JP6570638B2 - 積層フィルム - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置のバックライト等に利用される積層フィルムに関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤともいう）は、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。また、近年の液晶表示装置において、ＬＣＤ性能改善としてさらなる省電力化、色再現性向上等が求められている。

ＬＣＤのバックライトの省電力化に伴って、光利用効率を高め、また、色再現性を向上するために、入射光の波長を変換して出射する量子ドットを利用することが提案されている。
量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態の結晶のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長・発光波長を制御できる。

一般に、このような量子ドットは、樹脂等の中に分散されて、例えば、波長変換を行う量子ドットフィルムとして、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
バックライトから量子ドットを含むフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。

ところで、量子ドットは、水分や酸素により劣化しやすく、光酸化反応により発光強度が低下するという課題がある。そのため、量子ドットを含む樹脂層の両面にガスバリアフィルムを積層して量子ドットを含む樹脂層を保護することが行われている。以下、量子ドットを含む樹脂層を『量子ドット層』とも言う。
しかしながら、量子ドット層の両主面をガスバリアフィルムで保護するのみでは、ガスバリアフィルムで保護されていない端面から水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
そのため、量子ドット層の端面（周縁）全面を含んで、量子ドット層をガスバリアフィルムで保護することが提案されている。

例えば、特許文献１には、量子ドット（量子ドット蛍光体）を濃度０．０１〜２０質量％の範囲でシク口オレフィン(共)重合体に分散させた組成物が記載されており、量子ドットが分散された樹脂成型体の全面を被覆するガスバリア層を有する構成が記載されている。また、このガスバリア層は、樹脂層の少なくとも一方の面にシリカ膜またはアルミナ膜を形成したガスバリアフィルムであるのが記載されている。

特許文献２には、量子ドット（ＱＤ）集団を含むリモート蛍光体フィルムを備えるディスプレイバックライトユニットが記載されており、ＱＤ蛍光体材料を２つのガスバリアフィルムで挟み、ＱＤ蛍光体材料の周囲周辺の２つのガスバリアフィルムに挟まれた領域にガスバリア性を有する保護層（不活性領域）を有する構成が記載されている。
特許文献３には、光源部から発せられた色光の少なくとも一部を他の色光に変換する色変換層と、色変換層を封止する不透水性の封止シートとを備えた発光装置が記載されており、蛍光体層の外周に沿って、すなわち蛍光体層の平面形状を囲むように枠形状に設けられている保護層（第２貼合層）を有し、この保護層がガスバリア性を有する接着材料からなる構成が記載されている。

特許文献４には、励起光を波長変換して波長変換光を発生させる量子点及び量子点を分散させる分散媒質を含む波長変換部と、波長変換部を密封する密封部材と、を含む量子点波長変換体が記載されており、密封シートの端部領域を加熱して熱粘着させることで波長変換部を密封することが記載されている。

国際公開第２０１２／１０２１０７号 特表２０１３−５４４０１８号公報 特開２００９−２８３４４１号公報 特開２０１０−０６１０９８号公報

ところで、ＬＣＤに用いられる、量子ドット層を含むフィルムは、５０〜３５０μｍ程度の薄型のフィルムである。
薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪いという問題があった。また、量子ドット層の全面を覆うためにガスバリアフィルムを折り曲げると、折り曲げた部分でガスバリア層が割れて、ガスバリア性が低下するという問題もあった。

一方、２つのガスバリアフィルムで挟まれた量子ドット層を囲むように、ガスバリア性の保護層を形成する構成の場合には、例えば、いわゆるダムフィル方式で、保護層および樹脂層を形成することが考えられる。すなわち、一方のガスバリアフィルム上の周縁部分に保護層を形成した後に、保護層に囲まれた領域内に量子ドット層を形成し、その後、保護層および量子ドット層上に、他方のガスバリアフィルムを積層することで量子ドット層をガスバリアフィルムで挟持し、かつ、量子ドット層の端面を保護層で囲んだフィルムを作製することが考えられる。
しかしながら、このような方法で形成可能な保護層の材料は、接着材料等であるため高いバリア性を付与することができず、ガスバリア性や耐久性が十分でなかった。
また、このようなダムフィル方式では、全工程がバッチ方式となるため生産性が悪いという問題があった。

また、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くする、あるいは、密封する構成では、端部において量子ドット層の厚さが薄くなってしまうため、端部では、量子ドット層が機能を十分に発現することができず、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるガスバリア層は、硬く脆いため、このようなガスバリア層を有するガスバリアフィルムを、急に湾曲させると、ガスバリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下するという問題があった。

本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、量子ドット層などの光学機能層が水分や酸素により劣化することを防止でき、高い耐久性を有し、また、狭額縁化が可能である積層フィルムを提供することにある。

このような目的を達成するために、本発明の積層フィルムは、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
機能層積層体の端面の少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
かつ、機能層積層体の端面の、端面封止層の形成領域における表面粗さＲａが０．１〜２μｍであり、端面封止層の厚さが１〜５μｍであることを特徴とする積層フィルムを提供する。

このような本発明の積層フィルムにおいて、端面封止層が、機能層積層体の端面の全面を覆って形成されるのが好ましい。
また、端面封止層が、樹脂層、金属層、金属酸化物層、金属窒化物層、金属炭化物層および金属炭窒化物層からなる群より選択される少なくとも１層を有するのが好ましい。
また、端面封止層が複数層を積層した積層構造を有するのが好ましい。
また、端面封止層が、複数の金属層を有するのが好ましい。
また、端面封止層が、金属メッキ層と、金属メッキ層と機能層積層体の端面との間に設けられる金属層とを有するのが好ましい。
また、金属メッキ層と機能層積層体の端面との間に設けられる金属層を、複数層有するのが好ましい。
さらに、端面封止層が、金属酸化物層、金属窒化物層、金属炭化物層および金属炭窒化物層からなる群より選択される少なくとも１層の無機化合物層と、無機化合物層と機能層積層体の端面との間に設けられる樹脂層とを有するのが好ましい。

このような本発明によれば、量子ドットが水分や酸素により劣化することを防止でき、高い耐久性を有し、また、狭額縁化が可能な積層フィルムを提供できる。

図１は、本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。 図２は、積層フィルムに用いられるガスバリアフィルムの一例を概念的に示す断面図である。 図３は、本発明の積層フィルムの別の例を概念的に示す断面図である。 図４は、本発明の積層フィルムの別の例を概念的に示す断面図である。 図５Ａは、本発明の積層フィルムを製造する製造方法の一例を説明するための概略図である。 図５Ｂは、本発明の積層フィルムを製造する製造方法の一例を説明するための概略図である。 図５Ｃは、本発明の積層フィルムを製造する製造方法の一例を説明するための概略図である。 図５Ｄは、本発明の積層フィルムを製造する製造方法の一例を説明するための概略図である。

以下、本発明の積層フィルムについて、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、『〜』を用いて表される数値範囲は、『〜』の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、『（メタ）アクリレート』とは、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。『（メタ）アクリロイル』等も同様である。

本発明の積層フィルムは、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面（最大面）に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面の少なくとも一部を覆って形成される端面封止層を有し、機能層積層体の端面の、端面封止層の形成領域における表面粗さＲａが０．１〜２μｍであり、端面封止層の厚さが１〜５μｍである、積層フィルムである。

図１は、本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。
図１に示す積層フィルム１０ａは、光学機能層１２および光学機能層１２の両主面にそれぞれ積層される２つのガスバリア層１４を有する機能層積層体１１と、機能層積層体１１の端面の全面を覆って形成される端面封止層１６ａとを有する。
図１に示す積層フィルム１０ａにおいて、機能層積層体１１は、一例として、矩形の平面形状を有する。平面形状とは、図１を図中上方からみた形状であり、積層体の主面の形状である。すなわち、積層フィルム１０ａは、矩形の機能層積層体１１の四辺の端面全面を、端面封止層１６ａで覆って封止した構成を有する。

光学機能層１２は、波長変換等の所望の光学的な機能を発現するための層である。
光学機能層１２としては、光学的な機能を発現する層が、各種、利用可能である。具体的には、蛍光層（波長変換層）、有機エレクトロスミネッセンス層（有機ＥＬ(Electro Luminescence)層）、太陽電池等に利用される光電変換層、電子ペーパなどの画像表示層等が例示される。

図示例の積層フィルム１０ａにおいては、好ましい態様として、光学機能層１２は、多数の蛍光体を硬化性の樹脂等のマトリックス中に分散してなる蛍光層であり、光学機能層１２に入射した光の波長を変換して出射する機能を有するものである。
例えば、図示しないバックライトから出射された青色光が光学機能層１２に入射すると、光学機能層１２は、内部に含有する蛍光体の効果により、この青色光の少なくとも一部を赤色光あるいは緑色光に波長変換して出射する。

ここで、青色光とは、４００〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光であり、緑色光とは、５００ｎｍを超え６００ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことであり、赤色光とは、６００ｎｍを超え６８０ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことである。
なお、蛍光層が発現する波長変換の機能は、青色光を赤色光あるいは緑色光に波長変換する構成に限定はされず、入射光の少なくとも一部を異なる波長の光に変換するものであればよい。

蛍光体は、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
蛍光層に含有される蛍光体の種類には特に限定はなく、求められる波長変換の性能等に応じて、種々の公知の蛍光体を適宜選択すればよい。
このような蛍光体の例として、例えば有機蛍光染料および有機蛍光顔料の他、リン酸塩やアルミン酸塩、金属酸化物等に希土類イオンをドープした蛍光体、金属硫化物や金属窒化物等の半導体性の物質に賦活性のイオンをドープした蛍光体、量子ドットとして知られる量子閉じ込め効果を利用した蛍光体等が例示される。中でも、発光スペクトル幅が狭く、ディスプレイに用いた場合の色再現性に優れた光源が実現でき、かつ、発光量子効率に優れる量子ドットは、本発明では好適に用いられる。
すなわち、本発明において、光学機能層１２としては、量子ドットを樹脂等のマトリックスに分散してなる量子ドット層が、好適に用いられる。図１等に示す例においては、好ましい態様として、光学機能層１２は量子ドット層である。

量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報の段落［００６０］〜［００６６］を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。また、量子ドットは、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調節することができる。

量子ドットは、マトリックス中に均一に分散されるのが好ましいが、マトリックス中に偏りをもって分散されてもよい。また、量子ドットは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
２種以上併用する場合は、発光光の波長が異なる２種以上の量子ドットを使用してもよい。

具体的には、公知の量子ドットには、６００ｎｍを超え６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍを超え６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）がある。量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。
例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）とを含む量子ドット層に励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および、量子ドット層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む量子ドット層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

また、量子ドットとして、形状がロッド状で指向性を持ち偏光を発する、いわゆる量子ロッドや、テトラポッド型量子ドットを用いてもよい。

前述のように、本発明の積層フィルム１０ａにおいて、光学機能層１２は、樹脂等をマトリックスとして、量子ドット等を分散してなるものである。
ここで、マトリックスは、量子ドット層に用いられる公知のものが各種利用可能であるが、少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物（塗布組成物）を硬化させてなるものが好ましい。なお、少なくとも２種以上併用する重合性化合物の重合性基は、同一であっても異なっていてもよく、好ましくは、この少なくとも２種の化合物は少なくとも１つ以上の共通の重合性基を有することが好ましい。
重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基、オキセタニル基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。

また、光学機能層１２のマトリックスとなる重合性化合物は、単官能の重合性化合物からなる第一の重合性化合物の少なくとも一種と、多官能重合性化合物からなる第二の重合性化合物の少なくとも一種とを含むことが好ましい。
具体的には、例えば、以下の第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む態様をとることができる。

＜第１の重合性化合物＞
第１の重合性化合物は、単官能（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を１つ有するモノマーである。

単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（メタ）アクリロイル基を分子内に１個有し、アルキル基の炭素数が１〜３０である脂肪族または芳香族モノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；
ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；
ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；
ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；
グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；
テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；
(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
芳香族単官能アクリレートモノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
また、第１の重合性化合物のなかでも、アルキル基の炭素数が４〜３０である脂肪族または芳香族アルキル（メタ）アクリレートが好ましく、更には、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレートが好ましい。これにより、量子ドットの分散性が向上するからである。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。

エポキシ基を１つ有する単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
オキセタニル基を１つ有する単官能オキセタン化合物の例としては、上述した単官能エポキシ化合物のエポキシ基を適宜オキセタン基に置換したものが利用できる。また、このようなオキセタン環を有する化合物については、特開２００３−３４１２１７号公報、特開２００４−９１５５６号公報に記載されたオキセタン化合物のうち、単官能のものを適宜選択することもできる。

第１の重合性化合物は、第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、５〜９９．９質量部含まれていることが好ましく、２０〜８５質量部含まれていることが好ましい。その理由は後述する。

＜第２の重合性化合物＞
第２の重合性化合物は、多官能（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を分子内に２つ以上有するモノマーである。

２官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーのうち、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート等が好ましい例として挙げられる。

また、２官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エピクロロヒドリン（ＥＣＨ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。

また、多官能モノマーとして、分子内にウレタン結合を有する（メタ）アクリレートモノマー、具体的には、トリレンジイソシアナート（ＴＤＩ）とヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）とヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）とペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等を用いることもできる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとしては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシシクロアルカンを含む化合物等が好適に用いられる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとして好適に使用できる市販品としては、ダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド等が挙げられる。

また、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーはその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

第２の重合性化合物は第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、０．１〜９５質量部含まれていることが好ましく、１５〜８０質量部含まれているのが好ましい。その理由は後述する。

後に詳述するが、積層フィルム１０ａは、光学機能層１２とガスバリア層１４とを積層した機能層積層体１１の端面を、端面封止層１６ａで封止してなる構成を有する。
本発明において、端面封止層１６ａは、一例として、複数層の金属層からなるものが好適に例示され、好ましくは、端面封止層１６ａに、まず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法等の気相堆積法（気相成膜法）によって、薄膜の金属層を形成する。
ここで、例えば単官能（メタ）アクリレート化合物のみからなる硬化物をマトリックスとする光学機能層１２の端面に、スパッタリング法で金属層を形成すると、金属層の内部応力にマトリックスが耐え切れず、その結果、金属層に欠陥が生じ、十分なバリア性を付与できない。他方、多官能（メタ）アクリレート化合物のみからなる硬化物をマトリックスとする光学機能層１２の端面に、スパッタリング法で金属層を形成すると、金属層の欠陥は生じないが、硬く脆いために端面の平滑性が悪く、金属層が端面を均一に被覆することができず、その結果バリア性が損なわれる。
これに対し、本発明においては、好ましい態様として、単官能（メタ）アクリレートモノマーと、多官能（メタ）アクリレートモノマーを前述の適切な範囲に混合することで、金属層を形成する時の膜収縮に耐え、光学機能層１２端面の金属層の欠陥をなくし、かつ、平滑性を確保することができ、端面に高いバリア性を有する端面封止層１６ａを形成することができる。

光学機能層１２を形成するマトリックス（硬化物）の５０℃における弾性率は、１〜４０００ＭＰａが好ましく、１０〜３０００ＭＰａがより好ましい。５０℃における弾性率を用いているのは、例えばスパッタリング法では製膜時に膜面温度が５０℃程度に到達するため、膜収縮に抵抗するマトリックスの物性値としているためである。この範囲にすることで、端部封止層の金属層の欠陥を少なくすることが可能となる。

光学機能層１２を形成するマトリックス、言い換えれば、光学機能層１２となる重合性組成物は、必要に応じて、粘度調節剤や溶媒等の必要な成分を含んでもよい。なお、光学機能層１２となる重合性組成物とは、言い換えれば、光学機能層１２を形成するための重合性組成物である。

＜粘度調節剤＞
重合性組成物は、必要に応じて粘度調節剤を含んでいてもよい。粘度調節剤は、粒径が５〜３００ｎｍであるフィラーが好ましい。また、粘度調節剤はチキソトロピー性を付与するためのチキソトロピー剤であるのも好ましい。なお、本発明において、チキソトロピー性とは、液状組成物において、せん断速度の増加に対して粘性を減じる性質を指し、チキソトロピー剤とは、それを液状組成物に含ませることによって、組成物にチキソトロピー性を付与する機能を有する素材のことを指す。
チキソトロピー剤の具体例としては、ヒュームドシリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイト等が挙げられる。

光学機能層１２を形成するための重合性組成物は、粘度が、せん断速度５００ｓ^-1の時に３〜５０ｍＰａ・ｓであり、せん断速度１ｓ^-1の時に１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましい。このように粘度調節するために、チキソトロピー剤を用いることが好ましい。
重合性組成物の粘度がせん断速度５００ｓ^-1の時に３〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、せん断速度１ｓ^-1の時に１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましい理由は、以下の通りである。

機能層積層体１１の製造方法としては、一例として、後述する、２枚のガスバリア層１４（ガスバリアフィルム）を用意して、一方のガスバリア層１４の表面に、光学機能層１２となる重合性組成物を塗布した後に、重合性組成物の上に、もう一枚のガスバリア層１４を貼り付けてから、重合性組成物を硬化して光学機能層１２を形成する工程を含む製造方法が挙げられる。以下の説明では、重合性組成物が塗布されるガスバリア層を第１基材、第１基材に塗布された重合性組成物に貼り付けられる、もう一枚のガスバリア層を第２基材とも言う。
この製造方法では、第１基材に重合性組成物を塗布する際に塗布スジが生じないように均一に塗布して塗膜の膜厚を均一にすることが好ましく、そのためには塗布性とレベリング性の観点から重合性組成物の粘度は低い方が好ましい。一方、第１基材に塗布された重合性組成物の上に、第２基材を貼り付ける際には、第２基材を均一に貼り合せるために、貼り合せ時の圧力への抵抗力が高いことが好ましく、この観点から重合性組成物の粘度は高い方が好ましい。
前述のせん断速度５００ｓ^-1とは、第１基材に塗布される重合性組成物に加わるせん断速度の代表値であり、せん断速度１ｓ^-1とは重合性組成物に第２基材を貼り合せる直前に重合性組成物に加わるせん断速度の代表値である。なお、せん断速度１ｓ^-1とはあくまでも代表値に過ぎない。第１基材に塗布された重合性組成物の上に第２基材を貼り合せる際に、第１基材と第２基材を同速度で搬送しつつ貼り合せるのであれば重合性組成物に加わるせん断速度はほぼ０ｓ^-1であり、実製造工程において重合性組成物に加わるせん断速度が１ｓ^-1に限定されるものではない。他方、せん断速度５００ｓ^-1も同様に代表値に過ぎず、実製造工程において重合性組成物に加わるせん断速度が５００ｓ^-1に限定されるものではない。
そして均一な塗布および貼り合せの観点から、重合性組成物の粘度を、第１基材に重合性組成物を塗布する際に重合性組成物に加わるせん断速度の代表値５００ｓ^-1の時に３〜５０ｍＰａ・ｓであり、第１基材に塗布された重合性組成物上に第２基材を貼り合せる直前に重合性組成物に加わるせん断速度の代表値１ｓ^-1の時に１００ｍＰａ・ｓ以上であるように調節することが好ましい。

＜溶媒＞
光学機能層１２となる重合性組成物は、必要に応じて溶媒を含んでいてもよい。この場合に使用される溶媒の種類および添加量は、特に限定されない。例えば溶媒として、有機溶媒を一種または二種以上混合して用いることができる。

また、光学機能層１２となる重合性組成物は、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、（パーフルオロブチル）エチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチル−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、（パーフルオロヘキシル）エチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフッ素原子を有する化合物を含んでいてもよい。
これらの化合物を含むことにより塗布性を向上させることができる。

光学機能層１２において、マトリックスとなる樹脂の量は、光学機能層１２が含む機能性材料の種類等に応じて、適宜、決定すればよい。
図示例においては、光学機能層１２が量子ドット層であるので、マトリックスとなる樹脂は、量子ドット層の全量１００質量部に対して、９０〜９９．９質量部が好ましく、９２〜９９質量部がより好ましい。

光学機能層１２の厚さも、光学機能層１２の種類や積層フィルム１０ａの用途等に応じて、適宜、決定すればよい。
図示例においては、光学機能層１２が量子ドット層であるので、取り扱い性および発光特性の点で、光学機能層１２の厚さは、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１５０μｍがより好ましい。
なお、光学機能層１２の上記厚さは平均厚さを意図し、平均厚さは量子ドット層の任意の１０点以上の厚さを測定して、それらを算術平均して求める。

光学機能層１２の形成方法は、マトリックスに機能性材料を分散してなる硬化層を形成する、公知の方法が、各種、利用可能である。
例えば、光学機能層１２が量子ドット層（蛍光層）である場合には、量子ドット（蛍光体）と、少なくとも２種以上の重合性化合物を含む重合性組成物を調製し、この重合性組成物をガスバリア層１４上に塗布し、硬化させることで形成することができる。
なお、量子ドット層等の光学機能層１２となる重合性組成物には、必要に応じて、重合開始剤やシランカップリング剤等を添加してもよい。

ガスバリア層１４は、光学機能層１２の主面に積層される、ガスバリア性を有する層である。すなわち、ガスバリア層１４は、光学機能層１２の主面を覆って、光学機能層１２の主面からの水分や酸素の浸入を抑制するための部材である。
なお、図示例の積層フィルム１０ａにおいては、機能層積層体１１は、光学機能層１２の両主面にガスバリア層１４を積層しているが、本発明は、これに限定はされない。例えば、機能層積層体１１の一方の主面からは、水分や酸素の侵入する可能性が低い場合には、光学機能層１２の一方の主面のみにガスバリア層１４を積層した構成であってもよい。しかしながら、水分や酸素による光学機能層１２の劣化を、より確実に防止するためには、図示例のように、光学機能層１２の両主面にガスバリア層１４を積層して、２枚のガスバリア層１４で光学機能層１２を挟持するのが好ましい。

ガスバリア層１４は、水蒸気透過度が１×１０^-3g/(m²・day)以下であるのが好ましい。また、ガスバリア層１４は、酸素透過度が１×１０^-2cc/(m²・day・atm)以下であるのが好ましい。
水蒸気透過度ならびに酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高いガスバリア層１４を用いることで、光学機能層１２への水分や酸素の浸入を防止して光学機能層１２の劣化をより好適に防止することができる。
なお、水蒸気透過度は、一例として、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件下でモコン法によって測定した。また、水蒸気透過度が、モコン法の測定限界を超えた場合には、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定すればよい。また、酸素透過度は、一例として、ＡＰＩＭＳ法（大気圧イオン化質量分析法）による測定装置（日本エイピーアイ社製）を用いて、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で測定すればよい。

また、ガスバリア層１４の厚さは５〜１００μｍが好ましく、１０〜７０μｍがより好ましく、１５〜５５μｍが特に好ましい。
ガスバリア層１４の厚さを５μｍ以上とすることで、２つのガスバリア層１４の間に光学機能層１２を形成する際に、光学機能層１２の厚さを均一にできる等の点で好ましい。また、ガスバリア層１４の厚さを１００μｍ以下とすることで、光学機能層１２を含む積層フィルム１０ａ全体の厚さを薄くできる等の点で好ましい。

ガスバリア層１４としては、特に限定はなく、所望のガスバリア性を有するものが、各種、利用可能である。
ここで、ガスバリア層１４は、透明であるのが好ましく、例えば、ガラス、透明な無機結晶性材料、透明な樹脂材料等を用いる事ができる。また、ガスバリア層１４は、剛直なシート状であってもよいし、フレキシブルなフィルム状であってもよい。さらに、ガスバリア層１４また、巻回が可能な長尺状であってもよいし、予め所定の寸法に切り分けられた枚葉状であってもよい。

ガスバリア層１４としては、一例として、ガスバリア支持体の上に、バリア層として、無機層と、この無機層の下地（形成面）となる有機層との組み合わせを、１組以上、形成してなる、有機無機積層型のガスバリア層（有機無機積層型のガスバリアフィルム）が好適に用いられる。
図２に、このような有機無機積層型のガスバリア層１４の一例を概念的に表す断面図を示す。図２に示すガスバリア層１４は、有機層３４、無機層３６および有機層３８をこの順に積層してなるバリア層３２と、バリア層３２を支持するガスバリア支持体３０とを有してなる。

なお、ガスバリア層１４は、ガスバリア支持体３０の上に、少なくとも１つの無機層３６を有していればよく、無機層３６と、無機層３６の下地となる有機層３４との組み合わせを１つ以上有するのが好ましい。従って、ガスバリア層１４は、無機層３６と下地の有機層３４との組み合わせを２つ有するものでもよく、あるいは、３つ以上、有するものでもよい。有機層３４は、無機層３６を適正に形成するための下地層としてとして作用するものであり、下地の有機層３４と無機層３６との組み合わせの積層数が多いほど、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得られる。

また、図示例においては、バリア層３２の最表層は、有機層３８としたが、これに限定はされず、最表層が無機層３６でもよい。なお、バリア層３２の最表層とは、すなわち、バリア層３２のガスバリア支持体３０とは反対側の層である。
ここで、光学機能層１２が積層されるのは、基本的に、バリア層３２側である。したがって、バリア層３２の最表層を無機層３６とし、光学機能層１２をバリア層３２側に積層することにより、ガスバリア支持体３０や有機層３４からアウトガスが放出されても、このアウトガスは無機層３６で遮蔽され、光学機能層１２に至ることを防止できる。

ガスバリア層１４のガスバリア支持体３０としては、公知のガスバリアフィルムで支持体として用いられているものが、各種、利用可能である。
中でも、薄手化や軽量化が容易である、フレキシブル化に好適である等の点で、各種のプラスチック（高分子材料／樹脂材料）からなるフィルムが好適に利用される。
具体的には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体（ＡＢＳ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなる樹脂フィルムが、好適に例示される。

ガスバリア支持体３０の厚さは、用途や大きさによって、適宜、設定すればよい。ここで、本発明者の検討によれば、ガスバリア支持体３０の厚さは、１０〜１００μｍ程度が好ましい。ガスバリア支持体３０の厚さを、この範囲にすることにより、軽量化や薄手化、等の点で、好ましい結果を得る。
なお、ガスバリア支持体３０は、このようなプラスチックフィルムの表面に、反射防止や位相差制御、光取り出し効率向上等の機能が付与されていてもよい。

バリア層３２は、主にガスバリア性を発現する無機層３６と、無機層３６の下地層となる有機層３４と、無機層３６を保護する有機層３８を有する。

有機層３４は、ガスバリア層１４において主にガスバリア性を発現する無機層３６の下地層となるものである。
有機層３４は、公知のガスバリアフィルムで有機層３４として用いられているものが、各種、利用可能である。例えば、有機層３４は、有機化合物を主成分とする膜で、基本的に、モノマーおよび／またはオリゴマを、架橋して形成されるものが利用できる。
ガスバリア層１４は、無機層３６の下地となる有機層３４を有することにより、ガスバリア支持体３０の表面の凹凸や、表面に付着している異物等を包埋して、無機層３６の成膜面を適正にできる。その結果、成膜面の全面に、隙間無く、割れやヒビ等の無い適正な無機層３６を成膜できる。これにより、水蒸気透過度が１×１０^-3g/(m²・day)以下、および、酸素透過度が１×１０^-2cc/(m²・day・atm)以下となるような、高いガスバリア性能を得ることができる。

また、ガスバリア層１４は、この下地となる有機層３４を有することにより、この有機層３４が、無機層３６のクッションとしても作用する。そのため、無機層３６が外部から衝撃を受けた場合などに、この有機層３４のクッション効果によって、無機層３６の損傷を防止できる。
これにより、積層フィルム１０ａにおいて、ガスバリア層１４が適正にガスバリア性能を発現して、水分や酸素による光学機能層１２の劣化を、好適に防止できる。

ガスバリア層１４において、有機層３４の形成材料としては、各種の有機化合物（樹脂／高分子化合物）が、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。

中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層３４は、好適である。
中でも特に、上記強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、ガラス転移温度が１２０℃以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層３４として好適に例示される。その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、アクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
有機層３４を、このようなアクリル樹脂やメタクリル樹脂で形成することにより、骨格がしっかりした下地の上に無機層３６を成膜できるので、より緻密でガスバリア性が高い無機層３６を成膜できる。

有機層３４の厚さは、１〜５μｍが好ましい。
有機層３４の厚さを１μｍ以上とすることにより、より好適に無機層３６の成膜面を適正にして、割れやヒビ等の無い適正な無機層３６を、成膜面の全面に渡って成膜できる。
また、有機層３４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層３４が厚すぎることに起因する、有機層３４のクラックや、ガスバリア層１４のカール等の問題の発生を、好適に防止することができる。
以上の点を考慮すると、有機層３４の厚さは、１〜３μｍとするのが、より好ましい。

なお、ガスバリア層１４が下地層としての有機層３４を複数有する場合には、各有機層の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
また、有機層３４を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。

有機層３４は、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。
また、有機層３４の下層となる無機層３６との密着性を向上するために、有機層３４は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。

有機層３４の上には、この有機層３４を下地として、無機層３６が成膜される。無機層３６は、無機化合物を主成分とする膜で、ガスバリア層１４におけるガスバリア性を主に発現するものである。

無機層３６としては、ガスバリア性を発現する、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属炭窒化物等からなる膜が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物； 窒化アルミニウムなどの金属窒化物； 炭化アルミニウムなどの金属炭化物； 酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物； 窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物； 炭化ケイ素等のケイ素炭化物； これらの水素化物； これら２種以上の混合物； および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。なお、本発明においては、ケイ素も金属と見なす。
特に、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物からなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。

なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層３６を有する場合には、無機層３６の形成材料は、互いに異なってもよい。しかしながら、生産性等を考慮すれば、全ての無機層３６を、同じ材料で形成するのが好ましい。

無機層３６の厚さは、形成材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。なお、本発明者の検討によれば、無機層３６の厚さは、１０〜２００ｎｍが好ましい。
無機層３６の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層３６が形成できる。また、無機層３６は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層３６の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
また、このような点を考慮すると、無機層３６の厚さは、１０〜１００ｎｍが好ましく、１５〜７５ｎｍがより好ましい。
なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層３６を有する場合には、各無機層３６の厚さは、同じでも異なってもよい。

無機層３６は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。具体的には、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma 容量結合プラズマ）−ＣＶＤ（chemical vapor deposition）やＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma 誘導結合プラズマ）−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着など、気相堆積法が好適に例示される。

有機層３８は、バリア層３２の最表層に形成された層であり、無機層３６を保護するための層である。また、有機層３８は、光学機能層１２との密着層としての作用を有してもよい。
有機層３８としては、上述した有機層３４と同様のものが、各種、利用可能である。また、有機層３８は、これ以外にも、アクリルポリマを主鎖とし、側鎖に末端がアクリロイル基のウレタンポリマおよび末端がアクリロイル基のウレタンオリゴマの少なくとも一方を有する、分子量が１００００〜３００００００で、アクリル当量が５００ｇ／ｍｏｌ以上であるグラフト共重合体からなるものも、好適に利用可能である。
また、有機層３８の形成方法も、前述の有機層３４と同様に、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。有機層３８の厚さも、前述の有機層３４に準ずる。

また、バリア層３２の最表層となる有機層３８の厚さは、８０〜１０００ｎｍが好ましい。有機層３８の厚さを８０ｎｍ以上とすることにより、無機層３６を十分に保護することができる。また、割れを防止し、透過率の低下を防止することができる等の点で、有機層３８の厚さを１０００ｎｍ以下とすること好ましい。
以上の観点から、有機層３８の厚さは、８０〜５００ｎｍがより好ましい。

なお、保護層としての有機層３８と、下地層としての有機層３４とは、形成材料が同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
また、有機層３８の下層となる無機層３６との密着性を向上するために、有機層３８は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。

本発明の積層フィルム１０ａは、光学機能層１２と、光学機能層１２を挟持するように積層される２つのガスバリア層１４とを有する機能層積層体１１の端面を、端面封止層１６ａで覆った構成を有する。なお、機能層積層体１１の端面とは、すなわち、機能層積層体１１の積層方向と直交する方向の面である。
ここで、本発明の積層フィルム１０ａにおいて、機能層積層体１１の端面は、端面封止層１６ａが形成される領域の表面粗さＲａが０．１〜２μｍである。この点に関しては、後に詳述する。

前述のように、本発明の積層フィルム１０ａにおいて、ガスバリア層１４は、光学機能層１２の主面から、酸素や水分が光学機能層１２に侵入することを防止するものである。
これに対して、端面封止層１６ａは、機能層積層体１１の端面から、水分や酸素が光学機能層１２に侵入することを防止するものである。

前述のとおり、水分や酸素により劣化しやすい量子ドットを含む量子ドット層の両主面にガスバリアフィルムを積層して量子ドット層を保護することが行われている。しかしながら、量子ドット層の両主面をガスバリアフィルムで保護するのみでは、ガスバリアフィルムで保護されていない端面から水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
これに対して、端面からの水分や酸素の浸入を抑制するために、量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで保護する構成や、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成や、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くする構成等が提案されている。

しかしながら、薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪く、また、ガスバリアフィルムを折り曲げるとバリア層が割れてガスバリア性が低下するという問題があった。
また、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成の場合には、保護層の材料として高いバリア性を有する材料を用いることができず、ガスバリア性や耐久性が十分でなく、また、このような積層フィルムを作製する際には、全工程がバッチ方式となるため生産性が極めて悪いという問題があった。
また、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くする構成の場合には、端部での、量子ドット層の厚さが薄くなってしまうため、端部ではその機能を十分に発現することができず、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるバリア層は、硬く脆いため、このようなバリア層を有するガスバリアフィルムを、急に湾曲させると、バリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下して、量子ドット層への水分や酸素の浸入を抑制できなくなるという問題があった。

これに対して、本発明は、光学機能層１２と、光学機能層１２の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層１４とを有する機能層積層体１１、および、機能層積層体１１の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層１６ａを有する。
機能層積層体１１の端面を端面封止層１６ａで封止することで、光学機能層１２への水分や酸素の浸入を抑制して、量子ドット等が水分や酸素により劣化することを防止でき、寿命をより長くすることができ、耐久性を向上できる。
また、機能層積層体１１の端面に端面封止層１６ａを形成するのみであるので、光学機能層１２が薄くなったり、ガスバリア層１４が湾曲されることがないため、光学機能層１２を有効に利用できる領域を大きく維持でき、狭額縁化が可能である。
また、後に詳述するが、端面封止層１６ａを形成する際に、機能層積層体１１を複数枚重ねた状態で、端面封止層１６ａの各層を形成することができるので、複数の積層フィルム１０ａをまとめて作製することができ、生産性を高くすることができる。

ここで、本発明の積層フィルム１０ａは、機能層積層体１１の端面の、端面封止層１６ａの形成領域における表面粗さＲａが、０．１〜２μｍである。図示例の積層フィルム１０ａは、前述のように、機能層積層体１１の端面全面に端面封止層１６ａが形成されるので、機能層積層体１１の端面全面の表面粗さＲａが０．１〜２μｍである。
また、本発明の積層フィルム１０ａは、端面封止層１６ａの厚さが１〜５μｍである。
本発明の積層フィルム１０ａは、このような構成を有することにより、機能層積層体１１の端面を、空隙やクラック等の無い適正な端面封止層１６ａによって、高い密着性で覆うことを可能にしている。
なお、以下の説明では、『機能層積層体１１の端面における、端面封止層１６ａの形成領域』を、単に、『機能層積層体１１の端面』とも言う。

機能層積層体１１の端面と端面封止層１６ａとの間に剥離が生じると、剥離部から酸素や水分等が侵入して、機能層積層体１１の端面から光学機能層１２への酸素等の侵入を防止することが出来ない。そのためには、機能層積層体１１の端面と端面封止層１６ａとの密着性が十分である必要がある。
ここで、機能層積層体１１の端面と端面封止層１６ａとの密着性を高くするためには、いわゆるアンカリング効果を得るために、機能層積層体１１の端面が、ある程度の表面粗さＲａを有するのが好ましい。
他方、機能層積層体１１の端面から光学機能層１２への酸素等の侵入を防止するためには、空隙やクラック等の無い端面封止層１６ａによって、機能層積層体１１の端面を連続的に覆う必要がある。しかしながら、その反面、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａが大きすぎると、端面封止層１６ａが、適正に機能層積層体１１の端面を覆うことが困難になる。
また、空隙やクラック等の無い端面封止層１６ａによって、機能層積層体１１の端面を連続的に覆うためには、端面封止層１６ａの厚さを、ある程度以上の厚さにする必要がある。その反面、端面封止層１６ａが厚すぎると、いわゆる額縁領域が大きくなって積層フィルム１０の主面の面積に対する有効面積が狭くなってしまう、端面封止層１６ａにクラックが生じ易くなってしまう。

これに対し、本発明においては、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを０．１〜２μｍとし、かつ、端面封止層１６ａの厚さを１〜５μｍとすることにより、機能層積層体１１の端面を、空隙やクラック等の無い適正な端面封止層１６ａによって、高い密着性で覆うことを可能にしている。
本発明は、これにより量子ドット層をガスバリア層で挟持してなる量子ドットフィルム等、光学機能層をガスバリア層で挟持してなる積層フィルム等において、長期に渡って酸素や水分による光学機能層１２の劣化を防止した高い耐久性と、狭額縁化とを両立した、高品位な積層フィルムを実現している。

機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａが０．１μｍ未満では、アンカリング効果が十分に発揮されないため、機能層積層体１１の端面と端面封止層１６ａとの間に密着性が不十分な領域が生じてしまう。その結果、剥離や損傷等によって生じた機能層積層体１１の端面と端面封止層１６ａとの間の欠陥部から酸素や水分が侵入して、光学機能層１２を劣化してしまう。
機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａが２μｍを超えると、端面封止層１６ａを厚くしても、端面封止層１６ａが機能層積層体１１の端面に十分に追従できず、端面封止層１６ａにピンホールや空隙を生じてしまう。これは、機能層積層体１１の端面が過剰に粗いことによって、端面封止層１６ａを設けるための気相堆積法もしくは液相堆積法による成膜が、形態追従の限界を超えてしまうためと考えている。
以上の点を考慮すると、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａは０．１〜２μｍであり、好ましくは０．５〜１μｍである。

本発明において、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａ（算術平均粗さＲａ）は、例えば光干渉方式での非接触表面形状計測（例えば、菱化システム社製のMicromap、Vertscan2.0、Vertscan3.0等）や、等によって測定することができる。あるいは、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａは、接触式の表面形状計測によって、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００１）に準拠して測定してもよい（JIS: Japanese Industrial Standards）。
また、端面封止層１６ａを有する状態で機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを測定する場合には、例えば、積層フィルム１０を機能層積層体１１の端面に直交する線で切断することで、機能層積層体１１の端面を含む断面を出して、この断面を走査型電子顕微鏡などで撮影し、撮影した画像を解析することで機能層積層体１１の端面のプロファイルを検出して、検出した端面のプロファイルから、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００１）に準拠して機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを測定すればよい。

他方、端面封止層１６ａの厚さが１μｍ未満では、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａが小さい場合でも、端面封止層１６ａが機能層積層体１１の端面に十分に追従できず、端面封止層１６ａにピンホールや空隙を生じてしまう。
端面封止層１６ａの厚さが５μｍを超えると、額縁領域が大きくなって積層フィルム１０の面積に対する有効面積が小さくなってしまう、端面封止層１６ａにクラック等を生じ易くなってしまう等の不都合を生じる。後者については、端面封止層１６ａを設けた際に内部応力が発生し、端面封止層１６ａの面内方向に収縮しようとする力が働くためであると推定している。
以上の点を考慮すると、端面封止層１６ａの厚さは１〜５μｍであり、好ましくは２〜４μｍである。
なお、端面封止層１６ａの厚さとは、言い換えれば、機能層積層体１１の端面に垂直な方向の端面封止層１６ａの大きさである。

端面封止層１６ａは、酸素透過度が、１×１０^-2cc/(m²・day・atm)以下であるのが好ましく、１×１０^-3cc/(m²・day・atm)以下であるのがより好ましい。
機能層積層体１１の端面に、酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高い端面封止層１６ａを形成することで、光学機能層１２への水分や酸素の浸入をより好適に防止して光学機能層１２の劣化をより好適に防止することができる。

また、端面封止層１６ａは、機能層積層体１１の端面の少なくとも一部を覆うように形成されていればよいが、端面の全周を覆って形成されるのが好ましい。
前述のように、機能層積層体１１が矩形の平面形状を有する場合には、少なくとも１つの端面やその一部に端面封止層１６ａが形成されていればよく、４つの端面全てに端面封止層１６ａが形成されるのが好ましい。
なお、機能層積層体１１の主面の形状（積層フィルム１０ａの形状）は、矩形状に限定はされず、正方形状、円形状、多角形状等、種々の形状とすることができる。従って、端面保護層は、端面のうち少なくとも一部を覆うように形成されていればよく、全周を覆って形成されるのが好ましい。

本発明の積層フィルム１０において、機能層積層体１１の端面を封止する端面封止層は、単層でもよく、複数層からなるものでもよい。複数層からなる端面封止層は、２層構成でも、３層以上の層構成でもよい。
一例として、複数層からなる端面封止層は、図１に示す積層フィルムの端面封止層１６ａに示されるように、機能層積層体１１の端面に形成される下地層１８と、下地層１８の上に形成される、端面封止層１６ａにおけるガスバリア性を主に発現する遮蔽層２０とからなる、２層構成でもよい。なお、端面封止層において、上とは、それぞれの層の表面であり、すなわち、機能層積層体１１とは逆側の面である。
また、端面封止層は、図３に示す積層フィルム１０ｂのように、機能層積層体１１の端面に第１下地層１８ａを有し、第１下地層１８ａの上に第２下地層１８ｂを有し、第２下地層１８ｂの上に遮蔽層２０を有する、３層構成であってもよい。
すなわち、下地層とは、主にガスバリア性を発現する遮蔽層２０と機能層積層体１１の端面との間に形成される層である。

さらに、本発明の積層フィルムにおいて、端面封止層は、遮蔽層２０の上に、例えば、保護層、ハードコート層、光学補償層、透明導電層などの上塗り層を有してもよい。

本発明の積層フィルムにおいては、遮蔽層２０が多層構成でもよい。
例えば、遮蔽層２０が、ガスバリア性を発現する層の間にガスバリア機能の小さい中間層を挟むような構成であってもよい。また、前述のガスバリア層１４の際に例示した、下地となる有機層とガスバリア性を発現する無機層と、無機層の下地層（形成面）となる有機層の組み合わせを、１組あるいは複数組、有する遮蔽層２０も例示される。この場合には、有機層と無機層との組み合わせ全てが遮蔽層２０となり、また、機能層積層体１１の端面に有機層が形成される場合には、この有機層は下地層１８と遮蔽層２０の一部と下地層１８とを兼ねる層となる。

なお、図１および図３に示すとおり、端面封止層は、機能層積層体１１の端面に積層されるため、端面封止層を構成する各層（下地層１８、第１下地層１８ａ、第２下地層１８ｂ、遮蔽層２０）の積層方向は、機能層積層体１１の端面に垂直な方向であり、機能層積層体１１の積層方向とは直交する方向である。
また、端面封止層が多層構成である場合には、端面封止層１６の厚さとは、全ての層の合計厚さである。すなわち、図１に示す積層フィルム１０ａであれば、端面封止層１６ａの厚さは、下地層１８と遮蔽層２０との合計厚さであり、図３に示す積層フィルム１０ｂであれば、端面封止層１６ｂの厚さは、第１下地層１８ａと、第２下地層１８ｂと、遮蔽層２０との合計厚さである。さらに、端面封止層が上塗り層を有する場合には、上塗り層も含む厚さである。

図１に示す積層フィルム１０ａにおいて、下地層１８および遮蔽層２０は、いずれも金属層（金属からなる層）が好適に例示される。図３に示す積層フィルム１０ｂにおいても、第１下地層１８ａ、第２下地層１８ｂおよび遮蔽層２０は、いずれも金属層が好適に例示される。
また、遮蔽層２０が金属層である場合には、遮蔽層２０は電解メッキで形成される金属メッキ層であるのが好ましい。遮蔽層２０を金属メッキ層とすることにより、高い被覆性（塗れ性）で、形成面の全面を覆って、遮蔽層２０として所望の厚さを有する緻密な金属層を形成できるため、ガスバリア性の高い端面封止層を形成できる。

また、下地層１８、第１下地層１８ａおよび第２下地層１８ｂは、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成された金属層であるのが好ましい。中でも、密着性が良く、低温成膜が可能なスパッタリング法で形成された金属層であるのがより好ましい。

機能層積層体１１は、主に樹脂で形成されているため、機能層積層体１１の端面に直接、遮蔽層２０として電解メッキにより金属メッキ層を形成しようとしても、導電路がないため適正な金属層を形成できない。
これに対し、機能層積層体１１の端面に金属層を有することで、機能層積層体１１と端面封止層との密着性を向上できる。また、遮蔽層２０の下層に金属層を有することで、この金属層が電極として作用するので、金属メッキ層を適正に形成することができ緻密でガスバリア性の高い金属メッキによる遮蔽層２０を好適に形成できる。また、メッキ処理の際に、この第１層が機能層積層体１１を保護して、機能層積層体１１が損傷するのを防止できる。

さらに、図３に示す端面封止層１６ｂのように、第１下地層１８ａおよび第２下地層１８ｂを有することにより、第１下地層１８ａによって機能層積層体１１の端面との密着性を強くし、第２下地層１８ｂによって高い導電性を確保することで、より密着性およびガスバリア性に優れる端面封止層１６ｂを形成できる。

なお、端面封止層を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法により形成される金属層のみの１層とすることも考えられる。しかしながら、この場合には、機能層積層体１１との密着性は良好にできるものの、厚さを厚く形成するのが困難であったり、あるいは、厚く形成するのは生産性が非常に悪いため、薄くせざるを得ない。そのため、機能層積層体１１の端面に均一な厚さで、ピンホールや空隙の無い端面封止層を形成することができず、十分なガスバリア性を得ることができない。
これに対して、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法により形成される金属性の下地層と、遮蔽層２０としての金属メッキ層とを有することで、機能層積層体との密着性は良好にして、かつ、十分なガスバリア性を得ることができる。

金属メッキからなる遮蔽層２０の厚さは、下地層１８の厚さ、および、第１下地層１８ａと第２下地層１８ｂとの合計厚さよりも、厚いのが好ましい。すなわち、金属メッキからなる遮蔽層２０の厚さは、金属製の下地層の厚さよりも厚いのが好ましい。
金属メッキからなる遮蔽層２０の厚さを、金属製の下地層よりも厚くすることで、十分なガスバリア性をより確実に発現することができる。
なお、下地層１８の厚さ、第１下地層１８ａの厚さ、第２下地層１８ｂの厚さ、遮蔽層２０の厚さとは、機能層積層体１１の端面に垂直な方向における厚さである。

具体的には、下地層１８の厚さは、導電性、機能層積層体１１との密着性、生産性等の観点から、０．００１〜０．５μｍとするのが好ましく、０．０１〜０．３μｍとするのがより好ましい。
また、第１下地層１８ａおよび第２下地層１８ｂを形成する場合には、導電性、機能層積層体１１との密着性、生産性等の観点から、第１下地層１８ａは０．００１〜０．５μｍとするのが好ましく、０．０１〜０．３μｍとするのがより好ましく、また、第２下地層１８ｂは、０．００１〜０．５μｍとするのが好ましく、０．０１〜０．３μｍとするのがより好ましい。
他方、金属メッキからなる遮蔽層２０の厚さは、ガスバリア性の確保や生産性等の観点から、０．１〜５μｍとするのが好ましく、１〜５μｍとするのがより好ましい。

下地層１８、第１下地層１８ａおよび第２下地層１８ｂを金属で形成する場合、形成材料は、前述のスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で成膜可能な金属が、各種、利用可能である。
具体的には、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が好ましい。中でも、第１下地層１８ａとしては、密着性の点で、チタンが好適に例示される。
下地層１８、第１下地層１８ａおよび第２下地層１８ｂをこれらの金属で形成することにより、機能層積層体１１の端面と端面封止層との密着性を高くできる、電気メッキによって遮蔽層２０を好適に形成できる等の点で好ましい。

また、遮蔽層２０の形成材料は、電解メッキが可能な金属が、各種、利用可能である。
具体的には、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が好ましい。
遮蔽層２０をこれらの金属で形成することにより、電解メッキによって緻密でガスバリア性の高い遮蔽層２０を形成して、端面封止層のガスバリア性を向上できる。

下地層１８および遮蔽層２０の形成材料は、同じ金属でも、異なる金属でもよい。
また、第１下地層１８ａ、第２下地層１８ｂおよび遮蔽層２０の形成材料も、同じ金属でも、異なる金属でもよい。例えば、第２下地層１８ｂと遮蔽層２０とを銅などの同じ金属で形成し、第１下地層１８ａのみチタンなどの異なる金属で形成してもよい。

なお、端面封止層を多層の金属層とする場合には、これ以外の構成も利用可能である。
例えば、金属製の下地層１８の上に、電解メッキによる遮蔽層２０を形成し、遮蔽層２０の上に、下地層１８と同様にスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で、上塗り層として金属層を形成した構成であってもよい。

本発明の積層フィルム１０ａにおいて、端面封止層１６ａの遮蔽層２０を金属メッキ層とする場合には、下地層１８を有機層としてもよい。すなわち、本発明の積層フィルム１０ａは、下地層１８として有機層を有し、遮蔽層２０として金属メッキによる金属層を有する端面封止層１６ａも好適に利用可能である。
あるいは、本発明の積層フィルムは、端面封止層１６ａの遮蔽層２０を金属メッキ層とする場合には第１下地層１８ａとしての有機層の上に、先と同様に金属製の第２下地層１８ｂあるいはさらに金属製の第３下地層を形成して（図３参照）、その上に金属メッキによる遮蔽層２０を形成してもよい。すなわち、本発明の積層フィルムは、第１下地層１８ａとして有機層を有し、第２下地層１８ｂとして金属層を有し、遮蔽層２０として金属メッキによる金属層を有し、あるいはさらに第２下地層１８ｂと遮蔽層２０との間に第３下地層として金属層を有する端面封止層も、好適に利用可能である。

下地層１８（第１下地層１８ａ）としての有機層を有することで、遮蔽層２０の形成面を適正にして、機能層積層体１１の端面全面を覆って、適正な遮蔽層２０を形成し、ガスバリア性の高い端面封止層を形成できる。
下地層１８としての有機層を有することで、有機層がクッションとしても作用するので、遮蔽層２０が外部から衝撃を受けた場合などに、下地層１８のクッション効果によって、無機層３６の損傷を防止できる。
これにより、積層フィルム１０ａにおいて、ガスバリア層１４が適正にガスバリア性能を発現して、水分や酸素による光学機能層１２の劣化を、好適に防止できる。

下地層１８としての有機層の形成材料としては、各種の有機化合物（樹脂／高分子化合物）が、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。

中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層は、好適である。
中でも特に、上記強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、ガラス転移温度が１２０℃以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層３４として好適に例示される。その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、アクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
下地層１８としての有機層を、このようなアクリル樹脂やメタクリル樹脂で形成することにより、骨格がしっかりした下地の上に遮蔽層２０を成膜できるので、より緻密でガスバリア性が高い遮蔽層２０を成膜できる。

下地層１８としての有機層の厚さは、１〜３μｍが好ましい。
有機層の厚さを１μｍ以上とすることにより、遮蔽層２０の成膜面を適正にして、適正な遮蔽層２０を成膜面の全面に渡って形成できる。
また、有機層の厚さを３μｍ以下とすることにより、峡額縁化を図れる、有機層のクラック発生や内部応力による密着不良を好適に防止できる等の点で好ましい。

なお、後述するように、下地層１８としての有機層を複数層有する場合は、各有機層の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
また、有機層を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよいが、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。

下地層１８としての有機層は、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。
また、遮蔽層２０との密着性を向上するために、下地層１８としての有機層３４は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。

本発明の積層フィルム１０において、下地層１８として有機層を利用する場合には、遮蔽層２０として、無機層も好適に利用可能である。すなわち、本発明の積層フィルム１０ａは、下地層１８として有機層を有し、遮蔽層２０として無機層を有する端面封止層１６ａも好適に利用可能である。
すなわち、端面封止層は、前述のガスバリア層１４における有機無機の積層構造も好適に利用可能である。また、有機無機の積層構造を有する端面封止層は、有機層と無機層との組み合わせを、複数組有する物であってもよい。

遮蔽層２０としての無機層は、ガスバリア性を発現する、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属炭窒化物等の無機化合物からなる膜が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物； 窒化アルミニウムなどの金属窒化物； 炭化アルミニウムなどの金属炭化物； 酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物； 窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物； 炭化ケイ素等のケイ素炭化物； これらの水素化物； これら２種以上の混合物； および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。本発明においては、ケイ素も金属と見なすのは、前述のとおりである。
特に、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物からなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。

なお、端面封止層の遮蔽層２０が、複数の無機層を有する場合には、無機層の形成材料は、互いに異なってもよい。しかしながら、生産性等を考慮すれば、全ての無機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。

遮蔽層２０としての無機層の厚さは、形成材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。なお、本発明者の検討によれば、無機層の厚さは、１０〜２００ｎｍが好ましい。
遮蔽層２０としての無機層の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層が形成できる。また、無機層は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
また、このような点を考慮すると、遮蔽層２０としての無機層の厚さは、１０〜１００ｎｍが好ましく、１５〜７５ｎｍがより好ましい。
なお、遮蔽層２０が複数の無機層を有する場合には、各無機層の厚さは、同じでも異なってもよい。

無機層は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。具体的には、ＣＣＰ−ＣＶＤやＩＣＰ−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着など、気相堆積法が好適に例示される。

また、遮蔽層２０としての無機層は、ポリシラザン等を用いる塗布形の無機層も利用可能である。
このような塗布形の無機層としては、特開２０１１−１６１３０２号公報、特開２０１２−５６１３０号公報、および、特開２０１２−６１６５９号公報に記載される無機層が、好適に利用可能である。

遮蔽層２０として無機層を用いる場合には、遮蔽層２０の表面に、保護層として作用する有機層を上塗り層として形成してもよい。
上塗り層としての有機層としては、前述の下地層１８としての有機層と同様のものが、各種、利用可能である。
また、上塗り層としての有機層の厚さは、８０〜１０００ｎｍが好ましい。有機層の厚さを８０ｎｍ以上とすることにより、遮蔽層２０を十分に保護することができる。また、割れを防止し、透過率の低下を防止することができる等の点で、有機層の厚さは１０００ｎｍ以下とすること好ましい。以上の観点から、上塗り層としての有機層の厚さは、８０〜５００ｎｍがより好ましい。

なお、上塗り層としての有機層と、下地層１８としての有機層とは、形成材料が同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
また、下層となる遮蔽層２０との密着性を向上するために、上塗り層としての有機層は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。

前述のように、本発明においては、図４に概念的に示す積層フィルム１０ｃのように、端面封止層１６ｃは単層であってもよい。すなわち、端面封止層１６ｃは、遮蔽層のみで形成されるものであってもよい。
単層の端面封止層１６ｃとしては、ガスバリア性を有する樹脂からなる端面封止層が利用可能である。

端面封止層１６ｃとなるガスバリア性を有する樹脂層は、目的とするガスバリア性を発現する端面封止層１６ｃを形成可能な公知の各種の樹脂材料によって形成できる。以下の説明では、『ガスバリア性を有する樹脂層』を『ガスバリア性樹脂層』とも言う。

ここで、ガスバリア性樹脂層は、一般的に、主に端面封止層１６ｃすなわち主にガスバリア性樹脂層を構成する硬化性化合物（モノマ、ダイマ、トリマ、オリゴマ、ポリマ等）、必要に応じて添加される架橋剤や界面活性剤などの添加剤、有機溶剤等を含む組成物を調製して、この組成物を端面封止層１６ｃの形成面に塗布し、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって主にガスバリア性樹脂層となる硬化性化合物を重合（架橋・硬化）して形成する。

ガスバリア性樹脂層において、硬化性化合物は、重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。

＜（メタ）アクリレート系＞
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。

＜＜２官能のもの＞＞
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本発明では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。

２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、組成物に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

＜＜３官能以上のもの＞＞
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本発明では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

具体的には、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。

これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の光学機能層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

＜＜単官能のもの＞＞
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。

メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

＜エポキシ系化合物他＞
ガスバリア性樹脂層に用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。

エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。

その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。

これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。

エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、ダイセル化学工業社製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル社製）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、旭電化工業社製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry OF heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York,１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

ガスバリア性樹脂層で用いる硬化性化合物は、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。

これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Stephen.C.Lapin,Polymers Paint Colour Journal.179(4237)、321(1988)に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

ガスバリア製樹脂層を形成する組成物には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。

＜フィラー＞
ガスバリア性樹脂層には、酸素透過性や水分透過性を低減する観点から、フィラーを含有するのが好ましい。
フィラーは、球状、針状、線上、扁平状、層状、不定形、多孔質、凝集物など任意の形状および形態の物が利用可能であるが、浸入経路長を長くする効果を発揮させる点において、針状、扁平状もしくは層状であるのが好ましい。膜厚を薄く出来る観点からは、針状、層状であるのがより好ましい。

フィラーの形成材料としては、無機化合物や有機化合物を制限なく用いることができるが、酸素遮断性を高める観点から、無機化合物および結晶性有機高分子であるのが好ましい。

無機化合物フィラーとしては、別段で述べるチキソトロピー剤として利用可能な各種の層状化合物が好適に用いられる。また、カーボンナノチューブ、グラフェンなどの炭素材料も好適に用いる事ができる。

結晶性有機高分子フィラーとしては、セルロースナノファイバーあるいはセルロースナノウィスカーとして知られる、結晶性セルロースの針状結晶体や、その他の結晶性高分子、たとえばポリアミドやポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等の粒子化物もしくは繊維化状物、ウィスカーなどを用いることができる。

これらのフィラーの含有量は、用いるフィラーの性質や分散性、粘度上昇効果の発現程度に応じて、適宜、決定すればよい。粘度上昇効果とは、すなわち、チキソトロピー剤としての機能である。
フィラーは、少なすぎるとガスバリア性の向上の効果を十分に得られない可能性が有り、過剰であると脆性悪化によるクラックや空隙の発生によって却ってガスバリア性を損なう可能性が有る。また、これらのフィラーはチキソトロピー剤としての機能を兼ねることがあり、前述のチキソトロピー剤の添加量の観点も踏まえて最適な添加量を設定すべきである。
以上の点を考慮すると、フィラーの含有量は、ガスバリア性樹脂層を形成するための組成物中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１〜１００質量部が好ましく、０．２〜５０質量部がより好ましく、０．５〜２０質量部が特に好ましい。

＜チキソトロピー剤＞
ガスバリア性樹脂層を形成するための組成物は、必要に応じて、チキソトロピー剤を含有してもよい。
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。

＜＜無機化合物＞＞
チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機化合物のチキソトロピー剤であり、例えば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であるのが好ましい。

層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。

これらを単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、白石工業社製）、カオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、土屋カオリン工業社製）、ＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、エンジェルハード社製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、丸尾カルシウム社製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上、コープケミカル社製）、スメクトン（クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、ホージュン社製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、日本シリカ工業社製）などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。

ガスバリア性樹脂層を形成するための組成物に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）₂Ｏ・ｙＳｉＯ₂で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（II）Ｏ、Ｍ（III）₂Ｏ₃に相当するものもある。ｘ、ｙは正の数を表す）であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。

特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。なお、有機カチオンで修飾された層状化合物とは、珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの、である。

アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。

珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％〜２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。

アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ−３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明においては、無機化合物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。

＜＜有機化合物＞＞
チキソトロピー剤は、有機化合物のチキソトロピー剤も用いることができる。
有機化合物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。

酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００−２０（楠本化成社製）、フローノンＳＡ３００（共栄社化学社製）等があげられる。

変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。

＜＜含有量＞＞
チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部であるのが好ましく、０．２〜１０質量部であるのがより好ましく、０．２〜８質量部であるのが特に好ましい。特に無機化合物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量以下であると、脆性が良化方向にある。

＜重合開始剤＞
ガスバリア性樹脂層を形成するための組成物は、必要に応じて、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては、公知の重合開始剤が利用可能である。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報の段落００３７を参照できる。重合開始剤は、組成物に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上であるのが好ましく、０．５〜２モル％であるのがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除く組成物中に質量％として、０．１〜１０質量％含むのが好ましく、０．２〜８質量％含むのがより好ましい。

＜シランカップリング剤＞
ガスバリア性樹脂層を形成するための組成物は、必要に応じて、シランカップリング剤を含有してもよい。
シランカップリング剤を含む組成物から形成されるガスバリア性樹脂層は、シランカップリング剤により機能層積層体１１の端面との密着性が強固なものとなるため、優れた耐久性を得ることができる。

シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。

（一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₆は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ₁〜Ｒ₆のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）

Ｒ₁〜Ｒ₆は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ_１〜Ｒ_６は、メチル基が特に好ましい。

Ｒ₁〜Ｒ₆のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ₁〜Ｒ₆の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であるのが好ましい。さらに、Ｒ₁〜Ｒ₃の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ₄〜Ｒ₆のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であるのが特に好ましい。
一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであるのが好ましい。

ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。

また、Ｒ₁〜Ｒ₆はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。

シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。

なお、このようなバリア性樹脂層を遮蔽層として用いる構成でも、図１に示すように、下地層１８を有する２層構成の端面封止層１６ａとしてもよい。
すなわち、本発明の積層フィルム１０ａは、下地層１８として有機層を有し、遮蔽層２０としてバリア性樹脂層を有する端面封止層１６ａも好適に利用可能である。

以下、図５Ａ〜図５Ｄの概念図を参照して、本発明の積層フィルムの製造方法の一例を説明する。
なお、以下の製造方法の説明は、図１に示す積層フィルム１０ａを代表例として行うが、他の構成の積層フィルムも、この製造方法に準じて製造できる。

まず、光学機能層１２と、この光学機能層１２の両主面に積層された２つのガスバリア層１４とを有する機能層積層体１１を、多数枚、準備する。
前述のとおり、機能層積層体１１は、一例として、量子ドットとマトリックスとなる樹脂と溶剤とを混合した重合性組成物を調製し、この重合性組成物をガスバリア層１４上に塗布し、次いで、重合性組成物の上にガスバリア層１４を積層して、紫外線の照射等によって重合性組成物を硬化して光学機能層１２を形成させることで、作製できる。

なお、機能層積層体１１は、１枚ずつ作製する、いわゆる枚葉式の方法で作製してもよく、あるいは、長尺なガスバリア層１４を長手方向に搬送しつつ、このガスバリア層１４の上に重合性組成物を塗布し、この重合性組成物の上にガスバリア層１４を積層し、重合性組成物を硬化することで、連続的に機能層積層体１１を作製する、いわゆるロール・ツー・ロール（Roll to Roll）で作製してもよい。以下の説明では、『ロール・ツー・ロール』を『ＲｔｏＲ』とも言う。

このようにして機能層積層体１１を作製したら、複数枚の機能層積層体を積層して、積層物５０を作製する（図５Ａ参照）。
積層物５０における、機能層積層体１１の枚数には特に限定はなく、下地層１８Ａを形成する装置の大きさ、機能層積層体１１の厚さ等に応じて適宜設定すればよいが、５００枚〜４０００枚の程度が好適である。

ここで、機能層積層体１１の切断方法や切断条件の選択、積層物５０の端面すなわち機能層積層体１１の端面の処理の１以上を行うことによって、図５Ａに示すように、積層物５０の機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを０．１〜２μｍにできる。

機能層積層体１１の端面の表面粗さを制御する方法として、例えば、レーザー裁断のように端面に削り痕の出ない方法で積層物５０の端面を切断する方法や、刃物による切断の後、積層物５０の端面を切削処理、研磨処理、溶融処理する方法が例示される。

具体的な一例として、積層物５０の端面をミクロトーム（例えば、大和光機工業社製、リトラトームＲＥＭ−７１０等）で切削し、表面粗さＲａを制御する方法が例示される。より具体的には、ミクロトームの切削刃が積層物５０に当たる角度、すなわち、刃の進行方向と刃面とが為す角度が直交に近いほど平坦性が増す。切削刃が積層物５０に当たる角度は、７０°〜１１０°が好ましく、８０〜１００°がより好ましく、８５°〜９５°の範囲がさらに好ましい。
慣例として、刃の進行方向の直交方向と刃面のなす角度を「刃角」と呼ぶこともある。
加えて、切削による除去部分の幅（切込量）を適切に制御することでも、表面粗さＲａを制御できる。切込量は、１〜２０μｍが好ましく、５〜１５μｍがより好ましい。

こうした切削条件による表面粗さの変化は、切削刃が積層物５０に当たる際に生じる切断面の歪みや捩れに伴う切削面の揺動が原因と推定している。ゆえに、適用する積層体の硬さや脆性・粘性のバランスに応じて適宜条件を定めることが好ましい。

また、研磨処理することにより、表面粗さＲａをさらに低減することもできる。研磨処理には、導光板の鏡面処理に用いる市販のプレナー装置などを用いることができる。

切削の際に発生する切削くずや、研磨処理の際に発生する研磨くずは、後続する端面封止層１６ａスパッタ工程やめっき工程での不具合の原因となるので切削後、なるべくすぐに除くのが好ましい。
切削くずや研磨くずを除去する工程として、エアー噴きつけや洗浄液に漬けた状態での超音波洗浄、粘着シート貼合及び剥離による方法、拭き上げ法などが例示される。

このようにして、積層物５０の端面すなわち機能層積層体１１の端面を所望の表面粗さＲａにしたら、図５Ｂに示すように、積層物５０の端面に、下地層１８となる下地層１８Ａを形成する。下地層１８Ａの形成材料は、前述のように、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が例示される。
また、前述のとおり、下地層１８Ａの形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、無電解メッキ、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法が好適に利用される。

なお、下地層１８Ａを形成する際の、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、無電解メッキ、あるいは、プラズマＣＶＤ法における処理方法、処理条件等には特に限定はなく、形成材料等に応じて、従来公知の処理方法、処理条件で下地層１８Ａを形成すればよい。
また、機能層積層体１１の端面以外の領域、すなわち、下地層１８Ａを形成しない領域には、公知の方法でマスキング処理等を行って、機能層積層体１１の端面にのみ下地層１８Ａを形成すればよい。

次に、図５Ｃに示すように、切断面に下地層１８Ａを形成された積層物５２の下地層１８Ａの上に、遮蔽層２０となる遮蔽層２０Ａを形成する。遮蔽層２０の形成材料は、前述のように、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が例示される。
前述のとおり、遮蔽層２０Ａの形成方法としては、電解メッキが好ましい。

遮蔽層２０Ａを形成する際の電解メッキ処理の処理方法、処理条件等には特に限定はなく、形成材料等に応じて、公知の処理方法、処理条件で遮蔽層２０Ａを形成すればよい。

次に、図５Ｄに示すように、遮蔽層２０Ａを形成した積層物５４を、機能層積層体１１ごとに分離して、端面に端面封止層１６ａが形成された機能層積層体１１、すなわち、積層フィルム１０ａを得ることができる。
積層物５４から積層フィルム１０ａを分離する方法としては、特に限定はないが、遮蔽層２０Ａを形成した積層物５４に、曲げ、捻りなどの、表面と水平方向への外力を加えることにより剪断する方法、機能層積層体１１の界面への、例えば刃物などの鋭利な先端の挿し込む方法等が例示される。
端面封止層１６ａの剥離や欠けやクラックの発生を防止する等の観点から、外力による剪断にて積層フィルム１０ａを分離するのが好ましい。

この製造方法は、機能層積層体１１を複数枚重ねた状態で、機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを調節でき、かつ、端面封止層１６ａの各層を形成する際に、機能層積層体１１を複数枚重ねた状態で、端面封止層１６ａの各層を形成することができるので、複数の積層フィルム１０ａをまとめて作製することができ、生産性を高できる。

以上の例では、一例として、２層構成の端面封止層１６ａを有する積層フィルム１０ａの製造方法を説明したが、端面封止層が３層以上の場合には、下地層１８の形成工程と、遮蔽層２０の形成工程との間に、さらに金属層等の形成工程を実施すればよい。
また、図４に示すような１層構成の端面封止層１６ｃの場合には、同様に、積層物５０の端面にガスバリア性樹脂層のような端面封止層１６ｃを形成して、図５Ｄに示すように、個々の積層フィルム１０ｃを分離すればよい。
さらに、端面封止層が金属層を含む場合には、金属層が錆びるのを抑制するため、サビ止め処理等を行ってもよい。

以上、本発明の積層フィルムについて詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。なお、本発明は以下に記載する実施例に限定されるものではなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。

＜ガスバリア層１４の作製＞
ガスバリア層１４として、図２に示す、ガスバリア支持体３０上に、有機層３４、無機層３６および有機層３８が、この順に形成されたガスバリアフィルムを作製した。
＜＜ガスバリア支持体３０＞＞
ガスバリア支持体３０として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。

＜＜有機層３４の形成＞＞
このガスバリア支持体３０の一方の主面に有機層３４を形成した。
まず、有機層３４を形成するための重合性組成物を以下のとおり調製した。
ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック社製）、および、光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５質量％の重合性組成物を調節した。

この重合性組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、ガスバリア支持体３０の一面に有機層３４を形成した。
まず、ダイコーターを用いて、ＲｔｏＲによりガスバリア支持体３０に塗布した。塗布後のガスバリア支持体３０を５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線を照射することで（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ²）、重合性組成物を硬化して、有機層３４を形成した。
硬化直後のパスロールにて保護フィルムとしてポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、サンエー科研社製、ＰＡＣ２−３０−Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。形成した有機層３４の厚さは１μｍであった。

＜＜無機層３６の形成＞＞
次に、ＲｔｏＲを利用するＣＶＤ装置を用いて、有機層３４の表面に無機層３６（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。
具体的には、ガスバリア支持体３０上に有機層３４が形成され、この有機層３４上に保護フィルムが貼着された積層体を、送出機より送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層３４の上にプラズマＣＶＤによって無機層３６を形成した。
原料ガスは、シランガス(ＳｉＨ₄）、アンモニアガス(ＮＨ₃）、窒素ガス(Ｎ₂）および水素ガス(Ｈ₂）を用いた。ガスの供給量は、シランガスが１６０sccm、アンモニアガスが３７０sccm、窒素ガスが２４０sccm、水素ガスが５９０sccmとした。また、成膜圧力は４０Ｐａとした。プラズマ励起電力は、周波数１３．５６ＭＨｚで２．５ｋＷとした。
形成した無機層３６の膜厚は５０ｎｍであった。

＜＜有機層３８の形成＞＞
次に、形成した無機層３６の表面に、有機層３８を形成した。
まず、有機層３８を形成するための重合性組成物を調製した。具体的には、ウレタン結合含有アクリルポリマー（大成ファインケミカル社製、アクリット８ＢＲ５００、重量平均分子量２５０，０００）と光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）を質量比率として９５：５となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５質量％の重合性組成物を調製した。

この重合性組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、無機層３６の表面に有機層３８を形成した。
まず、調製した重合性組成物を、ダイコーターを用いて無機層３６の表面に塗布し、１００℃の乾燥ゾーンを３分間通過させて、有機層３８を形成した。形成した有機層３４の厚さは１μｍであった。
なお、組成物を乾燥した直後のパスロールにおいて保護フィルムとして有機層３８の表面に先と同じポリエチレンフィルムを貼り付けた後、巻き取った。

以上のようにして、ガスバリア支持体３０上に、有機層３４、無機層３６および有機層３８がこの順に積層されたガスバリア層１４を作製した。
作製したガスバリア層１４の酸素透過度をＡＰＩＭＳ法で測定したところ、温度２５℃、湿度６０％ＲＨにおける酸素透過度は、１×１０^-3cc/(m²・day・atm)であった。

＜機能層積層体１１の作製＞
前述のように作製したガスバリア層１４を、２枚、用意した。
１枚のガスバリア層１４から保護フィルムを剥離した後、ガスバリア層１４の有機層３８の上に光学機能層１２を形成するための重合性組成物を塗布して塗膜を形成した。さらに、もう１枚のガスバリア層１４から保護フィルムを剥離した後、有機層３８を塗膜に向けて、ガスバリア層１４を塗膜に積層した。
このようにして、光学機能層１２を形成するための重合性組成物を２枚のガスバリア層で挟持した積層体を作製した後、窒素雰囲気下でＵＶ照射して塗膜を硬化させて光学機能層１２を形成した。これにより、光学機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した積層体を作製した。
なお、光学機能層１２を形成するための重合性組成物の組成は、以下のとおりである。

＜＜重合性組成物の組成＞＞
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ） １０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ） １質量部
・ラウリルアクリレート ２．４質量部
・１，９−ノナンジオールジアクリレート ０．５４質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア８１９） ０．００３質量部
量子ドット１、２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
・・量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
・・量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
光学機能層形成用重合性組成物の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。

＜＜シート加工＞＞
光学機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した積層体を、刃先角度１７°のトムソン刃を使用してシート状に打ち抜き、Ａ４サイズの機能層積層体１１を得た。

［実施例１］
このような機能層積層体１１を用い、以下のようにして、図３に示すような、３層構成の端面封止層１６ｂを有する積層フィルム１０ｂを作製した。

＜端面の表面粗さＲａの調節＞
作製した機能層積層体１１を１０００枚重ねて積層物とした後、ミクロトーム（大和光機工業社製、リトラトームＲＥＭ−７１０）を用いて、刃角０°、切込量１０μｍの条件で積層物の４つの端面すなわち機能層積層体１１の４つの端面を切削して、端面の表面粗さＲａを調節した（図５Ａ参照）。
積層物の端面すなわち機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを、光干渉方式での非接触表面形状計測装置（菱化システム社製、Vertscan2.0）によって測定した。
その結果、積層物の端面の表面粗さＲａは０．６μｍであった。

＜端面封止層１６ｂの形成＞
＜＜第１下地層の形成＞＞
一般的なスパッタリング装置を用いて、端面を処理した積層物の端面に、チタン製の第１下地層を形成した（図５Ｂ参照）。ターゲットとしてチタン、放電ガスとしてアルゴンを用いた。成膜圧力は０．５Ｐａ、成膜出力は４００Ｗとした。
成膜した膜厚は１０ｎｍであった。

＜＜第２下地層１８ｂの形成＞＞
続いて、ターゲットをチタンから銅へ変更した以外は、第１下地層の形成と同様にして、第１下地層の上に膜厚７５ｎｍの第２下地層を形成した。

＜＜遮蔽層２０の形成＞＞
さらに、以下のようにして、第２下地層の上に遮蔽層を形成した。
まず、第１下地層および第２下地層を形成した積層物を純水で水洗し、市販の界面活性剤を満たした浴槽に２０秒浸漬して脱脂した。次いで、水洗したのちに、５％硫酸水溶液中に５秒間浸漬し酸活性処理を行い、再び水洗した。
水洗した積層物をひっかけジグに固定し、テスターにて導通確認した後、５％硝酸水溶液中に１０秒間浸漬し酸活性処理を行い、硫酸銅浴にて電流密度３．０Ａ／ｄｍ²で５分の条件で電解めっき処理を行い、第２層上に金属メッキ層である最表層を形成した。その後、水洗、サビ留め処理を経て、エアーで余分な水分を除去し、端面に３層の金属層が形成された積層物を得た。

＜＜分離工程＞＞
次に、端面に３層の金属層が形成された積層物を、機能層積層体１１の表面と水平方向への外力による剪断により、個々の機能層積層体１１毎に分離して、機能層積層体１１の端面に、チタンからなる第１下地層１８ａ、銅からなる第２下地層１８ｂおよび銅からなる遮蔽層２０の３層構成の端面封止層１６ｂを有する積層フィルム１０ｂを得た。
積層フィルム１０ｂを任意に１０枚選択して、各積層フィルム１０ｂを任意の切断線で切断して、ミクロトーム切削を行って切断面を整えた上で、光学顕微鏡を用いて切断面に露出した端面封止層１６ｂの厚さを測定した。その結果、いずれの測定点も、端面封止層１６ｂの厚さは３μｍであった。

［実施例２および実施例３］
遮蔽層２０を形成するための電解メッキ処理の時間を変更した以外は、実施例１と同様に積層フィルム１０ｂを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、５μｍ（実施例２）および１μｍ（実施例３）であった。

［実施例４］
機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を、大和光機工業社製のリトラトームＲＥＭ−７１０に変えて、メガロテクニカ社製の端面処理装置ＭＣＰＬ−３００を用いて行った以外は、実施例１と同様に積層フィルム１０ｂを作製した。
実施例１と同様に積層物すなわち機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを測定したところ、端面の表面粗さＲａは０．１μｍであった。
［実施例５および実施例６］
遮蔽層２０を形成するための電解メッキ処理の時間を変更した以外は、実施例４と同様に積層フィルム１０ｂを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、５μｍ（実施例５）および１μｍ（実施例６）であった。

［実施例７］
機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節の条件を、刃角０°、切込量１０μｍから、刃角０°、切込量２０μｍに変更した以外は、実施例１と同様に積層フィルム１０ｂを作製した。
実施例１と同様に積層物すなわち機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを測定したところ、端面の表面粗さＲａは１．７μｍであった。
［実施例８および実施例９］
遮蔽層２０を形成するための電解メッキ処理の時間を変更した以外は、実施例７と同様に積層フィルム１０ｂを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、５μｍ（実施例８）および１μｍ（実施例９）であった。

［実施例１０］
端面封止層を、チタン製の第１下地層１８ａ、銅製の第２下地層、および、銅製の遮蔽層２０を有する３層構成の端面封止層１６ｂに変えて、有機層からなる下地層１８と、無機層からなる遮蔽層２０とを有する２層構成の端面封止層１６ａとした以外は、実施例１と同様にして、図１に示すような積層フィルム１０ａを作製した。
下地層１８および遮蔽層２０の形成は、以下のとおりである。

＜下地層１８（有機層）の形成＞
固形分が以下の組成を有する組成物を調製した。なお、組成は、固形分全体を１００質量部とした際の質量部である。
・２液硬化型エポキシ化合物の主剤（重合性化合物、親水度ｌｏｇＰ＝３．８、ヘンケルジャパン社製、ロックタイトＥ−３０ＣＬの主剤） ６６．７質量部
・２液硬化型エポキシ化合物の硬化剤（ヘンケル・ジャパン社製、ロックタイトＥ−３０ＣＬの硬化剤） ３３．３質量部
この組成物を、積層物の端面に全面に塗布し、８０℃で１０分乾燥、硬化して、下地層１８を形成した。
下地層１８の厚さは０．９５μｍであった。

＜遮蔽層２０（無機層）の形成＞
バッチ式のプラズマＣＶＤ装置を用いて、下地層１８の上に遮蔽層２０として無機層（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。
無機層の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源は、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。製膜圧力は４０Ｐａとした。
形成した遮蔽層２０の厚さは５０ｎｍであった。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、端面封止層１６ａの厚さは１μｍであった。

［実施例１１および実施例１２］
下地層１８を形成するための塗膜の膜厚を変更した以外は、実施例１０と同様に積層フィルム１０ａを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、２μｍ（実施例１１）および５μｍ（実施例１２）であった。

［実施例１３］
機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を、実施例４と同様に行った以外は、実施例１０と同様に積層フィルム１０ａを作製した。
［実施例１４および実施例１５］
下地層１８を形成するための塗膜の膜厚を変更した以外は、実施例１３と同様に積層フィルム１０ａを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、２μｍ（実施例１４）および５μｍ（実施例１５）であった。

［実施例１６］
機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を、実施例７と同様に行った以外は、実施例１０と同様に積層フィルム１０ａを作製した。
［実施例１７および実施例１８］
下地層１８を形成するための塗膜の膜厚を変更した以外は、実施例１６と同様に積層フィルム１０ａを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、２μｍ（実施例１７）および５μｍ（実施例１８）であった。

［比較例１および比較例２］
遮蔽層２０を形成するための電解メッキ処理の時間を変更した以外は、実施例１と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、０．２μｍ（比較例１）および１０μｍ（比較例２）であった。
［比較例３および比較例４］
遮蔽層２０を形成するための電解メッキ処理の時間を変更した以外は、実施例４と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、０．２μｍ（比較例３）および１０μｍ（比較例４）であった。
［比較例５および比較例６］
遮蔽層２０を形成するための電解メッキ処理の時間を変更した以外は、実施例７と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に端面封止層１６ｂの厚さを測定したところ、０．２μｍ（比較例５）および１０μｍ（比較例６）であった。

［比較例７］
光学機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した積層体をＡ４サイズに切断するシート加工において、トムソン刃による打ち抜きに変えて、レーザ切断を用い、かつ、機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、実施例１と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に積層物すなわち機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを測定したところ、端面の表面粗さＲａは０．０５μｍであった。
［比較例８］
光学機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した積層体をＡ４サイズに切断するシート加工において、トムソン刃による打ち抜きに変えて、カッティングプロッター（グラフテック社製、ＦＣ−４２００）を用い、かつ、機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、実施例１と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に積層物すなわち機能層積層体１１の端面の表面粗さＲａを測定したところ、端面の表面粗さＲａは１０μｍを超えていた。

［比較例９］
端面封止層を、実施例１０における下地層（有機層）の形成と同様に形成した有機層のみとした以外は、実施例４と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に端面封止層の厚さを測定したところ、２０μｍであった。
［比較例１０］
機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を実施例１と同様に行った以外は、比較例９と同様に積層フィルムを作製した。
［比較例１１］
シート加工を比較例８と同様に行い、かつ、機能層積層体１１の作製において積層物の端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、比較例９と同様に積層フィルムを作製した。

［比較例１２］
端面封止層を、実施例１０における遮蔽層２０（無機層（窒化ケイ素層））の形成と同様に形成した無機層のみとした以外は、実施例４と同様に積層フィルムを作製した。
［比較例１３］
機能層積層体１１の作製において、端面の表面粗さＲａの調節を実施例１と同様に行った以外は、比較例１２と同様に積層フィルムを作製した。
［比較例１４］
シート加工を比較例８と同様に行い、かつ、機能層積層体１１の作製において端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、比較例１２と同様に積層フィルムを作製した。

［比較例１５］
シート加工を比較例８と同様に行い、かつ、機能層積層体１１の作製において端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、実施例１０と同様に積層フィルムを作製した。
［比較例１６］
シート加工を比較例８と同様に行い、かつ、機能層積層体１１の作製において端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、実施例１１と同様に積層フィルムを作製した。
［比較例１７］
シート加工を比較例８と同様に行い、かつ、機能層積層体１１の作製において端面の表面粗さＲａの調節を行わなかった以外は、実施例１２と同様に積層フィルムを作製した。

［参考例］
端面封止層を実施例１０における下地層（有機層）の形成と同様に形成した有機層のみとした以外は、実施例１と同様に積層フィルムを作製した。
実施例１と同様に端面封止層の厚さを測定したところ、６０μｍであった。

［評価］
このようにして作製した積層フィルムについて、端面封止性能、および、端面封止層の密着性を評価した。
＜端面封止性能の評価＞
積層フィルムの初期輝度（Ｙ０）を以下の手順で測定した。
市販のタブレット端末(Amazon社製、Kindle（登録商標） Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に積層フィルムを置き、その上に、向きが直交した２枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、積層フィルムおよび２枚のプリズムシートを透過した光の輝度を、導光板の面に対して垂直方向７４０ｍｍの位置に設置した輝度計（ＴＯＰＣＯＮ社製、ＳＲ３）にて測定し、積層フィルムの輝度とした。
次に、６０℃相対湿度９０％に保たれた恒温槽に積層フィルムを投入し、１０００時間保管した。１０００時間後、積層フィルムを取り出し、上記と同様の手順で、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）を測定した。
下記式のように、初期の輝度値（Ｙ０）に対する、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）の変化率（ΔＹ）を算出し、輝度変化の指標として、以下の基準で評価した。
ΔＹ［％］＝（Ｙ０−Ｙ１）／Ｙ０×１００
評価結果が、Ｃ以上であれば、高温高湿試験後も端部の発光効率が良好に維持されていると判断することができる。
Ａ： ΔＹ≦５％
Ｂ： ５％＜ΔＹ＜１０％
Ｃ： １０％≦ΔＹ＜１５％
Ｄ： １５％≦ΔＹ

＜密着性の評価（擦り試験）＞
分離工程前の１０００枚の機能層積層体１１の積層物の端部封止層上面を、底面２０ｍｍ×２０ｍｍ×高さ１０ｍｍに切り取った消しゴム（トンボ鉛筆社製、ＭＯＮＯ）を介して擦り試験機のヘッドに固定し、１００ｇ／ｃｍ²の荷重で垂直に上方から押し付けた。
温度２５℃、相対湿度６０ＲＨ％の条件下において、ストローク長３．５ｃｍ、擦り速度１．８ｃｍ／ｓにて２００往復させた。擦り方向は、機能層積層体の主面と並行な方向に行なった。擦り試験終了後に、擦った領域全体の端部封止層の破損の程度を顕微鏡で観察した。密着性の程度は、擦りによる傷の大きさ、および、頻度から、下記の６段階で評価した。評価ＡおよびＢであれば、十分な密着性を有すると言える。
Ａ： 非常に注意深く見ても、端部封止層に損傷も剥離も確認できない
Ｂ： 非常に注意深く見ると僅かに端部封止層の表面に損傷が確認でき、かつ、損傷が確認できる箇所が擦り領域中５個以内
Ｃ： 端部封止層表面に明らかな損傷がある、および、非常に注意深く見ると僅かに端部封止層の表面に損傷が確認でき、かつ損傷が確認できる箇所が擦り領域中 ６個以上の、少なくとも一方を満たす
Ｄ： 端部封止層が剥離し、機能層積層体の端面が露出している部位がある
Ｅ： 擦った領域全体で機能層積層体の端面が露出している
結果を、下記の表に示す、

なお、上記表において、『※１』は、擦り試験を行う前の状態において、顕微鏡観察で機能層積層体の端面の露出が確認できたので、密着性の評価を実施しなかった。
また、『※２』は、窒化ケイ素層の有無が目視できないため、密着性の評価を実施しなかった。

上記表１に示されるように、本発明の積層フィルムは、比較例の積層フィルムに対して端面封止層が極めて狭い範囲でありながら、充分に酸素・水が遮断されて量子ドットの劣化を抑えつつ、過酷な取扱い条件下でも端面封止層が損傷・脱離しない端部封止構造を実現することができる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

ＬＣＤなどの各種の光学的な用途に好適に利用可能である。

１０ａ，１０ｂ，１０ｃ 積層フィルム
１１ 機能層積層体
１２ 光学機能層
１４ ガスバリア層（ガスバリアフィルム）
１６ａ，１６ｂ，１６ｃ 端面封止層
１８ 下地層
１８ａ，１８Ａ 第１下地層
１８ｂ 第２下地層
２０，２０Ａ 遮蔽層
３０ ガスバリア支持体
３２ バリア層
３４，３８ 有機層
３６ 無機層
５０ 積層物
５２ 下地層を形成した積層物
５４ 遮蔽層を形成した積層物

Claims (7)

1. 光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
   前記機能層積層体の端面の少なくとも一部を覆って形成される、複数層を積層した積層構造を有し、かつ、複数の金属層を有する、端面封止層、を有し、
   かつ、前記機能層積層体の端面の、前記端面封止層の形成領域における表面粗さＲａが０．１〜２μｍであり、前記端面封止層の厚さが１〜５μｍであることを特徴とする積層フィルム。
2. 前記端面封止層が、前記機能層積層体の端面の全面を覆って形成される請求項１に記載の積層フィルム。
3. 前記端面封止層が、樹脂層、金属層、金属酸化物層、金属窒化物層、金属炭化物層および金属炭窒化物層からなる群より選択される少なくとも１層を有する請求項１または２に記載の積層フィルム。
4. 前記端面封止層が、金属メッキ層と、前記金属メッキ層と前記機能層積層体の端面との間に設けられる金属層とを有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層フィルム。
5. 前記金属メッキ層と機能層積層体の端面との間に設けられる金属層を、複数層有する請求項４に記載の積層フィルム。
6. 光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
   前記機能層積層体の端面の少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
   かつ、前記機能層積層体の端面の、前記端面封止層の形成領域における表面粗さＲａが０．１〜２μｍであり、前記端面封止層の厚さが１〜５μｍであり、
   さらに、前記端面封止層が、複数層を積層した積層構造を有し、かつ、金属酸化物層、金属窒化物層、金属炭化物層および金属炭窒化物層からなる群より選択される少なくとも１層の無機化合物層と、前記無機化合物層と前記機能層積層体の端面との間に設けられる樹脂層とを有することを特徴とする積層フィルム。
7. 前記端面封止層が、前記機能層積層体の端面の全面を覆って形成される請求項６に記載の積層フィルム。