KR20180052828A - 미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법 - Google Patents

미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180052828A
KR20180052828A KR1020160149795A KR20160149795A KR20180052828A KR 20180052828 A KR20180052828 A KR 20180052828A KR 1020160149795 A KR1020160149795 A KR 1020160149795A KR 20160149795 A KR20160149795 A KR 20160149795A KR 20180052828 A KR20180052828 A KR 20180052828A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
thermosetting resin
resin layer
pattern
photocurable
Prior art date
Application number
KR1020160149795A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102109456B1 (ko
Inventor
임거혁
이승훈
박지용
이한나
Original Assignee
(주)엘지하우시스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엘지하우시스 filed Critical (주)엘지하우시스
Priority to KR1020160149795A priority Critical patent/KR102109456B1/ko
Priority to PCT/KR2017/012130 priority patent/WO2018088746A1/ko
Priority to US16/348,629 priority patent/US11287738B2/en
Publication of KR20180052828A publication Critical patent/KR20180052828A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102109456B1 publication Critical patent/KR102109456B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/0054—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using protective coatings or film forming compositions cured by thermal means, e.g. infrared radiation, heat
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H19/00—Coated paper; Coating material
    • D21H19/80—Paper comprising more than one coating
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H19/00—Coated paper; Coating material
    • D21H19/80—Paper comprising more than one coating
    • D21H19/82—Paper comprising more than one coating superposed
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H27/00—Special paper not otherwise provided for, e.g. made by multi-step processes
    • D21H27/18—Paper- or board-based structures for surface covering
    • D21H27/22—Structures being applied on the surface by special manufacturing processes, e.g. in presses
    • D21H27/26—Structures being applied on the surface by special manufacturing processes, e.g. in presses characterised by the overlay sheet or the top layers of the structures
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H27/00—Special paper not otherwise provided for, e.g. made by multi-step processes
    • D21H27/30—Multi-ply
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

열경화성 수지층, 증착층 및 기재층을 순차적으로 포함하고 상기 열경화성 수지층은 표면에 미세 패턴을 가지며 시트의 신율이 200 % 내지 300 %인 데코레이션 시트 및 이의 제조방법을 제공한다.

Description

미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법{FINE PATTERNED DECORATION SHEET AND METHOD OF PRODUCING THE SAME}
미세 패턴을 가지며 성형성이 우수한 증착 데코레이션 시트 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 데코레이션 시트는 가공이 어렵고 취급이 용이하지 않으며 고가인 나무, 금속, 벽돌 등의 자연 재료를 필름을 이용하여 인공적으로 제작하여 비슷한 표면 효과를 내도록 하는 것으로, 건축물의 실내 벽지는 물론 마감재, 가구 혹은 각종 전자 제품의 장식지로 활용된다.
데코레이션 시트로서 예를 들면 기재 시트, 도안층, 합성 수지층 등을 적층한 적층체가 사용된다. 이들 장식 시트는, 그 최외측 표면을 보호하기 위해 통상적으로는 표면 보호 형성한다. 특히, 내마모성, 내찰상성 등을 개선하기 위해, 표면 보호층에는 열경화성 수지를 사용하거나 또는 UV 경화성 수지를 사용하는 것으로 알려져 있다.
종래 기술로 UV 경화성 수지를 사용하여 데코레이션 시트를 제조하는 방법은 대한민국 공개특허 제2010-0136082호에서는 UV 하드 코팅 및 UV 경화형 접착제를 이용한 인테리어 시트의 제조방법을 개시하고 있고, 대한민국 등록특허 제10-701652호에서는 친환경 소재인 폴리프로필렌 필름을 개시하고 있으며, 대한민국 등록특허 제10-820300호에서는 폴리에스테르 필름에 UV 경화 코팅하여 표면 강도가 향상된 친환경 인테리어 시트를 제조하는 기술이 개시된 바 있다.
본 발명의 일 구현예는 열경화성 수지층, 증착층 및 기재층을 순차적으로 포함하고 상기 열경화성 수지층은 표면에 미세 패턴을 가지며 시트의 신율이 200% 내지 300% 인 데코레이션 시트를 제공한다.
본 발명의 다른 구현예는 상기 데코레이션 시트 제조방법을 제공한다.
그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 구현예에서, 열경화성 수지층, 증착층 및 기재층을 순차적으로 포함하고 상기 열경화성 수지층은 표면에 미세 패턴을 포함하며, 시트의 신율은 약 200% 내지 약 300%인 데코레이션 시트를 제공한다.
그에 따라 인몰드(inmold), 인써트(insert) 및 3차원 오버레이 공법(TOM)에 적용 가능한 상기 데코레이션 시트는 미세 패턴을 가지고 신율이 높은 특성을 구현할 수 있다.
상기 열경화성 수지층은 약 5㎛ 내지 약 50㎛의 평균 두께를 가질 수 있다. 상기 범위 미만인 경우, 상기 심도와 관계상 구현할 수 있는 미세 패턴의 종류가 한정되고 상기 범위 초과인 경우 신율이 급격히 저하되는 문제가 발생할 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에서, 일면에 원본 패턴을 포함하는 광경화성 수지층 및 상기 광경화성 수지층의 다른 일면 상에 투명층이 적층된 광경화성 임프린트 필름을 형성하는 단계; 상기 광경화성 수지층의 원본 패턴을 포함하는 일면 상에 열경화성 수지 코팅액을 도포하고 열경화시켜, 상기 광경화성 수지층과 접하는 일면에 상기 원본 패턴의 역상 패턴을 포함하는 열경화성 수지층을 형성하는 단계; 상기 열경화성 수지층의 다른 일면 상에 증착층을 형성하는 단계; 상기 증착층의 일면 상에 기재층을 형성하는 단계; 및 상기 광경화성 임프린트 필름을 상기 열경화성 수지층으로부터 이형시키는 단계;를 포함하는 데코레이션 시트의 제조방법을 제공한다.
인몰드(inmold), 인써트(insert) 및 3차원 오버레이 공법(TOM)에 적용 가능한 상기 데코레이션 시트는 미세 패턴을 가지고 신율이 높은 특성을 구현할 수 있다. 구체적으로 미세 패턴을 형성하여 섬세한 무늬까지 구현이 가능해 인테리어 기능이 향상되고 열경화 수지층을 이용하여 신율 등의 특성이 좋아 성형성이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 데코레이션 시트의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 데코레이션 시트의 제조방법을 나타낸 개략적인 공정흐름도이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 구현예에 따른 미세 패턴을 확대한 개략적인 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 후술하는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.
또한, 본 명세서에서 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상부에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 아울러, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 또는 "하부에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
본 발명의 일 구현예에서, 열경화성 수지층, 증착층 및 기재층을 순차적으로 포함하고 상기 열경화성 수지층은 표면에 미세 패턴을 포함하며, 시트의 신율은 약 200% 내지 약 300%인 데코레이션 시트를 제공한다.
도 1은 상기 데코레이션 시트(100)의 구조를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 1을 참조할 때, 상기 데코레이션 시트(100)는 열경화성 수지층(110), 증착층(120) 및 기재층(130)을 순차적으로 포함한다.
또한, 도 1을 참조할 때, 상기 열경화성 수지층에 패턴이 형성될 수 있다.
종래 데코레이션 시트의 표면층은 UV경화층을 이용할 수 있었다. 다만, UV경화수지만 들어있을 경우 표면경도는 높일 수 있으나 신율이 나빠지는 경향이 있어 3차원 입체 형상을 형성하는데 불리한 점이 있다. 상기 문제를 해결하기 위해 상기 열경화성 수지층을 상기 데코레이션 시트의 표면층으로 이용할 수 있다. 상기 열경화성 수지층은 열경화성 수지를 이용한 층으로서 UV경화성 수지층을 데코레이션의 표면층으로 이용할 때 보다 신율이 우수하다.
상기 열경화성 수지층은 상기 데코레이션 시트의 최외각에 위치할 수 있고, 소위 하드코팅층으로서의 역할을 수행할 수도 있다.
상기 열경화성 수지층은 표면에 상기 미세 패턴이 형성되는 대상으로 상기 미세 패턴을 통하여 데코레이션의 기능을 구현되는 층이다. 또한 제품 표면의 마모성, 내구성, 오염 방지, 내긁힘성 등의 물성을 부여하기 위해 적용할 수 있는 층이다.
상기 미세 패턴은 심도가 약 1㎛ 내지 약 50㎛이고 피치가 약 1㎛ 내지 약 100㎛일 수 있다. 상기 심도 및 피치는 예를 들어, 공초점레이저주사현미경(CLSM)을 사용하여 측정할 수 있다.
도 3은 상기 미세 패턴(A)을 확대하여 개략적으로 나타낸 것이다.
도 3을 참조할 때, 상기 미세 패턴(A)는 심도(a1), 피치(a2)를 포함한다.
상기 미세 패턴은 “ 굴곡이 형성된 상기 열경화성 수지층의 패턴”을 총칭하며 기하학적 문양 뿐만아니라 불규칙적 문양을 모두 포함할 수 있다. 상기 심도는 상기 패턴이 형성된 열경화성 수지층의 단면을 볼 때, 패턴을 형성하는 상기 열경화성 수지층의 최외각 표면에서부터 굴곡의 평균 깊이를 의미할 수 있다. 또한 상기 피치는 상기 패턴이 형성된 열경화성 수지층의 단면을 볼 때, 상기 굴곡의 평균 폭을 의미할 수 있다.
상기 패턴이 상기 심도 범위를 가짐으로써 우수한 생산성, 우수한 작업성, 우수한 디자인성을 구현할 수 있다. 상기 범위 미만인 경우 패턴 형성이 어려워 생산성이 저하되고 상기 범위 초과인 경우 후술하는 제조방법에서 기재된 광경화성 임프린트 필름의 이형이 어려워 물성이 저하될 수 있다.
상기 열경화성 수지층은 열경화성 수지 및 열경화제를 포함하는 열경화성 수지 코팅액의 열경화물을 포함할 수 있다.
상기 열경화성 수지는 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 폴리 우레탄계 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나를 포함할 수 있다.
상기 열경화성 수지 코팅액은 상기 열경화성 수지를 약 10 중량% 내지 약 40 중량% 포함할 수 있다. 상기 범위 미만인 경우 상기 열경화성 수지층의 경도 및 내구성이 저하될 수 있고 상기 범위 초과인 경우 이형성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.
상기 열경화성 수지층은 약 5㎛ 내지 약 50㎛의 평균 두께 두께를 가질 수 있다. 상기 열경화성 수지층의 평균 두께는 상기 미세 패턴이 포함되지 않는 경우, 즉 평평한 평면인 상태를 가정하여 상기 열경화성 수지층의 표면으로부터 돌출되거나 오목하게 들어간 부분이 없는 상태의 두께를 의미할 수 있다.
상기 범위 미만인 경우, 상기 심도와 관계상 구현할 수 있는 미세 패턴의 종류가 한정되고 상기 범위 초과인 경우 신율이 급격히 저하되는 문제가 발생할 수 있다.
상기 증착층은 주석(sn), 인듐(In), 크롬(Cr) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 증착층은 약 5nm 내지 약 250nm 두께를 가질 수 있다.
상기 범위 미만인 경우 상기 열경화성 수지층과 상기 기재층을 견고히 증착시키기 어렵고 상기 범위 초과인 경우 성형성 저하, 부착성 저하 및 백탁현상 등에 의한 색감 저하의 문제가 발생할 수 있다.
상기 기재층은 예를 들어, 열가소성 수지를 포함할 수 있고, 상기 열가소성 수지는 예를 들어, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(ABS), 염화비닐 수지, 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리 아미드 수지, 폴리에틸렌 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 아니한다.
상기 기재층은 약 10㎛ 내지 약 500㎛ 두께를 가질 수 있다.
상기 열경화성 수지층과 상기 증착층 사이; 상기 증착층과 상기 기재층 사이; 또는 이들 모두에 프라이머층을 더 포함할 수 있다.
상기 프라이머층은 각 층간의 접착력을 높여 상기 데코레이션 시트의 내구성 향상에 도움이 된다. 상기 프라이머층은 프라이머 조성물을 대상층의 표면에 공지의 인쇄 방법 또는 도포방법에 따라 도포하고, 열경화하여 형성될 수 있다.
상기 프라이머 조성물은 아크릴우레탄 수지, 비닐 수지, 폴리에스터 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 프라이머층의 두께는 약 0.5㎛ 내지 약 5㎛로 형성될 수 있고 상기 수지의 용액상 점도를 변화시켜 두께를 조절할 수 있으며, 구체적으로, 사용되는 그라비아 인쇄 롤 또는 마이크로 그라비아 인쇄 롤에 따라 상기 프라이머층의 두께를 제어할 수 있다. 상기 그라비아 인쇄 롤과 상기 마이크로 그라비아 인쇄 롤은 메쉬크기와 심도로 구분되며, 상기 메쉬크기는 단위 넓이당 포함된 사선수를 의미한다. 상기 마이크로 그라비아 인쇄 롤은 상기 그라비아 인쇄 롤에 비해 단위 넓이당 사선수가 많지만, 심도가 얕아 상기 포켓에 묻는 코팅 조성물의 양이 적어 그라비아 인쇄 롤에 비해 얇은 두께로 코팅이 가능할 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에서, 일면에 원본 패턴을 포함하는 광경화성 수지층 및 상기 광경화성 수지층의 다른 일면 상에 투명층이 적층된 광경화성 임프린트 필름을 형성하는 단계; 상기 광경화성 수지층의 원본 패턴을 포함하는 일면 상에 열경화성 수지 코팅액을 도포하고 열경화시켜, 상기 광경화성 수지층과 접하는 일면에 상기 원본 패턴의 역상 패턴을 포함하는 열경화성 수지층을 형성하는 단계; 상기 열경화성 수지층의 다른 일면 상에 증착층을 형성하는 단계; 상기 증착층의 일면 상에 기재층을 형성하는 단계; 및 상기 광경화성 임프린트 필름을 상기 열경화성 수지층으로부터 이형시키는 단계;를 포함하는 데코레이션 시트의 제조방법을 제공한다. 상기 제조방법에 의해 일 구현예에서 전술한 데코레이션 시트를 제조할 수 있다.
도 2은 상기 데코레이션 시트의 제조방법의 개략적인 공정 순서를 나타낸다. 도 2를 참조할 때, 상기 광경화성 임프린트 필름(200)을 이용하여, 상기 열경화성 수지층(110)에 미세한 패턴을 형성할 수 있다.
상기 제조방법에서, 일면에 원본 패턴을 포함하는 광경화성 수지층 및 상기 광경화성 수지층의 다른 일면 상에 투명층이 적층된 광경화성 임프린트 필름을 형성할 수 있다.
상기 광경화성 임프린트 필름은 예를 들어, 표면에 소정의 패턴을 포함하는 금속 판재에 광경화성 수지 코팅액을 도포하는 단계; 상기 도포된 코팅액에 투명 필름을 밀착시키는 단계; 및 상기 도포된 코팅액과 이에 밀착된 투명 필름에 대하여 광을 조사하여, 광경화성 수지층을 형성하는 단계;를 포함하는 방법에 의해 형성될 수 있다. 이어서, 상기 광경화성 수지층 및 상기 투명필름을 포함하는 투명층이 적층된 적층체를 상기 금속 판재로부터 이형시킴으로써 상기 광경화성 임프린트 필름을 얻을 수 있다. 그에 따라 상기 금속 판재의 표면에 포함된 소정의 패턴과 반대되는 형상의 패턴이 상기 광경화성 수지층에 전사될 수 있다.
예를 들어, 상기 금속 판재에 광경화성 수지 코팅액을 도포하는 단계에서, 상기 광경화성 수지 코팅액은 약 1 ㎛ 내지 약 50 ㎛ 두께로 도포할 수 있다.
또한, 예를 들어, 상기 광경화성 수지층의 패턴은 엠보싱 롤 등을 이용하여 형성할 수도 있다.
상기 광경화성 수지 코팅액은 광경화성 화합물, 실리콘 화합물, 및 광개시제를 포함할 수 있다.
상기 광경화성 화합물은 아크릴계 모노머, 이의 올리고머, 이의 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 모노머로는 탄소수 1~12의 알킬기를 가지는 아크릴레이트 또는 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 보다 구체적으로는 부틸아크릴레이트,헥실아크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴 레이트, 이소노닐아크릴레이트 또는 기타 (메타)아크릴레이트계 단량체 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 광경화성 수지 코팅액은 상기 광경화성 화합물을 약 50 중량% 내지 약 99 중량%로 포함할 수 있다.
상기 광개시제는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 벤조일 퍼옥사이드(BPO) 등 당업계에 널리 알려진 라디칼 개시제가 사용될 수 있다.
상기 실리콘 화합물은 폴리에테르변성 폴리디알킬실록산(Polyether-modified polydialkylsiloxane), 아크릴 관능성 함유 폴리디알킬실록산(acryl-functional polydialkylsiloxane) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 폴리디알킬실록산은 예를 들어, 폴리디메틸실록산일 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다.
상기 투명필름은 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 또는 레핀계 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 제조방법은 상기 광경화성 수지층의 원본 패턴을 포함하는 일면 상에 열경화성 수지 코팅액을 도포하고 열경화시켜, 상기 광경화성 수지층과 접하는 일면에 상기 원본 패턴의 역상 패턴을 포함하는 열경화성 수지층을 형성할 수 있다. 상기 원본 패턴이란 상기 광경화성 수지층의 일면에 포함된 패턴을 의미할 수 있고, 이와 관련하여 상기 역상 패턴이란 상기 원본 패턴과 반대되는 형상의 패턴을 의미할 수 있다.
상기 광경화성 수지층의 원본 패턴은 미세 패턴일 수 있고, 그에 따라 상기 열경화성 수지층의 일면에 포함되는 역상 패턴도 미세 패턴일 수 있다. 상기 미세 패턴은 일 구현예에서 전술한 바와 같다.
상기 열경화성 수지 코팅액은 일 구현예에서 전술한 바와 같다.
상기 열경화성 수지 코팅액은 상기 광경화성 수지층의 일면 상에 약 5㎛ 내지 약 50㎛ 두께로 도포될 수 있고, 상기 범위 미만인 경우 패턴구현성이 저하되는 문제 및 상기 범위 초과인 경우 용제의 잔류 및 코팅불량이 발생할 수 있다.
상기 열경화는 약 100 ℃ 내지 약 130℃의 온도에서 약 0.5분 내지 약 2분 동안 열처리하여 수행할 수 있다. 상기 온도 및 시간 범위내에서 열처리 함으로써 패턴의 형태안정성이 향상된 열경화성 수지층을 제조할 수 있다.
상기 제조방법에서, 상기 열경화성 수지층의 다른 일면 상에 증착층을 형성할 수 있다. 상기 증착층은 마그네트론 스퍼터링 증착기 (Selcos Cetus-S), 일렉트론 빔 증착기 등을 이용하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다.
또한, 상기 증착층의 일면 상에 기재층을 형성할 수 있고, 상기 기재층은 예를 들어, 상기 증착층의 일면 상에 열가소성 수지를 포함하는 열가소성 수지 조성물을 도포 및 경화시켜 형성하거나, 또는 열가소성 수지 필름을 적층하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다.
상기 제조방법에서, 상기 열경화성 수지층과 상기 증착층 사이; 상기 증착층과 상기 기재층 사이; 또는 이들 모두에 프라이머층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제조방법에서, 상기 광경화성 임프린트 필름을 상기 열경화성 수지층으로부터 이형시킬 수 있고, 그에 따라 상기 데코레이션 시트가 얻어질 수 있다. 상기 광경화성 임프린트 필름은 신율이 낮아 이를 이형시켜 상기 데코레이션 시트의 신율을 향상시킬 수 있다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 제시한다. 다만, 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로서 본 발명이 제한되어서는 아니된다.
< 실시예 및 비교예 >
실시예 1
광경화성 수지 코팅액으로서 우레탄아크릴레이트 100 중량부에 대하여2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN)이 10 중량부가 포함된 아크릴레이트 수지 용액을 심도 20 ㎛ 및 피치가 10 ㎛인 패턴이 형성된 알루미늄 판재의 표면에 10 ㎛ 의 두께로 도포하였다. 다음, 38 ㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 상기 코팅액에 밀착시키고, 자외선을 광량 400 mJ/cm2로 조사함으로써 광경화성 수지 코팅액을 경화시켜 광경화성 임프린트 필름을 제조하였다.
상기 광경화성 임프린트 필름이 제조되면, 알루미늄 판재를 분리하여 상기 광경화성 임프린트 필름의 표면에 형성된 패턴을 확인하였다.
열경화성 수지 코팅액은 열경화성 수지(acryl, 20 wt%), 기능성 아크릴 폴리디메틸실록산(acryl-functional polydimethylsiloxane, 1 wt%), 아세톤 페논 (acetone phenon, 5wt% )을 혼합하여 제조한다.
상기 광경화성 임프린트 필름위에 열경화성 수지 코팅액을 50㎛로 도포하고 열경화한 후 순차적으로 프라이머층(acryl urethane)을 5㎛두께, 증착층(Sn)을 25nm두께, 프라이머층(acrylate)을 5㎛두께로 코팅하고 열경화 한다. 상기 열경화는 120℃의 온도에서 1분 동안 열처리 하며, 최종적으로 200㎛두께의 기재층(ABS)에 전사한다.
상기 열경화 및 전사한 후 상기 광경화성 임프린트 필름을 이형시킨다.
실시예 2
상기 광경화성 수지층에 실리콘 화합물이 없는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 데코레이션 시트를 제조하였다.
비교예 1
광경화성 수지 코팅액으로서 우레탄아크릴레이트 100 중량부에 대하여 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN)이 10 중량부가 포함된 아크릴레이트 수지 용액을 심도 20 ㎛ 및 피치가 10 ㎛인 패턴이 형성된 알루미늄 판재의 표면에 10 ㎛ 의 두께로 도포하였다. 다음, 38 ㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 상기 코팅액에 밀착시키고, 자외선을 광량 400 mJ/cm2로 조사함으로써 광경화성 수지 코팅액을 경화시켜 광경화성 임프린트 필름을 제조하였다.
상기 광경화성 임프린트 필름이 제조되면, 알루미늄 판재를 분리하여 상기 광경화성 임프린트 필름의 표면에 형성된 패턴을 확인하였다.
상기 광경화성 임프린트 필름위에 순차적으로 프라이머층(acryl urethane)을 5㎛두께, 증착층 (Sn)을 25nm두께, 프라이머층(acrylate)을 5㎛두께로 코팅하고 각각 120℃의 온도에서 1분 동안 열경화하여 최종적으로 200㎛두께의 기재층(ABS)에 전사한다.
상기 열경화 및 전사한 후 상기 광경화성 임프린트 필름을 이형시킨다.
<평가>
상기 실시예 및 비교예의 데코레이션 시트에 대하여 하기와 같은 물성을 평가하여 그 결과를 표 1에 나타내었다.
실험예 1: 신율 ( % ) 평가
상기 실시예 및 비교예에 따른 데코레이션 시트를 ASTM-D882 방법에 따라 신율을 평가하였다. 구체적으로 폭 10mm, 길이 150mm 시편 중앙에 10mm 간격으로 표시한 후 100℃ Hot Plate에서 3분간 방치 후 양쪽에서 당겼을 때 표면에 이상이 없는 부분의 변형률을 측정한다. 변형길이(ΔL)/초기길이(L: 10mm)×100으로 계산한다.
실험예 2: 내선크림성 평가
상기 실시예 및 비교예에 따른 데코레이션 시트 위에 썬크림(SP+++ 50)을 0.25g 바른 후, 시트에 얹은 다음, 위에 아크릴판을 덮은 후 80도 오븐에 1시간 방치 후 다시 꺼내서 1시간 동안 냉각 시키고, 이후 중성세제로 닦은 후 표면의 상태 변화를 평가하였다. 팽윤이나 변색, 크랙 발생 여부, 내오염성 등에 대하여 평가하였다.
실험예 3: 광경화성 임프린트 필름 이형 용이성 평가
상기 실시예에 따른 데코레이션 시트에서 상기 광경화성 임프린트 필름을 이형시켜 표면의 상태변화를 평가하였다. 구체적으로 상기 열경화성 수지층 표면에 상기 광경화성 임프린트 필름이 눌러 붙거나 손상발생 여부 등에 대하여 평가하였다.
구분 신율(%) 내선크림성 이형 용이성
실시예 1 200% 양호 양호
실시예 2 130% 양호 미세 손상
비교예 1 70% 팽윤, 미세 변색 대상아님
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 상기 실시예 1 및 2에 따른 데코레이션 시트는 우수한 신율, 우수한 내선크림성을 구현할 수 있고, 특히 상기 실시예 1의 경우 이형성도 우수하여 데코레이션 시트의 물성을 더욱 우수한 수준으로 구현할 수 있다.
반면, 상기 비교예 1에 따른 데코레이션 시트의 경우 신율 및 내선크림성이 현저히 열등함을 명확히 확인하였다.
100: 데코레이션 시트
110: 열경화성 수지층
120: 증착층
130: 기재층
140: 프라이머층
200: 광경화성 임프린트 필름
210: 투명필름
220: 광경화성 수지층
A: 미세 패턴
a1: 심도
a2: 피치

Claims (8)

  1. 열경화성 수지층, 증착층 및 기재층을 순차적으로 포함하고, 상기 열경화성 수지층은 표면에 미세 패턴을 포함하며, 시트의 신율은 200% 내지 300%인
    데코레이션 시트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 미세 패턴은 심도가 1㎛ 내지 50㎛이고 피치가 1㎛ 내지 100㎛인
    데코레이션 시트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 열경화성 수지층은 5㎛ 내지 50㎛의 평균 두께를 갖는
    데코레이션 시트.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 증착층은 주석(sn), 인듐(In), 크롬(Cr) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는
    데코레이션 시트.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 증착층은 5nm 내지 250nm 두께를 갖는
    데코레이션 시트.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 열경화성 수지층과 상기 증착층 사이; 및 상기 증착층과 상기 기재층 사이; 또는 이들 모두에 프라이머층을 더 포함하는
    데코레이션 시트.
  7. 일면에 원본 패턴을 포함하는 광경화성 수지층 및 상기 광경화성 수지층의 다른 일면 상에 투명층이 적층된 광경화성 임프린트 필름을 형성하는 단계;
    상기 광경화성 수지층의 원본 패턴을 포함하는 일면 상에 열경화성 수지 코팅액을 도포하고 열경화시켜, 상기 광경화성 수지층과 접하는 일면에 상기 원본 패턴의 역상 패턴을 포함하는 열경화성 수지층을 형성하는 단계;
    상기 열경화성 수지층의 다른 일면 상에 증착층을 형성하는 단계;
    상기 증착층의 일면 상에 기재층을 형성하는 단계; 및
    상기 광경화성 임프린트 필름을 상기 열경화성 수지층으로부터 이형시키는 단계;
    를 포함하는 데코레이션 시트의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서
    열경화성 수지층을 형성하는 단계에서, 상기 열경화는 100℃ 내지 130℃의 온도에서 0.5분 내지 2분 동안 열처리하여 수행하는
    데코레이션 시트 제조방법.

KR1020160149795A 2016-11-10 2016-11-10 미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법 KR102109456B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160149795A KR102109456B1 (ko) 2016-11-10 2016-11-10 미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법
PCT/KR2017/012130 WO2018088746A1 (ko) 2016-11-10 2017-10-31 미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법
US16/348,629 US11287738B2 (en) 2016-11-10 2017-10-31 Method for producing decoration sheet having micropattern

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160149795A KR102109456B1 (ko) 2016-11-10 2016-11-10 미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180052828A true KR20180052828A (ko) 2018-05-21
KR102109456B1 KR102109456B1 (ko) 2020-05-13

Family

ID=62109851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160149795A KR102109456B1 (ko) 2016-11-10 2016-11-10 미세 패턴을 가지는 데코레이션 시트 및 이의 제조방법

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11287738B2 (ko)
KR (1) KR102109456B1 (ko)
WO (1) WO2018088746A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020071633A1 (ko) * 2018-10-02 2020-04-09 주식회사 엘지하우시스 접착제 조성물 및 이를 포함하는 데코시트

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021002063A1 (ja) * 2019-07-01 2021-01-07 アルプスアルパイン株式会社 加飾シートおよび静電入力装置
ES2981496T3 (es) * 2022-05-19 2024-10-09 Fritz Egger Gmbh & Co Og Procedimiento para la fabricación de un medio estructurante para texturizar una superficie de material estampable, en particular una superficie de laminado que contiene resina, y medio estructurante de este tipo

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020010379A (ko) * 2000-07-29 2002-02-04 김만석 필름을 이용한 금속무늬 장식용 마감재 및 그 제조방법
KR100799318B1 (ko) * 2004-01-06 2008-01-30 애버리 데니슨 코포레이션 텍스쳐 표면을 가진 스크린 인쇄된 라미네이트
KR20100030927A (ko) * 2008-09-11 2010-03-19 (주)엘지하우시스 입체패턴을 갖는 인테리어판넬 제조방법과 이 방법에 의하여 제조된 인테리어판넬
KR20140094260A (ko) * 2013-01-22 2014-07-30 (주)엘지하우시스 외관 장식 효과가 우수한 금속 질감의 인테리어 시트 및 그 제조 방법

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0664358A (ja) * 1992-08-21 1994-03-08 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版用支持体
JP2000301681A (ja) * 1999-04-19 2000-10-31 Dainippon Printing Co Ltd 化粧シート及びそれを用いた化粧材
CN100469570C (zh) * 2001-11-28 2009-03-18 三菱树脂株式会社 层压树脂薄板、施以压花薄板和涂覆基材
EP1555572B1 (en) * 2002-10-24 2008-12-10 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin printing plate original, process for producing the same and process for producing resin relief printing plate therewith
KR100701652B1 (ko) 2005-09-21 2007-03-29 주식회사 지티월드 폴리프로필렌 필름의 제조방법
EP1975704A3 (en) * 2007-03-30 2008-12-10 Fujifilm Corporation Mold structure, imprinting method using the same, magnetic recording medium and production method thereof
KR100820300B1 (ko) 2007-06-04 2008-04-08 주식회사 지티월드 표면강도가 향상된 친환경 폴리에스테르 필름 및 이의제조방법
KR101175721B1 (ko) * 2008-10-30 2012-08-22 (주)엘지하우시스 장식용 경면 입체 성형시트 및 그 제조방법
KR20100136082A (ko) 2009-06-18 2010-12-28 주식회사 에스엠 인테리어 시트 및 그 제조방법
KR20140004296U (ko) 2013-01-03 2014-07-16 씨제이제일제당 (주) 데코레이션 시트
JP2017205992A (ja) * 2016-05-20 2017-11-24 大日本印刷株式会社 加飾シート及び加飾物品

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020010379A (ko) * 2000-07-29 2002-02-04 김만석 필름을 이용한 금속무늬 장식용 마감재 및 그 제조방법
KR100799318B1 (ko) * 2004-01-06 2008-01-30 애버리 데니슨 코포레이션 텍스쳐 표면을 가진 스크린 인쇄된 라미네이트
KR20100030927A (ko) * 2008-09-11 2010-03-19 (주)엘지하우시스 입체패턴을 갖는 인테리어판넬 제조방법과 이 방법에 의하여 제조된 인테리어판넬
KR20140094260A (ko) * 2013-01-22 2014-07-30 (주)엘지하우시스 외관 장식 효과가 우수한 금속 질감의 인테리어 시트 및 그 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020071633A1 (ko) * 2018-10-02 2020-04-09 주식회사 엘지하우시스 접착제 조성물 및 이를 포함하는 데코시트

Also Published As

Publication number Publication date
KR102109456B1 (ko) 2020-05-13
US20190310546A1 (en) 2019-10-10
WO2018088746A1 (ko) 2018-05-17
US11287738B2 (en) 2022-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2786876B1 (en) Transfer film for in-mold injection showing three-dimensional pattern, and preparation method thereof
JP6597305B2 (ja) 転写フィルム及びこれを用いた転写成形品
KR101882540B1 (ko) 삼차원 성형용 장식 시트 및 그 제조 방법과 상기 장식 시트를 사용한 장식 성형품 및 그 제조 방법
US9956588B2 (en) Films expressing metallic appearance using ultraviolet curable resin and method of manufacturing thereof
TWI605957B (zh) 包含立體圖案的裝飾膜及其製備方法
KR102201531B1 (ko) 박리 웹, 텍스처를 가진 제품, 박리 웹을 제조하는 방법 및 텍스처를 가진 제품을 제조하는 방법
US11287738B2 (en) Method for producing decoration sheet having micropattern
KR20150102553A (ko) 금속 외관 효과가 우수한 인테리어 필름 및 이의 제조방법
KR101213258B1 (ko) 입체 엠보스 효과의 라미네이션용 플라스틱 필름 및 그의제조방법
KR101557539B1 (ko) 금속 외관 효과를 구현한 인테리어 필름 및 그 제조방법
KR101103409B1 (ko) 고광택 곡면 장식 패널 및 그 제조방법
JP6438590B2 (ja) 真空熱成形用デコレーションシート、及びこれを使用して形成された物品、真空熱成形用デコレーションシートの製造方法
TWI511878B (zh) 含紫外線硬化型樹脂之具有金屬效果的高光澤片材及其製備方法
JP2007237457A (ja) 表面微細凹凸構造を有する成形品およびその製造方法
JP2014079983A (ja) クラックの発生を抑制できる転写シート
KR20150073412A (ko) 장식 시트 및 그 제조 방법
JP2018012279A (ja) 三次元加飾用フィルム、三次元加飾成型体および三次元加飾用フィルムの製造方法
TWI541145B (zh) 體現金屬外觀效果的裝飾膜及其製備方法
KR102088998B1 (ko) 데코 시트 및 이의 제조 방법
JP2014205294A (ja) 熱成形用樹脂積層体及びその成形方法
KR102695432B1 (ko) 수지 조성물 및 이를 이용한 적층체
KR102696144B1 (ko) 나노패턴을 이용한 색변환 인테리어 필름 및 이의 제조방법
KR20130045591A (ko) 내스크래치성 및 굴곡가공성이 우수한 하이그로시 데코시트
KR20220068471A (ko) 전사 필름 및 이의 제조 방법
KR102217425B1 (ko) 성형성이 우수한 데코레이션 시트 및 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant