KR20180077933A - 기판 처리장치 및 기판 처리방법 - Google Patents

기판 처리장치 및 기판 처리방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 공정시간을 단축시킬 수 있는 기판 처리장치 및 기판 처리방법을 제공하기 위하여 배배향막이 형성된 기판이 반입되는 챔버 및 상기 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 기판에 형성된 배향막을 제거하는 플라즈마 발생부 및 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부를 배기할 수 있는 제1 및 제2 펌프유닛 및 상기 제1 및 제2 펌프유닛을 함께 작동시켜 상기 챔버 내부에 공정 분위기를 형성하고, 상기 배향막 제거에서 상기 제2 펌프유닛의 작동을 정지시켜 상기 챔버 내부의 공정부산물이 상기 제1 펌프유닛을 통해 배출되도록 하는 제어부를 포함한다. 이에, 기판 처리장치 및 기판 처리방법은 펌프장치의 유지보수가 용이하고, 펌프유닛의 유지보수에서도 다른 펌프유닛을 활용하여 지속적인 기판 처리를 수행할 수 있는 바, 기판의 제조수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

기판 처리장치 및 기판 처리방법{APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE}
본 발명은 기판 처리장치 및 기판 처리방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 글라스 기판을 재생하는 기판 처리장치 및 기판 처리방법에 관한 것이다.
일반적으로 기판 처리장치는 챔버 내부로 반입된 기판을 처리하는 장치를 의미한다. 이러한 기판 처리장치는 증착, 식각 또는 이온 주입 등 다양한 방식으로 기판의 처리를 수행한다.
기판 처리장치에 대한 종래 기술은 이미 "대한민국 공개특허공보 제10-2012-0090646호(플라즈마를 이용한 기판처리장치, 2012.08.17.)"에 의해 공개된 바 있다. 상기 공개특허는 플라즈마를 기반으로 기판을 처리하는 것을 특징으로 한다.
특히, 기판의 재생을 위한 기판 처리장치는 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 기판 상에 형성된 배향막이 제거되도록 한다. 다만, 종래의 기판 처리장치는 배향막 제거 공정 중 발생된 공정 부산물이 펌프로 유입됨에 따라 펌프의 지속적인 유지보수가 필요하여 전체적인 공정시간이 지연되는 문제점이 있었다.
대한민국 공개특허공보 제10-2012-0090646호(플라즈마를 이용한 기판처리장치, 2012.08.17.)
본 발명의 목적은 공정시간을 단축시킬 수 있는 기판 처리장치 및 기판 처리방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 기판 처리장치은 배향막이 형성된 기판이 반입되는 챔버 및 상기 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 기판에 형성된 배향막을 제거하는 플라즈마 발생부 및 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부를 배기할 수 있는 제1 및 제2 펌프유닛 및 상기 제1 및 제2 펌프유닛을 함께 작동시켜 상기 챔버 내부에 공정 분위기를 형성하고, 상기 배향막 제거에서 상기 제2 펌프유닛의 작동을 정지시켜 상기 챔버 내부의 공정부산물이 상기 제1 펌프유닛을 통해 배출되도록 하는 제어부를 포함한다.
상기 기판 처리장치는 상기 챔버와 상기 제1 및 제2 펌프유닛 사이에 배치되며, 상기 제1 및 제2 펌프유닛 중 적어도 어느 하나가 작동될 때에 상기 챔버의 내부 압력이 일정하게 변화 또는 유지되도록 하는 배기량 제어밸브를 더 포함할 수 있다.
상기 기판 처리장치는 상기 챔버와 상기 제1 및 제2 펌프유닛 사이에 배치되어, 상기 챔버 내부의 배기속도를 제어하는 속도 제어밸브를 더 포함할 수 있다.
상기 속도 제어밸브는 상기 챔버 내부에서의 난류 발생이 억제되도록 상기 챔버 내부를 슬로우 펌핑시킬 수 있다.
상기 속도 제어밸브는 상기 챔버 내부 압력이 급변하는 것이 방지되도록 상기 챔버 내부를 슬로우 펌핑시킬 수 있다.
상기 기판 처리장치는 상기 제1 및 제2 펌프유닛 중 적어도 어느 하나에 연결되어 상기 챔버로부터 배출되는 상기 공정 부산물을 스크러빙하는 스크러버 유닛을 더 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 펌프유닛은 드라이펌프와, 상기 챔버와 드라이펌프 사이에 배치되는 제어밸브를 각각 포함하고, 상기 제어부는 상기 드라이펌프와 상기 제어밸브의 동작을 제어할 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 기판 처리방법은 배향막이 형성된 기판이 챔버 내부로 반입되는 단계 및 상기 챔버에 연결된 제1 및 제2 펌프유닛에 의해 상기 챔버 내부가 배기되며 상기 챔버 내부에 공정 분위기가 형성되는 단계 및 상기 제2 펌프유닛의 작동을 정지시키고 상기 제1 펌프유닛에 의해 상기 챔버 내부의 공정분위기가 유지되는 단계 및 상기 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 배향막이 제거되도록 하는 단계 및 상기 챔버 내부로부터 발생되는 공정 부산물이 상기 제1 펌프유닛을 통해 상기 챔버로부터 배출되는 단계를 포함한다.
상기 기판 처리방법은 상기 배출되는 단계 이후에, 상기 제1 펌프유닛을 통해 배출된 상기 공정 부산물이 스크러버 유닛으로 제공되어 스크러빙되는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 챔버는 상기 제1 및 제2 펌프유닛 중 적어도 어느 하나가 작동될 때에 배기량 제어밸브에 의해 내부 압력이 일정하게 변화 또는 유지될 수 있다.
상기 배출되는 단계에서는 상기 챔버와, 상기 제1 및 제2 펌프유닛 사이에 배치되는 속도 제어밸브에 의해 상기 챔버 내부의 배기속도가 제어될 수 있다.
상기 속도 제어밸브는 상기 챔버 내부가 슬로우 펌핑되도록 할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리장치 및 기판 처리방법은 펌프장치의 유지보수가 용이하고, 펌프유닛의 유지보수에서도 다른 펌프유닛을 활용하여 지속적인 기판 처리를 수행할 수 있는 바, 기판의 제조수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이상과 같은 본 발명의 기술적 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 실시예에 따른 기판 처리장치를 간략하게 나타낸 개념도이고,
도 2는 본 실시예에 따른 기판 처리방법을 간략하게 나타낸 순서도이고,
도 3 및 도 4는 본 실시예에 따른 기판 처리방법을 간략하게 나타낸 공정도이고,
도 5는 다른 실시예에 따른 기판 처리장치를 간략하게 나타낸 개념도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 실시예는 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 위하여 과장되게 표현된 부분이 있을 수 있으며, 도면 상에서 동일 부호로 표시된 요소는 동일 요소를 의미한다.
도 1은 제1 실시예에 따른 기판 처리장치를 간략하게 나타낸 개념도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제1 실시예에 따른 기판 처리장치(100)는 기판(10)에 형성된 배향막(11)을 제거하여 기판(10)을 재생한다. 여기서, 기판(10)은 글라스 기판일 수 있으며, 기판(10) 상부에는 폴리이미드를 포함한 유기물질로 마련될 수 있는 배향막(11)과 포토레지스트(12)가 형성된 상태일 수 있다. 이에, 기판 처리장치(100)는 기판(10)으로부터 폴리이미드 배향막(11)을 제거하여 기판(10)이 재생되도록 한다.
이러한 기판 처리장치(100)는 챔버(110)를 포함한다.
챔버(110)는 기판 처리장치(100)의 외형을 형성하며 내부에 기판(10)을 처리하기 위한 공정공간이 형성된다. 그리고 챔버(110)의 일측에는 기판(10)이 반입 및 반출되는 경로를 형성하는 게이트 밸브(110a)가 장착될 수 있다. 다만, 이는 본 실시예를 설명하기 위한 일 실시예로 챔버(110)는 하부챔버, 및 하부챔버로부터 승강되는 상부챔버로 분리되어 기판(10)의 반입 및 반출 경로를 형성할 수 있다.
그리고 챔버(110)에는 플라즈마 발생부(111)를 마련될 수 있다. 플라즈마 발생부(111)는 제1 전극(111a) 및 제2 전극(111b)을 포함할 수 있다.
먼저, 제1 전극(111a)은 스테이지 형태로 마련되어 챔버(110) 내부로 반입되는 기판(10)을 지지한다. 여기서, 제1 전극(111a)은 챔버(110) 외부에 배치된 고주파전원과 연결된다. 그리고 제1 전극(111a)은 필요에 따라 승강 또는 회전 가능하게 마련될 수 있다.
그리고 제2 전극(111b)은 제1 전극(111a)의 상부에 배치될 수 있다. 제2 전극(111b)은 제1 전극(111a)과 마주하도록 배치된다. 제2 전극(111b)은 공정가스가 유입되는 경로를 형성하는 가스 공급부 형태로 마련될 수 있으나, 제2 전극(111b)의 형태는 한정하지 않는다. 그리고 제2 전극(111b)으로 공급되는 공정가스는 산소 및 질소를 포함한 혼합 가스일 수 있다.
이러한 제1 전극(111a)과 제2 전극(111b)은 공정가스를 기반으로 챔버(110) 내부에 플라즈마를 발생시켜, 기판(10)에 형성된 폴리이미드 배향막이 식각되도록 한다. 이때, 폴리이미드를 포함한 공정 부산물은 챔버(110)에 연결된 배기시스템(200)에 의해 챔버(110) 외부로 반출된다.
이러한 배기시스템(200)은 배기라인(210)을 포함할 수 있다. 배기라인(210)은 일단이 챔버(110)에 연통되고 타단이 챔버(110) 외부로 연장되어 챔버(110) 내부가 배기되는 경로를 형성한다. 그리고 배기라인(210)에는 배기량 제어밸브(220) 및 속도 제어밸브(230)가 마련될 수 있다.
배기량 제어밸브(220)는 버터플라이 밸브(Butterfly Valve)를 포함하도록 마련되어 챔버(110)의 배기량이 제어되도록 할 수 있다. 그리고 속도 제어밸브(230)는 챔버(110)와 배기량 제어밸브(220) 사이에 배치되어, 챔버(110) 내부의 배기속도를 제어할 수 있다.
한편, 배기라인(210)의 타단에는 복수 개의 펌프유닛(240)이 연결된다. 이에, 배기라인(210)의 타단은 복수로 분기될 수 있으며, 분기된 배기라인(210)의 타단 각각에는 펌프유닛(240)이 연결될 수 있다. 여기서, 펌프유닛(240)은 제1 펌프유닛(241), 제2 펌프유닛(242), 및 제3 펌프유닛(243)으로 마련될 수 있다. 다만, 본 실시예서는 펌프유닛(240)이 3개로 마련되는 것을 설명하고 있으나, 펌프유닛(240)의 개수는 챔버(110)의 공정시간 및 용량 등을 고려하여 변경될 수 있다.
한편, 제1 펌프유닛(241)은 제1 드라이펌프(241a) 및 제1 제어밸브(241b)를 포함한다. 여기서, 제1 드라이펌프(241a)는 제1 분기라인(211)에 연결되어, 제1 분기라인(211)을 통해 챔버(110) 내부가 배기되도록 한다. 그리고 제1 제어밸브(241b)는 제1 분기라인(211)에 마련되어 제1 분기라인(211)이 개폐되도록 할 수 있다.
제2 펌프유닛(242)은 제2 드라이펌프(242a) 및 제2 제어밸브(242b)를 포함한다. 여기서, 제2 드라이펌프(242a)는 제2 분기라인(212)에 연결되어, 제2 분기라인(212)을 통해 챔버(110) 내부가 배기되도록 한다. 그리고 제2 제어밸브(242b)는 제2 분기라인(212)에 마련되어 제2 분기라인(212)이 개폐되도록 할 수 있다.
제3 펌프유닛(243)은 제3 드라이펌프(243a) 및 제3 제어밸브(243b)를 포함한다. 여기서, 제3 드라이펌프(243a)는 제3 분기라인(213)에 연결되어, 제3 분기라인(213)을 통해 챔버(110) 내부가 배기되도록 한다. 그리고 제3 제어밸브(243b)는 제3 분기라인(213)에 마련되어 제3 분기라인(213)이 개폐되도록 할 수 있다.
한편, 제1 펌프유닛(241)에는 스크러버 유닛(250)이 연결될 수 있다. 스크러버 유닛(250)은 제1 펌프유닛(241)으로부터 공정 부산물이 제공될 때에 공정 부산물을 스크러빙한다. 여기서, 스크러버 유닛(250)은 건식 또는 습식으로 마련될 수 있으나, 스크러버 유닛(250)의 종류는 한정하지 않는다.
한편, 배기시스템(200)에는 제어부(260)가 연결될 수 있다. 제어부(260)는 배기시스템(200)의 작동을 제어한다. 여기서, 제어부(260)는 복수 개의 펌프유닛(240)이 함께 또는 개별적으로 작동되도록 할 수 있다. 그리고 제어부(260)는 배기량 제어밸브(220) 및 속도 제어밸브(230)를 각각 제어하여 배기속도와 배기량이 제어되도록 할 수 있다.
다만, 본 실시예서는 제어부(260)가 배기시스템(200)의 작동을 제어하는 실시예를 설명하고 있으나, 이는 본 실시예를 설명하기 위한 일 실시예로 제어부(260)는 배기시스템(200)의 작동을 포함한 기판 처리장치(100)의 전반적인 제어를 수행할 수 있다.
한편, 이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 기판 처리방법에 대하여 상세히 설명하도록 한다. 다만, 상술된 구성요소에 대해서는 상세한 설명을 생략하고 동일한 참조부호를 부여하여 설명하도록 한다.
도 2는 제1 실시예에 따른 기판 처리방법을 간략하게 나타낸 순서도이고, 도 3 및 도 4는 제1 실시예에 따른 기판 처리방법을 간략하게 나타낸 공정도이다.
도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 실시예에 따른 기판(10)은 별도의 이송장치(미도시)에 의해 챔버 내부로 반입된다(S100).
이어, 기판(10)은 제1 전극(111a)에 안착되고, 게이트 밸브(110a)는 챔버(110)를 폐쇄한다. 여기서, 제어부(260)는 제1 드라이펌프(241a), 제2 드라이펌프(242a), 및 제3 드라이펌프(243a)를 함께 작동시켜 챔버(110) 내부에 공정 분위기가 형성되도록 한다(S200). 이때, 챔버(110) 내부 압력은 100~400torr를 유지할 수 있으며, 배기량 제어밸브(220)는 복수 개의 드라이펌프ㅍ 작동에서도 챔버(110) 내부 압력이 일정하게 변화 및 유지되도록 할 수 있다.
이후, 챔버(110) 내부에 공정 분위기가 형성되면, 제어부(260)는 제2 드라이펌프(242a) 및 제3 드라이펌프(243a)의 작동을 정지시키고 제1 드라이펌프(241a)만이 작동되도록 하여 챔버(110) 내부의 공정 분위기가 유지되도록 한다(S300). 이때, 배기량 제어밸브(220)는 단일의 드라이펌프 작동에서도 챔버(110) 내부 압력이 일정하게 유지되도록 하고, 제어부(260)는 제2 제어밸브(242b) 및 제3 제어밸브(243b)가 폐쇄되도록 할 수 있다.
이후, 공정가스가 제2 전극(111b)을 통해 챔버(110) 내부로 반입된다. 그리고 제1 전극(111a)과 제2 전극(111b)은 공정가스를 기반으로 플라즈마를 발생시킨다. 이에, 챔버(110) 내부에서는 공정가스에 의한 라디칼 이온이 발생되고, 라디칼 이온은 포토레지스트(12)를 유지시키면서 폴리이미드 배향막(11)이 식각되도록 하여 기판(10)이 재생되도록 할 수 있다(S400).
이때, 챔버(110) 내부로는 폴리이미드를 포함한 공정 부산물이 확산되고, 확산된 공정 부산물은 챔버(110) 내부를 배기하는 제1 드라이펌프(241a)에 의해 챔버(110)로부터 배기된다. 여기서, 제1 드라이펌프(241a)로 제공되는 공정 부산물은 스크러버 유닛(250)으로 공급되고, 스크러버 유닛(250)은 공정 부산물을 스크러빙한다(S500).
한편, 제어부(260)는 챔버(110) 내부의 배기과정에서 속도 제어밸브(230)의 동작을 제어할 수 있다. 이때, 제어부(260)는 챔버(110) 내부가 슬로우 펌핑(Slow Pumping)되도록 할 수 있다.
이에, 챔버(110) 내부에서는 일반적인 배기과정에서 발생될 수 있는 난류 발생이 억제될 수 있다. 따라서 난류 발생으로 인해 발생될 수 있는 공정부산물에 의한 챔버(110) 내 또는 기판(10)의 오염이 방지될 수 있다. 또한, 챔버(110) 배기과정에서 발생될 수 있는 급격한 압력변화로 인해 기판(10)에 파손 또는 훼손이 발생되는 것을 억제할 수 있다.
한편, 이하에서는 다른 실시예에 따른 기판 처리장치에 대하여 상세히 설명하도록 한다. 다만, 상술된 구성요소에 대해서는 상세한 설명을 생략하고 동일한 참조부호를 부여하여 설명하도록 한다.
도 5는 제2 실시예에 따른 기판 처리장치를 간략하게 나타낸 개념도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제2 실시예에 따른 기판 처리장치(100)는 제1 드라이펌프(241a), 제2 드라이펌프(242a), 및 제3 드라이펌프(243a)가 스크러버 유닛(250)에 연결될 수 있다. 이에, 기판 처리장치(100)는 드라이펌프의 유지보수를 위한 시간 동안에도 다른 드라이펌프를 활용하여 기판(10) 처리공정이 지속적으로 수행되도록 할 수 있다.
예컨대, 배향막 식각 공정에서는 제1 실시예와 같이 제1 드라이펌프(241a)만을 활용하여 공정 부산물의 배기를 수행할 수 있다. 이에, 제1 드라이펌프(241a)는 다른 드라이펌프와 비교하여 비교적 빠른 점검이 요구된다.
따라서 단일의 드라이펌프를 활용하여 기판(10) 처리공정을 수행할 경우에는 드라이펌프 점검 시 기판(10) 처리공정의 전체 공정이 중지되어야 한다. 그러나 제2 실시예에 따른 기판 처리장치(100)는 제1 드라이펌프(241a)가 점검될 때에도 제1 제어밸브(241b)를 폐쇄시키고, 제2 펌프유닛(242)과 제3 펌프유닛(243)을 활용하여 기판(10) 처리공정이 수행되도록 할 수 있다.
이때, 제어부(260)는 제2 드라이펌프(242a) 및 제3 드라이펌프(243a)를 함께 작동시켜 챔버(110) 내부에 공정 분위기가 형성되도록 할 수 있다. 그리고 배향막 식각공정에서는 제3 드라이펌프(243a)의 작동을 정지시키고 제2 드라이펌프(242a)만이 작동되도록 할 수 있다. 이에, 챔버(110) 내부는 제2 드라이펌프(242a)에 의해 공정 분위기가 유지될 수 있다. 그리고 배향막 식각에서 발생된 공정 부산물은 제2 드라이펌프(242a)를 통해 스크러버 유닛(250)으로 제공되며 스크러빙될 수 있다.
이와 같이, 기판 처리장치 및 기판 처리방법은 펌프유닛의 유지보수가 용이하고, 펌프유닛의 유지보수에서도 다른 펌프유닛을 활용하여 지속적인 기판 처리를 수행할 수 있는 바, 기판의 제조수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.
100 : 기판 처리장치 110 : 챔버
111 : 제1 전극 113 : 제2 전극
200 : 배기시스템 210 : 배기라인
211 : 제1 분기라인 212 : 제2 분기라인
213 : 제3 분기라인 220 : 배기량 제어 밸브
230 : 속도 제어 밸브 240 : 펌프유닛
241 : 제1 펌프유닛 242 : 제2 펌프유닛
243 : 제3 펌프유닛 250 : 스크러버 유닛
260 : 제어부

Claims (12)

  1. 배향막이 형성된 기판이 반입되는 챔버;
    상기 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 기판에 형성된 배향막을 제거하는 플라즈마 발생부;
    상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부를 배기할 수 있는 제1 및 제2 펌프유닛; 및
    상기 제1 및 제2 펌프유닛을 함께 작동시켜 상기 챔버 내부에 공정 분위기를 형성하고, 상기 배향막 제거에서 상기 제2 펌프유닛의 작동을 정지시켜 상기 챔버 내부의 공정부산물이 상기 제1 펌프유닛을 통해 배출되도록 하는 제어부를 포함하는 기판 처리장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 챔버와 상기 제1 및 제2 펌프유닛 사이에 배치되며, 상기 제1 및 제2 펌프유닛 중 적어도 어느 하나가 작동될 때에 상기 챔버의 내부 압력이 일정하게 변화 또는 유지되도록 하는 배기량 제어밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 챔버와 상기 제1 및 제2 펌프유닛 사이에 배치되어, 상기 챔버 내부의 배기속도를 제어하는 속도 제어밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 속도 제어밸브는 상기 챔버 내부에서의 난류 발생이 억제되도록 상기 챔버 내부를 슬로우 펌핑시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 속도 제어밸브는 상기 챔버 내부 압력이 급변하는 것이 방지되도록 상기 챔버 내부를 슬로우 펌핑시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 펌프유닛 중 적어도 어느 하나에 연결되어 상기 챔버로부터 배출되는 상기 공정 부산물을 스크러빙하는 스크러버 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 펌프유닛은 드라이펌프와, 상기 챔버와 드라이펌프 사이에 배치되는 제어밸브를 각각 포함하고,
    상기 제어부는 상기 드라이펌프와 상기 제어밸브의 동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  8. 배향막이 형성된 기판이 챔버 내부로 반입되는 단계;
    상기 챔버에 연결된 제1 및 제2 펌프유닛에 의해 상기 챔버 내부가 배기되며 상기 챔버 내부에 공정 분위기가 형성되는 단계;
    상기 제2 펌프유닛의 작동을 정지시키고 상기 제1 펌프유닛에 의해 상기 챔버 내부의 공정분위기가 유지되는 단계;
    상기 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 상기 배향막이 제거되도록 하는 단계; 및
    상기 챔버 내부로부터 발생되는 공정 부산물이 상기 제1 펌프유닛을 통해 상기 챔버로부터 배출되는 단계를 포함하는 기판 처리방법.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 배출되는 단계 이후에,
    상기 제1 펌프유닛을 통해 배출된 상기 공정 부산물이 스크러버 유닛으로 제공되어 스크러빙되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 챔버는 상기 제1 및 제2 펌프유닛 중 적어도 어느 하나가 작동될 때에 배기량 제어밸브에 의해 내부 압력이 일정하게 변화 또는 유지되는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
  11. 제8 항에 있어서,
    상기 배출되는 단계에서는 상기 챔버와, 상기 제1 및 제2 펌프유닛 사이에 배치되는 속도 제어밸브에 의해 상기 챔버 내부의 배기속도가 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 속도 제어밸브는 상기 챔버 내부가 슬로우 펌핑되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
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