WO2017010394A1 - 積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法 - Google Patents

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WO2017010394A1
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functional layer
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meth
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諭司 國安
達也 大場
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富士フイルム株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a laminated film used for a backlight of a liquid crystal display device and a method for producing the laminated film.
  • LCDs Liquid crystal display devices
  • LCDs consume less power and are increasingly used year by year as space-saving image display devices. Further, in recent liquid crystal display devices, further power saving, color reproducibility improvement and the like are required as LCD performance improvement.
  • quantum dots that are emitted by converting the wavelength of incident light. It has been proposed to be used for backlight.
  • a quantum dot is an electronic state in which the direction of movement is limited in all three dimensions, and when a semiconductor nanoparticle is three-dimensionally surrounded by a high potential barrier, the nanoparticle is quantum. It becomes a dot.
  • Quantum dots exhibit various quantum effects. For example, the “quantum size effect” in which the density of states of electrons (energy level) is discretized appears. According to this quantum size effect, the absorption wavelength and emission wavelength of light can be controlled by changing the size of the quantum dot.
  • Quantum dots are generally dispersed in a matrix made of a resin such as acrylic resin or epoxy resin to form a quantum dot layer.
  • a quantum dot film for wavelength conversion is disposed between a backlight and a liquid crystal panel. To be used. When excitation light enters the quantum dot film from the backlight, the quantum dots are excited and emit fluorescence.
  • quantum dots having different light emission characteristics it is possible to realize white light by emitting light having a narrow half-value width of red light, green light, and blue light. Since the half-value width of the fluorescence due to quantum dots is narrow, it is possible to design white light obtained by appropriately selecting the wavelength to have high luminance or excellent color reproducibility.
  • the quantum dot is likely to be deteriorated by oxygen or the like, and there is a problem that the emission intensity is lowered by a photo-oxidation reaction. Therefore, in the quantum dot film, a gas barrier film is laminated on both sides of the quantum dot layer to protect the quantum dot layer.
  • a gas barrier film is laminated on both sides of the quantum dot layer to protect the quantum dot layer.
  • moisture and oxygen enter the quantum dot layer from the end surface not covered with the gas barrier film, and the quantum dots deteriorate. Therefore, it has been proposed to seal the periphery of the quantum dot layer with a gas barrier film or the like in addition to both surfaces of the quantum dot layer.
  • Patent Document 1 describes a composition in which a quantum dot phosphor is dispersed in a cycloolefin (co) polymer in a concentration range of 0.0 to 20% by mass, and the quantum dots are dispersed.
  • a configuration having a gas barrier layer covering the entire surface of the resin molding is described. Further, it is described that the gas barrier layer is a gas barrier film in which a silica film or an alumina film is formed on at least one surface of the resin layer.
  • Patent Document 2 describes a display backlight unit including a remote phosphor film including a light-emitting quantum dot (QD) population.
  • QD quantum dot
  • a QD phosphor material is sandwiched between two gas barrier films, and the periphery of the QD phosphor material is surrounded.
  • interposed into these two gas barrier films is described.
  • Patent Document 3 discloses a light-emitting device that includes a color conversion layer that converts at least a part of color light emitted from a light source unit into other color light, and an impermeable sealing sheet that seals the color conversion layer.
  • the second bonding layer is provided along the outer periphery of the phosphor layer, that is, in a frame shape so as to surround the planar shape of the phosphor layer, and the second bonding layer has a gas barrier property.
  • a structure made of an adhesive material having the following is described.
  • Patent Document 4 in a quantum dot wavelength converter having a quantum dot layer (wavelength conversion unit) and a sealing member made of silicone or the like that seals the quantum dot layer, the quantum dot layer is sandwiched between sealing members, and The structure which sticks sealing members around the quantum dot layer is described.
  • the laminated film containing quantum dots used for the LCD is a thin film of about 50 ⁇ m to 350 ⁇ m.
  • it is very difficult to coat the entire surface of a thin quantum dot layer with a gas barrier film, and there is a problem that productivity is poor.
  • the gas barrier film is bent, the barrier layer is broken and the gas barrier property is lowered.
  • Patent Documents 2 and 3 in the case of a configuration in which a protective layer having a gas barrier property is formed in an end face region of a quantum dot layer sandwiched between two gas barrier films, a so-called dam-fill type laminated film is After forming a protective layer on the peripheral portion of the gas barrier film, a resin layer is formed in a region surrounded by the protective layer, and then the other gas barrier film is laminated on the protective layer and the resin layer.
  • productivity is extremely poor.
  • the width of the protective layer is increased and the quantum dot layer is not formed at the end, there is a problem that the size of the area that can be effectively used is reduced and the frame portion is increased.
  • Patent Document 4 in the configuration in which the opening at the end of the two gas barrier films sandwiching the quantum dot layer is narrowed and sealed, the thickness of the quantum dot layer at the end becomes thin. There is a problem that the size of the area that can be effectively used is reduced and the frame portion is increased. In general, since a barrier layer having a high gas barrier property is hard and brittle, if the gas barrier film having such a barrier layer is suddenly bent, the barrier layer is cracked, and the gas barrier property is lowered. It was.
  • An object of the present invention is to solve such problems of the prior art, and in a laminated film having an optical functional layer such as a quantum dot layer, the optical function of the quantum dot is expressed by the penetration of oxygen or the like from the end face.
  • An object of the present invention is to provide a laminated film having high flatness and a method for producing the laminated film, which can prevent the member to be deteriorated.
  • the present inventors have obtained a functional layer laminate having an optical functional layer and a gas barrier layer laminated on at least one main surface of the optical functional layer, and a functional layer laminate.
  • the end face sealing layer is formed so as to cover at least a part of the gas barrier layer and the optical functional layer, and the end face sealing layer has an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • a functional layer laminate having an optical functional layer and a gas barrier layer laminated on at least one main surface of the optical functional layer, and An end face sealing layer formed to cover at least a part of the gas barrier layer and the optical functional layer on the end face of the functional layer laminate,
  • the end face sealing layer is a laminated film having an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the end face sealing layer is the laminated film according to (1) having a laminated structure in which two or more layers are laminated.
  • the thickness of the end surface sealing layer in the direction perpendicular to the end surface of the functional layer laminate is 1 ⁇ 2 or less of the thickness of the functional layer laminate in the direction perpendicular to the main surface of the functional layer laminate.
  • (4) The laminated film according to any one of (1) to (3), wherein the end face sealing layer covers the entire end face of the functional layer laminate.
  • (5) Resin selected from the group consisting of polyvinyl alcohol resin, polyvinylidene chloride resin, polyacrylonitrile, polyvinylidene fluoride resin, and polyoxymethylene when the end face sealing layer has a solid content of 100 parts by mass
  • a composition or a composition containing 5 parts by mass or more of a polymerizable compound having a polymerizable functional group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a glycidyl group, an oxetane group, and an alicyclic epoxy group The laminated film according to any one of (1) to (4), which is a formed resin layer having an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • a sealing layer formation process is a manufacturing method of the laminated film which forms the end surface sealing layer by making the end surface of a functional layer laminated body contact the coating film of the composition used as an end surface sealing layer.
  • the coating film of the composition is formed on a flat plate, and the end surface sealing layer is formed by bringing the end surface of the functional layer laminate into contact with the coating film on the flat plate (7 The manufacturing method of the laminated
  • the coating film of the composition is formed on a rotating roll, and the end surface sealing layer is formed by bringing the end surface of the functional layer laminate into contact with the coating film on the roll (7 The manufacturing method of the laminated
  • the laminated film having the optical functional layer such as the quantum dot layer, the quantum dot or the like due to oxygen or the like entering from the end face of the optical functional layer by the end face sealing layer for sealing the end face. It is possible to provide a laminated film having a high flatness and a method for producing the laminated film.
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view conceptually showing an example of the laminated film of the present invention.
  • a laminated film 10 shown in FIG. 1 has an optical functional layer 12, a gas barrier layer 14, and an end face sealing layer 16.
  • a laminated film 10 is a functional layer laminate in which a gas barrier layer 14 is laminated on both surfaces (both main surfaces) of a sheet-like optical functional layer 12 and the optical functional layer 12 is sandwiched between the gas barrier layers 14.
  • 11 has a configuration in which the entire end face is covered with the end face sealing layer 16.
  • the optical functional layer 12 is a layer for expressing a desired function such as wavelength conversion, and is, for example, a sheet-like material having a square planar shape. In the following description, the optical functional layer 12 is also referred to as a functional layer 12.
  • the functional layer 12 various layers that exhibit optical functions, such as a wavelength conversion layer such as a quantum dot layer, a light extraction layer, and an organic electroluminescence layer (organic EL layer) can be used.
  • a wavelength conversion layer such as a quantum dot layer
  • a light extraction layer such as an organic electroluminescence layer (organic EL layer)
  • organic EL layer organic electroluminescence layer
  • the quantum dot layer is a layer formed by dispersing a large number of quantum dots in a matrix such as a resin, and is a wavelength conversion layer having a function of converting the wavelength of light incident on the functional layer 12 and emitting it. is there.
  • the functional layer 12 converts at least part of the blue light into red light or green light due to the effect of the quantum dots contained therein. Convert and emit.
  • blue light is light having an emission center wavelength in a wavelength band of 400 to 500 nm
  • green light is light having an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm. Is light having an emission center wavelength in a wavelength band exceeding 600 nm and not more than 680 nm.
  • the wavelength conversion function exhibited by the quantum dot layer is not limited to a configuration that converts the wavelength of blue light into red light or green light, and may convert at least part of incident light into light of a different wavelength. That's fine.
  • the quantum dots emit fluorescence by being excited at least by incident excitation light.
  • the type of quantum dots contained in the quantum dot layer and various known quantum dots may be appropriately selected according to the required wavelength conversion performance or the like.
  • quantum dots for example, paragraphs 0060 to 0066 of JP2012-169271A can be referred to, but are not limited to those described here.
  • the quantum dots commercially available products can be used without any limitation.
  • the emission wavelength of the quantum dots can usually be adjusted by the composition and size of the particles.
  • the quantum dots are preferably dispersed uniformly in the matrix, but may be dispersed with a bias in the matrix. Moreover, only 1 type may be used for a quantum dot and it may use 2 or more types together. When using 2 or more types of quantum dots together, you may use the quantum dot from which the wavelength of mutually emitted light differs.
  • the known quantum dots include a quantum dot (A) having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm, and a quantum dot (B) having an emission center wavelength in the wavelength band of 500 to 600 nm. ), A quantum dot (C) having an emission center wavelength in a wavelength band of 400 to 500 nm, the quantum dot (A) emits red light when excited by excitation light, and the quantum dot (B) emits green light.
  • the quantum dot (C) emits blue light.
  • red light emitted from the quantum dots (A) and light emitted from the quantum dots (B) can be realized by the green light and the blue light transmitted through the quantum dot layer.
  • ultraviolet light incident on the quantum dot layer including the quantum dots (A), (B), and (C) as excitation light
  • quantum dots (B) White light can be realized by green light emitted by the blue light and blue light emitted by the quantum dots (C).
  • quantum dot a so-called quantum rod or a tetrapod type quantum dot that has a rod shape and has directivity and emits polarized light may be used.
  • the type of matrix of the quantum dot layer there are no particular limitations on the type of matrix of the quantum dot layer, and various resins used in known quantum dot layers can be used. Examples thereof include polyester resins (for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), (meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, and polyvinylidene chloride resins.
  • a curable compound having a polymerizable group can be used as the matrix.
  • the kind of the polymerizable group is not particularly limited, but is preferably a (meth) acrylate group, a vinyl group or an epoxy group, more preferably a (meth) acrylate group, and particularly preferably an acrylate group. .
  • each polymeric group may be the same and may differ.
  • a resin containing the following first polymerizable compound and second polymerizable compound is exemplified.
  • the first polymerizable compound is one or more selected from the group consisting of a bifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer and a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups and oxetanyl groups.
  • a bifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer and a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups and oxetanyl groups.
  • it is a compound.
  • the bifunctional (meth) acrylate monomers include neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) ) Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclo Pentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate and the like are preferable examples.
  • the trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomers include ECH-modified glycerol tri (meth) acrylate, EO-modified glycerol tri (meth) acrylate, and PO-modified glycerol tri (meta).
  • Monomers having two or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups and oxetanyl groups include, for example, aliphatic cyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, bromine Bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 1,4 -Butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether , Polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; polyether
  • a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group may be produced by any method.
  • Maruzen KK Publishing Co., Ltd., Fourth Edition Experimental Chemistry Course 20 Organic Synthesis II, 213, 1992, Ed.by Alfred Hasfner The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 29, No. 12, 32, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 5, 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, Japanese Patent Laid-Open No. 11-100308, Japanese Patent No. 2906245, Japanese Patent No. 2926262, etc. Can be synthesized.
  • the second polymerizable compound has a functional group having hydrogen bonding properties in the molecule and a polymerizable group capable of undergoing a polymerization reaction with the first polymerizable compound.
  • the functional group having hydrogen bonding include a urethane group, a urea group, or a hydroxyl group.
  • the polymerizable group capable of undergoing a polymerization reaction with the first polymerizable compound for example, when the first polymerizable compound is a bifunctional or higher (meth) acrylate monomer, it may be a (meth) acryloyl group.
  • the polymerizable compound is a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group, it may be an epoxy group or an oxetanyl group.
  • (Meth) acrylate monomers containing urethane groups include diisocyanates such as TDI, MDI, HDI, IPDI, and HMDI, poly (propylene oxide) diol, poly (tetramethylene oxide) diol, ethoxylated bisphenol A, and ethoxylated bisphenol.
  • an adduct of TDI and hydroxyethyl acrylate, an adduct of IPDI and hydroxyethyl acrylate, an adduct of HDI and pentaerythritol triacrylate (PETA), and an adduct of TDI and PETA remained.
  • Examples include compounds obtained by reacting isocyanate and dodecyloxyhydroxypropyl acrylate, adducts of 6,6 nylon and TDI, adducts of pentaerythritol, TDI and hydroxyethyl acrylate, but are not limited thereto. Absent.
  • Examples of the (meth) acrylate monomer containing a hydroxyl group include compounds synthesized by a reaction between a compound having an epoxy group and (meth) acrylic acid. Typical ones are classified into bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol F type, epoxidized oil type, phenol novolak type, and alicyclic type, depending on the compound having an epoxy group.
  • the second polymerizable compound containing a hydroxyl group examples include epoxy ester manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., M-600A, 40EM, 70PA, 200PA, 80MFA, 3002M, 3002A, 3000MK, 3000A, Japan 4-hydroxybutyl acrylate manufactured by Kasei Co., Ltd., monofunctional acrylate A-SA, monofunctional methacrylate SA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., monofunctional acrylate ⁇ -carboxyethyl acrylate manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd., Johoku Chemical Industry For example, JPA-514 manufactured by KK These can be used alone or in combination of two or more.
  • the mass ratio between the first polymerizable compound and the second polymerizable compound may be 10:90 to 99: 1, and is preferably 10:90 to 90:10. It is also preferable that the content of the first polymerizable compound is larger than the content of the second polymerizable compound. Specifically, (content of the first polymerizable compound) / (of the second polymerizable compound) The content is preferably 2 to 10.
  • the matrix further contains a monofunctional (meth) acrylate monomer.
  • Monofunctional (meth) acrylate monomers include acrylic acid and methacrylic acid, derivatives thereof, and more specifically, monomers having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) of (meth) acrylic acid in the molecule Can be mentioned. Specific examples thereof include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.
  • the monofunctional (meth) acrylate monomer is preferably contained in an amount of 1 to 300 parts by mass, and 50 to 150 parts by mass with respect to a total mass of 100 parts by mass of the first polymerizable compound and the second polymerizable compound. More preferably it is included.
  • the first polymerizable compound, the second polymerizable compound, and the monofunctional (meth) acrylate monomer preferably has a long-chain alkyl group having 4 to 30 carbon atoms.
  • the long chain alkyl group is more preferably a long chain alkyl group having 12 to 22 carbon atoms. This is because the dispersibility of the quantum dots is improved. As the dispersibility of the quantum dots improves, the amount of light that goes straight from the light conversion layer to the exit surface increases, which is effective in improving front luminance and front contrast.
  • the monofunctional (meth) acrylate monomer having a long-chain alkyl group having 4 to 30 carbon atoms include butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and oleyl (meth) acrylate.
  • lauryl (meth) acrylate, oleyl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate are particularly preferable.
  • trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, perfluorobutyl-hydroxypropyl (meth) acrylate, (perfluoro Hexyl) ethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate and other compounds having a fluorine atom may be included. By including these compounds, the coating property can be improved.
  • the total amount of the resin serving as a matrix in the quantum dot layer is not particularly limited, but is preferably 90 to 99.9 parts by mass, and 92 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the quantum dot layer. More preferably, it is a part.
  • FIG. According to the study by the present inventors, 5 to 200 ⁇ m is preferable and 10 to 150 ⁇ m is more preferable in terms of handleability and light emission characteristics.
  • the thickness is intended to be an average thickness, and the average thickness is obtained by measuring the thickness of any 10 or more points of the quantum dot layer and arithmetically averaging them.
  • the method for forming the quantum dot layer is not particularly limited, and may be formed by a known method. For example, it can be formed by preparing a composition (paint / coating composition) in which quantum dots, a matrix resin and a solvent are mixed, and applying the composition onto the gas barrier layer 14 and curing. In addition, you may add a polymerization initiator, a silane coupling agent, etc. to the composition used as a quantum dot layer as needed.
  • gas barrier layers 14 are laminated on both surfaces of the functional layer 12 such as a quantum dot layer so as to cover the entire main surface of the functional layer 12. That is, the laminated film 10 has a configuration in which the functional layer 12 is sandwiched between the gas barrier layers 14.
  • the laminated film 10 in the illustrated example is provided with the gas barrier layers 14 on both surfaces of the functional layer 12, but the present invention is not limited to this. That is, the gas barrier layer 14 may be provided only on one surface of the functional layer 12. However, it is preferable to provide the gas barrier layer 14 on both surfaces of the functional layer 12 in that the deterioration of the functional layer 12 due to the entry of oxygen or the like can be more suitably prevented.
  • the gas barrier layer 14 may be the same or different.
  • the gas barrier layer 14 is a layer for suppressing oxygen and the like from the main surface of the functional layer 12 such as a quantum dot layer from entering. Therefore, the gas barrier layer 14 preferably has a high gas barrier property. Specifically, the gas barrier layer 14 preferably has an oxygen permeability of 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, and preferably 0.01 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less. More preferably, it is particularly preferably 0.001 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer 14 By setting the oxygen permeability of the gas barrier layer 14 to 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, the deterioration of the functional layer 12 due to oxygen or the like entering from the main surface of the functional layer 12 is suppressed, and a long lifetime is achieved. A laminated film such as a quantum dot film can be obtained.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer 14 and the end face sealing layer 16 may be measured according to the examples described later. Further, when the unit of oxygen permeability cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) is converted to SI unit, it is 9.87 mL / (m 2 ⁇ day ⁇ MPa).
  • the gas barrier layer 14 is a layer made of a known material that exhibits gas barrier properties as long as the gas barrier layer 14 has sufficient optical properties in terms of transparency and the like, and can obtain the target gas barrier properties (oxygen barrier properties). (Membrane) and various known gas barrier films can be used. Especially, as a preferable gas barrier layer 14, the gas barrier film which has an organic inorganic laminated structure formed by laminating
  • FIG. 2 conceptually shows a cross section of an example of the gas barrier layer 14.
  • the gas barrier layer 14 shown in FIG. 2 has an organic layer 24 on the support 20, an inorganic layer 26 on the organic layer 24, and an organic layer 28 on the inorganic layer 26.
  • the gas barrier property is mainly expressed by the inorganic layer 26.
  • the organic layer 24 under the inorganic layer 26 is a base layer for properly forming the inorganic layer 26.
  • the uppermost organic layer 28 functions as a protective layer for the inorganic layer 26.
  • the gas barrier film having an organic-inorganic laminated structure used as the gas barrier layer 14 is not limited to the example shown in FIG.
  • the example shown in FIG. 2 has only one combination of the inorganic layer and the underlying organic layer, but may have two or more combinations of the inorganic layer and the underlying organic layer. In general, the greater the number of combinations of the inorganic layer and the underlying organic layer, the higher the gas barrier property.
  • the structure which forms an inorganic layer on the support body 20, and has 1 set or more of combinations of an inorganic layer and a base organic layer on it may be sufficient.
  • various types of known gas barrier films used as a support can be used.
  • films made of various resin materials are preferably used in that they are easy to make thinner and lighter and are suitable for flexibility.
  • polyethylene PE
  • polyethylene naphthalate PEN
  • PA polyethylene naphthalate
  • PET polyamide
  • PVC polyvinyl chloride
  • PVA polyvinyl alcohol
  • PAN polyacrylonitrile
  • PI polyacrylonitrile
  • PI polyimide
  • transparent polyimide polymethyl methacrylate resin
  • PMMA polycarbonate
  • PC polyacrylate, polymethacrylate, polypropylene (PP), polystyrene (PS), ABS, cyclic olefin copolymer (COC), cycloolefin polymer ( COP) and a plastic film made of triacetyl cellulose (TAC) are preferably exemplified.
  • the thickness of the support body 20 is preferably about 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the support 20 may be provided with functions such as antireflection, phase difference control, and light extraction efficiency improvement on the surface of such a plastic film.
  • an organic layer 24 is formed on the surface of the support 20.
  • the organic layer 24 formed on the surface of the support 20, that is, the organic layer 24 that is the lower layer of the inorganic layer 26, serves as a base layer of the inorganic layer 26 that mainly exhibits gas barrier properties in the gas barrier layer 14.
  • the unevenness of the surface of the support 20, the foreign matter adhering to the surface of the support 20, and the like are embedded, and the film-forming surface of the inorganic layer 26 is formed as the inorganic layer 26. It can be in a state suitable for film formation.
  • the gas barrier layer 14 having an oxygen permeability of 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less can be stably formed.
  • the material for forming the organic layer 24 is not limited, and various known organic compounds can be used. Specifically, polyester, (meth) acrylic resin, methacrylic acid-maleic acid copolymer, polystyrene, transparent fluororesin, polyimide, fluorinated polyimide, polyamide, polyamideimide, polyetherimide, cellulose acylate, polyurethane, poly Ether ether ketone, polycarbonate, alicyclic polyolefin, polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, fluorene ring modified polycarbonate, alicyclic modified polycarbonate, fluorene ring modified polyester, acrylic compounds, thermoplastic resins, polysiloxane and other An organic silicon compound film is preferably exemplified. A plurality of these may be used in combination.
  • the organic layer 24 composed of a polymer of a radical curable compound and / or a cationic curable compound having an ether group as a functional group is preferable in terms of excellent glass transition temperature and strength.
  • acrylic resins and methacrylic resins mainly composed of acrylate and / or methacrylate monomers and oligomer polymers are suitable as the organic layer 24 in terms of low refractive index, high transparency and excellent optical properties. Is exemplified.
  • DPGDA dipropylene glycol di (meth) acrylate
  • TMPTA trimethylolpropane tri (meth) acrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexa (meth) acrylate
  • An acrylic resin or a methacrylic resin mainly composed of a polymer of acrylate and / or methacrylate monomers or oligomers is preferably exemplified. It is also preferable to use a plurality of these acrylic resins and methacrylic resins.
  • the thickness of the organic layer 24 may be appropriately set according to the material for forming the organic layer 24 and the support 20. According to the study by the present inventors, the thickness of the organic layer 24 is preferably 0.5 to 5 ⁇ m, more preferably 1 to 3 ⁇ m. By setting the thickness of the organic layer 24 to 0.5 ⁇ m or more, the surface of the organic layer 24, that is, the surface of the inorganic layer 26, is embedded by embedding irregularities on the surface of the support 20 and foreign matters attached to the surface of the support 20. The film formation surface can be flattened. By setting the thickness of the organic layer 24 to 5 ⁇ m or less, problems such as cracks in the organic layer 24 and curling due to the gas barrier layer 14 caused by the organic layer 24 being too thick are preferably suppressed. be able to. In addition, when it has a plurality of organic layers, such as when there are a plurality of combinations of an inorganic layer and a base organic layer, the thickness of each organic layer may be the same or different.
  • the organic layer 24 may be formed by a known method such as a coating method or flash vapor deposition.
  • the organic layer 24 (the composition to be the organic layer 24) preferably contains a silane coupling agent.
  • the formation material of each organic layer may be the same or different. Good. However, in terms of productivity and the like, it is preferable to form all organic layers with the same material.
  • An inorganic layer 26 is formed on the organic layer 24 with the organic layer 24 as a base.
  • the inorganic layer 26 is a film containing an inorganic compound as a main component, and the gas barrier layer 14 mainly exhibits gas barrier properties.
  • various kinds of films made of an inorganic compound such as oxide, nitride, oxynitride and the like that exhibit gas barrier properties can be used.
  • metal oxides such as aluminum oxide, magnesium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and indium tin oxide (ITO); metal nitrides such as aluminum nitride; metal carbides such as aluminum carbide; silicon oxide, Silicon oxides such as silicon oxynitride, silicon oxycarbide and silicon oxynitride carbide; silicon nitrides such as silicon nitride and silicon nitride carbide; silicon carbides such as silicon carbide; hydrides thereof; mixtures of two or more of these; and Films made of inorganic compounds such as these hydrogen-containing materials are preferably exemplified.
  • a film made of a silicon compound such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride and silicon oxide is preferably exemplified in that it has high transparency and can exhibit excellent gas barrier properties.
  • a film made of silicon nitride is preferable because it has high transparency in addition to more excellent gas barrier properties.
  • the thickness of the inorganic layer 26 is preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and particularly preferably 15 to 75 nm.
  • the inorganic layer 26 that stably exhibits sufficient gas barrier performance can be formed.
  • the inorganic layer 26 is generally brittle, and if it is too thick, there is a possibility of causing cracks, cracks, peeling, etc.
  • the thickness of the inorganic layer 26 is 200 nm or less, cracks will occur. Can be prevented.
  • the thickness of each inorganic layer 26 may be the same, or may differ.
  • the inorganic layer 26 may be formed by a known method depending on the forming material. Specifically, CCP (Capacitively Coupled Plasma) -CVD (chemical vapor deposition) and ICP (Inductively Coupled Plasma) -CVD and other plasma CVD, magnetron sputtering, reactive sputtering, and other sputtering, vacuum deposition
  • CCP Capacitively Coupled Plasma
  • ICP Inductively Coupled Plasma
  • a vapor deposition method is preferably exemplified.
  • the material for forming each inorganic layer may be the same or different. However, in terms of productivity and the like, it is preferable to form all inorganic layers with the same material.
  • An organic layer 28 is provided on the inorganic layer 26.
  • the organic layer 28 is a layer that functions as a protective layer for the inorganic layer 26.
  • the organic layer 28 is basically the same as the organic layer 24 described above.
  • the thickness of the gas barrier layer 14 may be appropriately set according to the thickness of the laminated film 10, the size of the laminated film 10, and the like. According to the study by the present inventors, the thickness of the gas barrier layer 14 is preferably 5 to 100 ⁇ m, more preferably 10 to 70 ⁇ m, and particularly preferably 15 to 55 ⁇ m. By setting the thickness of the gas barrier layer 14 to 100 ⁇ m or less, it is possible to prevent the gas barrier layer 14, that is, the laminated film 10 from becoming unnecessarily thick. Moreover, it is preferable that the thickness of the functional layer 12 can be made uniform when the functional layer 12 is formed between the two gas barrier layers 14 by setting the thickness of the gas barrier layer 14 to 5 ⁇ m or more.
  • the functional layer laminate 11 is composed of two gas barrier layers 14 and a functional layer 12, but various types such as a diffusion layer, an anti-Newton ring layer, a protective layer, and an adhesive layer are also included. Layers for obtaining the above functions may be laminated.
  • the gas barrier layer 14 is laminated on both surfaces of the functional layer 12, and the entire end surface of the functional layer laminate 11 including the functional layer 12 and the gas barrier layer 14 is disposed on the end surface sealing layer 16. It has the structure formed by sealing.
  • the entire end face of the functional layer laminate 11 composed of the functional layer 12 and the gas barrier layer 14 is sealed with the end face sealing layer 16 as a preferred embodiment.
  • the present invention is not limited to this, and it is sufficient that at least a part of the gas barrier layer 14 and the entire end surface of the functional layer 12 on the end surface of the functional layer stack 11 are covered with the end surface sealing layer 16.
  • the end surface sealing layer 16 having gas barrier properties.
  • the optical function layer 12 that exhibits optical functions such as a quantum dot layer can be prevented from deteriorating, and the flatness of the laminated film can be improved.
  • the end surface sealing layer functions in an area as large as possible in that the deterioration of the functional layer 12 such as deterioration of quantum dots due to oxygen or the like entering from the end surface of the functional layer laminate 11 can be more suitably prevented.
  • the end surface of the layer stack 11 is preferably covered, and the entire end surface of the functional layer stack 11 is particularly preferably covered.
  • the end surface sealing layer 16 has a functional layer laminate in which the thickness in the direction perpendicular to the end face of the functional layer laminate 11 is perpendicular to the main surface of the functional layer laminate 11. It is preferable that it is 1/2 or less of the thickness of the body 11. This point will be described with reference to FIG. 3A.
  • FIG. 3A is a schematic view showing an enlarged end portion of the functional layer laminate 11 in which the end surface sealing layer 16 is formed. As shown in FIG.
  • the thickness of the functional layer laminate 11 in the direction perpendicular to the main surface of the functional layer laminate 11 is T
  • the end face sealing layer in the direction perpendicular to the end face of the functional layer laminate 11 When the thickness (maximum thickness) 16 is R, the thickness R of the end face sealing layer 16 is preferably 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11.
  • the functional layer laminate including quantum dots is very thin, it is difficult to provide an end surface sealing layer only on the end surface of the thin functional layer laminate. There is a possibility that a sealing layer is also formed on the main surface side of the body. If the sealing layer is formed on the main surface side of the functional layer laminate, the flatness of the laminated film is deteriorated and the thickness is increased. When such a laminated film having poor flatness is incorporated into an LCD or the like, if it is laminated with another optical film, the laminated film itself or another optical film is in a curved state, and there is a possibility that appropriate performance cannot be expressed. . Further, if the laminated film becomes thick, it is disadvantageous for making the LCD thinner.
  • the thickness R of the end surface sealing layer 16 covering at least a part of the end surface of the functional layer stack 11 is 1/2 of the thickness T of the functional layer stack 11. It has the following configuration.
  • the end surface sealing layer 16 is formed on the main surface side of the functional layer stack by setting the thickness R of the end surface sealing layer 16 to 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer stack 11. It can suppress and an end surface sealing layer can be formed only in the end surface of a thin laminated film. This point will be described with reference to FIGS. 3A and 3B.
  • the coating composition that is applied to the end surface of the functional layer laminate 11 and becomes the end surface sealing layer 16 has a substantially semicircular cross-sectional shape due to surface tension. .
  • the coating composition is applied so that the thickness R of the end face sealing layer 16 is more than 1 ⁇ 2 of the thickness T of the functional layer laminate 11, as shown in FIG.
  • the diameter of the semicircle of the cross-sectional shape of the (end face sealing layer 16) is larger than the thickness T of the functional layer stack 11.
  • the coating composition largely wraps around both main surfaces (surfaces of the gas barrier layer 14) of the functional layer laminate 11, and the end surface sealing layers 16 are formed on both main surfaces of the functional layer laminate 11, and the end surface sealing is performed.
  • the width D of the stop layer 16 (the width in the direction perpendicular to the main surface of the functional layer laminate 11) is thicker than the thickness T of the functional layer laminate 11.
  • the coating composition when the coating composition is applied so that the thickness R of the end surface sealing layer 16 is less than or equal to 1 ⁇ 2 of the thickness T of the functional layer laminate 11, as shown in FIG.
  • the diameter of the semicircle of the cross-sectional shape of the composition (end face sealing layer 16) is smaller than the thickness T of the functional layer laminate 11. Therefore, it becomes difficult for the coating composition to wrap around both main surfaces of the functional layer laminate 11, and the end surface sealing layer 16 becomes difficult to be formed on both main surfaces of the functional layer laminate 11. Therefore, it is possible to prevent the intrusion of oxygen or the like from the end face, to prevent deterioration of the optical functional layer that exhibits optical functions such as quantum dots, and to improve the flatness, and the film is curved when incorporated in an LCD or the like. It can suppress that and can laminate
  • the end face sealing layer 16 is made of a material having a gas barrier property, and specifically, is a resin layer having an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the laminated film 10 of the present invention has such an end surface sealing layer 16 so that oxygen or the like enters the optical functional layer 12 from the end surface not covered with the gas barrier layer 14 and optical functions such as quantum dots. Deterioration of a member that expresses.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 exceeds 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm), oxygen or the like entering the functional layer 12 from the end face of the laminate can be sufficiently prevented. Therefore, the functional layer 12 deteriorates in a short period.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 is preferably low.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 is preferably 5 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, and more preferably 1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the thickness R of the end face sealing layer 16 is preferably 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11, but is preferably thicker from the viewpoint of gas barrier properties. Therefore, the thickness R of the end surface sealing layer 16 is 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11 and the oxygen permeability is 10 cc / in accordance with the forming material of the end surface sealing layer 16 and the like. What is necessary is just to set suitably the thickness used as (m ⁇ 2 > * day * atm) or less. Specifically, the thickness R of the end surface sealing layer 16 is preferably 1 ⁇ m to 200 ⁇ m, and more preferably 10 ⁇ m to 100 ⁇ m, from the viewpoint of flatness, coverage, adhesion, and the like.
  • the end surface sealing layer 16 By setting the thickness R of the end surface sealing layer 16 to 1 ⁇ m or more, the end surface sealing layer 16 that appropriately covers the end surface of the laminate and has an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less is provided. It is preferable in terms of coverage and the like that can be stably formed. Moreover, it is preferable at the point which can fully give adhesiveness with a laminated body by the thickness of the end surface sealing layer 16 being 200 micrometers or less.
  • the shape of the end surface sealing layer 16 (hereinafter also referred to as the cross sectional shape of the end surface sealing layer) in the cross section perpendicular to the extending direction of the end surface of the functional layer laminate 11 is approximately half.
  • it was configured as a circle, it is not limited to this, and may be a shape made of a part of a circle, a semi-elliptical shape, a half-rounded rectangular shape (semi-ellipse shape), or a shape of these shapes As shown in FIG. 5B to be described later, it may be a part of the shape or a substantially rectangular shape.
  • the shape of the end surface sealing layer 16 is preferably a shape made of a part of a circle.
  • the end surface sealing layer 16 has a single layer configuration, but the present invention is not limited to this, and the end surface sealing layer 16 has two layers in a direction perpendicular to the end surface of the functional layer stack 11. It is good also as a laminated structure which laminated
  • the gas barrier property is improved as compared with the case of a single layer (single layer) by providing the function desired to be provided separately for each layer. Can do.
  • a moisture barrier layer is added to the second layer, so that 1 regardless of humidity.
  • a low oxygen permeability of the layer it becomes possible to develop a low oxygen permeability of the layer.
  • a configuration in which an adhesive layer is provided between the layer having a low oxygen permeability and the functional layer laminate 11 is used. It can also be. Further, a three-layer structure including an adhesive layer, a layer having low oxygen permeability, and a moisture barrier layer may be employed.
  • Such an end surface sealing layer 16 that is, a resin layer that seals the end surface of the functional layer laminate 11 forms the end surface sealing layer 16 having an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less. It can be formed by various known resin materials.
  • the end face sealing layer 16 is generally composed mainly of the end face sealing layer 16, that is, a compound (monomer, dimer, trimer, oligomer, polymer, etc.) that mainly becomes a resin layer, and a crosslinking that is added as necessary.
  • a composition containing an additive such as an agent and a surfactant, an organic solvent, and the like is prepared, this composition is applied to the surface on which the end face sealing layer 16 is formed, the composition is dried, and UV irradiation is performed as necessary. It is preferably formed by polymerizing (crosslinking / curing) a compound mainly constituting the resin layer by heating or the like.
  • the composition forming the end face sealing layer 16 contains 30 parts by mass or more of a hydrogen bonding compound when the total solid content of the composition is 100 parts by mass. It is preferable to contain 40 parts by mass or more.
  • the total solid content of the composition is the total amount of components that should remain in the formed end face sealing layer 16 excluding the organic solvent from the composition.
  • the solid content of the composition forming the end face sealing layer 16 is preferable in that it contains 30 parts by mass or more of a hydrogen bonding compound, thereby strengthening the intermolecular interaction and reducing the oxygen permeability. .
  • a hydrogen bond is a hydrogen atom that is covalently bonded to an atom having a higher electronegativity than a hydrogen atom in a molecule, and is formed by an attractive interaction with an atom or group of atoms in the same molecule or in a different molecule.
  • the functional group having hydrogen bonding property is a functional group containing a hydrogen atom capable of generating such a hydrogen bond. Specific examples include a urethane group, a urea group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, and a cyano group.
  • TDI tolylene diisocyanate
  • MDI diphenylmethane diisocyanate
  • HDI hexamethylene diisocyanate
  • IPDI isophorone diisocyanate
  • Diisocyanates such as MDI (HMDI), poly (propylene oxide) diol, poly (tetramethylene oxide) diol, ethoxylated bisphenol A, ethoxylated bisphenol S spiroglycol, caprolactone-modified diol, carbonate diol and the like polyols, and Hydroxy acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidol di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate Monomers obtained and bets are reacted oligomers are exemplified.
  • an epoxy compound obtained by reacting a compound having an epoxy group with a compound such as bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol F type, epoxidized oil type, or phenol novolac type, or an alicyclic epoxy and an amine compound An epoxy compound obtained by reacting an acid anhydride or the like is also exemplified.
  • the cationic polymer of the above-mentioned epoxy compound, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), butenediol-vinyl alcohol copolymer, polyacrylonitrile and the like are also exemplified.
  • attachment with a laminated film is preferable.
  • the composition for forming the end face sealing layer 16 is a polyvinyl alcohol resin, a polyvinylidene chloride resin, a polyacrylonitrile, when the total solid content of the composition is 100 parts by mass.
  • a resin composition selected from the group consisting of a polyvinylidene fluoride resin and polyoxymethylene, or a polymerizable function selected from at least one selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a glycidyl group, an oxetane group, and an alicyclic epoxy group
  • the polymerizable compound having a group is preferably contained in an amount of 5 parts by mass or more, and more preferably 10 parts by mass or more of the polymerizable compound having a polymerizable functional group.
  • the laminated film 10 of the present invention 5 parts by mass or more of a polymerizable compound having a polymerizable functional group in which the solid content of the composition forming the end face sealing layer 16 is at least one selected from a (meth) acryloyl group and the like.
  • polymerizable compound having a (meth) acryloyl group examples include neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, and ethylene glycol.
  • examples include di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, and the like.
  • polymerizable compounds having a glycidyl group, an oxetane group, an alicyclic epoxy group, and the like include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, and hydrogenated bisphenol F.
  • Examples include diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether.
  • a commercially available product can be suitably used as the polymerizable compound having a (meth) acryloyl group or a glycidyl group.
  • Examples of commercially available products containing these polymerizable compounds include: Maxive manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Nanopox 450 manufactured by EVONIK, Nanopox 500, Nanopox 630, Composeran 102 manufactured by Arakawa Chemical Industries, etc., Flep manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.
  • Preferred examples include Thiocol LP, series such as Loctite E-30CL manufactured by Henkel Japan, and series such as EPO-TEX353ND manufactured by Epoxy Technology.
  • the composition that forms the end face sealing layer 16 is a polymerization that does not contain a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a glycidyl group, an oxetane group, or an alicyclic epoxy group, if necessary. May contain a composition.
  • the polymerizable compound not containing these functional groups is preferably 3 parts by mass or less when the total solid content of the composition is 100 parts by mass. .
  • inorganic particles particles made of an inorganic compound
  • the end surface sealing layer 16 contains inorganic particles
  • the oxygen permeability of the end surface sealing layer 16 can be further reduced, and deterioration of the functional layer 12 due to oxygen or the like entering from the end surface can be more preferably prevented.
  • the size of the inorganic particles dispersed in the end surface sealing layer 16 is not particularly limited, and may be set as appropriate according to the thickness of the end surface sealing layer 16 and the like.
  • the size (maximum length) of the inorganic particles dispersed in the end surface sealing layer 16 is preferably less than the thickness of the end surface sealing layer 16, and the smaller the size, the more advantageous.
  • the size of the inorganic particles dispersed in the end face sealing layer 16 may be uniform or non-uniform.
  • the content of the inorganic particles in the end face sealing layer 16 is preferably 50% by mass or less, and more preferably 10 to 30% by mass. That is, in the composition for forming the end face sealing layer 16, the content of the inorganic particles is preferably 50 parts by mass or less when the total solid content of the composition is 100 parts by mass. More preferred is part by mass.
  • the effect of reducing the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 by the inorganic particles increases as the content of the inorganic particles increases, but the effect of adding the inorganic particles can be increased by setting the content of the inorganic particles to 10% by mass or more. More preferably, the end face sealing layer 16 having a low oxygen permeability can be formed.
  • the content of the inorganic particles in the end face sealing layer 16 is set to 50% by mass or less, the adhesion and durability of the end face sealing layer 16 can be sufficient, and cracks are generated when the laminated film is cut or punched. This is preferable in that it can be suppressed.
  • the inorganic particles dispersed in the end face sealing layer 16 include inorganic layered minerals, silica particles, alumina particles, titania particles, silver particles, and copper particles.
  • the method for producing a laminated film of the present invention comprises a preparation step of preparing a functional layer laminate having an optical functional layer and a gas barrier layer laminated on at least one main surface of the optical functional layer, A sealing layer forming step of forming an end face sealing layer having an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less on the end face of the functional layer laminate,
  • the sealing layer forming step is a manufacturing method in which the end surface sealing layer is formed by bringing the end surface of the functional layer laminate into contact with the coating film of the composition to be the end surface sealing layer.
  • the functional layer laminate 11 is prepared.
  • the organic layer 24 is formed on the surface of the support 20 by a coating method or the like, and the inorganic layer 26 is formed on the surface of the organic layer 24 by plasma CVD or the like.
  • the organic layer 28 is formed on the surface of the inorganic layer 26 by a coating method or the like, and the gas barrier layer 14 (gas barrier film) is produced.
  • the organic layer and the inorganic layer are preferably formed by so-called roll-to-roll. In the following description, roll-to-roll is also referred to as RtoR.
  • a composition to be a functional layer 12 such as a quantum dot layer containing an organic solvent, a compound that forms a resin serving as a matrix, and quantum dots is prepared.
  • Two gas barrier layers 14 are prepared, the composition to be the functional layer 12 is applied to the surface of the organic layer 28 of one gas barrier layer 14, and the organic layer 28 is further formed on the composition.
  • Another gas barrier layer 14 is laminated toward the object side and ultraviolet curing or the like is performed to produce a laminate in which the gas barrier layer 14 is laminated on both surfaces of the functional layer 12.
  • the produced laminated body is cut into a predetermined size, and the functional layer laminated body 11 is produced.
  • the end surface sealing layer 16 described above is formed on the end surface of the functional layer laminate 11.
  • the composition to be the end surface sealing layer 16 is formed into a coating film whose thickness is 1/2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11,
  • the end surface of the functional layer laminate 11 is brought into contact with a coating film whose thickness is 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11, and the composition is applied to the end surface of the functional layer laminate 11, and then dried and cured.
  • the end face sealing layer 16 is preferably formed.
  • FIGS. 4A to 4C an example of the sealing layer forming step will be described with reference to FIGS. 4A to 4C.
  • a coating film 17 of a composition to be the end face sealing layer 16 is formed on a flat plate 40 (for example, a glass plate or a bat).
  • the thickness H of the coating film 17 is 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11.
  • size of the coating film 17 will not be specifically limited if one end surface of the functional layer laminated body 11 can contact the whole surface, For example, the length of one side of the coating film 17 is functional layer laminated body. What is necessary is just to be longer than the length of 11 end sides.
  • the coating film 17 having a thickness H of 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11 As shown to 4C, a predetermined amount of composition is made to adhere to the end surface of the functional layer laminated body 11 by raising the functional layer laminated body 11 vertically upward. Since the thickness H of the coating film 17 is 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11, the thickness of the composition that becomes the end surface sealing layer 16 attached to the end surface of the functional layer laminate 11 is also included. It becomes 1/2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11. Moreover, the cross-sectional shape perpendicular
  • the composition attached to the end faces of the functional layer laminate 11 is dried, and irradiation with ultraviolet rays or heating is performed as necessary.
  • the end face sealing layer 16 is formed by curing.
  • the coating film 17 and the end face of the functional layer laminate 11 are brought into contact, only the end face of the functional layer laminate 11 may be brought into contact with the coating film 17. You may immerse in the coating film 17 and make the end surface and the coating film 17 contact.
  • the composition also adheres to the vicinity of the end face of the main surface of the functional layer laminate 11, but it goes around to the end face side due to the action of surface tension.
  • the thickness of the end surface sealing layer 16 formed on the main surface of the functional layer laminate 11 does not increase.
  • the functional layer laminate 11 is moved vertically upward to bring the coating film 17 and the functional layer laminate 11 into contact.
  • the coating film 17 flat plate 40
  • the functional layer laminated body 11 and the coating film 17 are each respectively You may move.
  • the end surface of the functional layer laminate 11 is configured to be in contact with the coating film 17 vertically downward, but if it can be contacted with the coating film 17 having a predetermined thickness H, It is not limited to.
  • the cross-sectional shape of the end face sealing layer 16 is formed in a semicircular shape as long as it is applied to the end face of the functional layer laminate 11 regardless of the absolute value of the surface energy (surface tension, contact angle) of the composition. Is done.
  • the end face of one functional layer laminate 11 is in contact with the coating film 17, but the present invention is not limited to this, and a plurality of functional layer laminates 11 are formed. It is good also as a structure made to contact the coating film 17 collectively.
  • the functional layer laminates 11 and the spacers are alternately laminated, and the functional layer laminates 11 are separated from each other.
  • the end surface sealing layer 16 may be formed on the end surface of each functional layer laminate 11 by bringing the end surfaces into contact with each other.
  • the end surface sealing layer 16 ⁇ / b> A is formed on the entire end surface of the laminate in which a plurality of functional layer stacks 11 (for example, 1000 sheets) are stacked, and then stacked.
  • the functional layer laminate 11 may be peeled off one by one to produce a laminated film 10.
  • the end surface sealing layer 16 is formed in this way, the end surface sealing layer 16A formed on the end surface of the laminate on which the functional layer stack 11 is stacked is formed in a semi-oval shape. Therefore, the end surface sealing layer 16 formed on the end surface of the functional layer stack 11 stacked near the center of the stack has a substantially rectangular shape as shown in FIG. 5B.
  • the coating film 17 of the composition is formed on a flat plate, and the end surface of the functional layer laminate 11 is brought into contact with the coating film 17 to form the end surface.
  • the composition for forming the sealing layer 16 is applied to the end face of the functional layer laminate 11, the present invention is not limited thereto.
  • the coating film of the composition is formed on a rotating roller, and the end surface sealing layer is formed by contacting the end surface of the functional layer laminate with the coating film on the roller. Good.
  • the apparatus shown in FIG. 6 includes a tank 54 for storing the composition, an application unit 52 for applying the composition supplied from the tank 54 to the peripheral surface of the roller 50, and a roller 50 having a coating film formed on the peripheral surface.
  • the end face of the functional layer laminate 11 is brought into contact with the coating film on the roller 50 while conveying the functional layer laminate 11 in a predetermined direction in synchronization with the rotating roller 50, and the composition is applied to the end face. Adhere. Thereafter, the composition is dried and cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like as necessary to form the end face sealing layer 16.
  • a coating film is formed on the roller 50 and the end surface sealing layer 16 is formed by contacting the end surface of the functional layer laminate 11 with the coating film on the roller 50.
  • the thickness of the coating film formed on the roller 50 is set to 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11.
  • the end surface sealing layer 16 having a thickness R of 1/2 or less of the thickness T of the functional layer laminate 11 can be formed on the end surface of the functional layer laminate 11.
  • Example 1 As Example 1, a laminated film 10 as shown in FIG.
  • PET film manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Cosmo Shine A4300, thickness 50 ⁇ m, width 1000 mm, length 100 m
  • the organic layer 24 was formed on one surface of the support 20 as follows. First, a composition for forming the organic layer 24 was prepared. Specifically, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (Lamberti Co., ESACUREKTO46) are prepared, and the mass ratio of TMPTA: photopolymerization initiator is 95: 5. Then, these were weighed and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a composition having a solid content concentration of 15%.
  • TMPTA trimethylolpropane triacrylate
  • ESACUREKTO46 photopolymerization initiator
  • an organic layer 24 was formed on one surface of the support 20 by a general film forming apparatus that forms a film by a coating method using RtoR.
  • the composition was applied to one surface of the support 20 using a die coater.
  • the coated support 20 was passed through a drying zone at 50 ° C. for 3 minutes, and then the composition was cured by irradiating with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 600 mJ / cm 2 ) to form an organic layer 24.
  • a polyethylene film (PE film, manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd., trade name: PAC2-30-T) was attached to the surface of the organic layer 24 as a protective film, conveyed, and wound.
  • the thickness of the formed organic layer 24 was 1 ⁇ m.
  • an inorganic layer 26 (silicon nitride (SiN) layer) was formed on the surface of the organic layer 24 using a CVD apparatus using RtoR.
  • the support 20 on which the organic layer 24 is formed is sent out from the feeder, and the protective film is peeled off after passing through the final film surface touch roll before forming the inorganic layer, and the inorganic layer is formed on the exposed organic layer 24 by plasma CVD. 26 was formed.
  • silane gas flow rate 160 sccm
  • ammonia gas flow rate 370 sccm
  • hydrogen gas flow rate 590 sccm
  • nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used as source gases.
  • a power source As a power source, a high frequency power source having a frequency of 13.56 MHz was used. The film forming pressure was 40 Pa. The formed inorganic layer 26 had a thickness of 50 nm. The flow rate expressed in unit sccm is a value converted to a flow rate (cc / min) at 1013 hPa and 0 ° C.
  • an organic layer 28 was laminated on the surface of the inorganic layer 26 as follows.
  • a composition for forming the organic layer 28 was prepared. Specifically, a urethane bond-containing acrylic polymer (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., Acryt 8BR500, mass average molecular weight 250,000) and a photopolymerization initiator (BASF Irgacure 184) are prepared. These were weighed so that the mass ratio of the photopolymerization initiator was 95: 5 and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a composition having a solid content concentration of 15% by mass.
  • a urethane bond-containing acrylic polymer manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., Acryt 8BR500, mass average molecular weight 250,000
  • a photopolymerization initiator BASF Irgacure 184
  • an organic layer 28 was formed on the surface of the inorganic layer 26 by a general film forming apparatus for forming a film by a coating method using RtoR.
  • the composition was applied to one surface of the support 20 using a die coater.
  • the support 20 after coating was passed through a drying zone at 100 ° C. for 3 minutes to form an organic layer 28.
  • the gas barrier layer 14 as shown in FIG. 2 formed by forming the organic layer 24, the inorganic layer 26, and the organic layer 28 on the support 20 was produced.
  • the thickness of the formed organic layer 24 was 1 ⁇ m.
  • the gas barrier layer 14 was wound after the same polyethylene film as the protective film was attached to the surface of the organic layer 28 in the pass roll immediately after the composition was dried.
  • composition for forming a quantum dot layer as the functional layer 12 having the following composition was prepared.
  • Composition of composition -Toluene dispersion of quantum dots 1 (luminescence maximum: 520 nm) 10 parts by mass-Toluene dispersion of quantum dots 2 (luminescence maximum: 630 nm) 1 part by weight-Lauryl methacrylate 2.4 parts by weight-Trimethylolpropane triacrylate 0. 54 parts by mass / photopolymerization initiator (Irgacure 819, manufactured by BASF) 0.009 parts by mass
  • quantum dots 1 and 2 nanocrystals having the following core-shell structure (InP / ZnS) were used.
  • Quantum dot 1 INP530-10 (manufactured by NN-labs)
  • Quantum dot 2 INP620-10 (manufactured by NN-labs)
  • the viscosity of the prepared composition was 50 mPa ⁇ s.
  • a functional layer laminate 11 in which the gas barrier layers 14 were laminated on both surfaces of the functional layer 12 was produced by a general film forming apparatus that forms a film by a coating method using RtoR. Two gas barrier layers 14 were loaded into a predetermined position of the film forming apparatus and passed through. First, after peeling off the protective film of one gas barrier layer, the composition was applied to the surface of the organic layer 28 using a die coater. Next, after the protective film was peeled from the other gas barrier layer 14, the organic layer 28 was directed to the composition, and the gas barrier layer 14 was laminated.
  • the composition is cured by irradiating the laminate in which the composition to be the functional layer 12 is sandwiched between the gas barrier layers 14 with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 2000 mJ / cm 2 ) to form the functional layer 12.
  • the functional layer laminate 11 in which the gas barrier layer 14 was laminated on both surfaces of the layer 12 was produced.
  • the thickness of the functional layer 12 was 46 ⁇ m
  • the thickness T of the functional layer laminate 11 was 150 ⁇ m.
  • the produced functional layer laminate 11 was cut into an A4 size sheet using a Thomson blade having a blade edge angle of 17 °.
  • ⁇ Formation of end face sealing layer> As a composition for forming the end face sealing layer 16, a composition having a solid content of the following composition was prepared. In addition, a composition is a mass part when the whole solid content is 100 mass parts.
  • the prepared composition was apply
  • the end surface of the functional layer laminate 11 was brought into contact with the coating film 17 and was lifted vertically upward to adhere a predetermined amount of the composition to the end surface. Then, it dried and hardened for 10 minutes at 80 degreeC, the end surface sealing layer 16 was formed, and the laminated
  • the end face sealing layer 16 covered a part of the gas barrier layer 14 and the optical functional layer 12 over the entire end face of the functional layer laminate 11.
  • the formed end face sealing layer 16 had a thickness R of 100 ⁇ m.
  • the cross-sectional shape of the end surface sealing layer 16 was rectangular. Therefore, the ratio of the thickness of the functional layer stack 11 to the thickness of the end surface sealing layer 16 was 0.66.
  • a sample for measuring oxygen permeability having a thickness of 100 ⁇ m was prepared on a biaxially stretched polyester film (Lumirror T60, manufactured by Toray Industries, Inc.) in the same manner as the end face sealing layer 16.
  • the oxygen permeability measurement sample was peeled from the polyester film, and measured using an APIMS method (atmospheric pressure ionization mass spectrometry) (manufactured by Japan API Corporation) at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH. Under conditions, oxygen permeability was measured.
  • the oxygen permeability of the sample for measuring oxygen permeability that is, the end face sealing layer 16 was 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 2 A laminated film was produced in the same manner as in Example 1, except that a composition having the following composition as a composition for forming the end face sealing layer 16 was prepared.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the oxygen permeability was 0.4 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm). Met.
  • the end face sealing layer 16 has a two-layer structure, and as a composition for forming the end face sealing layer 16, a composition having the following solid composition is prepared and sequentially laminated, as in Example 1. A laminated film was produced. The thickness of the first layer was 95 ⁇ m, the thickness of the second layer was 5 ⁇ m, and the total thickness was 100 ⁇ m.
  • ⁇ Second layer> Main component of two-component thermosetting epoxy resin (M-100, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 6 parts by mass ⁇ Curing agent for two-component thermosetting epoxy resin (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., C-93) 19 parts by mass 1-butanol 75 parts by mass
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the oxygen permeability was 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm). It was.
  • the end face sealing layer 16 has a three-layer structure, and as the composition for forming the end face sealing layer 16, the first layer is the same composition as the second layer of Example 3, and the second layer is 1 of Example 3.
  • a laminated film was produced in the same manner as in Example 3, except that the composition was the same as that of the layer and the third layer was the same composition as that of the second layer of Example 3. Note that the thickness of the first layer was 5 ⁇ m, the thickness of the second layer was 95 ⁇ m, and the thickness of the third layer was 5 ⁇ m.
  • Example 5 A laminated film was produced in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the end face sealing layer 16 was 75 ⁇ m. That is, the ratio of the thickness of the functional layer stack 11 to the thickness of the end surface sealing layer 16 was 0.5. As a result of measuring the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 in the same manner as in Example 1, the oxygen permeability was 0.6 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 6 A laminated film was produced in the same manner as in Example 2 except that the end face sealing layer 16 covered the gas barrier layer 14 and the optical functional layer 12 over the entire end face of the functional layer laminate 11. As a result of measuring the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 in the same manner as in Example 1, the oxygen permeability was 0.4 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 7 A laminated film was produced in the same manner as in Example 5 except that the cross-sectional shape of the end surface sealing layer 16 was an arc.
  • FIG. 7A shows an optical micrograph of the front surface of the end surface of the functional layer laminate 11 on which the end surface sealing layer 16 of Example 7 is formed
  • FIG. 7B shows an optical micrograph of a cross section of the end surface sealing layer 16. . As shown in FIG. 7B, it can be seen that the end surface sealing layer 16 is formed on the end surface without going around to the main surface side of the functional layer laminate 11.
  • the end face sealing layer 16 has a two-layer structure, and as a composition for forming the end face sealing layer 16, a composition having the following solid composition is prepared and sequentially laminated, as in Example 1. A laminated film was produced. The thickness of the first layer was 70 ⁇ m, and the thickness of the second layer was 5 ⁇ m, for a total of 75 ⁇ m.
  • ⁇ Second layer> Main component of two-component thermosetting epoxy resin (M-100, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 6 parts by mass ⁇ Curing agent for two-component thermosetting epoxy resin (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., C-93) 19 parts by mass 1-butanol 75 parts by mass
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the oxygen permeability was 0.05 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm). It was.
  • Example 9 A laminated film was produced in the same manner as in Example 5 except that a composition having the following composition as a composition for forming the end face sealing layer 16 was prepared.
  • Polyvinyl alcohol-based resin Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., g polymer: OKS-8049
  • 16 parts by mass Hydrolyzate of tetraethyl orthosilicate 4 parts by mass Pure water 64 parts by mass 2-propanol 16 parts by mass
  • the tetraethyl orthosilicate hydrolyzate was prepared by stirring a composition having the following composition for 5 hours.
  • -Tetraethyl orthosilicate manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. 6 parts by mass-0.05 part by weight of acetic anhydride-2.3 parts by weight of pure water-6.6 parts by weight of ethanol
  • Example 1 A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the end face sealing layer 16 was not formed.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer was 20 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • the laminated film produced in Comparative Example 2 had a portion in which the optical functional layer of the functional layer laminate was not covered with the end face sealing layer.
  • the barrier property of the end face sealing layer was evaluated by measuring the degree of performance degradation at the end.
  • the initial luminance (Y0) of the laminated film was measured by the following procedure.
  • a commercially available tablet device (Amazon Kindle (registered trademark) Fire HDX 7 ”) was disassembled and the backlight unit was taken out.
  • a laminated film was placed on the light guide plate of the taken out backlight unit, and the orientation was placed on it.
  • the change rate ( ⁇ Y) of the luminance (Y1) after the high-temperature and high-humidity test with respect to the initial luminance value (Y0) was calculated, and evaluated as the luminance change index according to the following criteria.
  • ⁇ Y [%] (Y0 ⁇ Y1) / Y0 ⁇ 100 A: ⁇ Y ⁇ 5% B: 5% ⁇ Y ⁇ 15% C: 15% ⁇ ⁇ Y
  • the laminated film of the present invention has a reduced non-light emitting region at the end compared to Comparative Examples 1 and 2, and the oxygen and water are blocked by the end surface sealing layer. It can be seen that deterioration of the quantum dots (optical functional layer) can be prevented. From the comparison between Example 2 and Example 4, the comparison between Example 3 and Example 8, etc., the thickness R of the end face sealing layer is set to 1/2 or less of the thickness of the functional layer laminate. It can be seen that the flatness can be increased. From the above results, the effects of the present invention are clear.

Abstract

量子ドット層等の光学機能層を有する積層フィルムにおいて、端面から酸素等の浸入によって、量子ドットの光学機能を発現する部材が劣化することを防止でき、かつ、平坦性の高い積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法を提供する。光学機能層と光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面のうち少なくとも一部を覆って形成される端面封止層を有し、端面封止層は、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下である。

Description

積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法
　本発明は、液晶表示装置のバックライト等に用いられる積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法に関する。
　液晶表示装置（以下、ＬＣＤともいう）は、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。また、近年の液晶表示装置において、ＬＣＤ性能改善としてさらなる省電力化、色再現性向上等が求められている。
　ＬＣＤに対する省電力化の要求に伴って、バックライト（バックライトユニット）における光利用効率を高め、また、色再現性を向上するために、入射光の波長を変換して出射する量子ドットを、バックライトに利用することが提案されている。
　量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長や発光波長を制御できる。
　量子ドットは、一般的に、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂からなるマトリックスに分散されて量子ドット層とされ、例えば、波長変換を行う量子ドットフィルムとして、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
　バックライトから量子ドットフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。
　ところで、量子ドットは、酸素等によって劣化しやすく、光酸化反応により発光強度が低下するという課題がある。そのため、量子ドットフィルムでは、量子ドット層の両面にガスバリアフィルムを積層して量子ドット層を保護することが行われている。
　しかしながら、量子ドット層の両面をガスバリアフィルムで挟持するのみでは、ガスバリアフィルムで覆われていない端面から量子ドット層に水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
　そのため、量子ドット層の両面に加え、量子ドット層の周辺もガスバリアフィルム等で封止することが提案されている。
　例えば、特許文献１には、量子ドット蛍光体を濃度０．０～２０質量％の範囲でシク口オレフィン(共)重合体に分散させた組成物が記載されており、量子ドットが分散された樹脂成型体の全面を被覆するガスバリア層を有する構成が記載されている。また、このガスバリア層は、樹脂層の少なくとも一方の面にシリカ膜またはアルミナ膜を形成したガスバリアフィルムであることが記載されている。
　特許文献２には、発光量子ドット（ＱＤ）集団を含むリモート蛍光体フィルムを備えるディスプレイバックライトユニットが記載されており、ＱＤ蛍光体材料を２つのガスバリアフィルムで挟み、ＱＤ蛍光体材料の周囲周辺の２つのガスバリアフィルムに挟まれた領域にガスバリア性を有する不活性領域を有する構成が記載されている。
　特許文献３には、光源部から発せられた色光の少なくとも一部を他の色光に変換する色変換層と、色変換層を封止する不透水性の封止シートとを備えた発光装置が記載されており、蛍光体層の外周に沿って、すなわち蛍光体層の平面形状を囲むように枠形状に設けられている第２貼合層を有し、この第２貼合層がガスバリア性を有する接着材料からなる構成が記載されている。
　さらに、特許文献４には、量子ドット層（波長変換部）と、量子ドット層を密封するシリコーン等からなる密封部材を有する量子点波長変換体において、量子ドット層を密封部材で挟み、かつ、量子ドット層の周辺において密封部材同士を貼着する構成が記載されている。
国際公開第２０１２／１０２１０７号 特表２０１３－５４４０１８号公報 特開２００９－２８３４４１号公報 特開２０１０－６１０９８号公報
　ところで、ＬＣＤに用いられる、量子ドットを含む積層フィルムは、５０μｍ～３５０μｍ程度の薄型のフィルムである。
　特許文献１のように、薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪いという問題があった。また、ガスバリアフィルムを折り曲げるとバリア層が割れてガスバリア性が低下するという問題もあった。
　一方、特許文献２および３のように、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成の場合、いわゆるダムフィル方式の積層フィルムは、一方のガスバリアフィルム上の周縁部分に保護層を形成した後に、保護層に囲まれた領域内に樹脂層を形成し、その後、保護層および樹脂層上に、他方のガスバリアフィルムを積層して作製されるが、全工程がバッチ方式となるため生産性が極めて悪いという問題があった。また、保護層の幅が厚くなってしまい、端部に量子ドット層が形成されないため、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。
　また、特許文献４のように、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くして、密封する構成では、端部での量子ドット層の厚さが薄くなってしまうため、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるバリア層は、硬く脆いため、このようなバリア層を有するガスバリアフィルムを、急に湾曲させると、バリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下するという問題があった。
　本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、量子ドット層等の光学機能層を有する積層フィルムにおいて、端面から酸素等の浸入によって、量子ドットの光学機能を発現する部材が劣化することを防止でき、かつ、平坦性の高い積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法を提供することにある。
　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、光学機能層と光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の端面の、ガスバリア層の少なくとも一部および光学機能層を覆って形成される端面封止層を有し、端面封止層は、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下であることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明は以下の構成の積層フィルムおよびその製造方法を提供する。
　（１）　光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
　機能層積層体の端面の、前記ガスバリア層の少なくとも一部および前記光学機能層を覆って形成される端面封止層、を有し、
　端面封止層は、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下である積層フィルム。
　（２）　端面封止層は、２層以上を積層した積層構造を有する（１）に記載の積層フィルム。
　（３）機能層積層体の端面に垂直な方向における、端面封止層の厚さが、機能層積層体の主面に垂直な方向における、機能層積層体の厚さの１／２以下である（１）または（２）に記載の積層フィルム。
　（４）　端面封止層が、機能層積層体の端面の全面を覆う（１）～（３）のいずれかに記載の積層フィルム。
　（５）　端面封止層が、固形分全量を１００質量部とした際に、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリフッ化ビニリデン樹脂及びポリオキシメチレンからなる群より選択される樹脂組成物、または、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有する組成物によって形成された、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下の樹脂層である（１）～（４）のいずれかに記載の積層フィルム。
　（６）　機能層積層体の端面の延在方向に垂直な断面における、端面封止層の形状が、円の一部からなる形状である（１）～（５）のいずれかに記載の積層フィルム。
　（７）　光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体を準備する準備工程と、
　機能層積層体の端面に、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下の端面封止層を形成する封止層形成工程とを有し、
　封止層形成工程は、端面封止層となる組成物の塗膜に、機能層積層体の端面を接触させて端面封止層を形成するものである積層フィルムの製造方法。
　（８）　封止層形成工程は、組成物の塗膜を平板の上に形成し、平板の上の塗膜に、機能層積層体の端面を接触させて端面封止層を形成する（７）に記載の積層フィルムの製造方法。
　（９）　封止層形成工程は、組成物の塗膜を回転するロール上に形成し、ロール上の塗膜に、機能層積層体の端面を接触させて端面封止層を形成する（７）に記載の積層フィルムの製造方法。
　このような本発明によれば、量子ドット層等の光学機能性層を有する積層フィルムにおいて、端面を封止する端面封止層によって、光学機能性層の端面から侵入する酸素等による量子ドット等の機能材料の劣化を防止でき、かつ、平坦性の高い積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法を提供できる。
本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。 本発明の積層フィルムに用いられるガスバリア層の一例を概念的に示す断面図である。 機能層積層体の厚さと端面封止層の厚さとの関係を説明するための概念図である。 機能層積層体の厚さと端面封止層の厚さとの関係を説明するための概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法を説明するための概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法を説明するための概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法を説明するための概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法の他の一例を説明する概念図である。 本発明の積層フィルムの他の一例の概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法の他の一例を説明する概念図である。 実施例で作製した積層フィルムの端面封止層の部分の拡大写真である。 実施例で作製した積層フィルムの端面封止層の部分の拡大写真である。
　以下、本発明の積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適実施形態を基に、詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　図１は、本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。
　図１に示す積層フィルム１０は、光学機能層１２と、ガスバリア層１４と、端面封止層１６とを有する。図１に示すように、積層フィルム１０は、シート状の光学機能層１２の両面（両主面）に、ガスバリア層１４を積層し、光学機能層１２をガスバリア層１４で挟持した機能層積層体１１の端面の全面を、端面封止層１６で覆った構成を有するものである。
　光学機能層１２は、波長変換等の所望の機能を発現するための層で、例えば、四角形の平面形状を有するシート状物である。以下の説明では、光学機能層１２を、機能層１２とも言う。
　機能層１２は、量子ドット層などの波長変換層、光取り出し層、有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層）等、光学的な機能を発現する、各種の層が利用可能である。
　中でも、端面封止層１６を有することで、端面から侵入する酸素や水などに起因する光学機能材料の劣化を防止できるという、本発明の積層フィルムの特徴を十分に発現できる等の点で、車載などの高温高湿等の様々な環境下での使用が想定されるＬＣＤ等に利用され、かつ、酸素による量子ドットの劣化が大きな問題となる量子ドット層は、機能層１２として好適に利用される。
　量子ドット層は、一例として、多数の量子ドットを樹脂等のマトリックス中に分散してなる層であり、機能層１２に入射した光の波長を変換して出射する機能を有する、波長変換層である。
　例えば、図示しないバックライトから出射された青色光が機能層１２に入射すると、機能層１２は、内部に含有する量子ドットの効果により、この青色光の少なくとも一部を赤色光あるいは緑色光に波長変換して出射する。
　ここで、青色光とは、４００～５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光であり、緑色光とは、５００～６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光のことであり、赤色光とは、６００ｎｍを超え６８０ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことである。
　なお、量子ドット層が発現する波長変換の機能は、青色光を赤色光あるいは緑色光に波長変換する構成に限定はされず、入射光の少なくとも一部を異なる波長の光に変換するものであればよい。
　量子ドットは、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
　量子ドット層に含有される量子ドットの種類には特に限定はなく、求められる波長変換の性能等に応じて、種々の公知の量子ドットを適宜選択すればよい。
　量子ドットについては、例えば特開２０１２－１６９２７１号公報の段落００６０～００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。
　量子ドットは、マトリックス中に均一に分散されるのが好ましいが、マトリックス中に偏りをもって分散されてもよい。
　また、量子ドットは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　２種以上の量子ドットを併用する場合は、互いの発光光の波長が異なる量子ドットを使用してもよい。
　具体的には、公知の量子ドットには、６００～６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００～６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００～５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む量子ドット含有積層体へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、量子ドット層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む量子ドット層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
　また、量子ドットとして、形状がロッド状で指向性を持ち偏光を発する、いわゆる量子ロッドや、テトラポッド型量子ドットを用いてもよい。
　量子ドット層のマトリックスの種類としては、特に限定はなく、公知の量子ドット層で用いられる各種の樹脂を用いることができる。
　例えば、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂などが挙げられる。あるいは、マトリックスとして、重合性基を有する硬化性化合物を用いることができる。重合性基の種類は、特に限定はないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、特に好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。
　具体的なマトリックスとしては、一例として、以下の第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む樹脂が例示される。
　第１の重合性化合物は、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーからなる群から選択される1つ以上の化合物であるのが好ましい。
　２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。
　また、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。
　エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとしては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシシクロアルカンを含む化合物等が好適に用いられる。
　エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとして好適に使用できる市販品としては、株式会社ダイセルのセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００、シグマアルドリッチ社製の４－ビニルシクロヘキセンジオキシド等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
　また、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーはその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３～、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds－Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１－１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。
　第２の重合性化合物は、分子中に水素結合性を有する官能基を有し、かつ、第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基を有する。
　水素結合性を有する官能基としては、ウレタン基、ウレア基、またはヒドロキシル基等が挙げられる。
　第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基としては、例えば、第１の重合性化合物が２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーであるときは（メタ）アクリロイル基であればよく、第１の重合性化合物がエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーであるときはエポキシ基またはオキセタニル基であればよい。
　ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＨＤＩ、ＩＰＤＩ、ＨＭＤＩ等のジイソシアナートとポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートを反応させて得られるモノマー、オリゴマーであり、特開２００２－２６５６５０公報や、特開２００２－３５５９３６号公報、特開２００２－０６７２３８号公報等に記載の多官能ウレタンモノマーを挙げることができる。具体的には、ＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＩＰＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＨＤＩとペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等をあげることができるが、これに限定されるものではない。
　ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして好適に使用できる市販品としては、共栄社化学株式会社製のＡＨ－６００、ＡＴ－６００、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、ＤＡＵＡ－１６７、新中村化学工業株式会社製のＵＡ－１６０ＴＭ、大阪有機化学工業株式会社製のＵＶ－４１０８Ｆ、ＵＶ－４１１７Ｆ等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
　ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、エポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応により合成される化合物を挙げることができる。代表的なものは、エポキシ基を有する化合物により、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールのノボラック型、脂環型に分類される。具体的な例としては、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、フェノールノボラックにエピクロロヒドリンを反応させ、（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、エポキシ化大豆油に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート等を挙げることができる。また、ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして他には、末端にカルボキシ基、またはリン酸基を有する（メタ）アクリレートモノマー等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　ヒドロキシル基を含む第２の重合性化合物として好適に使用できる市販品としては、共栄社化学株式会社製のエポキシエステル、Ｍ－６００Ａ、４０ＥＭ、７０ＰＡ、２００ＰＡ、８０ＭＦＡ、３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００ＭＫ、３０００Ａ、日本化成株式会社製の４－ヒドロキシブチルアクリレート、新中村化学工業株式会社製の単官能アクリレートＡ－ＳＡ、単官能メタクリレートＳＡ、ダイセル・オルネクス株式会社製の単官能アクリレートβ－カルボキシエチルアクリレート、城北化学工業株式会社製のＪＰＡ－５１４等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
　第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との質量比は１０：９０～９９：１であればよく、１０：９０～９０：１０であることが好ましい。第２の重合性化合物の含有量に対し第１の重合性化合物の含有量が多いことも好ましく、具体的には（第１の重合性化合物の含有量）／（第２の重合性化合物の含有量）が２～１０であることが好ましい。
　第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む樹脂をマトリックスとして用いる場合には、マトリックス中に、さらに単官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことが好ましい。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
　メチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１～３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７～２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２～３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１～２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１～１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～３０で末端アリールエーテルの炭素数が６～２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４～３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４～３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノまたはジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル(メタ)アクリルアミド、N－イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２－ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
　単官能（メタ）アクリレートモノマーは第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、１～３００質量部含まれていることが好ましく、５０～１５０質量部含まれていることがより好ましい。
　また、炭素数４～３０の長鎖アルキル基を有する化合物を含むことが好ましい。具体的には第１の重合性化合物、第２の重合性化合物、または単官能（メタ）アクリレートモノマーの少なくともいずれかが、炭素数４～３０の長鎖アルキル基を有することが好ましい。上記長鎖アルキル基は炭素数１２～２２の長鎖アルキル基であることがより好ましい。これにより、量子ドットの分散性が向上するからである。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。
　炭素数４～３０の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、具体的には、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリルアミド、オクチル（メタ）アクリルアミド、ラウリル（メタ）アクリルアミド、オレイル（メタ）アクリルアミド、ステアリル（メタ）アクリルアミド、ベヘニル（メタ）アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
　また、マトリックスとなる樹脂中に、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、（パーフルオロブチル）エチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチル－ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、（パーフルオロヘキシル）エチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフッ素原子を有する化合物を含んでいてもよい。これらの化合物を含むことにより塗布性を向上させることができる。
　また、量子ドット層中のマトリックスとなる樹脂の総量には特に限定はないが、量子ドット層の全量１００質量部に対して、９０～９９．９質量部であることが好ましく、９２～９９質量部であることがより好ましい。
　量子ドット層の厚さは、積層フィルム１０の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。本発明者らの検討によれば、取り扱い性および発光特性の点で、５～２００μｍが好ましく、１０～１５０μｍがより好ましい。
　なお、上記厚さは平均厚さを意図し、平均厚さは量子ドット層の任意の１０点以上の厚さを測定して、それらを算術平均して求める。
　量子ドット層の形成方法には特に限定はなく、公知の方法で形成すればよい。例えば、量子ドットとマトリックスとなる樹脂と溶剤とを混合した組成物（塗料・塗布組成物）を調整し、この組成物をガスバリア層１４上に塗布し、硬化させることで形成することができる。
　なお、量子ドット層となる組成物には、必要に応じて、重合開始剤やシランカップリング剤等を添加してもよい。
　積層フィルム１０において、量子ドット層等の機能層１２の両面には、機能層１２の主面全面を覆うようにガスバリア層１４が積層される。すなわち、積層フィルム１０は、機能層１２をガスバリア層１４で挟持してなる構成を有する。
　ここで、図示例の積層フィルム１０は、好ましい態様として、機能層１２の両面にガスバリア層１４が設けられが、本発明は、これに限定はされない。すなわち、ガスバリア層１４は、機能層１２の一方の面のみに設けてもよい。しかしながら、酸素等の侵入による機能層１２の劣化を、より好適に防止できる等の点で、ガスバリア層１４は、機能層１２の両面に設けるのが好ましい。
　また、ガスバリア層１４を機能層１２の両面に設ける場合には、ガスバリア層１４は、同じものであっても、異なるものであってもよい。
　ガスバリア層１４は、量子ドット層等の機能層１２の主面からの酸素等が浸入することを抑制するための層である。従って、ガスバリア層１４は、高いガスバリア性を有するのが好ましい。具体的には、ガスバリア層１４は、酸素透過度が０．１cc/(m2・day・atm）以下であるのが好ましく、０．０１cc/(m2・day・atm）以下であるのがより好ましく、０．００１cc/(m2・day・atm）以下であるのが特に好ましい。
　ガスバリア層１４の酸素透過度を０．１cc/(m2・day・atm）以下とすることにより、機能層１２の主面から侵入する酸素等による機能層１２の劣化を抑制して、長寿命な量子ドットフィルム等の積層フィルムを得ることができる。
　なお、本発明において、ガスバリア層１４や端面封止層１６等の酸素透過度は、後述する実施例に準じて測定すればよい。
　また、酸素透過度の単位cc/(m2・day・atm）をＳＩ単位に換算すると、９．８７mL/(m2・day・MPa）である。
　ガスバリア層１４は、透明性などの点で十分な光学特性を有し、かつ、目的とするガスバリア性（酸素バリア性）を得られる物であれば、ガスバリア性を発現する公知の材料からなる層（膜）や、公知のガスバリアフィルムが、各種、利用可能である。
　中でも、好ましいガスバリア層１４として、支持体の上（一方の面もしくは両面）に、有機層と無機層とを交互に積層してなる、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムが例示される。
　図２に、ガスバリア層１４の一例の断面を概念的に示す。
　図２に示すガスバリア層１４は、支持体２０の上に有機層２４を有し、有機層２４の上に無機層２６を有し、無機層２６の上に有機層２８を有する。
　このガスバリア層１４（ガスバリアフィルム）において、ガスバリア性は主に無機層２６によって発現される。無機層２６の下層の有機層２４は、無機層２６を適正に形成するための下地層である。最上層の有機層２８は、無機層２６の保護層として作用する。
　なお、本発明の積層フィルムにおいて、ガスバリア層１４として用いられる有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムは、図２に示す例に限定はされない。
　例えば、保護層として作用する最上層の有機層２８を有さなくてもよい。
　また、図２に示す例は、無機層と下地の有機層との組み合わせを１組のみ有するが、無機層と下地の有機層との組み合わせを２組以上有してもよい。一般的に、無機層と下地の有機層との組み合わせの数が多いほど、ガスバリア性は高くなる。
　さらに、支持体２０の上に無機層を形成し、その上に、無機層と下地の有機層との組み合わせを１組以上、有する構成であってもよい。
　ガスバリア層１４の支持体２０としては、公知のガスバリアフィルムで支持体として用いられているものが、各種、利用可能である。
　中でも、薄手化や軽量化が容易である、フレキシブル化に好適である等の点で、各種の樹脂材料（高分子材料）からなるフィルムが好適に利用される。
　具体的には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
　支持体２０の厚さは、積層フィルム１０の厚さや大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。ここで、本発明者の検討によれば、支持体２０の厚さは、１０μｍ～１００μｍ程度が好ましい。支持体２０の厚さを、この範囲にすることにより、軽量化や薄手化、等の点で、好ましい結果を得る。
　なお、支持体２０は、このようなプラスチックフィルムの表面に、反射防止や位相差制御、光取り出し効率向上等の機能が付与されていてもよい。
　ガスバリア層１４において、支持体２０の表面には有機層２４が形成される。
　支持体２０の表面に形成される有機層２４すなわち無機層２６の下層となる有機層２４は、ガスバリア層１４において主にガスバリア性を発現する無機層２６の下地層となるものである。
　このような有機層２４を有することにより、支持体２０の表面の凹凸や、支持体２０の表面に付着している異物等を包埋して、無機層２６の成膜面を、無機層２６の成膜に適した状態にできる。これにより、支持体２０の表面の凹凸や異物の影のような、無機層２６となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、基板の表面全面に、隙間無く、適正な無機層２６を成膜することが可能になる。その結果、酸素透過度が０．１cc/(m2・day・atm）以下のガスバリア層１４を安定して形成できる。
　ガスバリア層１４において、有機層２４の形成材料には、限定はなく、公知の有機化合物が、各種、利用可能である。
　具体的には、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、メタクリル酸－マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリル化合物、などの熱可塑性樹脂、ポリシロキサンや、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。
　中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル硬化性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン硬化性化合物の重合物から構成された有機層２４は、好適である。
　中でも特に、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマやオリゴマの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層２４として好適に例示される。
　その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマやオリゴマの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
　有機層２４の厚さは、有機層２４の形成材料や支持体２０に応じて、適宜設定すればよい。本発明者らの検討によれば、有機層２４の厚さは、０．５～５μｍとするのが好ましく、１～３μｍとするのがより好ましい。
　有機層２４の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、支持体２０の表面の凹凸や、支持体２０の表面に付着した異物を包埋して、有機層２４の表面すなわち無機層２６の成膜面を平坦化できる。有機層２４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層２４が厚すぎることに起因する、有機層２４のクラックや、ガスバリア層１４に起因するカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
　なお、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、複数の有機層を有する場合には、各有機層の厚さは、同じでも異なってもよい。
　有機層２４は、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。
　有機層２４の下層となる無機層２６との密着性を向上するために、有機層２４（有機層２４となる組成物）は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。
　なお、後述する有機層２８も含めて、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、有機層２４を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
　有機層２４の上には、この有機層２４を下地として、無機層２６が成膜される。
　無機層２６は、無機化合物を主成分とする膜で、ガスバリア層１４において、ガスバリア性を主に発現するものである。
　無機層２６としては、ガスバリア性を発現する、酸化物、窒化物、酸窒化物等の無機化合物からなる膜が、各種、利用可能である。
　具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；　窒化アルミニウムなどの金属窒化物；　炭化アルミニウムなどの金属炭化物；　酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物；　窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物；　炭化ケイ素等のケイ素炭化物；　これらの水素化物；　これら２種以上の混合物；　および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
　特に、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物からなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。
　無機層２６の厚さは、形成材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。本発明者らの検討によれば、無機層２６の厚さは、１０～２００ｎｍが好ましく、１０～１００ｎｍがより好ましく、１５～７５ｎｍが特に好ましい。
　無機層２６の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層２６が形成できる。また、無機層２６は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層２６の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
　なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層２６を有する場合には、各無機層２６の厚さは、同じでも異なってもよい。
　無機層２６は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。具体的には、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma　容量結合プラズマ）－ＣＶＤ（chemical vapor deposition）やＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma　誘導結合プラズマ）－ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着など、気相堆積法が好適に例示される。
　無機層を複数有する場合には、各無機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての無機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
　無機層２６の上には、有機層２８が設けられる。
　前述のように、有機層２８は、無機層２６の保護層として作用する層である。最上層に有機層２８を有することにより、ガスバリア性を発現する無機層２６の損傷を防止して、ガスバリア層１４が安定して目的とするガスバリア性を発現することが可能となる。
　この有機層２８は、基本的に、前述の有機層２４と同様のものである。
　ガスバリア層１４の厚さは、積層フィルム１０の厚さ、積層フィルム１０の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
　本発明者らの検討によれば、ガスバリア層１４の厚さは、５～１００μｍが好ましく、１０～７０μｍがより好ましく、１５～５５μｍが特に好ましい。
　ガスバリア層１４の厚さを１００μｍ以下とすることで、ガスバリア層１４すなわち積層フィルム１０が不要に厚くなることを防止できる。また、ガスバリア層１４の厚さを５μｍ以上とすることで、２つのガスバリア層１４の間に機能層１２を形成する際に、機能層１２の厚さを均一にできる点で好ましい。
　なお、図示例においては、機能層積層体１１は、２つのガスバリア層１４と機能層１２とからなる構成としたが、さらに、拡散層、アンチニュートンリング層、保護層、接着層等の、各種の機能を得るための層が積層されていてもよい。
　前述のように、積層フィルム１０は、機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層して、この機能層１２とガスバリア層１４とからなる機能層積層体１１の端面全面を、端面封止層１６で封止してなる構成を有する。
　ここで、図示例の積層フィルム１０は、好ましい態様として、機能層１２とガスバリア層１４とからなる機能層積層体１１の端面全面を、端面封止層１６で封止しているが、本発明は、これに限定はされず、機能層積層体１１の端面の少なくとも、ガスバリア層１４の一部および機能層１２の端面全面を、端面封止層１６で覆っていればよい。
　このように、機能層積層体１１の端面の少なくとも、ガスバリア層１４の一部および機能層１２の端面全面を、ガスバリア性を有する端面封止層１６で覆う構成とすることで、端面から酸素等の浸入によって、量子ドット層等の光学機能を発現する光学機能層１２が劣化することを防止でき、かつ、積層フィルムとしての平坦性を高くできる。
　なお、機能層積層体１１の端面から侵入する酸素等による量子ドットの劣化等、機能層１２の劣化をより好適に防止できる等の点で、端面封止層は、可能な限り大きな面積で機能層積層体１１の端面を覆うのが好ましく、機能層積層体１１の端面全面を覆うのが特に好ましい。
　また、本発明の積層フィルム１０において、端面封止層１６は、機能層積層体１１の端面に垂直な方向における厚さが、機能層積層体１１の主面に垂直な方向における、機能層積層体１１の厚さの１／２以下であるのが好ましい。
　この点について、図３Ａを用いて説明する。
　図３Ａは、端面封止層１６が形成された機能層積層体１１の端部を拡大して示す概略図である。
　図３Ａに示すように、機能層積層体１１の主面に垂直な方向における、機能層積層体１１の厚さをＴとし、機能層積層体１１の端面に垂直な方向における、端面封止層１６の厚さ（最大厚さ）をＲとすると、端面封止層１６の厚さＲは、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下であるのが好ましい。
　ここで、本発明者らの検討によれば、量子ドットを含む機能層積層体は、非常に薄いため、薄い機能層積層体の端面のみに端面封止層を設けるのは難しく、機能層積層体の主面側にも封止層が形成されてしまうおそれがある。
　機能層積層体の主面側に封止層が形成されてしまうと、積層フィルムの平坦性が悪くなり、また、厚さが厚くなってしまう。このような平坦性の悪い積層フィルムを、ＬＣＤ等に組み込む際に、他の光学フィルムと積層すると、積層フィルム自体や他の光学フィルムが湾曲された状態となり、適正な性能を発現できないおそれがある。また、積層フィルムが厚くなってしまうと、ＬＣＤの薄型化にも不利である。
　これに対して、本発明の好適な態様は、機能層積層体１１の端面の少なくとも一部を覆う端面封止層１６の厚さＲが、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下である構成を有する。
　端面封止層１６の厚さＲを、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下とすることで、機能層積層体の主面側に端面封止層１６が形成されるのを抑制し、薄い積層フィルムの端面のみに端面封止層を形成することができる。
　この点について、図３Ａおよび図３Ｂを用いて説明する。
　端面封止層１６を形成する際に、機能層積層体１１の端面に塗布した、端面封止層１６となる塗布組成物は、表面張力により、その断面形状が略半円状に形成される。その際、端面封止層１６の厚さＲを、機能層積層体１１の厚さＴの１／２超に形成するように塗布組成物を塗布すると、図３Ｂに示すように、塗布組成物（端面封止層１６）の断面形状の半円の直径は、機能層積層体１１の厚さＴよりも大きくなる。そのため、塗布組成物が、機能層積層体１１の両主面（ガスバリア層１４の表面）に大きく回り込み、端面封止層１６が機能層積層体１１の両主面に形成されてしまい、端面封止層１６の幅Ｄ（機能層積層体１１の主面に垂直な方向の幅）が機能層積層体１１の厚さＴよりも厚くなってしまう。
　一方、端面封止層１６の厚さＲを、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下に形成するように塗布組成物を塗布した場合には、図３Ａに示すように、塗布組成物（端面封止層１６）の断面形状の半円の直径は、機能層積層体１１の厚さＴよりも小さくなる。そのため、塗布組成物が機能層積層体１１の両主面に回り込みにくくなり、端面封止層１６が機能層積層体１１の両主面に形成されにくくなる。
　したがって、端面から酸素等の浸入を防止して、量子ドット等の光学機能を発現する光学機能層の劣化を防止でき、かつ、平坦性を高くでき、ＬＣＤ等に組み込む際に、フィルムが湾曲することを抑制して他の光学フィルムと適正に積層することができ、また、厚さが厚くなってしまうことを防止できる。
　端面封止層１６は、ガスバリア性を有する材料からなるものであり、具体的には、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下の樹脂層である。本発明の積層フィルム１０は、このような端面封止層１６を有することにより、ガスバリア層１４で覆っていない端面から光学機能層１２に酸素等が侵入して、量子ドット等の光学的な機能を発現する部材を劣化させることを防止する。
　本発明の積層フィルム１０において、端面封止層１６の酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）を超えると、積層体の端面から機能層１２に侵入する酸素等を十分に防止できず、機能層１２が短期間で劣化してしまう。
　この点を考慮すると、端面封止層１６の酸素透過度は、低い方が好ましい。具体的には、端面封止層１６の酸素透過度は５cc/(m2・day・atm）以下が好ましく、１cc/(m2・day・atm）以下がより好ましい。
　なお、端面封止層１６の酸素透過度の下限には、特に限定はなく、基本的に、低い程、好ましい。
　上述のとおり、端面封止層１６の厚さＲは、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下とするのが好ましいが、ガスバリア性の観点からは厚い方が好ましい。したがって、端面封止層１６の厚さＲは、端面封止層１６の形成材料等に応じて、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下で、かつ、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下となる厚さを、適宜、設定すればよい。
　具体的には、平坦性、被覆性、密着性等の観点から、端面封止層１６の厚さＲは、１μｍ～２００μｍが好ましく、１０μｍ～１００μｍがより好ましい。
　端面封止層１６の厚さＲを１μｍ以上とすることにより、積層体の端面を適正に覆える、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下となる端面封止層１６を安定して形成できる、被覆性等の点で好ましい。
　また、端面封止層１６の厚さを２００μｍ以下とすることにより、積層体との密着性を十分に持たせることができる点で好ましい。
　また、図１に示す例では、機能層積層体１１の端面の延在方向に垂直な断面における、端面封止層１６の形状（以下、端面封止層の断面形状ともいう）は、略半円状である構成としたが、これに限定はされず、円の一部からなる形状であってもよく、半楕円形状、半角丸長方形状（半長円形状）、または、これらの形状の一部からなる形状、あるいは、後述の図５Ｂに示すように、略矩形状であってもよい。
　なお、より好適な平坦性を確保する等の観点から、端面封止層１６の形状は、円の一部からなる形状であるのが好ましい。
　また、図１に示す例では、端面封止層１６は１層構成としたが、これに限定はされず、端面封止層１６は、機能層積層体１１の端面に垂直な方向に２層以上を積層した積層構造としてもよい。
　端面封止層１６を２層以上の積層構造とする場合には、付与させたい機能を層毎に分離して付与することで、単層（１層）の場合よりもガスバリア性を向上させることができる。例えば、低湿では酸素透過度が低く、高湿では酸素透過度が高くなるような水溶性素材を１層目に用いる場合、２層目に水分バリア層を付与することで、湿度に関わらず１層目の低い酸素透過度を発現させることが可能となる。あるいは、例えば、酸素透過度が低い層と機能層積層体１１（光学機能層１２）の密着性が悪い場合、酸素透過度が低い層と機能層積層体１１との間に接着層を設ける構成とすることもできる。さらに、接着層と酸素透過度が低い層と、水分バリア層との３層構成としてもよい。
　このような端面封止層１６、すなわち、機能層積層体１１の端面を封止する樹脂層は、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下となる端面封止層１６を形成可能な、公知の各種の樹脂材料によって形成できる。
　ここで、端面封止層１６は、一般的に、主に端面封止層１６すなわち主に樹脂層となる化合物（モノマ、ダイマ、トリマ、オリゴマ、ポリマ等）、必要に応じて添加される架橋剤や界面活性剤などの添加剤、有機溶剤等を含む組成物を調製して、この組成物を端面封止層１６の形成面に塗布し、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって主に樹脂層を構成する化合物を重合（架橋・硬化）して形成するのが好ましい。
　また、本発明の積層フィルム１０において、端面封止層１６を形成する組成物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、水素結合性化合物を３０質量部以上含有するのが好ましく、４０質量部以上含有するのが好ましい。
　なお、組成物の固形分全量とは、組成物から有機溶剤を除いた、形成される端面封止層１６に残るべき成分の全量である。
　端面封止層１６を形成する組成物の固形分が、水素結合性化合物を３０質量部以上含有することにより、分子間の相互作用を強くして、酸素透過性を低くできる等の点で好ましい。
　水素結合とは、分子中で水素原子よりも電気陰性度が高い原子と共有結合している水素原子が、同じ分子中または異なる分子中の原子または原子群との間で引力的相互作用によって作る非共有結合性の結合をいう。
　水素結合性を有する官能基とは、このような水素結合を生じさせることのできる水素原子を含む官能基である。具体的には、ウレタン基、ウレア基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミド基またはシアノ基等が挙げられる。
　これらの官能基を有する化合物としては、具体的には、トリレンジイソシアナート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）、水素添加ＭＤＩ（ＨＭＤＩ）等のジイソシアナートと、ポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートとを反応させて得られるモノマー、オリゴマーが例示される。
　また、エポキシ基を有する化合物に、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールノボラック型等の化合物を反応させて得られるエポキシ化合物や、脂環型エポキシに、アミン化合物、酸無水物等を反応させて得られるエポキシ化合物も例示される。
　さらに、前述のエポキシ化合物のカチオン重合物、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ブテンジオール－ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル等も例示される。
　中でも、硬化収縮が小さく積層フィルムとの密着に優れる観点から、エポキシ基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物を反応させて得られる化合物が好ましい。
　さらに、本発明の積層フィルム１０において、端面封止層１６を形成する組成物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリフッ化ビニリデン樹脂及びポリオキシメチレンからなる群より選択される樹脂組成物、または、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有するのが好ましく、これらの重合性官能基を有する重合性化合物を１０質量部以上含有するのがより好ましい。
　本発明の積層フィルム１０においては、端面封止層１６を形成する組成物の固形分が、（メタ）アクリロイル基等から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有することにより、高温高湿下での耐久性に優れる端面封止層１６を実現できる。
　（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物としては、具体的には、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が例示される。
　また、グリシジル基、オキセタン基、脂環エポキシ基等を有する重合性化合物としては、具体的には、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が例示される。
　また、本発明において、（メタ）アクリロイル基やグリシジル基を有する重合性化合物は、市販品も好適に利用可能である。
　これらの重合性化合物を含む市販品としては、三菱ガス化学社製のマクシーブ、ＥＶＯＮＩＫ社製のＮａｎｏｐｏｘ４５０、Ｎａｎｏｐｏｘ５００、Ｎａｎｏｐｏｘ６３０、荒川化学工業社製のコンポセラン１０２などのシリーズ、東レ・ファインケミカル社製のフレップ、チオコールＬＰ、ヘンケル・ジャパン社製のロックタイトＥ－３０ＣＬなどのシリーズ、Ｅｐｏｘｙ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製のＥＰＯ－ＴＥＸ３５３ＮＤなどのシリーズ等が好適に例示される。
　なお、本発明の積層フィルムにおいて、端面封止層１６を形成する組成物は、必要に応じて、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基を含まない重合性組成物を含有してもよい。
　ただし、端面封止層１６を形成する組成物において、これらの官能基を含まない重合性化合物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、３質量部以下とするのが好ましい。
　本発明の積層フィルム１０において、端面封止層１６には、無機物の粒子（無機化合物からなる粒子）が分散されていてもよい。
　端面封止層１６が無機物の粒子を含有することにより、端面封止層１６の酸素透過度をより低くでき、端面から侵入する酸素等に起因する機能層１２の劣化を、より好適に防止できる。
　端面封止層１６に分散する無機物粒子の大きさには、特に限定は無く、端面封止層１６の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。端面封止層１６に分散する無機物粒子の大きさ（最大長）は、端面封止層１６の厚さ未満であるのが好ましく、特に、小さいほど有利である。
　なお、端面封止層１６に分散する無機物粒子の大きさは、均一でも不均一でもよい。
　端面封止層１６における無機物粒子の含有量は、無機物粒子の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
　本発明者らの検討によれば、端面封止層１６における無機物粒子の含有量は、５０質量％以下が好ましく、１０～３０質量％がより好ましい。すなわち、前述の端面封止層１６を形成する組成物において、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、無機物粒子の含有量が５０質量部以下であるのが好ましく、１０～３０質量部であるのがより好ましい。
　無機物粒子による端面封止層１６の酸素透過度の低減効果は、無機物粒子の含有量が多いほど高くなるが、無機物粒子の含有量を１０質量％以上とすることにより、無機物粒子の添加効果をより好適に得て、酸素透過度が小さい端面封止層１６を形成できる。
　端面封止層１６における無機物粒子の含有量を５０質量％以下とすることにより、端面封止層１６の密着性や耐久性を十分にできる、積層フィルムを裁断や打ち抜きする際にクラックが発生することを抑制できる等の点で好ましい。
　端面封止層１６に分散する無機物粒子としては、具体的には、無機層状鉱物、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、銀粒子、銅粒子等が例示される。
　次に、本発明の積層フィルムの製造方法について説明する。
　本発明の積層フィルムの製造方法は、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体を準備する準備工程と、
　機能層積層体の端面に、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下の端面封止層を形成する封止層形成工程とを有し、
　封止層形成工程は、端面封止層となる組成物の塗膜に、機能層積層体の端面を接触させて端面封止層を形成する製造方法である。
　以下、本発明の積層フィルムの製造方法（以下、本発明の製造方法ともいう）の一例について、説明する。
　まず、準備工程において、機能層積層体１１を準備する。
　機能層積層体１１の作製方法としては、前述のように、まず、支持体２０の表面に塗布法等によって有機層２４を形成し、この有機層２４の表面にプラズマＣＶＤ等によって無機層２６を形成し、無機層２６の表面に塗布法等によって有機層２８を形成して、ガスバリア層１４（ガスバリアフィルム）を作製する。
　このような有機層および無機層の形成は、いわゆるロール・トゥ・ロールによって行うのが好ましい。以下の説明では、ロール・トゥ・ロールをＲｔｏＲとも言う。
　一方で、有機溶剤、マトリクスとなる樹脂を形成する化合物、量子ドット等を含有する、量子ドット層などの機能層１２となる組成物を調製する。
　２枚のガスバリア層１４を用意して、一枚のガスバリア層１４の有機層２８の表面に、この機能層１２となる組成物を、塗布し、さらに、組成物の上に有機層２８を組成物側に向けてもう１枚のガスバリア層１４を積層して、紫外線硬化等を行って、機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した積層体を作製する。
　作製した積層体を所定サイズに切断して、機能層積層体１１を作製する。
　次に、封止層形成工程において、機能層積層体１１の端面に、上述した端面封止層１６を形成する。
　ここで、本発明においては、封止層形成工程は、端面封止層１６となる組成物を、厚さが機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下の塗膜状にして、厚さが機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下の塗膜に機能層積層体１１の端面を接触させて、機能層積層体１１の端面に組成物を塗布し、乾燥、硬化して、端面封止層１６を形成するのが好ましい。
　以下、図４Ａ～図４Ｃを用いて、封止層形成工程の一例について説明する。
　まず、図４Ａに示すように、平板４０（例えば、ガラス板やバット等）上に、端面封止層１６となる組成物の塗膜１７を形成する。この塗膜１７の厚さＨは、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下である。また、塗膜１７の大きさは、機能層積層体１１の１つの端面が全面的に接触可能であれば、特に限定はなく、例えば、塗膜１７の一辺の長さが、機能層積層体１１の端辺の長さよりも長ければよい。
　次に、図４Ｂに示すように、厚さＨが、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下である塗膜１７に、機能層積層体１１の端面を接触させた後、図４Ｃに示すように、機能層積層体１１を鉛直上方に持ち上げることで、機能層積層体１１の端面に所定量の組成物を付着させる。
　塗膜１７の厚さＨが、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下であるので、機能層積層体１１の端面に付着する、端面封止層１６となる組成物の厚さも機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下となる。
　また、機能層積層体１１の端面に付着した組成物の、端面の延在方向に垂直な断面形状は、組成物の表面張力により略円形状となる。
　上記のようにして、機能層積層体１１の全ての端面に、組成物を付着させた後、機能層積層体１１の端面に付着した組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって硬化して端面封止層１６を形成する。
　なお、塗膜１７と機能層積層体１１の端面とを接触させる際には、機能層積層体１１の端面のみを塗膜１７に接触させてもよいが、機能層積層体１１の端部を塗膜１７中に浸漬して、端面と塗膜１７とを接触させてもよい。
　機能層積層体１１の端部を塗膜１７中に浸漬した場合には、機能層積層体１１の主面の端面近傍にも組成物が付着するが、表面張力の作用により端面側に回り込むため、機能層積層体１１の主面上に形成される端面封止層１６の厚さ（機能層積層体１１の主面に垂直な方向の厚さ）が厚くなることはない。
　なお、図４Ｃに示す例では、機能層積層体１１の端面と塗膜１７とを接触させた後、機能層積層体１１を鉛直上方に移動して塗膜１７と機能層積層体１１とを離間させる構成としたが、これに限定はされず、塗膜１７（平板４０）を鉛直下方に移動してもよく、あるいは、機能層積層体１１と、塗膜１７（平板４０）とをそれぞれ移動してもよい。
　また、図４Ｂに示す例では、機能層積層体１１の端面を鉛直下方に向けて塗膜１７と接触させる構成としたが、所定の厚さＨの塗膜１７と接触させることができれば、これに限定はされない。
　また、端面封止層１６の断面形状は、組成物の表面エネルギー（表面張力、接触角）の絶対値の大小に関わらず、機能層積層体１１の端面に塗れさえすれば半円状に形成される。
　また、図４Ａ～図４Ｃに示す例では、１枚の機能層積層体１１の端面を塗膜１７に接触させる構成としたが、これに限定はされず、複数枚の機能層積層体１１をまとめて塗膜１７に接触させる構成としてもよい。
　例えば、機能層積層体１１とスペーサとを交互に積層して、機能層積層体１１同士が離間した状態で、前述と同様にして、端面封止層１６を形成する組成物の塗膜１７に端面を接触させて、各機能層積層体１１の端面に端面封止層１６を形成すればよい。
　あるいは、図５Ａに示すように、複数の機能層積層体１１（例えば１０００枚）を重ねた積層物の端面全面に、前述と同様にして、端面封止層１６Ａを形成し、その後、重ねた機能層積層体１１を、１枚ずつ剥がして、積層フィルム１０を作製してもよい。
　なお、このようにして端面封止層１６を形成した場合には、機能層積層体１１を重ねた積層物の端面に形成される端面封止層１６Ａは、半長円形状に形成される。したがって、積層物の中央付近に積層された機能層積層体１１の端面に形成される端面封止層１６は、図５Ｂに示すように、略矩形状となる。
　また、図４Ａ～図４Ｃに示す例では、封止層形成工程において、組成物の塗膜１７を平板の上に形成し、この塗膜１７に機能層積層体１１の端面を接触させて端面封止層１６となる組成物を機能層積層体１１の端面に塗布する構成としたが、これに限定はされない。
　例えば、図６に示すように、組成物の塗膜を回転するローラ上に形成し、ローラ上の塗膜に、機能層積層体の端面を接触させて端面封止層を形成する構成としてもよい。
　図６に示す装置は、組成物を貯留するタンク５４と、タンク５４から供給される組成物をローラ５０の周面に塗布する塗布部５２と、周面に塗膜を形成されるローラ５０とを有し、回転するローラ５０と同調して機能層積層体１１を所定の方向に搬送しつつ、ローラ５０上の塗膜に機能層積層体１１の端面を接触させて、端面に組成物を付着させる。その後、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって硬化して端面封止層１６を形成する。
　ここで、本発明の製造方法においては、塗膜をローラ５０上に形成し、ローラ５０上の塗膜に機能層積層体１１の端面を接触させて端面封止層１６を形成する場合にも、ローラ５０上に形成される塗膜の厚さを、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下とする。これにより、機能層積層体１１の端面に、厚さＲが、機能層積層体１１の厚さＴの１／２以下の端面封止層１６を形成することができる。
　以上、本発明の積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
　以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。
　［実施例１］
　実施例１として、図１に示すような積層フィルム１０を作製した。
　＜ガスバリア層１４の作製＞
　　＜＜支持体２０＞＞
　ガスバリア層１４の支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡株式会社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。
　　＜＜有機層２４の形成＞＞
　支持体２０の一面に、以下のようにして有機層２４を形成した。
　まず、有機層２４を形成するための組成物を調製した。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、ダイセルサイテック株式会社製）および光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が１５％の組成物を調製した。
　この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、支持体２０の一面に有機層２４を形成した。
　まず、ダイコーターを用いて組成物を支持体２０の一面に塗布した。塗布後の支持体２０を５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ2）を照射することで組成物を硬化して、有機層２４を形成した。
　また、紫外線硬化直後のパスロールにおいて、保護フィルムとして有機層２４の表面にポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、株式会社サンエー科研製、商品名：ＰＡＣ２－３０－Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。
　形成した有機層２４の厚さは１μｍであった。
　　＜＜無機層２６の形成＞＞
　次に、ＲｔｏＲを利用するＣＶＤ装置を用いて、有機層２４の表面に無機層２６（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。
　送出機より有機層２４を形成した支持体２０を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層２４の上にプラズマＣＶＤによって無機層２６を形成した。
　無機層２６の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源は、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。成膜圧力は４０Ｐａとした。
　形成した無機層２６の厚さは５０ｎｍであった。
　なお、単位ｓｃｃｍで表す流量は、１０１３ｈＰａ、０℃における流量（ｃｃ／ｍｉｎ）に換算した値である。
　　＜＜有機層２８の形成＞＞
　さらに、無機層２６の表面に、以下のようにして有機層２８を積層した。
　まず、有機層２８を形成するための組成物を調製した。具体的には、ウレタン結合含有アクリルポリマー（大成ファインケミカル株式会社製、アクリット８ＢＲ５００、質量平均分子量２５０，０００）と光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製イルガキュア１８４）とを用意し、ウレタン結合含有アクリルポリマー：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が１５質量％の組成物を調製した。
　この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、無機層２６の表面に有機層２８を形成した。
　まず、ダイコーターを用いて組成物を支持体２０の一面に塗布した。塗布後の支持体２０を１００℃の乾燥ゾーンを３分間通過させて、有機層２８を形成した。
　これにより、支持体２０の上に有機層２４、無機層２６および有機層２８を形成してなる、図２に示すようなガスバリア層１４を作製した。形成した有機層２４の厚さは１μｍであった。
　なお、ガスバリア層１４は、組成物を乾燥した直後のパスロールにおいて保護フィルムとして有機層２８の表面に先と同じポリエチレンフィルムを貼り付けた後、巻き取った。
　＜機能層積層体の作製＞
　以下の組成を有する、機能層１２としての量子ドット層を形成するための組成物を調製した。
　（組成物の組成）
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）　　１０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）　　　１質量部
・ラウリルメタクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　　０．５４質量部
・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）　０．００９質量部
　量子ドット１、２としては、下記のコア－シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
　・量子ドット１：ＩＮＰ５３０－１０（ＮＮ－ｌａｂｓ社製）
　・量子ドット２：ＩＮＰ６２０－１０（ＮＮ－ｌａｂｓ社製）
　調製した組成物の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。
　この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した機能層積層体１１を作製した。
　２枚のガスバリア層１４を成膜装置の所定位置に装填、通紙した。まず、一枚のガスバリア層の保護フィルムを剥離した後、ダイコーターを用いて組成物を有機層２８の表面に塗布した。次いで、もう一枚のガスバリア層１４から保護フィルムを剥離した後、組成物に有機層２８を向けて、ガスバリア層１４を積層した。
　さらに、機能層１２となる組成物をガスバリア層１４で挟んだ積層体に、紫外線（積算照射量約２０００ｍＪ／ｃｍ2）を照射することで組成物を硬化して機能層１２を形成し、機能層１２の両面にガスバリア層１４を積層した機能層積層体１１を作製した。
　機能層１２の厚さは、４６μｍであり、機能層積層体１１の厚さＴは、１５０μｍであった。
　作製した機能層積層体１１を、刃先角度１７°のトムソン刃を使用して、Ａ４サイズのシート状に切断した。
　＜端面封止層の形成＞
　端面封止層１６を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した。なお、組成は、固形分全体を１００質量部とした際の質量部である。
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（ヘンケル・ジャパン社製、Ｅ－３０ＣＬ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（ヘンケル・ジャパン社製、Ｅ－３０ＣＬ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
　・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　調製した組成物を平板４０上に塗布し、厚さ１００μｍの塗膜１７を形成した。次に、図４Ａ～図４Ｃに示すように、機能層積層体１１の端面を塗膜１７に接触させ鉛直上方に持ち上げて、端面に所定量の組成物を付着させた。その後、８０℃で１０分乾燥、硬化して、端面封止層１６を形成し、積層フィルム１０を作製した。
　作製した積層フィルム１０は、端面封止層１６が機能層積層体１１の端面の全域にわたって、ガスバリア層１４の一部と光学機能層１２を覆っていた。
　形成した端面封止層１６の厚さＲは１００μｍであった。また、端面封止層１６の断面形状は、矩形状であった。
　したがって、機能層積層体１１の厚さと端面封止層１６の厚さの比は、０．６６であった。
　また、２軸延伸ポリエステルフィルム（東レ株式会社製、ルミラーＴ６０）に、端面封止層１６と全く同様にして厚さ１００μｍの酸素透過度測定用サンプルを作製した。次いで、ポリエステルフィルムから酸素透過度測定用サンプルを剥離して、ＡＰＩＭＳ法（大気圧イオン化質量分析法）による測定装置（株式会社日本エイピーアイ社製）を用いて、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で、酸素透過度を測定した。
　その結果、酸素透過度測定用サンプルすなわち端面封止層１６の酸素透過度は、１０cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例２］
　端面封止層１６を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｍ－１００）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１４質量部
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｃ－９３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４６質量部
　・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　また、実施例１と同様にして、端面封止層１６の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は０．４cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例３］
　端面封止層１６を２層構成とし、端面封止層１６を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製し、逐次積層した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　なお、１層目の厚さは９５μｍとし、２層目の厚さは５μｍとし、合計１００μｍとした。
　＜１層目＞
　・ポリビニルアルコール系樹脂（日本合成化学工業株式会社製、ｇポリマー：ＯＫＳ－８０４９）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
　・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
　・２－プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６質量部
　＜２層目＞
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｍ－１００）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６質量部
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｃ－９３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９質量部
　・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７５質量部
　実施例１と同様にして、端面封止層１６の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は０．１cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例４］
　端面封止層１６を３層構成とし、端面封止層１６を形成する組成物として、１層目を実施例３の２層目と同様の組成物とし、２層目を実施例３の１層目と同様の組成物とし、３層目を実施例３の２層目と同様の組成物とした以外は、実施例３と同様にして積層フィルムを作製した。
　なお、１層目の厚さは５μｍとし、２層目の厚さは９５μｍとし、３層目の厚さは５μｍとした。
　［実施例５］
　端面封止層１６の厚みを７５μｍとした以外は、実施例２と同様にして積層フィルムを作製した。
　すなわち、機能層積層体１１の厚さと端面封止層１６の厚さの比は、０．５であった。
　実施例１と同様にして、端面封止層１６の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は０．６cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例６］
　端面封止層１６が機能層積層体１１の端面の全域で、ガスバリア層１４と光学機能層１２を覆う構成とした以外は、実施例２と同様にして積層フィルムを作製した。
　実施例１と同様にして、端面封止層１６の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は０．４cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例７］
　端面封止層１６の断面形状を円弧状にした以外は、実施例５と同様にして積層フィルムを作製した。
　図７Ａに、実施例７の端面封止層１６が形成された機能層積層体１１の端面の正面の光学顕微鏡写真を示し、図７Ｂに、端面封止層１６の断面の光学顕微鏡写真を示す。図７Ｂに示すように、端面封止層１６は、機能層積層体１１の主面側に回り込むことなく、端面に形成されていることがわかる。
　［実施例８］
　端面封止層１６を２層構成とし、端面封止層１６を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製し、逐次積層した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　なお、１層目の厚さは７０μｍとし、２層目の厚さは５μｍとし、合計７５μｍとした。
　＜１層目＞
　・ポリビニルアルコール系樹脂（日本合成化学工業株式会社製、ｇポリマー：ＯＫＳ－８０４９）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６質量部
　・無機層状化合物（コープケミカル株式会社製、ソマシフＭＥ?１００）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４質量部
　・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
　・２－プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６質量部
　＜２層目＞
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｍ－１００）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６質量部
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｃ－９３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９質量部
　・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７５質量部
　実施例１と同様にして、端面封止層１６の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は０．０５cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例９］
　端面封止層１６を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した以外は、実施例５と同様にして積層フィルムを作製した。
　・ポリビニルアルコール系樹脂（日本合成化学工業株式会社製、ｇポリマー：ＯＫＳ－８０４９）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６質量部
　・オルトケイ酸テトラエチルの加水分解物　　　　　　　　　　４質量部
　・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
　・２－プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６質量部
　また、上記オルトケイ酸テトラエチルの加水分解物は以下の組成を有する組成物を５時間攪拌して作製した。
　・オルトケイ酸テトラエチル（東京化成工業株式会社製）　　　６質量部
　・無水酢酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０５質量部
　・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．３質量部
　・エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．６質量部
　［比較例１］
　端面封止層１６を形成しない以外は、実施例１と同様に、積層フィルムを作製した。
　［比較例２］
　端面封止層を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製し、８０℃で１０分乾燥の代わりに紫外線（積算照射量約８００ｍＪ／ｃｍ2）を照射することで組成物を硬化した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　・３官能アクリレートモノマー（ダイセル・サイテック社製、ＴＭＰＴＡ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
　・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア８１９）　　　　３質量部
　実施例１と同様にして、端面封止層の酸素透過度を測定した結果、酸素透過度は２０cc/(m2・day・atm）であった。
　また、比較例２において作製した積層フィルムは、機能層積層体の光学機能層が端面封止層に覆われていない部分があった。
　［評価］
　このようにして作製した実施例１～８、ならびに、比較例１および２の積層フィルムについて、端部の性能劣化（バリア性）、および、フィルムの平坦性を評価した。
　＜バリア性＞
　端部の性能劣化の度合を測定することで端面封止層のバリア性を評価した。
　まず、積層フィルムの初期輝度（Ｙ０）を以下の手順で測定した。市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle（登録商標） Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に積層フィルムを置き、その上に、向きが直交した２枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、積層フィルムおよび２枚のプリズムシートを透過した光の輝度を、導光板の面に対して垂直方向７４０ｍｍの位置に設置した輝度計（ＳＲ３、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定し、積層フィルムの輝度とした。
　次に、６０℃相対湿度９０％に保たれた恒温槽に積層フィルムを投入し、１０００時間保管した。１０００時間後、積層フィルムを取り出し、上記と同様の手順で、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）を測定した。下記式のように、初期の輝度値（Ｙ０）に対する、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）の変化率（ΔＹ）を算出し、輝度変化の指標として、以下の基準で評価した。
　　ΔＹ［％］＝（Ｙ０－Ｙ１）／Ｙ０×１００
　　Ａ：ΔＹ≦５％
　　Ｂ：５％＜ΔＹ＜１５％
　　Ｃ：１５％≦ΔＹ
　＜平坦性＞
　機能層積層体１１の厚さＴ、および、端面封止層１６の幅Ｄ（図３Ｂ参照）をそれぞれ測定し、機能層積層体１１の厚さＴと、端面封止層１６の幅Ｄとの比率に基づいて、以下のように評価した。
　　Ａ：Ｄ≦１．２Ｔ
　　Ｂ：１．２Ｔ＜Ｄ≦１．４Ｔ
　　Ｃ：１．４Ｔ＜Ｄ
　結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記表１に示されるように、本発明の積層フィルムは、比較例１および２に対して、端部の非発光領域が低減されており、端面封止層により酸素、水を遮断することで量子ドット（光学機能層）の劣化を防ぐことができることがわかる。
　実施例２と実施例４との対比、実施例３と実施例８との対比等から、端面封止層の厚さＲが、機能層積層体の厚さの１／２以下とすることで、平坦性を高くできることがわかる。
　以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
　１０　積層フィルム
　１２　光学機能層
　１４　ガスバリアフィルム
　１６、１６Ａ　端面封止層
　２０　支持体
　２４、２８　有機層
　２６　無機層
　４０　平板
　５０　ローラ
　５２　塗布部
　５４　タンク

Claims (9)

  1. 　光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の主面に積層されるガスバリア層とを有する機能層積層体、および、
    　前記機能層積層体の端面の、前記ガスバリア層の少なくとも一部および前記光学機能層を覆って形成される端面封止層、を有し、
    　前記端面封止層は、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下であることを特徴とする積層フィルム。
  2. 　前記端面封止層は、２層以上を積層した積層構造を有することを特徴とする請求項１に記載の積層フィルム。
  3. 　前記機能層積層体の端面に垂直な方向における、前記端面封止層の厚さが、前記機能層積層体の主面に垂直な方向における、前記機能層積層体の厚さの１／２以下である請求項１または２に記載の積層フィルム。
  4. 　前記端面封止層が、前記機能層積層体の端面の全面を覆う請求項１～３のいずれか一項に記載の積層フィルム。
  5. 　前記端面封止層が、固形分全量を１００質量部とした際に、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリフッ化ビニリデン樹脂及びポリオキシメチレンからなる群より選択される樹脂組成物、または、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有する組成物によって形成された、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下の樹脂層である請求項１～４のいずれか一項に記載の積層フィルム。
  6. 　前記機能層積層体の端面の延在方向に垂直な断面における、前記端面封止層の形状が、円の一部からなる形状である請求項１～５のいずれか一項に記載の積層フィルム。
  7. 　光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の主面に積層される、ガスバリア層とを有する機能層積層体を準備する準備工程と、
    　前記機能層積層体の端面に、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下の端面封止層を形成する封止層形成工程とを有し、
    　前記封止層形成工程は、前記端面封止層となる組成物の塗膜に、前記機能層積層体の端面を接触させて前記端面封止層を形成するものであることを特徴とする積層フィルムの製造方法。
  8. 　前記封止層形成工程は、前記組成物の前記塗膜を平板の上に形成し、前記平板の上の前記塗膜に、前記機能層積層体の端面を接触させて前記端面封止層を形成する請求項７に記載の積層フィルムの製造方法。
  9. 　前記封止層形成工程は、前記組成物の前記塗膜を回転するロール上に形成し、ロール上の前記塗膜に、前記機能層積層体の端面を接触させて前記端面封止層を形成する請求項７に記載の積層フィルムの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018055029A (ja) * 2016-09-30 2018-04-05 大日本印刷株式会社 量子ドットシート、バックライト及び液晶表示装置
JP2018120058A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 富士フイルム株式会社 波長変換フィルム
JP2018124164A (ja) * 2017-01-31 2018-08-09 大日本印刷株式会社 光波長変換シートの劣化評価方法、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
WO2018186342A1 (ja) * 2017-04-07 2018-10-11 シャープ株式会社 光学シート、バックライトユニット、光学シートの製造方法、光学シートの製造装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017026375A1 (ja) * 2015-08-10 2017-02-16 富士フイルム株式会社 積層フィルム
EP3765896A1 (en) 2018-03-13 2021-01-20 Apple Inc. Displays with direct-lit backlight units

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09309173A (ja) * 1996-03-21 1997-12-02 Showa Denko Kk イオン伝導性積層物、その製造方法及び用途
JP2004244606A (ja) * 2002-12-16 2004-09-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd 透明バリアフィルム
JP2006272876A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Takiron Co Ltd 導電体
JP2008124154A (ja) * 2006-11-09 2008-05-29 Takiron Co Ltd 電波吸収体
JP2008268842A (ja) * 2006-08-08 2008-11-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板及びその製造方法
WO2009131092A1 (ja) * 2008-04-25 2009-10-29 ソニー株式会社 発光装置、表示装置および色変換シート
JP2012037558A (ja) * 2010-08-03 2012-02-23 Hitachi Chem Co Ltd 調光性構造体
JP2015000967A (ja) * 2013-06-18 2015-01-05 デクセリアルズ株式会社 蛍光体シート
JP2016068556A (ja) * 2014-09-26 2016-05-09 富士フイルム株式会社 積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法
JP2016148689A (ja) * 2013-06-12 2016-08-18 コニカミノルタ株式会社 太陽光反射用パネル

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6982178B2 (en) * 2002-06-10 2006-01-03 E Ink Corporation Components and methods for use in electro-optic displays
US8363299B2 (en) * 2002-06-10 2013-01-29 E Ink Corporation Electro-optic displays, and processes for the production thereof
US8658278B2 (en) * 2005-08-31 2014-02-25 Mitsubishi Plastics, Inc. Gas barrier multilayer film
TWI421607B (zh) * 2006-08-24 2014-01-01 Creator Technology Bv 可撓性裝置上的滲透阻障

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09309173A (ja) * 1996-03-21 1997-12-02 Showa Denko Kk イオン伝導性積層物、その製造方法及び用途
JP2004244606A (ja) * 2002-12-16 2004-09-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd 透明バリアフィルム
JP2006272876A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Takiron Co Ltd 導電体
JP2008268842A (ja) * 2006-08-08 2008-11-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板及びその製造方法
JP2008124154A (ja) * 2006-11-09 2008-05-29 Takiron Co Ltd 電波吸収体
WO2009131092A1 (ja) * 2008-04-25 2009-10-29 ソニー株式会社 発光装置、表示装置および色変換シート
JP2012037558A (ja) * 2010-08-03 2012-02-23 Hitachi Chem Co Ltd 調光性構造体
JP2016148689A (ja) * 2013-06-12 2016-08-18 コニカミノルタ株式会社 太陽光反射用パネル
JP2015000967A (ja) * 2013-06-18 2015-01-05 デクセリアルズ株式会社 蛍光体シート
JP2016068556A (ja) * 2014-09-26 2016-05-09 富士フイルム株式会社 積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018055029A (ja) * 2016-09-30 2018-04-05 大日本印刷株式会社 量子ドットシート、バックライト及び液晶表示装置
JP2018120058A (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 富士フイルム株式会社 波長変換フィルム
WO2018139119A1 (ja) * 2017-01-24 2018-08-02 富士フイルム株式会社 波長変換フィルム
CN110214285A (zh) * 2017-01-24 2019-09-06 富士胶片株式会社 波长转换膜
US10784417B2 (en) 2017-01-24 2020-09-22 Fujifilm Corporation Wavelength conversion film
CN110214285B (zh) * 2017-01-24 2021-08-03 富士胶片株式会社 波长转换膜
JP2018124164A (ja) * 2017-01-31 2018-08-09 大日本印刷株式会社 光波長変換シートの劣化評価方法、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP7043727B2 (ja) 2017-01-31 2022-03-30 大日本印刷株式会社 光波長変換シートの劣化評価方法、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP2022058459A (ja) * 2017-01-31 2022-04-12 大日本印刷株式会社 光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP7342935B2 (ja) 2017-01-31 2023-09-12 大日本印刷株式会社 光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
WO2018186342A1 (ja) * 2017-04-07 2018-10-11 シャープ株式会社 光学シート、バックライトユニット、光学シートの製造方法、光学シートの製造装置

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