JP6243872B2 - 量子ドット含有積層体の製造方法、量子ドット含有積層体、バックライトユニット、液晶表示装置および量子ドット含有組成物 - Google Patents

Description

本発明は、量子ドット含有積層体の製造方法、量子ドット含有積層体に関するものであり、詳しくは、生産性が高く、面状の均一性に優れた量子ドット含有積層体の製造方法およびその製造方法により製造された量子ドット含有積層体に関するものである。
更に本発明は、この量子ドット含有積層体を含むバックライトユニット、およびこのバックライトユニットを含む液晶表示装置にも関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）とも言う）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。

フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）が注目を集めている（特許文献１参照）。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり、色再現性に優れる設計にしたりすることが可能である。このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のＴＶ規格（ＦＨＤ（Ｆｕｌｌ Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ））比７２％から１００％へと拡大している。

ＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１ 特開平９−０２４５７１号公報 特開２０１１−２３５２７９号公報

量子ドットには、酸素に接触すると光酸化反応により発光強度が低下する（耐光性が低い）という課題がある。この点に関し、特許文献１には、量子ドットを酸素等から保護するために、量子ドットを含むフィルム（量子ドット含有層）にバリアフィルムを積層することが提案されている。
このような量子ドット含有層は、酸素等による経時の性能劣化を防止するために、酸素バリア性の高い基材で量子ドット含有層を挟み込んで作製する。
量子ドット含有層を基材で挟み込む方法として、第１の基材に量子ドット含有層を塗布硬化して作製したシートに、粘着剤などを介してもう一方の第２の基材を貼り付ける方法が一般的である。しかしながら、この方法では、量子ドット含有層と第２の基材を貼り付ける工程が、塗布工程とは別に必要であるため、工程を改善して、より生産性の高い量子ドット含有積層体の製造方法が求められていた。

ここで量子ドット含有積層体とは異なる技術分野において、光学素子、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｄｉｓｐｌａｙ）などの表示装置、半導体装置、薄膜太陽電池等の各種の装置に、ガスバリアフィルム、保護フィルム、光学フィルタや反射防止フィルム等のように複数のフィルムで構成された積層フィルムが利用されている。この積層フィルムの製造方法として種々の方法が提案されている。

例えば、特許文献２は、間隙をあけて並行に配置した１対のロールに、基材フィルムと第１鋳型フィルムとを供給し、ロールの間隙に向けて、紫外線硬化型樹脂液を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込む方向に回転させて、基材フィルムと第１鋳型フィルムとの間に紫外線硬化型樹脂液が挟持されるようにし、そのように挟持された状態で紫外線照射を行って樹脂液を硬化させることによって積層フィルムを製造する方法を開示する。

特許文献３は、２液硬化型であって無溶剤型の接着剤を用い、基材であるシート状のウェブどうしを貼り合わせてラミネート製品を製作するラミネーターにおける塗工装置であって、上記ウェブの一方が搬送される搬送ラインに臨ませて設けられ、一対のスリット状出口を有するとともに各出口に個々にそれぞれ連通する一対の入口を有する１つのダイコーターと、上記一対の入口の一方に、上記接着剤を形成するための第１液を供給する第１供給手段と、上記一対の入口の他方に、上記第１液に接触することにより上記接着剤を形成するための第２液を供給する第２供給手段とを具備し、上記ダイコーターは、上記一対の出口が互いに分離し、かつ、一対の出口が上記搬送ラインにおけるウェブ搬送方向に隣接するように配置され、上記第１液と第２液とを上記出口から排出した直後に相接触させる塗工装置を開示している。特許文献３ではこのような塗工装置により、２液硬化型の無溶剤型の接着剤を用いてラミネート製品を製作する際に、準備作業を容易に行うことができ、しかも塗工面を平滑にすると記載されている。

特許文献２や３に記載の製造方法を量子ドット含有積層体の製造に応用して生産性を高めることを検討すると、第１の基材に量子ドット含有組成物を塗布したのちに、量子ドット含有組成物を硬化する前に量子ドット含有組成物の上にもう一方の第２の基材を貼り付けてから、量子ドット含有組成物を硬化して量子ドット含有積層体を製造する方法が有効と考えられる。
しかしながら、本発明者らがこのような量子ドット含有積層体の製造方法を検討したところ、量子ドット含有組成物を塗布スジが生じないように均一に塗布することと、量子ドット含有組成物を硬化する前に量子ドット含有組成物の上に第２の基材を均一に張り合わせることを両立することができず、均一な厚みをもつ量子ドット含有積層体が得られないという問題があることを見出した。
この問題を解決することは、塗布スジが生じないように均一に塗布して塗膜の膜厚を均一にするには塗布性とレベリング性の面から低粘度の塗布液が好ましい一方で、量子ドット含有組成物を硬化する前に量子ドット含有組成物の上に第２の基材を均一に張り合わせるためには張り合わせ時の圧力への抵抗力が高くなる点で高粘度の塗布液が好ましいため、量子ドット含有組成物に求められる性能が相反し、いわゆるトレードオフの関係が成りたっているために困難であることがわかった。
さらに、塗膜が均一でなかったり、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚が均一でなかったりすると、得られた量子ドット含有積層体を液晶表示装置の波長変換部材として用いると、輝度ムラ、色度ムラの性能も悪化してしまうことがわかった。

本発明が解決しようとする課題は、生産性が高く、塗布スジが生じていない均一な塗膜の量子ドット含有層を得られ、かつ、第１の基材および第２の基材の間に塗膜を挟み込んでラミネートし、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚ムラが小さい、量子ドット含有積層体の製造方法を提供することにある。

本発明者らは、前述のトレードオフの関係を打破するために、塗布液として用いる量子ドット含有組成物にチキソトロピー剤を含有させることで、塗膜の膜厚を均一に得るための高せん断時（代表値として５００ｓ^-1）の低粘性、基材を均一に張り合わせるための低せん断時（代表値として１ｓ^-1）の高粘性を実現し、上記課題を解決するに至った。
詳しくは、塗布液として用いる量子ドット含有組成物の粘度が、剪断速度５００ｓ^-1の時に３〜１００ｍＰａ・ｓであり、（第２の基材を張り合わせる直前の粘度が）１ｓ^-1の時に３００ｍＰａ・ｓ以上であれば、第１の基材に量子ドット含有組成物を塗布したのちに、量子ドット含有組成物を硬化する前に量子ドット含有組成物の上にもう一方の第２の基材を貼り付けてから、量子ドット含有組成物を硬化して量子ドット含有積層体を容易に製造できることを見出すに至った。

上述の課題を解決するための具体的な手段である本発明は以下の構成である。
［１］ 量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である量子ドット含有組成物を、第１の基材の上に塗布して塗膜を形成する工程Ａと、
上記塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂと、
上記第１の基材および上記第２の基材に挟まれた上記塗膜に外部刺激を与えて硬化し、量子ドット含有層を形成する工程Ｃと、をこの順に有する量子ドット含有積層体の製造方法。
［２］ 上記チキソトロピー剤が、アスペクト比１．２〜３００の無機粒子である、［１］に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［３］ 上記チキソトロピー剤が、層状化合物である、［１］または［２］に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［４］ 上記チキソトロピー剤が、酸化ポリオレフィンおよび変性ウレアからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［５］ 上記量子ドット含有組成物中、上記チキソトロピー剤の含有量が、上記硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部である、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［６］ 上記量子ドット含有組成物が、実質揮発性の有機溶媒を含有しない、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［７］ 上記塗膜に外部刺激を与える方法が、上記塗膜に紫外線を照射する方法である、［１］〜［６］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［８］ 上記第１の基材と上記第２の基材のうち少なくとも一方が、可とう性のフィルムである、［１］〜［７］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［９］ 上記第１の基材と上記第２の基材のうち少なくとも一方が、可とう性の支持体と、バリア性を有する無機層とを有するバリアフィルムである、［１］〜［８］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［１０］ 上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層である、［９］に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
［１１］［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法で製造された、量子ドット含有積層体。
［１２］ ［１１］に記載の量子ドット含有積層体と、
光源と、を少なくとも含む、バックライトユニット。
［１３］ ［１２］に記載のバックライトユニットと、
液晶セルと、を少なくとも含む、液晶表示装置。
［１４］ 量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、
剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、
剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である、量子ドット含有組成物。
［１５］ 上記チキソトロピー剤が、層状化合物である、［１４］に記載の量子ドット含有組成物。
［１６］ 上記チキソトロピー剤が、アスペクト比１．２〜３００の無機粒子である、［１４］または［１５］に記載の量子ドット含有組成物。
［１７］ 上記チキソトロピー剤が、酸化ポリオレフィンおよび変性ウレアからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、［１４］に記載の量子ドット含有組成物。
［１８］ 上記チキソトロピー剤の含有量が、上記硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部である、［１４］〜［１７］のいずれか一項に記載の量子ドット含有組成物。
［１９］ 実質揮発性の有機溶媒を含有しない、［１４］〜［１８］のいずれか一項に記載の量子ドット含有組成物。

本発明の一態様によれば、生産性が高く、塗布スジが生じていない均一な塗膜の量子ドット含有層を得られ、かつ、第１の基材および第２の基材の間に塗膜を挟み込んでラミネートし、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚ムラが小さい、量子ドット含有積層体の製造方法を提供することができる。

図１（ａ）、（ｂ）は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体を含むバックライトユニットの一例の説明図である。 図２は、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。 図３は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体の製造方法に用いられる、製造設備の一例の概略図である。 図４は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体の製造方法に用いられる、製造設備の一例の部分拡大図である。 図５は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体の製造方法に用いられる、製造設備の他の一例の概略図である。 図６は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体の製造方法に用いられる、製造設備の他の一例の部分拡大図である。

以下において、本発明について詳細に説明する。
以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本発明および本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明および本明細書中、ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ１／２でのピークの幅のことを言う。また、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。

［量子ドット含有積層体の製造方法、量子ドット含有組成物］
本発明の量子ドット含有積層体の製造方法は、量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である量子ドット含有組成物を、第１の基材の上に塗布して塗膜を形成する工程Ａと、上記塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂと、上記第１の基材および上記第２の基材に挟まれた上記塗膜に外部刺激を与えて硬化し、量子ドット含有層を形成する工程Ｃと、をこの順に有する。なお、少なくとも上記第１の基材の上に上記量子ドット含有組成物を塗布する時の上記量子ドット含有組成物の粘度を３〜１００ｍＰａ・ｓに調整することが好ましく、少なくとも上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する直前から上記塗膜を硬化する直前までの上記塗膜の粘度を３００ｍＰａ・ｓ以上に調整することが好ましい。
また、本発明の量子ドット含有組成物は、量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である。
剪断速度５００ｓ^-1とは、塗布時の剪断速度として規定している。例えば、ダイコーターの場合、塗布時の剪断速度は、塗布速度および基材とダイコーター先端のクリアランス（いわゆる塗布クリアランス）で決まる。塗布速度が３ｍ／ｍｉｎかつ塗布クリアランスが１００μｍの場合、塗布時の剪断速度は５００ｓ^-1と計算される。当然、塗布速度と塗布クリアランスによって塗布時の剪断速度を変えることができるが、ここでは、代表値として５００ｓ^-1のときの粘度を塗布時の粘度と規定した。重要なのは、５００ｓ^-1という絶対値ではなく、塗布工程においてはその他工程にはない高い剪断速度（１００ｓ^-1以上）を有することであり、そのために塗布工程に適した粘度に調整することである。これはダイコーターに限らず、バーコーターやグラビアコーター等でも同じであり、代表値を５００ｓ^-1にすることは妥当である。
また、剪断速度１ｓ^-1とは、ラミネート時の剪断速度として規定している。本来、ラミネート方法によらず、上記第１の基材に塗布された塗膜を上記第２の基材で挟み込んでラミネートするときの剪断速度は、上記第１の基材と上記第２の基材を同速度で張り合わせることから、ほぼ０ｓ^-1である。しかしながら、０ｓ−¹の粘度は原理上測定できないため、代表値として、測定可能である１ｓ^-1の粘度をラミネート時の粘度と規定した。
このような構成により、本発明の量子ドット含有組成物を用いる本発明の量子ドット含有積層体の製造方法は、生産性が高く、塗布スジが生じていない均一な塗膜の量子ドット含有層を得られ、かつ、第１の基材および第２の基材の間に塗膜を挟み込んでラミネートし、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚ムラが小さい。
また、本発明の量子ドット含有積層体の製造方法によって得られた、塗膜が均一であり、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚が均一である、量子ドット含有積層体を液晶表示装置の波長変換部材として用いると、輝度ムラ、色度ムラを改善することができる。

さらに、量子ドットは凝集してしまうと発光効率が落ちることが知られている。本発明の量子ドット含有積層体の製造方法では、チキソトロピー剤を用いることによって、高分子の増粘剤を用いた場合に懸念される量子ドットの量子ドット含有層の内部での分散性の悪化の問題も、改善することができる。そのため、本発明の好ましい一態様の量子ドット含有積層体の製造方法によって得られた、量子ドットの分散性も高い量子ドット含有積層体を液晶表示装置の波長変換部材として用いると、輝度も良好となる。

＜工程Ａ＞
量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である量子ドット含有組成物を、第１の基材の上に塗布して塗膜を形成する工程Ａについて説明する。

量子ドット含有組成物は、量子ドット、硬化性化合物、およびチキソトロピー剤を含有する。

（量子ドット）
量子ドットは、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
量子ドット含有組成物は、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む量子ドット含有積層体へ励起光として青色光を入射させると、図１に示すように、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、量子ドット含有積層体を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む量子ドット含有積層体に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

量子ドットは、上記量子ドット含有組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。ただし、本発明では量子ドット含有組成物が、実質揮発性の有機溶媒を含有しないことが好ましい。そのため、量子ドットを溶媒に分散した分散液の状態で量子ドット含有組成物に添加した場合は、量子ドット含有組成物を第１の基材の上に塗布して塗膜を形成する前に、量子ドット含有組成物の溶媒を乾燥させる工程を含むことが好ましい。溶媒を乾燥させる工程を減らす観点からは、量子ドットを、量子ドット含有組成物に粒子の状態で添加することも好ましい。
なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が１６０℃以下の、本発明の硬化性化合物と外部刺激により硬化しない化合物で２０℃で液状の化合物のことを言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、１６０℃以下であり、１１５℃以下が更に好ましく、最も好ましくは３０℃以上１００℃以下である。
量子ドット含有組成物が実質揮発性の有機溶媒を含有しない場合、量子ドット含有組成物中、揮発性の有機溶媒の割合が１００００ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
量子ドットは、量子ドット含有組成物の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。

（硬化性化合物）
本発明で用いる硬化性化合物は、１分子中に１つ以上の重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。

−（メタ）アクリレート系−
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明および本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。

−−２官能のもの−−
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本発明では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。

２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、量子ドット含有組成物の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

−−３官能以上のもの−−
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本発明では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
具体的には、エピクロロヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ（ＥＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ（ＰＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。

これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の量子ドット含有層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、組成物のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

−−単官能のもの−−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、量子ドット含有組成物の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

−エポキシ系化合物他−
本発明で用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、基材との密着性が向上する傾向にある。
エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。

その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。

これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。

エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＭ１００、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド３０００、セロキサイド８０００、エポリードＧＴ３０１、エポリードＧＴ４０１（以上、ダイセル化学工業（株）製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、日本テルペン化学（株）のＤ−リモネンオキサイド、新日本理化（株）のサンソサイザーＥ−ＰＳ等、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル（株）製）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、旭電化工業（株）製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
中でも、波長変換層と隣接する層との密着性向上の観点からは、下記の脂環式エポキシ化合物Ａ、Ｂが特に好ましい。脂環式エポキシ化合物Ａは、市販品としてはダイセル化学工業（株）セロキサイド２０２１Ｐとして入手することができる。脂環式エポキシ化合物Ｂは、市販品としてはダイセル化学工業（株）サイクロマーＭ１００として入手することができる。

また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ、２１３〜、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ Ａｌｆｒｅｄ Ｈａｓｆｎｅｒ，Ｔｈｅ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＯＦ ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ Ｒｉｎｇ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ ｐａｒｔ３ Ｏｘｉｒａｎｅｓ，Ｊｏｈｎ ＆ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ， Ａｎ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，
１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

本発明で用いる硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。

これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Ｓｔｅｐｈｅｎ．Ｃ．Ｌａｐｉｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｐａｉｎｔ Ｃｏｌｏｕｒ Ｊｏｕｒｎａｌ．１７９（４２３７）、３２１（１９８８）に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明の量子ドット含有組成物には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。

（チキソトロピー剤）
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。

−無機物−
チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機物のチキソトロピー剤である。
無機物のチキソトロピー剤の場合は、アスペクト比１．２〜３００の無機粒子であることが好ましく、２〜２００の無機粒子であることがより好ましく、５〜２００の無機粒子であることが特に好ましく、５〜１００の無機粒子であることがより特に好ましく、５〜５０の無機粒子であることがさらにより特に好ましい。この範囲にすることで、併用する量子ドット粒子の存在状態を制御でき、無機物のチキソ剤に起因する不要な内部散乱を低減でき、コントラスト向上に有効である。

本発明においては、無機物のチキソトロピー剤の長軸長さ及びアスペクト比は、以下のようにして求めた。量子ドット含有積層体を基材に対して法線方向に切断し、厚さ５０ｎｍの切片を作製した。その断面の量子ドット含有層部分を透過型電子顕微鏡を用いて１５万倍の写真を撮影した。無機物のチキソトロピー剤に互いに直交する２軸（ｘ軸、ｙ軸）を適用し、最も長い方向をｘ軸とし、ｘ軸に沿って長さを測定し長軸長さとした。またｘ軸と直交する方向のｙ軸を定め、ｙ軸に沿って最も長い長さを短軸長さとした。ここでｙ軸に沿って最も短い長さを短軸長さとしない理由は、化合物末端のごく一部で非常に薄い結晶になっている場合もあるため、最も短い長さを採用することは無機物のチキソトロピー剤の状態の表現に適切でないからである。本発明において、［長軸長さ］／［短軸長さ］の比率を無機物のチキソトロピー剤のアスペクト比と定義する。視野中の１００個の無機物のチキソトロピー剤を観察してその平均値を求めた。
本発明における無機物のチキソトロピー剤は、長軸長さが２０ｎｍ以上９μｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
一つの態様として、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが特に好ましい。この範囲にすることで、無機物のチキソトロピー剤の添加量を多量添加せずにチキソ性を制御することができ、量子ドット含有層の脆性を維持することができる。
一つの態様として、１００ｎｍ以上５μｍ以下であることが特に好ましい。この範囲にすることで、無機物のチキソトロピー剤の添加量を多量添加せずにチキソ性を制御することができ、量子ドット含有層の脆性を維持することができる。
本発明および本明細書において、直交、等の角度に関する記載については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

無機物のチキソトロピー剤で上記アスペクト比を満たすものは特に制限無く用いることができるが、たとえば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。

層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。
これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、白石工業（株）製）、カオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、土屋カオリン工業（株）製）、ＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、エンジェルハード（株）製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、丸尾カルシウム（株）製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）、スメクトン（クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、ホージュン（株）製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、日本シリカ工業（株）製）などが挙げられる。これらのなかから、目的のアスペクト比およびサイズのものを選択して使用することができる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。

量子ドット含有組成物に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）₂Ｏ・ｙＳｉＯ₂で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（ＩＩ）Ｏ、Ｍ（ＩＩＩ）₂Ｏ₃に相当するものもある。ｘ、ｙは正の数を表す）であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。
特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物（珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの）が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。
アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％〜２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。
アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ−３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明においては、無機物のチキソトロピー剤として、そのアスペクト比に関係なく、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。

−有機物−
チキソトロピー剤の別の態様は、有機物のチキソトロピー剤である。
有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。

前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００−２０（商品名、楠本化成（株）製）、フローノンＳＡ３００（商品名、共栄社化学（株）製）等があげられる。

前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。

−含有量−
チキソトロピー剤の含有量は、量子ドット含有組成物中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜８質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量部以下であると、脆性が良化方向にある。

（重合開始剤）
上記量子ドット含有組成物は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００３７を参照でき、光カチオン重合開始剤としては、特開２００７−２９８９７４号公報段落０２１７を参照でき、これらの公報の記載は本明細書に組み込まれる。「最新ＵＶ硬化技術」、（株）技術情報協会、１９９１年、ｐ．１５９、および、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。光カチオン重合開始剤としては以下の化合物も好ましい。

重合開始剤は、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に対する重合開始剤の質量％として、０．１質量％〜１０質量％含むことが好ましく、更に好ましくは０．２質量％〜８質量％である。

（シランカップリング剤）
シランカップリング剤を含む量子ドット含有組成物から形成される光変換層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐光性を示すことができる。これは主に、量子ドット含有層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光変換層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、量子ドット含有層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、量子ドット含有層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。

一般式（１）

（一般式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ¹〜Ｒ⁶のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）

Ｒ¹〜Ｒ⁶は、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ¹〜Ｒ⁶は、メチル基が特に好ましい。

Ｒ¹〜Ｒ⁶のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ¹〜Ｒ⁶の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ¹〜Ｒ³の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ⁴〜Ｒ⁶のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。
一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。

ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。

また、Ｒ¹〜Ｒ⁶はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。

以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、量子ドット含有層形成用の量子ドット含有組成物中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。

本発明においては、量子ドット含有組成物中には、前述の揮発性有機溶媒を用いることができる。好ましい態様は、量子ドット含有組成物が実質揮発性の有機溶媒を含有しない態様である。また別の態様としては、揮発性の有機溶剤を量子ドット含有組成物中に含ませることが可能であり、例えば１０質量％以上５０質量％以下含むことが可能であり、１０質量％以上４０質量％含有することも可能である。用いることの出来る溶媒の具体例は、特開２０１３−１０５１６０号広報段落００３８〜００４１を参照できる。

（第１の基材、第２の基材）
本発明の量子ドット含有積層体の製造方法では、上記第１の基材と上記第２の基材のうち少なくとも一方が、可とう性のフィルムであることが好ましい。
また、上記第１の基材と上記第２の基材のうち少なくとも一方が、可とう性の支持体と、バリア性を有する無機層とを有するバリアフィルムであることが好ましい。

−可とう性のフィルム、可とう性の支持体−
上記第１の基材と上記第２の基材は、強度向上、製膜の容易性等のため、可とう性のフィルムまたは可とう性の支持体を有していてもよい。
可とう性のフィルムまたは可とう性の支持体は、量子ドット含有層（波長変換層）に隣接してまたは直接接する層として含まれていてもよく、後述のバリアフィルムの支持体として含まれていてもよい。量子ドット含有積層体において、基材は、後述の無機層、および支持体がこの順となるように含まれていてもよく、後述の無機層、後述の有機層、および支持体がこの順となるように含まれていてもよい。量子ドット含有積層体において、有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間に、支持体を配置してもよい。また、基材は、量子ドット含有積層体中に２つまたは３つ以上含まれていてもよく、量子ドット含有積層体は、基材、量子ドット含有層（波長変換層）、基材がこの順で積層された構造を有していてもよい。波長変換部材が２つ以上の基材を含む場合、かかる基材は同一であっても異なっていてもよい。
基材、可とう性のフィルムまたは可とう性の支持体は、可視光に対して透明であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ（Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｓｔａｎｄａｒｄｓ）−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。
基材の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、１０〜５００μｍの範囲内、中でも２０〜４００μｍの範囲内、特に３０〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。
支持体については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。支持体の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、１０〜５００μｍの範囲内、中でも１５〜３００μｍの範囲内、特に１５〜１２０μｍの範囲内、より特に１５〜１００μｍの範囲内、更には２５〜１１０μｍ、より更には２５〜６０μｍであることが好ましい。可とう性のフィルムまたは可とう性の支持体として、市販品を用いてもよく、例えば易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）フィルムである東洋紡（株）製 コスモシャインＡ４１００などを用いることができる。
支持体は上述の第１の基材および第２の基材のいずれか、または双方に用いることもできる。第１の基材および第２の基材の双方が支持体を含む場合、同一であっても異なっていてもよい。

−無機層−
上記第１の基材または上記第２の基材は、無機層を含んでいてもよい。無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層の酸素透過係数はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層をシリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過係数を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。
無機層は、量子ドット含有層（波長変換層）に隣接してまたは直接接する層として波長変換部材に含まれていることが好ましい。また、無機層は、量子ドット含有積層体中に２つまたは３つ以上含まれていてもよく、量子ドット含有積層体は、無機層、波長変換層、無機層がこの順で積層された構造を有していることが好ましい。無機層としては、ガスバリア機能を有するバリアフィルムを用いることが好ましい。
量子ドット含有積層体において、量子ドット含有層（波長変換層）はバリアフィルムを基材として形成されていてもよい。また、バリアフィルムは上述の第１の基材および第２の基材のいずれか、または双方に用いることもできる。第１の基材および第２の基材の双方がバリアフィルムであるとき、同一であっても異なっていてもよい。

バリアフィルムとしては、公知のいずれのバリアフィルムであってもよく、例えば以下に説明するバリアフィルムであってもよい。
バリアフィルムは少なくとも無機層を含んでいればよく、基材フィルムおよび無機層を含むフィルムであってもよい。基材フィルムについては、上記の支持体の記載を参照できる。バリアフィルムは、基材フィルム上に少なくとも上記の無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むバリア積層体を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリアフィルムは、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
バリアフィルムの酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．０１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．００１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、３８０〜７８０ｎｍの波長帯域をいうものとし、全光線透過率とは、量子ドットを含む波長変換層の光吸収および反射の寄与を除いた光透過率の平均値を示す。
可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは９０％以上である。酸素透過率は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。

「無機層」とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。これに対し、有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。

上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば製膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種製膜方法を用いることができる。

無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）、酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を製膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基材としてその表面に行えばよい。

酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサンを用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。

無機層の厚さは、１ｎｍ〜５００ｎｍであればよく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い量子ドット含有積層体を提供することができるからである。

量子ドット含有積層体において、一態様では、量子ドット含有層の少なくとも一方の主表面が無機層と直接接していることが好ましい。量子ドット含有層の両主表面に無機層が直接接していることも好ましい。また一態様では、量子ドット含有層の少なくとも一方の主表面が有機層と直接接していることが好ましい。量子ドット含有層の両主表面に有機層が直接接していることも好ましい。ここで「主表面」とは、波長変換部材使用時に視認側またはバックライト側に配置される量子ドット含有層（すなわち波長変換層）の表面（おもて面、裏面）をいう。他の層や部材についての主表面も、同様である。また、無機層と有機層との間、二層の無機層の間、または二層の有機層の間を、公知の接着層により貼り合わせてもよい。光透過率向上の観点からは、接着層は少ないほど好ましく、接着層が存在しないことがより好ましい。一態様では、無機層と有機層とが直接接していることが好ましい。

−有機層−
有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、一態様では、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。

なお本発明および本明細書において、ポリマーとは、同一または異なる２以上の化合物が重合反応により重合した重合体をいい、オリゴマーも包含する意味で用いるものとし、その分子量は特に限定されるものではない。また、ポリマーは、重合性基を有するポリマーであって、加熱、光照射等の重合性基の種類に応じた重合処理を施されることにより更に重合することができるものであってもよい。なお、先に記載した脂環式エポキシ化合物、単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物等の重合性化合物が、上記意味でのポリマーに該当するものであってもよい。

無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。

−基材幅−
上記第１の基材と上記第２の基材の幅（基材幅）は特に制限はないが、例えば３００〜１５００ｍｍとすることができる。
なお、上記第１の基材と上記第２の基材の幅（基材幅）よりも狭い幅で、量子ドット含有組成物を塗工することが好ましい。量子ドット含有組成物の塗工幅は、上記第１の基材と上記第２の基材の幅（基材幅）よりも１０〜２００ｍｍ狭くすることが好ましい。

（工程Ａの具体的態様）
本発明の量子ドット含有積層体の製造方法の工程Ａの一態様を、図面を参照し、以下に説明する。ただし、本発明は、下記態様に限定されるものではない。
図３は、波長変換部材の製造装置の一例の概略構成図であり、図４は、図３に示す製造装置の部分拡大図である。
図３、４に示す製造装置を用いる波長変換部材の製造工程は、工程Ａが連続搬送される第１の基材の表面に量子ドット含有組成物を塗布し塗膜を形成する工程であることが好ましい。工程Ｂは、塗膜の上に、連続搬送される第２の基材をラミネートし（重ねあわせ）、第１の基材と第２の基材とで塗膜を挟持する工程であることが好ましい。工程Ｃは、第１の基材と第２の基材とで塗膜を挟持した状態で、第１の基材、および第２の基材の何れかをバックアップローラに巻きかけて、連続搬送しながら光照射し、塗膜を重合硬化させて量子ドット含有層（硬化層、波長変換層）を形成する工程であることが好ましい。
第１の基材、第２の基材のいずれか一方として酸素や水分に対するバリア性を有するバリアフィルムを用いることにより、片面がバリアフィルムにより保護された波長変換部材を得ることができる。また、第１の基材および第２の基材として、それぞれバリアフィルムを用いることにより、量子ドット含有層の両面がバリアフィルムにより保護された量子ドット含有積層体を得ることができる。

図３、４に示す製造装置を用いる波長変換部材の製造工程における工程Ａの具体的態様を以下において説明する。
まず、図示しない送出機から第１の基材１０が塗布部２０へと連続搬送される。送出機から、例えば、第１の基材１０が１〜５０ｍ／分の搬送速度で送り出される。但し、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、第１の基材１０には、２０〜１５０Ｎ／ｍの張力、好ましくは３０〜１００Ｎ／ｍの張力が加えられる。

塗布部２０では、連続搬送される第１の基材１０の表面に量子ドット含有組成物（以下、「塗布液」とも記載する。）が塗布され、塗膜２２（図４参照）が形成される。
塗布部２０に到達する前の配管（不図示）において、量子ドット含有組成物の濾過を行って、粗大粒子を取り除くことが好ましい。濾過精度としては特に制限はないが、濾過精度１０〜２００μｍのフィルタを用いることができ、濾過精度５０〜１５０μｍのフィルタを用いることが好ましい。フィルタとしては、例えば濾過精度１００μｍのＰＡＬＬ製 プロファイルＩＩを用いることができる。
塗布部２０では、例えば、ダイコーター２４と、ダイコーター２４に対向配置されたバックアップローラ２６とが設置されている。第１の基材１０の塗膜２２の形成される表面と反対の表面をバックアップローラ２６に巻きかけて、連続搬送される第１の基材１０の表面にダイコーター２４の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜２２が形成される。ここで塗膜２２とは、第１の基材１０上に塗布された重合処理前の量子ドット含有組成物をいう。

本実施の形態では、塗布装置としてエクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター２４を示したが、これに限定されない。例えば、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法等、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。

量子ドット含有層は、塗布法により作製される。具体的には、工程Ａでは量子ドット含有組成物（硬化性組成物）を第１の基材上に塗布し、次いで前述の工程Ｂや工程Ｃを経て光照射等により硬化処理を施すことにより量子ドット含有層を得ることができる。
工程Ａでは量子ドット含有組成物を、適当な第１の基材上に塗布する。工程Ａの後、量子ドット含有組成物を塗布後に、乾燥して溶媒を除去する工程をさらに含んでいてもよい。
塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、ダイコーティング法（スロットコーティング法）、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。

（粘度）
量子ドット含有組成物は、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である。
量子ドット含有組成物は、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜７５ｍＰａ・ｓであることが好ましく、３〜５０ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。
量子ドット含有組成物は、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上であり、３００〜５００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、５００〜１００００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。

本発明の量子ドット含有積層体の製造方法では、少なくとも上記第１の基材の上に上記量子ドット含有組成物を塗布する時の上記量子ドット含有組成物の粘度を３〜１００ｍＰａ・ｓに調整することが好ましい。上記第１の基材の上に上記量子ドット含有組成物を塗布する時の上記量子ドット含有組成物の粘度を３〜１００ｍＰａ・ｓに調整する方法としては特に制限はないが、例えば上記量子ドット含有組成物を図３に示すダイコーター２４を用いて第１の基材の上に塗布する場合は、ダイコーターの基材との間隙（リップクリアランスという）を調整するとともに塗布速度等を適切な範囲に制御して、適度な剪断速度が量子ドット含有組成物にかかるようにする方法を挙げることができる。
その他、上記第１の基材の上に上記量子ドット含有組成物を塗布する時の上記量子ドット含有組成物の粘度を３〜１００ｍＰａ・ｓに調整する方法として、以下の方法を挙げることができる。
例えば上記塗膜の粘度に対する温度依存性が強い場合は、温度を調整することで粘度を調整することができ、予め塗布液のチキソ性をチキソトロピー剤の種類と事前分散状態で調整し粘度が回復する時間応答遅れを利用する方法も可能である。

工程Ａの後から工程Ｂの前までに、上記塗膜に紫外線を照射する工程を含まないことが、工程数を減らして生産性を高める観点から、好ましい。

＜工程Ｂ＞
上記塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂについて説明する。

（工程Ｂの具体的態様）
図３、４に示す製造装置を用いる波長変換部材の製造工程における工程Ｂの具体的態様を以下において説明する。
塗布部２０を通過し、その上に塗膜２２が形成された第１の基材１０は、ラミネート部３０に連続搬送される。ラミネート部３０では、塗膜２２の上に、連続搬送される第２の基材５０がラミネートされ、第１の基材１０と第２の基材５０とで塗膜２２が挟持される。

ラミネート部３０には、ラミネートローラ３２と、ラミネートローラ３２を囲う加熱チャンバー３４とが設置されている。加熱チャンバー３４には第１の基材１０を通過させるための開口部３６、および第２の基材５０を通過させるための開口部３８が設けられている。

ラミネートローラ３２に対向する位置には、バックアップローラ６２が配置されている。塗膜２２の形成された第１の基材１０は、塗膜２２の形成面と反対の表面がバックアップローラ６２に巻きかけられ、ラミネート位置Ｐへと連続搬送される。ラミネート位置Ｐは第２の基材５０と塗膜２２との接触が開始する位置を意味する。第１の基材１０はラミネート位置Ｐに到達する前にバックアップローラ６２に巻きかけられることが好ましい。仮に第１の基材１０にシワが発生した場合でも、バックアップローラ６２によりシワがラミネート位置Ｐに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、第１の基材１０がバックアップローラ６２に巻きかけられた位置（接触位置）と、ラミネート位置Ｐまでの距離Ｌ１は長い方が好ましく、例えば、３０ｍｍ以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ６２の直径とパスラインとにより決定される。

本実施の形態では重合処理部６０で使用されるバックアップローラ６２とラミネートローラ３２とにより第２の基材５０のラミネートが行われる。即ち、重合処理部６０で使用されるバックアップローラ６２が、ラミネート部３０で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部３０に、バックアップローラ６２と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ６２を兼用しないようにすることもできる。

重合処理部６０で使用されるバックアップローラ６２をラミネート部３０で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ６２は、第１の基材１０に対するヒートローラとしても使用できる。

図示しない送出機から送出された第２の基材５０は、ラミネートローラ３２に巻きかけられ、ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２との間に連続搬送される。第２の基材５０は、ラミネート位置Ｐで、第１の基材１０に形成された塗膜２２の上にラミネートされる。これにより、第１の基材１０と第２の基材５０とにより塗膜２２が挟持される。ラミネートとは、第２の基材５０を塗膜２２の上に重ねあわせ、積層することをいう。

ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２との距離Ｌ２は、第１の基材１０と、塗膜２２を重合硬化させた波長変換層（硬化層）２８と、第２の基材５０と、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、Ｌ２は第１の基材１０と塗膜２２と第２の基材５０との合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下であることが好ましい。距離Ｌ２を合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下にすることより、第２の基材５０と塗膜２２との間に泡が侵入することを防止することができる。ここでラミネートローラ３２とバックアップローラ６２との距離Ｌ２とは、ラミネートローラ３２の外周面とバックアップローラ６２の外周面との最短距離をいう。

ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２の回転精度は、ラジアル振れで０．０５ｍｍ以下、好ましくは０．０１ｍｍ以下である。ラジアル振れが小さいほど、塗膜２２の厚み分布を小さくすることができる。

バックアップローラ６２は、円柱状の形状の本体と、本体の両端部に配置された回転軸とを備えている。バックアップローラ６２の本体は、例えば、５０〜１０００ｍｍの直径を有している。バックアップローラ６２の直径について制限はない。量子ドット含有積層体のカール変形と、設備コストと、回転精度とを考慮すると直径１００〜５００ｍｍであることがより好ましく、直径１００〜５００ｍｍであることが特に好ましく、直径１００〜３００ｍｍであることがより特に好ましい。
バックアップローラ６２の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ６２の温度を調整することができる。

また、上記工程Ｂは次のような実施態様であってもよい。図５、６を用いて説明する。本工程Ａで得られた量子ドット含有層上に第２の基材を積層する際に２つのロール（ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２）で挟み密着させる方式であって、少なくとも一方のロールが弾性変形し、（第１の基材の上に配置された）塗膜の上に第２の基材を積層した積層体に圧力を付与しつつ、密着させることが好ましい。２つのロールのうち、一方が弾性変形することができるロールであり、もう一方が弾性変形しない金属製ロールであることが、より好ましい。ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２のうち、ラミネートローラ３２が弾性変形することができるロールであり、もう一方が弾性変形しない金属製ロールであることが特に好ましい。但し弾性変形することができるロールがバックアップローラ６２であり、金属製ロールがラミネートローラ３２であってもよい。
弾性変形することができるロールが、少なくともロールの内筒または外筒の少なくとも一方がゴム又はプラスチックからなることが好ましく、ゴムからなることがより好ましい。ゴムとしては、天然ゴム及びブチルゴム、スチレンゴム等が好ましい。
弾性変形することができるロールはゴム硬度２０〜９０°の範囲であることが好ましく、５０〜９０°の範囲であることがより好ましく、７０〜８０°の範囲であることが特に好ましい。
弾性変形することができるロールの直径は特に制限はないが、直径５０〜５００ｍｍであることが好ましく、直径１００〜５００ｍｍであることがより好ましく、直径１００〜３００ｍｍであることが特に好ましい。金属製ロールの直径は特に制限はないが、直径５０〜５００ｍｍであることが好ましく、直径１００〜５００ｍｍであることがより好ましく、直径１００〜３００ｍｍであることが特に好ましい。
塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂでは、線圧５〜３００Ｎ／ｃｍの間でニップして塗膜の上に第２の基材を貼り合わせていくことが好ましく、線圧１０〜２００Ｎ／ｃｍの間でニップすることがより好ましく、線圧３０〜１００Ｎ／ｃｍの間でニップすることが特に好ましい。また貼り合わせ方法に制約はなく、ニップロールを用いない貼り合わせ方法でもよい。

また、第１の基材１０と第２の基材５０とで塗膜２２を挟持した後の熱変形を抑制するため、重合処理部６０のバックアップローラ６２の温度と第１の基材１０の温度との差、およびバックアップローラ６２の温度と第２の基材５０の温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。

バックアップローラ６２の温度との差を小さくするため、加熱チャンバー３４が設けられている場合には、第１の基材１０、および第２の基材５０を加熱チャンバー３４内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバー３４には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、第１の基材１０、および第２の基材５０を加熱することができる。

第１の基材１０が、温度調整されたバックアップローラ６２に巻きかけられることにより、バックアップローラ６２によって第１の基材１０を加熱してもよい。

一方、第２の基材５０については、ラミネートローラ３２をヒートローラとすることにより、第２の基材５０をラミネートローラ３２で加熱することができる。
ただし、加熱チャンバー３４、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。

（粘度）
本発明の量子ドット含有積層体の製造方法では、少なくとも上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する直前から上記塗膜を硬化する直前までの上記塗膜の粘度を３００ｍＰａ・ｓ以上に調整することが好ましい。少なくとも上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する直前から上記塗膜を硬化する直前までの上記塗膜の粘度を３００ｍＰａ・ｓ以上に調整する方法としては特に制限はないが、例えば上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する際に、上記量子ドット含有組成物を図３に示すバックアップローラ６２とバックアップローラ３２を用いる場合、バックアップローラ６２とバックアップローラ３２の周速度を適切な範囲（例えばバックアップローラ６２の周速度の、バックアップローラ３２の周速度に対する割合を９０〜１１０％、好ましくは９５〜１０５％、より好ましくは９９〜１０１％、特に好ましくは１００％）に制御して、剪断速度が量子ドット含有組成物になるべくかからないようにする方法を挙げることができる。
その他、少なくとも上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する直前から上記塗膜を硬化する直前までの上記塗膜の粘度を３００ｍＰａ・ｓ以上に調整する方法として、以下の方法を挙げることができる。
例えば上記塗膜の粘度に対する温度依存性が強い場合は、温度を調整することで粘度を調整することができ、予め塗布液のチキソ性をチキソトロピー剤の種類と事前分散状態で調整し粘度が回復する時間応答遅れを利用する方法も可能である。

＜工程Ｃ＞
上記第１の基材および上記第２の基材に挟まれた上記塗膜に外部刺激を与えて硬化し、量子ドット含有層を形成する工程Ｃについて説明する。
上記塗膜に光照射等の外部刺激を与えることにより重合硬化させて、量子ドット含有層を得ることができる。上記塗膜に外部刺激を与える方法としては、活性エネルギー線の照射や、加熱などを挙げることができ、上記塗膜に紫外線を照射する方法であることが好ましい。
また、硬化条件は、使用する硬化性化合物の種類や量子ドット含有組成物の組成に応じて、適宜設定することができる。
量子ドット含有組成物を、光照射、加熱等の重合処理を施し重合硬化させることにより、マトリックス中に量子ドットを含む量子ドット含有層を形成することができる。
また、量子ドット含有組成物が溶媒を含む組成物である場合には、重合処理を行う前に、溶媒除去のために乾燥処理を施してもよい。

量子ドット含有組成物の重合処理は、この量子ドット含有組成物を２枚の基材間に挟持した状態で行う。

（工程Ｃの具体的態様）
図３、４に示す製造装置を用いる波長変換部材の製造工程における工程Ｃの具体的態様を以下において説明する。
第１の基材１０と第２の基材５０とにより塗膜２２が挟持された状態で、重合処理部６０に連続搬送される。図面に示す態様では、重合処理部６０における重合処理は光照射により行われるが、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付け等の加熱により、重合処理を行うことができる。

図３および図４では、バックアップローラ６２と、バックアップローラ６２に対向する位置には、光照射装置６４が設けられている。バックアップローラ６２と光照射装置６４との間を、塗膜２２を挟持した第１の基材１０と第２の基材５０とが連続搬送される。光照射装置により照射される光は、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。ここで紫外線とは、波長２８０〜４００ｎｍの光をいうものとする。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、レーザー等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ²の照射量の紫外線を塗膜２２に向けて照射することができる。塗膜への光照射量は、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ²とすることができ、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²とすることが好ましく、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ²とすることがより好ましい。

重合処理部６０では、第１の基材１０と第２の基材５０とにより塗膜２２を挟持した状態で、第１の基材１０をバックアップローラ６２に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置６４から光照射を行い、塗膜２２を硬化させて量子ドット含有層（波長変換層、硬化層）２８を形成することができる。

本実施の形態では、第１の基材１０側をバックアップローラ６２に巻きかけて、連続搬送したが、第２の基材５０をバックアップローラ６２に巻きかけて、連続搬送させることもできる。

バックアップローラ６２に巻きかけるとは、第１の基材１０および第２の基材５０の何れかが、あるラップ角でバックアップローラ６２の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、第１の基材１０および第２の基材５０はバックアップローラ６２の回転と同期して移動する。バックアップローラ６２へ巻きかけは、少なくとも紫外線が照射されている間であればよい。

バックアップローラ６２の温度は、光照射時の発熱と、塗膜２２の硬化効率と、第１の基材１０と第２の基材５０のバックアップローラ６２上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ６２は、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。

ラミネート位置Ｐと光照射装置６４との距離Ｌ３は、例えば３０ｍｍ以上とすることができる。

光照射により塗膜２２は硬化層２８となり、第１の基材１０と硬化層２８と第２の基材５０とを含む波長変換部材７０が製造される。波長変換部材７０は、剥離ローラ８０によりバックアップローラ６２から剥離される。波長変換部材７０は、図示しない巻取機に連続搬送され、次いで巻取機により波長変換部材７０はロール状に巻き取られる。

図５は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体の製造方法に用いられる、一般的な製造設備の一例の概略図である。本構成は塗膜の上に第２の基材を積層後に、バックアップローラが無い箇所で紫外線照射する構成図である。
図６は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体の製造方法における塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂと、塗膜に外部刺激を与えて硬化し、量子ドット含有層を形成する工程Ｃに用いられる製造設備の一例の拡大図である。図６は、図５に示す製造装置の部分拡大図である。
また図５、６に示す別の実施形態では、第１の基材１０と第２の基材５０とにより塗膜２２が挟持された状態で、重合処理部に連続搬送される。重合処理部における重合処理は光照射により行われるが、量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付け等の加熱により、重合処理を行うことができる。この場合、光照射はバックアップローラに巻き付けられてなくてもよく、光照射方向も第１の基材側か第２の基材側のどちらか、又はその両者で光照射させてもよい。第１の基材及び第２の基材の両者から光照射する場合は、どちらかが先に光照射されてもよく、また同時に光照射されてもよい。その他、バックアップローラ６２に巻き付けられている間に第２の基材側から光照射された後、バックアップローラに巻き付けられていない状態で第１の基材側からまたは第１及び第２の基材側から光照射しても良い。これらは量子ドット含有積層体を作製する際に適宜選択されるものとする。また量子ドット含有組成物に含まれる硬化性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付け等の加熱により、重合処理を行うことができる。その方法においても同様な硬化位置、方向の選択が可能である。
またバックアップローラ６２の温度は、光照射時の発熱と、塗膜２２の硬化効率と、第１の基材１０と第２の基材５０のバックアップローラ６２上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ６２は、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。同様にバックアップローラに巻き付けられていない状態での硬化を行う場合でもその雰囲気化を温風またはヒーターなどの方法で加熱することも選択できる。
以下、図３、４に戻って説明すると、このようにして光照射により塗膜２２は硬化層２８となり、第１の基材１０と硬化層２８と第２の基材５０とを含む波長変換部材７０が製造される。波長変換部材７０は、図示しない巻取機に連続搬送され、次いで巻取機により波長変換部材７０はロール状に巻き取られる。

［量子ドット含有積層体］
本発明の量子ドット含有積層体は、本発明の量子ドット含有積層体の製造方法で製造される。
本発明の量子ドット含有積層体は、上記第１の基材、上記量子ドット含有層および上記第２の基材が、それぞれ直接接触してこの順で配置される。
また、本発明の量子ドット含有積層体は、膜厚ムラが小さい。膜厚ムラは、以下の方法で求めた値が５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが特に好ましく、２％以下であることがより特に好ましい。
幅方向均等に６点で量子ドット含有積層体（第１の基材、量子ドット含有層および第２の基材の積層体）の膜厚を測定した結果を平均した平均膜厚を求める。平均膜厚から６点で測定した膜厚の差をそれぞれ計算し、そのうちの最大値を平均膜厚で割って百分率で表した値を、ラミネート後の膜厚ムラとする。

＜波長変換部材＞
本発明の量子ドット含有積層体は、波長変換部材として用いることができ、液晶表示装置などに組み込んで用いることができる。
波長変換部材は、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む量子ドット含有層（波長変換層）を有する波長変換部材である。上述の波長変換部材は、上記量子ドット含有層（波長変換層）に第１の基材および第２の基材が直接接する。その中でも、量子ドット含有層（波長変換層）に直接接する隣接無機層を有することが好ましい。ここで、直接接するとは、接着層などの他の層を介さずに二層が隣接配置されていることをいうものとする。そして、上記量子ドット含有層（波長変換層）は、量子ドットを有機マトリックス中に含むことが好ましく、シランカップリング剤を更に含むことが好ましい。
無機層はバリア性に優れるため、量子ドットを有機マトリックス中に含む量子ドット含有層に直接接する隣接層として無機層を設けることは、量子ドットの光酸化反応を抑制するうえで有効である。量子ドット含有積層体が、量子ドット含有層（波長変換層）に、シランカップリング剤を含んでいてもよい。このシランカップリング剤により、量子ドット含有層と隣接無機層との密着が強固なものとなることにより、バリア性を有する層を多数積層しなくとも、量子ドット含有層の耐光性を高めることが可能となる。こうして、量子ドットを含む波長変換部材であって、耐光性、光透過率がともに高い波長変換部材を提供することができる。
以下、上記波長変換部材について、更に詳細に説明する。

（波長変換層）
波長変換部材として用いられる量子ドット含有積層体は、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層（量子ドット含有層）を有する。

波長変換部材における波長変換層は、通常、量子ドットを有機マトリックス中に含む。有機マトリックスは、通常、硬化性化合物を光照射等により重合させた重合体である。
波長変換層の形状は特に限定されるものではないが、板状または可とう性のシート状が好ましい。

波長変換層の総厚は、好ましくは１〜５００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲であり、特に好ましくは３０〜１５０μｍの範囲である。また、波長変換層が複数の量子ドット層または量子ドット混合層を含む場合、一層の膜厚は、好ましくは１〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲である。

［バックライトユニット］
本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、本発明の量子ドット含有積層体と、光源と、を少なくとも含む。量子ドット含有積層体の詳細は、先に記載した通りである。

上記量子ドット含有積層体は、好ましくは、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として含まれる。

図１は、本発明の一態様にかかる量子ドット含有積層体を含むバックライトユニット１の一例の説明図である。図１中、バックライトユニット１は、光源１Ａと、面光源とするための導光板１Ｂを備える。図１（ａ）に示す例では、量子ドット含有積層体は、導光板から出射される光の経路上に配置されている。一方、図１（ｂ）に示す例では、光変換部材は、導光板と光源との間に配置されている。
そして図１（ａ）に示す例では、導光板１Ｂから出射される光が、量子ドット含有積層体１Ｃに入射する。図１（ａ）に示す例では、導光板１Ｂのエッジ部に配置された光源１Ａから出射される光２は青色光であり、導光板１Ｂの液晶セル（図示せず）側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板１Ｂから出射された光（青色光２）の経路上に配置された量子ドット含有積層体１Ｃには、青色光２により励起され赤色光４を発光する量子ドット（Ａ）と、青色光２により励起され緑色光３を発光する量子ドット（Ｂ）を、少なくとも含む。このようにしてバックライトユニット１からは、励起され発光した緑色光３および赤色光４、ならびに量子ドット含有積層体１Ｃを透過した青色光２が出射される。こうして赤色（Ｒ）光、緑色（Ｇ）光および青色（Ｂ）光の輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
図１（ｂ）に示す例は、光変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図１（ａ）に示す態様と同様である。図１（ｂ）に示す例では、量子ドット含有積層体１Ｃから、励起された緑色光３および赤色光４、ならびに量子ドット含有積層体１Ｃを透過した青色光２が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。

＜バックライトユニットの発光波長＞
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。好ましい一態様としては、
４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、
５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、
６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、
を発光するバックライトユニットを挙げることができる。
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４５０〜４８０ｎｍであることが好ましく、４６０〜４７０ｎｍであることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５２０〜５５０ｎｍであることが好ましく、５３０〜５４０ｎｍであることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６１０〜６８０ｎｍであることが好ましく、６２０〜６４０ｎｍであることがより好ましい。

また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４０ｎｍ以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が３０ｎｍ以下であることが、特に好ましい。

バックライトユニットは、少なくとも、上記光変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、量子ドット含有積層体には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット（Ａ）と、緑色光を発光する量子ドット（Ｂ）が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され量子ドット含有積層体を透過した青色光と、光変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
または他の態様では、光源として、３００ｎｍ〜４３０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、光変換層には、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット（Ｃ）が含まれることが好ましい。これにより、量子ドット含有積層体から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
また他の態様では、青色光を発光する青色レーザー、緑色光を発光する緑色レーザー、赤色光を発光する赤色レーザーからなる群から選ばれる光源の二種を用い、この光源が出射する光とは異なる発光波長を有する蛍光を発光する量子ドットを、量子ドット含有積層体に存在させることにより、光源から発光される二種の光と、量子ドット含有積層体の量子ドットから発光される光により、白色光を具現化することもできる。

＜散乱粒子＞
波長変換部材は、量子ドットの蛍光を効率よく外部に取り出すために光散乱機能を有することができる。光散乱機能は、波長変換層の内部に設けてもよいし、光散乱層として光散乱機能を有する層を別途設けてもよい。
一態様として、波長変換層の内部に散乱粒子を添加することも好ましい。
また別の一態様として、波長変換層の表面に光散乱層を設けることも好ましい。光散乱層での散乱は、散乱粒子に依ってもよいし、表面凹凸に依ってもよい。

＜バックライトユニットの構成＞
バックライトユニットの構成としては、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であることができる。図１には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示したが、本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。

また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

バックライトユニットが、青色光のうち４６０ｎｍよりも短波長の光を選択的に透過する青色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
また、バックライトユニットが、赤色光のうち６３０ｎｍよりも長波長の光を選択的に透過する赤色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
このような青色用波長選択フィルタや赤色用波長選択フィルタとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのようなフィルタは、特開２００８−５２０６７号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

［液晶表示装置］
本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、本発明のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む。

＜液晶表示装置の構成＞
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。

液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは２枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（又はそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。

図２に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図２に示す液晶表示装置５１は、液晶セル２１のバックライト側の面にバックライト側偏光板１４を有する。バックライト側偏光板１４は、バックライト側偏光子１２のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム１１を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
バックライト側偏光板１４は、偏光子１２が、２枚の偏光板保護フィルム１１および１３で挟まれた構成であることが好ましい。
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図２に示す例では、偏光板保護フィルム１３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム１１がアウター側偏光板保護フィルムである。

バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。

液晶表示装置５１は、液晶セル２１のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板４４を有する。表示側偏光板４４は、偏光子４２が、２枚の偏光板保護フィルム４１および４３で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム４３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム４１がアウター側偏光板保護フィルムである。

液晶表示装置５１が有するバックライトユニット１については、先に記載した通りである。

本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。

（カラーフィルター）
カラーフィルター基板の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）画素形成方法としては、公知の種々の方法を使用することができる。例えば、ガラス基板上にフォトマスク、およびフォトレジストを用いて所望のブラックマトリックス、およびＲ、Ｇ、Ｂの画素パターンを形成することもできるし、また、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、所定の幅のブラックマトリックス、およびｎ個置きにブラックマトリックスの幅よりも広いブラックマトリックスで区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の印刷装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルターを作製することもできる。画像着色後は、ベーク等することで各画素及びブラックマトリックスを完全に硬化させてもよい。
カラーフィルターの好ましい特性は特開２００８−０８３６１１号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
カラーフィルター用顔料としては、公知のものを何ら制限なく用いることができる。なお、現在は、一般的に顔料を用いているが、分光を制御でき、プロセス安定性、信頼性が確保できる色素であれば、染料によるカラーフィルターであってもよい。

（ブラックマトリックス）
液晶表示装置には、各画素の間にブラックマトリックスが配置されていることが好ましい。ブラックストライプを形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。

（薄層トランジスタ）
液晶表示装置は、さらに薄層トランジスタ（以下、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；ＴＦＴとも言う）を有するＴＦＴ基板を有することもできる。薄層トランジスタは、キャリア濃度が１×１０¹⁴／ｃｍ³未満である酸化物半導体層を有することが好ましい。薄層トランジスタの好ましい態様については特開２０１１−１４１５２２号公報に記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、高い光透過率を発揮し得る量子ドット含有積層体を含むバックライトユニットを備えるため、高輝度かつ高い色再現性を実現することができるものである。

以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１〜１１および比較例１〜５］
＜量子ドット分散液の調製＞
下記の量子ドット分散液１及び２を、各成分を混合して、調製した。発光極大波長５３５ｎｍの量子ドットＡはＮＮ−ラボズ社製ＣＺ５２０−１００である。発光極大波長６３０ｎｍの量子ドットＢは、ＮＮ−ラボズ社製ＣＺ６２０−１００である。

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量子ドット分散液１
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量子ドットＡ（発光極大：５３５ｎｍ） ０．１質量部
量子ドットＢ（発光極大：６３０ｎｍ） ０．０１質量部
１官能メタクリレート（ラウリルメタクリレート） ７０質量部
２官能アクリレート（ジプロピレングリコールジアクリレート） ２０質量部
３官能アクリレート（トリメチロールプロパントリアクリレート） １０質量部
光重合開始剤：イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製） １質量部
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量子ドット分散液２
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量子ドットＡ（発光極大：５３５ｎｍ） ０．１質量部
量子ドットＢ（発光極大：６３０ｎｍ） ０．０１質量部
１官能メタクリレート（ラウリルメタクリレート） ８０質量部
２官能アクリレート（ジプロピレングリコールジアクリレート） １５質量部
３官能アクリレート（トリメチロールプロパントリアクリレート） ５質量部
光重合開始剤：イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製） １質量部
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量子ドット分散液３
──────────────────────────────────────
量子ドットＡ（発光極大：５３５ｎｍ） ０．１質量部
量子ドットＢ（発光極大：６３０ｎｍ） ０．０１質量部
１官能エポキシ化合物（サイクロマーＭ１００（（株）ダイセル製）） ５０質量部
２官能エポキシ化合物（セロキサイド２０２１Ｐ（株）ダイセル製）） ５０質量部
光カチオン重合開始剤Ａ １質量部
光重合開始剤：イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製） １質量部
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＜量子ドット含有組成物の調製＞
実施例１〜４、比較例１、２では、量子ドット分散液１に対してチキソトロピー剤の種類と量を下記表１に示すように添加して、実施例１〜４、比較例１、２の量子ドット含有組成物を調製した。
実施例５〜９、比較例３、４では、量子ドット分散液２に対してチキソトロピー剤の種類と量を下記表１に示すように添加して、実施例５〜９、比較例３、４の量子ドット含有組成物を調製した。
実施例１０〜１１、比較例５では、量子ドット分散液３に対してチキソトロピー剤の種類と量を下記表１に示すように添加して、実施例１０〜１１、比較例５の量子ドット含有組成物を調製した。
各実施例および比較例で用いたチキソトロピー剤の種類を以下に示す。
Ａ：有機修飾スメクタイト（層状粘土化合物）、アスペクト比２０、長径０．１５μｍ
Ｂ：シリカ微粒子、アスペクト比１．４、長径０．２５μｍ
Ｃ：変性ウレア化合物
Ｄ：タルク（層状粘土化合物）、アスペクト比３、長径１．２μｍ
各実施例および比較例で用いた光カチオン重合開始剤Ａの構造を以下に示す。

＜塗布前処理＞
各実施例および比較例の量子ドット含有組成物は、事前にディゾルバーで１０Ｌの塗液を１５０ｒｐｍ（ｒｏｕｎｄ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）にて３０分程度攪拌し、同時に超音波脱泡を実施（使用超音波発信器はブランソン製 Ｂｒａｎｓｏｎｉｃ８８００を用いて水を介在してポリ容器内のこの液に超音波出力２８０Ｗ、周波数 ４０ｋＨで照射した）した。その後、濾過精度が１００μｍのフィルタ（ＰＡＬＬ プロファイルＩＩ、孔径１００μｍ）で濾過処理を実施して塗布液用の量子ドット含有組成物を調製した。塗布液用の量子ドット含有組成物の粘度を測定し、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度の値と１ｓ^-1の場合の粘度の値を下記表１に記載した。測定はＡｎｔｏｎＰａａｒ製 ＰｈｙｓｉｃａＭＣＲ３０を用いて測定した。

＜塗膜を形成する工程Ａ＞
塗布液用の量子ドット含有組成物をダイヤフラムポンプにて、配管長約２．５ｍで使用して送液し、途中で濾過精度が１００μｍのフィルタ（ＰＡＬＬ製１００μｍ プロファイルＩＩ）を用いて粗大粒子を取り除き、ダイコーター（図５または図６中の符号２４）へ送液した。塗布液用の量子ドット含有組成物（図６中の符号２２）を、塗工幅は６００ｍｍ、基材幅は７００ｍｍで第１の基材（図５または図６中の符号１０）の上に塗工して塗膜を形成した。
ここで、ダイコーターから押し出された塗布液用の量子ドット含有組成物の粘度は、上記撹拌、超音波処理、及びダイコーターのリップクリアランスを適切な範囲に調整して、３〜１００ｍＰａ・ｓに調整した。
尚、第１の基材は、第１の送り出し機（図５中の符号６６）から繰り出された易接着層付きＰＥＴ５０μｍ（東洋紡（株）製 コスモシャインＡ４１００）を用いた。この基材はバリア性を有する無機層を有さない基材であり、下記表１に「ＰＥＴ」と記載した。
塗布速度は各実施例および比較例で随時変更しているが、実施例１では３ｍ／ｍｉｎで実施した。なお、塗膜の厚みの平均値は、下記表１に記載のとおりとなるように各種実施例および比較例で変更して確認した。

＜塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂ（ラミネート）＞
塗膜を形成する工程Ａの後、第２の基材（図５または図６中の符号５０）として上記第１の基材と同じ基材幅７００ｍｍの易接着層付きＰＥＴ５０μｍｍを第２の送り出し機（図５中の符号６７）から繰り出し、塗膜の上に第２の基材を積層した。具体的には、量子ドット含有層を形成する工程Ｃ（硬化工程）の直前において、金属製ロール（直径２００ｍｍ、図５または図６中のバックアップローラ６２）と天然ゴム製ニップロール（直径２００ｍｍ、硬度７５度、図５または図６中のラミネートローラ３２）を用いて線圧５０Ｎ／ｃｍにてニップして、塗膜の上に第２の基材を密着させた。このとき、バックアップローラ６２の周速度の、バックアップローラ３２の周速度に対する割合が１００．０％となるように２つのロールの周速度を制御した。
また、上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する直前から上記塗膜を硬化する直前までの領域において、第１の基材の温度は５０℃となるように制御し、第２の基材の温度は６０℃となるように制御した。
ここで、上記塗膜の上に上記第２の基材を積層する直前から上記塗膜を硬化する直前までの上記塗膜の粘度は、塗液の撹拌、超音波処理、基材温度、バックアップローラ周速度、及びニップ圧力を適切な範囲に調整して、３００ｍＰａ・ｓ以上に調整した。

＜量子ドット含有層を形成する工程Ｃ＞
その後ＵＶ（Ｕｌｔｒａ ｖｉｏｌｅｔ）照射用のバックアップローラ（図５または図６中の符号６２）上で、上記第１の基材および上記第２の基材に挟まれた上記塗膜に外部刺激を与えて（ＵＶ照射をして）硬化（３００ｍＪ／ｃｍ²）し、量子ドット含有層を形成して、量子ドット含有積層体のサンプルを作製した。得られた量子ドット含有積層体を、各実施例および比較例の量子ドット含有積層体とした。

［評価］
＜量子ドット含有組成物の評価＞
（塗布スジ）
各実施例および比較例の量子ドット含有組成物を用いて工程Ａまで行った時点での塗布スジについて、ラミネート前の塗膜の面状を目視観察することで官能的に検査した。
得られた結果を下記表１に記載した。

＜量子ドット含有積層体の評価＞
（ラミネート後の膜厚ムラ（塗布量分布））
工程Ａ、工程Ｂおよび工程Ｃまで行った各実施例および比較例の量子ドット含有積層体について、接触式膜厚計を用いて幅方向均等に６点で量子ドット含有積層体（第１の基材、量子ドット含有層および第２の基材の積層体）の膜厚を測定した結果を平均した平均膜厚を求めた。平均膜厚から６点で測定した膜厚の差をそれぞれ計算し、そのうちの最大値を平均膜厚で割って百分率で表した値を、ラミネート後の膜厚ムラ（塗布量分布）とした。
得られた結果を下記表１に記載した。

＜総合評価＞
Ａ：ラミネート後の膜厚ムラ（塗布量分布）が５％以下、かつ、塗布スジが良好。
Ｂ：ラミネート後の膜厚ムラ（塗布量分布）が５％を超え２０％以下、かつ、塗布スジが良好。
Ｃ：ラミネート後の膜厚ムラ（塗布量分布）が２０％を超える、または、塗布スジが不良。
実用上、総合評価はＡであることが必要である。
得られた結果を下記表１に記載した。

本発明の量子ドット含有積層体の製造方法は工程数が少ないために生産性が高く、さらに上記表１より、塗布スジが生じていない均一な塗膜の量子ドット含有層を得られ、かつ、第１の基材および第２の基材の間に塗膜を挟み込んでラミネートし、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚ムラが小さいことがわかった。
一方、比較例１〜３および５より、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度がそれぞれ８ｍＰａ・ｓ、７５ｍＰａ・ｓ、１５０ｍＰａ・ｓおよび１２０ｍＰａ・ｓであり、本発明で規定する下限値を下回る粘度の量子ドット含有組成物を用いて形成した量子ドット含有積層体は、第１の基材および第２の基材の間に塗膜を挟み込んでラミネートし、塗膜を硬化して量子ドット含有層を形成した後の量子ドット含有積層体の膜厚ムラが大きいことがわかった。
比較例４より、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が２３０ｍＰａ・ｓであり、本発明で規定する範囲の上限値を上回る粘度の量子ドット含有組成物を用いて形成した量子ドット含有積層体は、塗布スジ不良が生じ、均一な塗膜の量子ドット含有層を得られないことがわかった。

実施例９において、実施例９の量子ドット含有組成物１００質量部に対して２０質量部のメチルエチルケトンを加えて混合した量子ドット含有組成物を調製した。この量子ドット含有組成物の粘度は剪断速度５００［Ｓ^-1］で６０ｍＰａ・ｓ（剪断速度１［Ｓ^-1］で７０００ｍＰａ・ｓ）となった。この量子ドット含有組成物を、実施例９の量子ドット含有組成物の代わりに用いて第１の基材の上に塗布し、９０℃５分乾燥した後に第２の基材とラミネートした以外は実施例９と同様にして量子ドット含有積層体の試料を作製した。得られた量子ドット含有積層体は、塗布量分布が２．９％から２．５％と改善された。
なお、実施例１〜１１の量子ドット含有組成物においては、意図的には揮発性の有機溶媒は添加しておらず、量子ドット含有組成物１ｇを直径５ｃｍのシャーレに広げて１００℃５分加熱後の重量減少を測定した結果１０００ｐｐｍ以下であった。

［実施例１０１〜１１１、比較例１０１〜１０５］
＜１．バリア支持体１０の作製＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍ）の片面側に以下の手順でバリア性積層体を形成した。
ＴＭＰＴＡ（Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌ ｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ、ダイセルサイテック社製）および光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＴＯ４６）を用意し、質量比率として９５：５となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトウロールにて上記ＰＥＴフィルム上に塗布し、５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ²）し、ＵＶ硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体（上記ＰＥＴフィルム）上に形成された第一有機層の厚さは、１μｍであった。
次に、ロールトウロールのＣＶＤ装置を用いて、上記有機層の表面に無機層（窒化ケイ素層）を形成した。原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ；ｓｔａｎｄａｒｄ ｃｕｂｉｃ ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。このようにして支持体の上に有機層および無機層がこの順に積層されたバリア支持体１０を作製した。

実施例１〜１１、比較例１〜５において、第１の基材の代わりに、上記１．で作製したバリア支持体１０を第１の基材として使用し、同様にもう一枚作製したバリア支持体１０を第２の基材として使用したこと以外は同様にして、実施例１０１〜１１１、比較例１０１〜１０５の量子ドット含有積層体を形成した。量子ドット分散液は、バリア支持体１０に、無機層が接するような構成とした。
実施例１０１〜１１１、比較例１０１〜１０５の量子ドット含有積層体の性能の傾向は、実施例１〜１１、比較例１〜５の量子ドット含有積層体の性能の傾向と同様であった。

＜２．液晶表示装置の作製＞
市販の液晶表示装置（パナソニック社製商品名ＴＨＬ４２Ｄ２）を分解し、液晶セルがある側の導光板上に実施例１０３、１０５、１０６、１０７〜１１１、比較例１０１〜１０５の量子ドット含有積層体を加え、バックライトユニットを以下のＢ狭帯域バックライトユニットに変更し、実施例１０３、１０５、１０６、１０７〜１１１、比較例１０１〜１０５のバックライトユニットおよび液晶表示装置を製造した。用いたＢ狭帯域バックライトユニットは、光源として、青色発光ダイオード（日亜Ｂ−ＬＥＤ：Ｂｌｕｅ，主波長４６５ｎｍ、半値幅２０ｎｍ）を備える。

［液晶表示装置の評価］
＜輝度ムラの評価＞
液晶表示装置の輝度ムラは、表示装置を白表示して以下の基準による目視による官能評価を行った。表示装置の前面の対角線方向に両端５０ｍｍを除き、両対角線それぞれ等間隔に５点で、７４０ｍｍの距離に設置した輝度計（ＳＲ３、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定した。算出した平均値から１０点で測定したそれぞれの輝度の差を計算し、そのうちの最大値を平均輝度で割って百分率で表した値を、輝度ムラとした。
輝度ムラは、４％以下であれば実用レベルであり、３％以下が好ましい。
また、白色光の色味ムラは以下の４ランクで評価した。
Ａ：面内で色味ムラが気にならない
Ｂ：面内で青味と黄色味方向で色味ムラがあるが許容レベルである。
Ｃ：面内で青味と黄色味方向で色味ムラがあり、気になる。
Ｄ：面内で青味と黄色味方向の色味ムラに加え、赤みと緑み方向の色味ムラがあり、気になる。
その結果、実施例１０３、１０５、１０６、１０７〜１１１の本発明の装置は、比較例１０１〜１０５に対して、輝度ムラが小さく、特に色味ムラの発生が抑制された液晶表示装置であった。

本発明は、液晶表示装置の製造分野において有用である。

１ バックライトユニット
１Ａ 光源
１Ｂ 導光板
１Ｃ 量子ドット含有積層体
２ 青色光
３ 緑色光
４ 赤色光
１０ 第１の基材
１１ 偏光板保護フィルム
１２ バックライト側偏光子
１３ 偏光板保護フィルム
１４ バックライト側偏光板
２０ 塗布部
２１ 液晶セル
２２ 塗膜
２４ ダイコーター
２４Ａ 上流側ダイブロック
２４Ｂ 下流側ダイブロック
２５ 減圧チャンバー
２６ バックアップローラ
２７ マニホールド
２８ 量子ドット含有層
２９ スロット
３０ ラミネート部
３２ ラミネートローラ
３４ 加熱チャンバー
３６、３８ 開口部
４１ 偏光板保護フィルム
４２ 表示側偏光子
４３ 偏光板保護フィルム
４４ 表示側偏光板
５０ 第２の基材
５１ 液晶表示装置
６０ 硬化部
６２ バックアップローラ
６４ 紫外線照射装置
６６ 第１の送り出し機
６７ 第２の送り出し機
７０ 量子ドット含有積層体
７４ 除塵機
７６ 乾燥装置
７８ 加熱装置
８０ 剥離ローラ
８２ 巻き取り機
９０ ニップロール
１００ 製造設備
Ｐ ラミネート位置
Ｌ１ 接触位置と、ラミネート位置までの距離
Ｌ２ ラミネートローラとバックアップローラとの距離
Ｌ３ ラミネート位置と紫外線照射装置との距離

Claims (19)

1. 量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である量子ドット含有組成物を、第１の基材の上に塗布して塗膜を形成する工程Ａと、
   前記塗膜の上に第２の基材を積層する工程Ｂと、
   前記第１の基材および前記第２の基材に挟まれた前記塗膜に外部刺激を与えて硬化し、量子ドット含有層を形成する工程Ｃと、をこの順に有する量子ドット含有積層体の製造方法。
2. 前記チキソトロピー剤が、アスペクト比１．２〜３００の無機粒子である、請求項１に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
3. 前記チキソトロピー剤が、層状化合物である、請求項１または２に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
4. 前記チキソトロピー剤が、酸化ポリオレフィンおよび変性ウレアからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
5. 前記量子ドット含有組成物中、前記チキソトロピー剤の含有量が、前記硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
6. 前記量子ドット含有組成物が、実質揮発性の有機溶媒を含有しない、請求項１〜５のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
7. 前記塗膜に外部刺激を与える方法が、前記塗膜に紫外線を照射する方法である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
8. 前記第１の基材と前記第２の基材のうち少なくとも一方が、可とう性のフィルムである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
9. 前記第１の基材と前記第２の基材のうち少なくとも一方が、可とう性の支持体と、バリア性を有する無機層とを有するバリアフィルムである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
10. 前記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層である、請求項９に記載の量子ドット含有積層体の製造方法。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の量子ドット含有積層体の製造方法で製造された、量子ドット含有積層体。
12. 請求項１１に記載の量子ドット含有積層体と、
    光源と、を少なくとも含む、バックライトユニット。
13. 請求項１２に記載のバックライトユニットと、
    液晶セルと、を少なくとも含む、液晶表示装置。
14. 量子ドット、硬化性化合物およびチキソトロピー剤を含有し、
    剪断速度５００ｓ^-1の場合の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであり、
    剪断速度１ｓ^-1の場合の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以上である、量子ドット含有組成物。
15. 前記チキソトロピー剤が、層状化合物である、請求項１４に記載の量子ドット含有組成物。
16. 前記チキソトロピー剤が、アスペクト比１．２〜３００の無機粒子である、請求項１４または１５に記載の量子ドット含有組成物。
17. 前記チキソトロピー剤が、酸化ポリオレフィンおよび変性ウレアからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１４に記載の量子ドット含有組成物。
18. 前記チキソトロピー剤の含有量が、前記硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部である、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の量子ドット含有組成物。
19. 実質揮発性の有機溶媒を含有しない、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の量子ドット含有組成物。

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