JP6433592B2 - 積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法に関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤともいう）は、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。また、近年の液晶表示装置において、ＬＣＤ性能改善としてさらなる省電力化、色再現性向上等が求められている。

ＬＣＤのバックライトの省電力化に伴って、光利用効率を高め、また、色再現性を向上するために、入射光の波長を変換して出射する量子ドットを利用することが提案されている。
量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態の結晶のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長・発光波長を制御できる。

一般に、このような量子ドットは、樹脂等の中に分散されて、例えば、波長変換を行う量子ドットフィルムとして、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
バックライトから量子ドットを含むフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。

ところで、量子ドットは、水分や酸素により劣化しやすく、光酸化反応により発光強度が低下するという課題がある。そのため、量子ドットを含む樹脂層（以下、「量子ドット層」ともいう）の両面にガスバリアフィルムを積層して量子ドット層を保護することが行われている。
しかしながら、量子ドット層の両主面をガスバリアフィルムで保護するのみでは、ガスバリアフィルムで保護されていない端面から水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
そのため、量子ドット層の周囲全部をガスバリアフィルムで保護することが提案されている。

例えば、特許文献１には、量子ドット蛍光体を濃度０．０１質量％〜２０質量％の範囲でシク口オレフィン(共)重合体に分散させた組成物が記載されており、量子ドットが分散された樹脂成型体の全面を被覆するガスバリア層を有する構成が記載されている。また、このガスバリア層は、樹脂層の少なくとも一方の面にシリカ膜またはアルミナ膜を形成したガスバリアフィルムであることが記載されている。

また、特許文献２には、発光量子ドット（ＱＤ）集団を含むリモート蛍光体フィルムを備えるディスプレイバックライトユニットが記載されており、ＱＤ蛍光体材料を２つのガスバリアフィルムで挟み、ＱＤ蛍光体材料の周囲周辺の２つのガスバリアフィルムに挟まれた領域にガスバリア性を有する不活性領域を有する構成が記載されている。
また、特許文献３には、光源部から発せられた色光の少なくとも一部を他の色光に変換する色変換層と、色変換層を封止する不透水性の封止シートとを備えた発光装置が記載されており、蛍光体層の外周に沿って、すなわち蛍光体層の平面形状を囲むように枠形状に設けられている第２貼合層を有し、この第２貼合層がガスバリア性を有する接着材料からなる構成が記載されている。

また、特許文献３には、ＱＤフィルムを密封するバリア層である上部層および／または底部層が狭圧されて、端部の開口を狭くすることで酸素や水の浸入を抑制する構成が記載されている。
また、特許文献４には、励起光を波長変換して波長変換光を発生させる量子点及び量子点を分散させる分散媒質を含む波長変換部と、波長変換部を密封する密封部材と、を含む量子点波長変換体が記載されており、密封シートの端部領域を加熱して熱粘着させることで波長変換部を密封することが記載されている。

国際公開第２０１２／１０２１０７号 特表２０１３−５４４０１８号公報 特開２００９−２８３４４１号公報 特開２０１０−０６１０９８号公報

ところで、ＬＣＤに用いられる、量子ドットを含むフィルムは、５０μｍ〜３５０μｍ程度の薄型のフィルムである。
薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪いという問題があった。また、ガスバリアフィルムを折り曲げるとバリア層が割れてガスバリア性が低下するという問題もあった。

一方、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成の場合には、例えば、いわゆるダムフィル方式で、保護層および樹脂層を形成することが考えられる。すなわち、一方のガスバリアフィルム上の周縁部分に保護層を形成した後に、保護層に囲まれた領域内に樹脂層を形成し、その後、保護層および樹脂層上に、他方のガスバリアフィルムを積層することで量子ドットを含むフィルムを作製することが考えられる。
しかしながら、このような方法で形成可能な保護層の材料は、接着材料等であるため高いバリア性を付与することができず、ガスバリア性や耐久性が十分でなかった。
また、このようなダムフィル方式では、全工程がバッチ方式となるため生産性が極めて悪いという問題があった。

また、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くする、あるいは、密封する構成では、端部での、量子ドット層の厚さが薄くなってしまうため、端部ではその機能を十分に発現することができず、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるバリア層は、硬く脆いため、このようなバリア層を有するガスバリアフィルムを、急に湾曲させると、バリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下して、量子ドット層への水分や酸素の浸入を抑制できなくなるという問題があった。

本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、量子ドット層などの光学機能層が水分や酸素により劣化することを防止でき、高い耐久性を有し、また、狭額縁化が可能であり、高い生産性を有する積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層が金属からなることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の構成の積層フィルムおよびその製造方法を提供する。

（１） 光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる積層フィルム。
（２） 端面封止層の、機能層積層体に接する第１層以外の少なくとも１層が、金属メッキ層である（１）に記載の積層フィルム。
（３） 端面封止層の、機能層積層体から最も遠い最表層が、金属メッキ層である（１）または（２）に記載の積層フィルム。
（４） 金属メッキ層の厚さが、機能層積層体に接する第１層の厚さよりも厚い（２）または（３）に記載の積層フィルム。
（５） 第１層の厚さが、０．００１μｍ〜０．５μｍであり、
金属メッキ層の厚さが、０．０１μｍ〜１００μｍである（４）に記載の積層フィルム。
（６） 機能層積層体に接する第１層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であり、
第１層以外の各層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金である（１）〜（５）のいずれかに記載の積層フィルム。
（７） 端面封止層の厚さが、０．１μｍ〜１００μｍである（１）〜（６）のいずれかに記載の積層フィルム。
（８） 光学機能層とガスバリア層とを有する機能層積層体の側面に、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる端面封止層を有する（１）〜（７）のいずれかに記載の積層フィルムを製造する積層フィルムの製造方法であって、
機能層積層体を複数枚重ねた積層物の端面に、機能層積層体に接する第１層を形成する第１層形成工程と、
積層物の端面に形成された第１層上に最表層を形成する最表層形成工程と、を有し、
第１層の形成方法が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法からなる群から選択される１種である積層フィルムの製造方法。
（９） 端面封止層の、第１層以外の少なくとも１層の形成方法が、金属メッキ処理である（８）に記載の積層フィルムの製造方法。

（１０） 光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層がそれぞれ金属からなる積層フィルムであって、
光学機能層は、蛍光体および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる硬化層である積層フィルム。

（１１） 重合性化合物は単官能重合性化合物からなる第一の重合性化合物の少なくとも一種と多官能重合性化合物からなる第二の重合性化合物の少なくとも一種とを含む（１０）に記載の積層フィルム。
（１２） 第一の重合性化合物が、アルキル基の炭素数が４〜３０である脂肪族または芳香族アルキル（メタ）アクリレートであり、
第二の重合性化合物が、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートの中から選ばれる（１１）に記載の積層フィルム。
（１３） 光学機能層の５０℃における弾性率が１ＭＰａ〜４０００ＭＰａである（１０）〜（１２）のいずれかに記載の積層フィルム。
（１４） ガスバリア層が光学機能層の両方の主面に積層されてなる（１０）〜（１３）のいずれかに記載の積層フィルム。
（１５） 光学機能層の蛍光体は、量子ドット、量子ロッド、テトラポッド型量子ドットである（１０）〜（１４）のいずれかに記載の積層フィルム。
（１６） 端面封止層の、機能層積層体に接する第１層以外の少なくとも１層が、金属メッキ層である（１０）〜（１５）のいずれかに記載の積層フィルム。
（１７） 端面封止層の、機能層積層体から最も遠い最表層が、金属メッキ層である（１０）〜（１６）のいずれかに記載の積層フィルム。
（１８） 金属メッキ層の厚さが、機能層積層体に接する第１層の厚さよりも厚い（１６）または（１７）に記載の積層フィルム。
（１９） 第１層の厚さが、０．００１μｍ〜０．５μｍであり、
金属メッキ層の厚さが、０．０１μｍ〜１００μｍである（１８）に記載の積層フィルム。
（２０） 機能層積層体に接する第１層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であり、
第１層以外の各層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金である（１０）〜（１９）のいずれかに記載の積層フィルム。
（２１） 端面封止層の厚さが、０．１μｍ〜１００μｍである（１０）〜（２０）のいずれかに記載の積層フィルム。
（２２） 光学機能層とガスバリア層とを有する機能層積層体の側面に、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる端面封止層を有する（１０）〜（２１）のいずれかに記載の積層フィルムを製造する積層フィルムの製造方法であって、
ガスバリア層を有するガスバリアフィルムの上に、蛍光体および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を塗布し硬化させてなる機能層積層体を形成し、
機能層積層体を複数枚重ねた積層物の端面に、機能層積層体に接する第１層を形成する第１層形成工程と、
積層物の端面に形成された第１層上に最表層を形成する最表層形成工程と、を有し、
第１層の形成方法が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法からなる群から選択される１種である積層フィルムの製造方法。
（２３） 端面封止層の、第１層以外の少なくとも１層の形成方法が、金属メッキ処理である（２２）に記載の積層フィルムの製造方法。

このような本発明によれば、量子ドットが水分や酸素により劣化することを防止でき、高い耐久性を有し、また、狭額縁化が可能であり、高い生産性を有する積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法を提供することができる。

本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。 積層フィルムに用いられるガスバリアフィルムの一例を概念的に示す断面図である。 本発明の積層フィルムの他の一例を概念的に示す断面図である。 端面封止層の回り込み量を説明するための概略断面図である。 本発明の積層フィルムの製造方法の一例を説明するための概略図である。 本発明の積層フィルムの製造方法の一例を説明するための概略図である。 本発明の積層フィルムの製造方法の一例を説明するための概略図である。 本発明の積層フィルムの製造方法の一例を説明するための概略図である。 比較例３の積層フィルムの端面の断面の光学顕微鏡写真である。

以下、本発明の積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本発明の第１の態様の積層フィルムは、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる積層フィルムである。

また、本発明の第２の態様の積層フィルムは、蛍光体および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる積層フィルムである。

図１は、本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。
図１に示す積層フィルム１０ａは、光学機能層１２および光学機能層１２の両主面にそれぞれ積層される２つのガスバリア層１４を有する機能層積層体１１と、機能層積層体１１の側面を覆うように形成される端面封止層１６ａとを有する。

光学機能層１２は、波長変換等の所望の機能を発現するための層である。
一例として、光学機能層１２は、多数の蛍光体（量子ドット）を硬化性の樹脂等のマトリックス中に分散してなる量子ドット層であり、光学機能層１２に入射した光の波長を変換して出射する機能を有するものである。
例えば、図示しないバックライトから出射された青色光が光学機能層１２に入射すると、光学機能層１２は、内部に含有する量子ドットの効果により、この青色光の少なくとも一部を赤色光あるいは緑色光に波長変換して出射する。

ここで、青色光とは、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光であり、緑色光とは、５００ｎｍを超え６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光のことであり、赤色光とは、６００ｎｍを超え６８０ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことである。
なお、量子ドット層が発現する波長変換の機能は、青色光を赤色光あるいは緑色光に波長変換する構成に限定はされず、入射光の少なくとも一部を異なる波長の光に変換するものであればよい。

量子ドットは、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
量子ドット層に含有される量子ドットの種類には特に限定はなく、求められる波長変換の性能等に応じて、種々の公知の量子ドットを適宜選択すればよい。

量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

量子ドットは、マトリックス中に均一に分散されるのが好ましいが、マトリックス中に偏りをもって分散されてもよい。また、量子ドットは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
２種以上併用する場合は、発光光の波長が異なる２種以上の量子ドットを使用してもよい。

具体的には、公知の量子ドットには、６００ｎｍを超え６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍを超え６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む量子ドット含有積層体へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、量子ドット層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む量子ドット層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

また、量子ドットとして、形状がロッド状で指向性を持ち偏光を発する、いわゆる量子ロッドや、テトラポッド型量子ドットを用いてもよい。

第１の態様において、量子ドット層のマトリックスの種類としては、特に限定はなく、公知の量子ドット層で用いられる各種の樹脂を用いることができる。
例えば、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂などが挙げられる。あるいは、マトリックスとして、重合性基を有する硬化性化合物を用いることができる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。

具体的には、例えば、以下の第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む樹脂をマトリックスとして用いることができる。

第１の重合性化合物は、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーからなる群から選択される1つ以上の化合物であるのが好ましい。

２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。

また、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとしては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシシクロアルカンを含む化合物等が好適に用いられる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとして好適に使用できる市販品としては、ダイセル化学工業（株）のセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

また、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーはその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

第２の重合性化合物は、分子中に水素結合性を有する官能基を有し、かつ、第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基を有する。
水素結合性を有する官能基としては、ウレタン基、ウレア基、またはヒドロキシル基等が挙げられる。
第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基としては、例えば、第１の重合性化合物が２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーであるときは（メタ）アクリロイル基であればよく、第１の重合性化合物がエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーであるときはエポキシ基またはオキセタニル基であればよい。

ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＨＤＩ、ＩＰＤＩ、ＨＭＤＩ等のジイソシアナートとポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートを反応させて得られるモノマー、オリゴマーであり、特開２００２−２６５６５０公報や、特開２００２−３５５９３６号公報、特開２００２−０６７２３８号公報等に記載の多官能ウレタンモノマーを挙げることができる。具体的には、ＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＩＰＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＨＤＩとペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等をあげることができるが、これに限定されるものではない。

ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして好適に使用できる市販品としては、共栄社化学（株）製のＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−５１０Ｈ、ＵＦ−８００１Ｇ、ＤＡＵＡ−１６７、新中村化学工業（株）製のＵＡ−１６０ＴＭ、大阪有機化学工業（株）製のＵＶ−４１０８Ｆ、ＵＶ−４１１７Ｆ等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、エポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応により合成される化合物を挙げることができる。代表的なものは、エポキシ基を有する化合物により、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールのノボラック型、脂環型に分類される。具体的な例としては、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、フェノールノボラックにエピクロロヒドリンを反応させ、（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、エポキシ化大豆油に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート等を挙げることができる。また、ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして他には、末端にカルボキシ基、またはリン酸基を有する（メタ）アクリレートモノマー等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

ヒドロキシル基を含む第２の重合性化合物として好適に使用できる市販品としては、共栄社化学（株）製のエポキシエステル、Ｍ−６００Ａ、４０ＥＭ、７０ＰＡ、２００ＰＡ、８０ＭＦＡ、３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００ＭＫ、３０００Ａ、日本化成（株）製の４−ヒドロキシブチルアクリレート、新中村化学工業（株）製の単官能アクリレートＡ−ＳＡ、単官能メタクリレートＳＡ、ダイセル・オルネクス（株）製の単官能アクリレートβ−カルボキシエチルアクリレート、城北化学工業（株）製のＪＰＡ−５１４等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との質量比は１０：９０〜９９：１であればよく、１０：９０〜９０：１０であることが好ましい。第２の重合性化合物の含有量に対し第１の重合性化合物の含有量が多いことも好ましく、具体的には（第１の重合性化合物の含有量）／（第２の重合性化合物の含有量）が２〜１０であることが好ましい。

第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む樹脂をマトリックスとして用いる場合には、マトリックス中に、さらに単官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことが好ましい。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノまたはジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートモノマーは第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、１〜３００質量部含まれていることが好ましく、５０〜１５０質量部含まれていることがより好ましい。

また、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する化合物を含むことが好ましい。具体的には第１の重合性化合物、第２の重合性化合物、または単官能（メタ）アクリレートモノマーの少なくともいずれかが、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有することが好ましい。上記長鎖アルキル基は炭素数１２〜２２の長鎖アルキル基であることがより好ましい。これにより、量子ドットの分散性が向上するからである。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。
炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、具体的には、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリルアミド、オクチル（メタ）アクリルアミド、ラウリル（メタ）アクリルアミド、オレイル（メタ）アクリルアミド、ステアリル（メタ）アクリルアミド、ベヘニル（メタ）アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。

また、本発明の第２の態様の積層フィルムにおいて、光学機能層は、少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる硬化層である。また少なくとも２種以上併用する重合性化合物の重合性基は、同一であっても異なっていてもよく、好ましくは該少なくとも２種の化合物は少なくとも１つ以上の共通の重合性基を有することが好ましい。
重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基、オキセタニル基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。

本発明の重合性化合物は、単官能の重合性化合物からなる第一の重合性化合物の少なくとも一種と多官能重合性化合物からなる第二の重合性化合物の少なくとも一種とを含むことが好ましい。
具体的には、例えば、以下の第３の重合性化合物と第４の重合性化合物とを含む態様をとることができる。

第３の重合性化合物は、単官能（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基、オキセタニル基からなる群から選択される官能基を１つ有するモノマーである。

単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（メタ）アクリロイル基を分子内に１個有し、アルキル基の炭素数が１〜３０である脂肪族または芳香族モノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；
ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；
ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；
ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；
グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；
テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；
(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
芳香族単官能アクリレートモノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
また、第１の重合性化合物のなかでも、アルキル基の炭素数が４〜３０である脂肪族または芳香族アルキル（メタ）アクリレートが好ましく、更には、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレートが好ましい。これにより、量子ドットの分散性が向上するからである。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。

第３の重合性化合物は、第３の重合性化合物と第４の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、５〜９９．９質量部含まれていることが好ましく、２０〜８５質量部含まれていることが後述する理由より好ましい。

第４の重合性化合物は、多官能（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基、オキセタニル基からなる群から選択される官能基を分子内に２つ以上有するモノマーである。

２官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーのうち、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート等が好ましい例として挙げられる。

また、２官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。

また、多官能モノマーとして、分子内にウレタン結合を有する（メタ）アクリレートモノマー、具体的には、ＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＩＰＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＨＤＩとペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等を用いることもできる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとしては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシシクロアルカンを含む化合物等が好適に用いられる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとして好適に使用できる市販品としては、ダイセル化学工業（株）のセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド等が挙げられる。

また、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーはその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

第４の重合性化合物は第３の重合性化合物と第４の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、０．１質量部〜９５質量部含まれていることが好ましく、１５質量部〜８０質量部含まれていることが後述する理由より好ましい。

ここで、本願の光学機能層に対して後述する端面封止層を設けるにあたり、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法より機能性積層体端面に金属薄膜を形成する。例えば単官能（メタ）アクリレート化合物のみからなる硬化物のマトリックス端面に、スパッタリング法で金属薄膜を形成すると金属薄膜の内部応力にマトリックスが耐え切れず欠陥が生じ、十分なバリア性を付与できない。一方、多官能（メタ）アクリレート化合物のみからなるマトリックスでは、金属薄膜の欠陥は生じないが、硬く脆いために端面の平滑性が悪く、金属薄膜が端面を均一に被覆することができず、その結果バリア性が損なわれる。そこで、本発明では単官能（メタ）アクリレートモノマーと、多官能（メタ）アクリレートモノマーを上述した適切な範囲に混合することで、金属薄膜形成時の膜収縮に耐え、マトリックス端面の金属薄膜の欠陥をなくし、且つ平滑性を確保することができ、端面に高いバリア性を有する端面封止層を形成することができる。

本願の光学機能層を形成する硬化物マトリックスの５０℃における弾性率としては、１ＭＰａ以上４０００ＭＰａ以下であることが好ましく、１０ＭＰａ以上３０００ＭＰａ以下であることが更に好ましい。５０℃における弾性率を用いているのは、例えばスパッタリング法では製膜時に膜面温度が５０℃程度に到達するため、膜収縮に抵抗するマトリックスの物性値としているためである。この範囲にすることで、端部封止層の金属薄膜の欠陥を少なくすることが可能となる。

（粘度調整剤）
重合性組成物は、必要に応じて粘度調整剤を含んでいてもよい。粘度調整剤は、粒径が５ｎｍ〜３００ｎｍであるフィラーであることが好ましい。また、粘度調整剤はチキソトロピー剤であることも好ましい。なお本発明および本明細書中、チキソトロピー性とは、液状組成物において、せん断速度の増加に対して粘性を減じる性質を指し、チキソトロピー剤とは、それを液状組成物に含ませることによって、組成物にチキソトロピー性を付与する機能を有する素材のことを指す。チキソトロピー剤の具体例としては、ヒュームドシリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイト等が挙げられる。
一態様では、重合性組成物は、粘度がせん断速度５００ｓ^-1の時に３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであり、せん断速度１ｓ^-1の時に１００ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。このように粘度調整するために、チキソトロピー剤を用いることが好ましい。また、重合性組成物の粘度がせん断速度５００ｓ^-1の時に３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであり、せん断速度１ｓ^-1の時に１００ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい理由は、以下の通りである。
機能性積層体の製造方法の一例としては、後述するように、第１の基材に重合性組成物を塗布したのちに、重合性性組成物の上に第２の基材を貼り付けてから、重合性組成物を硬化して波長変換層を形成する工程を含む製造方法を挙げることができる。上記製造方法では、第１の基材に重合性組成物を塗布する際に塗布スジが生じないように均一に塗布して塗膜の膜厚を均一にすることが望ましく、そのためには塗布性とレベリング性の観点から塗布液（重合性組成物）の粘度は低いことが好ましい。一方、第１の基材に塗布された塗布液の上に第２の基材を均一に貼り合せるためには貼り合せ時の圧力への抵抗力が高いことが好ましく、この点から高粘度の塗布液が好ましい。上記のせん断速度５００ｓ^-1とは、第１の基材に塗布される塗布液に加わるせん断速度の代表値であり、せん断速度１ｓ^-1とは塗布液に第２の基材を貼り合せる直前に塗布液に加わるせん断速度の代表値である。なお、せん断速度１ｓ^-1とはあくまでも代表値に過ぎない。第１の基材に塗布された塗布液の上に第２の基材を貼り合せる際、第１の基材と第２の基材を同速度で搬送しつつ貼り合せるのであれば塗布液に加わるせん断速度はほぼ０ｓ^-1であり、実製造工程において塗布液に加わるせん断速度が１ｓ^-1に限定されるものではない。せん断速度５００ｓ^-1も同様に代表値に過ぎず、実製造工程において塗布液に加わるせん断速度が５００ｓ^-1に限定されるものではない。そして均一な塗布および貼り合せの観点から、重合性組成物の粘度を、第１の基材に塗布液を塗布する際に塗布液に加わるせん断速度の代表値５００ｓ^-1の時に３ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであり、第１の基材に塗布された塗布液上に第２の基材を貼り合せる直前に塗布液に加わるせん断速度の代表値１ｓ^-1の時に１００ｍＰａ・ｓ以上であるように調整することが好ましい。

（溶媒）
上記重合性組成物は、必要に応じて溶媒を含んでいてもよい。この場合に使用される溶媒の種類および添加量は、特に限定されない。例えば溶媒として、有機溶媒を一種または二種以上混合して用いることができる。

また、マトリックスとなる樹脂中に、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、（パーフルオロブチル）エチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチル−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、（パーフルオロヘキシル）エチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフッ素原子を有する化合物を含んでいてもよい。これらの化合物を含むことにより塗布性を向上させることができる。
また、量子ドット層中のマトリックスとなる樹脂の総量には特に限定はないが、量子ドット層の全量１００質量部に対して、９０質量部〜９９．９質量部であることが好ましく、９２質量部〜９９質量部であることがより好ましい。

量子ドット層の厚みは特に制限されないが、取り扱い性および発光特性の点で、５μｍ〜２００μｍが好ましく、１０μｍ〜１５０μｍがより好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、平均厚みは量子ドット層の任意の１０点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

第１の態様において、量子ドット層の形成方法には特に限定はなく、公知の方法で形成すればよい。例えば、量子ドットとマトリックスとなる樹脂と溶剤とを混合した塗布組成物を調整し、この塗布組成物をガスバリア層１４上に塗布し、硬化させることで形成することができる。
第２の態様において、量子ドット層の形成方法は、蛍光体（量子ドット）および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を調整し、この塗布組成物をガスバリア層１４上に塗布し、硬化させることで形成することができる。
なお、量子ドット層となる塗布組成物には、必要に応じて、重合開始剤やシランカップリング剤等を添加してもよい。

ガスバリア層１４は、光学機能層１２の主面に積層される、ガスバリア性を有する層である。すなわち、ガスバリア層１４は、光学機能層１２の主面を覆って、光学機能層１２の主面からの水分や酸素の浸入を抑制するための部材である。

ガスバリア層１４は、水蒸気透過度が１×１０^-3［g/(m²・day)］以下であるのが好ましい。
また、ガスバリア層１４は、酸素透過度が１×１０^-2［cc/(m²・day・atm)］以下であるのが好ましい。
水蒸気透過度ならびに酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高いガスバリア層１４を用いることで、光学機能層１２への水分や酸素の浸入を防止して光学機能層１２の劣化をより好適に防止することができる。
なお、水蒸気透過度は、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件下でモコン法によって測定した。また、水蒸気透過度が、モコン法の測定限界を超えた場合には、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定した。
また、酸素透過度は、ＡＰＩＭＳ法（大気圧イオン化質量分析法）による測定装置（株式会社日本エイピーアイ社製）を用いて、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で測定した。なお、酸素透過度のＳＩ単位として、fm/(s・Pa)があることが知られている。１fm/(s・Pa)＝８．７５２cc/(m²・day・atm)で換算できる（fm：フェムトメートル）。

また、ガスバリア層１４の厚さは、５μｍ〜１００μｍであるのが好ましく、１０μｍ〜７０μｍがより好ましく、１５μｍ〜５５μｍが特に好ましい。
ガスバリア層１４の厚さを１００μｍ以下とすることで、光学機能層１２を含む積層フィルム１０ａ全体の厚さを薄くできる等の点で好ましい。
また、ガスバリア層１４の厚さを５μｍ以上とすることで、２つのガスバリア層１４の間に光学機能層１２を形成する際に、光学機能層１２の厚さを均一にできる等の点で好ましい。

ここで、ガスバリア層１４としては、特に限定はなく、所望のガスバリア性を有するガスバリアフィルムが適宜利用可能である。
一例として、ガスバリア支持体３０の上に、バリア層３２として、少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とを有するガスバリアフィルムが好適に用いられる。
図２に、ガスバリアフィルムの一例を概念的に表す断面図を示す。
図２に示すガスバリアフィルム（ガスバリア層）１４は、有機層３４、無機層３６および有機層３８をこの順に積層してなるバリア層３２と、バリア層３２を支持するガスバリア支持体３０とを有してなる。

なお、ガスバリアフィルム１４は、ガスバリア支持体３０の上に、少なくとも１つの無機層３６を有していればよく、無機層３６と、無機層３６の下地となる有機層３４との組み合わせを１つ以上有するのが好ましい。従って、ガスバリア層１４は、無機層３６と下地の有機層３４との組み合わせを２つ有するものでもよく、あるいは、３つ以上、有するものでもよい。有機層３４は、無機層３６を適正に形成するための下地層としてとして作用するものであり、下地の有機層３４と無機層３６との組み合わせの積層数が多いほど、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得られる。

また、図示例においては、バリア層３２の最表層（ガスバリア支持体３０とは反対側の層）は、有機層３８としたが、これに限定はされず、最表層が無機層３６でもよい。
ここで、光学機能層１２が積層されるのは、基本的に、バリア層３２側である。したがって、バリア層３２の最表層を無機層３６とし、光学機能層１２をバリア層３２側に積層することにより、ガスバリア支持体３０や有機層３４からアウトガスが放出されても、このアウトガスは無機層３６で遮蔽され、光学機能層１２に至ることを防止できる。

ガスバリア層１４のガスバリア支持体３０としては、公知のガスバリアフィルムで支持体として用いられているものが、各種、利用可能である。
中でも、薄手化や軽量化が容易である、フレキシブル化に好適である等の点で、各種のプラスチック（高分子材料／樹脂材料）からなるフィルムが好適に利用される。
具体的には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。

ガスバリア支持体３０の厚さは、用途や大きさによって、適宜、設定すればよい。ここで、本発明者の検討によれば、ガスバリア支持体３０の厚さは、１０μｍ〜１００μｍ程度が好ましい。ガスバリア支持体３０の厚さを、この範囲にすることにより、軽量化や薄手化、等の点で、好ましい結果を得る。
なお、ガスバリア支持体３０は、このようなプラスチックフィルムの表面に、反射防止や位相差制御、光取り出し効率向上等の機能が付与されていてもよい。

バリア層３２は、主にガスバリア性を発現する無機層３６と、無機層３６の下地層となる有機層３４と、無機層３６を保護する有機層３８を有する。

有機層３４は、ガスバリアフィルム１４において主にガスバリア性を発現する無機層３６の下地層となるものである。
有機層３４は、公知のガスバリアフィルムで有機層３４として用いられているものが、各種、利用可能である。例えば、有機層３４は、有機化合物を主成分とする膜で、基本的に、モノマーおよび／またはオリゴマを、架橋して形成されるものが利用できる。
ガスバリアフィルム１４は、無機層３６の下地となる有機層３４を有することにより、ガスバリア支持体３０の表面の凹凸や、表面に付着している異物等を包埋して、無機層３６の成膜面を適正にできる。その結果、成膜面の全面に、隙間無く、割れやヒビ等の無い適正な無機層３６を成膜できる。これにより、水蒸気透過度が１×１０^-3[g/(m²・day)]以下、および、酸素透過度が１×１０^-2［cc/(m²・day・atm)］以下となるような、高いガスバリア性能を得ることができる。

また、ガスバリアフィルム１４は、この下地となる有機層３４を有することにより、この有機層３４が、無機層３６のクッションとしても作用する。そのため、無機層３６が外部から衝撃を受けた場合などに、この有機層３４のクッション効果によって、無機層３６の損傷を防止できる。
これにより、積層フィルム１０ａにおいて、ガスバリアフィルム１４が適正にガスバリア性能を発現して、水分や酸素による光学機能層１２の劣化を、好適に防止できる。

ガスバリアフィルム１４において、有機層３４の形成材料としては、各種の有機化合物（樹脂／高分子化合物）が、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。

中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層３４は、好適である。
中でも特に、上記強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、ガラス転移温度が１２０℃以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層３４として好適に例示される。その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、アクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
有機層３４を、このようなアクリル樹脂やメタクリル樹脂で形成することにより、骨格がしっかりした下地の上に無機層３６を成膜できるので、より緻密でガスバリア性が高い無機層３６を成膜できる。

有機層３４の厚さは、１μｍ〜５μｍが好ましい。
有機層３４の厚さを１μｍ以上とすることにより、より好適に無機層３６の成膜面を適正にして、割れやヒビ等の無い適正な無機層３６を、成膜面の全面に渡って成膜できる。
また、有機層３４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層３４が厚すぎることに起因する、有機層３４のクラックや、ガスバリアフィルム１４のカール等の問題の発生を、好適に防止することができる。
以上の点を考慮すると、有機層３４の厚さは、１μｍ〜５μｍとするのが、より好ましい。

なお、ガスバリアフィルムが下地層としての有機層３４を複数有する場合には、各有機層の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
また、有機層３４を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。

有機層３４は、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。
また、有機層３４の下層となる無機層３６との密着性を向上するために、有機層３４は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。

有機層３４の上には、この有機層３４を下地として、無機層３６が成膜される。無機層３６は、無機化合物を主成分とする膜で、ガスバリア層１４において、ガスバリア性を主に発現するものである。

無機層３６としては、ガスバリア性を発現する、酸化物、窒化物、酸窒化物等の無機化合物からなる膜が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物； 窒化アルミニウムなどの金属窒化物； 炭化アルミニウムなどの金属炭化物； 酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物； 窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物； 炭化ケイ素等のケイ素炭化物； これらの水素化物； これら２種以上の混合物； および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
特に、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物からなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。

なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層３６を有する場合には、無機層３６の形成材料は、互いに異なってもよい。しかしながら、生産性等を考慮すれば、全ての無機層３６を、同じ材料で形成するのが好ましい。

無機層３６の厚さは、形成材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。なお、本発明者の検討によれば、無機層３６の厚さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍとするのが好ましい。
無機層３６の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層３６が形成できる。また、無機層３６は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層３６の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
また、このような点を考慮すると、無機層３６の厚さは、１０ｎｍ〜１００ｎｍにするのが好ましく、特に、１５ｎｍ〜７５ｎｍとするのが好ましい。
なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層３６を有する場合には、各無機層３６の厚さは、同じでも異なってもよい。

無機層３６は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。具体的には、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma 容量結合プラズマ）−ＣＶＤ（chemical vapor deposition）やＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma 誘導結合プラズマ）−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着など、気相堆積法が好適に例示される。

有機層３８は、バリア層３２の最表層に形成された層であり、無機層３６を保護するための層である。
有機層３８としては、上述した有機層３４と同様のものが、各種、利用可能である。
また、有機層３８の形成方法も、上述の有機層３４と同様に、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。

また、バリア層３２の最表層となる有機層３８の厚さは、８０ｎｍ〜１０００ｎｍとすることが好ましい。有機層３８の厚さを８０ｎｍ以上とすることにより、無機層３６を十分に保護することができる。また、割れを防止し、透過率の低下を防止することができる等の点で、有機層３８の厚さを１０００ｎｍ以下とすること好ましい。
以上の観点から、有機層３８の厚さは、８０ｎｍ〜５００ｎｍとすることがより好ましい。

なお、保護層としての有機層３８と、下地層としての有機層３４とは、形成材料が同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
また、有機層３８の下層となる無機層３６との密着性を向上するために、有機層３８は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。

次に、端面封止層１６ａについて説明する。
端面封止層１６ａは、光学機能層１２と、光学機能層１２を挟むように積層される２つのガスバリア層１４とを有する機能層積層体１１の端面の少なくとも一部を覆って形成される部材である。
本発明において、端面封止層１６ａは、少なくとも２層からなり、各層が金属からなり、ガスバリア性を発現し、光学機能層１２の端面からの水分や酸素の浸入を抑制するための部材である。

図１に示す積層フィルム１０ａにおいては、端面封止層１６ａは、機能層積層体１１の端面に接して形成される第１層１８と、第１層１８上に積層される、機能層積層体１１から最も遠い層である最表層２０との２層からなる。
ここで、本発明においては、端面封止層は、２層構成に限定はされず、３層以上であってもよい。例えば、図３に示す積層フィルム１０ｂの端面封止層１６ｂのように、機能層積層体１１の端面に接して形成される第１層１８と、第１層１８上に積層される第２層２２と、第２層２２上に積層される、機能層積層体１１から最も遠い層である最表層２０と、を有する３層構成としてもよい。
なお、図１および図３に示すとおり、端面封止層１６は、機能層積層体１１の端面に積層されるため、端面封止層１６を構成する各層（第１層１８、第２層２２、最表層２０）の積層方向は、機能層積層体１１の端面に垂直な方向であり、機能層積層体１１の積層方向とは直交する方向である。

また、本発明において、端面封止層１６を構成する各層は、いずれも金属からなる層である。すなわち、図１に示す積層フィルム１０ａにおいては、第１層１８および最表層２０は、金属からなり、また、図３に示す積層フィルム１０ｂにおいては、第１層１８、第２層２２および最表層２０は、いずれも金属からなる層である。

前述のとおり、水分や酸素により劣化しやすい量子ドットを含む量子ドット層の両主面にガスバリアフィルムを積層して量子ドット層を保護することが行われているが、量子ドット層の両主面をガスバリアフィルムで保護するのみでは、ガスバリアフィルムで保護されていない端面から水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
これに対して、端面からの水分や酸素の浸入を抑制するために、量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで保護する構成や、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成や、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くする構成等が提案されている。

しかしながら、薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪く、また、ガスバリアフィルムを折り曲げるとバリア層が割れてガスバリア性が低下するという問題があった。
また、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成の場合には、保護層の材料として高いバリア性を有する材料を用いることができず、ガスバリア性や耐久性が十分でなく、また、このような積層フィルムを作製する際には、全工程がバッチ方式となるため生産性が極めて悪いという問題があった。
また、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くする構成の場合には、端部での、量子ドット層の厚さが薄くなってしまうため、端部ではその機能を十分に発現することができず、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるバリア層は、硬く脆いため、このようなバリア層を有するガスバリアフィルムを、急に湾曲させると、バリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下して、量子ドット層への水分や酸素の浸入を抑制できなくなるという問題があった。

これに対して、本発明は、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる構成を有する。
機能層積層体の端面を２層以上の金属層で封止することで、高いガスバリア性を発現でき、光学機能層への水分や酸素の浸入を抑制して、量子ドットが水分や酸素により劣化することを防止でき、寿命をより長くすることができ、耐久性を向上できる。
また、機能層積層体の端面に、金属からなる端面封止層を形成するのみであるので、光学機能層が薄くなったり、ガスバリア層が湾曲されることがないため、光学機能層を有効に利用できる領域を大きく維持でき、狭額縁化が可能である。
また、端面封止層の、機能層積層体の端面に接する第１層は、機能層積層体との密着性の高い材料で、密着性を高くできる形成方法で形成し、２層目以降に、高いガスバリア性を発現する層を形成することができるので、端面封止層が機能層積層体から剥離することを防止でき高い耐久性を得られる。
また、後に詳述するが、端面封止層を形成する際に、機能層積層体を複数枚重ねた状態で、端面封止層の各層を形成することができるので、複数の積層フィルムをまとめて作製することができ、生産性を高くすることができる。

ここで、端面封止層１６は、酸素透過度が、１×１０^-2［cc/(m²・day・atm)］以下であるのが好ましい。
機能層積層体１１の端面に、酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高い端面封止層１６を形成することで、光学機能層１２への水分や酸素の浸入をより好適に防止して光学機能層１２の劣化をより好適に防止することができる。

また、端面封止層１６の、機能層積層体１１の端面に垂直な方向の厚みは、０．１μｍ〜１００μｍの範囲にあるのが好ましく、０．５μｍ〜５０μｍであるのがより好ましく、１μｍ〜１０μｍであるのが特に好ましい。
端面封止層１６の厚みを０．１μｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現させることができる。また、端面封止層１６の厚さを１００μｍ以下とすることにより、割れが発生することを好適に防止できる。
また、後述するとおり、本発明の積層フィルムは、複数枚の機能層積層体を重ねた状態で、端面に端面封止層を形成し、その後、分離することで作製するのが好ましいが、端面封止層１６が厚すぎると、分離しにくくなるため、この点からも端面封止層１６の厚さは１００μｍ以下とするのが好ましい。

また、端面封止層１６は、機能層積層体１１の端面の少なくとも一部を覆うように形成されていればよいが、端面の全周を覆って形成されるのが好ましい。
例えば、機能層積層体１１の主面が、矩形状の場合には、少なくとも１つの端面に端面封止層１６が形成されていればよく、４つの端面全てに端面封止層１６が形成されるのが好ましい。
なお、機能層積層体１１の主面の形状（積層フィルム１０の形状）は、矩形状に限定はされず、正方形状、円形状、多角形状等、種々の形状とすることができる。従って、端面保護層は、端面のうち少なくとも一部を覆うように形成されていればよく、全周を覆って形成されるのが好ましい。

また、端面封止層１６は、機能層積層体１１の端面のみに形成され、機能層積層体１１の主面への回りこみが少ないことが好ましい。理由としては、回り込みが大きいと端面封止層１６の主面への回り込み部分の盛り上がりにより、積層フィルム１０全体の平坦性が損なわれるおそれがあること、回り込み部が遮光層として働くことによって積層フィルム１０端部に非発光領域が生じ、額縁部分が大きくなってしまい、有効に利用可能な領域が狭くなってしまうこと、すなわち、モバイルディスプレイ等の狭額縁モジュールへ適用する際の妨げになる恐れがあること等が挙げられる。
上述する観点から、端面封止層１６の機能層積層体１１の主面への回り込み幅ｄ（図４参照）は１ｍｍ以下であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、回り込み領域の存在が目視困難となる０．１ｍｍ以下であることが特に好ましい。
端面封止層１６の回り込み幅ｄは、例えば、積層フィルムを大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ−７１０などで断面切削し、その断面を光学顕微鏡で観察することで測定できる。
なお、図４に示すように、回り込み幅ｄは、機能層積層体１１の端面の延在方向に直交する断面で見た際の、端面封止層１６の、機能層積層体１１の主面上に形成された領域の幅（機能層積層体１１の端面に垂直な方向の幅）である。

また、端面封止層１６のガスバリア性を高める観点から、端面封止層１６のピンホールが少ないことが好ましい。本発明におけるピンホールとは、端面封止層１６を光学顕微鏡で観察した際に見られる、大きさ１μｍ以上の非被覆部（金属膜の欠落部分）を意味し、その形状は円、多角形、線状など任意の形である。ピンホールの数は５０個／ｍｍ2以下であることが好ましく、２０個／ｍｍ2以下であることがより好ましく、５個／ｍｍ2以下であることが特に好ましい。ピンホール数は少なければ少ないほど好ましく、下限値は特にない。

また、ピンホールの少ない端面封止層１６を形成する観点から、端面封止層１６が形成される機能層積層体１１の端面は、平滑であるのが好ましい。機能層積層体１１の端面の表面粗さは、０．００１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．００１μｍ〜２μｍがより好ましい。

ここで、端面封止層１６を構成する層のうち、機能層積層体１１に接する第１層１８以外の少なくとも１層が、金属メッキ層であるのが好ましい。また、図１および図３に示す積層フィルムはそれぞれ、機能層積層体１１から最も遠い最表層２０が、金属メッキ層である。このように、最表層２０を金属メッキ層とするのがより好ましい。
第１層１８以外の少なくとも１層を金属メッキ層とすることで、この層を厚く形成することができ、十分なガスバリア性を発現することができる。

また、機能層積層体１１の端面に接して設けられる第１層１８は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法により形成される金属層であるのが好ましく、密着性が良く、低温成膜が可能なスパッタリング法であるのがより好ましい。
機能層積層体１１は、主に樹脂で形成されているため、機能層積層体１１に直接、電解メッキにより金属メッキ層を形成した場合には、導電路がないため金属膜が得られない。また、無電解メッキにより金属メッキ層を形成した場合には、機能層積層体１１と金属メッキ層との密着性が悪く、十分な耐久性およびガスバリア性を得ることができず、端面のみに選択的に製膜することができない。

これに対して、本発明では、機能層積層体１１の側面に、上記の方法で形成された金属からなる第１層１８を有することで、機能層積層体１１と端面封止層１６との密着性を向上できる。
また、第１層１８以外の層として金属メッキ層を形成する際に、機能層積層体１１の側面に金属からなる第１層１８を有することで、この第１層が電極として作用するので、金属メッキ層を適正に形成することができる。また、メッキ処理の際に、この第１層が機能層積層体１１を保護して、機能層積層体１１が損傷するのを防止できる。

ここで、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法により形成される金属層のみの１層とした場合には、機能層積層体との密着性は良好にできるものの、厚さを厚く形成するのが困難であったり、あるいは、厚く形成するのは生産性が非常に悪いため、薄くせざるを得ない。そのため、機能層積層体の端面に均一な厚さで形成することができず、十分なガスバリア性を得ることができない。
これに対して、本発明では、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法により形成される第１層と、金属メッキ層とを有することで、機能層積層体との密着性は良好にして、かつ、十分なガスバリア性を得ることができる。

また、第１層１８以外の層として形成される金属メッキ層の厚さが、機能層積層体１１に接する第１層１８の厚さよりも厚いのが好ましい。
金属メッキ層の厚さを、第１層１８の厚さよりも厚くすることで、十分なガスバリア性をより確実に発現することができる。
なお、第１層１８の厚さ、および、金属メッキ層の厚さとは、機能層積層体１１の端面に垂直な方向における厚さである。

具体的には、第１層１８の厚さは、機能層積層体１１との密着性、生産性等の観点から、０．００１μｍ〜０．５μｍとするのが好ましく、０．０１μｍ〜０．３μｍとするのがより好ましい。
また、金属メッキ層の厚さは、ガスバリア性を確保する、生産性等の観点から、０．０１μｍ〜１００μｍとするのが好ましく、１μｍ〜１０μｍとするのがより好ましい。

機能層積層体１１に接する第１層１８の形成材料としては、金属であれば特に限定はないが、上述したスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成可能であるのが好ましく、また、機能層積層体１１を構成する樹脂との密着性を高める観点からイオン化傾向が高い金属を用いることが好ましい。したがって、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましく、アルミニウム、チタン、クロムからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が特に好ましい。イオン化傾向が高い金属を用いると、樹脂を構成する酸素原子、窒素原子、炭素原子等と金属が化合物を形成し、樹脂との界面において金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物が形成されやすいため密着性が高くなると推測される。
第１層１８の形成材料として、これらの金属あるいは合金を用いることで、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成することができ、第１層１８と機能層積層体１１の側面との密着性を高くできる。

また、第１層１８以外の各層の形成材料としては、金属であれば特に限定はないが、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましい。
第１層１８以外の各層の形成材料として、これらの金属あるいは合金を用いることで、メッキ処理により形成することができ、高いガスバリア性を発現することができる。

なお、第１層１８以外の少なくとも１層が、メッキ処理により形成されていればよく、金属メッキ層以外は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、あるいは、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成されていてもよい。その際、少なくとも最表層２０が、メッキ処理により形成されているのが好ましい。
例えば、図３に示す積層フィルム１０ｂは、第１層１８および第２層２２がそれぞれスパッタリング法により形成され、最表層２０がメッキ処理により形成された端面封止層１６ｂを有するものであるが、これに限定はされず、例えば、第１層１８がスパッタリング法により形成され、第２層２２がメッキ処理により形成され、最表層２０がスパッタリング法により形成されてもよい。

また、端面封止層１６を構成する各層の形成材料は、同じであっても、互いに異なっていてもよい。すなわち、例えば、第１層１８をスパッタリング法により形成したニッケル層とし、最表層２０をメッキ処理により形成したニッケル層としてもよい。

なお、図１に示す積層フィルム１０ａは、ガスバリア層１４と、光学機能層１２と、ガスバリア層１４との３層を積層し、端面に端面封止層１６ａを配置した構成としたが、本発明はこれに限定はされず、他の層を有していてもよい。例えば、ハードコート層、光学補償層、透明導電層等を有していてもよい。

次に、本発明の積層フィルムの製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう）について説明する。
本発明の第１の態様の積層フィルムの製造方法は、
光学機能層とガスバリア層とを有する機能層積層体の側面に、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる端面封止層を有する積層フィルムを製造する積層フィルムの製造方法であって、
機能層積層体を複数枚重ねた積層物の端面に、機能層積層体に接する第１層を形成する第１層形成工程と、
積層物の端面に形成された第１層上に最表層を形成する最表層形成工程と、を有し、
第１層の形成方法が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法からなる群から選択される１種である積層フィルムの製造方法である。
また、本発明の第２の態様の積層フィルムの製造方法は、
光学機能層とガスバリア層とを有する機能層積層体の側面に、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる端面封止層を有する積層フィルムを製造する積層フィルムの製造方法であって、
ガスバリア層を有するガスバリアフィルムの上に、蛍光体および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を塗布し硬化させてなる機能層積層体を形成し、
機能層積層体を複数枚重ねた積層物の端面に、機能層積層体に接する第１層を形成する第１層形成工程と、
積層物の端面に形成された第１層上に最表層を形成する最表層形成工程と、を有し、第１層の形成方法が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、無電解メッキ、および、プラズマＣＶＤ法からなる群から選択される１種である積層フィルムの製造方法である。

また、本発明の製造方法は、好ましい態様として、端面封止層の、第１層以外の少なくとも１層の形成方法が、金属メッキ処理である。以下、図５Ａ〜図５Ｄを用いて、本発明の製造方法の一例を説明する。

まず、光学機能層１２と、この光学機能層１２の両主面に積層された２つのガスバリア層１４を有する機能層積層体１１を準備する。
前述のとおり、機能層積層体１１の作製方法としては例えば、量子ドットとマトリックスとなる樹脂と溶剤とを混合した塗布組成物を調整し、この塗布組成物をガスバリアフィルム１４上に塗布し、硬化させることで、光学機能層（量子ドット層）１２を形成し、形成した光学機能層１２の他方の主面にもう一方のガスバリアフィルム１４を積層して形成することができる。
本発明においては、ガスバリア層は少なくとも光学機能層の一方の主面に積層されていれば良い。この場合は、最終的に本発明の積層フィルムをＬＣＤなどのバックライトユニットに他の部材とともに組み上げた場合に、もう一方の主面が酸素や水分の侵入から保護されていることで機能層の性能の劣化を防ぐことができる。

また、機能層積層体１１は、１枚ずつ作製する、いわゆる枚葉式の方法で作製してもよく、あるいは、長尺なガスバリアフィルム１４を長手方向に搬送しつつ、このガスバリアフィルム１４の上に光学機能層１２を形成し、さらに、形成した光学機能層にもう一方のガスバリアフィルムを積層して、連続的に機能層積層体１１を作製する、いわゆるロール・ツー・ロール（Roll to Roll 以下、ＲｔｏＲともいう）で作製してもよい。

また、必要に応じて、作製した機能層積層体１１を所望の大きさにカットする工程を有していてもよい。
機能層積層体１１の切断方法には限定はなく、トムソン刃等の刃物を用いて物理的に切断する方法、レーザーを照射して切断する方法等の公知の方法が各種利用可能である。
レーザー切断で切断すれば、機能層積層体１１の端面の表面粗さを小さくできる。
また、機能層積層体１１を所定形状に加工した後、端面の表面粗さを制御するための研磨加工等を行ってもよい。例えば、刃物による切断の後、端面を切削処理、研磨処理、溶融処理することによって表面粗さを制御することができる。
具体的な一例として、裁断した機能層積層体１１を大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ−７１０等で端面切削し、表面粗さを制御することができる。より具体的には、切削刃が機能層積層体１１に当たる角度、すなわち、刃の進行方向と刃面とが為す角度が直交に近いほど平滑性が増す。切削刃が機能層積層体１１に当たる角度は、７０°〜１１０°の範囲が好ましく、８０〜１００°の範囲がより好ましく、８５°〜９５°の範囲がさらに好ましい。慣例として、刃の進行方向の直交方向と刃面のなす角度を「刃角」と呼ぶこともある。加えて、切削による除去部分の幅（切込量）を適切に制御することでも表面粗さを制御できる。切込量は、１〜２０μｍの範囲が好ましく、５〜１５μｍの範囲がより好ましい。こうした切削条件による表面粗さの変化は、切削刃が機能層積層体１１に当たる際に生じる機能層積層体１１の歪みや捩れに伴う切断面の揺動が原因と推定している。ゆえに、適用する機能層積層体１１の硬さや脆性・粘性のバランスに応じて適宜条件を定めることが好ましい。
また、切削に際し発生する切削くずは、後続する第１層形成工程や最表層形成工程での不具合の原因となるので切削後なるべくすぐに除くことが好ましい。切削くずを除去する工程として、エアー噴きつけや洗浄液に漬けた状態での超音波洗浄、粘着シートの貼合及び剥離による方法、拭き上げ法などが例示される。

次に、第１層形成工程として、準備した機能層積層体１１を複数枚重ねて、積層物５０とし（図５Ａ参照）、この積層物５０の端面に第１層１８Ａを形成する（図５Ｂ参照）。
前述のとおり、第１層１８Ａの形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、無電解メッキ、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法であり、第１層１８Ａとして、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金からなる層を積層物５０の端面に形成する。

なお、第１層１８Ａを形成する際の、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、無電解メッキ、あるいは、プラズマＣＶＤ法における処理方法、処理条件等には特に限定はなく、形成材料等に応じて、従来公知の処理方法、処理条件で第１層１８Ａを形成すればよい。
また、機能層積層体１１の端面以外の領域、すなわち、第１層１８Ａを形成しない領域には、公知の方法でマスキング処理等を行って、機能層積層体１１の端面に第１層１８Ａの形成を行えばよい。

また、第１層１８Ａを形成する際の、積層物５０における、機能層積層体１１の枚数には特に限定はなく、第１層１８Ａを形成する装置の大きさ、機能層積層体１１の厚さ等に応じて適宜設定すればよいが、５００枚〜４０００枚の機能層積層体１１を重ねて第１層１８Ａを形成するのが好ましい。

次に、最表層形成工程として、端面に第１層１８Ａを形成された積層物５２の第１層１８Ａ上に、最表層２０Ａを形成する（図５Ｃ）。
前述のとおり、最表層２０Ａの形成方法としては、メッキ処理であるのが好ましく、最表層２０Ａとして、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金からなる層を積層物５２の第１層１８Ａ上に形成する。

最表層２０Ａを形成する際のメッキ処理の処理方法、処理条件等には特に限定はなく、形成材料等に応じて、従来公知の処理方法、処理条件で最表層２０Ａを形成すればよい。

次に、最表層２０Ａを形成した積層物５４を、機能層積層体１１ごとに分離して、端面に端面封止層１６ａが形成された機能層積層体１１、すなわち、積層フィルム１０ａを得ることができる（図５Ｄ）。
積層物５４から積層フィルム１０ａを分離する方法としては、特に限定はないが、最表層２０Ａを形成した積層物５４に、曲げ、捻りなどの、表面と水平方向への外力を加えることにより剪断する方法、または、機能層積層体１０ａの界面への、例えば刃物などの鋭利な先端の挿し込む方法等により分離することができる。
端面封止層の剥離や欠けやクラックの発生を防止する等の観点から、外力による剪断にて積層フィルム１０ａを分離するのが好ましい。

本発明の製造方法は、このように、端面封止層１６の各層を形成する際に、機能層積層体１１を複数枚重ねた状態で、端面封止層１６の各層を形成することができるので、複数の積層フィルム１０をまとめて作製することができ、生産性を高くすることができる。

ここで、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａは２．０μｍ以下であるのが好ましい。機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを２．０μｍ以下とすることで、端面に形成される第１層１８との密着性をより向上できる。

また、上記においては、一例として、端面封止層１６が２層の積層フィルム１０ａを作製する場合の製造方法を説明したが、端面封止層１６が３層以上の場合には、第１層形成工程と、最表層形成工程との間に、第２層以降の各層を形成する工程を有していればよい。
第２層以降の各層は、下地となる層が異なる以外は、上述の第１層形成工程における形成方法、あるいは、最表層形成工程における形成方法と同様の方法で形成することができる。

また、本発明の製造方法は、さらに、金属からなる端面封止層１６が錆びるのを抑制するため、サビ止め処理等を行ってもよい。

以上、本発明の積層フィルムおよびその製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。なお、本発明は以下に記載する実施例に限定されるものではなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。

［実施例１］
本発明の第２の態様の積層フィルムについて、実施例１として、図３に示す積層フィルム１０ｂを作製した。

＜ガスバリアフィルムの作製＞
（ガスバリア支持体）
ガスバリアフィルム１４としては、ガスバリア支持体３０上に、有機層３４、無機層３６および有機層３８がこの順に形成されたガスバリアフィルムを用いた。
ガスバリア支持体３０として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡株式会社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。

（第１有機層の形成）
このガスバリア支持体３０の一方の主面に有機層（以下、第１有機層という）３４を形成した。
まず、第１有機層を形成するための塗布液（第１有機層形成用塗布液）を以下のとおり調製した。
ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック株式会社製）、および、光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の重量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％の塗布液を調整した。

この第１有機層形成用塗布液を、ダイコーターを用いて、ロール・ツー・ロールによりガスバリア支持体３０に塗布した。塗布後のガスバリア支持体３０を５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線を照射し（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ²）、ＵＶ硬化により硬化させた。ＵＶ硬化直後のパスロールにて保護フィルムのポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、株式会社サンエー科研製、商品名：ＰＡＣ２−３０−Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。ガスバリア支持体３０上に形成された第１有機層３４の厚みは１μｍであった。

（無機層の形成）
次に、一般的なＲｔｏＲのＣＶＤ装置を用いて、ＣＣＰ−ＣＶＤにより、第１有機層３４上に、厚さ５０ｎｍの無機層３６を形成した。
具体的には、ガスバリア支持体３０上に第１有機層３４が形成され、この第１有機層３４上に保護フィルムが貼着された積層体を、送出機より送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された第１有機層３４の上に無機層３６を形成した。
原料ガスは、シランガス(ＳｉＨ₄）、アンモニアガス(ＮＨ₃）、窒素ガス(Ｎ₂）および水素ガス(Ｈ₂）を用いた。ガスの供給量は、シランガスが１６０sccm、アンモニアガスが３７０sccm、窒素ガスが２４０sccm、水素ガスが５９０sccmとした。また、成膜圧力は４０Ｐａとした。すなわち、無機層３６は、窒化珪素膜である。プラズマ励起電力は、周波数１３．５６ＭＨｚで２．５ｋＷとした。

（第２有機層の形成）
次に、形成した無機層３６の表面に、無機層を保護する有機層３８（以下、第２有機層という）を形成した。
まず、第２有機層を形成するための塗布液（第２有機層形成用塗布液）を以下のとおり調製した。
ウレタン結合含有アクリルポリマー（大成ファインケミカル株式会社製 アクリット８ＢＲ５００、重量平均分子量２５０，０００）と光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製 イルガキュア１８４）を質量比率として９５：５となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５質量％の塗布液を調製した。

調製した第２有機層形成用塗布液を、ダイコーターを用いて、ロール・ツー・ロールにて無機層３６の表面に塗布し、１００℃の乾燥ゾーンを３分間通過させ、巻き取った。こうして形成された第２有機層の厚さは、１μｍであった。
第２有機層の形成直後、膜面タッチロール部にて、保護ＰＥフィルムを貼り付け、第２有機層がパスロールに触れることなく、搬送した後、巻き取った。

以上のようにして、ガスバリア支持体３０上に、第１有機層３４、無機層３６および第２有機層３８がこの順に積層されたガスバリアフィルム１４を作製した。
作製したガスバリアフィルム１４の酸素透過度をＡＰＩＭＳ法で測定したところ、温度２５℃、湿度６０％ＲＨにおける酸素透過度は、１×１０^-3［cc/(m²・day・atm)］であった。

＜機能層積層体の作製＞
（光学機能層の形成）
次に、保護ＰＥフィルムを剥離した後、ガスバリアフィルム１４の第２有機層３８上に光学機能層１２を形成するための塗布液（光学機能層形成用塗布液）を塗布して塗膜を形成し、塗膜の上に上記と同様にして作製したガスバリアフィルム１４を積層して塗膜を窒素雰囲気下でガスバリアフィルム１４で挟み込んだ後、窒素雰囲気下でＵＶ照射して塗膜を硬化させて光学機能層１２を形成した。

（光学機能層形成用塗布液の組成）
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ） １０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ） １質量部
・ラウリルアクリレート ２．４質量部
・１，９−ノナンジオールジアクリレート ０．５４質量部
・光重合開始剤 ０．００３質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製））
量子ドット１、２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。

・量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
・量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
光学機能層形成用塗布液の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。

（シート加工）
２つのガスバリアフィルム１４と光学機能層１２との積層体を、刃先角度１７°のトムソン刃を使用し、Ａ４サイズのシート状に打ち抜き、機能層積層体１１を得た。

＜端面封止層の形成＞
（第１層の形成）
シート状にカットした機能層積層体１１を、１０００枚重ね、一般的なスパッタリング装置を用いて、機能層積層体１１を複数枚重ねた積層物５０の側面に第１層１８Ａを形成した。ターゲットとしてチタン、放電ガスとしてアルゴンを用いた。成膜圧力は０．５Ｐａ、成膜出力は４００Ｗ、到達膜厚は１０ｎｍであった。

（第２層の形成）
続いて、ターゲットをチタンから銅へ変更した以外は第１層の形成と同様にして、第１層１８Ａ上に膜厚７５ｎｍの第２層を形成した。

（最表層の形成）
さらに、以下のようにして、第２層上に最表層２０Ａを形成した。
まず、第１層１８Ａおよび第２層を形成した積層物を純水で水洗し、市販の界面活性剤を満たした浴槽に２０秒浸漬して脱脂した。次いで、水洗したのちに、５％硫酸水溶液中に５秒間浸漬し酸活性処理を行い、再び水洗した。
水洗した積層物をひっかけジグに固定し、テスターにて導通確認した後、５％硝酸水溶液中に１０秒間浸漬し酸活性処理を行い、硫酸銅浴にて電流密度３．０Ａ／ｄｍ²で５分の条件で電解めっき処理を行い、第２層上に金属メッキ層である最表層を形成した。その後、水洗、サビ留め処理を経て、エアーで余分な水分を除去し、端面に３層の金属層が形成された積層物を得た。

（分離工程）
次に、端面に３層の金属層が形成された積層物を、機能層積層体１１の表面と水平方向への外力による剪断により、機能層積層体１１ごとに分離して、端面に端面封止層１６ｂが形成された機能層積層体１１、すなわち、積層フィルム１０ｂを得た。

［実施例２〜２２、比較例１〜４］
第１層１８、第２層２２および最表層２０それぞれの材料、膜厚、ならびに、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを下記表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、積層フィルム１０ｂを作製した。

[実施例２３]
光学機能層形成用塗布液の量子ドット１および量子ドット２のトルエン分散液を量子ドット３（ＣＺ５２０−１０、ＮＮ−ｌａｂｓ社製）および量子ドット４（ＣＺ６２０−１０、ＮＮ−ｌａｂｓ社製）のトルエン分散液に変更した以外は実施例１９と同様にして積層フィルム１０ｂを作製した。

［評価］
＜端面封止性能の評価＞
作製した実施例１〜２３および比較例１〜４の積層フィルムについて、以下の試験を行い、端面の封止性能を評価した。
まず、分離した１枚の積層フィルムの初期輝度（Ｙ０）を以下の手順で測定した。市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle（登録商標） Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に積層フィルムを置き、その上に、向きが直交した２枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、積層フィルムおよび２枚のプリズムシートを透過した光の輝度を、導光板の面に対して垂直方向７４０ｍｍの位置に設置した輝度計（ＳＲ３、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定し、積層フィルムの輝度とした。
次に、６０℃相対湿度９０％に保たれた恒温槽に積層フィルムを投入し、１０００時間保管した。１０００時間後、積層フィルムを取り出し、上記と同様の手順で、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）を測定した。下記式のように、初期の輝度値（Ｙ０）に対する、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）の変化率（ΔＹ）を算出し、輝度変化の指標として、以下の基準で評価した。
ΔＹ［％］＝（Ｙ０−Ｙ１）／Ｙ０×１００
評価結果が、Ｃ以上であれば、高温高湿試験後も端部の発光効率が良好に維持されていると判断することができる。
Ａ：ΔＹ≦５％
Ｂ：５％＜ΔＹ＜１０％
Ｃ：１０％≦ΔＹ＜１５％
Ｄ：１５％≦ΔＹ

＜密着性の評価＞
分離工程の前の、複数枚の機能層積層体の積層物の端面に端面封止層が形成された状態のサンプルを用いて、機能層積層体の端面と、端面封止層との密着性を、１００マスのクロスカット試験（ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠）を行い、剥離しなかったマスの数により評価した。
密着性の評価基準は以下である。なお、Ａ〜Ｃが合格にあたり、Ｄが不合格にあたる。
Ａ：１００
Ｂ：９５以上９９以下
Ｃ：９０以上９４以下
Ｄ：９０未満

＜弾性率の測定＞
各実施例、比較例で用いた量子ドット含有重合性組成物の組成から、量子ドット１および量子ドット２のトルエン分散液を除いたモデル膜作製用組成物を用意し、前述の手段１により厚さ６０μｍのモデル膜を作製した。具体的には、以下の方法によりモデル膜を作製した。
モデル膜作製用組成物を離型フィルム（東レ社製ルミラー＃５０、５０μｍ厚）にワイヤーバーで塗布した後、その上にもう一枚の離型フィルムをラミネートし、２００Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を塗布面より１０００ｍＪ／ｃｍ^２照射して硬化させた。なお、上記工程は全て窒素雰囲気下で実施した。モデル膜を５ｍｍ×３０ｍｍに裁断し、こうして得られた硬化膜の両面にある離型フィルムを剥離し、厚み６０μｍの樹脂層単膜（モデル膜）を得た。
モデル膜を、２５℃６０％ＲＨで２時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置（バイブロン：ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御（株）製））で、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜１５０℃、周波数１Ｈｚで測定し、５０℃における貯蔵弾性率の値を、弾性率として用いた。
結果を下記の表１に示す。

上記表１に示されるように、本発明の第２の態様の積層フィルムの実施例は、比較例に対して、端部の非発光領域が低減されており、２層以上金属層からなる端面封止層により酸素、水を遮断することで量子ドット層（光学機能層）の劣化を防ぐことができることがわかる。
また、実施例および比較例の対比から、単官能重合性化合物と多官能重合性化合物とを併用し、弾性率を所定の範囲にすることで、金属薄膜形成時の膜応力に光学機能層のマトリックスが耐え、端面の金属薄膜の欠陥をなくし、且つ平滑性を確保することができ、端面に高いバリア性を有する端面封止層が得られる。

［実施例２４］
次に、本発明の第１の態様の積層フィルムについて、実施例２４として、図３に示す積層フィルム１０ｂを作製した。
実施例２４の積層フィルムは、光学機能層形成用塗布液の組成を以下の組成を変更し、シート加工工程において、シート状にカットした積層体を、１０００枚重ねた後、大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ−７１０を用いて刃角０°、切込量１０μｍの条件で積層体端面を切削して端面の表面粗さを調整した以外は、実施例１と同様にして作製した。
作製した機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを干渉顕微鏡（株式会社菱化システム社製 vertscan２．０）にて測定したところ、表面粗さＲａは０．６μｍであった。

（光学機能層形成用塗布液の組成）
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ） １０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ） １質量部
・ラウリルメタクリレート ２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ０．５４質量部
・光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製））

［実施例２５〜２９］
第１層１８、第２層２２および最表層２０それぞれの材料、膜厚、ならびに、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを下記表２に示すように変更した以外は、実施例２４と同様にして、積層フィルム１０ｂを作製した。
なお、実施例２７においては、刃角０°、切込量２０μｍの条件で端面切削を行い、実施例２９においては、刃角２５°、切込量２０μｍの条件で端面切削を行った。

［実施例３０］
第２層２２を形成せずに、第１層１８と最表層２０との２層構成とし、第１層１８の材料および膜厚を下記表２に示すように変更した以外は、実施例２４と同様にして、積層フィルム１０ａを作製した。

［比較例５］
端面封止層を形成しない以外は、実施例２４と同様にして、積層フィルムを作製した。

［比較例６］
端面封止層を１層とし、この層の材料、膜厚を下記表２に示すように変更した以外は、実施例２４と同様にして、積層フィルムを作製した。

［比較例７］
端面封止層として、機能層積層体の端面に、ヘンケル・ジャパン社製、ロックタイトＥ−３０ＣＬをディップ法で形成した。

［評価］
＜端面封止性能の評価＞
作製した実施例２４〜３０および比較例５〜７の積層フィルムについて、上記と同様にして端面の封止性能を評価した。

＜密着性の評価＞
作製した実施例２４〜３０および比較例５〜７の積層フィルムについて、上記と同様にして密着性を評価した。

＜ピンホール数の評価＞
作製した積層フィルムの端面封止層のピンホール数を以下のようにして測定した。
４辺の端面封止層を光学顕微鏡で観察し、大きさ１μｍ以上の非被覆部をピンホールとし、その数ｘを計測して、１ｍｍ²当たりのピンホール数を求めた。
ピンホール数の指標として、以下の基準で評価した。評価結果が、Ｃ以上であれば、ピンホール数が少なく、端部封止層が十分なガスバリア性を有していると判断することができる。
Ａ：ｘ≦５個／ｍｍ²
Ｂ：５個／ｍｍ²＜ｘ＜１０個／ｍｍ²
Ｃ：１０個／ｍｍ²≦ｘ＜２０個／ｍｍ²
Ｄ：２０個／ｍｍ²≦ｘ

＜回り込み幅の評価＞
作製した積層フィルムの端面封止層の主面への回り込み幅を以下のようにして測定した。
積層フィルムを大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ−７１０を用いて刃角０°、切込量１０μｍの条件で断面切削し、その断面を光学顕微鏡で観察し、回り込み幅ｄを求めた。
回り込み幅ｄの指標として、以下の基準で評価した。評価結果が、Ｃ以上であれば、回り込み幅が少なく、フィルム端部の非発光部分を抑制できていると判断することができる。
Ａ：ｄ≦０．１ｍｍ
Ｂ：０．１ｍｍ＜ｄ＜０．５ｍｍ
Ｃ：０．５ｍｍ≦ｄ＜１ｍｍ
Ｄ：１ｍｍ≦ｄ
また、比較例７の積層フィルムの端面の断面の光学顕微鏡写真を図６に示す。
結果を下記の表２に示す。

上記表２に示されるように、本発明の第１の態様の積層フィルムの実施例は、比較例に対して、端部の非発光領域が低減されており、２層以上金属層からなる端面封止層により酸素、水を遮断することで量子ドット（光学機能層）の劣化を防ぐことができることがわかる。
また、実施例２４、実施例２６、および、比較例６の対比から、端面封止層は厚いほど、酸素透過度が低くなり、封止性能が高くなることがわかる。

また、実施例２４、実施例２７、実施例２９の対比から、機能層積層体の表面粗さＲａが小さいほど、封止性能がより高くなることがわかる。これは、機能層積層体の表面粗さＲａが大きいと、端面封止層を一様に被覆しにくくなり、ピンホールが発生するためであると推定される。この結果から、機能層積層体の表面粗さＲａは、２．０μｍ以下であるのが好ましいことがわかる。
また、実施例２４、実施例２８、実施例３０の対比から、機能層積層体の端面に接する第１層の材料を、アルミニウム、チタン、クロム、および、ニッケルのいずれかとすることで、より高い密着性を得られることがわかる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

１０ａ、１０ｂ 積層フィルム
１１ 機能層積層体
１２ 光学機能層
１４ ガスバリア層（ガスバリアフィルム）
１６ａ、１６ｂ 端面封止層
１８、１８Ａ 第１層
２０、２０Ａ 最表層
２２ 第２層
３０ ガスバリア支持体
３２ バリア層
３４ 有機層
３６ 無機層
３８ 有機層
５０ 積層物
５２ 第１層を形成した積層物
５４ 最表層を形成した積層物

Claims (23)

1. 光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
   前記機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
   前記端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層が金属からなることを特徴とする積層フィルム。
2. 前記端面封止層の、前記機能層積層体に接する第１層以外の少なくとも１層が、金属メッキ層である請求項１に記載の積層フィルム。
3. 前記端面封止層の、前記機能層積層体から最も遠い最表層が、金属メッキ層である請求項１または２に記載の積層フィルム。
4. 前記金属メッキ層の厚さが、前記機能層積層体に接する第１層の厚さよりも厚い請求項２または３に記載の積層フィルム。
5. 前記第１層の厚さが、０．００１μｍ〜０．５μｍであり、
   前記金属メッキ層の厚さが、０．０１μｍ〜１００μｍである請求項４に記載の積層フィルム。
6. 前記機能層積層体に接する第１層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であり、
   前記第１層以外の各層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金である請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層フィルム。
7. 前記端面封止層の厚さが、０．１μｍ〜１００μｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層フィルム。
8. 光学機能層とガスバリア層とを有する機能層積層体の側面に、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる端面封止層を有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層フィルムを製造する積層フィルムの製造方法であって、
   前記機能層積層体を複数枚重ねた積層物の端面に、前記機能層積層体に接する前記第１層を形成する第１層形成工程と、
   前記積層物の端面に形成された前記第１層上に最表層を形成する最表層形成工程と、を有し、
   前記第１層の形成方法が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法からなる群から選択される１種である積層フィルムの製造方法。
9. 前記端面封止層の、前記第１層以外の少なくとも１層の形成方法が、金属メッキ処理である請求項８に記載の積層フィルムの製造方法。
10. 光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
    前記機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
    前記端面封止層は、少なくとも２層からなり、各層がそれぞれ金属からなる積層フィルムであって、
    前記光学機能層は、蛍光体および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる硬化層であることを特徴とする積層フィルム。
11. 前記重合性化合物は単官能重合性化合物からなる第一の重合性化合物の少なくとも一種と多官能重合性化合物からなる第二の重合性化合物の少なくとも一種とを含む請求項１０に記載の積層フィルム。
12. 前記第一の重合性化合物が、アルキル基の炭素数が４〜３０である脂肪族または芳香族アルキル（メタ）アクリレートであり、
    前記第二の重合性化合物が、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートの中から選ばれる請求項１１に記載の積層フィルム。
13. 前記光学機能層の５０℃における弾性率が１ＭＰａ〜４０００ＭＰａである請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の積層フィルム。
14. 前記ガスバリア層が前記光学機能層の両方の主面に積層されてなる請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の積層フィルム。
15. 前記光学機能層の前記蛍光体は、量子ドット、量子ロッド、テトラポッド型量子ドットである請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の積層フィルム。
16. 前記端面封止層の、前記機能層積層体に接する第１層以外の少なくとも１層が、金属メッキ層である請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の積層フィルム。
17. 前記端面封止層の、前記機能層積層体から最も遠い最表層が、金属メッキ層である請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の積層フィルム。
18. 前記金属メッキ層の厚さが、前記機能層積層体に接する第１層の厚さよりも厚い請求項１６または１７に記載の積層フィルム。
19. 前記第１層の厚さが、０．００１μｍ〜０．５μｍであり、
    前記金属メッキ層の厚さが、０．０１μｍ〜１００μｍである請求項１８に記載の積層フィルム。
20. 前記機能層積層体に接する第１層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であり、
    前記第１層以外の各層の材料が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金である請求項１０〜１９のいずれか一項に記載の積層フィルム。
21. 前記端面封止層の厚さが、０．１μｍ〜１００μｍである請求項１０〜２０のいずれか一項に記載の積層フィルム。
22. 光学機能層とガスバリア層とを有する機能層積層体の側面に、少なくとも２層からなり、各層が金属からなる端面封止層を有する請求項１０〜２１のいずれか一項に記載の積層フィルムを製造する積層フィルムの製造方法であって、
    ガスバリア層を有するガスバリアフィルムの上に、蛍光体および少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を塗布し硬化させてなる機能層積層体を形成し、
    前記機能層積層体を複数枚重ねた積層物の端面に、前記機能層積層体に接する前記第１層を形成する第１層形成工程と、
    前記積層物の端面に形成された前記第１層上に最表層を形成する最表層形成工程と、を有し、
    前記第１層の形成方法が、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法からなる群から選択される１種であることを特徴とする積層フィルムの製造方法。
23. 前記端面封止層の、前記第１層以外の少なくとも１層の形成方法が、金属メッキ処理である請求項２２に記載の積層フィルムの製造方法。