JP6334747B2 - 光変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置、ならびに光変換部材の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光変換部材およびその製造方法に関するものであり、詳しくは、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ、優れた耐光性を有する光変換部材およびその製造方法に関するものである。
更に本発明は、この光変換部材を含むバックライトユニット、およびこのバックライトユニットを含む液晶表示装置にも関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤとも言う）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。

フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）が注目を集めている（特許文献１参照）。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の各輝線光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が小さいため、得られる白色光は高輝度であり、しかも色再現性に優れる。このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のＴＶ規格（ＦＨＤ、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）比７２％から１００％へと拡大している。

ＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１

量子ドットには、酸素に接触すると光酸化反応により発光強度が低下する（耐光性が低い）という課題がある。この点に関し、特許文献１には、量子ドットを酸素等から保護するために、量子ドットを含むフィルムにバリア層を積層することが提案されている。

しかし一方で、バリア層を設けることで光変換部材の光透過率（可視光透過性）が低下するなどの影響が生じると、量子ドットが発光した光の利用効率が低下してしまい、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度が低下してしまう。その結果、高輝度の白色光が得られるという量子ドットの利点を十分に活かすことができなくなる。したがって、量子ドットを含む光変換部材に設けるバリア層には、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を低下させることなく耐光性を向上することが望まれる。特許文献１に記載のバリア層は、この点において更なる改善が求められるものであった。

そこで本発明の目的は、量子ドットを含む光変換部材であって、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ、優れた耐光性を有する光変換部材を提供することにある。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の新たな知見を得た。
特許文献１には、バリア層の具体例として、酸化ケイ素が例示されている。酸化ケイ素のような無機材料から形成される無機層は、バリア性、特に酸素バリア性に優れるため、量子ドットの光酸化反応を抑制するためのバリア層として好適である。
一方、量子ドットを含む光変換部材では、通常、樹脂を主成分とする有機層に量子ドットが分散している。本発明者らは、この有機層と無機層との密着性が低く層間の界面に微小な空隙が発生することが、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くすることと耐光性の両立をできる光変換部材の提供を困難にしていると考えるに至り、更なる検討を重ねた結果、本発明を完成させた。

本発明の一態様は、
入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光変換層を有する光変換部材であって、
上記光変換層は、量子ドットを有機マトリックス中に含み、
上記光変換層に直接接する隣接無機層を有し、かつ、
上記光変換層と隣接無機層との界面におけるマイクロボイド数が、１００ｍｍ^２あたり０個以上１個未満である光変換部材、
に関する。

一態様では、上記光変換層は、光変換層は、隣接無機層と接する表面の表面エネルギー値が４０〜６０ｍＮ／ｍである。

一態様では、上記光変換層は、密着改良剤を更に含む。

一態様では、上記光変換層は、上記隣接無機層と接する表面の上記表面に対して垂直な方向の断面において、上記表面の両端部を結ぶ方向をＸ方向とし、上記Ｘ方向に対して垂直な方向をＹ方向としたときに、
上記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部を有する場合には、上記突起部の縁を通り、且つＸ方向に平行な線分ｘ１と、上記突起部の頂点を通り、且つＹ方向に平行な線分ｙ１との交点ｐ１を求め、上記線分ｙ１の上記頂点と上記交点ｐ１との間の距離をａ、上記線分ｘ１の上記縁と上記交点ｐ１との間の距離をｂ、上記表面の上記突起部近傍の平坦部上における上記隣接無機層の厚さをｈとし、
上記表面が高さ０．０５μｍ以上の陥没部を有する場合には、上記陥没部の縁を通り、且つＸ方向に平行な線分ｘ２と、上記陥没部の底を通り、且つＹ方向に平行な線分ｙ２との交点ｐ２を求め、上記線分ｙ２の上記底と上記交点ｐ２との間の距離をａ、上記線分ｘ２の上記縁と上記交点ｐ２との間の距離をｂ、上記表面の上記陥没部近傍の平坦部上における上記隣接無機層の厚さをｈとし、
ただし、上記断面は、ａ／ｂの値が最大となるように設定されたものであり、
上記表面におけるすべての上記突起部及び陥没部が、下記式（１）で表される関係を満たす、あるいは、
上記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部も高さ０．０５μｍ以上の陥没部も有さない。
ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ） ・・・・（１）

一態様では、上記光変換層は１４０℃１０分間加熱された場合の揮発減量分が０．１質量％以下である。

一態様では、上述の光変換部材は、上記隣接無機層の、光変換層と直接接する面とは反対の面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる一層以上を更に有する。

一態様では、上述の光変換部材は、上記光変換層の、隣接無機層と直接接する面とは反対の面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる一層以上を更に有する。
他の一態様では、上記光変換層の、隣接無機層と直接接する面とは反対の面に存在する層との界面におけるマイクロボイド数は、１００ｍｍ^２あたり０個以上１個未満である。

一態様では、上記有機マトリックスは、単官能（メタ）アクリレートモノマーと多官能（メタ）アクリレートモノマーの重合体である。

一態様では、上記単官能（メタ）アクリレートモノマーは、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する。

一態様では、上記量子ドットは、
６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、
５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、および
４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）、
からなる群から選択される少なくとも一種である。

一態様では、上述の光変換部材は、酸素透過率が１．００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。

本発明の更なる態様は、
上述の光変換部材と、
光源と、
を少なくとも含むバックライトユニット、
に関する。

一態様では、上述のバックライトユニットは、
４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、
５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、
６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、
を発光する。

一態様では、上記光源は、３８０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する。

一態様では、上述のバックライトユニットは、導光板を更に含み、上記光変換部材を、導光板から出射される光の経路上に有する。
他の一態様では、上述のバックライトユニットは、上記光変換部材を、導光板と光源との間に有する。

本発明の更なる態様は、
上述のバックライトユニットと、
液晶セルと、
を少なくとも含む液晶表示装置、
に関する。

本発明の更なる態様は、
量子ドットを含む重合性組成物を重合させることにより上記光変換層を形成すること、および、
形成した光変換層の少なくとも一方の表面に直接、無機材料を蒸着することにより上記隣接無機層を形成すること、
を含む、上述の光変換部材の製造方法、
に関する。

一態様では、量子ドットを含む重合性組成物を重合させることにより上記光変換層を形成する工程と、形成した光変換層の少なくとも一方に直接、無機材料を蒸着する工程との間に、
さらに、減圧工程、加熱工程の少なくとも一方を加えることよって光変換層の１４０℃１０分における揮発減量分を減じる工程を含む。

本発明の一態様によれば、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ、優れた耐光性を有する光変換部材を提供することができる。
更に本発明の一態様によれば、正面輝度および正面コントラストが高く、色ムラの少ない鮮明な画像を表示可能な液晶表示装置を提供することもできる。

図１（ａ）、（ｂ）は、本発明の一態様にかかる光変換部材を含むバックライトユニットの一例の説明図である。 図２は、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。 図３は、実施例１の光変換部材の層構成を示す。 図４は、実施例２の光変換部材の層構成を示す。 図５は、実施例３の光変換部材の層構成を示す。 図６は、実施例４の光変換部材の層構成を示す。 図７は、実施例５の光変換部材の層構成を示す。 図８は、比較例１の光変換部材の層構成を示す。 図９は、比較例２の光変換部材の層構成を示す。 図１０は、光変換部材の製造装置の一例の概略構成図である。 図１１は、図１０に示す製造装置の部分拡大図である。

［光変換部材およびその製造方法］
本発明の一態様にかかる光変換部材は、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光変換層を有する光変換部材である。上記光変換層は、量子ドットを有機マトリックス中に含み、かつ上記光変換層に直接接する隣接無機層が含まれる。ここで、直接接するとは、接着層などの他の層を介さずに二層が隣接配置されていることをいうものとする。そして、上記光変換層と隣接無機層との界面におけるマイクロボイド数は、１００ｍｍ^２あたり０個以上１個未満である。上記光変換層と隣接無機層との界面におけるマイクロボイド数は、１００ｍｍ^２あたり０個であることが好ましい。
ここで、上記マイクロボイド数とは、超深度形状測定顕微鏡（キーエンス製ＶＫ−８５００）を用いて倍率４００倍で光変換部材を観察して、光変換層と光変換層に直接接する隣接無機層との界面の無作為に選択した１０ｍｍ×１０ｍｍ（１００ｍｍ^２）の領域において検出される、最大径（円形状のものは直径、楕円形状のものは長軸径、円、楕円以外の形状のものについては投影法により求められる円相当径）１μｍ以上の微小空隙数をいうものとする。
光変換層と隣接無機層との界面における１００ｍｍ^２あたりのマイクロボイド数を求める第１の方法として、超深度形状測定顕微鏡（キーエンス製ＶＫ−８５００）を用いて倍率４００倍で光変換部材を観察して、光変換層と光変換層に直接接する隣接無機層との界面の無作為に選択した１０ｍｍ×１０ｍｍ（１００ｍｍ^２）の領域において検出される、最大径（円形状のものは直径、楕円形状のものは長軸径、円、楕円以外の形状のものについては投影法により求められる円相当径）１μｍ以上の微小空隙数として求める方法が挙げられる。光変換層と隣接無機層との界面における１００ｍｍ^２あたりのマイクロボイド数を求める第２の方法として、光変換層と光変換層に直接接する隣接無機層との界面の端部から１０ｍｍ以上内側の領域において、無作為に選択した十分大きい面積である１００ｍｍ×１００ｍｍ（１００００ｍｍ^２）の領域において検出される、最大径（円形状のものは直径、楕円形状のものは長軸径、円、楕円以外の形状のものについては投影法により求められる円相当径）１μｍ以上の微小空隙数の測定結果を、１００ｍｍ^２当たりに換算して求める方法が挙げられる。なお、光変換部材の性能を正確に代表するという観点においては、光変換部材の広い面積を測定することが本発明の意図からすると好ましいが、測定に要する時間を鑑みると、対象とする光変換部材の状態を（統計学的に）代表していると推定される限られた面積で測定を行なうこと（例えば上記第１の方法や第２の方法）が許容される。また同様の観点により、光変換部材が意図的に設けたマイクロボイドの多い領域や、作成工程の関係上均一性を著しく欠くと思われる部位（例えば端面や、ロール塗布における塗布開始部や塗布終端部）などの光変換部材の代表特性と合致しないと合理的に判断できる部位を含む場合はこれを避けて測定すること（例えば上記第２の方法）が望ましい。
上述のように無機層はバリア性に優れるため、量子ドットを有機マトリックス中に含む光変換層に直接接する隣接層として無機層を設けることは、量子ドットの光酸化反応を抑制するうえで有効である。しかし、光変換層と隣接無機層との層間の界面に上記の比較的大きな微小空隙が１００ｍｍ^２あたり１個以上存在してしまうと、たとえ無機層を設けたとしても光変換層に酸素が取り込まれることを十分に防ぐことは困難である。また、層間の界面に最大径が１μｍ以上の比較的大きな微小空隙が１００ｍｍ^２あたり１個以上存在すると、この微小空隙による光散乱が大きくなり、光透過率の減少を引き起こす。加えて、空隙の存在する部分と存在しない部分とで屈折率差が生じることによっても光変換部材の光透過率は低下してしまう。このような光変換層と隣接無機層との層間の界面に上記の比較的大きな微小空隙が１００ｍｍ^２あたり１個以上存在する光変換部材を液晶表示装置に組み込むと、液晶表示装置の正面輝度が低くなってしまう。なお、量子ドットの光酸化反応を抑制するためだけであれば、バリア性を有する層を多数積層することでバリア性を強化することも考えられるが、多層にするほど光変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くできることと耐光性とを両立する観点からは好ましくない。これに対し本発明の一態様にかかる光変換部材では、光変換層に直接接する無機層を、両層の界面におけるマイクロボイド数は、１００ｍｍ^２あたり０個以上１個未満となるように形成することにより、バリア性を有する層を多数積層しなくとも、光変換層の耐光性を高めることが可能となる。こうして本発明の一態様によれば、量子ドットを含む光変換部材であって、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ、優れた耐光性を有する光変換部材を提供することができる。
なお、光変換部材は高い透明性を有することが好ましい。光変換部材が高い透明性を有する場合、光変換部材がバックライトユニットに貼着されて使用されている場合でも、光変換層と隣接無機層との間で剥離しない限り、バックライトユニットから光変換部材を剥離した後に上述の顕微鏡を用いてマイクロボイドの数を確認することができる。
以下、上記光変換部材について、更に詳細に説明する。

以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本発明および本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明および本明細書中、ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ１／２でのピークの幅のことを言う。また、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。
光変換部材は波長変換部材とも言われ、光変換層は波長変換層とも言われる。

上記光変換部材は、好ましくは、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として含まれる。

図１は、本発明の一態様にかかる光変換部材を含むバックライトユニット３１の一例の説明図である。図１中、バックライトユニット３１は、光源３１Ａと、面光源とするための導光板３１Ｂを備える。図１（ａ）に示す例では、変換部材は、導光板から出射される光の経路上に配置されている。一方、図１（ｂ）に示す例では、光変換部材は、導光板と光源との間に配置されている。
そして図１（ａ）に示す例では、導光板３１Ｂから出射される光が、光変換部材３１Ｃに入射する。図１（ａ）に示す例では、導光板３１Ｂのエッジ部に配置された光源３１Ａから出射される光３２は青色光であり、導光板３１Ｂの液晶セル（図示せず）側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板３１Ｂから出射された光（青色光３２）の経路上に配置された光変換部材３１Ｃには、青色光３２により励起され赤色光３４を発光する量子ドット（Ａ）と、青色光３２により励起され緑色光３３を発光する量子ドット（Ｂ）を、少なくとも含む。このようにしてバックライトユニット３１からは、励起された緑色光３３および赤色光３４、ならびに光変換部材３１Ｃを透過した青色光３２が出射される。こうしてＲＧＢの輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
図１（ｂ）に示す例は、光変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図１（ａ）に示す態様と同様である。図１（ｂ）に示す例では、光変換部材３１Ｃから、励起された緑色光３３および赤色光３４、ならびに光変換部材３１Ｃを透過した青色光３２が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。

＜光変換層＞
光変換部材は、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光変換層を有する。その他の必須の層として、本発明の一態様にかかる光変換部材には、光変換層に直接接する無機層が含まれる。その詳細は、後述する。

（量子ドット）
光変換層は、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む光変換層へ励起光として青色光を入射させると、図１に示すように、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、光変換層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む光変換層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

本発明の一態様にかかる光変換部材における光変換層は、量子ドットを有機マトリックス中に含む。有機マトリックスは、通常、重合性組成物を光照射等により重合させた重合体である。光変換層の形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報の段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズ、ならびに組成およびサイズにより調整することができる。

本発明の一態様にかかる光変換部材における光変換層は、入射光の偏光性を少なくとも一部保持した蛍光を発光することが輝度改善、低消費電力の観点から好ましい。入射光の偏光性を少なくとも一部保持した蛍光を発光することができる光変換層の具体例としては、非特許文献（ＴＨＥ ＰＨＹＳＩＣＡＬ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹＬＥＴＴＥＲＳ ２０１３，４，５０２−５０７）記載の量子ロッドタイプの量子ドットを使用することが好ましい。入射光の偏光性を一部保持した蛍光を発光するとは、偏光度９９．９％の励起光が光変換シートに入射したときにその光変換シートが発光する蛍光の偏光度が０％ではないことであり、好ましくは偏光度が１０〜９９．９％であり、より好ましくは８０〜９９．９％である。上限については特に制限はないが、実際の使用においては量子ロッドの製造上のばらつきや、製膜上でのばらつきに起因する偏光の解消の効果を含むため、実質的には発光する蛍光の偏光度が９９％以下、あるいは９０％以下になることもあり得る。

量子ドットは、上記重合性組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。量子ドットは、重合性組成物の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。

光変換層は、好ましくは塗布法により作製される。具体的には、量子ドットを含む重合性組成物（硬化性組成物）をガラスなどの基材上等に塗布し、次いで光照射等により硬化処理を施すことにより光変換層を得ることができる。

（重合性化合物）
重合性組成物の作製に用いる重合性化合物は特に限定されるものではない。重合性化合物としては、例えば（メタ）アクリレート基を有する重合性化合物、エポキシ基を有する化合物を挙げることができる。重合性化合物として密着改良剤としても使用できる重合性化合物を用いてもよい。硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等、また、単官能または多官能のエポキシモノマー等のエポキシ化合物やそのポリマー、プレポリマーが好ましい。なお本発明および本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。また、本発明および本明細書において、「エポキシ」との記載は、狭義のエポキシ化合物として知られるオキシラン構造を有する化合物の他、オキセタンなどの開環重合が可能な環状エーテル類全般を意味するものとして用いるものとする。

−（メタ）アクリレート基を有する重合性化合物−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する炭素数が４〜３０のアルキル（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、炭素数１２〜２２のアルキル（メタ）アクリレートを用いることが、量子ドットの分散性向上の観点から、より好ましい。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。具体的には、単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリルアミド、オクチル（メタ）アクリルアミド、ラウリル（メタ）アクリルアミド、オレイル（メタ）アクリルアミド、ステアリル（メタ）アクリルアミド、ベヘニル（メタ）アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。

上記（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を１分子内に１個有するモノマーと共に、（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを併用することもできる。具体例として、以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜２０のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜２０のポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の総炭素数が１０〜６０のトリ（メタ）アクリレート；エチレンオキシド付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の総炭素数が１０〜１００のテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量１００質量部に対して、塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、組成物のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

−エポキシ基を有する重合性化合物−
本発明に用いるエポキシ基を有する重合性化合物として、市販のエポキシモノマーを使用してもよいし、使用条件に合わせて予めいくつかの成分が混合調製されている市販のエポキシ組成物を用いてもよい。市販のエポキシ組成物は、接着剤あるいは封止剤などとして市販されている。例えば、スリーボンド社、ＥＭＩ社、テスク社、ヘンケル社などから入手することができる。具体的には、ＥＭＩ社製ＯＰＴＯＣＡＳＴ（商標名）３５０５、同３５０６、同３５５３、テスク社製Ａ−１７７１（商品名）、ヘンケル社製ロックタイトＥ−３０ＣＬなどが例示される。

（重合開始剤）
重合性組成物は、重合開始剤として、公知のラジカル重合開始剤やカチオン重合開始剤を含んでいてもよい。
上記（メタ）アクリレートモノマーなどの重合性化合物を含む重合性組成物は、重合開始剤として、公知のラジカル重合開始剤を含むことができる。エポキシ基を有する重合性化合物などの重合性化合物を含む重合性組成物は、重合開始剤として、公知のカチオン重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報の段落００３７、特開２０１１−１５９９２４号公報の段落００４０〜００４２を参照できる。重合開始剤は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量の０．０１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。

（密着改良剤）
上記重合性組成物は、更に、密着改良剤を含むことができる、密着改良剤を含む重合性組成物から形成される光変換層は、密着改良剤により無機層との密着性が強固なものとなるため、より一層優れた耐光性を示すことができる。これは主に、光変換層に含まれる密着改良剤が、加水分解反応や縮合反応に伴う共有結合の生成、あるいは水素結合などの非共有結合の作用により、隣接する層の表面やこの層の構成成分と結合を形成することによるものである。また、密着改良剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光変換層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光変換層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。密着改良剤としては、無機層と共有結合を形成可能な、シランカップリング剤が好ましい。なお本発明において、光変換層に含まれる密着改良剤とは、上記のような反応後の形態の密着改良剤も含む意味で用いるものとする。

上記密着改良剤の具体例としては、シランカップリング剤などの有機金属カップリング剤、リン酸基を有する重合性化合物、ウレタン基・ウレア基・イソシアヌル基の少なくともいずれかを有する重合性化合物、イソシアネート基を有する重合性化合物、カルボキシル基を有する重合性モノマー、水酸基を有する重合性化合物などが挙げられる。

−シランカップリング剤−
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。

（一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ^１〜Ｒ^６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）

Ｒ^１〜Ｒ^６は、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒ^１〜Ｒ^６は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ^１〜Ｒ^６は、メチル基が特に好ましい。

Ｒ^１〜Ｒ^６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ^１〜Ｒ^６の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ^１〜Ｒ^３の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ^４〜Ｒ^６のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。
一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。

ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。

また、Ｒ^１〜Ｒ^６はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。

以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

−その他の有機金属カップリング剤−
その他の有機金属カップリング剤としては、例えば、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、スズカップリング剤等の各種カップリング剤を使用できる。

チタンカップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル）ビス（ジトリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル・アミノエチル）チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート等が挙げられる。

ジルコニウムカップリング剤としては、例えば、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ブトキシジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムジブトキシビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムトリブトキシエチルアセトアセテート、ジルコニウムブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

アルミニウムカップリング剤としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムｓｅｃ−ブチレート、アルミニウムエチレート、エチルアセトアセテエートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトアセテート）等を挙げることができる。

シランカップリング剤およびその他の有機金属カップリング剤は、隣接する層との密着性向上の観点からは、光変換層形成用の重合性組成物中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。

また、密着改良剤として、リン酸基を有する重合性化合物、ウレタン基・ウレア基・イソシアヌル基の少なくともいずれかを有する重合性化合物、イソシアネート基を有する重合性化合物、カルボキシル基を有する重合性モノマー、水酸基を有する重合性化合物を好適に用いることができる。これらの重合性モノマーは、これら官能基の作用によって隣接無機層との間に水素結合やイオン結合といった非共有結合を形成し、隣接無機層と光変換層との密着を強固にする作用がある。

特に隣接無機層を光変換層上に直接成膜する際、上述した密着改良剤は光変換層の表面エネルギーを制御する機能を発現しうる。特に、光変換層の表面エネルギーが４０〜６０ｍＮ／ｍとなるように光変換層の重合性組成物を調整すると、無機層成分の表面エネルギー（一般には５０〜６０ｍＮ／ｍと推定される）無機層を光変換層上に成膜する際、光変換層に対する無機層成分の濡れ性が良く欠陥の少ない無機層が形成できるため、より優れた酸素バリア性を発現することができる。光変換層の表面エネルギーは、成膜する無機層成分の表面エネルギーに依るが、上述のように４０〜６０ｍＮ／ｍの範囲が好ましく、４５〜５５ｍＮの範囲がより好ましい。

また、光変換層表面の表面エネルギーを制御する方法として、光変換層表面を化学処理する方法も好適に利用できる。例えば、アルカリ性または酸性の液をリンスすることで表面を改質する方法、プラズマ処理やコロナ処理などによって表面を改質する方法が例示される。この処理によっても、光変換層表面の表面エネルギーを上述の好ましい範囲に制御し、上述の効果と同様の効果を得ることが可能である。特に好ましくは、上述の密着改良剤、具体的にシランカップリング剤などの有機金属カップリング剤、リン酸基を有する重合性化合物、ウレタン結合とウレア結合とイソシアヌル環とから選ばれる構造の少なくとも１つを分子内に有する重合性化合物、イソシアネート基を有する重合性化合物、カルボキシル基を有する重合性化合物、水酸基を有する重合性化合物を含んだ光変換層に上記の表面処理を行うと極めて高い効果を得ることができる。

−リン酸基を有する重合性化合物−
リン酸基を有する重合性化合物としては、リン酸エステルの残基として重合性基をペンダントしたモノマーが例示される。

リン酸エステル基を有する重合性化合物として、特開２００７−２９０３６９号公報の一般式（１）〜（４）で表される重合性化合物を好ましく用いることができる。

特開２００７−２９０３６９号公報の一般式（１）で表される重合性化合物を１種類だけ用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。また、組み合わせて用いる場合は、特開２００７−２９０３６９号公報の一般式（２）で表される単官能重合性化合物、特開２００７−２９０３６９号公報の一般式（３）で表される２官能重合性化合物、および特開２００７−２９０３６９号公報の一般式（４）で表される３官能重合性化合物のうちの２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記のリン酸エステル基を有する重合性化合物類として、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ、ユニケミカル（株）製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ等、市販されている化合物をそのまま用いてもよく、新たに合成された化合物を用いてもよい。
以下において、リン酸エステル基を有する重合性化合物の具体例を示すが、本発明で用いることができるモノマーはこれらに限定されない。

リン酸基を有する重合性化合物は、隣接無機層との密着性をより一層向上する観点からは、光変換層形成用の重合性組成物中に、１〜５０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。

−ウレタン結合とウレア結合とイソシアヌル環とから選ばれる構造の少なくとも１つを分子内に有する重合性化合物−
ウレタン結合を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＨＤＩ、ＩＰＤＩ、ＨＭＤＩ等のジイソシアナートとポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートを反応させて得られるモノマー、オリゴマーであり、特開２００２−２６５６５０公報や、特開２００２−３５５９３６号公報、特開２００２−０６７２３８号公報等に記載の多官能ウレタンモノマーを挙げることができる。具体的には、ＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＩＰＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＨＤＩとペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等をあげることができるが、これに限定されるものではない。

ウレタン結合を含む（メタ）アクリレートモノマーとして好適に使用できる市販品としては、共栄社化学（株）製のＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−５１０Ｈ、ＵＦ−８００１Ｇ、ＤＡＵＡ−１６７、新中村化学工業（株）製のＵＡ−１６０ＴＭ、大阪有機化学工業（株）製のＵＶ−４１０８Ｆ、ＵＶ−４１１７Ｆ等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

ウレタン結合とウレア結合とイソシアヌル環とから選ばれる構造の少なくともいずれかを分子内に含む重合性化合物は、隣接無機層との密着性をより一層向上する観点からは、光変換層形成用の重合性組成物中に、１〜５０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。

−イソシアネート基を含む重合性化合物−
イソシアネート基を含む重合性化合物は、市販のものを利用することが出来る。また、イソシアネート基を保護基で覆ったブロックイソシアネート基を含む化合物も、本発明ではイソシアネート基を含む重合性化合物として取り扱う。具体的な化合物として、２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、２−（０−［１′−メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル、２−〔（３，５−ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ〕エチル（メタ）アクリレート、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート、２−イソシアナトエチルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが例示される。これらの化合物は、昭和電工（株）製、商品名カレンズＭＯＩ、同カレンズＡＯＩ、同カレンズＢＥＩ、同カレンズＭＯＩ−ＢＰ、同カレンズＭＯＩ−ＢＭ、同カレンズＭＯＩ−ＥＧとして入手することができる。

イソシアネート基を含む重合性化合物は、隣接無機層との密着性をより一層向上する観点からは、光変換層形成用の重合性組成物中に、０．１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％であり、さらに好ましくは２〜２０質量％である。

−カルボキシル基を有する重合性化合物−
カルボキシル基を有する重合性化合物としては、多塩基酸又はその無水物と水酸基と重合性基とを含有する化合物との反応によって得られるものを用いることができ、その反応において部分的にエステル化することによりカルボキシル基を含む重合性化合物が得られる。多塩基酸（無水物）としては、例えば、（無水）フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、（無水）テトラヒドロフタル酸、（無水）メチルテトラヒドロフタル酸、（無水）ヘキサヒドロフタル酸、（無水）マレイン酸、（無水）コハク酸、イタコン酸、フマル酸、（無水）ピロメリット酸、（無水）トリメリット酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸等が挙げられ、これらは単独でも、２種類以上組み合わせてもよい。水酸基を含む重合性化合物としては、次に挙げるものを用いる事ができる。これらは単独でも、２種類以上組合わせても良い。

−水酸基を含む重合性化合物−
水酸基を含む重合性化合物としては、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレートや、末端水酸基のポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート類、および、エポキシアクリレートとして知られる、エポキシモノマーと（メタ）アクリル酸を縮合させることによって骨格内に水酸基を有する変性（メタ）アクリレート類を使用することができる。

水酸基を含む重合性化合物は、隣接無機層との密着性をより一層向上する観点からは、光変換層形成用の重合性組成物中に、１０〜９０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは２０〜８０質量％であり、さらに好ましくは３０〜５０質量％である。

（ゴム粒子）
重合性組成物は、ゴム粒子を含んでいてもよい。ゴム粒子を含むことにより、光変換層が脆くなることを防止できる。ゴム粒子としては、アクリル酸エステルを主な構成モノマーとするゴム状重合体、ブタジエンを主な構成モノマーとするゴム状重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体などが挙げられる。ゴム粒子は一種を単独で使用してもよく、二種以上を混合して使用してもよい。ゴム粒子については特開２０１４−３５３９３号公報の００６１〜００６９の記載を参照できる。

（溶媒）
重合性組成物は、必要に応じて溶媒を含んでいてもよい。この場合に使用される溶媒の種類および添加量は、特に限定されない。例えば溶媒として、有機溶媒を一種または二種以上混合して用いることができる。

（膜厚）
光変換層の総厚は、好ましくは１〜５００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲であり、さらに好ましくは３０〜１５０μｍの範囲である。厚みが１μｍ以上であると、高い波長変換効果（光の波長の変換効果）が得られるため、好ましい。また、厚みが５００μｍ以下であると、バックライトユニットに組み込んだ場合に、バックライトユニットを薄くすることができるため、好ましい。

（表面形状）
光変換層の表面は、隣接無機層を積層するにあたり、極力平滑であることが好ましい。これは、急峻な凹凸があった場合、隣接無機層を積層したとき、形状が追随しないことによって微小な空隙が生じてマイクロボイドの原因となるからである。この急峻な凹凸としては、例えば光変換層自体が持つ凹凸である場合と、光変換層上に後から堆積した微小な異物による場合とがある。後者は、積層をクリーンルーム等の清浄な環境で行うか、あるいは、洗浄を行うことによって回避することができるが、前者は光変換層そのものの凹凸であって、洗浄等では取り除くことが出来ない。ゆえに、光変換層そのものを極力平坦に作成することが重要であるが、実際の製造上では、完全に平坦な表面を形成することは困難である。そこで、許容される凹凸の形状について検討した結果、特に、無機材料を直接光変換層に成膜する場合に、凹凸の高さと、その凹凸の幅との間にある一定の関係を満たす場合、マイクロボイドを生じることなく所望の光変換部材を得られることを知見した。

したがって本発明においては、光変換層は、上記隣接無機層と接する表面の上記表面に対して垂直な方向の断面において、上記表面の両端部を結ぶ方向をＸ方向とし、上記Ｘ方向に対して垂直な方向をＹ方向としたときに、
上記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部を有する場合には、上記突起部の縁を通り、且つＸ方向に平行な線分ｘ１と、上記突起部の頂点を通り、且つＹ方向に平行な線分ｙ１との交点ｐ１を求め、上記線分ｙ１の上記頂点と上記交点ｐ１との間の距離をａ、上記線分ｘ１の上記縁と上記交点ｐ１との間の距離をｂ、上記表面の上記突起部近傍の平坦部上における上記隣接無機層の厚さをｈとし、
上記表面が高さ０．０５μｍ以上の陥没部を有する場合には、上記陥没部の縁を通り、且つＸ方向に平行な線分ｘ２と、上記陥没部の底を通り、且つＹ方向に平行な線分ｙ２との交点ｐ２を求め、上記線分ｙ２の上記底と上記交点ｐ２との間の距離をａ、上記線分ｘ２の上記縁と上記交点ｐ２との間の距離をｂ、上記表面の上記陥没部近傍の平坦部上における上記隣接無機層の厚さをｈとし、ただし、上記断面は、ａ／ｂの値が最大となるように設定されたものであり、上記表面におけるすべての上記突起部及び陥没部が、下記式（１）で表される関係を満たす、あるいは、
上記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部も高さ０．０５μｍ以上の陥没部も有さないことが好ましい。
ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ） ・・・・（１）
ここで、突起部の高さとは、線分ｙ１の上記頂点と上記交点ｐ１との間の距離ａに相当する。陥没部の高さとは、線分ｙ２の上記底と上記交点ｐ２との間の距離ａに相当する。

無機材料を直接光変換層上に成膜する際、無機材料はわずかではあるが凹凸形状に沿って回り込む性質を持っていることが知られている。この性質のために、光変換層が上記式（１）で表される関係を満たす、あるいは、上記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部も高さ０．０５μｍ以上の陥没部も有さない場合であれば、マイクロボイドを生じることなく、連続的な無機層を形成できると推定している。

この表面形状を達成する手段として、例えば、表面を平滑な支持体フィルムで覆った状態で光変換層を形成して、その後支持体フィルムを除去して、除去後の表面を平滑にする方法や、半硬化状態の光変換層を鏡面処理されたカレンダーロールでカレンダー処理することで所望の平滑性を得る方法、鏡面処理と離形処理とがなされたロール上で光変換層の硬化を行う方法などが挙げられる。これらの達成手段は、作成の規模に応じて適宜選べばよい。

光変換層の表面を改質することを目的として、光変換層の表面をコロナ処理やプラズマ処理しても良い。また、光変換層の表面に表面改質コーティングを設けることも好適である。表面改質コーティングは、例えば上述の（メタ）アクリレート材料やエポキシ材料を用いて、比較的表面エネルギーが低い状態の光変換層の表面に薄いコーティングを設けて表面エネルギーを上述の好ましい値とすることができる。また、光変換層をより平滑にすることを目的に、比較的表面に凹凸の多い光変換層に表面改質コーティングを設けることで上述の好ましい表面平滑性を達成することができる。

表面改質コーティングは、本発明では光変換層の一部を為すものである。光変換層の一部を為す表面改質コーティングが形成される場合、さらに光変換層と表面改質コーティングの混合層が形成される。すなわち、光変換層の表面には、混合層を介して表面改質コーティングが形成され、その表面改質コーティングの上に隣接無機層が形成されていることが好ましい。この混合層が形成されていることは、表面改質コーティングと光変換層本体との密着を確保する働きがある。表面改質コーティングはその性質上薄くあるべきで、好ましくは０．１〜５μｍの範囲であり、より好ましくは０．２〜２μｍであり、特に好ましくは０．３〜１μｍの範囲である。この範囲において、膜厚増加を最小限に抑えつつ、表面エネルギーの改良や、光変換層本体の凹凸や表面に付着した異物を覆い隠し欠陥の少ない無機層成膜を補助する働きが得られる。

（光変換層の形成方法の詳細）
本発明における、光変換層表面上に直接、無機材料を蒸着により堆積させる工程に先立ち、光変換層を設ける方法を詳細に述べる。
以上説明した量子ドットを含む重合性組成物（以下、量子ドット含有重合性組成物とも言う）を、適当な支持体上に塗布、乾燥して溶媒を除去するとともに、その後、光照射等により重合硬化させて、量子ドットを含む光変換層を得ることができる。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。特に無機層と光変換層とを隣接して設けるにあたっては、支持体とコーターが非接触である塗布方法が好ましい。例えば、カーテンコーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法などが好ましい。また、硬化条件は、使用する重合性化合物の種類や重合性組成物の組成に応じて、適宜設定することができる。

前述したように、量子ドット含有重合性組成物の硬化は、量子ドット含有重合性組成物を支持体上に塗布した状態で行ってもよい（この場合、一方の面は開放である）し、２枚の基材間に挟持した状態で行ってもよい。特に、２枚の基材間に挟持した状態で硬化処理を行う光変換部層の製造工程の一態様を、図面を参照し以下に説明する。ただし、本発明は、下記態様に限定されるものではない。また、以下では支持体に替えてフィルムという表現を用いるが、これはロールトゥロールで連続生産が可能な形態を想定した場合の表現であり、支持体としてたとえば板ガラスや表面処理された金属板などを用いることを制限するものではない。

図１０は、光変換部材の製造装置の一例の概略構成図であり、図１１は、図１０に示す製造装置の部分拡大図である。図１０、図１１に示す製造装置を用いる光変換部材の製造工程は、連続搬送される第一の基材（以下、「第一のフィルム」という。）の表面に量子ドット含有重合性組成物を塗布し塗膜を形成する工程と、塗膜の上に、連続搬送される第二の基材（以下、「第二のフィルム」ともいう。）をラミネートし（重ねあわせ）、第一のフィルムと第二のフィルムとで塗膜を挟持する工程と、第一のフィルムと第二のフィルムとで塗膜を挟持した状態で、第一のフィルム、および第二のフィルムの何れかをバックアップローラに巻きかけて、連続搬送しながら光照射し、塗膜を重合硬化させて光変換層（硬化層）を形成する工程とを少なくとも含む。第一のフィルム、第二のフィルムのいずれか一方として光変換層との間に易剥離性のフィルムを用い、硬化後にその易剥離性フィルムを剥離除去することにより、少なくとも一方の面が開放面となった光変換部層を得ることができる。特に、易剥離性のフィルムとして、表面平滑性が高いフィルムを用いることにより、凹凸の原因となる異物の混入を防ぎ、上述した好ましい範囲の表面形状を満足する光変換層を容易に得ることができる。両面とも易剥離性のフィルムを用いて、光変換層の形成後、両側の易剥離性のフィルムを取り除くことにより、光変換層のみのフィルムを得ることもできる。

より詳しくは、まず、図示しない送出機から第一のフィルム１０が塗布部２０へと連続搬送される。送出機から、例えば、第一のフィルム１０が１〜５０ｍ／分の搬送速度で送り出される。但し、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、第一のフィルム１０には、２０〜１５０Ｎ／ｍの張力、好ましくは３０〜１００Ｎ／ｍの張力が加えられる。

塗布部２０では、連続搬送される第一のフィルム１０の表面に量子ドット含有重合性組成物（以下、「塗布液」とも記載する。）が塗布され、塗膜２２（図１１参照）が形成される。塗布部２０では、例えば、ダイコーター２４と、ダイコーター２４に対向配置されたバックアップローラ２６とが設置されている。第一のフィルム１０の塗膜２２の形成される表面と反対の表面をバックアップローラ２６に巻きかけて、連続搬送される第一のフィ
ルム１０の表面にダイコーター２４の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜２２が形成される。ここで塗膜２２とは、第一のフィルム１０上に塗布された硬化前の量子ドット含有重合性組成物をいう。

本実施の形態では、塗布装置としてエクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター２４を示したが、これに限定されない。例えば、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法等、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。

塗布部２０を通過し、その上に塗膜２２が形成された第一のフィルム１０は、ラミネート部３０に連続搬送される。ラミネート部３０では、塗膜２２の上に、連続搬送される第二のフィルム５０がラミネートされ、第一のフィルム１０と第二のフィルム５０とで塗膜２２が挟持される。

ラミネート部３０には、ラミネートローラ３２と、ラミネートローラ３２を囲う加熱チャンバー３４とが設置されている。加熱チャンバー３４には第一のフィルム１０を通過させるための開口部３６、および第二のフィルム５０を通過させるための開口部３８が設けられている。

ラミネートローラ３２に対向する位置には、バックアップローラ６２が配置されている。塗膜２２の形成された第一のフィルム１０は、塗膜２２の形成面と反対の表面がバックアップローラ６２に巻きかけられ、ラミネート位置Ｐへと連続搬送される。ラミネート位置Ｐは第二のフィルム５０と塗膜２２との接触が開始する位置を意味する。第一のフィルム１０はラミネート位置Ｐに到達する前にバックアップローラ６２に巻きかけられることが好ましい。仮に第一のフィルム１０にシワが発生した場合でも、バックアップローラ６２によりシワがラミネート位置Ｐに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、第一のフィルム１０がバックアップローラ６２に巻きかけられた位置（接触位置）と、ラミネート位置Ｐまでの距離Ｌ１は長いことが好ましく、例えば、３０ｍｍ以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ６２の直径とパスラインとにより決定される。

本実施の形態では硬化部６０で使用されるバックアップローラ６２とラミネートローラ３２とにより第二のフィルム５０のラミネートが行われる。即ち、硬化部６０で使用されるバックアップローラ６２が、ラミネート部３０で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部３０に、バックアップローラ６２と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ６２を兼用しないようにすることもできる。

硬化部６０で使用されるバックアップローラ６２をラミネート部３０で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ６２は、第一のフィルム１０に対するヒートローラとしても使用できる。

図示しない送出機から送出された第二のフィルム５０は、ラミネートローラ３２に巻きかけられ、ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２との間に連続搬送される。第二のフィルム５０は、ラミネート位置Ｐで、第一のフィルム１０に形成された塗膜２２の上にラミネートされる。これにより、第一のフィルム１０と第二のフィルム５０とにより塗膜２２が挟持される。ラミネートとは、第二のフィルム５０を塗膜２２の上に重ねあわせ、積層することをいう。

ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２との距離Ｌ２は、第一のフィルム１０
と、塗膜２２を重合硬化させた光変換層（硬化層）２８と、第二のフィルム５０と、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、Ｌ２は第一のフィルム１０と塗膜２２と第二のフィルム５０との合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下であることが好ましい。距離Ｌ２を合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下にすることより、第二のフィルム５０と塗膜２２との間に泡が侵入することを防止することができる。ここでラミネートローラ３２とバックアップローラ６２との距離Ｌ２とは、ラミネートローラ３２の外周面とバックアップローラ６２の外周面との最短距離をいう。

ラミネートローラ３２とバックアップローラ６２の回転精度は、ラジアル振れで０．０５ｍｍ以下、好ましくは０．０１ｍｍ以下である。ラジアル振れが小さいほど、塗膜２２の厚み分布を小さくすることができる。

また、第一のフィルム１０と第二のフィルム５０とで塗膜２２を挟持した後の熱変形を抑制するため、硬化部６０のバックアップローラ６２の温度と第一のフィルム１０の温度との差、およびバックアップローラ６２の温度と第二のフィルム５０の温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。

バックアップローラ６２の温度との差を小さくするため、加熱チャンバー３４が設けられている場合には、第一のフィルム１０、および第二のフィルム５０を加熱チャンバー３４内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバー３４には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、第一のフィルム１０、および第二のフィルム５０を加熱することができる。

第一のフィルム１０が、温度調整されたバックアップローラ６２に巻きかけられることにより、バックアップローラ６２によって第一のフィルム１０を加熱してもよい。

一方、第二のフィルム５０については、ラミネートローラ３２をヒートローラとすることにより、第二のフィルム５０をラミネートローラ３２で加熱することができる。
ただし、加熱チャンバー３４、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。

次に、第一のフィルム１０と第二のフィルム５０とにより塗膜２２が挟持された状態で、硬化部６０に連続搬送される。図面に示す態様では、硬化部６０における硬化は光照射により行われるが、量子ドット含有重合性組成物に含まれる重合性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付け等の加熱により、硬化を行うことができる。

バックアップローラ６２と、バックアップローラ６２に対向する位置には、光照射装置６４が設けられている。バックアップローラ６２と光照射装置６４と間を、塗膜２２を挟持した第一のフィルム１０と第二のフィルム５０とが連続搬送される。光照射装置により照射される光は、量子ドット含有重合性組成物に含まれる光重合性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。ここで紫外線とは、波長２８０〜４００ｎｍの光をいうものとする。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を塗膜２２に向けて照射することができる。

硬化部６０では、第一のフィルム１０と第二のフィルム５０とにより塗膜２２を挟持した状態で、第一のフィルム１０をバックアップローラ６２に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置６４から光照射を行い、塗膜２２を硬化させて光変換層（硬化層）２８を形成することができる。

本実施の形態では、第一のフィルム１０側をバックアップローラ６２に巻きかけて、連続搬送したが、第二のフィルム５０をバックアップローラ６２に巻きかけて、連続搬送させることもできる。

バックアップローラ６２に巻きかけるとは、第一のフィルム１０および第二のフィルム５０の何れかが、あるラップ角でバックアップローラ６２の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、第一のフィルム１０および第二のフィルム５０はバックアップローラ６２の回転と同期して移動する。バックアップローラ６２へ巻きかけは、少なくとも紫外線が照射されている間であればよい。

バックアップローラ６２は、円柱状の形状の本体と、本体の両端部に配置された回転軸とを備えている。バックアップローラ６２の本体は、例えば、φ２００〜１０００ｍｍの直径を有している。バックアップローラ６２の直径φについて制限はない。光変換部材のカール変形と、設備コストと、回転精度とを考慮すると直径φ３００〜５００ｍｍであることが好ましい。バックアップローラ６２の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ６２の温度を調整することができる。

バックアップローラ６２の温度は、光照射時の発熱と、塗膜２２の硬化効率と、第一のフィルム１０と第二のフィルム５０のバックアップローラ６２上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ６２は、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。

ラミネート位置Ｐと光照射装置６４との距離Ｌ３は、例えば３０ｍｍ以上とすることができる。

光照射により塗膜２２は光変換層（硬化層）２８となり、光変換部材７０が形成される。光変換部材７０は、剥離ローラ８０によりバックアップローラ６２から剥離される。光変換部材７０は、図示しない巻取機に連続搬送され、次いで巻取機により光変換部材７０はロール状に巻き取られる。少なくとも一方を易剥離性のフィルムとして、易剥離性のフィルムを剥離除去する場合は、この巻取りの段階で剥離ロール等を用いて易剥離性のフィルムを取り除いてもよいし、一旦易剥離性のフィルムとともに巻き取った後、無機層の成膜機にかける前に別途取り除く工程を加えてもよいし、無機層の成膜機内の巻き出し部において、巻き出しと同時に易剥離性フィルムを取り除いても良い。表面への異物の付着や、量子ドットの劣化の影響を未然に防止する観点では、無機層の成膜機内で易剥離性フィルムを除去するのが好ましい。

また、ここまでは、支持体を用いて光変換層を作成する工程について述べてきたが、例えば、特開平２−２１４６２２号公報に記載の方法を用いれば、支持体を用いることなく、光変換層を形成することができる。得られた光変換層の長尺ロールを、無機層の成膜機に掛け両面に無機層を蒸着することにより、途中工程を含め支持体を一切用いることなく、透明支持体を有さない光変換部材を作成することができる。この場合、透明支持体を用いないので、材料コストおよび光変換部材の厚みの点で極めて有利である。また、この公報には金属ロールを用いて製造する例が記載されているが、金属ロールに替えて例えば無限端の金属バンド装置を用いて成膜することも可能である。

以上、光変換部材の製造工程の一態様について説明したが、本発明は上記態様に限定されるものではない。また、必要に応じ、より無機層の成膜を効率的にすることを目的に、得られた光変換層に加熱工程、減圧工程を加えて、１４０℃１０分加熱における揮発減量分を減じる工程を加えても良い。この１４０℃１０分加熱における揮発減量分を減じる工程については隣接無機層の説明において後述する。また、搬送や保管のため、表面に易剥離性の保護フィルム（いわゆるラミネートフィルム）を設けることもできる。

＜隣接無機層＞
本発明の一態様にかかる光変換部材は、上記光変換層に直接接する隣接層として、無機層を有する。この隣接無機層と光変換層との界面におけるマイクロボイド数を、１００ｍｍ^２あたり０個以上１個未満とすることにより、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ、優れた耐光性を有する光変換部材を得ることができる。光変換層に直接接する無機層には、光変換層の一部を為す表面改質コーティングおよび混合層を介して積層された無機層が含まれる。混合層と表面改質コーティングは光変換層の一部を為すとは、その構成成分の比率が光変換層から表面改質コーティングに向かって連続的に変化しており、その構成成分の比率の変化に不連続な変化をする点を持たないことによって定義する。この状態を実現している限りにおいて、光学的に確認できる境界があることは必ずしも光変換層と表面改質コーティングとが別体であることを意味しないが、光学的な界面も認められないことが光学的な特性を高める点においてさらに好ましい形態である。光変換層が表面改質コーティングおよび混合層を有することは、表面改質コーティングの成分を光変換層の表面が含むことによって確認することができる。実用上は、光変換層から表面改質コーティングを横切る断面をＴＯＦ−ＳＩＭＳなどの表面分析法で分析して、光変換層に相当する部分から表面改質コーティング表面に至るまでの走査線上において元素またはフラグメントイオンの分布から構成成分が連続的に変化していることで確認することができる。

両層の界面におけるマイクロボイド数を上記範囲とするためには、光変換層表面上に直接、無機材料を蒸着により堆積させることが好ましい。
即ち、本発明の一態様は、
量子ドットを含む重合性組成物を重合させることにより上記光変換層を形成すること、および、
形成した光変換層の少なくとも一方の表面に直接、無機材料を蒸着することにより上記隣接無機層を形成すること、
を含む、上述の光変換部材の製造方法、
に関する。
ここで本発明における蒸着とは、成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法、より詳しくは、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）、種々の化学的気相成長法（ＣＶＤ）を含むものとする。
なお本発明において、「無機層」とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。これに対し、有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。

無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。

上記の材料の中でも、窒化ケイ素、酸化ケイ素、または酸化窒化ケイ素が特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。
さらに、上述の中でも、窒化ケイ素が最も好ましい。製膜方法に依存する部分もあるが、窒化ケイ素は酸化ケイ素に比べ緻密な構造を持つため、より高い酸素バリア性が期待できるからである。加えて、窒化ケイ素はセラミックコーティングに用いられる例があるように、耐磨耗性および曲げ耐性に優れ、無機層成膜後のハンドリングや、表面保護のために無機層に対して行われる各種接触やラミネートによる加圧下においても、無機層の破壊による欠陥発生を起こしにくく、加工適性に優れたバリア層を与えるからである。

上述の通り、隣接無機層は、好ましくは蒸着により形成される。具体的には、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して基材上に蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、基材上に蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、基材に蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、基材上に蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）、酸化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。

これらの無機層の成膜方法のうち、特に成膜工程に減圧環境を要するものは、光変換層からの放出ガスによる影響が無視できない場合がある。したがって、光変換層から放出されるガス成分、特に、酸素や窒素等の溶存ガス以外の、光変換層の材料に起因するガス成分は極力少ないことが好ましい。酸素バリア層の好ましい例として上述した窒化ケイ素、酸化ケイ素、または酸化窒化ケイ素は、時に１４０℃程度の加熱下で成膜することを鑑みると、光変換層の１４０℃１０分での揮発減量分が０．１質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがより好ましい。１４０℃での揮発減量分は、ＴＧ／ＤＴＡ（熱重量測定・示差熱分析）で測定することができる。

光変換部材の製造方法においては、揮発減量分を減ずることを目的として、無機層の成膜前に予め減圧処理や加熱処理を施すことが可能である。すなわち、本発明の光変換部材の製造方法は、量子ドットを含む重合性組成物を重合させることにより上記光変換層を形成する工程と、形成した光変換層の少なくとも一方に直接、無機材料を蒸着する工程との間に、さらに、減圧工程、加熱工程の少なくとも一方を加えることよって光変換層の１４０℃１０分における揮発減量分を減じる工程を含むことが好ましい。１４０℃１０分加熱における揮発減量分を減じる工程は、減圧処理、加熱処理のいずれか一方だけでも良いが、より高い効果を得るためには、減圧下で加熱処理を行うことが効果的である。この処理を行うことにより、より優れた膜質の無機層を形成することが可能である。１４０℃１０分加熱における揮発減量分を減じる工程における減圧処理は、１ａｔｍ以下の減圧処理であることが好ましく、０．１ａｔｍ以下の減圧処理であることがより好ましく、真空減圧処理（０．０１ａｔｍ以下の減圧処理）であることが特に好ましい。１４０℃１０分加熱における揮発減量分を減じる工程における加熱処理は、４０〜１４０℃の加熱処理であることが好ましく、４５〜１００℃の加熱処理であることがより好ましく、５０〜７０℃の加熱処理であることが特に好ましい。

また、酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することもできる。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。

光変換層に直接接する隣接無機層の厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍ、中でも１０ｎｍ〜３００ｎｍ、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度をより高くできる（光透過率がより高い）光変換部材を提供することができるからである。

＜その他の無機層、有機層＞
上述の光変換部材は、上記隣接無機層の、光変換層と直接接する面とは反対の面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる一層以上を有することもできる。また、上記光変換層の、隣接無機層と直接接する面とは反対の面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる一層以上を有することもできる。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、光変換部材の光透過率は低下して液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を低くする傾向があるため、光変換部材が良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、光変換部材は、酸素透過率が１．００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。
酸素透過率は、より好ましくは、０．１０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、さらに好ましくは０．０１ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。

その他の層として設ける無機層については、隣接無機層について記載した通りである。なお、その他の層として設ける無機層は、必ずしも蒸着により作製されるものに限定されるものではない。例えば、接着層により光変換層や、隣接する他の層と貼り合わせることもできる。ただし、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度および耐光性の更なる向上の観点からは、その他の層として設ける無機層も、蒸着により作製することが好ましい。

有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報の段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報の段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層または基材（詳細は後述する。）との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報の段落００８５〜００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。

バリア性を有する無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。

＜基材＞
また、強度向上、成膜の容易性等のため、有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間に、基材が存在していてもよい。基材としては、可視光に対して透明である透明基材であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。基材については、特開２００７−２９０３６９号公報の段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報の段落００４０〜００５５を参照できる。１０μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも２０〜４００μｍの範囲内、特に３０〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。

＜接着層、粘着材＞
有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間を、公知の接着層あるいは粘着材により貼り合わせてもよい。液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高めるための光変換部材の光透過率向上の観点からは、接着層の数は少ないほど好ましく、接着層が存在しないことがより好ましい。

光変換層の、隣接無機層と直接接する面とは反対の面に存在する層についても、光変換層との界面においてマイクロボイドが少ないことが好ましく、隣接無機層との界面と同様、光変換層との界面におけるマイクロボイド数が、１００ｍｍ^２あたり０個以上１個未満であることが好ましい。このように、光変換層に両面でそれぞれ直接接する層の界面におけるマイクロボイド数を低減するためには、無機層を蒸着により形成することが有効である。

［バックライトユニット］
本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、上述の光変換部材と、光源と、を少なくとも含む。光変換部材の詳細は、先に記載した通りである。

（バックライトユニットの発光波長）
バックライトユニットは、３波長光源により高輝度かつ高い色彩再現性を実現すべく、
４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、
５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、
６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、
を発光することが好ましい。
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４３０〜４８０ｎｍであることが好ましく、４４０〜４６０ｎｍであることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５２０〜５６０ｎｍであることが好ましく、５２０〜５４５ｎｍであることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６００〜６８０ｎｍであることが好ましく、６１０〜６４０ｎｍであることがより好ましい。

また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３０ｎｍ以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が２５ｎｍ以下であることが、特に好ましい。

バックライトユニットは、少なくとも、上記光変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、光変換層には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット（Ａ）と、緑色光を発光する量子ドット（Ｂ）が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され光変換部材を透過した青色光と、光変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
または他の態様では、光源として、３００ｎｍ〜４３０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、光変換層には、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット（Ｃ）が含まれることが好ましい。これにより、光変換部材から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
また他の態様では、青色光を発光する青色レーザー、緑色光を発光する緑色レーザー、赤色光を発光する赤色レーザーからなる群から選ばれる光源の二種を用い、この光源が出射する光とは異なる発光波長を有する蛍光を発光する量子ドットを、光変換層に存在させることにより、光源から発光される二種の光と、光変換層の量子ドットから発光される光により、白色光を具現化することもできる。
これらの中でも、本発明のバックライトユニットでは、光源は、３８０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有することが好ましく、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有することがより好ましい。

（バックライトユニットの構成）
バックライトユニットの構成としては、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であることができる。図１には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示したが、本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。

また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

バックライトユニットが、青色光のうち４６０ｎｍよりも短波長の光を選択的に透過する青色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
また、バックライトユニットが、赤色光のうち６３０ｎｍよりも長波長の光を選択的に透過する赤色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
このような青色用波長選択フィルタや赤色用波長選択フィルタとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのようなフィルタは、特開２００８−５２０６７号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

［液晶表示装置］
本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、上述のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む。

（液晶表示装置の構成）
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。

液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは２枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（又はそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。

図２に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図２に示す液晶表示装置５１は、液晶セル２１のバックライト側の面にバックライト側偏光板１４を有する。バックライト側偏光板１４は、バックライト側偏光子１２のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム１１を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
バックライト側偏光板１４は、偏光子１２が、２枚の偏光板保護フィルム１１および１３で挟まれた構成であることが好ましい。
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図２に示す例では、偏光板保護フィルム１３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム１１がアウター側偏光板保護フィルムである。

バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。

液晶表示装置５１は、液晶セル２１のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板４４を有する。表示側偏光板４４は、偏光子４２が、２枚の偏光板保護フィルム４１および４３で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム４３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム４１がアウター側偏光板保護フィルムである。

液晶表示装置５１が有するバックライトユニット３１については、先に記載した通りである。

本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。

（カラーフィルター）
５００ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光源を用いる場合、ＲＧＢ画素形成方法としては、公知の種々の方法を使用することができる。例えば、ガラス基板上にフォトマスク、およびフォトレジストを用いて所望のブラックマトリックス、およびＲ、Ｇ、Ｂの画素パターンを形成することもできるし、また、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、所定の幅のブラックマトリクス、およびｎ個置きにブラックマトリクスの幅よりも広いブラックマトリックスで区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の印刷装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルターを作製することもできる。画像着色後は、ベーク等することで各画素及びブラックマトリックスを完全に硬化させてもよい。
カラーフィルターの好ましい特性は特開２００８−０８３６１１号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
例えば、緑色を示すカラーフィルターにおける最大透過率の半分の透過率となる波長は、一方が５９０ｎｍ以上６１０ｎｍ以下であり、他方が４７０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。また、緑色を示すカラーフィルターにおいて最大透過率の半分の透過率となる波長は、一方が５９０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であることが好ましい。さらに緑色を示すカラーフィルターにおける最大透過率は８０％以上であることが好ましい。緑色を示すカラーフィルターにおいて最大透過率となる波長は５３０ｎｍ以上５６０ｎｍ以下であることが好ましい。
緑色を示すカラーフィルターにおいて、発光ピークの波長における透過率は、最大透過率の１０％以下であることが好ましい。
赤色を示すカラーフィルターは、５８０ｎｍ以上５９０ｎｍ以下における透過率が最大透過率の１０％以下であることが好ましい。
カラーフィルター用顔料としては、公知のものを何ら制限なく用いることができる。なお、現在は、一般的に顔料を用いているが、分光を制御でき、プロセス安定性、信頼性が確保できる色素であれば、染料によるカラーフィルターであってもよい。

（ブラックマトリックス）
液晶表示装置には、各画素の間にブラックマトリックスが配置されていることが好ましい。ブラックストライプを形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。

（薄層トランジスタ）
液晶表示装置は、さらに薄層トランジスタ（以下、ＴＦＴとも言う）を有するＴＦＴ基板を有することもできる。薄層トランジスタは、キャリア濃度が１×１０^１４／ｃｍ^３未満である酸化物半導体層を有することが好ましい。薄層トランジスタの好ましい態様については特開２０１１−１４１５２２号公報に記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ優れた耐光性を有する光変換部材を含むバックライトユニットを備えるため、高輝度かつ高い色彩再現性を長期にわたり実現することができるものである。

以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

Ｉ．光変換部材の作製

（実施例１）
１．光変換層（量子ドットを含有する有機層Ａ）Ａの作製
下記の量子ドット分散液Ａを調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥して塗布液として用いた。ガラス基板上にこの塗布液を塗布した後、窒素下にて１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射固定化した後、ガラス基板から剥離して量子ドットを含有する光変換層（量子ドットを含有する有機層Ａ）Ａを作製した。光変換層（量子ドットを含有する有機層Ａ）Ａの膜厚は、２８０μｍであった。水の接触角を用いて測定した光変換層Ａの表面エネルギー値を下記表１に記載した。

───────────────────────────────────────
量子ドット分散液Ａ（量子ドットを含有する有機層Ａ用組成）
───────────────────────────────────────
量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） １０質量部
量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） １質量部
ラウリルメタクリレート ２．４質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート ０．５４質量部
光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）
───────────────────────────────────────
量子ドット１、２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製)：蛍光半値幅６５ｎｍ
量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製)：蛍光半値幅７０ｎｍ

２．光変換部材Ａの作製
上記１．で作製した光変換層Ａを真空成膜装置にセットし真空排気した後、ＣＶＤ法にて隣接無機層（無機層Ａ）としてＳｉＮ膜（膜厚５０ｎｍ）を光変換層Ａの片面に蒸着した。次いで、無機層Ａが蒸着されていない裏面にも同様の操作を行い、図３の構成の、光変換層の両面に直接接する層として無機層Ａが直接蒸着された光変換部材Ａを作製した。

（実施例２）
１．バリア支持体Ｂの作製
ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人デュポン社製テオネックスＱ６５ＦＡ、厚さ１００μｍ、幅１０００ｍｍ）を真空成膜装置の送り出し部にセットし真空排気した後、ＣＶＤ法にて無機層（無機層Ｂ）としてＳｉＮ膜（膜厚５０ｎｍ）をポリエチレンナフタレートフィルムの片面のみに蒸着し、片面のみに無機層Ｂが積層されたバリア支持体Ｂのロールフィルムを作製した。

２．光変換部材Ｂの作製
上記１．で作製したバリア支持体Ｂのポリエチレンナフタレートフィルム表面と、実施例１で作製した光変換部材Ａの両面をラミネート処理で接着して、図４の構成の光変換部材Ｂを作製した。

（実施例３）
１．光変換部材Ｃの作製
下記の量子ドット分散液Ｃを調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥して塗布液として用いた。実施例２で作製したバリア支持体Ｂを支持体として使用し、バリア支持体Ｂの無機層Ｂ表面上に、量子ドット分散液Ｃを塗布した。窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２８０μｍの光変換層（量子ドットを含有する有機層Ｃ）Ｃを形成した。水の接触角を用いて測定した光変換層Ｃの表面エネルギー値を下記表１に記載した。
更に真空成膜装置にセットし真空排気した後、ＣＶＤ法にて隣接無機層（無機層Ｃ）として、ＳｉＮ膜（膜厚５０ｎｍ）を、光変換層（量子ドットを含有する有機層Ｃ）Ｃの片面に直接蒸着し、図５の構成の光変換部材Ｃを作製した。

───────────────────────────────────────
量子ドット分散液Ｃ（量子ドットを含有する有機層Ｃ用組成）
───────────────────────────────────────
量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） １０質量部
量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） １質量部
ラウリルメタクリレート ２．４質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート ０．５４質量部
光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）
シランカップリング剤Ｃ ０．０９質量部
───────────────────────────────────────

（上記において、ＲはＣＨ_２ＣＨＣＯＯＣＨ_２を表す。シランカップリング剤Ｃは、特開２００９−６７７７８号公報に記載の方法を参考にして合成した。）

（実施例４）
１．光変換部材Ｄの作製
下記の量子ドット分散液Ｄを調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥して塗布液として用いた。実施例１で調製した量子ドット分散液Ａを量子ドット分散液Ｄに変更した以外は実施例１と同様の操作にて、図６の構成の光変換部材Ｄを作製した。ここで作製した光変換層（有機層Ｄ）Ｄの膜厚は、２８０μｍであった。水の接触角を用いて測定した光変換層Ｄの表面エネルギー値を下記表１に記載した。

───────────────────────────────────────
量子ドット分散液Ｄ（量子ドットを含有する有機層Ｄ用組成）
───────────────────────────────────────
量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） １０質量部
量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） １質量部
メチルメタクリレート ２．４質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート ０．５４質量部
光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）
───────────────────────────────────────

（実施例５）
１．光変換部材Ｅの作製
実施例１で作製した光変換層Ａを、マグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内に配置した。ターゲットには窒化ケイ素を使用し、以下の成膜条件で、光変換層Ａの両面に直接、隣接無機膜（無機層Ｅ）として窒化ケイ素膜（膜厚１００ｎｍ）を成膜した。こうして、図７の構成の光変換部材Ｅを作製した。
成膜圧力： ２．５×１０^−１Ｐａ
アルゴンガス流量：２０ｓｃｃｍ
窒素ガス流量：９ｓｃｃｍ
周波数：１３．５６ＭＨｚ
電力：１．２ｋＷ

（比較例１）
実施例２で作製したバリア支持体Ｂの無機層Ｂの表面と、実施例１で作製した量子ドットを含有する有機層Ａの両面をラミネート処理で接着して、図８の構成の光変換部材Ｈを作製した。

（比較例２）
１．バリア支持体Ｆの作製
下記の重合性組成物Ｆ（有機層Ｆ用組成）を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して塗布液として用いた。実施例２で作製したバリア支持体Ｂの無機層Ｂの表面に塗布し、窒素下にて１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射固定化した後、巻き取って無機層Ｂの上に、更に有機層Ｆが積層されたロールフィルムを作製した。有機層Ｆの膜厚は、１μｍであった。

───────────────────────────────────────
重合性組成物Ｆ（有機層Ｆ用組成）
───────────────────────────────────────
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ） １００質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）
メチルエチルケトン ３００質量部
───────────────────────────────────────

作製したロールフィルムを真空成膜装置の送り出し部にセットし真空排気した後、ＣＶＤ法にて無機層Ｆ（ＳｉＮ膜、膜厚５０ｎｍ）を有機層Ｆ表面に直接を蒸着し、バリア支持体Ｆのロールフィルムを作製した。

２．光変換部材Ｉの作製
バリア支持体Ｆを支持体として使用し、バリア支持体Ｆの無機層Ｆ表面上に、実施例３で作製した量子ドット分散液Ｃ（量子ドットを含有する有機層Ｃ用組成）を塗布した。窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、紫外線を照射して硬化させ、厚さ２８０μｍの量子ドットを含有する光変換層（有機層Ｃ）を形成した。
更にバリア支持体Ｆの無機層Ｆの表面と、有機層Ｃの表面をラミネート処理で接着して、図９の構成の光変換部材Ｉを作製した。

（実施例６）
１．光変換層（量子ドットを含有する有機層）の作製
実施例１で調製した量子ドット分散液Ａを用い、支持体として、表面易接着層処理を施さないポリエチレンテレフタラートフィルム（以下、ＰＥＴフィルム）を用い、図１０に記載の製造装置を用いて、両面がＰＥＴフィルムに覆われた光変換層を形成した。有機層の膜厚は、２８０μｍであった。ＰＥＴフィルムを１ｃｍ角分剥離除去し、その表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、表面に認められる凸部は最大のものでも高さａ＝０．１μｍ、幅ｂ＝０．５μｍの突起部であった。また、ＰＥＴフィルムを両面とも除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０５質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、３８ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．２であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．３５であり、ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ）であった。

２．光変換部材の作製
上記１．で作製した光変換層からＰＥＴフィルムの一方を剥離除去し、真空成膜装置にセットし真空排気した後、ＣＶＤ法にて隣接無機層（無機層Ａ）としてＳｉＮ膜（膜厚５０ｎｍ）を光変換層の片面に蒸着した。次いで、残る一方のＰＥＴフィルムを剥離除去してこの面にも同様の操作を行い、図３と同様の構成の、光変換層の両面に直接接する層として無機層が直接蒸着された光変換部材を作製した。

（実施例７）
実施例６で使用した量子ドット分散液Ａに替えて、以下に記載した量子ドット分散液Ｇを用いた以外は実施例６と同様にして、光変換層および光変換層の両面に直接接する層として無機層が直接蒸着された光変換部材を作製した。光変換層の厚みは２８０μｍであった。ＰＥＴフィルムを１ｃｍ角で除去して露出した光変換層の表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、表面に認められる凸部は最大のものでも高さａ＝０．１μｍ、幅ｂ＝０．５μｍの突起部であった。また、ＰＥＴフィルムを両面とも除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０６質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、４６ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．２であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．３５であり、ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ）であった。
───────────────────────────────────────
量子ドット分散液Ｇ
───────────────────────────────────────
量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） １０質量部
量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） １質量部
ラウリルメタクリレート １．５質量部
密着改良剤 ウレタンアクリレートＵＡ−１６０ＴＭ（新中村化学工業（株）製）
１．５質量部
光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）
───────────────────────────────────────

（実施例８）
実施例６で使用した量子ドット分散液Ａに替えて、以下に記載した量子ドット分散液Ｈを用いた以外は実施例６と同様にして、光変換層および光変換層の両面に直接接する層として無機層が直接蒸着された光変換部材を作製した。光変換層の厚みは２８０μｍであった。ＰＥＴフィルムを１ｃｍ角で除去して露出した光変換層の表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、表面に認められる凸部は最大のものでも高さａ＝０．１μｍ、幅ｂ＝０．５μｍの突起部であった。また、ＰＥＴフィルムを両面とも除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０２質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、５４ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．２であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．３５であり、ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ）であった。
───────────────────────────────────────
量子ドット分散液Ｈ
───────────────────────────────────────
量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） １０質量部
量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） １質量部
密着改良剤 エポキシ硬化樹脂 ３．０質量部
（ロックタイトＥ−３０ＣＬ（ヘンケル社製））
───────────────────────────────────────

（実施例９）
実施例６で得られた光変換層の両表面に、下記構成の表面改質コーティングを塗布し、ＵＶ硬化して表面改質コーティング（厚み０．３μｍ）を設けた光変換層を作成した。それ以外は比較例３と同様にして、光変換部材を得た、光変換層の厚みは２８１μｍであった。表面改質コーティング後の光変換層の表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、高さａ＝０．０５μｍ、幅ｂ＝０．４μｍの複数の凸部である突起部が認められた。また、ＰＥＴフィルムを除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０５質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、４６ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．１３であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．７であり、ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ）であった。
───────────────────────────────────────
表面改質コーティング用組成物
───────────────────────────────────────
ラウリルメタクリレート １．５質量部
密着改良剤 ウレタンアクリレートＵＡ−１６０ＴＭ（新中村化学工業（株）製）
１．５質量部
光重合開始剤 ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）
メチルエチルケトン ２０質量部
───────────────────────────────────────

（実施例１０）
比較例３で得られた光変換層の凹凸が設けられた面に、上記構成の表面改質コーティングを塗布し、ＵＶ硬化して表面改質コーティング（厚み０．３μｍ）を設けた光変換層を作成した。それ以外は比較例３と同様にして、光変換部材を得た、光変換層の厚みは２８０μｍであった。表面改質コーティングを行った側の光変換層の表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、シリカ粒子の埋め込み部分において、高さａ＝０．１μｍ、幅ｂ＝１．０μｍの複数の凸部である突起部が認められた。また、ＰＥＴフィルムを除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０６質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、４６ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．１であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．３５であり、ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ）であった。

（比較例３）
実施例１で調製した量子ドット分散液Ａを用い、支持体として、バリア性支持体に替えて表面易接着層処理を施さないＰＥＴフィルムを用いた以外は実施例３と同様の工程を経て光変換層を形成した。ただし、硬化に先立ち、異物が付着した状態を模擬するためシリカ微粒子（コアフロント（株）社製、ＳＩＣＡＳＴＡＲ（製品名））を光変換層表面上に散布した。光変換層の厚みは２８０μｍであった。ＰＥＴフィルムに覆われていない側の光変換層の表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、表面にシリカ粒子の埋め込みに起因する、高さａ＝０．２μｍ、幅ｂ＝１．０μｍの複数の凸部である突起部が認められた。また、ＰＥＴフィルムを除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０５質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、３８ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．２であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．１８であり、ａ／ｂ＞０．７（ｈ／ａ）であった。

（比較例４）
実施例８で調製した量子ドット分散液Ｈを用い、支持体として、バリア性支持体に替えて表面易接着層処理を施さないＰＥＴフィルムを用いた以外は実施例８と同様の工程を経て光変換層を形成した。ただし、硬化に先立ち、異物が付着した状態を模擬するためシリカ微粒子（コアフロント（株）社製、ＳＩＣＡＳＴＡＲ（製品名））を光変換層表面上に散布した。光変換層の厚みは２８０μｍであった。ＰＥＴフィルムに覆われていない側の光変換層の表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、表面にシリカ粒子の埋め込みに起因する、高さａ＝０．２μｍ、幅ｂ＝１．０μｍの複数の凸部である突起部が認められた。また、ＰＥＴフィルムを除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０２質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、５４ｍＮ／ｍであった。無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．２であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．１８であり、ａ／ｂ＞０．７（ｈ／ａ）であった。

（実施例１１）
実施例６で得られた光変換層のＰＥＴフィルムを除去した後、６０℃に加温しながら無機層の成膜機である真空成膜装置内で、真空（約０．０１ａｔｍ）減圧下３０分放置した後に無機層を製膜する以外は、実施例６と同様にして光変換層を得た。上記工程の後無機層を製膜せずに外部に取り出した状態の光変換層を専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０１質量％以下（検出限界以下）であった。

（実施例１２）
１．光変換層（量子ドットを含有する有機層）の作製
実施例１で調製した量子ドット分散液Ａを用い、特開平２−２１４６２２号公報の第一図に記載の製膜装置を用いて、光変換層を形成した。金属ロールは両方とも鏡面処理した平滑ロールを用い、製膜完了後巻き取り工程の際ラミネートフィルムを貼合することによって両表面を保護した。この特開平２−２１４６２２号公報の第一図に記載の製膜装置を用いる方法は、光変換層形成用の重合性組成物を吐出してから硬化した膜として取り出すまでの工程が一度も基材フィルムを用いることなく行なわれている点で、実施例１１に記載の方法とは異なる。得られた光変換層の膜厚は、２８０μｍであった。ラミネートフィルムを１ｃｍ角分剥離除去し、その表面形状をマイクロマップ機（菱化システム社製）を用いて測定した結果、表面に認められる凸部は最大のものでも高さａ＝０．１μｍ、幅ｂ＝１．０μｍの突起部であった。また、ＰＥＴフィルムを両面とも除去し、光変換層のみ専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．０５質量％であった。水の接触角を用いて測定した表面エネルギー値は、３８ｍＮ／ｍであった。

２．光変換部材の作製
上記１．で作製した光変換層からラミネートフィルムを剥離除去し、真空成膜装置にセットし真空排気した後、ＣＶＤ法にて隣接無機層（無機層Ａ）としてＳｉＮ膜（膜厚５０ｎｍ）を光変換層の片面に蒸着した。次いで、残る一方のラミネートフィルムを剥離除去してこの面にも同様の操作を行い、図３と同様の構成の、光変換層の両面に直接接する層として無機層が直接蒸着された光変換部材を作製した。
無機層の厚みｈは５０ｎｍであるから、ａ／ｂ＝０．１であり、０．７（ｈ／ａ）＝０．３５であり、ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ）であった。

（比較例５）
実施例６で得られた光変換層のＰＥＴフィルムを除去した後、トルエンを噴霧して光変換層に若干量を含ませる以外は、実施例６と同様にして光変換層を得た。トルエン噴霧後の光変換層を専用のアルミパンに取り、示差熱量／熱重量計（ＴＧ／ＤＴＡ）で１４０℃１０分間加熱してその揮発減量分を定量したところ、０．２０質量％であった。その後は実施例６と同様にして無機層を積層し、光変換部材を作成した。

ＩＩ．液晶表示装置の作製
市販の液晶表示装置（パナソニック社製商品名ＴＨＬ４２Ｄ２）を分解し、液晶セルがある側の導光板上に光変換部材Ａを加え、バックライトユニットを以下のＢ狭大域バックライトユニットに変更し、液晶表示装置を製造した。用いたＢ狭帯域バックライトユニットは、光源として、青色発光ダイオード（日亜Ｂ−ＬＥＤ：Ｂｌｕｅ，主波長４６５ｎｍ、半値幅２０ｎｍ）を備える。

光変換部材Ａを、実施例、比較例の光変換部材に変更した点以外は、同様の方法で液晶表示装置を作製した。

ＩＩＩ．評価
＜耐光性の評価＞
実施例、比較例で作製した光変換部材の耐光性を評価した。耐光性は、２２ｍＷ、４６５ｎｍの青色ＬＥＤを使用し、このＬＥＤパッケージに２０ｍＡの電流を流し、大気下、２０００時間連続して積層体に照射し、光照射後での積層体の発光効率を測定した。その結果を元に以下の基準で評価した。結果を表１〜３に示した。実用上、ＡまたはＢであることが必要であり、Ａであることが好ましい。
Ａ 光照射前と比較して８０％以上の発光効率である。
Ｂ 光照射前と比較して６０％以上、８０％未満の発光効率である。
Ｃ 光照射前と比較して４０％以上、６０％未満の発光効率である。
Ｄ 光照射前と比較して４０％未満の発光効率である。

＜酸素透過率の評価＞
実施例、比較例で作製した光変換部材の酸素透過率を、前述の方法で測定した。その結果を元に以下の基準で評価した。結果を表１〜３に示した。
Ａ：０．１０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下
Ｂ：０．１０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）１．００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下
Ｃ：１．００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）超

＜正面輝度の評価＞
液晶表示装置の正面輝度を、特開２００９−９３１６６号公報の［０１８０］に記載の方法で測定した。その結果をもとに、以下の基準で評価した。結果を表１〜３に示した。実用上、ＡまたはＢであることが必要であり、Ａであることが好ましい。
Ａ：比較例１の液晶表示装置の正面輝度よりも１５％以上、良好である
Ｂ：比較例１の液晶表示装置の正面輝度よりも１０％以上、１５％未満、良好である
Ｃ：比較例１の液晶表示装置の正面輝度よりも５％以上、１０％未満、良好である
Ｄ：比較例１の液晶表示装置の正面輝度と同等以下である。

＜正面コントラストの評価＞
液晶表示装置の正面コントラストを、特開２００９−９３１６６号公報の［０１８０］に記載の方法で測定した。その結果をもとに、以下の基準で評価した。結果を表１〜３に示した。
Ａ：比較例１の液晶表示装置の正面コントラストよりも１０％以上、良好である
Ｂ：比較例１の液晶表示装置の正面コントラストよりも５％以上、１０％未満、良好である
Ｃ：比較例１または２の液晶表示装置の正面コントラストと同等以下である。

＜斜め方向の色ムラの評価＞
液晶表示装置の斜め方位の色ムラを、特開２００８−１４５８６８号公報の［００７９］に記載の方法で測定した。その結果をもとに、以下の基準で評価した。その結果を表１〜３に示す。
Ａ：比較例２の液晶表示装置の斜め方位の色ムラよりも３０％以上、良好である
Ｂ：比較例２の液晶表示装置の斜め方位の色ムラよりも２０％以上３０％未満、良好である
Ｃ：比較例２の液晶表示装置の斜め方位の色ムラよりも１０％以上２０％未満、良好である
Ｄ：比較例２の液晶表示装置の斜め方位の色ムラよりは良いが、１０％未満、良好である。
Ｅ：比較例２の液晶表示装置の斜め方位の色ムラと同等以下である。

＜光変換層と隣接無機層との界面におけるマイクロボイドの数＞
超深度形状測定顕微鏡（キーエンス製ＶＫ−８５００、倍率４００倍）を用いて前述の方法により、光変換層と、光変換層に直接接する無機層との界面におけるマイクロボイドの数を評価した。評価基準は以下の通りである。その結果を表１〜３に示す。
Ａ ：１００ｍｍ^２当たりのマイクロボイド数が０個
ＢＢ：１００ｍｍ^２当たりのマイクロボイド数が０個を超え１個未満
Ｂ ：１００ｍｍ^２当たりのマイクロボイド数が１〜９個
ＣＣ：１００ｍｍ^２当たりのマイクロボイド数が９個を超え１０個未満
Ｃ ：１００ｍｍ^２当たりのマイクロボイド数が１０個以上
なお、１００ｍｍ^２当たりのマイクロボイド数は、前述の光変換層と隣接無機層との界面における１００ｍｍ^２あたりのマイクロボイド数を求める第１の方法で求めた結果も、前述の光変換層と隣接無機層との界面における１００ｍｍ^２あたりのマイクロボイド数を求める第１の方法結果も、同じであった。

＜密着性の評価＞
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠した方法で評価した。各実施例および比較例の光変換部材の光変換層以外の層（バリア層）の片面にカッターナイフで膜面に対して９０°の光変換層に到達する切り込みを１ｍｍ間隔で入れ、１ｍｍ間隔の碁盤目を１００マス作製した。この上に２ｃｍ幅のマイラーテープ（日東電工製、ポリエステルテープ、Ｎｏ．３１Ｂ）で貼り付けたテープを剥がした。各実施例および比較例の光変換部材の最表面の層が残存したマスの数で評価した。両面について同様の試験を行い、最表面の層が残存したマスの数が少ない方の面の値を用いて以下の評価基準により評価した。その結果を表１〜３に示す。
Ａ：残存マス数１００個
Ｂ：残存マス数９９〜６０個
Ｃ：残存マス数５９〜２０個
Ｄ：残存マス数１９〜０個

＜評価結果＞
表１〜表３に示すように、実施例１〜１２の光変換部材は、量子ドットを含む光変換部材であって、液晶表示装置に組み込んだ場合に正面輝度を高くでき、かつ、優れた耐光性を有する光変換部材であることがわかった。また、各実施例の光変換部材を備えた液晶表示装置は、正面輝度が良好であり、さらに本発明の好ましい態様の液晶表示装置では、正面コントラスト、および色ムラの評価についても良好な結果を示した。
表２に示すように、実施例６〜８の比較から、本発明の光変換層として表面エネルギーの高いものを用いると、無機層と有機層との濡れ性が向上することに起因すると考えられる無機層の膜質向上で、酸素透過性（バリア性）が向上することがわかった。また、比較例３、４から、光変換層に直接無機層を堆積する際は、光変換層の表面形状がバリア性やマイクロボイドの発生に影響があることがわかった。加えて、実施例９、１０より、表面改質コーティングを設けた光変換層を用いると、濡れ性および表面形状に関する改良効果が得られ、マイクロボイドの発生を抑制しやすいことがわかった。
表３に示すように、光変換層に直接無機層を堆積する際、揮発減量分を減じる工程を加えることでより優れた性能を示すようになることがわかった。一方、比較例５に示すように、揮発減量分がある状態では、好ましい光変換部材が得られないことがわかった。また、実施例１２に示すように、基材を用いずに光変換層を製膜する方法も、本発明においては好適に用いることができることがわかった。
以上の結果から、本発明の一態様によれば、液晶表示装置に組み込んだときに正面輝度を高くでき、かつ優れた耐光性を有する光変換部材を備え、正面輝度が高い画像を表示可能な液晶表示装置を提供することができることが確認された。さらに本発明の好ましい態様によれば、正面コントラストが高く、色ムラの少ない鮮明な画像を表示可能な液晶表示装置を提供することができることが確認された。

１００ 製造設備
１０ 第一のフィルム
２０ 塗布部
２２ 塗膜
２４ ダイコーター
２６ バックアップローラ
２８ 光変換層（硬化層）
３０ ラミネート部
３２ ラミネートローラ
３４ 加熱チャンバー
５０ 第二のフィルム
６０ 硬化部
６２ バックアップローラ
６４ 紫外線照射装置
７０ 光変換部材
８０ 剥離ローラ

本発明は、液晶表示装置の製造分野において有用である。

Claims (16)

1. 入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光変換層を有する光変換部材であって、
   前記光変換層は、量子ドットを有機マトリックス中に含み、
   前記光変換層は、前記隣接無機層と接する表面の表面エネルギー値が４０〜６０ｍＮ／ｍであり、
   前記光変換層に直接接する隣接無機層を有し、かつ、
   前記光変換層と隣接無機層との界面におけるマイクロボイド数が、１００ｍｍ²あたり０個以上１個未満である光変換部材。
2. 入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光変換層を有する光変換部材であって、
   前記光変換層は、量子ドットを有機マトリックス中に含み、
   前記光変換層に直接接する隣接無機層を有し、
   前記光変換層と隣接無機層との界面におけるマイクロボイド数が、１００ｍｍ²あたり０個以上１個未満であり、かつ
   前記光変換層は、前記隣接無機層と接する表面の前記表面に対して垂直な方向の断面において、前記表面の両端部を結ぶ方向をＸ方向とし、前記Ｘ方向に対して垂直な方向をＹ方向としたときに、
   前記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部を有する場合には、前記突起部の縁を通り、且つＸ方向に平行な線分ｘ１と、前記突起部の頂点を通り、且つＹ方向に平行な線分ｙ１との交点ｐ１を求め、前記線分ｙ１の前記頂点と前記交点ｐ１との間の距離をａ、前記線分ｘ１の前記縁と前記交点ｐ１との間の距離をｂ、前記表面の前記突起部近傍の平坦部上における前記隣接無機層の厚さをｈとし、
   前記表面が高さ０．０５μｍ以上の陥没部を有する場合には、前記陥没部の縁を通り、且つＸ方向に平行な線分ｘ２と、前記陥没部の底を通り、且つＹ方向に平行な線分ｙ２との交点ｐ２を求め、前記線分ｙ２の前記底と前記交点ｐ２との間の距離をａ、前記線分ｘ２の前記縁と前記交点ｐ２との間の距離をｂ、前記表面の前記陥没部近傍の平坦部上における前記隣接無機層の厚さをｈとし、
   ただし、前記断面は、ａ／ｂの値が最大となるように設定されたものであり、
   前記表面におけるすべての前記突起部及び陥没部が、下記式（１）で表される関係を満たす、あるいは、
   前記表面が高さ０．０５μｍ以上の突起部も高さ０．０５μｍ以上の陥没部も有さない、光変換部材。
   ａ／ｂ＜０．７（ｈ／ａ） ・・・・（１）
3. 前記光変換層が密着改良剤を含む、請求項１または２に記載の光変換部材。
4. 前記隣接無機層は、光変換層と直接接する面とは反対の面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる一層以上を更に有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の光変換部材。
5. 前記光変換層は、隣接無機層と直接接する面とは反対の面に、無機層および有機層からなる群から選ばれる一層以上を更に有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光変換部材。
6. 前記光変換層と、隣接無機層と直接接する面とは反対の面に存在する層との界面におけるマイクロボイド数は、１００ｍｍ²あたり０個以上１個未満である請求項５に記載の光変換部材。
7. 前記有機マトリックスは、単官能（メタ）アクリレートモノマーと多官能（メタ）アクリレートモノマーの重合体である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光変換部材。
8. 前記単官能（メタ）アクリレートモノマーは、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する請求項７に記載の光変換部材。
9. 前記量子ドットは、
   ６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、
   ５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、および
   ４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）、
   からなる群から選択される少なくとも一種である請求項１〜８のいずれか１項に記載の光変換部材。
10. 酸素透過率が１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である請求項１〜９のいずれか１項に記載の光変換部材。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光変換部材と、
    光源と、
    を少なくとも含むバックライトユニット。
12. ４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、
    ５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、
    ６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、
    を発光する請求項１１に記載のバックライトユニット。
13. 前記光源は、３８０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する請求項１１または１２に記載のバックライトユニット。
14. 導光板を更に含み、
    前記光変換部材を、前記導光板から出射される光の経路上に有する請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
15. 導光板を更に含み、
    前記光変換部材を、前記導光板と光源との間に有する請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
16. 請求項１１〜１５のいずれか１項に記載のバックライトユニットと、
    液晶セルと、
    を少なくとも含む液晶表示装置。