JP6475842B2 - 機能性フィルムの製造方法及び製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、機能性フィルムの製造方法及び製造装置に係り、特に酸素により性能劣化する素材を含み、且つ有機溶媒を実質的に含まない塗布液で機能性フィルムを製造する技術に関する。

光学特性等の機能性を有する素材を含む塗布液を可撓性支持体に塗布して塗膜フィルムを形成することにより、特殊な機能を有する機能性フィルムを製造することが行われている。

しかし、機能性を有する素材の中には酸素により機能性を劣化させてしまう素材があり、機能性フィルムを製造する上での問題点となっている。

酸素により性能劣化する素材としては例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）（以下、ＬＣＤともいう）などのフラットパネルディスプレイの発光材料として使用される量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ粒子、量子点とも呼ばれる。）がある。

フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ粒子、量子点とも呼ばれる。）が注目を集めている。例えば、バックライトから量子ドットを含む波長変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にしたりすることが可能である。

このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、ＴＶ（ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）規格（ＦＨＤ、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ））比７２％から１００％へと拡大している。

しかしながら、量子ドットは、酸素や水蒸気により量子収率の劣化が起こるため、その対策として、可撓性支持体に塗布形成された塗膜（量子ドット含有層）にガスバリア性のフィルムを貼合して酸素や水蒸気から保護することが行われている。

特許文献１には、量子ドットを酸素や水蒸気から保護するために、量子ドット含有層の両面を酸素バリア性や水蒸気バリア性の高いガスバリアフィルムで挟み込んで積層して積層フィルムにすることが提案されている。

特表２０１３−５４４０１８号公報

しかしながら、量子ドット含有層の両面を酸素バリア性や水蒸気バリア性の高いガスバリアフィルムで挟み込んで積層しても製造過程での酸素に対する保護が十分でないと、製造された機能性フィルムに酸素による性能劣化が見られるという問題があることが分かった。

そして、この問題は、量子ドットに限らず酸素により性能劣化する素材を含む塗布液を用いた機能性フィルムの製造において共通の問題である。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造できる機能性フィルムの製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。

上述の目的を達成するために、本発明に係る機能性フィルムの製造方法は、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下で且つ有機溶媒が１００００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップローラを有するダイコータに供給して、バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に塗布して塗膜フィルムを形成する塗布工程と、バックアップローラ上で塗膜フィルムの塗膜面の側とフィルムとを貼合する貼合工程と、を有し、バックアップローラ上の塗布開始位置から貼合開始位置までの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にする。

本発明の機能性フィルムの製造方法によれば、塗布工程において、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下で且つ有機溶媒が１００００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップローラを有するダイコータに供給して、バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に塗布して塗膜フィルムを形成する。

即ち、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の低溶存酸素濃度の塗布液を、マニホールドとスリットとで構成され、エクストルージョン塗布方式のダイコータに供給してバックアップローラに巻き掛けされて搬送される可撓性支持体に塗布するようにした。これにより、グラビアコータやロールコータ等の他の塗布装置に比べて塗布液と外気（外気中の酸素）との接触機会を効果的に小さくできる。

なお、ダイコータに供給する前の塗布液の溶存酸素濃度としては、５００ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１００ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。

また、有機溶媒が１００００ｐｐｍ以下であり、塗布により形成された塗膜フィルムを乾燥する乾燥工程を必要としないので、乾燥工程での塗膜と外気との接触をなくすことができる。

貼合工程では、バックアップローラ上で塗膜フィルムの塗膜面の側とフィルムとを貼合する。そして、バックアップローラ上の塗布開始位置から貼合開始位置までの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にする。

即ち、塗布工程を行うバックアップローラ上で貼合工程を行うので、塗布開始位置から貼合開始位置までの塗膜フィルムの搬送距離を短くできる。また、塗膜フィルムの可撓性支持体側の面はバックアップローラに支持されており、外気に接触しないので、塗膜面側のみに不活性ガス雰囲気を形成すればよい。

上述の構成により、塗布開始位置から貼合開始位置までの塗膜面を含む空間の体積を極力小さくすることができるので、少ない不活性ガス量で空間内を効率的且つ効果的に不活性ガス雰囲気にすることができるとともに、空間内における不活性ガスの濃度分布を小さくできる。

したがって、本発明の機能性フィルムの製造方法によれば、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造できる。

本発明の機能性フィルムの製造方法において、不活性ガス雰囲気の形成は、空間を覆うカバー部材内に不活性ガスを供給する方法が好ましい。

上記したように、塗布開始位置から貼合開始位置までの塗膜面を含む空間の体積を極力小さくすることができるので、空間を覆うカバー部材も小さくすることができる。したがって、カバー部材内に不活性ガスを供給すれば、少ない不活性ガス量で空間内を効率的且つ効果的に不活性ガス雰囲気にすることができるとともに、空間内における不活性ガスの濃度分布を小さくできる。

本発明の機能性フィルムの製造方法において、不活性ガス雰囲気の形成は、可撓性支持体の搬送方向から見てダイコータ下流側に隣接して、バックアップローラ面に対面する先端面を有し、且つ先端面から不活性ガスを塗膜面幅方向に吐出するスリットを備えたダイブロックを配置し、ダイブロックから塗膜面に向けて不活性ガスを吐出する方法が好ましい。

本発明によれば、可撓性支持体の搬送方向から見てダイコータ下流側に隣接して、バックアップローラ面に対面する先端面を有し、且つ先端面から不活性ガスを塗膜面幅方向に吐出するスリットを備えたダイブロックを配置することで、ダイブロックの先端面と塗膜面との間に塗膜フィルムの搬送方向に沿った薄層な空間が形成される。したがって、ダイブロックから塗膜面に向けて不活性ガスを吐出することにより、吐出された不活性ガスは薄層な空間を塗膜フィルムの搬送に同伴されて塗布開始位置から貼合開始位置に流れ、塗膜面上に不活性ガス層を形成する。

上述の構成により、ダイブロック方式は、カバー部材方式よりも更に少ない不活性ガス量で空間内を効率的且つ効果的に不活性ガス雰囲気にすることができるとともに、空間内における不活性ガスの濃度分布を小さくできる。例えば、ダイブロック方式は、少量（例えば、５０Ｌ／ｍｉｎ／ｍ程度）の不活性ガス量で空間内の酸素濃度１００ｐｐｍ以下にすることができ、且つ吐出された不活性ガスが塗膜面に不活性ガス層を形成するので、塗膜面上に酸素濃度分布が一層発生しにくい効果を奏する。

なお、カバー部材方式とダイブロック方式との両方を実施すれば一層よい。

本発明の機能性フィルムの製造方法において、ダイブロックは、スリットの間隙が０．１〜２．０ｍｍであり、且つスリットから２０〜５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの吐出量で不活性ガスを吐出することが好ましい。

ここで、吐出量の単位の「ｍ」は、可撓性支持体の幅１ｍ当たりを意味する。

これにより、ダイブロックから吐出される不活性ガスによって塗膜面を流動あるいは波立てて乱すことなく不活性ガス雰囲気を形成することができるので、機能性フィルムの性能に関係する塗膜厚みの均一性が良くなる。

本発明の機能性フィルムの製造方法において、貼合工程の後のバックアップローラ上で、塗膜面に活性線を照射して塗膜面を硬化する硬化工程を行う。

このように、塗布工程や貼合工程を行ったバックアップローラ上で硬化工程を行うことにより、塗膜フィルムはバックアップローラに支持された弛みのない状態を維持したままで塗膜面に活性線が照射される。これにより、製造される機能性フィルムの皺発生を防止でき、機能性フィルムの性能を一層向上できる。

上述の目的を達成するために、本発明に係る機能性フィルムの製造装置は、バックアップローラとダイコータとを有し、バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に塗布液を塗布して塗膜フィルムを形成する塗布装置と、バックアップローラ上で塗膜フィルムの塗膜面の側とフィルムとを貼合する貼合装置と、バックアップローラ上の塗布開始位置から貼合開始位置までの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にする不活性ガス雰囲気形成装置と、を備えた。

本発明に係る機能性フィルムの製造装置によれば、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造できる。

また、本発明に係る機能性フィルムの製造装置おいて、不活性ガス雰囲気形成装置は、空間を覆うカバー部材と、カバー部材の内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、を有することが好ましい。

また、不活性ガス雰囲気形成装置は、可撓性支持体の搬送方向から見てダイコータの下流側に隣接位置され、バックアップローラ面に対面する先端面を有し、且つ先端面から不活性ガスを塗膜面幅方向に吐出するスリットを備えたダイブロックであることが好ましい。

また、ダイブロックは、スリットの間隙が０．１〜２．０ｍｍであり、且つスリットから２０〜５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの吐出量で不活性ガスを吐出することが好ましい。

また、バックアップローラ上の貼合装置の下流位置に、塗膜面に活性線を照射して塗膜面を硬化する硬化手段を配置することが好ましい。

本発明に係る機能性フィルムの製造装置及び好ましい態様は、上記した本発明の機能性フィルムの製造方法及び好ましい態様を装置構成とした発明であり、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造できる。

本発明によれば、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造できる機能性フィルムの製造方法及び製造装置を提供できる。

図１は、本発明の機能性フィルムの製造装置の全体構成図である。 図２は、ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置を用いた機能性フィルムの製造装置の要部を示す斜視図である。 図３は、ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置の作用を説明する説明図である。 図４は、カバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置の説明図である。 図５は、貼合部分の拡大図である。 図６は、実施例Ａの表図である。 図７は、実施例Ｂの表図である。 図８Ａは、実施例Ｂにおいてスリットノズルの形状を示す図である。 図８Ｂは、実施例Ｂにおいてスリットノズルの配置位置を示す図である。 図９Ａは、実施例Ｂにおいて穴あきノズルの形状を示す図である。 図９Ｂは、実施例Ｂにおいて穴あきノズルの配置位置を示す図である。

以下、添付図面に従って、本発明に係る機能性フィルムの製造方法及び製造装置の詳細について説明する。

本発明は、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液で機能性フィルムを製造する技術であり、酸素により性能劣化する素材として、量子ドットを含む塗布液で波長変換部材としての光学機能層を有する機能性フィルムを製造する例で以下に説明する。

しかし、本発明は、量子ドットに限らず酸素により性能劣化する素材を含む塗布液を用いた機能性フィルム製造の全てに適用できる。

なお、本明細書において、「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

[機能性フィルムの製造装置]
図１〜図３に示すように、機能性フィルムの製造装置１０は、主として、量子ドットを含有する機能層形成用塗布液(以下「塗布液」という)の塗布液中の溶存酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に低減する溶存酸素低減装置１２と、塗布液を塗布する塗布装置１４と、塗布により形成された塗膜ＣにフィルムＦを貼合する貼合装置１６と、塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にする不活性ガス雰囲気形成装置１８と、塗膜を硬化する硬化装置２０とで構成される。

なお、本実施の形態では、不活性ガスとして窒素ガス（Ｎ_２ガス）の例で以下に説明する。また、量子ドットを含有する塗布液の組成内容の詳細については、機能性フィルムの製造方法の欄で説明する。

また、以下の説明では、可撓性支持体Ｗに塗布液を塗布して得られたフィルムを塗膜フィルムＣＦ、塗膜フィルムＣＦにフィルムＦを貼合して得られたフィルムを積層フィルムＬＦ、積層フィルムＬＦの塗膜Ｃに硬化処理を行って光学機能層を得たフィルムを機能性フィルムＦＦと言うことにする。

（溶存酸素低減装置）
溶存酸素低減装置１２は、塗布液中の溶存酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に低減できればどのような装置構成でもよいが、例えば図１に示す装置構成のものを好適に用いることができる。

図１に示すように、溶存酸素低減装置１２は、主として、窒素ガス置換手段２２と、溶存酸素が低減された塗布液を塗布装置１４に供給する塗布液供給手段２４と、で構成される。

窒素ガス置換手段２２は、塗布液を貯留する密閉形状のタンク２６と、タンク２６内に塗布液を供給する塗布液配管２８と、タンク２６内に窒素ガスを供給する窒素ガス配管３０と、塗布液を撹拌して塗布液中に窒素ガスを取り込むことにより、塗布液中の溶存酸素を低減する撹拌機３２と、で構成される。タンク２６にはエアベント管３４が設けられ、塗布液配管２８及び窒素ガス配管３０には開閉バルブ２８Ａ及び３０Ａがそれぞれ設けられる。また、タンク２６のヘッドスペース部分に減圧用配管３３が設けられ、図示しない真空装置に連結される。これにより、タンク２６内を減圧し、塗布液中の溶存酸素を脱気するとともに、塗布液中に有機溶媒を含有している場合には有機溶媒を蒸発させる。

塗布液供給手段２４は、タンク２６内の塗布液を塗布装置１４のダイコータ３６に送液する送液配管３８及び送液ポンプ４０と、送液配管３８内に窒素ガスを吹き込んで送液配管３８内及びダイコータ３６内部（マニホールド、スリット）の空気を窒素ガスに置換する窒素ガス吹き込み管４２と、で構成される。

なお、図１には示さなかったが、窒素ガス置換手段２２を複数並列配置し、塗布液供給手段２４との間で窒素ガス置換手段２２を切り替えて使用できる構成を採用することで、連続塗布を行うことが可能となる。

(塗布装置)
図１に示すように、塗布装置１４は、主として、バックアップローラ４４とダイコータ３６と減圧チャンバ４６とで構成される。

ダイコータ３６は、塗布幅方向に長尺なブロックで形成され、塗布幅方向に対して直交する胴体部３６Ａの断面が四角状に形成された部分と、先端リップ部３６Ｂの断面が三角状に形成された部分とを有する。ダイコータ３６の内部には、ダイコータ３６に供給された塗布液を塗布幅方向に拡流するマニホールド４８と、拡流された塗布液を先端リップ部３６Ｂ先端の吐出口５０Ａから吐出する狭隘なスリット５０（スロットともいう）とが形成される。

スリット５０の吐出口５０Ａが形成される先端リップ部３６Ｂの先端面には、ランド３６Ｅと呼ばれる平坦部が形成され、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗの搬送方向から見て、スリット上流側のランド３６Ｅを上流側リップランド３６Ｃ、下流側のランドを下流側リップランド３６Ｄと称する（図３参照）。

また、ダイコータ３６の先端リップ部３６Ｂの下方（可撓性支持体Ｗの搬送方向から見てダイコータの上流側）には、バックアップローラ４４に対向して減圧チャンバ４６が配置される。

減圧チャンバ４６は、一対のサイドプレート４６Ａ及び４６Ａ、一対のバックプレート４６Ｂ及び４６Ｂ、ボトムプレート４６Ｃにより、バックアップローラ４４のローラ面に沿った開口４６Ｄを有する箱体として形成される。そして、サイドプレート４６Ａの上端とバックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗとの間、及びバックプレート４６Ｂの上端と可撓性支持体Ｗとの間には、互いに接触しない程度の隙間が形成される。

減圧チャンバ４６内は、配管５２を介して図示しないブロアに接続されており、ブロアを稼働することにより減圧チャンバ４６内が減圧される。減圧チャンバ４６の減圧度としては、例えば大気圧に対して１０Ｐａ〜２０００Ｐａに設定することができる。

上述の構成により、ダイコータ３６のスリット５０から吐出された塗布液は、ランド３６Ｅと、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗとの間に塗布液のビードを形成し、ビードを介して塗布液が可撓性支持体Ｗに塗布される。また、減圧チャンバ４６を設けることにより、ビードが安定した状態で形成され、塗布液が可撓性支持体Ｗに精度良く塗布される。これにより、量子ドットを含有する塗布液の塗膜Ｃが形成された塗膜フィルムＣＦが形成される。

このように、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の低溶存酸素濃度の塗布液を、マニホールド４８とスリット５０とで構成され、外気と接触しにくいエクストルージョン塗布方式のダイコータ３６に供給してバックアップローラ４４に巻き掛けされて搬送される可撓性支持体Ｗに塗布することにより、グラビアコータやロールコータ等の他の塗布装置に比べて塗布液と外気（外気中の酸素）との接触機会を小さくできる。

（貼合装置）
図１に示すように、貼合装置１６は、バックアップローラ４４上で塗膜フィルムＣＦの塗膜面の側にフィルムＦを貼合する装置であり、塗布装置１４と兼用するバックアップローラ４４と、バックアップローラ４４の回転方向から見て塗布装置１４の下流側にバックアップローラ４４に対向配置された貼合ローラ５４と、で構成される。これにより、貼合ローラ５４とバックアップローラ４４とでニップロールを構成する。

そして、貼合ローラ５４とバックアップローラ４４とでニップ操作を行うことにより、塗膜フィルムＣＦの塗膜面にフィルムＦを貼り合わせていく。これにより、塗膜Ｃを可撓性支持体ＷとフィルムＦで挟持した積層フィルムＬＦが形成される。

貼合ローラ５４とバックアップローラ４４とによるニップ圧は、線圧０〜３００Ｎ／ｃｍの間でニップして塗膜Ｃの上にフィルムＦを貼り合わせていくことが好ましく、線圧０〜２００Ｎ／ｃｍの間でニップすることがより好ましく、線圧０〜１００Ｎ／ｃｍの間でニップすることが特に好ましい。そして、線圧０〜３００Ｎ／ｃｍの中でも、線圧０Ｎ／ｃｍのゼロテンション貼合が最も好ましい。

貼合ローラ５４とバックアップローラ４４との距離は、可撓性支持体Ｗと、塗膜Ｃを重合硬化させた光学機能層と、フィルムＦと、の合計厚みの長さ以上で、合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下であることが好ましい。貼合ローラ５４とバックアップローラ４４との距離を合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下にすることにより、フィルムＦと塗膜Ｃとの間に泡が侵入することを抑制することができる。ここで貼合ローラ５４とバックアップローラ４４との距離とは、貼合ローラ５４の外周面とバックアップローラ４４の外周面との最短距離をいう。

また、可撓性支持体ＷとフィルムＦとで塗膜Ｃを挟持した後の熱変形を抑制するため、バックアップローラ４４の温度と可撓性支持体Ｗの温度との差、及びバックアップローラ４４の温度とフィルムＦの温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。

可撓性支持体Ｗを温度調整されたバックアップローラ４４に巻き掛けられることにより、可撓性支持体Ｗを加熱してもよい。一方、フィルムについては、貼合ローラ５４をヒートローラ（加熱ローラ）とすることにより、フィルムＦを加熱することができる。ただし、バックアップローラ４４の温度調整や貼合ローラ５４のヒートローラは必須ではなく、必要に応じて設けることができる。

このように、可撓性支持体Ｗに塗布形成された塗膜ＣをフィルムＦで貼合することにより、塗膜Ｃが外気に接触する接触機会がなくなり、量子ドットの性能劣化を防止することができる。

（不活性ガス雰囲気形成装置）
不活性ガス雰囲気形成装置１８は、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｘを窒素ガス（不活性ガス）雰囲気にすることができる装置であればどのような装置でもよいが、図１〜図３に示すダイブロック方式と、図４に示すカバー部材方式とを好適に採用することができる。

ここで、塗布開始位置Ｐとは、ダイコータ３６のスリット５０から塗布液が吐出されて可撓性支持体Ｗに塗り付けられる塗り付け開始位置をいう。また、貼合開始位置Ｑとは、貼合ローラ５４とバックアップローラ４４とが塗膜Ｃを挟んで可撓性支持体ＷとフィルムＦをニップするニップ位置をいう。

塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間の酸素濃度は１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、５０ｐｐｍ以下が更に好ましい。

〈ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置〉
図１〜図３に示すように、ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ａは、可撓性支持体Ｗの搬送方向から見てダイコータ３６の下流側に隣接位置され、バックアップローラ４４のローラ面に対面する先端面５８Ａを有し、且つ先端面から窒素ガスを塗膜面幅方向に吐出するダイブロック５８で構成される。

ダイブロック５８は、バックアップローラ４４のローラ面に対向する円弧状の先端面５８Ａを有し、ダイコータ３６の塗布幅方向に長い略直方体形状のブロックとして形成される。ダイブロック５８には、窒素ガスを塗膜面幅方向に吐出するためのマニホールド６０とスリット６２が形成される。

これにより、ダイブロック５８の先端面５８Ａと塗膜面との間に塗膜フィルムＣＦの搬送方向に沿った薄層空間Ｘ１(図３参照)が形成される。この場合、ダイブロック５８と貼合ローラ５４とは、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦに接触しない程度で接近させることが好ましい。これにより、図３に示すように、ダイブロック５８と貼合ローラ５４とバックアップローラ４４に巻き掛けられた塗膜フィルムＣＦとの間に、断面が三角形状の三角空間Ｘ２(図３参照)が形成される。

即ち、塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでに、ダイブロック５８の先端面５８Ａと塗膜Ｃとの間の薄層空間Ｘ１と、薄層空間Ｘ１に連通して形成された三角空間Ｘ２とからなり、塗膜面を含む空間Ｘ（Ｘ１+Ｘ２）が形成される。

また、本実施の形態では、ダイブロック５８のマニホールド６０とスリット６２とが次のように形成されている。即ち、ダイブロック５８のダイコータ３６側の面に、マニホールド６０となる溝とスリット６２となる溝とを穿設する。そして、溝が形成されたダイブロック５８の面と、ダイコータ３６の三角状に形成された先端リップ部３６Ｂの下流側傾斜面３６Ｅとを当接させた状態で当接面を接合する。

このように、ダイブロック５８のマニホールド６０とスリット６２とを形成することにより、ダイコータ３６のスリット吐出口５０Ａの下流側直後に窒素ガスを吐出するスリット吐出口６２Ａを配置することができる。これにより、可撓性支持体Ｗ上に形成された塗膜Ｃを窒素ガスで直ちに覆うことができるので、塗布開始位置Ｐにおける外気との接触機会をなくすことができる。

また、ダイブロック５８には、円弧状の先端面５８Ａから先端面５８Ａの反対面まで貫通する測定孔６４が形成され、反対面側の測定孔６４に、図示しない酸素濃度計や差圧計を着脱自在に接続する接続管６６が設けられる。これにより、空間Ｘの酸素濃度や圧力を測定することができる。酸素濃度と圧力を同時に測定する場合には、二股形状の接続管６６を設ければよい。

空間Ｘの酸素濃度は、上記したように１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、空間Ｘの圧力は、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗに同伴される同伴空気や、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦに同伴される同伴空気が空間Ｘ内に持ち込まれないように外気圧（大気圧）よりも高い正圧になっていることが好ましい。

〈カバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置〉
図４に示すように、カバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ｂは、主として、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｙを覆うカバー部材６８と、カバー部材６８の内部に窒素ガスを供給する図示しない不活性ガス供給手段と、で構成される。

カバー部材６８は、バックアップローラ４４のローラ面に対向する円弧状の開口部６８Ａを有し、ダイコータ３６の塗布幅方向に長い略直方体形状の箱体として形成され、ダイコータの下流側傾斜面３６Ｅに固定支持される。

カバー部材６８と貼合ローラ５４とは、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦに接触しない程度で接近配置され、且つカバー部材６８の貼合ローラ５４側の側面６８Ｂが貼合ローラ５４に対向する円弧状の側面として形成される。

これにより、図４に示すように、カバー部材６８の貼合ローラ５４側の側面６８Ｂの下端６８Ｃを貼合開始位置Ｑに近づけることができ、カバー部材６８でバックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｙを覆うことができる。

また、カバー部材６８と貼合ローラ５４との間の隙間Ｓを小さくすることができるので、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦに同伴される同伴空気が空間Ｙを形成するカバー部材６８内に持ち込まれないようにすることができる。

カバー部材６８には、窒素ガスをカバー部材６８内に導入する窒素導入管７０が設けられ、図示しない不活性ガス供給手段（例えば窒素ボンベ）からカバー部材６８内に窒素ガスが導入される。

また、カバー部材６８には、図示しない酸素濃度計や差圧計を着脱自在に接続する測定管７１が設けられる。これにより、空間Ｙの酸素濃度や圧力を測定することができる。

なお、酸素濃度と圧力を同時に測定する場合には、二股形状の測定管７１を設ければよい。

空間Ｙの酸素濃度は、上記したように１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、空間Ｙの圧力は外気圧（大気圧）よりも高い正圧になっていることが好ましい。これにより、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗに同伴される同伴空気や、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦに同伴される同伴空気が空間Ｙ内に持ち込まれないようにすることができる。

なお、カバー部材６８とダイブロック５８の両方を設けることもできる。即ち、カバー部材６８の内部にダイブロック５８を配設することもできる。

（硬化装置）
塗膜フィルムＣＦにフィルムＦを貼合して積層フィルムＬＦを形成した後、光照射により塗膜Ｃを重合硬化させて、光学機能層を得ることができる。硬化条件は、使用する硬化性化合物の種類や塗布液の組成に応じて、適宜設定することができる。

図１に示すように、硬化装置２０は、塗膜面に活性線を照射して塗膜Ｃを硬化することにより光学機能層を得る装置であり、塗布装置１４及び貼合装置１６と兼用するバックアップローラ４４と、バックアップローラ４４の回転方向から見て貼合装置１６の下流側にバックアップローラ４４に対向配置された活性線照射装置５６と、で構成される。

そして、バックアップローラ４４と活性線照射装置５６との間を、積層フィルムＬＦが連続搬送される。

活性線照射装置５６により照射される活性線は、塗布液に含まれる硬化性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）、レーザー等を用いることができる。光照射量は塗膜Ｃの重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を塗膜Ｃに向けて照射することができる。塗膜Ｃへの光照射量は、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２とすることができ、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることが好ましく、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ^２とすることがより好ましい。

また、活性線照射装置５６の光照射雰囲気は窒素パージ等により低酸素雰囲気にすることが好ましい。

また、バックアップローラ４４の温度は、光照射時の発熱と、塗膜Ｃの硬化効率と、積層フィルムＬＦのバックアップローラ４４上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ４４は、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでバックアップローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。

このように、塗布や貼合を行うロールと同じバックアップローラ４４上で硬化を行うことにより、積層フィルムＬＦはバックアップローラ４４に支持された弛みのない状態を維持したままで塗膜面に活性線が照射されて硬化する。これにより、製造される機能性フィルムＦＦの皺発生を防止でき、機能性フィルムＦＦの性能を一層向上できる。

塗布装置１４のダイコータ３６、貼合装置１６の貼合ローラ５４、及び硬化装置２０の活性線照射装置５６をバックアップローラ４４上に配置する場合、バックアップローラ４４の直径は１５０〜８００ｍｍの範囲であることが好ましい。

バックアップローラ４４の直径は、主として機能性フィルム製造の生産性に関係しており、バックアップローラ４４の直径が１５０〜８００ｍｍの範囲で生産性が良くなる。即ち、バックアップローラ４４の直径が１５０ｍｍを下回って細すぎると、バックアップローラ４４上に配置する装置類（ダイコータ３６、貼合ローラ５４、及び活性線照射装置５６）を小型化せざるをえないため、装置能力も小さくなる。したがって、小さな装置能力を補うために可撓性支持体Ｗの搬送速度を遅くしなくてはならず、機能性フィルム製造の生産性が低下する。また、バックアップローラ４４の直径が８００ｍｍを超えて太すぎると、可撓性支持体Ｗの搬送経路がそれだけ長くなるので、機能性フィルム製造の生産性が低下する。

なお、本実施の形態では、重合処理を光照射により行う方法で説明したが、塗布液に含まれる硬化性化合物が加熱により硬化するもの（熱硬化性）である場合には、加熱により硬化処理を行う硬化装置を使用することができる。

また、本実施の形態では、硬化装置２０を塗布装置１４及び貼合装置１６と同じバックアップローラ４４上に配置したが、これに限定するものではない。貼合装置１６により塗膜Ｃが可撓性支持体ＷとフィルムＦとで挟持されて積層フィルムＬＦとなることで、塗膜Ｃは外気（外気の酸素）から保護される。したがって、バックアップローラ４４以降の例えばパスローラ上に硬化装置２０を配置することもできる。

[機能性フィルムの製造方法]
次に、上記の如く構成された本発明の実施の形態の機能性フィルムの製造装置１０を用い、量子ドットを含有する塗布液で光学機能層を有する機能性フィルムＦＦを製造する方法を説明する。

(塗布液調製工程)
塗布液調製工程では、量子ドット（または量子ロッド）、硬化性化合物、チキソトロピー剤、重合開始剤、及びシランカップリング剤などの各成分をタンク等により混合し、光学機能層形成用塗布液（以下、「塗布液」ともいう）を調製する。

＜量子ドット、量子ロッド＞
量子ドットは、数ｎｍ〜数十ｎｍの大きさをもつ化合物半導体の微粒子であり、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。

本実施形態の塗布液に含まれる量子ドットとしては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む光学機能層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光と、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、光学機能層を透過した青色光とにより、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む光学機能層を有する機能性フィルムに励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

量子ドットは、塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。

量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、有機溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。量子ドットの分散のために使用される有機溶媒は、特に限定されるものではない。

ただし、塗布装置１４に供給される塗布液中の揮発性の有機溶媒が１００００ｐｐｍ以下の含有率まで、好ましくは１０００ｐｐｍ以下の含有率まで低減されていることが必要である。

そのため、量子ドットを有機溶媒に分散した分散液の状態で塗布液に添加した場合には、塗布液を可撓性支持体Ｗ上に塗布する前に、塗布液中の有機溶媒を乾燥させる必要がある。即ち、塗布液を塗布装置１４に供給する時点では、塗布液に有機溶媒を実質的に含まない状態を形成する。

なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が１６０℃以下の、塗布液中の硬化性化合物と外部刺激により硬化しない化合物であり、２０℃で液状の化合物のことを言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、好ましくは１６０℃以下であり、１１５℃以下が更に好ましく、最も好ましくは３０℃以上１００℃以下である。

塗布液中の有機溶媒を乾燥させる方法としては、塗布液中の揮発性の有機溶媒の割合を１００００ｐｐｍ以下にできる方法であればどのような方法でもよいが、例えば、溶存酸素低減装置１２のタンク２６において、タンク２６内を減圧しながら塗布液中の空気（酸素）を窒素ガスで置換する操作で有機溶媒を気散させることができる。この場合、有機溶媒が気散し易いように、タンク２６に加温手段を設けることが好ましい。

量子ドットに代えて量子ロッドを用いることができる。量子ロッドは、細長い形状の棒状粒子であり、量子ドットと同様の性質を有する。量子ロッドの添加量、塗布液への添加方法などについては、量子ドットと同じ量、同様の方法により行うことができる。また、量子ドットと量子ロッドを組み合わせて用いることもできる。

＜硬化性化合物＞
本実施の形態で用いられる硬化性化合物は、重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。

−（メタ）アクリレート系−
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明及び本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。

−−２官能のもの−−
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。

２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

−−３官能以上のもの−−
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

具体的には、ＥＣＨ(Epichlorohydrin)変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ(Ethylene Oxide)変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ(Propylene oxide)変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。

これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の光学機能層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

−−単官能のもの−−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。

メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

−エポキシ系化合物他−
本実施の形態で用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。

エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。

その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。

これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。

エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、商品名であり、ダイセル化学工業（株）製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル（株）製、エピコートは登録商標）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、商品名であり、旭電化工業（株）製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、「第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ」、２１３〜、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ Ａｌｆｒｅｄ Ｈａｓｆｎｅｒ，「Ｔｈｅ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＯＦ ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ Ｒｉｎｇ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ ｐａｒｔ３ Ｏｘｉｒａｎｅｓ」，Ｊｏｈｎ ＆ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ, Ａｎ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８５、吉村、「接着」、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、「接着」、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、「接着」、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

本実施形態で用いる硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。

ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。

これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Ｓｔｅｐｈｅｎ．Ｃ．Ｌａｐｉｎ，「Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｐａｉｎｔ Ｃｏｌｏｕｒ Ｊｏｕｒｎａｌ」，１７９（４２３７）、３２１（１９８８）に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

本実施の形態の塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。

＜チキソトロピー剤＞
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。

−無機物−
チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機物のチキソトロピー剤であり、例えば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。

層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。

これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、商品名であり、白石工業（株）製）、カオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、商品名であり、土屋カオリン工業（株）製）、ＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、商品名であり、エンジェルハード（株）製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、商品名であり、丸尾カルシウム（株）製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上、商品名であり、コープケミカル社製）、スメクトン（商品名、クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、商品名であり、ホージュン（株）製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、商品名であり、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、商品名であり、日本シリカ工業（株）製）などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。

塗布液に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）_２Ｏ・ｙＳｉＯ_２で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（ＩＩ）Ｏ、Ｍ（ＩＩＩ）_２Ｏ_３に相当するものもある。ｘ及びｙは正の数を表す）であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。

特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物（珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの）が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。

アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。

珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾された珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調製する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％〜２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。

アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ−３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上、商品名であり、コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

本実施の形態においては、無機物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。

−有機物−
チキソトロピー剤は、有機物のチキソトロピー剤を用いることができる。

有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。

前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００−２０（商品名、楠本化成（株）製）、フローノンＳＡ３００（商品名、共栄社化学（株）製）等があげられる。

前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。

−含有量−
チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜８質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量部以下であると、脆性が良化方向にある。

＜重合開始剤＞
上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００３７を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量％として、０．１質量％〜１０質量％含むことが好ましく、更に好ましくは０．２質量％〜８質量％である。

＜シランカップリング剤＞
シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐久性を示すことができる。また、シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、密着力条件の可撓性支持体とバリア層の密着力Ａ＜光学機能層とバリア層との密着力Ｂの関係を形成する上でも好ましい。これは主に、光学機能層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光学機能層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光学機能層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光学機能層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。

シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。

一般式（１）

（一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ_１〜Ｒ_６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）
Ｒ_１〜Ｒ_６は、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒ_１〜Ｒ_６は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ_１〜Ｒ_６は、メチル基が特に好ましい。

Ｒ_１〜Ｒ_６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ_１〜Ｒ_６の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ_１〜Ｒ_３の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ_４〜Ｒ_６のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。

一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。

ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。

また、Ｒ_１〜Ｒ_６はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。

シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。

(溶存酸素低減工程)
塗布液調製工程で調製された塗布液は、次に溶存酸素低減装置１２により、塗布液中の溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下になるように調整される。なお、塗布液調製工程で調製された塗布液の溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下であれば、溶存酸素低減工程を省略することができ、また溶存酸素低減工程によりさらに溶存酸素を下げることもできる。

溶存酸素低減工程では、塗布液調製工程で調製された塗布液をタンク２６内に供給する。この場合、塗布液をタンク２６内に供給する前に、窒素ガス配管３０から窒素ガスをタンク２６内に供給して予めタンク２６内の空気を窒素ガスに置換しておくことが好ましい。

そして、窒素ガス配管３０から窒素ガスをタンク２６内に供給しながら撹拌機３２でタンク２６内の塗布液を撹拌し、塗布液中に溶存する溶存酸素を窒素ガスに変換する。この場合、減圧用配管３３に連結される真空装置を稼働してタンク２６内を減圧し、塗布液中の溶存酸素を脱気する操作を併用することが好ましい。これにより、塗布液中に溶存する溶存酸素を好ましくは１０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５００ｐｐｍ以下、特に好ましくは１００ｐｐｍ以下に低減する。

塗布液中の溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下になったかは、タンク２６から塗布液を外気に触れないようにサンプリングして図示しない溶存酸素計で測定することができる。また、図示しなかったが、タンク２６に測定用のバイパス配管を取り付けて、バイパス配管に溶存酸素計を取り付けることにより、塗布液中の溶存酸素を自動的に測定してもよい。

なお、量子ドットの分散液として揮発性の有機溶媒を使用した場合には、減圧用配管３３に連結された真空装置を稼働するとともに、窒素ガス置換の撹拌操作により有機溶媒の割合が好ましくは１００００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１０００ｐｐｍ以下になるようにする。

次に、送液ポンプ４０を稼働して、タンク２６内の塗布液をダイコータ３６のマニホールド４８に送液する。この場合、溶存酸素低減装置１２で溶存酸素が低減された塗布液を塗布装置１４のダイコータ３６に送液する前に、窒素ガス吹き込み管４２から送液配管３８内に窒素ガスを吹き込むことが好ましい。これにより、送液配管３８内、及びダイコータ３６の内部（マニホールド４８、スリット５０）の空気を窒素ガスで予め置換することができる。

したがって、溶存酸素低減工程で塗布液中の溶存酸素を１０００ｐｐｍ以下にした状態を維持したままで塗布液をダイコータ３６に供給することができる。

(塗布工程)
次に、塗布工程では、ダイコータ３６のマニホールド４８に供給された塗布液を、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗに塗布して塗膜フィルムＣＦを形成する。

即ち、マニホールド４８に供給された塗布液は、マニホールド４８によって塗布幅方向に拡流された後、スリット５０を流れてスリット吐出口５０Ａから搬送される可撓性支持体Ｗに向けて吐出される。これにより、ダイコータ３６のランド３６Ｅと可撓性支持体Ｗとのクリアランスに塗布液のビードが形成される。

この塗布工程において、減圧チャンバ４６が減圧され、安定なビードが形成されることにより、ビードを介して塗布液を可撓性支持体Ｗに精度良く塗布することができる。

このように、バックアップローラ４４とダイコータ３６とで構成され、外気と接触しにくいエクストルージョン方式の塗布装置１４を用いて、塗布液を可撓性支持体Ｗに塗布することにより、グラビアコータやロールコータ等の他の塗布装置に比べて塗布液と外気（外気中の酸素）との接触機会を小さくできる。これにより、塗布液中に含まれる量子ドットが酸素により性能劣化することを抑制できる。

可撓性支持体Ｗとは、可撓性を有する帯状の支持体であって、例えば可視光に対して透明である透明支持体であることが好ましく、例えば易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ（Polyethyleneterephthalate））フィルムである東洋紡（株）製 コスモシャインＡ４１００（商品名）などを用いることができる。

ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における光線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５（JIS: Japan Industrial Standards）に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。可撓性支持体については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。可撓性支持体の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、１０〜５００μｍの範囲内、中でも１５〜１００μｍの範囲内、更には２５〜６０μｍであることが好ましい。

また、使用する可撓性支持体Ｗは、酸素に対するバリア性に優れたガスバリアフィルムであることが好ましく、ガスバリアフィルムの形成については後述のガスバリアフィルム形成装置の欄で詳しく説明する。

(貼合工程)
次に、貼合工程では、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦと、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される塗膜フィルムＣＦとを、貼合ローラ５４とバックアップローラ４４とで挟み込んでニップすることにより、塗膜フィルムＣＦの塗膜面の側にフィルムＦを貼合（ラミネート）する。

これにより、可撓性支持体ＷとフィルムＦとで塗膜Ｃを挟んだ３層構造の積層フィルムＬＦが形成されるので、塗膜Ｃと外気（外気中の酸素）との接触機会を小さくできる。これにより、塗膜中に含まれる量子ドットが酸素により性能劣化することを抑制できる。

また、貼合に使用するフィルムＦは、可撓性支持体Ｗの場合と同様に酸素に対するバリア性に優れたガスバリアフィルムであることが好ましく、ガスバリアフィルムの形成については後述のガスバリアフィルム形成装置の欄で詳しく説明する。

(不活性ガス雰囲気形成工程)
不活性ガス雰囲気形成工程では、上記したダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ａ又はカバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ｂにより、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｘ又はＹを窒素ガス雰囲気にする。

＜ダイブロック方式＞
ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ａでは、ダイブロック５８のスリット６２から塗膜面に向けて窒素ガスを塗膜面幅方向に吐出する。

吐出された窒素ガスは、ダイブロック５８の先端面５８Ａと塗膜Ｃとの間の薄層空間Ｘ１を流れて三角空間Ｘ２に溜まる。これにより、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｘを窒素ガス雰囲気にすることができる。この結果、図５に示すように、窒素ガス雰囲気下において、塗膜フィルムＣＦの塗膜上にフィルムＦが貼合されていく。

この場合、ダイブロック５８のスリット６２の間隙が０．１〜２．０ｍｍであり、スリット６２から２０〜５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの吐出量で窒素ガスを吐出することが好ましい。これにより、ダイブロック５８から吐出される窒素ガスによって塗膜面を流動あるいは波立てて乱すことなく窒素ガス雰囲気を形成することができるので、機能性フィルムＦＦの性能に関係する塗膜厚みの均一性が良くなる。

ここで、吐出量の単位の「ｍ」は、可撓性支持体の幅１ｍ当たりを意味する。

また、三角空間Ｘ２に溜まった窒素ガスは、塗膜フィルムＣＦと貼合されるフィルムＦとの間に流れ込むとともに、ダイブロック５８と貼合ローラ５４との隙間から外部に流れ出る。

三角空間Ｘ２に溜まった窒素ガスが、ダイブロック５８と貼合ローラ５４との隙間から外部に流れ出ることにより、フィルムＦに同伴される同伴空気が三角空間Ｘ２に流れ込むのを防止することができる。

また、ダイブロック５８に形成された測定孔６４に接続管６６を介して接続された酸素濃度計により、塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｘ（Ｘ１+Ｘ２）の酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になっているかを測定する。そして、空間Ｘの酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるように、ダイブロック５８のスリット６２から吐出する窒素ガスの吐出量を調整する。

また、ダイブロック５８に形成された測定孔６４に接続管６６を介して接続された差圧計により空間Ｘの圧力が正圧になっているかを測定する。そして、空間Ｘの圧力が正圧になるようにダイブロック５８のスリット６２から吐出する窒素ガスの吐出量を調整する。

なお、空間Ｘの酸素濃度が１００ｐｐｍ以下で、且つ空間Ｘの圧力が正圧になる窒素ガスの吐出量を予め予備試験等により把握すれば、空間Ｘの酸素濃度と圧力の測定は常時行う必要はない。

＜カバー部材方式＞
カバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ｂでは、図示しない窒素ガス供給手段（例えば窒素ボンベ）からカバー部材６８内に窒素ガスを供給する。また、ダイブロック方式と同様に、カバー部材６８に形成された測定管７１に接続された酸素濃度計及び差圧計により、塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｙの酸素濃度及び差圧を測定する。そして、空間Ｙの酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、圧力が正圧になるようにカバー部材６８内に供給する窒素ガスの供給量を調整する。

このように、ダイブロック方式及びカバー部材方式の何れの不活性ガス雰囲気形成工程においても、塗布工程を行うバックアップローラ４４上で貼合工程を行うので、塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜フィルムＣＦの搬送距離を短くできる。また、塗膜フィルムＣＦの可撓性支持体Ｗ側の面はバックアップローラ４４に支持されており、外気に接触しないので、塗膜面側のみに窒素ガス雰囲気を形成すればよい。

これにより、塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間の体積を極力小さくすることができるので、少ない窒素ガス量で空間Ｘ又はＹ内を効率的に１００ｐｐｍ以下の窒素ガス雰囲気に形成することができるとともに、空間Ｘ又はＹ内における窒素ガスの濃度分布を小さくできる。

特に、ダイブロック方式は、ダイブロック５８の先端面５８Ａと塗膜面との間に薄層空間Ｘ１を形成できるので、カバー部材方式よりも更に少ない窒素ガス量で空間Ｘ内を効率的に１００ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気に形成することができるとともに、空間Ｘ内における窒素ガスの濃度分布を小さくできる。

例えば、ダイブロック方式は、少量（例えば、５０Ｌ／ｍｉｎ／ｍ程度）の窒素ガス量で空間Ｘ内の酸素濃度１００ｐｐｍ以下にすることができ、且つ吐出された窒素ガスが塗膜面に窒素ガス層を形成するので、塗膜面上に酸素濃度分布が一層発生しにくい効果を奏する。

(硬化工程)
硬化工程では、可撓性支持体ＷとフィルムＦとにより塗膜Ｃを挟持した積層フィルムＬＦをバックアップローラ４４上で連続搬送しながら活性線照射装置５６から光照射を行い、塗膜Ｃを硬化させて光学機能層を形成する。また、硬化工程をバックアップローラ４４上で行うので、製造された機能性フィルムＦＦの皺発生を防止できる。

以上の工程により、機能性フィルムＦＦを得ることができるので、得られた機能性フィルムＦＦは、剥離ローラ７２によりバックアップローラ４４から剥離された後、図示しない巻取機に連続搬送され、ロール状に巻き取られる。

ところで、本発明の機能性フィルムの製造方法は、酸素により性能劣化する素材によって酸素に対する劣化容易性が異なるので、塗布液を塗布する可撓性支持体Ｗ及び塗膜Ｃに貼合するフィルムＦとして、酸素に対してバリア性を有するバリア層が形成されたガスバリアフィルムに限定するものではない。

しかし、酸素により性能劣化する素材が本実施の形態の量子ドットの場合には、塗布液を塗布する可撓性支持体Ｗ及び塗膜Ｃに貼合するフィルムＦの少なくとも一方のフィルムとして、ガスバリアフィルムを使用することが好ましい。

バリア層は少なくとも無機層を含んでいればよく、ガスバリアフィルムを形成する支持体上に少なくとも無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、光学機能層の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。

具体的には、バリア層は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。

バリア層の酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．０１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．００１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、３８０〜７８０ｎｍの波長帯域をいうものとし、全光線透過率とは、光学機能層の光吸収および反射の寄与を除いた光透過率の平均値を示す。

可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは９０％以上である。酸素透過率は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。

−無機層−
無機層とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。

無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層の酸素透過係数はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過係数を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。

無機層は、バリア層中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。

無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、又はチタン膜を設けてもよい。

上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。

無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。

無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法）；酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法）等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基材としてその表面に行えばよい。

酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。

無機層の厚さは、１ｎｍ〜５００ｎｍであればよく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供することができるからである。

積層フィルムＬＦにおいて、光学機能層に隣接している無機層が少なくとも一層含まれていることが好ましい。光学機能層の両面に無機層が直接接していることも好ましい。

−有機層−
有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。

有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、上記の密着力条件を満足する範囲内でカルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。

無機層及び有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。

以下に実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。

《試験Ａ》
試験Ａでは、本発明の機能性フィルムの製造方法及び製造装置の次の（Ａ）〜(Ｄ)に記載する構成を満足するか否かによって、得られた塗膜(機能性層)Ｃの酸素による性能劣化にどのように影響するかを調べた。
（Ａ）溶存酸素低減装置１２が有るか。
（Ｂ）バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｘ又はＹを不活性ガス雰囲気にするための不活性ガス雰囲気形成装置１８が有るか。（Ｃ）塗布装置１４の種類がダイコータか。
（Ｄ）貼合装置１６による塗膜ＣへのフィルムＦの貼合をバックアップローラ４４上で行うか。

試験Ａで製造した機能性フィルムの各試験サンプル（実施例サンプル及び比較例サンプル）の製造条件を説明する。

[実施例１]
（機能性フィルムの作成）
光学機能層を形成する塗布液として量子ドットを含む光学機能層形成用塗布液(以下、塗布液という)を使用し、可撓性支持体Ｗ及びフィルムＦとしてガスバリアフィルムを使用した。また、不活性ガス雰囲気形成装置１８はダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ａを使用した。

《可撓性支持体の作製》
一方面にのみ易接着層が下塗りされているポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。

＜有機層の形成＞
上記の支持体に有機層の形成を行った。まず、有機層形成用塗布液の調製を行った。有機層形成用塗布液は、ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック社製）及び光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の重量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％とした。

この有機層形成用塗布液を、ダイコータを用いて、ロール・トゥ・ロール方式により支持体であるＰＥＴフィルムの易接着面とは反対側の平滑面に塗布した。塗布後のＰＥＴフィルムを５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線を照射し（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ２）、ＵＶ（ultraviolet）硬化により硬化させた。また、ＵＶ硬化直後のパスロールにて保護フィルムのポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、サンエー化研製、商品名：ＰＡＣ２−３０−Ｔ）を支持体に貼り付けてから、搬送し、巻き取った。

支持体上に形成されて有機層の厚みは１μｍであった。

＜無機層の形成＞
次に、ロール・トゥ・ロール方式のＣＶＤ装置を用いて、支持体に形成した有機層の表面に無機層（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。送出機より有機層が形成された支持体を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離した。その後、暴露された有機層の上に無機層を形成した。無機層の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いてＳｉＮ層を形成した。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。

このようにして有機層の上に無機層を形成し、形成後の膜面タッチロール部にて、保護ＰＥフィルムを貼り付けた。その後、無機層がパスロールに触れることなく搬送した後、巻き取った。これにより、塗布液を塗布するための可撓性支持体Ｗを作製した。

（塗布液調製工程）
＜塗布液の組成＞
以下の組成の量子ドット分散液を調製し、塗布液とした。
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）１０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ） １質量部
・ラウリルメタクリレート ２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ０．５４質量部
・光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（登録商標）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製））
なお、量子ドット１，２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
・量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−１ａｂｓ社製）
・量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−１ａｂｓ社製）
上記組成の塗布液の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。

（溶存酸素低減工程）
塗布液調製工程により得られた塗布液を、タンク２６内に供給し、窒素ガスをタンク２６に供給しながら撹拌機３２で攪拌し、塗布液中の溶存酸素を窒素ガスに置換することで、塗布液中の溶存酸素を１０００ｐｐｍ以下になるようにした。そして、溶存酸素を低減した塗布液をダイコータ３６のマニホールド４８に供給した。また、塗布液中の溶存酸素を窒素ガスに置換することで、量子ドットの分散液として使用したトルエンの塗布液中の割合が１００００ｐｐｍ以下になるようにした。

（塗布工程）
ダイコータ方式の塗布装置１４を用いた。即ち、ダイコータ３６のスリット５０から塗布液を吐出して、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗ（保護ＰＥフィルムを剥がしたもの）の無機層上に塗布液を連続塗布した。これにより、塗膜フィルムＣＦを形成した。バックアップローラ４４は、直径が２００ｍｍのものを使用した。

（貼合工程）
バックアップローラ４４上で塗膜フィルムＣＦの塗膜面の側とフィルムＦとを貼合した。即ち、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される塗膜フィルムＣＦの塗膜面に、貼合ローラ５４に巻き掛けられて搬送するフィルムＦを貼合した。

（不活性ガス雰囲気形成工程）
ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ａを用いた。即ち、ダイブロック５８のスリット６２から塗膜面に向けて１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの窒素ガス量を吐出して、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間Ｘを窒素ガス雰囲気にした。スリット６２の間隙は０．５ｍｍのものを使用した。

（硬化工程）
バックアップローラ４４上に配置した硬化装置２０を用いた。即ち、窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス(株)製）の活性線照射装置５６を用いて、積層フィルムＬＦに紫外線を照射して、塗膜Ｃを硬化させて機能性フィルムＦＦを製造した。

＜シート加工＞
形成した機能性フィルムＦＦを、刃先角度１７°のトムソン刃を使用し、Ａ４サイズのシート状に抜き打ちを行い、試験サンプルとした。

[比較例１]
実施例１の溶存酸素低減装置１２を設けずに、大気下で塗布液を調製して溶存酸素が１０００ｐｐｍを超える塗布液を塗布装置１４に送液した以外は実施例１と同様である(構成（Ａ）を満足しない場合)。

[比較例２]
実施例１の不活性ガス雰囲気形成装置１８を設けずに、塗布から貼合までを大気下で行った以外は実施例１と同様である(構成（Ｂ）を満足しない場合)。

[比較例３]
実施例１の塗布装置１４の種類をダイコータからグラビアコータに替えた以外は実施例１と同様である(構成（Ｃ）を満足しない場合)。

[比較例４]
貼合装置１６による塗膜ＣへのフィルムＦの貼合をバックアップローラ４４上ではなく、バックアップローラ４４以降のパスローラ上で行った以外は実施例１と同様である(構成（Ｄ）を満足しない場合)。

[実施例２]
硬化装置２０をバックアップローラ４４以降のパスローラ上に配置した以外は実施例１と同じ。

図６は、上記の実施例１〜２と比較例１〜４の工程条件及び評価結果をまとめた表図である。

[塗膜の性能劣化の評価方法]
上記の如く作製した実施例１〜２及び比較例１〜４のサンプルについて、サンプル作製後に直ちに輝度（ｃｄ／ｃｍ^２）を測定した（作製直後の輝度）。更に、サンプルを８５℃の乾燥オーブンに１００時間入れた後の輝度を測定した（オーブン乾燥後の輝度）。そして、作製直後の輝度をオーブン乾燥後の輝度で除した数値で塗膜の性能劣化を評価した。即ち、作製直後の輝度をオーブン乾燥後の輝度で除した数値が高いほど塗膜の性能劣化が小さく、Ａ、Ｂ及びＣの３段階で評価した。なお、ランクＡ及びＢが合格レベルであり、ランクＣは不合格と評価した。
・Ａ…０．９５〜１．０
・Ｂ…０．８５〜０．９５未満
・Ｃ…０．８５未満
［評価結果］
図６の表図から分かるように、上記した（Ａ）〜（Ｄ）の装置構成の全てを満足する実施例１の工程条件で製造された機能性フィルムＦＦは、量子ドットを含む塗膜（光学機能層）Ｃの性能評価がＡランクであった。

これに対して、上記した（Ａ）〜（Ｄ）の装置構成のうち、構成（Ａ）を満足しない比較例１、構成（Ｂ）を満足しない比較例２、構成（Ｃ）を満足しない比較例３、構成（Ｄ）を満足しない比較例４は、塗膜（光学機能層）Ｃの性能評価がＣランクであった。

このことは、上記した（Ａ）〜（Ｄ）の装置構成の１つの構成が欠けることによって、機能性フィルムの製造過程において、量子ドットを含む塗膜（光学機能層）Ｃが外気中の酸素により酸化し性能劣化を生じることが分かる。

また、実施例２は、バックアップローラ４４上に貼合装置１６を配置し、硬化装置２０はバックアップローラ４４以降のパスローラ上に配置した以外は実施例１と同様に行い、その結果、塗膜の性能評価はＡランクであった。

このことは、貼合装置１６により、塗膜Ｃが可撓性支持体ＷとフィルムＦとで挟持されて積層フィルムＬＦが形成された後は、外気（外気中の酸素）との接触機会がなくなるので、硬化装置２０はバックアップローラ４４上に配置することに限定されないことを意味する。

しかし、硬化装置２０をバックアップローラ４４上に配置することで、製造される機能性フィルムＦＦに皺の発生を防止できるので、バックアップローラ４４上に配置することがより好ましい。

なお、試験Ａでは、酸素により性能劣化する素材として量子ドットの例で説明し、可撓性支持体Ｗ及びフィルムＦとしてガスバリアフィルムを使用した。しかし、素材により酸素に対する性能劣化の劣化容易性が異なるので、可撓性支持体Ｗ及びフィルムＦとしてガスバリアフィルムを使用しない場合もある。

以上の試験結果から分かるように、本発明の機能性フィルムの製造方法及び製造装置は、酸素により性能劣化する素材を含み且つ有機溶媒を実質的に含まない塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化の少ない機能性フィルムを製造することができる。

《試験Ｂ》
試験Ｂでは、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類と塗膜(機能性層)Ｃの性能劣化との関係及び塗膜の均一性との関係を調べた。

不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類及び評価結果を図７の表に示した。

[試験１]
試験１は試験Ａにおける実施例１と同じである。

[試験２]
試験２は、試験１の窒素ガスの吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから２５Ｌ／ｍｉｎ／ｍに減らした以外は試験１と同様である。

[試験３]
試験３は、試験１の窒素ガスの吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍに増やした以外は試験１と同様である。

[試験４]
試験４は、試験１の窒素ガスの吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから２０Ｌ／ｍｉｎ／ｍに減らした以外は試験１と同様である。

[試験５]
試験５は、試験１の窒素ガスの吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから５５０Ｌ／ｍｉｎ／ｍに増やした以外は試験１と同様である。

[試験６]
試験６は、試験１の窒素ガスを吐出するスリットの間隙を０．５ｍｍから０．１ｍｍに狭くした以外は試験１と同様である。

[試験７]
試験７は、試験１の窒素ガスを吐出するスリットの間隙を０．５ｍｍから２．０ｍｍに広くした以外は試験１と同様である。

[試験８]
試験８は、試験１の窒素ガスを吐出するスリットの間隙を０．５ｍｍから０．０５ｍｍに狭くした以外は試験１と同様である。

[試験９]
試験９は、試験１の窒素ガスを吐出するスリットの間隙を０．５ｍｍから２．５ｍｍに広くした以外は試験１と同様である。

[試験１０]
試験１０は、試験Ａにおける実施例１のダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ａを、カバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置１８Ｂに替え、カバー部材６８内に窒素ガスを２００Ｌ／ｍｉｎ／ｍで供給した以外は実施例１と同様である。

[試験１１]
試験１１は、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類として、図８Ａに示すスリットノズルを使用し、図８Ｂに示す位置に配置した以外は、試験１と同様である。図８Ａに示すように、スリットノズル２００は、塗布幅方向に長尺な吐出口２０２が形成された厚みの薄い薄板状の箱体２０４であり、本発明におけるダイブロック５８のように、バックアップローラ４４面に対面する円弧状の先端面５８Ａを有しない点で相違する。吐出口２０２の間隙０．５ｍｍ及び窒素ガスの吐出量１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍは試験１と同様である。

[試験１２]
試験１２は、試験１１の窒素ガス吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから２５Ｌ／ｍｉｎ／ｍに減らした以外は試験１１と同様である。

[試験１３]
試験１３は、試験１１の窒素ガス吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍに増やした以外は試験１１と同様である。

[試験１４]
試験１４は、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類として、図９Ａに示す穴あきノズルを使用し、図９Ｂに示す位置に配置した以外は、試験１と同様である。図９Ａに示すように、穴あきノズル３００は、塗布幅方向に長尺な配管３０２の途中に窒素ガスを吐出する複数の吐出孔３０４を形成したものである。吐出孔３０４の直径を０．５ｍｍとし、複数の吐出孔３０４から試験１と同様に１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍで窒素ガスを吐出した。

[試験１５]
試験１５は、試験１４の窒素ガス吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから２５Ｌ／ｍｉｎ／ｍに減らした以外は試験１４と同様である。

[試験１６]
試験１６は、試験１４の窒素ガス吐出量を１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍから５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍに増やした以外は試験１４と同様である。

[塗膜の厚み均一性の評価方法]
塗膜の幅方向(可撓性支持体の幅方向に同義)の厚み分布を測定することにより、塗膜の厚み均一性をＡ、Ｂ及びＣの３段階で評価した。なお、ランクＡ及びＢが合格レベルであり、ランクＣは不合格と評価した。
・Ａ…塗膜の幅方向の厚み分布が±５％以内。
・Ｂ…塗膜の幅方向の厚み分布が±１０％以内。
・Ｃ…塗膜の幅方向の厚み分布が±１０％を超える。

[塗膜の性能劣化の評価方法]
塗膜の性能劣化の評価方法は試験Ａと同様である。

［評価結果］
図７の表図から分かるように、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類としてスリットノズル２００を使用し、窒素ガス吐出量を１００又は２５Ｌ／ｍｉｎ／ｍとした試験１１及び試験１２は、塗膜厚み均一性は合格ラインであるＢランクの評価であったが、塗膜の性能劣化は不合格のＣランクの評価であった。この場合、スリットノズル２００の窒素ガス吐出量を５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍまで増やした試験１３は、塗膜の性能劣化は合格レベルのＢランクまで改良されるが、窒素ガス吐出量が多すぎるために塗膜面が乱れ、塗膜の厚み均一性が不合格のＣランクの評価になってしまう。

即ち、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類としてスリットノズル２００を使用した場合には、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にするという本発明における不活性ガス雰囲気形成装置１８として満足する性能を、塗膜面が乱れないように発揮できないことが分かる。

また、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類として穴あきノズル３００を使用し、窒素ガス吐出量を１００又は２５Ｌ／ｍｉｎ／ｍとした試験１４及び試験１５は、塗膜厚み均一性は合格ラインであるＢランクの評価であったが、塗膜の性能劣化は不合格のＣランクの評価であった。この場合、穴あきノズル３００の窒素ガス吐出量を５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍまで増やした試験１６は、塗膜の性能劣化は合格レベルのＢランクまで改良されるが、窒素ガス吐出量が多すぎるために塗膜面が乱れ、塗膜の厚み均一性が不合格のＣランクの評価になってしまう。

即ち、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類として穴あきノズル３００を使用した場合には、スリットノズル２００の場合と同様に、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にするという本発明における不活性ガス雰囲気形成装置１８を満足する性能を、塗膜面が乱れないように発揮できないことが分かる。

これに対して、試験１〜試験９に示すように、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類としてダイブロック５８を使用した場合には、塗膜の性能劣化が全て合格レベルであるＡ〜Ｂランクであった。

ただし、塗膜の厚み均一性について見ると、試験５及び試験８がＣランクとなり、窒素ガスの吐出量が多すぎたり、スリットの間隙が狭すぎたりすると、塗膜面が乱れて塗膜の厚み均一性に悪影響が出ることが分かる。

上記の結果から、不活性ガス雰囲気形成装置１８の種類としてダイブロック５８を使用した場合、塗膜面を乱すことなく、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にするには、スリットの間隙が０．１〜２．０ｍｍの範囲且つ窒素ガス吐出量が２０〜５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの範囲で使用することが適切である。

また、不活性ガス雰囲気形成装置１８としてカバー部材６８を用いた試験１０は、塗膜の性能劣化がＢランク、塗膜の厚み均一性がＡランクとなり、バックアップローラ４４上の塗布開始位置Ｐから貼合開始位置Ｑまでの塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にするという本発明における不活性ガス雰囲気形成装置１８を満足する性能を発揮した。

１０ 機能性フィルムの製造装置
１２ 溶存酸素低減装置
１４ 塗布装置
１６ 貼合装置
１８ 不活性ガス雰囲気形成装置
１８Ａ ダイブロック方式の不活性ガス雰囲気形成装置
１８Ｂ カバー部材方式の不活性ガス雰囲気形成装置
２０ 硬化装置
２２ 窒素ガス置換手段
２４ 塗布液供給手段
２６ タンク
２８ 塗布液配管
２８Ａ 開閉バルブ
３０ 窒素ガス配管
３０Ａ 開閉バルブ
３２ 撹拌機
３３ 減圧用配管
３４ エアベント管
３６ ダイコータ
３６Ａ 胴体部
３６Ｂ 先端リップ部
３６Ｃ 上流側リップランド
３６Ｄ 下流側リップランド
３６Ｅ ランド
３８ 送液配管
４０ 送液ポンプ
４２ 窒素ガス吹き込み管
４４ バックアップローラ
４６ 減圧チャンバ
４６Ａ サイドプレート
４６Ｂ バックプレート
４６Ｃ ボトムプレート
４６Ｄ 開口
４８ ダイコータのマニホールド
５０ ダイコータのスリット
５０Ａ 吐出口
５２ 配管
５４ 貼合ローラ
５６ 活性線照射装置
５８ ダイブロック
５８Ａ ダイブロック５８の先端面
６０ ダイブロックのマニホールド
６２ ダイブロックのスリット
６２Ａ 吐出口
６４ 測定孔
６６ 接続管
６８ カバー部材
６８Ａ カバー部材の開口部
６８Ｂ カバー部材の側面
６８Ｃ カバー部材の側面の下端
７０ 窒素導入管
７１ 測定管
７２ 剥離ローラ
Ｗ 可撓性支持体
ＣＦ 塗膜フィルム
Ｆ 貼合するフィルム
ＬＦ 積層フィルム
ＦＦ 機能性フィルム
Ｃ 塗膜

Claims (10)

1. 溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下で且つ有機溶媒が１００００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップローラを有するダイコータに供給して、前記バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に塗布して塗膜フィルムを形成する塗布工程と、
   前記バックアップローラ上で前記塗膜フィルムの塗膜面の側とフィルムとを貼合する貼合工程と、を有し、
   前記バックアップローラ上の塗布開始位置から貼合開始位置までの前記塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にする機能性フィルムの製造方法。
2. 前記不活性ガス雰囲気の形成は、前記空間を覆うカバー部材内に不活性ガスを供給する請求項１に記載の機能性フィルムの製造方法。
3. 前記不活性ガス雰囲気の形成は、前記可撓性支持体の搬送方向から見て前記ダイコータ下流側に隣接して、前記バックアップローラ面に対面する先端面を有し、且つ前記先端面から不活性ガスを前記塗膜面幅方向に吐出するスリットを備えたダイブロックを配置し、前記ダイブロックから前記塗膜面に向けて不活性ガスを吐出する請求項１又は２記載の機能性フィルムの製造方法。
4. 前記ダイブロックは、前記スリットの間隙が０．１〜２．０ｍｍであり、且つ前記スリットから２０〜５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの吐出量で前記不活性ガスを吐出する請求項３に記載の機能性フィルムの製造方法。
5. 前記貼合工程の後の前記バックアップローラ上で、前記塗膜面に活性線を照射して前記塗膜面を硬化する硬化工程を行う請求項１から４の何れか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
6. バックアップローラとダイコータとを有し、前記バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に塗布液を塗布して塗膜フィルムを形成する塗布装置と、
   前記バックアップローラ上で前記塗膜フィルムの塗膜面の側とフィルムとを貼合する貼合装置と、
   前記バックアップローラ上の塗布開始位置から貼合開始位置までの前記塗膜面を含む空間を不活性ガス雰囲気にする不活性ガス雰囲気形成装置と、を備えた機能性フィルムの製造装置。
7. 前記不活性ガス雰囲気形成装置は、
   前記空間を覆うカバー部材と、
   前記カバー部材の内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、を有する請求項６に記載の機能性フィルムの製造装置。
8. 前記不活性ガス雰囲気形成装置は、
   前記可撓性支持体の搬送方向から見て前記ダイコータの下流側に隣接位置され、前記バックアップローラ面に対面する先端面を有し、且つ前記先端面から不活性ガスを前記塗膜面幅方向に吐出するスリットを備えたダイブロックである請求項６に記載の機能性フィルムの製造装置。
9. 前記ダイブロックは、前記スリットの間隙が０．１〜２．０ｍｍであり、且つ前記スリットから２０〜５００Ｌ／ｍｉｎ／ｍの吐出量で前記不活性ガスを吐出する請求項８に記載の機能性フィルムの製造装置。
10. 前記バックアップローラ上の前記貼合装置の下流位置に、前記塗膜面に活性線を照射して前記塗膜面を硬化する硬化装置を配置した請求項６から９の何れか１項に記載の機能性フィルムの製造装置。

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