JP6441484B2 - 積層フィルム - Google Patents
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Description
量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度(エネルギー準位)が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長や発光波長を制御できる。
バックライトから量子ドットフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。
しかしながら、量子ドット層の両面をガスバリアフィルムで挟持するのみでは、ガスバリアフィルムで覆われていない端面から量子ドット層に水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
そのため、量子ドット層の両面に加え、量子ドット層の周辺もガスバリアフィルム等で封止することが提案されている。
特許文献3には、光源部から発せられた色光の少なくとも一部を他の色光に変換する色変換層と、色変換層を封止する不透水性の封止シートとを備えた発光装置が記載されており、蛍光体層の外周に沿って、すなわち蛍光体層の平面形状を囲むように枠形状に設けられている第2貼合層を有し、この第2貼合層がガスバリア性を有する接着材料からなる構成が記載されている。
特許文献1のように、薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪いという問題があった。また、ガスバリアフィルムを折り曲げるとバリア層が割れてガスバリア性が低下するという問題もあった。
すなわち、本発明は以下の構成の積層フィルムを提供する。
機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
端面封止層は、機能層積層体の端面側から端面樹脂層と、金属層とをこの順で含み、
金属層は、端面樹脂層の、機能層積層体の端面と接する面以外の全面を覆っている積層フィルム。
(2) 端面樹脂層と金属層との間に下地層を有する(1)に記載の積層フィルム。
(3) 金属層がメッキ層である(1)または(2)に記載の積層フィルム。
(4) メッキ層が無電解メッキ層である(3)に記載の積層フィルム。
(5) 機能層積層体の端面の長手方向に垂直な断面における、端面樹脂層の形状が円または楕円の一部からなる形状である(1)〜(4)のいずれかに記載の積層フィルム。
(6) 端面樹脂層の酸素透過度が10cc/(m2・day・atm)以下である(1)〜(5)のいずれかに記載の積層フィルム。
(7) 機能層積層体の端面に垂直な方向における、端面樹脂層の厚さが、5μm〜50μmである(1)〜(6)のいずれかに記載の積層フィルム。
(8) 金属層上にさらに、酸素透過度が10cc/(m2・day・atm)以下の樹脂層を有する(1)〜(7)のいずれかに記載の積層フィルム。
(9) 端面封止層が、機能層積層体の端面の全面を覆う(1)〜(8)のいずれかに記載の積層フィルム。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
図1に示す積層フィルム10は、光学機能層12と、ガスバリア層14と、端面封止層16とを有する。図1に示すように、積層フィルム10は、シート状の光学機能層12の両面(両主面)に、ガスバリア層14を積層し、光学機能層12をガスバリア層14で挟持した機能層積層体11の端面の全面を、端面封止層16で覆った構成を有するものである。
ここで、端面封止層16は、機能層積層体11の端面側から、端面樹脂層30と、下地層32と、金属層34とをこの順で形成されてなるものである。
機能層12は、量子ドット層などの波長変換層、光取り出し層、有機エレクトロルミネッセンス層(有機EL層)等、光学的な機能を発現する、各種の層が利用可能である。
中でも、端面封止層16を有することで、端面から侵入する酸素や水などに起因する光学機能材料の劣化を防止できるという、本発明の積層フィルムの特徴を十分に発現できる等の点で、車載などの高温高湿等の様々な環境下での使用が想定されるLCD等に利用され、かつ、酸素による量子ドットの劣化が大きな問題となる量子ドット層は、機能層12として好適に利用される。
量子ドット層は、一例として、多数の量子ドットを樹脂等のマトリックス中に分散してなる層であり、機能層12に入射した光の波長を変換して出射する機能を有する、波長変換層である。
例えば、図示しないバックライトから出射された青色光が機能層12に入射すると、機能層12は、内部に含有する量子ドットの効果により、この青色光の少なくとも一部を赤色光あるいは緑色光に波長変換して出射する。
なお、量子ドット層が発現する波長変換の機能は、青色光を赤色光あるいは緑色光に波長変換する構成に限定はされず、入射光の少なくとも一部を異なる波長の光に変換するものであればよい。
量子ドット層に含有される量子ドットの種類には特に限定はなく、求められる波長変換の性能等に応じて、種々の公知の量子ドットを適宜選択すればよい。
また、量子ドットは、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
2種以上の量子ドットを併用する場合は、互いの発光光の波長が異なる量子ドットを使用してもよい。
例えば、ポリエステル系樹脂(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂などが挙げられる。あるいは、マトリックスとして、重合性基を有する硬化性化合物を用いることができる。重合性基の種類は、限定はないが、好ましくは、(メタ)アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、(メタ)アクリレート基であり、特に好ましくは、アクリレート基である。また、2つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。
水素結合性を有する官能基としては、ウレタン基、ウレア基、またはヒドロキシル基等が挙げられる。
第1の重合性化合物と重合反応できる重合性基としては、例えば、第1の重合性化合物が2官能以上の(メタ)アクリレートモノマーであるときは(メタ)アクリロイル基であればよく、第1の重合性化合物がエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を2つ以上有するモノマーであるときはエポキシ基またはオキセタニル基であればよい。
第1の重合性化合物と第2の重合性化合物との質量比は10:90〜99:1であればよく、10:90〜90:10であることが好ましい。第2の重合性化合物の含有量に対し第1の重合性化合物の含有量が多いことも好ましく、具体的には(第1の重合性化合物の含有量)/(第2の重合性化合物の含有量)が2〜10であることが好ましい。
メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル基の炭素数が1〜30であるアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等のアラルキル基の炭素数が7〜20であるアラルキル(メタ)アクリレート;ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が2〜30であるアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の(モノアルキルまたはジアルキル)アミノアルキル基の総炭素数が1〜20であるアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールエチルエーテルの(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜10で末端アルキルエーテルの炭素数が1〜10のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの(メタ)アクリレート;ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜30で末端アリールエーテルの炭素数が6〜20のポリアルキレングリコールアリールエーテルの(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数4〜30の(メタ)アクリレート;ヘプタデカフロロデシル(メタ)アクリレート等の総炭素数4〜30のフッ素化アルキル(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールのモノまたはジ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜30のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
単官能(メタ)アクリレートモノマーは第1の重合性化合物と第2の重合性化合物との総質量100質量部に対して、1〜300質量部含まれていることが好ましく、50〜150質量部含まれていることがより好ましい。
炭素数4〜30の長鎖アルキル基を有する単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、具体的には、ブチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オレイル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリルアミド、オクチル(メタ)アクリルアミド、ラウリル(メタ)アクリルアミド、オレイル(メタ)アクリルアミド、ステアリル(メタ)アクリルアミド、ベヘニル(メタ)アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル(メタ)アクリレート、オレイル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
また、量子ドット層中のマトリックスとなる樹脂の総量には限定はないが、量子ドット層の全量100質量部に対して、90〜99.9質量部であることが好ましく、92〜99質量部であることがより好ましい。
なお、上記厚さは平均厚さを意図し、平均厚さは量子ドット層の任意の10点以上の厚さを測定して、それらを算術平均して求める。
なお、量子ドット層となる組成物には、必要に応じて、重合開始剤やシランカップリング剤等を添加してもよい。
ここで、図示例の積層フィルム10は、好ましい態様として、機能層12の両面にガスバリア層14が設けられが、本発明は、これに限定はされない。すなわち、ガスバリア層14は、機能層12の一方の面のみに設けてもよい。しかしながら、酸素等の侵入による機能層12の劣化を、より好適に防止できる等の点で、ガスバリア層14は、機能層12の両面に設けるのが好ましい。
また、ガスバリア層14を機能層12の両面に設ける場合には、ガスバリア層14は、同じものであっても、異なるものであってもよい。
ガスバリア層14の酸素透過度を0.1cc/(m2・day・atm)以下とすることにより、機能層12の主面から侵入する酸素等による機能層12の劣化を抑制して、長寿命な量子ドットフィルム等の積層フィルムを得ることができる。
なお、本発明において、ガスバリア層14や端面封止層16等の酸素透過度は、公知の方法や、後述する実施例に準じて測定すればよい。
また、酸素透過度の単位cc/(m2・day・atm)をSI単位に換算すると、9.87mL/(m2・day・MPa)である。
好ましいガスバリア層14として、支持体の上(一方の面もしくは両面)に、有機層と無機層とを交互に積層してなる、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムが例示される。
図2に示すガスバリア層14は、支持体20の上に有機層24を有し、有機層24の上に無機層26を有し、無機層26の上に有機層28を有するガスバリアフィルムである。
このガスバリア層14(ガスバリアフィルム)において、ガスバリア性は主に無機層26によって発現される。無機層26の下層の有機層24は、無機層26を適正に形成するための下地層である。最上層の有機層28は、無機層26の保護層として作用する。
例えば、保護層として作用する最上層の有機層28を有さなくてもよい。
また、図2に示す例は、無機層と下地の有機層との組み合わせを1組のみ有するが、無機層と下地の有機層との組み合わせを2組以上有してもよい。一般的に、無機層と下地の有機層との組み合わせの数が多いほど、ガスバリア性は高くなる。
さらに、支持体20の上に無機層を形成し、その上に、無機層と下地の有機層との組み合わせを1組以上、有する構成であってもよい。
中でも、薄手化や軽量化が容易である、フレキシブル化に好適である等の点で、各種の樹脂材料(高分子材料)からなるフィルムが好適に利用される。
具体的には、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミド(PA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリアクリトニトリル(PAN)、ポリイミド(PI)、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ABS、環状オレフィン・コポリマー(COC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、および、トリアセチルセルロース(TAC)からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
なお、支持体20は、このようなプラスチックフィルムの表面に、反射防止や位相差制御、光取り出し効率向上等の機能が付与されていてもよい。
支持体20の表面に形成される有機層24すなわち無機層26の下層となる有機層24は、ガスバリア層14において主にガスバリア性を発現する無機層26の下地層となるものである。
このような有機層24を有することにより、支持体20の表面の凹凸や、支持体20の表面に付着している異物等を包埋して、無機層26の成膜面を、無機層26の成膜に適した状態にできる。これにより、支持体20の表面の凹凸や異物の影のような、無機層26となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、基板の表面全面に、隙間無く、適正な無機層26を成膜することが可能になる。その結果、酸素透過度が0.1cc/(m2・day・atm)以下のガスバリア層14を安定して形成できる。
具体的には、ポリエステル、(メタ)アクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリル化合物、などの熱可塑性樹脂、ポリシロキサンや、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。
中でも特に、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマやオリゴマの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層24として好適に例示される。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート(DPGDA)、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(TMPTA)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(DPHA)などの、2官能以上、特に3官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマやオリゴマの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
有機層24の厚さを0.5μm以上とすることにより、支持体20の表面の凹凸や、支持体20の表面に付着した異物を包埋して、有機層24の表面すなわち無機層26の成膜面を平坦化できる。有機層24の厚さを5μm以下とすることにより、有機層24が厚すぎることに起因する、有機層24のクラックや、ガスバリア層14に起因するカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
なお、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、複数の有機層を有する場合には、各有機層の厚さは、同じでも異なってもよい。
有機層24の下層となる無機層26との密着性を向上するために、有機層24(有機層24となる組成物)は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。
なお、後述する有機層28も含めて、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、有機層24を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
無機層26は、無機化合物を主成分とする膜で、ガスバリア層14において、ガスバリア性を主に発現するものである。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ(ITO)などの金属酸化物; 窒化アルミニウムなどの金属窒化物; 炭化アルミニウムなどの金属炭化物; 酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物; 窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物; 炭化ケイ素等のケイ素炭化物; これらの水素化物; これら2種以上の混合物; および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
特に、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物からなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。
無機層26の厚さを10nm以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層26が形成できる。また、無機層26は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層26の厚さを200nm以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層26を有する場合には、各無機層26の厚さは、同じでも異なってもよい。
無機層を複数有する場合には、各無機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての無機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
前述のように、有機層28は、無機層26の保護層として作用する層である。最上層に有機層28を有することにより、ガスバリア性を発現する無機層26の損傷を防止して、ガスバリア層14が安定して目的とするガスバリア性を発現することが可能となる。また、有機層28を有することにより、マトリックスとなる樹脂に量子ドット等を分散してなる機能層12とガスバリア層14との密着性も向上できる。
この有機層28は、基本的に、前述の有機層24と同様のものである。また、有機層28は、これ以外にも、アクリルポリマを主鎖とし、側鎖に末端がアクリロイル基のウレタンポリマおよび末端がアクリロイル基のウレタンオリゴマの少なくとも一方を有する、分子量が10000〜3000000で、アクリル当量が500g/mol以上であるグラフト共重合体からなるものも、好適に利用可能である。
本発明者らの検討によれば、ガスバリア層14の厚さは、5〜100μmが好ましく、10〜70μmがより好ましく、15〜55μmが特に好ましい。
ガスバリア層14の厚さを100μm以下とすることで、ガスバリア層14すなわち積層フィルム10が不要に厚くなることを防止できる。また、ガスバリア層14の厚さを5μm以上とすることで、2つのガスバリア層14の間に機能層12を形成する際に、機能層12の厚さを均一にできる点で好ましい。
ここで、本発明の積層フィルム10は、機能層積層体11の端面側の端面樹脂層30と、金属層34とを含み、金属層34が端面樹脂層30の全面(機能層積層体11と接する面以外の全面)を覆う構成の端面封止層16を有する。
本発明の積層フィルム10は、このような端面封止層16を有することにより、ガスバリア層14で覆っていない端面から光学機能層12に酸素等が侵入して、量子ドット等の光学的な機能を発現する部材を劣化させることを防止する。
しかしながら、これらの構成では、十分なガスバリア性を確保できず、また、額縁部分が大きくなったり、生産性が悪い等の問題があった。
このような封止層として、高いガスバリア性を有する無機膜を気相成膜によって、機能層積層体の端面に直接、形成することを検討した。しかしながら、気相成膜では無機膜を厚く形成するのは難しい。そのため、機能層積層体の端面に直接、無機膜を形成すると、ピンホール等の欠陥が生じ十分なガスバリア性を得られない場合があることがわかった。
すなわち、発明の積層フィルムは、例えば、積層フィルム10の平面形状が四角形状である場合、対向する2つの端面のみ全面を覆って端面封止層を設けてもよく、1端面を残して3つの端面の全面を覆って端面封止層を設けてもよい。また、機能層積層体11の各端面を部分的に覆うように端面封止層を設けてもよい。これらは、積層フィルムが利用されるバックライトユニットの構成、積層フィルムの取付け部の構成等に応じて、適宜、設定すればよい。
しかしながら、機能層積層体11の端面から侵入する酸素等による量子ドットの劣化等、機能層12の劣化をより好適に防止できる等の点で、端面封止層16は、可能な限り大きな面積で機能層積層体11の端面を覆うのが好ましく、機能層積層体11の端面全面を覆うのが特に好ましい。
端面封止層16において主にガスバリア性を発現するのは金属層34である。この金属層34と機能層積層体11の端面との間に端面樹脂層30を有することで、金属層34の下層を平滑化し、金属層34にピンホール等の欠陥が発生するのを防止してガスバリア性を高くできる。
すなわち、端面封止層16は、端面樹脂層30と、端面樹脂層30上に形成される金属層34との2層からなる構成であってもよい。
例えば、金属層34上に、金属層34を保護する目的やガスバリア性をより向上する目的で樹脂層を有していてもよい。このような樹脂層は酸素透過度が10cc/(m2・day・atm)以下であるのが好ましい。
また、金属層34(および下地層32)を複数、有していてもよい。例えば、金属層34上に樹脂層を有し、この樹脂層上に第2の下地層を有し、第2の下地層上に第2の金属層を有していてもよい。
機能層積層体11の端面に、酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高い端面封止層16を形成することで、光学機能層12への水分や酸素の浸入をより好適に防止して光学機能層12の劣化をより好適に防止することができる。
上述する観点から、端面封止層16の機能層積層体11の主面への回り込みは1mm以下であることが好ましく、0.5mm以下であることがより好ましく、回りこみ部分の存在が目視困難となる0.1mm以下であることが特に好ましい。端面封止層16の回り込み量は、例えば、積層フィルムを大和光機工業株式会社製リトラトームREM−710などで断面切削し、その断面を光学顕微鏡で観察することで測定できる。
前述のとおり、端面樹脂層30を有することで、後述する金属層34(金属層34を形成するための下地層32)を形成する面を平滑にすることができ、これにより、金属層34にピンホール等の欠陥が発生することを防止して、金属層34によるガスバリア性を確実に発現することができる。
本発明者らの検討によれば、端面樹脂層30の厚さが薄すぎると、金属層34を形成する際に、下層の平滑化不足によってピンホール等の欠陥が発生することがわかった。
また、端面樹脂層30の厚さが厚すぎると、端面樹脂層30を形成する際の、端面樹脂層30となる材料の硬化収縮に起因して、機能層積層体11との密着性が低下するおそれがあることがわかった。
また、端面樹脂層30は、ガスバリア層14の支持体20や有機層24、および、光学機能層12と接しているので、支持体20や有機層24と光学機能層12とが、端面樹脂層30により無機層26を迂回して連通した状態である。そのため、端面樹脂層30の厚さが厚すぎると、ガスバリア層14の支持体20や有機層24を透過した酸素や水分が、端面樹脂層30に浸入し、端面樹脂層30から光学機能層12の端面に浸入しやすくなることがわかった。
そこで、端面樹脂層30の厚さを、1μm〜100μmとすることで、機能層積層体11との十分な密着性を確保でき、また、金属層34にピンホール等の欠陥が発生するのを防止でき、また、端面樹脂層30を迂回経路として酸素や水分が浸入するのを抑制して、光学機能層12の劣化をより好適に防止できる。また、額縁部分を小さくでき、光学機能層12を有効に利用できる領域を大きくできる点でも好ましい。
具体的には、端面樹脂層30の酸素透過度は、10cc/(m2・day・atm)以下であるのが好ましく、5cc/(m2・day・atm)以下がより好ましく、1cc/(m2・day・atm)以下がさらに好ましい。
なお、端面樹脂層30の酸素透過度の下限には、特に限定はなく、基本的に、低い程、好ましい。
端面樹脂層30は、基本的に、重合性化合物あるいはさらに水素結合性化合物を主体として形成されるのが好ましい。ここで、端面樹脂層30を形成するための組成物が含有する重合性化合物および水素結合性化合物は、親水度logPが4以下であるのが好ましく、3以下であるのがより好ましい。
なお、本発明において、親水度を示すLogP値とは、1−オクタノール/水の分配係数の対数値をいうものである。LogP値は、フラグメント法、原子アプローチ法等を用いて計算により算出することができる。本明細書に記載のLogP値は、化合物の構造からCambridge Soft社製ChemBioDraw Ultra12.0を用いて計算されるLogP値である。
ここで、機能層12では、マトリックスとして、疎水性の樹脂を用いる場合が少なくない。特に、機能層12が量子ドット層である場合には、マトリックスとして疎水性の樹脂が用いられる場合が多い。
一方、周知のように、化合物は、親水度logPが低い方が親水性が高い。すなわち、機能層12との密着力が強い端面樹脂層30を形成するためには、主体となる重合性化合物や水素結合性化合物は、親水度logPが高い方が好ましい。
その半面、疎水性の高い化合物からなる樹脂は、酸素透過性が高く、樹脂層の酸素透過度という点では、主体となる重合性化合物や水素結合性化合物は、親水度logPが低い方が好ましい。
この点を考慮すると、重合性化合物および水素結合性化合物の親水度logPは、0.0以上が好ましく、0.5以上がより好ましい。
なお、組成物の固形分全量とは、組成物から有機溶剤を除いた、形成される端面樹脂層30に残るべき成分の全量である。
端面樹脂層30を形成する組成物の固形分が、水素結合性化合物を30質量部以上含有することにより、分子間の相互作用を強くして、酸素透過性を低くできる。
水素結合性を有する官能基とは、このような水素結合を生じさせることのできる水素原子を含む官能基である。具体的には、ウレタン基、ウレア基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミド基またはシアノ基等が挙げられる。
これらの官能基を有する化合物としては、具体的には、トリレンジイソシアナート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアナート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアナート(HDI)、イソホロンジイソシアナート(IPDI)、水素添加MDI(HMDI)等のジイソシアナートと、ポリ(プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(テトラメチレンオキサイド)ジオール、エトキシ化ビスフェノールA、エトキシ化ビスフェノールSスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートとを反応させて得られるモノマー、オリゴマーが例示される。
また、エポキシ基を有する化合物に、ビスフェノールA型、ビスフェノールS型、ビスフェノールF型、エポキシ化油型、フェノールノボラック型等の化合物を反応させて得られるエポキシ化合物や、脂環型エポキシに、アミン化合物、酸無水物等を反応させて得られるエポキシ化合物も例示される。
さらに、前述のエポキシ化合物のカチオン重合物、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ブテンジオール−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル等も例示される。
中でも、硬化収縮が小さく積層フィルムとの密着に優れる観点から、エポキシ基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物を反応させて得られる化合物が好ましい。
本発明の積層フィルム10においては、端面樹脂層30を形成する組成物の固形分が、(メタ)アクリロイル基等から少なくとも1つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を5質量部以上含有することにより、高温高湿下での耐久性に優れる端面樹脂層30を実現できる。
また、グリシジル基、オキセタン基、脂環エポキシ基等を有する重合性化合物としては、具体的には、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が例示される。
これらの重合性化合物を含む市販品としては、三菱ガス化学社製のマクシーブ、EVONIK社製のNanopox450、Nanopox500、Nanopox630、荒川化学工業社製のコンポセラン102などのシリーズ、東レ・ファインケミカル社製のフレップ、チオコールLP、ヘンケル・ジャパン社製のロックタイトE−30CLなどのシリーズ、Epoxy Technology社製のEPO−TEX353NDなどのシリーズ等が好適に例示される。
ただし、端面樹脂層30を形成する組成物において、これらの官能基を含まない重合性化合物は、組成物の固形分全量を100質量部とした際に、3質量部以下とするのが好ましい。
端面樹脂層30が無機物の粒子を含有することにより、端面樹脂層30の酸素透過度をより低くでき、端面から侵入する酸素等に起因する機能層12の劣化を、より好適に防止できる。
なお、端面樹脂層30に分散する無機物粒子の大きさは、均一でも不均一でもよい。
本発明者らの検討によれば、端面樹脂層30における無機物粒子の含有量は、50質量%以下が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。すなわち、前述の端面樹脂層30を形成する組成物において、組成物の固形分全量を100質量部とした際に、無機物粒子の含有量が50質量部以下であるのが好ましく、10〜30質量部であるのがより好ましい。
端面樹脂層30における無機物粒子の含有量を50質量%以下とすることにより、端面樹脂層30の密着性や耐久性を十分にできる、積層フィルムを裁断や打ち抜きする際にクラックが発生することを抑制できる等の点で好ましい。
金属層34の形成材料としては、金属であれば限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法、および、金属メッキ処理のいずれかの方法により形成される金属層であるのが好ましい。
具体的には、金属層34の形成材料は、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも1種、あるいは、これらの少なくとも1種を含む合金であるのが好ましい。
金属層34を形成する金属メッキ処理の方法は、電解メッキ処理、無電解メッキ処理等の公知の方法が利用可能である。中でも、メッキ液に浸漬するのみで容易に均一な厚さで形成でき、形成が容易である等の観点から、無電解メッキ処理で形成するのがより好ましい。
無電解メッキ処理での形成に適した金属材料としては、ニッケル、銅、錫、金、等が挙げられる。
例えば、金属層34を電解メッキ処理によって形成する場合には、電解メッキ処理の際に電極(カソード)として作用する部材として、高い導電性を有する下地層32を設ける。
また、金属層34を無電解メッキ処理によって形成する場合にも、機能層積層体11の端面と無電解メッキ処理により形成されるメッキとの密着性を高くするために、高い導電性を有する下地層32を設ける。
下地層32の材料として用いられる導電性塗料としては、パラジウムコロイド(核触媒)等を主成分としたメッキプライマーなどが例示される。
また、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマCVD法のいずれかの方法で形成可能な層の形成材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも1種、あるいは、これらの少なくとも1種を含む合金であるのが好ましく、アルミニウム、チタン、クロムからなる群から選択される少なくとも1種、あるいは、これらの少なくとも1種を含む合金が特に好ましい。イオン化傾向が高い金属(アルミニウム、チタン、クロム)を用いることで樹脂との界面において金属酸化物、金属窒化物が形成されやすいため密着性が高くなると推測している。
機能層積層体11の作製方法としては、前述のように、支持体20の表面に塗布法等によって有機層24を形成し、この有機層24の表面にプラズマCVD等によって無機層26を形成し、無機層26の表面に塗布法等によって有機層28を形成して、ガスバリア層14(ガスバリアフィルム)を作製する。
このような有機層および無機層の形成は、いわゆるロール・トゥ・ロールによって行うのが好ましい。以下の説明では、ロール・トゥ・ロールをRtoRとも言う。
2枚のガスバリア層14を用意して、一枚のガスバリア層14の有機層28の表面に、この機能層12となる組成物を、塗布し、さらに、組成物の上に有機層28を組成物側に向けてもう1枚のガスバリア層14を積層して、紫外線硬化等を行って、機能層12の両面にガスバリア層14を積層した積層体を作製する。
積層体の切断方法には限定はなく、トムソン刃等の刃物を用いて物理的に切断する方法、レーザーを照射して切断する方法等の公知の方法が各種利用可能である。
また、積層体を所定形状に加工した後、例えば、端面の研磨加工を行ってもよい。
まず、機能層積層体11の端面に端面樹脂層30を形成する。
端面樹脂層30は、端面樹脂層30となる化合物を含む組成物を調製して、この組成物を機能層積層体11の端面に塗布して、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって主に端面樹脂層を構成する化合物を重合して形成する。
機能層積層体11の端面への組成物の塗布方法は、インクジェット、スプレー塗布、ディッピング(浸漬塗布)等の公知の方法が利用可能である。好ましい塗布方法として、図3A〜図3Cに示す、液膜の転写による方法が例示される。
また、液膜31の面方向の大きさは、機能層積層体11の1つの端面が全面的に接触可能であれば、特に限定はなく、例えば、液膜31の一辺の長さが、機能層積層体11の端辺の長さよりも長ければよい。
その際、機能層積層体11の端面に付着した組成物の、端面の延在方向に垂直な断面形状は、組成物の表面張力により略円形状となる。
液膜31への端面の浸漬量は、液膜31の厚さH等に応じて、適宜、設定すればよい。
また、端面樹脂層30の断面形状は、組成物の表面エネルギー(表面張力、接触角)の絶対値の大小に関わらず、機能層積層体11の端面に塗れさえすれば半円状に形成される。
例えば、機能層積層体11とスペーサとを交互に積層して、機能層積層体11同士が離間した状態で、前述と同様にして、端面封止層16を形成する組成物の液膜31に端面を接触させて、各機能層積層体11の端面に端面封止層16を形成してもよい。
なお、このようにして端面樹脂層30を形成した場合には、機能層積層体11を重ねた積層物の端面に形成される端面樹脂層30Aは、半長円形状に形成される。したがって、積層物の中央付近に積層された機能層積層体11の端面に形成される端面樹脂層30は、図4Bに示すように、略矩形状となる。
例えば、図5に示すように、組成物の塗膜を回転するローラ上に形成し、ローラ上の塗膜に、機能層積層体の端面を接触させて端面樹脂層を形成する構成としてもよい。
前述のとおり、下地層32の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマCVD法、あるいは、塗布法等が利用可能である。導電性塗料を塗布する方法としては、前述の端面樹脂層30の場合と同様に、液膜の転写による塗布方法が好適に例示される。すなわち、端面樹脂層30が形成された機能層積層体11に対して、図3A〜図3Cに例示した方法と同様の方法で、下地層32となる導電性塗料を端面樹脂層30上に付着させる。その後、乾燥、硬化することで、下地層32を形成することができる。
前述のとおり、金属層34の形成方法としては、無電解メッキ処理、電解メッキ処理、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマCVD法等が利用可能である。
無電解メッキ処理の方法としては、従来公知の方法が利用可能であり、例えば、端面樹脂層30および下地層32が形成された機能層積層体11の端面を、無電解メッキ液に浸漬して、下地層32上に金属皮膜を析出させることで金属層34を形成することができる。
これにより、本発明の積層フィルム10が作製される。
実施例1として、図1に示すような積層フィルム10を作製した。
<<支持体20>>
ガスバリア層14の支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム、東洋紡株式会社製、商品名:コスモシャインA4300、厚さ50μm、幅1000mm、長さ100m)を用いた。
支持体20の一面に、以下のようにして有機層24を形成した。
まず、有機層24を形成するための組成物を調製した。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA、ダイセルサイテック株式会社製)および光重合開始剤(ランベルティ社製、ESACUREKTO46)を用意し、TMPTA:光重合開始剤の質量比率が、95:5となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が15%の組成物を調製した。
まず、ダイコーターを用いて組成物を支持体20の一面に塗布した。塗布後の支持体20を50℃の乾燥ゾーンを3分間通過させた後、紫外線(積算照射量約600mJ/cm2)を照射することで組成物を硬化して、有機層24を形成した。
また、紫外線硬化直後のパスロールにおいて、保護フィルムとして有機層24の表面にポリエチレンフィルム(PEフィルム、株式会社サンエー科研製、商品名:PAC2−30−T)を貼り付け、搬送し、巻き取った。
形成した有機層24の厚さは1μmであった。
次に、RtoRを利用するCVD装置を用いて、有機層24の表面に無機層26(窒化ケイ素(SiN)層)を形成した。
送出機より有機層24を形成した支持体20を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層24の上にプラズマCVDによって無機層26を形成した。
無機層26の形成には、原料ガスとして、シランガス(流量160sccm)、アンモニアガス(流量370sccm)、水素ガス(流量590sccm)、および窒素ガス(流量240sccm)を用いた。電源は、周波数13.56MHzの高周波電源を用いた。成膜圧力は40Paとした。
形成した無機層26の厚さは50nmであった。
なお、単位sccmで表す流量は、1013hPa、0℃における流量(cc/min)に換算した値である。
さらに、無機層26の表面に、以下のようにして有機層28を積層した。
まず、有機層28を形成するための組成物を調製した。具体的には、ウレタン結合含有アクリルポリマー(大成ファインケミカル株式会社製、アクリット8BR500、質量平均分子量250,000)と光重合開始剤(BASF社製イルガキュア184)とを用意し、ウレタン結合含有アクリルポリマー:光重合開始剤の質量比率が、95:5となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が15質量%の組成物を調製した。
まず、ダイコーターを用いて組成物を無機層26上に塗布した。塗布後の支持体20を100℃の乾燥ゾーンを3分間通過させて、有機層28を形成した。
これにより、支持体20の上に有機層24、無機層26および有機層28を形成してなる、図2に示すようなガスバリア層14を作製した。形成した有機層24の厚さは1μmであった。
なお、ガスバリア層14は、組成物を乾燥した直後のパスロールにおいて保護フィルムとして有機層28の表面に先と同じポリエチレンフィルムを貼り付けた後、巻き取った。
以下の組成を有する、機能層12としての量子ドット層を形成するための組成物を調製した。
(組成物の組成)
・量子ドット1のトルエン分散液(発光極大:520nm) 10質量部
・量子ドット2のトルエン分散液(発光極大:630nm) 1質量部
・ラウリルメタクリレート 2.4質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート 0.54質量部
・光重合開始剤(イルガキュア819、BASF社製)0.009質量部
量子ドット1、2としては、下記のコア−シェル構造(InP/ZnS)を有するナノ結晶を用いた。
・量子ドット1:INP530−10(NN−labs社製)
・量子ドット2:INP620−10(NN−labs社製)
調製した組成物の粘度は50mPa・sであった。
2枚のガスバリア層14を成膜装置の所定位置に装填、通紙した。まず、一枚のガスバリア層の保護フィルムを剥離した後、ダイコーターを用いて組成物を有機層28の表面に塗布した。次いで、もう一枚のガスバリア層14から保護フィルムを剥離した後、組成物に有機層28を向けて、ガスバリア層14を積層した。
さらに、機能層12となる組成物をガスバリア層14で挟んだ積層体に、紫外線(積算照射量約2000mJ/cm2)を照射することで組成物を硬化して機能層12を形成し、機能層12の両面にガスバリア層14を積層した積層体を作製した。
機能層12の厚さは、46μmであり、積層体の厚さTは、150μmであった。
作製した積層体を、刃先角度17°のトムソン刃を使用して、A4サイズのシート状に切断し、機能層積層体11を得た。
次に、作製した機能層積層体11の端面に、端面樹脂層30、下地層32および金属層34の3層からなる端面封止層16を形成した。
端面樹脂層30を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した。なお、組成は、固形分全体を100質量部とした際の質量部である。
・TMPTA(大阪有機化学工業株式会社製、ビスコート295)
100質量部
・メチルエチルケトン 67質量部
形成した端面樹脂層30の厚さは40μmであった。また、端面樹脂層30の断面形状は、半円形状であった。
その結果、酸素透過度測定用サンプルすなわち端面封止層16の酸素透過度は、50cc/(m2・day・atm)であった。
次に、端面樹脂層30の全面に下地層32を形成した。
下地層32の形成するメッキプライマー(導電性塗料)として、メタロイドML−400(株式会社イオックス製)を用いた。
機能層積層体11の端面(端面樹脂層30)をメッキプライマーの液面に接触させ鉛直上方に持ち上げて、端面樹脂層30上に所定量のメッキプライマーを付着させた。その後、80℃で10分乾燥、硬化して、下地層32を形成した。
下地層32の厚さは0.2μmであった。
次に、機能層積層体11の端面(下地層32)を下記の無電解銅メッキ浴に浸漬して、下地層32の全面に金属層34として無電解銅メッキ層を形成し、積層フィルム10を作製した。
無電解銅メッキ浴は、上村工業株式会社製スルカップPSY(初期Cu濃度2.5g/L、浴容積 1000mL 33℃ 15分)を用いた。
金属層34の厚さは0.5μmであった。
端面樹脂層30を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして積層フィルム10を作製した。
・2液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤(三菱ガス化学株式会社製、M−100)
32質量部
・2液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤(三菱ガス化学株式会社製、C−93)
68質量部
・1−ブタノール 60質量部
実施例1と同様にして、端面樹脂層30の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は0.5cc/(m2・day・atm)であった。
金属層34の形成後、さらに、金属層34上に厚さ40μmの樹脂層を形成した以外は、実施例1と同様にして積層フィルム10を作製した。
この樹脂層を形成する組成物としては、実施例2の端面樹脂層30を形成する組成物と同様のものを用い、端面樹脂層30の形成方法と同様の方法で形成した。
すなわち、樹脂層の酸素透過度は、0.5cc/(m2・day・atm)であった。
端面封止層を形成しない以外は、実施例1と同様にして、積層フィルムを作製した。
端面樹脂層上に下地層を形成する際に、端面樹脂層の一部に下地層を塗布することで、金属層が端面樹脂層の全面を覆わず、一部のみを覆って形成される構成とした以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを作製した。
具体的には、端面樹脂層を形成した後、下地層を形成する工程において、メッキプライマーの液面に接触させる際に、端面樹脂層の半円形状の先端部のみをメッキプライマー液に接触させて、端面樹脂層の表面積の約50%の領域にメッキプライマーを付着させて下地層を形成した。
その後、機能層積層体の端面(下地層)を無電解銅メッキ浴に浸漬して、金属層として無電解ニッケルメッキ層を形成した。その際、無電解銅メッキ層は、下地層の無い領域には形成されないため、形成される金属層は、端面樹脂層の表面積の約50%の領域を覆う形状であった。
このようにして作製した実施例1〜3、および、比較例1〜2の積層フィルムについて、端部の性能劣化(バリア性)を評価した。
端部の性能劣化の度合を測定することで端面封止層のバリア性を評価した。
まず、積層フィルムの初期輝度(Y0)を以下の手順で測定した。市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle(登録商標) Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に積層フィルムを置き、その上に、向きが直交した2枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、積層フィルムおよび2枚のプリズムシートを透過した光の輝度を、導光板の面に対して垂直方向740mmの位置に設置した輝度計(SR3、TOPCON社製)にて測定し、積層フィルムの輝度とした。
次に、60℃相対湿度90%に保たれた恒温槽に積層フィルムを投入し、所定の時間保管した。100時間後、500時間後および1000時間後のそれぞれのタイミングで、積層フィルムを取り出し、上記と同様の手順で、高温高湿試験後の輝度(Y1)を測定した。下記式のように、初期の輝度値(Y0)に対する、高温高湿試験後の輝度(Y1)の変化率(ΔY)を算出し、輝度変化の指標として、以下の基準で評価した。
ΔY[%]=(Y0−Y1)/Y0×100
A:ΔY≦5%
B:5%<ΔY<15%
C:15%≦ΔY
結果を表1に示す。
また、実施例1と実施例2との対比から、端面樹脂層の酸素透過度を10cc/(m2・day・atm)以下とすることで、バリア性をより向上できることがわかる。
また、実施例1と実施例3との対比から、金属層の上にさらに、酸素透過度が10cc/(m2・day・atm)以下の樹脂層を形成することで、バリア性をより向上できることがわかる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
12 光学機能層
14 ガスバリア層
16 端面封止層
20 支持体
24、28 有機層
26 無機層
30、30A 端面樹脂層
31 液膜
32 下地層
34 金属層
40 平板
50 ローラ
52 塗布部
54 タンク
Claims (9)
- 光学機能層と、機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
前記機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層、を有し、
前記端面封止層は、前記機能層積層体の端面側から端面樹脂層と、金属層とをこの順で含み、
前記金属層は、前記端面樹脂層の、前記機能層積層体の端面と接する面以外の全面を覆っていることを特徴とする積層フィルム。 - 前記端面樹脂層と前記金属層との間に下地層を有する請求項1に記載の積層フィルム。
- 前記金属層がメッキ層である請求項1または2に記載の積層フィルム。
- 前記メッキ層が無電解メッキ層である請求項3に記載の積層フィルム。
- 前記機能層積層体の端面の長手方向に垂直な断面における、前記端面樹脂層の形状が円または楕円の一部からなる形状である請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層フィルム。
- 前記端面樹脂層の酸素透過度が10cc/(m2・day・atm)以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層フィルム。
- 前記機能層積層体の端面に垂直な方向における、前記端面樹脂層の厚さが、5μm〜50μmである請求項1〜6のいずれか一項に記載の積層フィルム。
- 前記金属層上にさらに、酸素透過度が10cc/(m2・day・atm)以下の樹脂層を有する請求項1〜7のいずれか一項に記載の積層フィルム。
- 前記端面封止層が、前記機能層積層体の端面の全面を覆う請求項1〜8のいずれか一項に記載の積層フィルム。
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