에 나타낸다.
(광학 적층체 등의 휨량, 휨량 변화량의 측정에 관해서)
광학 적층체의 전구체에 있어서의 휨량은, 광학 적층체의 전구체를 컬의 방향이 도 3에서 나타내는 방향이 되도록 수평인 유리 패널에 얹어, 면내 중심부의 수평면(유리 패널의 수평면)에 대한, 단부 고조의 상대 높이를 측정한 것이다. 휨량은 곱자를 이용하여 측정했다.
또한, 광학 적층체의 휨량은, 예컨대, 본 발명에 따른 제조 방법을 거쳐 얻어진 광학 적층체를 컬의 방향이 도 3에서 나타내는 방향이 되도록 수평인 유리 패널에 얹어, 면내 중심부의 수평면(유리 패널의 수평면)에 대한, 단부 고조의 상대 높이를 측정한 것이다.
휨량의 변화량은, 이와 같이 하여 구한 광학 적층체의 휨량에서 광학 적층체의 전구체의 휨량을 뺀 차이다.
이들 평가를, 실시예 A3에서 얻어진 광학 적층체 A3 등 및 비교예 A1에서 제작한 적층체 AC1 등에 관해서 행했다. 결과를 표 3에 나타낸다. 또한, 표 3 중에 있어서의 값도 여러 번 측정을 하여, 그 평균치를 기재한 것이다.
Figure pct00002
Figure pct00003
여기서, 실시예 A6에서 볼 수 있는 것과 같이, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 적층체에 있어서, 광학 적층체의 휨량은 전구체의 휨량보다도 현저히 작아지고 있다. 이러한 성질을 갖는 광학 적층체를 얻을 수 있기 때문에, 본 발명에 의하면, 예컨대, 편광판을 내장한 후의 액정 패널의 휨량을 작게 할 수 있다. 이에 따라, 액정 패널의 휘어짐에 의한 표시 품위의 저하를 막을 수 있고, 또한 액정 디스플레이 등과 케이스 조립할 때의 불량을 피할 수 있다.
한편, 예컨대, 비교예 A1에 나타내는 것과 같이 휨량이 큰 경우, 액정 패널 등과의 접합 시에 접합 불량이 발생해 버린다. 또한, 휨량이 커지면, 액정 패널 등과 편광판 등의 광학 적층체의 사이에 기포 혼입이 생기기 쉽다.
(제조예 B1)
광학 적층체의 전구체 B의 제작
보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판을 접합하여, 광학 적층체 B의 전구체를 제작했다. 얻어진 광학 적층체 B의 전구체에 있어서의 기포 사이즈 등의 각종 물성치를 상기 방법에 따라서 측정했다.
(실시예 B1)
광학 적층체 B1의 제조
광학 적층체 B의 전구체를 10.6 cm×9.1 cm의 크기로 재단하고, 광학 적층체 B의 전구체에 있어서의 보호 필름과 제1 점착제층의 사이에 100 ㎛ 직경의 유사 이물을 도입하여, 인공적인 기포를 제작했다.
상기 실시예 A1과 같은 식으로 하여 광학 적층체 B1을 제조했다.
기포 사이즈의 측정 등은 상기 실시예 A1과 같은 식으로 측정했다. 얻어진 결과를 표 4에 나타낸다.
실시예 B2∼B6
상기 실시예 B1에서 제작한 광학 적층체 B의 전구체를 이용하여, 표 4에 기재한 조건 이외에는, 실시예 B1과 같은 조건으로 광학 적층체 B-2∼B-6을 제작했다. 이들 실시예에 있어서의 각종 평가 결과를 표 4에 나타낸다.
비교예 B1∼B2
상기 실시예 B1에서 제작한 광학 적층체 B의 전구체를 이용하여, 예컨대 압력 0.5 MPaG, 온도 70℃, 가압 시간 5분, 감압 시간 20분의 조건으로 광학 적층체 BC-1을 제작했다. 비교예에 있어서의 각종 조건 및 평가 결과를 표 4에 나타낸다. 또한, 표 중 「기포 용출」이란, 오토클레이브 내에서의 처리 중에 새로운 기포가 발생하여, 기포 사이즈를 측정할 수 없었던 상태를 의미한다.
Figure pct00004
또한, 본 발명에 따른 제조 방법에 의해 얻어진, 실시예 B3 등의 광학 적층체에 관해서도 치수 변화량 및 치수 변화율의 측정, 그리고 광학 적층체 등의 휨량, 휨량의 변화량의 측정을 행했다. 같은 평가를 비교예 B1에 관해서도 행했다. 또한, 실시예 B3 및 비교예 B1에 있어서, 광학 적층체의 긴 변 방향으로 편광자의 흡수축이 존재하고, 광학 적층체의 전구체의 사이즈는 106.41 mm×60.92 mm인 것을 사용했다. 결과를 표 5 및 표 6에 나타낸다.
Figure pct00005
Figure pct00006
(제조예 C1)
광학 적층체의 전구체 C의 제작
보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판을 접합하여, 광학 적층체 C의 전구체를 제작했다. 얻어진 광학 적층체 C의 전구체에 있어서의 기포 사이즈 등의 각종 물성치를, 상기 방법에 따라서 측정했다.
(실시예 C1)
광학 적층체 C1의 제조
광학 적층체 C의 전구체를 10.6 cm×9.1 cm의 크기로 재단하고, 광학 적층체 C의 전구체에 있어서의 보호 필름과 제1 점착제층의 사이에 100 ㎛ 직경의 유사 이물을 도입하여, 인공적인 기포를 제작했다.
상기 실시예 A1과 같은 식으로 광학 적층체 C1을 제조했다. 실시예 C1은 압력 0.5 MPaG, 처리 온도 30℃, 가압 시간 5분, 감압 시간 20분의 조건으로 제조했다.
기포 사이즈의 측정 등은 상기 실시예 A1과 같은 식으로 측정했다.
실시예 C2∼C3
상기 실시예 C1에서 제작한 광학 적층체 C의 전구체를 이용하고, 표 7에 기재한 조건을 이용하여, 실시예 C1과 같은 식으로 광학 적층체 C2∼C3을 제작했다. 이들 실시예에 있어서의 각종 평가 결과를 표 7에 나타낸다.
비교예 C1∼C2
상기 실시예 C1에서 제작한 광학 적층체 C의 전구체를 이용하여, 예컨대, 압력 0.5 MPaG, 온도 50℃, 가압 시간 5분, 감압 시간 20분의 조건으로 광학 적층체 CC-1을 제작했다. 비교예에 있어서의 각종 조건 및 평가 결과를 표 7에 나타낸다. 또한, 표 중 「기포 용출」이란, 오토클레이브 내에서의 처리 중에 새로운 기포가 발생하여, 기포 사이즈를 측정할 수 없었던 상태를 의미한다.
Figure pct00007
또한, 본 발명에 따른 제조 방법에 의해 얻어진 실시예 C1 등에 있어서의 광학 적층체에 관해서, 치수 변화량 및 치수 변화율의 측정, 그리고 광학 적층체 등의 휨량, 휨량의 변화량의 측정을 행했다. 같은 평가를 비교예에 관해서도 행했다. 또한, 실시예 및 비교예에 있어서, 광학 적층체의 긴 변 방향으로 편광자의 흡수축이 존재하고, 광학 적층체의 전구체의 사이즈는 106.41 mm×60.92 mm인 것을 사용했다. 결과를 표 8 및 표 9에 나타낸다.
Figure pct00008
Figure pct00009
본 발명에 따른 광학 적층체의 제조 방법에 의하면, 광학 적층체의 제조 시에 생길 수 있는 기포의 사이즈를 축소할 수 있거나 또는 제거할 수 있다. 더욱이, 본 발명의 제조 방법은 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다. 또한, 본 발명의 제조 방법이라면, 편광판에 열수축은 일어나기 어려워, 광학 적층체의 치수 변화와 휨량의 변화를 억제할 수 있다.
본 발명에 따른 제조 방법에 의하면, 점착제층에 있어서 편광판의 품질이 저하하는 크기의 기포가 맞물려 들어가는 일이 없는 편광판을 효율적으로 제조할 수 있다. 그 결과, 편광판의 생산성이나 수율을 증가(불량률을 감소)시킬 수 있다. 따라서, 본 발명은, 노트북 PC, 휴대전화 등의 모바일 기기나 대형 텔레비전 등, 편광판을 이용하는 각종 산업에 있어서 광범위하게 이용될 수 있다.
1: 점착제층, 1a: 제1 점착제층, 1b: 제2 점착제층, 1c: 제3 점착제층, 2: 보호 필름, 3: 편광판, 4: 기능성 필름, 5: 박리지, 10: 광학 적층체, 60: 유리 패널, 70: 면내 중심부의 수평면

Claims (6)

  1. 적어도, 보호 필름과, 제1 점착제층과, 편광판을 갖는 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    상기 보호 필름과 상기 제1 점착제층과 상기 편광판을 접합하여, 광학 적층체의 전구체를 제작하는 공정, 및
    상기 광학 적층체의 전구체를, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정
    을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광학 적층체가 기능성 필름과 제2 점착제층을 추가로 갖는 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    상기 기능성 필름과 상기 제2 점착제층을 접합하는 공정, 및
    상기 제2 점착제층을, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정
    을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광학 적층체가 제3 점착제층 및 박리지를 추가로 갖는 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    제3 점착제층과 박리지를 접합하는 공정, 및
    상기 제3 점착제층을, 50℃ 미만의 온도, 또한 0.2 MPaG 이상의 분위기 중에 배치하는 공정
    을 추가로 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 적층체의 두께가 200 ㎛ 이하인 광학 적층체의 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편광판의 두께가 10∼65 ㎛인 광학 적층체의 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호 필름의 두께가 100 ㎛ 이하인 광학 적층체의 제조 방법.
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