KR20180011147A - 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법 - Google Patents

적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180011147A
KR20180011147A KR1020177035953A KR20177035953A KR20180011147A KR 20180011147 A KR20180011147 A KR 20180011147A KR 1020177035953 A KR1020177035953 A KR 1020177035953A KR 20177035953 A KR20177035953 A KR 20177035953A KR 20180011147 A KR20180011147 A KR 20180011147A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
laminate
meth
acrylate
functional layer
Prior art date
Application number
KR1020177035953A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102028470B1 (ko
Inventor
마사유키 구스모토
다츠야 오바
신지 히키타
교히사 우치우미
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20180011147A publication Critical patent/KR20180011147A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102028470B1 publication Critical patent/KR102028470B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
    • C23C28/023—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • B05D1/265—Extrusion coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0254—After-treatment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B23/00—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
    • B32B23/04—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B23/08—Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/302—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising aromatic vinyl (co)polymers, e.g. styrenic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/304—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/02—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/02—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions
    • B32B3/08—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions characterised by added members at particular parts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D147/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
    • C23C14/205—Metallic material, boron or silicon on organic substrates by cathodic sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3464—Sputtering using more than one target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/34—Nitrides
    • C23C16/345—Silicon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54—Electroplating of non-metallic surfaces
    • C25D5/56—Electroplating of non-metallic surfaces of plastics
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
    • B05D7/04—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber to surfaces of films or sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/02—2 layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/24—All layers being polymeric
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B32B2255/205—Metallic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/26—Polymeric coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/28—Multiple coating on one surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/51—Elastic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/538—Roughness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B32B2307/7244—Oxygen barrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B32B2307/7246—Water vapor barrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/732—Dimensional properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

양자 도트가 수분이나 산소에 의하여 열화되는 것을 방지할 수 있어, 높은 내구성을 갖고, 또 협프레임화가 가능하여, 높은 생산성을 갖는 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법을 제공한다. 광학 기능층과, 상기 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고, 에지면 밀봉층은, 적어도 2층으로 이루어지는 적층체이며, 각층이 금속으로 이루어진다.

Description

적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법
본 발명은 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치(이하, LCD라고도 함)는, 소비 전력이 작고, 공간을 절약할 수 있는 화상 표시 장치로서 해마다 그 용도가 확대되고 있다. 또, 최근의 액정 표시 장치에 있어서, LCD 성능 개선으로서 추가적인 전력 절약화, 색재현성 향상 등이 요구되고 있다.
LCD의 백라이트의 전력 절약화에 따라, 광이용 효율을 높이고, 또 색재현성을 향상시키기 위하여, 입사광의 파장을 변환하여 출사하는 양자 도트를 이용하는 것이 제안되고 있다.
양자 도트란, 3차원 전체 방향에 있어서 이동 방향이 제한된 전자 상태의 결정이며, 반도체의 나노 입자가, 높은 포텐셜 장벽으로 3차원적으로 둘러싸여 있는 경우에, 이 나노 입자는 양자 도트가 된다. 양자 도트는 다양한 양자 효과를 발현한다. 예를 들면, 전자의 상태 밀도(에너지 준위)가 이산화(離散化)되는 "양자 사이즈 효과"가 발현된다. 이 양자 사이즈 효과에 의하면, 양자 도트의 크기를 변화시킴으로써, 광의 흡수 파장·발광 파장을 제어할 수 있다.
일반적으로, 이와 같은 양자 도트는, 수지 등 중에 분산되고, 예를 들면 파장 변환을 행하는 양자 도트 필름으로서, 백라이트와 액정 패널의 사이에 배치되어 이용된다.
백라이트로부터 양자 도트를 포함하는 필름에 여기광이 입사하면, 양자 도트가 여기되어 형광을 발광한다. 여기에서 다른 발광 특성을 갖는 양자 도트를 이용함으로써, 적색광, 녹색광, 청색광의 반값폭이 좁은 광을 발광시켜 백색광을 구현화할 수 있다. 양자 도트에 의한 형광은 반값폭이 좁기 때문에, 파장을 적절히 선택함으로써 얻어지는 백색광을 고휘도로 하거나 색재현성이 우수한 설계로 하는 것이 가능하다.
그런데, 양자 도트는, 수분이나 산소에 의하여 열화되기 쉽고, 광산화 반응에 의하여 발광 강도가 저하된다는 과제가 있다. 이로 인하여, 양자 도트를 포함하는 수지층(이하, "양자 도트층"이라고도 함)의 양면에 가스 배리어 필름을 적층하여 양자 도트층을 보호하는 것이 행해지고 있다.
그러나, 양자 도트층의 양 주면(主面)을 가스 배리어 필름으로 보호하는 것만으로는, 가스 배리어 필름으로 보호되어 있지 않은 에지면으로부터 수분이나 산소가 침입하여, 양자 도트가 열화된다는 문제가 있었다.
이로 인하여, 양자 도트층의 주위 전부를 가스 배리어 필름으로 보호하는 것이 제안되고 있다.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 양자 도트 형광체를 농도 0.01질량%~20질량%의 범위에서 사이클로올레핀 (공)중합체에 분산시킨 조성물이 기재되어 있고, 양자 도트가 분산된 수지 성형체의 전체면을 피복하는 가스 배리어층을 갖는 구성이 기재되어 있다. 또, 이 가스 배리어층은, 수지층의 적어도 한쪽 면에 실리카막 또는 알루미나막을 형성한 가스 배리어 필름인 것이 기재되어 있다.
또, 특허문헌 2에는, 발광 양자 도트(QD) 집단을 포함하는 원격 형광체 필름을 구비하는 디스플레이 백라이트 유닛이 기재되어 있고, QD 형광체 재료를 2개의 가스 배리어 필름 사이에 두고, QD 형광체 재료의 주위 주변의 2개의 가스 배리어 필름 사이의 영역에 가스 배리어성을 갖는 불활성 영역을 갖는 구성이 기재되어 있다.
또, 특허문헌 3에는, 광원부로부터 발광된 색광의 적어도 일부를 다른 색광으로 변환하는 색변환층과, 색변환층을 밀봉하는 불투수성의 밀봉 시트를 구비한 발광 장치가 기재되어 있고, 형광체층의 외주를 따라, 즉 형광체층의 평면 형상을 둘러싸도록 프레임 형상으로 마련되어 있는 제2 첩합층을 갖고, 이 제2 첩합층이 가스 배리어성을 갖는 접착 재료로 이루어지는 구성이 기재되어 있다.
또, 특허문헌 3에는, QD 필름을 밀봉하는 배리어층인 상부층 및/또는 바닥부층이 협압(狹壓)되어, 단부의 개구를 좁게 함으로써 산소나 물의 침입을 억제하는 구성이 기재되어 있다.
또, 특허문헌 4에는, 여기광을 파장 변환하여 파장 변환광을 발생시키는 양자점 및 양자점을 분산시키는 분산 매질을 포함하는 파장 변환부와, 파장 변환부를 밀봉하는 밀봉 부재를 포함하는 양자점 파장 변환체가 기재되어 있고, 밀봉 시트의 단부 영역을 가열하여 열점착시킴으로써 파장 변환부를 밀봉하는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 국제 공개공보 제2012/102107호 특허문헌 2: 일본 공표특허공보 2013-544018호 특허문헌 3: 일본 공개특허공보 2009-283441호 특허문헌 4: 일본 공개특허공보 2010-061098호
그런데, LCD에 이용되는, 양자 도트를 포함하는 필름은, 50μm~350μm 정도의 박형의 필름이다.
얇은 양자 도트층의 전체면을 가스 배리어 필름으로 피복하는 것은 매우 곤란하고, 생산성이 나쁘다는 문제가 있었다. 또, 가스 배리어 필름을 절곡하면 배리어층이 균열되어 가스 배리어성이 저하된다는 문제도 있었다.
한편, 2개의 가스 배리어 필름 사이에 낀, 양자 도트층의 에지면 영역에, 가스 배리어성을 갖는 보호층을 형성하는 구성의 경우에는, 예를 들면 이른바 댐필 방식으로, 보호층 및 수지층을 형성하는 것이 생각된다. 즉, 한쪽의 가스 배리어 필름 상의 둘레 가장자리 부분에 보호층을 형성한 후에, 보호층에 둘러싸인 영역 내에 수지층을 형성하고, 그 후, 보호층 및 수지층 상에, 다른 쪽의 가스 배리어 필름을 적층함으로써 양자 도트를 포함하는 필름을 제작하는 것이 생각된다.
그러나, 이와 같은 방법으로 형성 가능한 보호층의 재료는, 접착 재료 등이기 때문에 높은 배리어성을 부여하지 못하여, 가스 배리어성이나 내구성이 충분하지 않았다.
또, 이와 같은 댐필 방식으로는, 전체 공정이 배치(batch) 방식이 되기 때문에 생산성이 매우 나쁘다는 문제가 있었다.
또, 양자 도트층을 사이에 둔 2개의 가스 배리어 필름의 단부의 개구를 좁게 하거나, 혹은 밀봉하는 구성에서는, 단부에서의, 양자 도트층의 두께가 얇아지기 때문에, 단부에서는 그 기능을 충분히 발현하지 못하여, 유효하게 이용할 수 있는 영역의 크기가 작아지고, 프레임 부분이 커진다는 문제가 있었다. 또, 일반적으로, 높은 가스 배리어성을 구비하는 배리어층은, 단단하고 부서지기 쉽기 때문에, 이와 같은 배리어층을 갖는 가스 배리어 필름을 갑자기 만곡시키면, 배리어층이 균열되고, 가스 배리어성이 저하되어, 양자 도트층으로의 수분이나 산소의 침입을 억제할 수 없게 된다는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은, 이와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하는 것에 있으며, 양자 도트층 등의 광학 기능층이 수분이나 산소에 의하여 열화되는 것을 방지할 수 있어, 높은 내구성을 갖고, 또 협(狹)프레임화가 가능하여, 높은 생산성을 갖는 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 연구한 결과, 광학 기능층과, 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고, 에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어짐으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은 이하의 구성의 적층 필름 및 그 제조 방법을 제공한다.
(1) 광학 기능층과, 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및
기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고,
에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 적층 필름.
(2) 에지면 밀봉층의 기능층 적층체에 접하는 제1층 이외의 적어도 1층이, 금속 도금층인 (1)에 기재된 적층 필름.
(3) 에지면 밀봉층의 기능층 적층체로부터 가장 먼 최표층이, 금속 도금층인 (1) 또는 (2)에 기재된 적층 필름.
(4) 금속 도금층의 두께가 기능층 적층체에 접하는 제1층의 두께보다 두꺼운 (2) 또는 (3)에 기재된 적층 필름.
(5) 제1층의 두께가 0.001μm~0.5μm이며,
금속 도금층의 두께가 0.01μm~100μm인 (4)에 기재된 적층 필름.
(6) 기능층 적층체에 접하는 제1층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 구리, 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금이며,
제1층 이외의 각층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 니켈, 주석, 구리, 은, 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금인 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(7) 에지면 밀봉층의 두께가 0.1μm~100μm인 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(8) 광학 기능층과 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체의 측면에, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 갖는 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름을 제조하는 적층 필름의 제조 방법으로서,
기능층 적층체를 복수 매 중첩한 적층물의 에지면에, 기능층 적층체에 접하는 제1층을 형성하는 제1층 형성 공정과,
적층물의 에지면에 형성된 제1층 상에 최표층을 형성하는 최표층 형성 공정을 갖고,
제1층의 형성 방법이, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 적층 필름의 제조 방법.
(9) 에지면 밀봉층의 제1층 이외의 적어도 1층의 형성 방법이, 금속 도금 처리인 (8)에 기재된 적층 필름의 제조 방법.
(10) 광학 기능층과, 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및
기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고,
에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 각각 금속으로 이루어지는 적층 필름으로서,
광학 기능층은, 형광체 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화층인 적층 필름.
(11) 중합성 화합물은 단관능 중합성 화합물로 이루어지는 제1 중합성 화합물의 적어도 1종과 다관능 중합성 화합물로 이루어지는 제2 중합성 화합물의 적어도 1종을 포함하는 (10)에 기재된 적층 필름.
(12) 제1 중합성 화합물이 알킬기의 탄소수가 4~30인 지방족 또는 방향족 알킬(메트)아크릴레이트이며,
제2 중합성 화합물이 1,6-헥세인다이올다이아크릴레이트, 1,10-데케인다이올다이아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이(메트)아크릴레이트, 트라이사이클로데케인다이메탄올다이아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일다이(메트)아크릴레이트, 및 에톡시화 비스페놀 A 다이아크릴레이트 중에서 선택되는 (11)에 기재된 적층 필름.
(13) 광학 기능층의 50℃에 있어서의 탄성률이 1MPa~4000MPa인 (10) 내지 (12) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(14) 가스 배리어층이 광학 기능층의 양쪽의 주면에 적층되어 이루어지는 (10) 내지 (13) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(15) 광학 기능층의 형광체는, 양자 도트, 양자 로드, 테트라포드형 양자 도트인 (10) 내지 (14) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(16) 에지면 밀봉층의 기능층 적층체에 접하는 제1층 이외의 적어도 1층이, 금속 도금층인 (10) 내지 (15) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(17) 에지면 밀봉층의 기능층 적층체로부터 가장 먼 최표층이, 금속 도금층인 (10) 내지 (16) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(18) 금속 도금층의 두께가 기능층 적층체에 접하는 제1층의 두께보다 두꺼운 (16) 또는 (17)에 기재된 적층 필름.
(19) 제1층의 두께가 0.001μm~0.5μm이며,
금속 도금층의 두께가 0.01μm~100μm인 (18)에 기재된 적층 필름.
(20) 기능층 적층체에 접하는 제1층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 구리, 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금이며,
제1층 이외의 각층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 니켈, 주석, 구리, 은, 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금인 (10) 내지 (19) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(21) 에지면 밀봉층의 두께가 0.1μm~100μm인 (10) 내지 (20) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름.
(22) 광학 기능층과 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체의 측면에, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 갖는 (10) 내지 (21) 중 어느 하나에 기재된 적층 필름을 제조하는 적층 필름의 제조 방법으로서,
가스 배리어층을 갖는 가스 배리어 필름 위에, 형광체 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 도포하여 경화시켜 이루어지는 기능층 적층체를 형성하고,
기능층 적층체를 복수 매 중첩한 적층물의 에지면에, 기능층 적층체에 접하는 제1층을 형성하는 제1층 형성 공정과,
적층물의 에지면에 형성된 제1층 상에 최표층을 형성하는 최표층 형성 공정을 가지며,
제1층의 형성 방법이, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 적층 필름의 제조 방법.
(23) 에지면 밀봉층의 제1층 이외의 적어도 1층의 형성 방법이, 금속 도금 처리인 (22)에 기재된 적층 필름의 제조 방법.
이와 같은 본 발명에 의하면, 양자 도트가 수분이나 산소에 의하여 열화되는 것을 방지할 수 있어, 높은 내구성을 갖고, 또 협프레임화가 가능하여, 높은 생산성을 갖는 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 적층 필름의 일례를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 적층 필름에 이용되는 가스 배리어 필름의 일례를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 적층 필름의 다른 일례를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 에지면 밀봉층의 겹치는 양을 설명하기 위한 개략 단면도이다.
도 5a는 본 발명의 적층 필름의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 개략도이다.
도 5b는 본 발명의 적층 필름의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 개략도이다.
도 5c는 본 발명의 적층 필름의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 개략도이다.
도 5d는 본 발명의 적층 필름의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 개략도이다.
도 6은 비교예 3의 적층 필름의 에지면의 단면의 광학 현미경 사진이다.
이하, 본 발명의 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법에 대하여, 첨부된 도면에 나타나는 적합한 실시예를 바탕으로, 상세하게 설명한다.
이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
본 발명의 제1 양태의 적층 필름은, 광학 기능층과, 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고, 에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 적층 필름이다.
또, 본 발명의 제2 양태의 적층 필름은, 형광체 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 광학 기능층과, 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고, 에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 적층 필름이다.
도 1은 본 발명의 적층 필름의 일례를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 1에 나타내는 적층 필름(10a)은, 광학 기능층(12) 및 광학 기능층(12)의 양 주면에 각각 적층되는 2개의 가스 배리어층(14)을 갖는 기능층 적층체(11)와, 기능층 적층체(11)의 측면을 덮도록 형성되는 에지면 밀봉층(16a)을 갖는다.
광학 기능층(12)은, 파장 변환 등의 원하는 기능을 발현하기 위한 층이다.
일례로서, 광학 기능층(12)은, 다수의 형광체(양자 도트)를 경화성의 수지 등의 매트릭스 중에 분산하여 이루어지는 양자 도트층이며, 광학 기능층(12)에 입사한 광의 파장을 변환하여 출사하는 기능을 갖는 것이다.
예를 들면, 도시하지 않은 백라이트로부터 출사된 청색광이 광학 기능층(12)에 입사하면, 광학 기능층(12)은, 내부에 함유하는 양자 도트의 효과에 의하여, 이 청색광의 적어도 일부를 적색광 혹은 녹색광으로 파장 변환하여 출사한다.
여기에서, 청색광이란 400nm~500nm의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 광이며, 녹색광이란 500nm 초과 600nm의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 광이고, 적색광이란 600nm 초과 680nm 이하의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 광이다.
또한, 양자 도트층이 발현하는 파장 변환의 기능은, 청색광을 적색광 혹은 녹색광으로 파장 변환하는 구성에 한정되지는 않고, 입사광의 적어도 일부를 다른 파장의 광으로 변환하는 것이면 된다.
양자 도트는, 적어도, 입사하는 여기광에 의하여 여기되어 형광을 발광한다.
양자 도트층에 함유되는 양자 도트의 종류에는 특별히 한정은 없고, 요구되는 파장 변환의 성능 등에 따라, 다양한 공지의 양자 도트를 적절히 선택하면 된다.
양자 도트에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2012-169271호 단락 0060~0066을 참조할 수 있지만, 여기에 기재된 것에 한정되는 것은 아니다. 양자 도트로서는, 시판품을 아무런 제한없이 이용할 수 있다. 양자 도트의 발광 파장은, 통상, 입자의 조성, 사이즈에 따라 조정할 수 있다.
양자 도트는, 매트릭스 중에 균일하게 분산되는 것이 바람직하지만, 매트릭스 중에 편재되어 분산되어도 된다. 또, 양자 도트는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
2종 이상 병용하는 경우는, 발광광의 파장이 다른 2종 이상의 양자 도트를 사용해도 된다.
구체적으로는, 공지의 양자 도트에는, 600nm 초과 680nm의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트 (A), 500nm 초과 600nm의 범위의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트 (B), 400nm~500nm의 파장 대역에 발광 중심 파장을 갖는 양자 도트 (C)가 있고, 양자 도트 (A)는, 여기광에 의하여 여기되어 적색광을 발광하며, 양자 도트 (B)는 녹색광을, 양자 도트 (C)는 청색광을 발광한다. 예를 들면, 양자 도트 (A)와 양자 도트 (B)를 포함하는 양자 도트 함유 적층체에 여기광으로서 청색광을 입사시키면, 양자 도트 (A)에 의하여 발광되는 적색광, 양자 도트 (B)에 의하여 발광되는 녹색광과, 양자 도트층을 투과한 청색광에 의하여, 백색광을 구현화할 수 있다. 또는, 양자 도트 (A), (B), 및 (C)를 포함하는 양자 도트층에 여기광으로서 자외광을 입사시킴으로써, 양자 도트 (A)에 의하여 발광되는 적색광, 양자 도트 (B)에 의하여 발광되는 녹색광, 및 양자 도트 (C)에 의하여 발광되는 청색광에 의하여, 백색광을 구현화할 수 있다.
또, 양자 도트로서, 형상이 로드(rod) 형상이며 지향성을 갖고 편광을 발하는, 이른바 양자 로드나, 테트라포드형 양자 도트를 이용해도 된다.
제1 양태에 있어서, 양자 도트층의 매트릭스의 종류로서는, 특별히 한정은 없고, 공지의 양자 도트층에서 이용되는 각종 수지를 이용할 수 있다.
예를 들면, 폴리에스터계 수지(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트), (메트)아크릴계 수지, 폴리 염화 바이닐계 수지, 폴리 염화 바이닐리덴계 수지 등을 들 수 있다. 혹은, 매트릭스로서, 중합성기를 갖는 경화성 화합물을 이용할 수 있다. 중합성기의 종류는, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는, (메트)아크릴레이트기, 바이닐기 또는 에폭시기이며, 보다 바람직하게는, (메트)아크릴레이트기이고, 더 바람직하게는, 아크릴레이트기이다. 또, 2개 이상의 중합성기를 갖는 중합성 단량체는, 각각의 중합성기가 동일해도 되고, 달라도 된다.
구체적으로는, 예를 들면 이하의 제1 중합성 화합물과 제2 중합성 화합물을 포함하는 수지를 매트릭스로서 이용할 수 있다.
제1 중합성 화합물은, 2관능 이상의 (메트)아크릴레이트 모노머, 및 에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 화합물인 것이 바람직하다.
2관능 이상의 (메트)아크릴레이트 모노머 중, 2관능의 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이(메트)아크릴레이트, 트라이프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일옥시에틸(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일다이(메트)아크릴레이트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
또, 2관능 이상의 (메트)아크릴레이트 모노머 중, 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, ECH 변성 글리세롤트라이(메트)아크릴레이트, EO 변성 글리세롤트라이(메트)아크릴레이트, PO 변성 글리세롤트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, EO 변성 인산 트라이아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, EO 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, PO 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트, 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨하이드록시펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨폴리(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨에톡시테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머로서는, 예를 들면 지방족 환상 에폭시 화합물, 비스페놀 A 다이글리시딜에터, 비스페놀 F 다이글리시딜에터, 비스페놀 S 다이글리시딜에터, 브로민화 비스페놀 A 다이글리시딜에터, 브로민화 비스페놀 F 다이글리시딜에터, 브로민화 비스페놀 S 다이글리시딜에터, 수소 첨가 비스페놀 A 다이글리시딜에터, 수소 첨가 비스페놀 F 다이글리시딜에터, 수소 첨가 비스페놀 S 다이글리시딜에터, 1,4-뷰테인다이올다이글리시딜에터, 1,6-헥세인다이올다이글리시딜에터, 글리세린트라이글리시딜에터, 트라이메틸올프로페인트라이글리시딜에터, 폴리에틸렌글라이콜다이글리시딜에터, 폴리프로필렌글라이콜다이글리시딜에터류; 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에터폴리올의 폴리글리시딜에터류; 지방족 장쇄 이염기산의 다이글리시딜에스터류; 고급 지방산의 글리시딜에스터류; 에폭시사이클로알케인을 포함하는 화합물 등이 적합하게 이용된다.
에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머로서 적합하게 사용할 수 있는 시판품으로서는, 다이셀 가가쿠 고교(주)의 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 8000, 씨그마 알드리치사제의 4-바이닐사이클로헥센다이옥사이드 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.
또, 에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머는 그 제법은 한정되지 않지만, 예를 들면 마루젠 KK 슛판, 제4판 실험 화학 강좌 20 유기 합성 II, 213~, 헤이세이 4년, Ed. by Alfred Hasfner, The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part 3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, 요시무라, 접착, 29권 12호, 32, 1985, 요시무라, 접착, 30권 5호, 42, 1986, 요시무라, 접착, 30권 7호, 42, 1986, 일본 공개특허공보 평11-100378호, 일본 특허공보 제2906245호, 일본 특허공보 제2926262호 등의 문헌을 참고로 하여 합성할 수 있다.
제2 중합성 화합물은, 분자 중에 수소 결합성을 갖는 관능기를 갖고, 또한 제1 중합성 화합물과 중합 반응할 수 있는 중합성기를 갖는다.
수소 결합성을 갖는 관능기로서는, 유레테인기, 유레아기, 또는 하이드록실기 등을 들 수 있다.
제1 중합성 화합물과 중합 반응할 수 있는 중합성기로서는, 예를 들면 제1 중합성 화합물이 2관능 이상의 (메트)아크릴레이트 모노머일 때는 (메트)아크릴로일기이면 되고, 제1 중합성 화합물이 에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머일 때는 에폭시기 또는 옥세탄일기이면 된다.
유레테인기를 포함하는 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, TDI, MDI, HDI, IPDI, HMDI 등의 다이아이소사이아네이트와 폴리(프로필렌옥사이드)다이올, 폴리(테트라메틸렌옥사이드)다이올, 에톡시화 비스페놀 A, 에톡시화 비스페놀 S 스파이로글라이콜, 카프로락톤 변성 다이올, 카보네이트다이올 등의 폴리올, 및 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 글리시돌다이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트 등의 하이드록시아크릴레이트를 반응시켜 얻어지는 모노머, 올리고머이며, 일본 공개특허공보 2002-265650호나, 일본 공개특허공보 2002-355936호, 일본 공개특허공보 2002-067238호 등에 기재된 다관능 유레테인 모노머를 들 수 있다. 구체적으로는, TDI와 하이드록시에틸아크릴레이트의 부가물, IPDI와 하이드록시에틸아크릴레이트의 부가물, HDI와 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(PETA)의 부가물, TDI와 PETA의 부가물을 만들고 남은 아이소사이아네이트와 도데실옥시하이드록시프로필아크릴레이트를 반응시킨 화합물, 6,6 나일론과 TDI의 부가물, 펜타에리트리톨과 TDI와 하이드록시에틸아크릴레이트의 부가물 등을 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
유레테인기를 포함하는 (메트)아크릴레이트 모노머로서 적합하게 사용할 수 있는 시판품으로서는, 교에이샤 가가쿠(주)제의 AH-600, AT-600, UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, UF-8001G, DAUA-167, 신나카무라 가가쿠 고교(주)제의 UA-160TM, 오사카 유키 가가쿠 고교(주)제의 UV-4108F, UV-4117F 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.
하이드록실기를 포함하는 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 에폭시기를 갖는 화합물과 (메트)아크릴산과의 반응에 의하여 합성되는 화합물을 들 수 있다. 대표적인 것은, 에폭시기를 갖는 화합물에 의하여, 비스페놀 A형, 비스페놀 S형, 비스페놀 F형, 에폭시화 유형(油型), 페놀의 노볼락형, 지환형으로 분류된다. 구체적인 예로서는, 비스페놀 A와 에피클로로하이드린의 부가물에 (메트)아크릴산을 반응시킨 (메트)아크릴레이트, 페놀 노볼락에 에피클로로하이드린을 반응시키고, (메트)아크릴산을 반응시킨 (메트)아크릴레이트, 비스페놀 S와 에피클로로하이드린의 부가물에 (메트)아크릴산을 반응시킨 (메트)아크릴레이트, 비스페놀 S와 에피클로로하이드린의 부가물에 (메트)아크릴산을 반응시킨 (메트)아크릴레이트, 에폭시화 대두유에 (메트)아크릴산을 반응시킨 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또, 하이드록실기를 포함하는 (메트)아크릴레이트 모노머로서 그 외에는, 말단에 카복시기, 또는 인산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
하이드록실기를 포함하는 제2 중합성 화합물로서 적합하게 사용할 수 있는 시판품으로서는, 교에이샤 가가쿠(주)제의 에폭시에스터, M-600A, 40EM, 70PA, 200PA, 80MFA, 3002M, 3002A, 3000MK, 3000A, 닛폰 가세이(주)제의 4-하이드록시뷰틸아크릴레이트, 신나카무라 가가쿠 고교(주)제의 단관능 아크릴레이트 A-SA, 단관능 메타크릴레이트 SA, 다이셀·올넥스(주)제의 단관능 아크릴레이트 β-카복시에틸아크릴레이트, 조호쿠 가가쿠 고교(주)제의 JPA-514 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.
제1 중합성 화합물과 제2 중합성 화합물의 질량비는 10:90~99:1이면 되고, 10:90~90:10인 것이 바람직하다. 제2 중합성 화합물의 함유량에 대하여 제1 중합성 화합물의 함유량이 많은 것도 바람직하고, 구체적으로는 (제1 중합성 화합물의 함유량)/(제2 중합성 화합물의 함유량)이 2~10인 것이 바람직하다.
제1 중합성 화합물과 제2 중합성 화합물을 포함하는 수지를 매트릭스로서 이용하는 경우에는, 매트릭스 중에, 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 더 포함하는 것이 바람직하다. 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 아크릴산 및 메타크릴산, 그들의 유도체, 보다 자세하게는, (메트)아크릴산의 중합성 불포화 결합((메트)아크릴로일기)을 분자 내에 1개 갖는 모노머를 들 수 있다. 이들의 구체예로서 이하에 화합물을 들지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
메틸(메트)아크릴레이트, n-뷰틸(메트)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 아이소노닐(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트 등의 알킬기의 탄소수가 1~30인 알킬(메트)아크릴레이트; 벤질(메트)아크릴레이트 등의 아랄킬기의 탄소수가 7~20인 아랄킬(메트)아크릴레이트; 뷰톡시에틸(메트)아크릴레이트 등의 알콕시알킬기의 탄소수가 2~30인 알콕시알킬(메트)아크릴레이트; N,N-다이메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의(모노알킬 또는 다이알킬)아미노알킬기의 총 탄소수가 1~20인 아미노알킬(메트)아크릴레이트; 다이에틸렌글라이콜에틸에터의 (메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜뷰틸에터의 (메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜모노메틸에터의 (메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글라이콜모노메틸에터의 (메트)아크릴레이트, 옥타에틸렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 노나에틸렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 다이프로필렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 헵타프로필렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜의 모노에틸에터(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1~10이고 말단 알킬에터의 탄소수가 1~10인 폴리알킬렌글라이콜알킬에터의 (메트)아크릴레이트; 헥사에틸렌글라이콜페닐에터의 (메트)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1~30이고 말단 아릴에터의 탄소수가 6~20인 폴리알킬렌글라이콜아릴에터의 (메트)아크릴레이트; 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일(메트)아크릴레이트, 아이소보닐(메트)아크릴레이트, 메틸렌옥사이드 부가 사이클로데카트라이엔(메트)아크릴레이트 등의 지환 구조를 갖는 총 탄소수 4~30의 (메트)아크릴레이트; 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트 등의 총 탄소수 4~30의 불소화 알킬(메트)아크릴레이트; 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸(메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜의 모노(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 옥타프로필렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 글리세롤의 모노 또는 다이(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트; 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 글리시딜기를 갖는 (메트)아크릴레이트; 테트라에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 옥타프로필렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1~30인 폴리에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트; (메트)아크릴아마이드, N,N-다이메틸(메트)아크릴아마이드, N-아이소프로필(메트)아크릴아마이드, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴아마이드, 아크릴로일모폴린 등의 (메트)아크릴아마이드 등을 들 수 있다.
단관능 (메트)아크릴레이트 모노머는 제1 중합성 화합물과 제2 중합성 화합물의 총 질량 100질량부에 대하여, 1~300질량부 포함되어 있는 것이 바람직하고, 50~150질량부 포함되어 있는 것이 보다 바람직하다.
또, 탄소수 4~30의 장쇄 알킬기를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 제1 중합성 화합물, 제2 중합성 화합물, 또는 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머 중 적어도 어느 하나가, 탄소수 4~30의 장쇄 알킬기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 장쇄 알킬기는 탄소수 12~22의 장쇄 알킬기인 것이 보다 바람직하다. 이로써, 양자 도트의 분산성이 향상되기 때문이다. 양자 도트의 분산성이 향상될수록, 광변환층으로부터 출사면으로 직행하는 광량이 증가하기 때문에, 정면 휘도 및 정면 콘트라스트의 향상에 유효하다.
탄소수 4~30의 장쇄 알킬기를 갖는 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 구체적으로는, 뷰틸(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 올레일(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 베헨일(메트)아크릴레이트, 뷰틸(메트)아크릴아마이드, 옥틸(메트)아크릴아마이드, 라우릴(메트)아크릴아마이드, 올레일(메트)아크릴아마이드, 스테아릴(메트)아크릴아마이드, 베헨일(메트)아크릴아마이드 등이 바람직하다. 그 중에서도 라우릴(메트)아크릴레이트, 올레일(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.
또, 본 발명의 제2 양태의 적층 필름에 있어서, 광학 기능층은, 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화층이다. 또 적어도 2종 이상 병용하는 중합성 화합물의 중합성기는, 동일해도 되고 달라도 되며, 바람직하게는 그 적어도 2종의 화합물은 적어도 하나 이상의 공통의 중합성기를 갖는 것이 바람직하다.
중합성기의 종류는, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는, (메트)아크릴레이트기, 바이닐기 또는 에폭시기, 옥세탄일기이고, 보다 바람직하게는, (메트)아크릴레이트기이며, 더 바람직하게는, 아크릴레이트기이다.
본 발명의 중합성 화합물은, 단관능의 중합성 화합물로 이루어지는 제1 중합성 화합물의 적어도 1종과 다관능 중합성 화합물로 이루어지는 제2 중합성 화합물의 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
구체적으로는, 예를 들면 이하의 제3 중합성 화합물과 제4 중합성 화합물을 포함하는 양태를 취할 수 있다.
제3 중합성 화합물은, 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머, 및 에폭시기, 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 1개 갖는 모노머이다.
단관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 아크릴산 및 메타크릴산, 그들의 유도체, 보다 자세하게는, (메트)아크릴산의 중합성 불포화 결합 (메트)아크릴로일기를 분자 내에 1개 갖고, 알킬기의 탄소수가 1~30인 지방족 또는 방향족 모노머를 들 수 있다. 이들의 구체예로서 이하에 화합물을 들지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
지방족 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, n-뷰틸(메트)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 아이소노닐(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트 등의 알킬기의 탄소수가 1~30인 알킬(메트)아크릴레이트;
뷰톡시에틸(메트)아크릴레이트 등의 알콕시알킬기의 탄소수가 2~30인 알콕시알킬(메트)아크릴레이트;
N,N-다이메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의(모노알킬 또는 다이알킬)아미노알킬기의 총 탄소수가 1~20인 아미노알킬(메트)아크릴레이트;
다이에틸렌글라이콜에틸에터의 (메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜뷰틸에터의 (메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜모노메틸에터의 (메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글라이콜모노메틸에터의 (메트)아크릴레이트, 옥타에틸렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 노나에틸렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 다이프로필렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 헵타프로필렌글라이콜의 모노메틸에터(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜의 모노에틸에터(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1~10이고 말단 알킬에터의 탄소수가 1~10인 폴리알킬렌글라이콜알킬에터의 (메트)아크릴레이트;
헥사에틸렌글라이콜페닐에터의 (메트)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1~30이고 말단 아릴에터의 탄소수가 6~20인 폴리알킬렌글라이콜아릴에터의 (메트)아크릴레이트;
사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일(메트)아크릴레이트, 아이소보닐(메트)아크릴레이트, 메틸렌옥사이드 부가 사이클로데카트라이엔(메트)아크릴레이트 등의 지환 구조를 갖는 총 탄소수 4~30의 (메트)아크릴레이트; 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트 등의 총 탄소수 4~30의 불소화 알킬(메트)아크릴레이트;
2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸(메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜의 모노(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 옥타프로필렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 글리세롤의 모노(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트;
글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 글리시딜기를 갖는 (메트)아크릴레이트;
테트라에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트, 옥타프로필렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌쇄의 탄소수가 1~30인 폴리에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트;
(메트)아크릴아마이드, N,N-다이메틸(메트)아크릴아마이드, N-아이소프로필(메트)아크릴아마이드, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴아마이드, 아크릴로일모폴린 등의 (메트)아크릴아마이드 등을 들 수 있다.
방향족 단관능 아크릴레이트 모노머로서는, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 아랄킬기의 탄소수가 7~20인 아랄킬(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
또, 제1 중합성 화합물 중에서도, 알킬기의 탄소수가 4~30인 지방족 또는 방향족 알킬(메트)아크릴레이트가 바람직하고, 나아가서는, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일(메트)아크릴레이트, 아이소보닐(메트)아크릴레이트, 메틸렌옥사이드 부가 사이클로데카트라이엔(메트)아크릴레이트가 바람직하다. 이로써, 양자 도트의 분산성이 향상되기 때문이다. 양자 도트의 분산성이 향상될수록, 광변환층으로부터 출사면으로 직행하는 광량이 증가하기 때문에, 정면 휘도 및 정면 콘트라스트의 향상에 유효하다.
제3 중합성 화합물은, 제3 중합성 화합물과 제4 중합성 화합물의 총 질량 100질량부에 대하여, 5~99.9질량부 포함되어 있는 것이 바람직하고, 20~85질량부 포함되어 있는 것이 후술하는 이유에서 바람직하다.
제4 중합성 화합물은, 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머, 및 에폭시기, 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 분자 내에 2개 이상 갖는 모노머이다.
2관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 중, 2관능의 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이(메트)아크릴레이트, 1,10-데케인다이올다이아크릴레이트, 트라이프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 트라이사이클로데케인다이메탄올다이아크릴레이트, 에톡시화 비스페놀 A 다이아크릴레이트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
또, 2관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 중, 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, ECH 변성 글리세롤트라이(메트)아크릴레이트, EO 변성 글리세롤트라이(메트)아크릴레이트, PO 변성 글리세롤트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, EO 변성 인산 트라이아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, EO 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, PO 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트, 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨하이드록시펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨폴리(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨에톡시테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
또, 다관능 모노머로서, 분자 내에 유레테인 결합을 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머, 구체적으로는, TDI와 하이드록시에틸아크릴레이트의 부가물, IPDI와 하이드록시에틸아크릴레이트의 부가물, HDI와 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(PETA)의 부가물, TDI와 PETA의 부가물을 만들고 남은 아이소사이아네이트와 도데실옥시하이드록시프로필아크릴레이트를 반응시킨 화합물, 6,6 나일론과 TDI의 부가물, 펜타에리트리톨과 TDI와 하이드록시에틸아크릴레이트의 부가물 등을 이용할 수도 있다.
에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머로서는, 예를 들면 지방족 환상 에폭시 화합물, 비스페놀 A 다이글리시딜에터, 비스페놀 F 다이글리시딜에터, 비스페놀 S 다이글리시딜에터, 브로민화 비스페놀 A 다이글리시딜에터, 브로민화 비스페놀 F 다이글리시딜에터, 브로민화 비스페놀 S 다이글리시딜에터, 수소 첨가 비스페놀 A 다이글리시딜에터, 수소 첨가 비스페놀 F 다이글리시딜에터, 수소 첨가 비스페놀 S 다이글리시딜에터, 1,4-뷰테인다이올다이글리시딜에터, 1,6-헥세인다이올다이글리시딜에터, 글리세린트라이글리시딜에터, 트라이메틸올프로페인트라이글리시딜에터, 폴리에틸렌글라이콜다이글리시딜에터, 폴리프로필렌글라이콜다이글리시딜에터류; 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에터폴리올의 폴리글리시딜에터류; 지방족 장쇄 이염기산의 다이글리시딜에스터류; 고급 지방산의 글리시딜에스터류; 에폭시사이클로알케인을 포함하는 화합물 등이 적합하게 이용된다.
에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머로서 적합하게 사용할 수 있는 시판품으로서는, 다이셀 가가쿠 고교(주)의 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 8000, 씨그마 알드리치사제의 4-바이닐사이클로헥센다이옥사이드 등을 들 수 있다.
또, 에폭시기 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관능기를 2개 이상 갖는 모노머는 그 제법은 한정되지 않지만, 예를 들면 마루젠 KK 슛판, 제4판 실험 화학 강좌 20 유기 합성 II, 213~, 헤이세이 4년, Ed. by Alfred Hasfner, The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, 요시무라, 접착, 29권 12호, 32, 1985, 요시무라, 접착, 30권 5호, 42, 1986, 요시무라, 접착, 30권 7호, 42, 1986, 일본 공개특허공보 평11-100378호, 일본 특허공보 제2906245호, 일본 특허공보 제2926262호 등의 문헌을 참고로 하여 합성할 수 있다.
제4 중합성 화합물은 제3 중합성 화합물과 제4 중합성 화합물의 총 질량 100질량부에 대하여, 0.1질량부~95질량부 포함되어 있는 것이 바람직하고, 15질량부~80질량부 포함되어 있는 것이 후술하는 이유에서 바람직하다.
여기에서, 본원의 광학 기능층에 대하여 후술하는 에지면 밀봉층을 마련함에 있어서, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법에 의하여 기능성 적층체 에지면에 금속 박막을 형성한다. 예를 들면 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물만으로 이루어지는 경화물의 매트릭스 에지면에, 스퍼터링법으로 금속 박막을 형성하면 금속 박막의 내부 응력에 매트릭스가 미처 견디지 못하고 결함이 발생하여 충분한 배리어성을 부여할 수 없다. 한편, 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물만으로 이루어지는 매트릭스에서는, 금속 박막의 결함은 발생하지 않지만, 단단하고 부서지기 쉽기 때문에 에지면의 평활성이 나빠, 금속 박막이 에지면을 균일하게 피복하지 못하고, 그 결과 배리어성이 손상된다. 따라서, 본 발명에서는 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머와 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 상술한 적절한 범위로 혼합함으로써, 금속 박막 형성 시의 막 수축에 견디고, 매트릭스 에지면의 금속 박막의 결함을 없애며, 또한 평활성을 확보할 수 있어, 에지면에 높은 배리어성을 갖는 에지면 밀봉층을 형성할 수 있다.
본원의 광학 기능층을 형성하는 경화물 매트릭스의 50℃에 있어서의 탄성률로서는, 1MPa 이상 4000MPa 이하인 것이 바람직하고, 10MPa 이상 3000MPa 이하인 것이 더 바람직하다. 50℃에 있어서의 탄성률을 이용하고 있는 것은, 예를 들면 스퍼터링법에서는 제막 시에 막면 온도가 50℃ 정도에 도달하기 때문에, 막 수축에 저항하는 매트릭스의 물성값으로 하고 있기 때문이다. 이 범위로 함으로써, 단부 밀봉층의 금속 박막의 결함을 줄이는 것이 가능해진다.
(점도 조정제)
중합성 조성물은, 필요에 따라 점도 조정제를 포함하고 있어도 된다. 점도 조정제는, 입경이 5nm~300nm인 필러인 것이 바람직하다. 또, 점도 조정제는 틱소트로피제인 것도 바람직하다. 또한 본 발명 및 본 명세서 중, 틱소트로피성이란 액상 조성물에 있어서, 전단 속도의 증가에 대하여 점성을 감소시키는 성질을 가리키고, 틱소트로피제란, 그것을 액상 조성물에 포함시킴으로써, 조성물에 틱소트로피성을 부여하는 기능을 갖는 소재를 가리킨다. 틱소트로피제의 구체예로서는, 흄드 실리카, 알루미나, 질화 규소, 이산화 타이타늄, 탄산 칼슘, 산화 아연, 탤크, 운모, 장석, 카올리나이트(카올린 클레이), 파이로필라이트(납석 클레이), 세리사이트(견운모), 벤토나이트, 스멕타이트·버미큘라이트류(몬모릴로나이트, 바이델라이트, 논트로나이트, 사포나이트 등), 유기 벤토나이트, 유기 스멕타이트 등을 들 수 있다.
일 양태에서는, 중합성 조성물은, 점도가 전단 속도 500s-1일 때에 3mPa·s~50mPa·s이며, 전단 속도 1s-1일 때에 100mPa·s 이상인 것이 바람직하다. 이와 같이 점도 조정하기 위하여, 틱소트로피제를 이용하는 것이 바람직하다. 또, 중합성 조성물의 점도가 전단 속도 500s-1일 때에 3mPa·s~50mPa·s이고, 전단 속도 1s-1일 때에 100mPa·s 이상인 것이 바람직한 이유는, 이하와 같다.
기능성 적층체의 제조 방법의 일례로서는, 후술하는 바와 같이, 제1 기재에 중합성 조성물을 도포한 후에, 중합성 조성물 위에 제2 기재를 첩부한 후, 중합성 조성물을 경화하여 파장 변환층을 형성하는 공정을 포함하는 제조 방법을 들 수 있다. 상기 제조 방법에서는, 제1 기재에 중합성 조성물을 도포할 때에 도포 줄무늬가 발생하지 않도록 균일하게 도포하여 도막의 막두께를 균일하게 하는 것이 바람직하고, 이를 위해서는 도포성과 레벨링성의 관점에서 도포액(중합성 조성물)의 점도는 낮은 것이 바람직하다. 한편, 제1 기재에 도포된 도포액 위에 제2 기재를 균일하게 첩합시키기 위해서는 첩합 시의 압력에 대한 저항력이 높은 것이 바람직하고, 이 점에서 고점도의 도포액이 바람직하다. 상기의 전단 속도 500s-1이란 제1 기재에 도포되는 도포액에 가해지는 전단 속도의 대푯값이며, 전단 속도 1s-1과는 도포액에 제2 기재를 첩합하기 직전에 도포액에 가해지는 전단 속도의 대푯값이다. 또한, 전단 속도 1s-1이란 어디까지나 대푯값에 지나지 않는다. 제1 기재에 도포된 도포액 위에 제2 기재를 첩합할 때, 제1 기재와 제2 기재를 동일 속도로 반송하면서 첩합한다면 도포액에 가해지는 전단 속도는 대략 0s-1이며, 실제 제조 공정에 있어서 도포액에 가해지는 전단 속도가 1s-1에 한정되는 것은 아니다. 전단 속도 500s-1도 마찬가지로 대푯값에 지나지 않고, 실제 제조 공정에 있어서 도포액에 가해지는 전단 속도가 500s-1에 한정되는 것은 아니다. 그리고 균일한 도포 및 첩합의 관점에서, 중합성 조성물의 점도를 제1 기재에 도포액을 도포할 때에 도포액에 가해지는 전단 속도의 대푯값 500s-1일 때에 3mPa·s~50mPa·s이고, 제1 기재에 도포된 도포액 상에 제2 기재를 첩합하기 직전에 도포액에 가해지는 전단 속도의 대푯값 1s-1일 때에 100mPa·s 이상이 되도록 조정하는 것이 바람직하다.
(용매)
상기 중합성 조성물은, 필요에 따라 용매를 포함하고 있어도 된다. 이 경우에 사용되는 용매의 종류 및 첨가량은, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 용매로서, 유기 용매를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.
또, 매트릭스가 되는 수지 중에, 트라이플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 펜타플루오로에틸(메트)아크릴레이트, (퍼플루오로뷰틸)에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로뷰틸-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, (퍼플루오로헥실)에틸(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트 등의 불소 원자를 갖는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 이들 화합물을 포함함으로써 도포성을 향상시킬 수 있다.
또, 양자 도트층 중의 매트릭스가 되는 수지의 총량에는 특별히 한정은 없지만, 양자 도트층의 전체량 100질량부에 대하여, 90질량부~99.9질량부인 것이 바람직하고, 92질량부~99질량부인 것이 보다 바람직하다.
양자 도트층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 취급성 및 발광 특성의 점에서, 5μm~200μm가 바람직하고, 10μm~150μm가 보다 바람직하다.
또한, 상기 두께는 평균 두께를 의도하고, 평균 두께는 양자 도트층의 임의의 10점 이상의 두께를 측정하여, 그들을 산술 평균하여 구한다.
제1 양태에 있어서, 양자 도트층의 형성 방법에는 특별히 한정은 없고, 공지의 방법으로 형성하면 된다. 예를 들면, 양자 도트와 매트릭스가 되는 수지와 용제를 혼합한 도포 조성물을 조정하여, 이 도포 조성물을 가스 배리어층(14) 상에 도포하고, 경화시킴으로써 형성할 수 있다.
제2 양태에 있어서, 양자 도트층의 형성 방법은, 형광체(양자 도트) 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 조정하여, 이 도포 조성물을 가스 배리어층(14) 상에 도포하고, 경화시킴으로써 형성할 수 있다.
또한, 양자 도트층이 되는 도포 조성물에는, 필요에 따라 중합 개시제나 실레인 커플링제 등을 첨가해도 된다.
가스 배리어층(14)은, 광학 기능층(12)의 주면에 적층되는, 가스 배리어성을 갖는 층이다. 즉, 가스 배리어층(14)은, 광학 기능층(12)의 주면을 덮어, 광학 기능층(12)의 주면으로부터 수분이나 산소의 침입을 억제하기 위한 부재이다.
가스 배리어층(14)은, 수증기 투과도가 1×10-3[g/(m2·day)] 이하인 것이 바람직하다.
또, 가스 배리어층(14)은, 산소 투과도가 1×10-2[cc/(m2·day·atm)] 이하인 것이 바람직하다.
수증기 투과도 및 산소 투과도가 낮은, 즉 가스 배리어성이 높은 가스 배리어층(14)을 이용함으로써, 광학 기능층(12)으로의 수분이나 산소의 침입을 방지하여 광학 기능층(12)의 열화를 보다 적합하게 방지할 수 있다.
또한, 수증기 투과도는 온도 40℃, 상대 습도 90%RH의 조건하에서 모콘법에 의하여 측정했다. 또, 수증기 투과도가, 모콘법의 측정 한계를 넘은 경우에는, 칼슘 부식법(일본 공개특허공보 2005-283561호에 기재되는 방법)에 의하여 측정했다.
또, 산소 투과도는 APIMS법(대기압 이온화 질량 분석법)에 의한 측정 장치(가부시키가이샤 닛폰 에이피아이사제)를 이용하여, 온도 25℃, 습도 60%RH의 조건하에서 측정했다. 또한, 산소 투과도의 SI 단위로서, fm/(s·Pa)가 있는 것이 알려져 있다. 1fm/(s·Pa)=8.752cc/(m2·day·atm)로 환산할 수 있다(fm: 펨토미터).
또, 가스 배리어층(14)의 두께는 5μm~100μm인 것이 바람직하고, 10μm~70μm가 보다 바람직하며, 15μm~55μm가 특히 바람직하다.
가스 배리어층(14)의 두께를 100μm 이하로 함으로써, 광학 기능층(12)을 포함하는 적층 필름(10a) 전체의 두께를 얇게 할 수 있는 등의 점에서 바람직하다.
또, 가스 배리어층(14)의 두께를 5μm 이상으로 함으로써, 2개의 가스 배리어층(14)의 사이에 광학 기능층(12)을 형성할 때에, 광학 기능층(12)의 두께를 균일하게 할 수 있는 등의 점에서 바람직하다.
여기에서, 가스 배리어층(14)로서는, 특별히 한정은 없고, 원하는 가스 배리어성을 갖는 가스 배리어 필름이 적절히 이용 가능하다.
일례로서, 가스 배리어 지지체(30) 위에, 배리어층(32)으로서, 적어도 1층의 유기층과, 적어도 1층의 무기층을 갖는 가스 배리어 필름이 적합하게 이용된다.
도 2에 가스 배리어 필름의 일례를 개념적으로 나타내는 단면도를 나타낸다.
도 2에 나타내는 가스 배리어 필름(가스 배리어층)(14)은, 유기층(34), 무기층(36) 및 유기층(38)을 이 순서대로 적층하여 이루어지는 배리어층(32)과, 배리어층(32)을 지지하는 가스 배리어 지지체(30)를 가져 이루어진다.
또한, 가스 배리어 필름(14)은, 가스 배리어 지지체(30) 위에, 적어도 하나의 무기층(36)을 갖고 있으면 되고, 무기층(36)과, 무기층(36)의 하지(下地)가 되는 유기층(34)과의 조합을 1개 이상 갖는 것이 바람직하다. 따라서, 가스 배리어층(14)은, 무기층(36)과 하지의 유기층(34)의 조합을 2개 갖는 것이어도 되고, 혹은 3개 이상 갖는 것이어도 된다. 유기층(34)은, 무기층(36)을 적정하게 형성하기 위한 하지층으로서 작용하는 것이며, 하지의 유기층(34)과 무기층(36)의 조합의 적층수가 많을수록, 우수한 가스 배리어성을 갖는 가스 배리어 필름을 얻을 수 있다.
또, 도시예에 있어서는, 배리어층(32)의 최표층(가스 배리어 지지체(30)와는 반대측의 층)은, 유기층(38)으로 했지만, 이에 한정되지는 않고, 최표층이 무기층(36)이어도 된다.
여기에서, 광학 기능층(12)이 적층되는 것은, 기본적으로 배리어층(32)측이다. 따라서, 배리어층(32)의 최표층을 무기층(36)으로 하고, 광학 기능층(12)을 배리어층(32)측에 적층함으로써, 가스 배리어 지지체(30)나 유기층(34)으로부터 아웃 가스가 방출되어도, 이 아웃 가스는 무기층(36)으로 차폐되어, 광학 기능층(12)에 도달하는 것을 방지할 수 있다.
가스 배리어층(14)의 가스 배리어 지지체(30)로서는, 공지의 가스 배리어 필름이며 지지체로서 이용되고 있는 것이 각종 이용 가능하다.
그 중에서도, 박형화나 경량화가 용이한, 플렉시블화에 적합하다는 등의 점에서 각종 플라스틱(고분자 재료/수지 재료)으로 이루어지는 필름이 적합하게 이용된다.
구체적으로는, 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리아마이드(PA), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리 염화 바이닐(PVC), 폴리바이닐알코올(PVA), 폴리아크릴로나이트릴(PAN), 폴리이미드(PI), 투명 폴리이미드, 폴리메타크릴산 메틸 수지(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리프로필렌(PP), 폴리스타이렌(PS), ABS, 환상 올레핀·코폴리머(COC), 사이클로올레핀 폴리머(COP), 및 트라이아세틸셀룰로스(TAC)로 이루어지는 플라스틱 필름이 적합하게 예시된다.
가스 배리어 지지체(30)의 두께는 용도나 크기에 따라, 적절히 설정하면 된다. 여기에서, 본 발명자의 검토에 의하면, 가스 배리어 지지체(30)의 두께는 10μm~100μm 정도가 바람직하다. 가스 배리어 지지체(30)의 두께를 이 범위로 함으로써, 경량화나 박형화 등의 점에서 바람직한 결과를 얻는다.
또한, 가스 배리어 지지체(30)는, 이와 같은 플라스틱 필름의 표면에, 반사 방지나 위상차 제어, 광취출 효율 향상 등의 기능이 부여되어 있어도 된다.
배리어층(32)은, 주로 가스 배리어성을 발현하는 무기층(36)과, 무기층(36)의 하지층이 되는 유기층(34)과, 무기층(36)을 보호하는 유기층(38)을 갖는다.
유기층(34)은, 가스 배리어 필름(14)에 있어서 주로 가스 배리어성을 발현하는 무기층(36)의 하지층이 되는 것이다.
유기층(34)은, 공지의 가스 배리어 필름이며 유기층(34)으로서 이용되고 있는 것이 각종 이용 가능하다. 예를 들면, 유기층(34)은, 유기 화합물을 주성분으로 하는 막이며, 기본적으로 모노머 및/또는 올리고머를 가교하여 형성되는 것을 이용할 수 있다.
가스 배리어 필름(14)은, 무기층(36)의 하지가 되는 유기층(34)을 가짐으로써, 가스 배리어 지지체(30)의 표면의 요철이나, 표면에 부착되어 있는 이물 등을 포매(包埋)하여, 무기층(36)의 성막면을 적정하게 할 수 있다. 그 결과, 성막면의 전체면에 간극없이 균열이나 금 등이 없는 적정한 무기층(36)을 성막할 수 있다. 이로써, 수증기 투과도가 1×10-3[g/(m2·day)] 이하, 및 산소 투과도가 1×10-2[cc/(m2·day·atm)] 이하가 되는, 높은 가스 배리어 성능을 얻을 수 있다.
또, 가스 배리어 필름(14)은, 이 하지가 되는 유기층(34)을 가짐으로써, 이 유기층(34)이, 무기층(36)의 쿠션으로서도 작용한다. 이로 인하여, 무기층(36)이 외부로부터 충격을 받은 경우 등에, 이 유기층(34)의 쿠션 효과에 의하여, 무기층(36)의 손상을 방지할 수 있다.
이로써, 적층 필름(10a)에 있어서, 가스 배리어 필름(14)이 적정하게 가스 배리어 성능을 발현하여, 수분이나 산소에 의한 광학 기능층(12)의 열화를 적합하게 방지할 수 있다.
가스 배리어 필름(14)에 있어서, 유기층(34)의 형성 재료로서는, 각종 유기 화합물(수지/고분자 화합물)이 이용 가능하다.
구체적으로는, 폴리에스터, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 메타크릴산-말레산 공중합체, 폴리스타이렌, 투명 불소 수지, 폴리이미드, 불소화 폴리이미드, 폴리아마이드, 폴리아마이드이미드, 폴리에터이미드, 셀룰로스아실레이트, 폴리유레테인, 폴리에터에터케톤, 폴리카보네이트, 지환식 폴리올레핀, 폴리아릴레이트, 폴리에터설폰, 폴리설폰, 플루오렌환 변성 폴리카보네이트, 지환 변성 폴리카보네이트, 플루오렌환 변성 폴리에스터, 아크릴로일 화합물 등의 열가소성 수지, 혹은 폴리실록세인, 그 외의 유기 규소 화합물의 막이 적합하게 예시된다. 이들은, 복수를 병용해도 된다.
그 중에서도, 유리 전이 온도나 강도가 우수하다는 등의 점에서 라디칼 중합성 화합물 및/또는 에터기를 관능기에 갖는 양이온 중합성 화합물의 중합물로 구성된 유기층(34)은 적합하다.
그 중에서도 특히, 상기 강도에 더하여, 굴절률이 낮고, 투명성이 높으며 광학 특성이 우수하다는 등의 점에서 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트의 모노머나 올리고머의 중합체를 주성분으로 하는, 유리 전이 온도가 120℃ 이상의 아크릴 수지나 메타크릴 수지가, 유기층(34)으로서 적합하게 예시된다. 그 중에서도 특히, 다이프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트(DPGDA), 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트(TMPTA), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(DPHA) 등의, 2관능 이상, 특히 3관능 이상의 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트의 모노머나 올리고머의 중합체를 주성분으로 하는, 아크릴 수지나 메타크릴 수지가 적합하게 예시된다. 또, 이들 아크릴 수지나 메타크릴 수지를 복수 이용하는 것도 바람직하다.
유기층(34)을 이와 같은 아크릴 수지나 메타크릴 수지로 형성함으로써, 골격이 견고한 하지의 위에 무기층(36)을 성막할 수 있으므로, 보다 치밀하게 가스 배리어성이 높은 무기층(36)을 성막할 수 있다.
유기층(34)의 두께는 1μm~5μm가 바람직하다.
유기층(34)의 두께를 1μm 이상으로 함으로써, 보다 적합하게 무기층(36)의 성막면을 적정하게 하여, 균열이나 금 등이 없는 적정한 무기층(36)을 성막면의 전체면에 걸쳐 성막할 수 있다.
또, 유기층(34)의 두께를 5μm 이하로 함으로써, 유기층(34)이 너무 두꺼운 것에 기인하는, 유기층(34)의 크랙이나, 가스 배리어 필름(14)의 컬 등의 문제의 발생을 적합하게 방지할 수 있다.
이상의 점을 고려하면, 유기층(34)의 두께는 1μm~5μm로 하는 것이, 보다 바람직하다.
또한, 가스 배리어 필름이 하지층으로서의 유기층(34)을 복수 갖는 경우에는, 각 유기층의 두께는 동일해도 되고, 서로 달라도 된다.
또, 유기층(34)을 복수 갖는 경우에는, 각 유기층의 형성 재료는, 동일해도 되고 달라도 된다. 그러나, 생산성 등의 점에서는, 모든 유기층을 동일한 재료로 형성하는 것이 바람직하다.
유기층(34)은, 도포법이나 플래시 증착 등의 공지의 방법으로 성막하면 된다.
또, 유기층(34)의 하층이 되는 무기층(36)과의 밀착성을 향상시키기 위하여, 유기층(34)은, 실레인 커플링제를 함유하는 것이 바람직하다.
유기층(34) 위에는, 이 유기층(34)을 하지로 하여, 무기층(36)이 성막된다. 무기층(36)은, 무기 화합물을 주성분으로 하는 막으로, 가스 배리어층(14)에 있어서, 가스 배리어성을 주로 발현하는 것이다.
무기층(36)으로서는, 가스 배리어성을 발현하는, 산화물, 질화물, 산질화물 등의 무기 화합물로 이루어지는 막이 각종 이용 가능하다.
구체적으로는, 산화 알루미늄, 산화 마그네슘, 산화 탄탈럼, 산화 지르코늄, 산화 타이타늄, 산화 인듐 주석(ITO) 등의 금속 산화물; 질화 알루미늄 등의 금속 질화물; 탄화 알루미늄 등의 금속 탄화물; 산화 규소, 산화 질화 규소, 산탄화 규소, 산화 질화 탄화 규소 등의 규소 산화물; 질화 규소, 질화 탄화 규소 등의 규소 질화물; 탄화 규소 등의 규소 탄화물; 이들의 수소화물; 이들 2종 이상의 혼합물; 및, 이들의 수소 함유물 등의, 무기 화합물로 이루어지는 막이 적합하게 예시된다.
특히, 투명성이 높고, 또한 우수한 가스 배리어성을 발현할 수 있는 점에서, 규소 산화물, 규소 질화물, 규소 산질화물 및 규소 산화물 등의 규소 화합물로 이루어지는 막이 적합하게 예시된다. 그 중에서도 특히, 질화 규소로 이루어지는 막이 보다 우수한 가스 배리어성에 더하여 투명성도 높아, 적합하게 예시된다.
또한, 가스 배리어 필름이 복수의 무기층(36)을 갖는 경우에는, 무기층(36)의 형성 재료는, 서로 달라도 된다. 그러나, 생산성 등을 고려하면, 모든 무기층(36)을 동일한 재료로 형성하는 것이 바람직하다.
무기층(36)의 두께는 형성 재료에 따라, 목적으로 하는 가스 배리어성을 발현할 수 있는 두께를 적절히 결정하면 된다. 또한, 본 발명자의 검토에 의하면, 무기층(36)의 두께는 10nm~200nm로 하는 것이 바람직하다.
무기층(36)의 두께를 10nm 이상으로 함으로써, 충분한 가스 배리어 성능을 안정적으로 발현하는 무기층(36)을 형성할 수 있다. 또, 무기층(36)은, 일반적으로 부서지기 쉽고, 너무 두꺼우면, 균열이나 금, 박리 등을 발생시킬 가능성이 있지만, 무기층(36)의 두께를 200nm 이하로 함으로써, 균열이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또, 이와 같은 점을 고려하면, 무기층(36)의 두께는 10nm~100nm로 하는 것이 바람직하고, 특히 15nm~75nm로 하는 것이 바람직하다.
또한, 가스 배리어 필름이 복수의 무기층(36)을 갖는 경우에는, 각 무기층(36)의 두께는 동일해도 되고 달라도 된다.
무기층(36)은, 형성 재료에 따라, 공지의 방법으로 형성하면 된다. 구체적으로는, CCP(Capacitively Coupled Plasma 용량 결합 플라즈마)-CVD(chemical vapor deposition)나 ICP(Inductively Coupled Plasma 유도 결합 플라즈마)-CVD 등의 플라즈마 CVD, 마그네트론 스퍼터링이나 반응성 스퍼터링 등의 스퍼터링, 진공 증착 등, 기상 퇴적법이 적합하게 예시된다.
유기층(38)은, 배리어층(32)의 최표층에 형성된 층이며, 무기층(36)을 보호하기 위한 층이다.
유기층(38)으로서는, 상술한 유기층(34)과 동일한 것이 각종 이용 가능하다.
또, 유기층(38)의 형성 방법도, 상술한 유기층(34)과 동일하게, 도포법이나 플래시 증착 등의 공지의 방법으로 성막하면 된다.
또, 배리어층(32)의 최표층이 되는 유기층(38)의 두께는 80nm~1000nm로 하는 것이 바람직하다. 유기층(38)의 두께를 80nm 이상으로 함으로써, 무기층(36)을 충분히 보호할 수 있다. 또, 균열을 방지하고, 투과율의 저하를 방지할 수 있는 등의 점에서 유기층(38)의 두께를 1000nm 이하로 하는 것 바람직하다.
이상의 관점에서, 유기층(38)의 두께는 80nm~500nm로 하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 보호층으로서의 유기층(38)과, 하지층으로서의 유기층(34)은, 형성 재료가 동일해도 되고 달라도 된다. 그러나, 생산성 등의 점에서는, 모든 유기층을 동일한 재료로 형성하는 것이 바람직하다.
또, 유기층(38)의 하층이 되는 무기층(36)과의 밀착성을 향상시키기 위하여, 유기층(38)은, 실레인 커플링제를 함유하는 것이 바람직하다.
다음으로, 에지면 밀봉층(16a)에 대하여 설명한다.
에지면 밀봉층(16a)은, 광학 기능층(12)과, 광학 기능층(12)을 사이에 두도록 적층되는 2개의 가스 배리어층(14)을 갖는 기능층 적층체(11)의 에지면의 적어도 일부를 덮어 형성되는 부재이다.
본 발명에 있어서, 에지면 밀봉층(16a)은, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지고, 가스 배리어성을 발현하여, 광학 기능층(12)의 에지면으로부터의 수분이나 산소의 침입을 억제하기 위한 부재이다.
도 1에 나타내는 적층 필름(10a)에 있어서는, 에지면 밀봉층(16a)은, 기능층 적층체(11)의 에지면에 접하여 형성되는 제1층(18)과, 제1층(18) 상에 적층되는, 기능층 적층체(11)로부터 가장 먼 층인 최표층(20)의 2층으로 이루어진다.
여기에서, 본 발명에 있어서는, 에지면 밀봉층은, 2층 구성에 한정되지는 않고, 3층 이상이어도 된다. 예를 들면, 도 3에 나타내는 적층 필름(10b)의 에지면 밀봉층(16b)과 같이, 기능층 적층체(11)의 에지면에 접하여 형성되는 제1층(18)과, 제1층(18) 상에 적층되는 제2층(22)과, 제2층(22) 상에 적층되는, 기능층 적층체(11)로부터 가장 먼 층인 최표층(20)을 갖는 3층 구성으로 해도 된다.
또한, 도 1 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 에지면 밀봉층(16)은, 기능층 적층체(11)의 에지면에 적층되기 때문에, 에지면 밀봉층(16)을 구성하는 각층(제1층(18), 제2층(22), 최표층(20))의 적층 방향은, 기능층 적층체(11)의 에지면에 수직인 방향이며, 기능층 적층체(11)의 적층 방향과는 직교하는 방향이다.
또, 본 발명에 있어서, 에지면 밀봉층(16)을 구성하는 각층은, 모두 금속으로 이루어지는 층이다. 즉, 도 1에 나타내는 적층 필름(10a)에 있어서는, 제1층(18) 및 최표층(20)은, 금속으로 이루어지고, 또 도 3에 나타내는 적층 필름(10b)에 있어서는, 제1층(18), 제2층(22) 및 최표층(20)은, 모두 금속으로 이루어지는 층이다.
상술한 바와 같이, 수분이나 산소에 의하여 열화되기 쉬운 양자 도트를 포함하는 양자 도트층의 양 주면에 가스 배리어 필름을 적층하여 양자 도트층을 보호하는 것이 행해지고 있지만, 양자 도트층의 양 주면을 가스 배리어 필름으로 보호하는 것만으로는, 가스 배리어 필름으로 보호되어 있지 않은 에지면으로부터 수분이나 산소가 침입하여, 양자 도트가 열화된다는 문제가 있었다.
이에 대하여, 에지면으로부터의 수분이나 산소의 침입을 억제하기 위하여, 양자 도트층의 전체면을 가스 배리어 필름으로 보호하는 구성이나, 2개의 가스 배리어 필름 사이에 낀, 양자 도트층의 에지면 영역에, 가스 배리어성을 갖는 보호층을 형성하는 구성이나, 양자 도트층을 사이에 둔 2개의 가스 배리어 필름의 단부의 개구를 좁게 하는 구성 등이 제안되고 있다.
그러나, 얇은 양자 도트층의 전체면을 가스 배리어 필름으로 피복하는 것은 매우 곤란하고, 생산성이 나쁘며, 또 가스 배리어 필름을 절곡하면 배리어층이 균열되어 가스 배리어성이 저하된다는 문제가 있었다.
또, 2개의 가스 배리어 필름 사이에 낀, 양자 도트층의 에지면 영역에, 가스 배리어성을 갖는 보호층을 형성하는 구성의 경우에는, 보호층의 재료로서 높은 배리어성을 갖는 재료를 이용하지 못하여, 가스 배리어성이나 내구성이 충분하지 않고, 또 이와 같은 적층 필름을 제작할 때에는, 전체 공정이 배치 방식이 되기 때문에 생산성이 매우 나쁘다는 문제가 있었다.
또, 양자 도트층을 사이에 둔 2개의 가스 배리어 필름의 단부의 개구를 좁게 하는 구성의 경우에는, 단부에서의, 양자 도트층의 두께가 얇아지기 때문에, 단부에서는 그 기능을 충분히 발현하지 못하여, 유효하게 이용할 수 있는 영역의 크기가 작아지고, 프레임 부분이 커진다는 문제가 있었다. 또, 일반적으로, 높은 가스 배리어성을 구비하는 배리어층은, 단단하고 부서지기 쉽기 때문에, 이와 같은 배리어층을 갖는 가스 배리어 필름을 갑자기 만곡시키면, 배리어층이 균열되고, 가스 배리어성이 저하되어, 양자 도트층으로의 수분이나 산소의 침입을 억제할 수 없게 된다는 문제가 있었다.
이에 대하여, 본 발명은 광학 기능층과, 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고, 에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 구성을 갖는다.
기능층 적층체의 에지면을 2층 이상의 금속층으로 밀봉함으로써, 높은 가스 배리어성을 발현할 수 있고, 광학 기능층에 대한 수분이나 산소의 침입을 억제하여, 양자 도트가 수분이나 산소에 의하여 열화되는 것을 방지할 수 있으며, 수명을 보다 길게 할 수 있어, 내구성을 향상시킬 수 있다.
또, 기능층 적층체의 에지면에, 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 형성할 뿐이므로, 광학 기능층이 얇아지거나, 가스 배리어층이 만곡되는 경우가 없기 때문에, 광학 기능층을 유효하게 이용할 수 있는 영역을 크게 유지할 수 있어, 협프레임화가 가능하다.
또, 에지면 밀봉층의 기능층 적층체의 에지면에 접하는 제1층은, 기능층 적층체와의 밀착성이 높은 재료로, 밀착성을 높게 할 수 있는 형성 방법으로 형성하여, 2층째 이후에, 높은 가스 배리어성을 발현하는 층을 형성할 수 있기 때문에, 에지면 밀봉층이 기능층 적층체로부터 박리하는 것을 방지할 수 있어 높은 내구성을 얻을 수 있다.
또, 이후에 상세하게 설명하지만, 에지면 밀봉층을 형성할 때에, 기능층 적층체를 복수 매 중첩한 상태에서, 에지면 밀봉층의 각층을 형성할 수 있기 때문에, 복수의 적층 필름을 일괄적으로 제작할 수 있어, 생산성을 높게 할 수 있다.
여기에서, 에지면 밀봉층(16)은, 산소 투과도가, 1×10-2[cc/(m2·day·atm)] 이하인 것이 바람직하다.
기능층 적층체(11)의 에지면에, 산소 투과도가 낮은, 즉 가스 배리어성이 높은 에지면 밀봉층(16)을 형성함으로써, 광학 기능층(12)으로의 수분이나 산소의 침입을 보다 적합하게 방지하여 광학 기능층(12)의 열화를 보다 적합하게 방지할 수 있다.
또, 에지면 밀봉층(16)의, 기능층 적층체(11)의 에지면에 수직인 방향의 두께는 0.1μm~100μm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.5μm~50μm인 것이 보다 바람직하며, 1μm~10μm인 것이 특히 바람직하다.
에지면 밀봉층(16)의 두께를 0.1μm 이상으로 함으로써, 충분한 가스 배리어 성능을 안정적으로 발현시킬 수 있다. 또, 에지면 밀봉층(16)의 두께를 100μm 이하로 함으로써, 균열이 발생하는 것을 적합하게 방지할 수 있다.
또, 후술하는 바와 같이, 본 발명의 적층 필름은, 복수 매의 기능층 적층체를 중첩한 상태에서, 에지면에 에지면 밀봉층을 형성하고, 그 후, 분리함으로써 제작하는 것이 바람직하지만, 에지면 밀봉층(16)이 너무 두꺼우면, 분리하기 어려워지기 때문에, 이 점에서도 에지면 밀봉층(16)의 두께는 100μm 이하로 하는 것이 바람직하다.
또, 에지면 밀봉층(16)은, 기능층 적층체(11)의 에지면의 적어도 일부를 덮도록 형성되어 있으면 되지만, 에지면의 전체 둘레를 덮어 형성되는 것이 바람직하다.
예를 들면, 기능층 적층체(11)의 주면이, 직사각형상인 경우에는, 적어도 하나의 에지면에 에지면 밀봉층(16)이 형성되어 있으면 되고, 4개의 에지면 모두에 에지면 밀봉층(16)이 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 기능층 적층체(11)의 주면의 형상(적층 필름(10)의 형상)은, 직사각형상에 한정되지는 않고, 정방형상, 원형상, 다각형상 등 다양한 형상으로 할 수 있다. 따라서, 에지면 보호층은, 에지면 중 적어도 일부를 덮도록 형성되어 있으면 되고, 전체 둘레를 덮어 형성되는 것이 바람직하다.
또, 에지면 밀봉층(16)은, 기능층 적층체(11)의 에지면에만 형성되고, 기능층 적층체(11)의 주면으로 겹치는 것이 적은 것이 바람직하다. 이유로서는, 겹치는 것이 크면 에지면 밀봉층(16)의 주면으로 겹치는 부분의 융기에 의하여, 적층 필름(10) 전체의 평탄성이 손상될 우려가 있는 것, 겹치는 부분이 차광층으로서 작용함으로써 적층 필름(10) 단부에 비발광 영역이 발생하고, 프레임 부분이 커져, 유효하게 이용 가능한 영역이 좁아져 버리는 것, 즉 모바일 디스플레이 등의 협프레임 모듈에 적용할 때의 방해가 될 우려가 있는 것 등을 들 수 있다.
상술하는 관점에서, 에지면 밀봉층(16)의 기능층 적층체(11)의 주면으로 겹치는 폭(d)(도 4 참조)은 1mm 이하인 것이 바람직하고, 0.5mm 이하인 것이 보다 바람직하며, 겹치는 영역의 존재가 육안으로 보기 힘든 0.1mm 이하인 것이 특히 바람직하다.
에지면 밀봉층(16)의 겹치는 폭(d)은, 예를 들면 적층 필름을 야마토 고키 고교 가부시키가이샤제 리트라톰 REM-710 등으로 단면 절삭하고, 그 단면을 광학 현미경으로 관찰함으로써 측정할 수 있다.
또한, 도 4에 나타내는 바와 같이, 겹치는 폭(d)은, 기능층 적층체(11)의 에지면의 연재 방향에 직교하는 단면에서 보았을 때의, 에지면 밀봉층(16)의, 기능층 적층체(11)의 주면 상에 형성된 영역의 폭(기능층 적층체(11)의 에지면에 수직인 방향의 폭)이다.
또, 에지면 밀봉층(16)의 가스 배리어성을 높이는 관점에서, 에지면 밀봉층(16)의 핀홀이 적은 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 핀홀이란 에지면 밀봉층(16)을 광학 현미경으로 관찰했을 때에 보이는, 크기 1μm 이상의 비피복부(금속막이 떨어져 나간 부분)를 의미하고, 그 형상은 원, 다각형, 선형상 등 임의의 형태이다. 핀홀의 수는 50개/mm2 이하인 것이 바람직하고, 20개/mm2 이하인 것이 보다 바람직하며, 5개/mm2 이하인 것이 특히 바람직하다. 핀홀수는 적으면 적을수록 바람직하고, 하한값은 특별히 없다.
또, 핀홀이 적은 에지면 밀봉층(16)을 형성하는 관점에서, 에지면 밀봉층(16)이 형성되는 기능층 적층체(11)의 에지면은, 평활한 것이 바람직하다. 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도는, 0.001μm~10μm가 바람직하고, 0.001μm~2μm가 보다 바람직하다.
여기에서, 에지면 밀봉층(16)을 구성하는 층 중, 기능층 적층체(11)에 접하는 제1층(18) 이외의 적어도 1층이, 금속 도금층인 것이 바람직하다. 또, 도 1 및 도 3에 나타내는 적층 필름은 각각, 기능층 적층체(11)로부터 가장 먼 최표층(20)이, 금속 도금층이다. 이와 같이, 최표층(20)을 금속 도금층으로 하는 것이 보다 바람직하다.
제1층(18) 이외의 적어도 1층을 금속 도금층으로 함으로써, 이 층을 두껍게 형성할 수 있어, 충분한 가스 배리어성을 발현할 수 있다.
또, 기능층 적층체(11)의 에지면에 접하여 마련되는 제1층(18)은, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법에 의하여 형성되는 금속층인 것이 바람직하고, 밀착성이 양호하며, 저온 성막이 가능한 스퍼터링법인 것이 보다 바람직하다.
기능층 적층체(11)는, 주로 수지로 형성되어 있기 때문에, 기능층 적층체(11)에 직접, 전해 도금에 의하여 금속 도금층을 형성한 경우에는, 도전로가 없기 때문에 금속막이 얻어지지 않는다. 또, 무전해 도금에 의하여 금속 도금층을 형성한 경우에는, 기능층 적층체(11)와 금속 도금층의 밀착성이 나쁘고, 충분한 내구성 및 가스 배리어성을 얻을 수 없어, 에지면에만 선택적으로 제막할 수 없다.
이에 대하여, 본 발명에서는, 기능층 적층체(11)의 측면에, 상기 방법으로 형성된 금속으로 이루어지는 제1층(18)을 가짐으로써, 기능층 적층체(11)와 에지면 밀봉층(16)의 밀착성을 향상시킬 수 있다.
또, 제1층(18) 이외의 층으로서 금속 도금층을 형성할 때에, 기능층 적층체(11)의 측면에 금속으로 이루어지는 제1층(18)을 가짐으로써, 이 제1층이 전극으로서 작용하므로, 금속 도금층을 적정하게 형성할 수 있다. 또, 도금 처리 시에, 이 제1층이 기능층 적층체(11)를 보호하여, 기능층 적층체(11)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
여기에서, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법에 의하여 형성되는 금속층만을 1층으로 한 경우에는, 기능층 적층체와의 밀착성은 양호하게 할 수 있지만, 두께를 두껍게 형성하는 것이 곤란하거나 혹은, 두껍게 형성하는 것은 생산성이 매우 나쁘기 때문에, 얇게 하지 않을 수 없다. 이로 인하여, 기능층 적층체의 에지면에 균일한 두께로 형성하지 못하여, 충분한 가스 배리어성을 얻을 수 없다.
이에 대하여, 본 발명에서는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법에 의하여 형성되는 제1층과, 금속 도금층을 가짐으로써, 기능층 적층체와의 밀착성은 양호하게 하고, 또한 충분한 가스 배리어성을 얻을 수 있다.
또, 제1층(18) 이외의 층으로서 형성되는 금속 도금층의 두께가 기능층 적층체(11)에 접하는 제1층(18)의 두께보다 두꺼운 것이 바람직하다.
금속 도금층의 두께를 제1층(18)의 두께보다 두껍게 함으로써, 충분한 가스 배리어성을 보다 확실히 발현할 수 있다.
또한, 제1층(18)의 두께, 및 금속 도금층의 두께란, 기능층 적층체(11)의 에지면에 수직인 방향에 있어서의 두께이다.
구체적으로는, 제1층(18)의 두께는 기능층 적층체(11)와의 밀착성, 생산성 등의 관점에서, 0.001μm~0.5μm로 하는 것이 바람직하고, 0.01μm~0.3μm로 하는 것이 보다 바람직하다.
또, 금속 도금층의 두께는 가스 배리어성을 확보하는, 생산성 등의 관점에서, 0.01μm~100μm로 하는 것이 바람직하고, 1μm~10μm로 하는 것이 보다 바람직하다.
기능층 적층체(11)에 접하는 제1층(18)의 형성 재료로서는, 금속이면 특별히 한정은 없지만, 상술한 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법으로 형성 가능한 것이 바람직하고, 또 기능층 적층체(11)를 구성하는 수지와의 밀착성을 높이는 관점에서 이온화 경향이 높은 금속을 이용하는 것이 바람직하다. 따라서, 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 구리, 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금인 것이 바람직하고, 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금이 특히 바람직하다. 이온화 경향이 높은 금속을 이용하면, 수지를 구성하는 산소 원자, 질소 원자, 탄소 원자 등과 금속이 화합물을 형성하고, 수지와의 계면에 있어서 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 탄화물이 형성되기 쉽기 때문에 밀착성이 높아진다고 추측된다.
제1층(18)의 형성 재료로서, 이들 금속 혹은 합금을 이용함으로써, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법으로 형성할 수 있어, 제1층(18)과 기능층 적층체(11)의 측면과의 밀착성을 높게 할 수 있다.
또, 제1층(18) 이외의 각층의 형성 재료로서는, 금속이면 특별히 한정은 없지만, 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 니켈, 주석, 구리, 은, 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금인 것이 바람직하다.
제1층(18) 이외의 각층의 형성 재료로서, 이들 금속 혹은 합금을 이용함으로써, 도금 처리에 의하여 형성할 수 있고, 높은 가스 배리어성을 발현할 수 있다.
또한, 제1층(18) 이외의 적어도 1층이, 도금 처리에 의하여 형성되어 있으면 되고, 금속 도금층 이외에는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 혹은 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법으로 형성되어 있어도 된다. 그때, 적어도 최표층(20)이, 도금 처리에 의하여 형성되어 있는 것이 바람직하다.
예를 들면, 도 3에 나타내는 적층 필름(10b)은, 제1층(18) 및 제2층(22)이 각각 스퍼터링법에 의하여 형성되고, 최표층(20)이 도금 처리에 의하여 형성된 에지면 밀봉층(16b)을 갖는 것이지만, 이에 한정되지는 않고, 예를 들면 제1층(18)이 스퍼터링법에 의하여 형성되고, 제2층(22)이 도금 처리에 의하여 형성되며, 최표층(20)이 스퍼터링법에 의하여 형성되어도 된다.
또, 에지면 밀봉층(16)을 구성하는 각층의 형성 재료는, 동일해도 되고, 서로 달라도 된다. 즉, 예를 들면 제1층(18)을 스퍼터링법에 의하여 형성한 니켈층으로 하고, 최표층(20)을 도금 처리에 의하여 형성한 니켈층으로 해도 된다.
또한, 도 1에 나타내는 적층 필름(10a)은, 가스 배리어층(14)과, 광학 기능층(12)과, 가스 배리어층(14)의 3층을 적층하고, 에지면에 에지면 밀봉층(16a)을 배치한 구성으로 했지만, 본 발명은 이에 한정되지는 않고, 다른 층을 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 하드 코트층, 광학 보상층, 투명 도전층 등을 갖고 있어도 된다.
다음으로, 본 발명의 적층 필름의 제조 방법(이하, "본 발명의 제조 방법"이라고도 함)에 대하여 설명한다.
본 발명의 제1 양태의 적층 필름의 제조 방법은,
광학 기능층과 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체의 측면에, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 갖는 적층 필름을 제조하는 적층 필름의 제조 방법으로서,
기능층 적층체를 복수 매 중첩한 적층물의 에지면에, 기능층 적층체에 접하는 제1층을 형성하는 제1층 형성 공정과,
적층물의 에지면에 형성된 제1층 상에 최표층을 형성하는 최표층 형성 공정을 갖고,
제1층의 형성 방법이, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 적층 필름의 제조 방법이다.
또, 본 발명의 제2 양태의 적층 필름의 제조 방법은,
광학 기능층과 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체의 측면에, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 갖는 적층 필름을 제조하는 적층 필름의 제조 방법으로서,
가스 배리어층을 갖는 가스 배리어 필름 위에, 형광체 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 도포하여 경화시켜 이루어지는 기능층 적층체를 형성하고,
기능층 적층체를 복수 매 중첩한 적층물의 에지면에, 기능층 적층체에 접하는 제1층을 형성하는 제1층 형성 공정과,
적층물의 에지면에 형성된 제1층 상에 최표층을 형성하는 최표층 형성 공정을 가지며, 제1층의 형성 방법이, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 무전해 도금, 및 플라즈마 CVD법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 적층 필름의 제조 방법이다.
또, 본 발명의 제조 방법은, 바람직한 양태로서, 에지면 밀봉층의 제1층 이외의 적어도 1층의 형성 방법이, 금속 도금 처리이다. 이하, 도 5a~도 5d를 이용하여, 본 발명의 제조 방법의 일례를 설명한다.
먼저, 광학 기능층(12)과, 이 광학 기능층(12)의 양 주면에 적층된 2개의 가스 배리어층(14)을 갖는 기능층 적층체(11)를 준비한다.
상술한 바와 같이, 기능층 적층체(11)의 제작 방법으로서는 예를 들면, 양자 도트와 매트릭스가 되는 수지와 용제를 혼합한 도포 조성물을 조정하여, 이 도포 조성물을 가스 배리어 필름(14) 상에 도포하고, 경화시킴으로써, 광학 기능층(양자 도트층)(12)을 형성하며, 형성한 광학 기능층(12)의 다른 쪽의 주면에 다른 한쪽의 가스 배리어 필름(14)을 적층하여 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서는, 가스 배리어층은 적어도 광학 기능층의 한쪽의 주면에 적층되어 있으면 된다. 이 경우는, 최종적으로 본 발명의 적층 필름을 LCD 등의 백라이트 유닛에 다른 부재와 함께 적층한 경우에, 다른 한쪽의 주면이 산소나 수분의 침입으로부터 보호되고 있음으로써 기능층의 성능의 열화를 방지할 수 있다.
또, 기능층 적층체(11)는, 1매씩 제작하는, 이른바 매엽식의 방법으로 제작해도 되고, 혹은 장척인 가스 배리어 필름(14)을 길이 방향으로 반송하면서, 이 가스 배리어 필름(14) 위에 광학 기능층(12)을 형성하고, 또한 형성된 광학 기능층에 다른 한쪽의 가스 배리어 필름을 적층하며, 연속적으로 기능층 적층체(11)를 제작하는, 이른바 롤·투·롤(Roll to Roll 이하, RtoR이라고도 함)로 제작해도 된다.
또, 필요에 따라 제작한 기능층 적층체(11)를 원하는 크기로 절단하는 공정을 갖고 있어도 된다.
기능층 적층체(11)의 절단 방법에는 한정은 없고, 톰슨 블레이드 등의 블레이드를 이용하여 물리적으로 절단하는 방법, 레이저를 조사하여 절단하는 방법 등의 공지의 방법이 각종 이용 가능하다.
레이저 절단으로 절단하면, 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도를 작게 할 수 있다.
또, 기능층 적층체(11)를 소정 형상으로 가공한 후, 에지면의 표면 조도를 제어하기 위한 연마 가공 등을 행해도 된다. 예를 들면, 블레이드에 의한 절단 후, 에지면을 절삭 처리, 연마 처리, 용융 처리함으로써 표면 조도를 제어할 수 있다.
구체적인 일례로서, 재단한 기능층 적층체(11)를 야마토 고키 고교 가부시키가이샤제 리트라톰 REM-710 등으로 에지면 절삭하여, 표면 조도를 제어할 수 있다. 보다 구체적으로는, 절삭 블레이드가 기능층 적층체(11)에 닿는 각도, 즉 블레이드의 진행 방향과 블레이드면이 이루는 각도가 직교에 가까울수록 평활성이 증가된다. 절삭 블레이드가 기능층 적층체(11)에 닿는 각도는, 70°~110°의 범위가 바람직하고, 80~100°의 범위가 보다 바람직하며, 85°~95°의 범위가 더 바람직하다. 관례로서, 블레이드의 진행 방향의 직교 방향과 블레이드 면이 이루는 각도를 "블레이드 각"이라고 부르는 경우도 있다. 이에 더하여, 절삭에 의한 제거 부분의 폭(노치량)을 적절히 제어하는 것으로도 표면 조도를 제어할 수 있다. 노치량은, 1~20μm의 범위가 바람직하고, 5~15μm의 범위가 보다 바람직하다. 이러한 절삭 조건에 의한 표면 조도의 변화는, 절삭 블레이드가 기능층 적층체(11)에 닿을 때에 발생하는 기능층 적층체(11)의 변형이나 비틀림에 따르는 절단면의 요동이 원인이라고 추정하고 있다. 그러므로, 적용하는 기능층 적층체(11)의 단단함이나 취성(脆性)·점성의 밸런스에 따라 적절히 조건을 정하는 것이 바람직하다.
또, 절삭 시에 발생하는 절삭 부스러기는, 후속하는 제1층 형성 공정이나 최표층 형성 공정에서의 문제의 원인이 되므로 절삭 후 가능한 한 곧바로 제거하는 것이 바람직하다. 절삭 부스러기를 제거하는 공정으로서, 에어 분사나 세정액에 담근 상태에서의 초음파 세정, 점착 시트의 첩합 및 박리에 의한 방법, 닦아 내는 법 등이 예시된다.
다음으로, 제1층 형성 공정으로서, 준비한 기능층 적층체(11)를 복수 매 중첩시켜, 적층물(50)로 하고(도 5a 참조), 이 적층물(50)의 에지면에 제1층(18A)을 형성한다(도 5b 참조).
상술한 바와 같이, 제1층(18A)의 형성 방법으로서는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 무전해 도금, 및 플라즈마 CVD법 중 어느 하나의 방법이며, 제1층(18A)으로서, 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 구리, 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금으로 이루어지는 층을 적층물(50)의 에지면에 형성한다.
또한, 제1층(18A)을 형성할 때의, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 무전해 도금, 혹은 플라즈마 CVD법에 있어서의 처리 방법, 처리 조건 등에는 특별히 한정은 없고, 형성 재료 등에 따라, 종래 공지의 처리 방법, 처리 조건으로 제1층(18A)을 형성하면 된다.
또, 기능층 적층체(11)의 에지면 이외의 영역, 즉 제1층(18A)을 형성하지 않는 영역에는, 공지의 방법으로 마스킹 처리 등을 행하여, 기능층 적층체(11)의 에지면에 제1층(18A)의 형성을 행하면 된다.
또, 제1층(18A)을 형성할 때의, 적층물(50)에 있어서의, 기능층 적층체(11)의 매수에는 특별히 한정은 없고, 제1층(18A)을 형성하는 장치의 크기, 기능층 적층체(11)의 두께 등에 따라 적절히 설정하면 되지만, 500매~4000매의 기능층 적층체(11)를 중첩시켜 제1층(18A)을 형성하는 것이 바람직하다.
다음으로, 최표층 형성 공정으로서, 에지면에 제1층(18A)이 형성된 적층물(52)의 제1층(18A) 상에, 최표층(20A)을 형성한다(도 5c).
상술한 바와 같이, 최표층(20A)의 형성 방법으로서는, 도금 처리인 것이 바람직하고, 최표층(20A)으로서, 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 니켈, 주석, 구리, 은, 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금으로 이루어지는 층을 적층물(52)의 제1층(18A) 상에 형성한다.
최표층(20A)을 형성할 때의 도금 처리의 처리 방법, 처리 조건 등에는 특별히 한정은 없고, 형성 재료 등에 따라, 종래 공지의 처리 방법, 처리 조건으로 최표층(20A)을 형성하면 된다.
다음으로, 최표층(20A)을 형성한 적층물(54)을 기능층 적층체(11)별로 분리하여, 에지면에 에지면 밀봉층(16a)이 형성된 기능층 적층체(11), 즉 적층 필름(10a)을 얻을 수 있다(도 5d).
적층물(54)로부터 적층 필름(10a)을 분리하는 방법으로서는, 특별히 한정은 없지만, 최표층(20A)을 형성한 적층물(54)에, 굽힘, 비틀림 등의, 표면과 수평 방향으로의 외력을 가함으로써 전단하는 방법, 또는 기능층 적층체(10a)의 계면으로의, 예를 들면 블레이드 등의 예리한 선단으로 꽂아 넣는 방법 등에 의하여 분리할 수 있다.
에지면 밀봉층의 박리나 손상이나 크랙의 발생을 방지하는 등의 관점에서, 외력에 의한 전단으로 적층 필름(10a)을 분리하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제조 방법은, 이와 같이, 에지면 밀봉층(16)의 각층을 형성할 때에, 기능층 적층체(11)를 복수 매 중첩한 상태에서, 에지면 밀봉층(16)의 각층을 형성할 수 있기 때문에, 복수의 적층 필름(10)을 일괄적으로 제작할 수 있어, 생산성을 높게 할 수 있다.
여기에서, 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도 Ra는 2.0μm 이하인 것이 바람직하다. 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도 Ra를 2.0μm 이하로 함으로써, 에지면에 형성되는 제1층(18)과의 밀착성을 보다 향상시킬 수 있다.
또, 상기에 있어서는, 일례로서, 에지면 밀봉층(16)이 2층의 적층 필름(10a)을 제작하는 경우의 제조 방법을 설명했지만, 에지면 밀봉층(16)이 3층 이상인 경우에는, 제1층 형성 공정과, 최표층 형성 공정의 사이에, 제2층 이후의 각층을 형성하는 공정을 갖고 있으면 된다.
제2층 이후의 각층은, 하지가 되는 층이 다른 것 이외에는, 상술한 제1층 형성 공정에 있어서의 형성 방법, 혹은 최표층 형성 공정에 있어서의 형성 방법과 동일한 방법으로 형성할 수 있다.
또, 본 발명의 제조 방법은, 또한 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층(16)이 녹스는 것을 억제하기 위하여, 방청 처리 등을 행해도 된다.
이상, 본 발명의 적층 필름 및 그 제조 방법에 대하여 상세하게 설명했지만, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지는 않고, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에 있어서, 각종 개량이나 변경을 행해도 되는 것은 물론이다.
실시예
이하, 본 발명의 구체적 실시예를 들어, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하에 기재하는 실시예에 한정되는 것은 아니고, 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 적절히 변경할 수 있다.
[실시예 1]
본 발명의 제2 양태의 적층 필름에 대하여, 실시예 1로서, 도 3에 나타내는 적층 필름(10b)을 제작했다.
<가스 배리어 필름의 제작>
(가스 배리어 지지체)
가스 배리어 필름(14)으로서는, 가스 배리어 지지체(30) 상에, 유기층(34), 무기층(36) 및 유기층(38) 이 순서대로 형성된 가스 배리어 필름을 이용했다.
가스 배리어 지지체(30)로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름, 도요보 가부시키가이샤제, 상품명: 코스모샤인 A4300, 두께 50μmm, 폭 1000mm, 길이 100m)을 이용했다.
(제1 유기층의 형성)
이 가스 배리어 지지체(30)의 한쪽의 주면에 유기층(이하, 제1 유기층이라고 함)(34)을 형성했다.
먼저, 제1 유기층을 형성하기 위한 도포액(제1 유기층 형성용 도포액)을 이하와 같이 조제했다.
TMPTA(트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, 다이셀 사이텍 가부시키가이샤제), 및 광중합 개시제(람베르티사제, ESACUREKTO46)를 준비하고, TMPTA:광중합 개시제의 중량 비율이, 95:5가 되도록 칭량하고, 이들을 메틸에틸케톤에 용해시켜, 고형분 농도 15%의 도포액을 조정했다.
이 제1 유기층 형성용 도포액을 다이 코터를 이용하여, 롤·투·롤에 의하여 가스 배리어 지지체(30)에 도포했다. 도포 후의 가스 배리어 지지체(30)를 50℃의 건조 존을 3분간 통과시킨 후, 자외선을 조사하여(적산 조사량 약 600mJ/cm2), UV 경화에 의하여 경화시켰다. UV 경화 직후의 패스 롤로 보호 필름의 폴리에틸렌 필름(PE 필름, 가부시키가이샤 선 에이 가켄제, 상품명: PAC2-30-T)을 첩부하고, 반송하여, 권취했다. 가스 배리어 지지체(30) 상에 형성된 제1 유기층(34)의 두께는 1μm였다.
(무기층의 형성)
다음으로, 일반적인 RtoR의 CVD 장치를 이용하여, CCP-CVD에 의하여, 제1 유기층(34) 상에, 두께 50nm의 무기층(36)을 형성했다.
구체적으로는, 가스 배리어 지지체(30) 상에 제1 유기층(34)이 형성되고, 이 제1 유기층(34) 상에 보호 필름이 첩착된 적층체를 송출기로부터 송출하고, 무기층의 성막 전의 마지막 막면 터치 롤 통과 후에 보호 필름을 박리하여, 노출된 제1 유기층(34) 위에 무기층(36)을 형성했다.
원료 가스는, 실레인 가스(SiH4), 암모니아 가스(NH3), 질소 가스(N2) 및 수소 가스(H2)를 이용했다. 가스의 공급량은, 실레인 가스 160sccm, 암모니아 가스 370sccm, 질소 가스 240sccm, 수소 가스 590sccm로 했다. 또, 성막 압력은 40Pa로 했다. 즉, 무기층(36)은, 질화 규소막이다. 플라즈마 여기 전력은, 주파수 13.56MHz이고 2.5kW로 했다.
(제2 유기층의 형성)
다음으로, 형성된 무기층(36)의 표면에, 무기층을 보호하는 유기층(38)(이하, 제2 유기층이라고 함)을 형성했다.
먼저, 제2 유기층을 형성하기 위한 도포액(제2 유기층 형성용 도포액)을 이하와 같이 조제했다.
유레테인 결합 함유 아크릴 폴리머(다이세이 파인 케미컬 가부시키가이샤제 아크리트 8BR500, 중량 평균 분자량 250,000)와 광중합 개시제(BASF사제 이르가큐어 184)를 질량 비율로서 95:5가 되도록 칭량하고, 이들을 메틸에틸케톤에 용해시켜, 고형분 농도 15질량%의 도포액을 조제했다.
조제된 제2 유기층 형성용 도포액을 다이 코터를 이용하여, 롤·투·롤로 무기층(36)의 표면에 도포하고, 100℃의 건조 존을 3분간 통과시켜, 권취했다. 이렇게 하여 형성된 제2 유기층의 두께는 1μm였다.
제2 유기층의 형성 직후, 막면 터치 롤부로, 보호 PE 필름을 첩부하여, 제2 유기층이 패스 롤에 접촉하는 일 없이, 반송한 후, 권취했다.
이상과 같이 하여, 가스 배리어 지지체(30) 상에, 제1 유기층(34), 무기층(36) 및 제2 유기층(38)이 이 순서대로 적층된 가스 배리어 필름(14)을 제작했다.
제작한 가스 배리어 필름(14)의 산소 투과도를 APIMS법으로 측정한바, 온도 25℃, 습도 60%RH에 있어서의 산소 투과도는 1×10-3[cc/(m2·day·atm)]이었다.
<기능층 적층체의 제작>
(광학 기능층의 형성)
다음으로, 보호 PE 필름을 박리한 후, 가스 배리어 필름(14)의 제2 유기층(38) 상에 광학 기능층(12)을 형성하기 위한 도포액(광학 기능층 형성용 도포액)을 도포하여 도막을 형성하고, 도막 위에 상기와 동일하게 하여 제작한 가스 배리어 필름(14)을 적층하여 도막을 질소 분위기하에서 가스 배리어 필름(14) 사이에 둔 후, 질소 분위기하에서 UV 조사하여 도막을 경화시켜 광학 기능층(12)을 형성했다.
(광학 기능층 형성용 도포액의 조성)
·양자 도트 1의 톨루엔 분산액(발광 극대: 520nm) 10질량부
·양자 도트 2의 톨루엔 분산액(발광 극대: 630nm) 1질량부
·라우릴아크릴레이트 2.4질량부
·1,9-노네인다이올다이아크릴레이트 0.54질량부
·광중합 개시제 0.003질량부
(이르가큐어 819(BASF사제))
양자 도트 1, 2로서는, 하기의 코어 셸 구조(InP/ZnS)를 갖는 나노 결정을 이용했다.
·양자 도트 1: INP530-10(NN-labs사제)
·양자 도트 2: INP620-10(NN-labs사제)
광학 기능층 형성용 도포액의 점도는 50mPa·s였다.
(시트 가공)
2개의 가스 배리어 필름(14)과 광학 기능층(12)의 적층체를 날끝 각도 17°의 톰슨 블레이드를 사용하여, A4 사이즈의 시트 형상으로 펀칭하여, 기능층 적층체(11)를 얻었다.
<에지면 밀봉층의 형성>
(제1층의 형성)
시트 형상으로 절단한 기능층 적층체(11)를 1000매 중첩시키고, 일반적인 스퍼터링 장치를 이용하여, 기능층 적층체(11)를 복수 매 중첩한 적층물(50)의 측면에 제1층(18A)을 형성했다. 타겟으로서 타이타늄, 방전 가스로서 아르곤을 이용했다. 성막 압력은 0.5Pa, 성막 출력은 400W, 도달 막두께는 10nm였다.
(제2층의 형성)
계속해서, 타겟을 타이타늄으로부터 구리로 변경한 것 이외에는 제1층의 형성과 동일하게 하여, 제1층(18A) 상에 막두께 75nm의 제2층을 형성했다.
(최표층의 형성)
또한, 이하와 같이 하여, 제2층 상에 최표층(20A)을 형성했다.
먼저, 제1층(18A) 및 제2층을 형성한 적층물을 순수로 수세하고, 시판 중인 계면활성제를 채운 욕조에 20초 침지하여 탈지했다. 이어서, 수세한 후에, 5% 황산 수용액 중에 5초간 침지하여 산활성 처리를 행하고, 다시 수세했다.
수세한 적층물을 거는 지그에 고정하고, 테스터로 도통 확인한 후, 5% 질산 수용액 중에 10초간 침지하여 산활성 처리를 행하고, 황산 구리욕(浴)으로 전류 밀도 3.0A/dm2이고 5분의 조건에서 전해 도금 처리를 행하여, 제2층 상에 금속 도금층인 최표층을 형성했다. 그 후, 수세, 방청 처리를 거치고, 에어로 여분의 수분을 제거하여, 에지면에 3층의 금속층이 형성된 적층물을 얻었다.
(분리 공정)
다음으로, 에지면에 3층의 금속층이 형성된 적층물을 기능층 적층체(11)의 표면과 수평 방향으로의 외력에 의한 전단에 의하여, 기능층 적층체(11)별로 분리하여, 에지면에 에지면 밀봉층(16b)이 형성된 기능층 적층체(11), 즉 적층 필름(10b)을 얻었다.
[실시예 2~22, 비교예 1~4]
제1층(18), 제2층(22) 및 최표층(20) 각각의 재료, 막두께와, 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도 Ra를 하기 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 적층 필름(10b)을 제작했다.
[실시예 23]
광학 기능층 형성용 도포액의 양자 도트 1 및 양자 도트 2의 톨루엔 분산액을 양자 도트 3(CZ520-10, NN-labs사제) 및 양자 도트 4(CZ620-10, NN-labs사제)의 톨루엔 분산액으로 변경한 것 이외에는 실시예 19와 동일하게 하여 적층 필름(10b)을 제작했다.
[평가]
<에지면 밀봉 성능의 평가>
제작한 실시예 1~23 및 비교예 1~4의 적층 필름에 대하여, 이하의 시험을 행하여, 에지면의 밀봉 성능을 평가했다.
먼저, 분리한 1매의 적층 필름의 초기 휘도(Y0)를 이하의 순서로 측정했다. 시판 중인 태블릿 단말(Amazon사제 Kindle(등록 상표) Fire HDX 7")을 분해하고, 백라이트 유닛을 취출했다. 취출한 백라이트 유닛의 도광판 상에 적층 필름을 두고, 그 위에, 방향이 직교한 2매의 프리즘 시트를 중첩시켜 두었다. 청색 광원으로부터 발하고, 적층 필름 및 2매의 프리즘 시트를 투과한 광의 휘도를 도광판의 면에 대하여 수직 방향 740mm의 위치에 설치한 휘도계(SR3, TOPCON사제)로 측정하여, 적층 필름의 휘도로 했다.
다음으로, 60℃ 상대 습도 90%로 유지된 항온조에 적층 필름을 투입하고, 1000시간 보관했다. 1000시간 후, 적층 필름을 취출하고, 상기와 동일한 순서로, 고온 고습 시험 후의 휘도(Y1)를 측정했다. 하기 식과 같이, 초기의 휘돗값(Y0)에 대한, 고온 고습 시험 후의 휘도(Y1)의 변화율(ΔY)을 산출하여, 휘도 변화의 지표로서 이하의 기준으로 평가했다.
ΔY[%]=(Y0-Y1)/Y0×100
평가 결과가, C 이상이면, 고온 고습 시험 후에도 단부의 발광 효율이 양호하게 유지되고 있다고 판단할 수 있다.
A: ΔY≤5%
B: 5%<ΔY<10%
C: 10%≤ΔY<15%
D: 15%≤ΔY
<밀착성의 평가>
분리 공정 전의, 복수 매의 기능층 적층체의 적층물의 에지면에 에지면 밀봉층이 형성된 상태의 샘플을 이용하여, 기능층 적층체의 에지면과, 에지면 밀봉층과의 밀착성을 100칸의 크로스컷 시험(JIS D0202-1988에 준거)을 행하여, 박리되지 않았던 매스의 수에 의하여 평가했다.
밀착성의 평가 기준은 이하이다. 또한, A~C가 합격에 해당하고, D가 불합격에 해당한다.
A: 100
B: 95 이상 99 이하
C: 90 이상 94 이하
D: 90 미만
<탄성률의 측정>
각 실시예, 비교예에서 이용한 양자 도트 함유 중합성 조성물의 조성으로부터, 양자 도트 1 및 양자 도트 2의 톨루엔 분산액을 제거한 모델막 제작용 조성물을 준비하고, 상술한 수단 1에 의하여 두께 60μm의 모델막을 제작했다. 구체적으로는, 이하의 방법에 의하여 모델막을 제작했다.
모델막 제작용 조성물을 이형 필름(도레이사제 루미러 #50, 50μm 두께)에 와이어 바로 도포한 후, 그 위에 다른 1매의 이형 필름을 래미네이팅하고, 200W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스사제)를 이용하여, 자외선을 도포면으로부터 1000mJ/cm2 조사하여 경화시켰다. 또한, 상기 공정은 모두 질소 분위기하에서 실시했다. 모델막을 5mm×30mm로 재단하고, 이렇게 하여 얻어진 경화막의 양면에 있는 이형 필름을 박리하여, 두께 60μm의 수지층 단일막(모델막)을 얻었다.
모델막을 25℃ 60%RH에서 2시간 이상 조습한 후에 동적 점탄성 측정 장치(바이브론: DVA-225(아이티 게이소쿠 세이교(주)제))로, 그립 간 거리 20mm, 승온 속도 2℃/분, 측정 온도 범위 30℃~150℃, 주파수 1Hz에서 측정하고, 50℃에 있어서의 저장 탄성률의 값을 탄성률로서 이용했다.
결과를 하기의 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00001
상기 표 1에 나타나는 바와 같이, 본 발명의 제2 양태의 적층 필름의 실시예는, 비교예에 대하여, 단부의 비발광 영역이 저감되어 있고, 2층 이상 금속층으로 이루어지는 에지면 밀봉층에 의하여 산소, 물을 차단함으로써 양자 도트층(광학 기능층)의 열화를 방지할 수 있는 것을 알 수 있었다.
또, 실시예 및 비교예의 대비로부터, 단관능 중합성 화합물과 다관능 중합성 화합물을 병용하여, 탄성률을 소정의 범위로 함으로써, 금속 박막 형성 시의 막응력에 광학 기능층의 매트릭스가 견디고, 단면의 금속 박막의 결함을 없애며, 또한 평활성을 확보할 수 있어, 에지면에 높은 배리어성을 갖는 에지면 밀봉층이 얻어진다.
[실시예 24]
다음으로, 본 발명의 제1 양태의 적층 필름에 대하여, 실시예 24로서, 도 3에 나타내는 적층 필름(10b)을 제작했다.
실시예 24의 적층 필름은, 광학 기능층 형성용 도포액의 조성을 이하의 조성으로 변경하고, 시트 가공 공정에 있어서, 시트 형상으로 절단한 적층체를 1000매 중첩한 후, 야마토 고키 고교 가부시키가이샤제 리트라톰 REM-710을 이용하여 블레이드 각 0°, 노치량 10μm의 조건에서 적층체 에지면을 절삭하여 에지면의 표면 조도를 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 제작했다.
제작한 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도 Ra를 간섭 현미경(가부시키가이샤 료카 시스템사제 vertscan2.0)으로 측정한바, 표면 조도 Ra는 0.6μm였다.
(광학 기능층 형성용 도포액의 조성)
·양자 도트 1의 톨루엔 분산액(발광 극대: 520nm) 10질량부
·양자 도트 2의 톨루엔 분산액(발광 극대: 630nm) 1질량부
·라우릴메타크릴레이트 2.4질량부
·트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트 0.54질량부
·광중합 개시제 0.009질량부
(이르가큐어 819(BASF사제))
[실시예 25~29]
제1층(18), 제2층(22) 및 최표층(20) 각각의 재료, 막두께와, 기능층 적층체(11)의 에지면의 표면 조도 Ra를 하기 표 2에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 24와 동일하게 하여, 적층 필름(10b)을 제작했다.
또한, 실시예 27에 있어서는, 블레이드 각 0°, 노치량 20μm의 조건에서 에지면 절삭을 행하고, 실시예 29에 있어서는, 블레이드 각 25°, 노치량 20μm의 조건으로 에지면 절삭을 행했다.
[실시예 30]
제2층(22)을 형성하지 않고, 제1층(18)과 최표층(20)의 2층 구성으로 하며, 제1층(18)의 재료 및 막두께를 하기 표 2에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 24와 동일하게 하여, 적층 필름(10a)을 제작했다.
[비교예 5]
에지면 밀봉층을 형성하지 않는 것 이외에는, 실시예 24와 동일하게 하여, 적층 필름을 제작했다.
[비교예 6]
에지면 밀봉층을 1층으로 하고, 이 층의 재료, 막두께를 하기 표 2에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 24와 동일하게 하여, 적층 필름을 제작했다.
[비교예 7]
에지면 밀봉층으로서, 기능층 적층체의 에지면에, 헨켈·재팬사제, 록타이트 E-30CL을 딥법으로 형성했다.
[평가]
<에지면 밀봉 성능의 평가>
제작한 실시예 24~30 및 비교예 5~7의 적층 필름에 대하여, 상기와 동일하게 하여 에지면의 밀봉 성능을 평가했다.
<밀착성의 평가>
제작한 실시예 24~30 및 비교예 5~7의 적층 필름에 대하여, 상기와 동일하게 하여 밀착성을 평가했다.
<핀홀수의 평가>
제작한 적층 필름의 에지면 밀봉층의 핀홀수를 이하와 같이 하여 측정했다.
4변의 에지면 밀봉층을 광학 현미경으로 관찰하고, 크기 1μm 이상의 비피복부를 핀홀로 하며, 그 수 x를 계측하여, 1mm2당 핀홀수를 구했다.
핀홀수의 지표로서, 이하의 기준으로 평가했다. 평가 결과가, C 이상이면, 핀홀수가 적어, 단부 밀봉층이 충분한 가스 배리어성을 갖고 있다고 판단할 수 있다.
A: x≤5개/mm2
B: 5개/mm2<x<10개/mm2
C: 10개/mm2≤x<20개/mm2
D: 20개/mm2≤x
<겹치는 폭의 평가>
제작한 적층 필름의 에지면 밀봉층의 주면에 대한 겹치는 폭을 이하와 같이 하여 측정했다.
적층 필름을 야마토 고키 고교 가부시키가이샤제 리트라톰 REM-710을 이용하여 블레이드 각 0°, 노치량 10μm의 조건에서 단면 절삭하고, 그 단면을 광학 현미경으로 관찰하여, 겹치는 폭(d)을 구했다.
겹치는 폭(d)의 지표로서, 이하의 기준으로 평가했다. 평가 결과가, C 이상이면, 겹치는 폭이 적어, 필름 단부의 비발광 부분을 억제할 수 있다고 판단할 수 있다.
A: d≤0.1mm
B: 0.1mm<d<0.5mm
C: 0.5mm≤d<1mm
D: 1mm≤d
또, 비교예 7의 적층 필름의 에지면의 단면의 광학 현미경 사진을 도 6에 나타낸다.
결과를 하기의 표 2에 나타낸다.
[표 2]
Figure pct00002
상기 표 2에 나타나는 바와 같이, 본 발명의 제1 양태의 적층 필름의 실시예는, 비교예에 대하여, 단부의 비발광 영역이 저감되어 있고, 2층 이상 금속층으로 이루어지는 에지면 밀봉층에 의하여 산소, 물을 차단함으로써 양자 도트(광학 기능층)의 열화를 방지할 수 있는 것을 알 수 있었다.
또, 실시예 24, 실시예 26, 및 비교예 6의 대비로부터, 에지면 밀봉층은 두꺼울수록, 산소 투과도가 낮아져, 밀봉 성능이 높아지는 것을 알 수 있었다.
또, 실시예 24, 실시예 27, 실시예 29의 대비로부터, 기능층 적층체의 표면 조도 Ra가 작을수록, 밀봉 성능이 보다 높아지는 것을 알 수 있었다. 이것은, 기능층 적층체의 표면 조도 Ra가 크면, 에지면 밀봉층을 균일하게 피복하기 어려워져, 핀홀이 발생하기 때문이라고 추정된다. 이 결과로부터, 기능층 적층체의 표면 조도 Ra는, 2.0μm 이하인 것이 바람직한 것을 알 수 있었다.
또, 실시예 24, 실시예 28, 실시예 30의 대비로부터, 기능층 적층체의 에지면에 접하는 제1층의 재료를 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 및 니켈 중 어느 하나로 함으로써, 보다 높은 밀착성이 얻어지는 것을 알 수 있었다.
이상의 결과로부터, 본 발명의 효과는 분명하다.
10a, 10b 적층 필름
11 기능층 적층체
12 광학 기능층
14 가스 배리어층(가스 배리어 필름)
16a, 16b 에지면 밀봉층
18, 18A 제1층
20, 20A 최표층
22 제2층
30 가스 배리어 지지체
32 배리어층
34 유기층
36 무기층
38 유기층
50 적층물
52 제1층을 형성한 적층물
54 최표층을 형성한 적층물

Claims (23)

  1. 광학 기능층과, 상기 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및
    상기 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고,
    상기 에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 상기 기능층 적층체에 접하는 제1층 이외의 적어도 1층이, 금속 도금층인 적층 필름.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 상기 기능층 적층체로부터 가장 먼 최표층이, 금속 도금층인 적층 필름.
  4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 금속 도금층의 두께가 상기 기능층 적층체에 접하는 제1층의 두께보다 두꺼운 적층 필름.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 제1층의 두께가 0.001μm~0.5μm이며,
    상기 금속 도금층의 두께가 0.01μm~100μm인 적층 필름.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기능층 적층체에 접하는 제1층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 구리, 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금이며,
    상기 제1층 이외의 각층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 니켈, 주석, 구리, 은, 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금인 적층 필름.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 두께가 0.1μm~100μm인 적층 필름.
  8. 광학 기능층과 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체의 측면에, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 갖는 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름을 제조하는 적층 필름의 제조 방법으로서,
    상기 기능층 적층체를 복수 매 중첩한 적층물의 에지면에, 상기 기능층 적층체에 접하는 상기 제1층을 형성하는 제1층 형성 공정과,
    상기 적층물의 에지면에 형성된 상기 제1층 상에 최표층을 형성하는 최표층 형성 공정을 갖고,
    상기 제1층의 형성 방법이, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 적층 필름의 제조 방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 상기 제1층 이외의 적어도 1층의 형성 방법이, 금속 도금 처리인 적층 필름의 제조 방법.
  10. 광학 기능층과, 상기 광학 기능층의 적어도 한쪽의 주면에 적층되는, 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체, 및
    상기 기능층 적층체의 에지면 중 적어도 일부를 덮어 형성되는 에지면 밀봉층을 갖고,
    상기 에지면 밀봉층은 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 각각 금속으로 이루어지는 적층 필름으로서,
    상기 광학 기능층은, 형광체 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화층인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 중합성 화합물은 단관능 중합성 화합물로 이루어지는 제1 중합성 화합물의 적어도 1종과 다관능 중합성 화합물로 이루어지는 제2 중합성 화합물의 적어도 1종을 포함하는 적층 필름.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 제1 중합성 화합물이 알킬기의 탄소수가 4~30인 지방족 또는 방향족 알킬(메트)아크릴레이트이며,
    상기 제2 중합성 화합물이 1,6-헥세인다이올다이아크릴레이트, 1,10-데케인다이올다이아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이(메트)아크릴레이트, 트라이사이클로데케인다이메탄올다이아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일다이(메트)아크릴레이트, 및 에톡시화 비스페놀 A 다이아크릴레이트 중에서 선택되는 적층 필름.
  13. 청구항 10 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 기능층의 50℃에 있어서의 탄성률이 1MPa~4000MPa인 적층 필름.
  14. 청구항 10 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스 배리어층이 상기 광학 기능층의 양쪽의 주면에 적층되어 이루어지는 적층 필름.
  15. 청구항 10 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 기능층의 상기 형광체는 양자 도트, 양자 로드, 테트라포드형 양자 도트인 적층 필름.
  16. 청구항 10 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 상기 기능층 적층체에 접하는 제1층 이외의 적어도 1층이, 금속 도금층인 적층 필름.
  17. 청구항 10 내지 청구항 16 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 상기 기능층 적층체로부터 가장 먼 최표층이, 금속 도금층인 적층 필름.
  18. 청구항 16 또는 청구항 17에 있어서,
    상기 금속 도금층의 두께가 상기 기능층 적층체에 접하는 제1층의 두께보다 두꺼운 적층 필름.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 제1층의 두께가 0.001μm~0.5μm이며,
    상기 금속 도금층의 두께가 0.01μm~100μm인 적층 필름.
  20. 청구항 10 내지 청구항 19 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기능층 적층체에 접하는 제1층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 구리, 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금이며,
    상기 제1층 이외의 각층의 재료가 알루미늄, 타이타늄, 크로뮴, 니켈, 주석, 구리, 은, 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 혹은 이들 중 적어도 1종을 포함하는 합금인 적층 필름.
  21. 청구항 10 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 두께가 0.1μm~100μm인 적층 필름.
  22. 광학 기능층과 가스 배리어층을 갖는 기능층 적층체의 측면에, 적어도 2층으로 이루어지며, 각층이 금속으로 이루어지는 에지면 밀봉층을 갖는 청구항 10 내지 청구항 21 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름을 제조하는 적층 필름의 제조 방법으로서,
    가스 배리어층을 갖는 가스 배리어 필름 위에, 형광체 및 적어도 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 도포하여 경화시켜 이루어지는 기능층 적층체를 형성하고,
    상기 기능층 적층체를 복수 매 중첩한 적층물의 에지면에, 상기 기능층 적층체에 접하는 상기 제1층을 형성하는 제1층 형성 공정과,
    상기 적층물의 에지면에 형성된 상기 제1층 상에 최표층을 형성하는 최표층 형성 공정을 가지며,
    상기 제1층의 형성 방법이, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 및 플라즈마 CVD법으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 적층 필름의 제조 방법.
  23. 청구항 22에 있어서,
    상기 에지면 밀봉층의 상기 제1층 이외의 적어도 1층의 형성 방법이, 금속 도금 처리인 적층 필름의 제조 방법.
KR1020177035953A 2015-06-17 2016-06-16 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법 KR102028470B1 (ko)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2015-122266 2015-06-17
JP2015122266 2015-06-17
JPJP-P-2015-130410 2015-06-29
JP2015130410 2015-06-29
JPJP-P-2015-158845 2015-08-11
JP2015158845 2015-08-11
PCT/JP2016/067946 WO2016204231A1 (ja) 2015-06-17 2016-06-16 積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180011147A true KR20180011147A (ko) 2018-01-31
KR102028470B1 KR102028470B1 (ko) 2019-10-04

Family

ID=57545283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177035953A KR102028470B1 (ko) 2015-06-17 2016-06-16 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20180179643A1 (ko)
JP (1) JP6433592B2 (ko)
KR (1) KR102028470B1 (ko)
CN (1) CN107708996B (ko)
WO (1) WO2016204231A1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018079495A1 (ja) * 2016-10-24 2018-05-03 凸版印刷株式会社 ガスバリアフィルム及び色変換部材
WO2019091346A1 (en) 2017-11-08 2019-05-16 Nano And Advanced Materials Institute Limited Barrier free stable quantum dot film
JP7056290B2 (ja) * 2018-03-23 2022-04-19 Tdk株式会社 薄膜キャパシタ、及び薄膜キャパシタの製造方法
CN111989357B (zh) * 2018-04-19 2023-08-11 东洋纺株式会社 折叠型显示器的表面保护膜用聚酯薄膜及其用途
JP6462941B1 (ja) * 2018-05-28 2019-01-30 グンゼ株式会社 カバーフィルム
JP6859376B2 (ja) * 2019-01-22 2021-04-14 グンゼ株式会社 カバーフィルム
WO2020241793A1 (ja) * 2019-05-31 2020-12-03 三井化学東セロ株式会社 包装用フィルム、包装体および積層フィルムの製造方法
CN111020503B (zh) * 2019-12-10 2021-07-30 湖北大学 蒙脱土在磁控溅射靶材中的应用、得到的蒙脱土薄膜及应用
TWI741598B (zh) * 2020-05-12 2021-10-01 睿亞光電股份有限公司 波長轉換元件
TWI789097B (zh) * 2021-11-04 2023-01-01 南亞塑膠工業股份有限公司 光學膜及其製造方法與背光模組
TW202321415A (zh) * 2021-11-23 2023-06-01 南亞塑膠工業股份有限公司 光學膜及其製造方法與背光模組

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090039810A (ko) * 2006-07-28 2009-04-22 쌩-고벵 글래스 프랑스 가변 에너지/광학 성질을 가지는 활성 디바이스
JP2009283441A (ja) 2008-04-25 2009-12-03 Sony Corp 発光装置、表示装置および色変換シート
JP2010061098A (ja) 2008-09-03 2010-03-18 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 量子点波長変換体、量子点波長変換体の製造方法及び量子点波長変換体を含む発光装置
JP2012037558A (ja) * 2010-08-03 2012-02-23 Hitachi Chem Co Ltd 調光性構造体
KR20120102107A (ko) 2009-12-11 2012-09-17 바스프 에스이 생분해성 포일로 포장된 설치류 미끼
KR20130097205A (ko) * 2010-09-17 2013-09-02 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 적층 필름, 전극이 형성된 적층 필름 및 유기 el 소자
JP2013544018A (ja) 2010-11-10 2013-12-09 ナノシス・インク． 量子ドットフィルム、照明装置、および照明方法
JP2014069454A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Fujifilm Corp 電子モジュール

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080013752A (ko) * 2006-08-08 2008-02-13 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 편광 시트 및 편광 시트 제조 방법
JP4988782B2 (ja) * 2009-03-02 2012-08-01 富士フイルム株式会社 封止された素子
JP2012094608A (ja) * 2010-10-26 2012-05-17 Fujifilm Corp 太陽電池モジュール
JP2014220194A (ja) * 2013-05-10 2014-11-20 株式会社フジクラ 酸化物超電導線材及びその製造方法
JP5796038B2 (ja) * 2013-06-18 2015-10-21 デクセリアルズ株式会社 蛍光体シート
WO2016039079A1 (ja) * 2014-09-12 2016-03-17 富士フイルム株式会社 機能性積層フィルムおよび機能性積層フィルムの製造方法
JP6117283B2 (ja) * 2014-09-26 2017-04-19 富士フイルム株式会社 積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法
US9739926B2 (en) * 2014-09-26 2017-08-22 Fujifilm Corporation Laminate film, backlight unit, and liquid crystal display device

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090039810A (ko) * 2006-07-28 2009-04-22 쌩-고벵 글래스 프랑스 가변 에너지/광학 성질을 가지는 활성 디바이스
JP2009283441A (ja) 2008-04-25 2009-12-03 Sony Corp 発光装置、表示装置および色変換シート
JP2010061098A (ja) 2008-09-03 2010-03-18 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 量子点波長変換体、量子点波長変換体の製造方法及び量子点波長変換体を含む発光装置
KR20120102107A (ko) 2009-12-11 2012-09-17 바스프 에스이 생분해성 포일로 포장된 설치류 미끼
JP2012037558A (ja) * 2010-08-03 2012-02-23 Hitachi Chem Co Ltd 調光性構造体
KR20130097205A (ko) * 2010-09-17 2013-09-02 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 적층 필름, 전극이 형성된 적층 필름 및 유기 el 소자
JP2013544018A (ja) 2010-11-10 2013-12-09 ナノシス・インク． 量子ドットフィルム、照明装置、および照明方法
JP2014069454A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Fujifilm Corp 電子モジュール

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2016204231A1 (ja) 2018-04-26
US20180179643A1 (en) 2018-06-28
CN107708996A (zh) 2018-02-16
CN107708996B (zh) 2019-11-01
JP6433592B2 (ja) 2018-12-05
WO2016204231A1 (ja) 2016-12-22
KR102028470B1 (ko) 2019-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102028470B1 (ko) 적층 필름 및 적층 필름의 제조 방법
JP6570638B2 (ja) 積層フィルム
KR102150181B1 (ko) 가스 배리어 필름 및 파장 변환 필름
US10480751B2 (en) Wavelength conversion laminated film
JP6599992B2 (ja) 積層フィルム
JP6577874B2 (ja) 波長変換フィルム
KR102016407B1 (ko) 적층 필름
JP6608447B2 (ja) 積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法
JP6441484B2 (ja) 積層フィルム
JP6316971B2 (ja) 機能性積層フィルムおよび機能性積層フィルムの製造方法
JP6316443B2 (ja) 機能性積層フィルムおよび機能性積層フィルムの製造方法
JP6611350B2 (ja) バックライト用フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right