KR20170074926A - 안구 건조증을 치료하기 위한 자극 장치 및 방법 - Google Patents

안구 건조증을 치료하기 위한 자극 장치 및 방법 Download PDF

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맨프레드 프랑케
제임스 도널드 로우딘
존 워들
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오큘레브, 인크.
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Abstract

본 명세서에서 안구 건조증, 눈 피로 또는 다른 형태의 안구 불편함, 예컨대 콘택트 렌즈로부터의 불편함을 치료하기 위한 장치 및 이의 사용 방법이 기재된다. 상기 방법은 일반적으로 안구 또는 비강 영역 내에 위치된 하나 이상의 해부학적 구조에 공간적으로 및/또는 일시적으로 패턴화된 자극을 적용하는 것을 포함한다. 전기자극은 눈물샘을 활성화시키는 반사를 일으키거나 또는 눈물샘 또는 눈물샘에 분포하는 신경을 직접적으로 활성화시켜 눈물을 생성할 수 있다. 상기 장치는 이식 가능하거나 또는 휴대용일 수 있고, 기재된 공간적으로 및/또는 일시적으로 패턴화된 자극을 전달하도록 구성될 수 있다.

Description

안구 건조증을 치료하기 위한 자극 장치 및 방법{STIMULATION DEVICES AND METHODS FOR TREATING DRY EYE}
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2014년 10월 22일자로 출원된 미국 가출원 특허 제62/067,416호(발명의 명칭: "STIMULATION PATTERNS")에 대해 우선권을 주장하며, 이 기초출원은 그의 전문이 본 명세서에 참고로 포함된다.
기술분야
본 명세서에서 안구 건조증 또는 눈의 피로를 치료하기 위한 장치 및 이의 사용 방법이 기재된다. 상기 방법은 일반적으로 눈 또는 비강 영역 내에 위치된 하나 이상의 해부학적 구조에 공간적으로 및/또는 일시적으로 패턴화된 자극을 적용하는 것을 포함한다. 전기자극은 눈물샘을 활성화시키는 반사를 일으키거나 또는 눈물샘 또는 눈물샘에 분포하는 신경을 직접적으로 활성화시켜 눈물을 생성할 수 있다.
안구건조증(Dry Eye Disease: "DED")은 수백만명의 전세계 사람들에게 영향을 미치는 병태이다. 북미에서 4천만명 초과의 사람들이 일부 안구 건조증 형태를 가지며, 전세계적으로 수백만 명이 고통받고 있다. DED는 눈 표면의 천연 눈물막의 파괴로부터 초래되고, 안구의 불편함, 시각장애, 및 시력-관련 삶의 질의 감소를 초래할 수 있다. 운전, 컴퓨터 사용, 가사 및 독서와 같은 매일의 활동은 또한 DED에 의해 부정적으로 실행되는 것으로 나타났다. 중증 사례의 DED를 지니는 환자는 각막궤양과 같은 심각한 안구 건강 결함에 대한 위험에 있으며, 중등증-중증 협심증과 비슷한 삶의 질 결함을 경험할 수 있다.
DED는 사실상 진행성이며, 일반적으로 눈 표면 상의 불충분한 눈물 적용범위로부터 초래된다. 이런 불량한 눈물 적용범위는 건강한 기체 교환을 막으며, 눈 표면에 대한 영양소 수송은 세포의 탈수를 촉진시키고, 시야에 대해 불량한 굴절면을 생성한다. 불량한 눈물 적용범위는 전형적으로 하기로부터 초래된다: 1) 눈물샘으로부터의 불충분한 눈물 생산(예를 들어, 폐경기 후 이차적인 호르몬 결핍, 자가면역 질환, LASIK 수술 등), 및/또는 2) 마이봄선의 기능장애로부터 초래된 눈물의 과도한 증발. 결국, 낮은 눈물 용적은 안구 표면의 염증을 포함하는 고삼투압 환경을 야기한다. 이 염증 반응은 표면 세포의 세포자멸사를 유도하는데, 이는 결국 안구 표면 상에서 눈물막의 적절한 분포를 방지하고, 따라서 임의의 주어진 눈물 용적은 덜 효과적으로 제공된다. 더 많은 염증이 이어지고 표면 세포 손상 등을 추가로 야기할 수 있는 경우, 악순환이 시작된다. 추가적으로, 반사적 눈물 활성화를 제어하는 신경 제어 루프가 방해되는데, 눈 표면 내 감각 뉴런이 손상되기 때문이다. 그 결과, 보다 적은 눈물이 분비되고, 질환의 추가 진행을 초래하는 두 번째 악순환이 발생한다(보다 적은 눈물은 신경 세포 손실을 야기하는데, 이는 더 적은 눈물 등을 초래함).
DED에 대한 광범위한 치료가 있지만, 그러나, 이들 치료는 병태의 적합한 치료를 제공하지 않는다. 치료 옵션은 인공눈물 대체물, 연고, 겔, 온열압법, 환경 변경, 국소 사이클로스포린, 오메가-3 지방산 보충물, 누점마개, 및 수분 챔버 고글을 포함한다. 중증의 질환을 지니는 환자는 누점 소작, 전신 콜린성 작용제, 전신 항염증제, 점액 용해제, 자가혈청 눈물, 프로스(PROSE) 공막 컨택트 렌즈 및 눈꺼풀 봉합으로 추가로 치료될 수 있다. 이들 치료 옵션에도 불구하고, DED는 안과학에서 가장 불량하게 치료되는 질환 중 하나로 계속해서 고려되고 있다. 따라서, 안구 건조증에 대해 더 효과적인 치료를 갖는 것이 바람직할 것이다.
본 명세서에서 안구 영역 또는 비강 영역 내에 위치된 해부학적 구조에 대해 한 가지 이상의 병태(예컨대 안구 건조증, 눈 피로, 컨택트 렌즈 착용으로부터의 불편함 감소)를 치료하기 위한 방법이 기재된다. 예시적인 해부학적 구조는 신경, 근육, 점막 조직, 피부 감각 구조, 예컨대 이들 영역 내의 파르시안 혈구(Parcian corpuscle), 메르켈 세포 등을 포함한다. 전기자극은 본 명세서에 기재된 바와 같은 특정 표적에 전달될 때에 일반적으로 눈물샘을 활성화시키는 반사회로를 개시하여 눈물을 생산할 수 있다. 반사회로는 직접적으로 신경의 또는 피부 감각 세포의 자극을 포함할 수 있는데, 이는 결국 신경을 활성화하고, 이어서, 뇌에 대한 감각적 유입 또는, 예를 들어 눈 근처의 근육을 활성화시키는 신경에 대한 운동 유입 중 하나를 생성해서, 결국, 뇌에 대한 감각적 유입 및 눈물샘의 활성화를 위한 반사의 개시를 제공한다. 전기자극은 추가적으로 또는 대안적으로, 본 명세서에 기재된 바와 같은 다른 특정 표적에 전달될 때, 눈물을 생산하기 위해 눈물샘에 분포된 원심성 신경섬유를 직접적으로 구동할 수 있다.
더 구체적으로는, 전기 자극의 전달을 공간적으로 제어함으로써 및/또는 구심성 또는 원심성 유입을 생성하는 전기적 파형의 매개변수를 변형시킴으로써 유루(눈물 생산)를 생성하는 방법이 기재된다. 이들 방법은 일반적으로 특정 경로를 통해 현재의 유동을 지시하고/하거나 시간에 따라 현재의 경로를 변형한다. 상기 방법은 또한 감각 마비, 예를 들어, 간지러운 감각, 경련 및/또는 눈꺼풀 내 및/또는 눈꺼풀, 눈썹 부근의 떨림뿐만 아니라 이마의 측두 및 전두 영역에 대해 파형을 최적화할 수 있다. 본 발명자들에 의한 실험은 이들 감각이 유루와 강하게 관련된다는 것을 발견하였다.
본 명세서에 개시된 자극을 이용하면, 감각 신경이 유루를 생산하기 위해 뇌에 입력을 보내도록 활성화되는 것으로 여겨진다. 추가적으로 또는 대안적으로, 자극은 운동 신경을 활성화시킬 수 있는데, 이는 안와, 코, 입 및/또는 전면 또는 측면 얼굴 부근의 근육이 떨리게 하여 효과로서 따끔거림 또는 경련 또는 떨림 감각을 생산하고, 반사 경로를 개시함으로써 유루를 유도한다.
전기자극을 적용할 때 이식 가능한 또는 휴대용 장치가 사용될 수 있다. 일부 휴대용 변형에서, 상기 장치는 자극기 몸체 및 자극기 프로브를 포함할 수 있다. 자극기 프로브는 자극기 몸체에 해제 가능하게 연결될 수 있고, 일부 예에서, 자극기 몸체는 재사용 가능하며, 자극기 프로브는 일회용이다. 일부 변형에서, 상기 장치는 사용자 인터페이스를 추가로 포함한다. 사용자 인터페이스는 자극의 하나 이상의 매개변수를 조절하기 위해 하나 이상의 작동 기계를 포함할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 사용자 인터페이스는 하나 이상의 피드백 구성요소를 포함할 수 있다.
자극기 프로브를 포함하는 휴대용 변형에서, 자극기 프로브는 하나 이상의 비강 삽입 프롱(nasal insertion prong)을 포함할 수 있고, 자극기 몸체는 자극기 프로브를 통해 환자에게 전달될 자극을 제어하는 제어 서브시스템을 포함할 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 자극기 프로브는 단일 비강 삽입 프롱을 포함하는 반면, 다른 변형에서, 자극기 프로브는 적어도 2개의 비강 삽입 프롱을 포함한다. 자극기 프로브는 적어도 하나의 전극을 포함할 수 있고, 복수의 전극을 포함할 수 있다. 전극은 하이드로겔을 포함할 수 있거나, 또는 다른 변형에서, 전극은 백금, 백금-이리듐, 금 또는 스테인리스강 중 하나 이상을 포함한다. 장치의 일부 변형은 비강 삽입 프롱 상에 위치되지 않은 복귀 접점, 예컨대 자극기 몸체 또는 자극기 프로브 상의 복귀 접점을 포함할 수 있다.
해부학적 구조에 적용되는 전기자극은 일반적으로 파형을 정하는 복수의 파형 매개변수를 포함한다. 전기 자극의 전달은 유루의 증가를 유도함으로써, 또는 흘러나온 눈물의 성분을 변형시킴으로써 DED를 치료하는 것을 도울 수 있고, 환자에 의해 감지되는 감각이상을 생성할 수 있다. 이들 파형은 자극의 적용 동안 및/또는 후에 눈물 출력뿐만 아니라 환자의 편안함을 증가시킬 수 있다. 일부 변형에서, 자극은 2상 펄스 파형인데, 그러나 이는 대칭적일 필요가 없다. 2상 펄스 파형의 주파수는 일부 변형에서 30㎐ 내지 80㎐일 수 있다.
다른 변형에서, 장치는 이식 가능한 마이크로 자극기 및 외부 제어기를 포함할 수 있다. 본 명세서에 기재된 전기자극을 적용하기 위해 사용될 수 있는 예시적인 이식 가능한 장치는 본 명세서에 전문이 참고로 포함된 2012년 4월 6일자로 출원된 미국 특허 출원 제13/441,806호(발명의 명칭: "Stimulation Devices and Methods")에 개시되어 있다. 본 명세서에 기재된 전기자극을 적용하기 위해 사용될 수 있는 예시적인 휴대용 장치뿐만 아니라 추가적인 예시적인 이식 가능한 장치는 본 명세서에 전문이 참고로 포함된 2014년 4월 18일자로 출원된 미국 특허 출원 제14/256,915호(발명의 명칭: "Nasal Stimulation Devices and Methods")에 개시되어 있다.
일반적으로, 본 명세서에 개시된 방법은 눈물샘을 활성화하기 위해 안구 영역 또는 비강 영역 내 해부학적 구조에 전기자극을 적용하는 단계 및 전기자극을 이용하여 눈물 생산을 증가시키는 단계를 포함하며, 여기서 전기자극은 복수의 파형 매개변수에 의해 정해진다. 일부 예에서, 상기 방법은 특정 해부학적 구조(들)를 표적화하기 위해 그리고/또는 시간에 따라 현재의 경로를 변형시키기 위해 자극 전달을 공간적으로 제어하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 방법은 안구 영역 또는 비강 영역에서 감지되는 감각이상을 평가함으로써 눈물샘의 활성화를 확인하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
자극되는 해부학적 구조는 안구 영역 또는 비강 영역 내 신경, 피부 감각 세포(파르시안 혈구, 메르켈 세포 등), 근육 또는 조직, 예컨대 점막 또는 점막하 조직일 수 있다. 예를 들어, 해부학적 구조는 비모양체 신경, 전후 사골신경 신경, 또는 아래-활차신경일 수 있다. 일부 변형에서, 해부학적 구조는 안구 영역 또는 비강 영역 내 근육이다. 일부 변형에서, 해부학적 구조는 안구 영역 또는 비강 영역 내 점막 또는 점막하 조직 표면을 포함한다. 일부 예에서, 해부학적 구조는 압력, 떨림, 따끔거림, 온도 또는 통증과 같은 기계적 입력을 자연적으로 감지하는 비강 또는 안구 평활 피부 내 피부 감각 세포일 수 있다.
본 명세서에 추가로 기재하는 바와 같이, 자극에 대한 전류의 흐름은 공간적으로 제어될 수 있다. 전류는 특정 접점 사이에서 그리고 그에 따라 조직을 통한 특정 경로를 통해 구동될 수 있고, 자극을 공간적으로 패턴화하기 위해 시간에 따라 조직을 통한 상이한 경로를 통해 구동될 수 있다. 전류 스티어링 및/또는 파형 매개변수의 일시적 패턴화는 눈물샘을 활성화하도록 특정 환자에 대해 최적화되어 눈물을 생산할 수 있고, 해당 환자에서 감각이상을 유발할 수 있다. 파형 매개변수 중 적어도 하나가 시간에 따라 변조되는 경우, 전류 스티어링 및/또는 일시적 패터닝은 또한 다른 인자, 예컨대 성장 인자 수준 및/또는 삼투압몰농도를 포함하지만, 이들로 제한되지 않는 임상 마커와 같은 기타 인자에 기반하여 결정될 수 있다.
자극 파형을 정하는 복수의 파형 매개변수는 온/오프 지속기간, 주파수, 펄스폭, 진폭 및 형상으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 다른 적합한 파형 매개변수가 또한 사용될 수 있다. 예를 들어, 진폭과 펄스폭을 곱함으로써 계산될 수 있는 전하 주입은 파형 매개변수로서 사용될 수 있다. 일부 변형에서, 복수의 파형 매개변수는 온/오프 지속기간, 주파수, 펄스폭, 진폭 및 형상으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 온/오프 지속기간은 약 0.1 내지 5.0초 온(on), 및 약 0.1 내지 5.0초 오프(off)의 범위이다. 이들 변형 중 일부에서, 온/오프 지속기간은 1.0초 온, 및 1.0초 오프이다. 이들 변형 중 일부에서, 온/오프 지속기간은 5.0초 온, 및 5.0초 오프이다. 이들 변형 중 일부에서, 주파수는 약 10 내지 200㎐의 범위이다. 이들 변형 중 일부에서, 주파수는 약 30 내지 150㎐의 범위이다. 이들 변형 중 일부에서, 주파수는 약 50 내지 80㎐의 범위이다. 일부 변형에서, 주파수는 30㎐이다. 일부 변형에서, 주파수는 70㎐이다. 일부 변형에서, 진폭은 약 0.1 내지 10㎃의 범위이다. 이들 변형 중 일부에서, 최대 진폭은 약 1 내지 3㎃의 범위이다. 일부 변형에서, 펄스폭 및 진폭은 삼각형, 직사각형 또는 정사각형 형상을 갖는 파형을 생성한다. 일부 변형에서, 전기자극은 연속적으로 적용된다. 다른 변형에서, 전기자극은 온 및 오프 기간을 가진다.
메모리 내에 저장된 복수의 조합을 포함하는 자극기를 이용하여 전류 스티어링 및/또는 공간적 또는 일시적 패터닝의 특정 조합이 적용될 수 있다. 저장된 조합의 선택은 사용자에 의해 무작위, 사전결정 또는 제어될 수 있다. 일부 예에서, 저장된 조합은 환자-최적화된 파형일 수 있다.
치료가 필요한 환자에서 안구 건조증을 치료하는 방법이 본 명세서에 기재된다. 일 변형에서, 환자의 비강 점막을 전극과 접촉시키는 단계, 및 환자의 조직을 통해 전극으로부터의 전류를 복귀 접점에 전달하는 단계를 포함할 수 있으며, 여기서 전극은 자극기의 자극기 프로브의 비강 삽입 프롱 상에 위치되고, 복귀 접점은 자극기의 자극기 몸체 상에 위치되며, 자극기 프로브는 자극기 몸체에 가역적으로 부착될 수 있다. 상기 방법은 환자의 조직을 통해 전극으로부터의 전류를 제2 전극에 전달하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 제2 전극은 비강 삽입 프롱 상에 위치될 수 있다. 일부 예에서, 전류는 전극으로부터 복귀 접점에 그리고 제2 전극에 동시에 전달되고; 다른 예에서, 전류는 전극으로부터 복귀 접점에 그리고 제2 전극에 순차적으로 전달된다. 전극은 전측 비강 내 비강 점막과 접촉할 수 있고, 일부 예에서 비강의 중간 또는 내부 비갑개에 대해 전방 위치에서 비강 점막과 접촉될 수 있다.
또한 본 명세서에서 자극기 몸체 및 자극기 프로브를 포함하는 자극기를 이용하여 안구 건조증을 갖는 환자를 치료하는 방법이 제공되되, 자극기 프로브는 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 비강 삽입 프롱을 포함한다. 상기 방법은 비강 삽입 프롱을 환자의 콧구멍 내로 삽입하는 단계, 제1 전극 및 제2 전극을 환자 격막의 제1 측면 상의 비강 점막과 접촉되도록 위치시키는 단계, 복귀 접점을 환자의 조직과 접촉되도록 위치시키는 단계, 및 제1 전극으로부터 제2 전극까지, 그리고 제1 전극으로부터 복귀 접점까지 전기 자극 파형을 전달하는 단계를 포함할 수 있다. 제1 자극 및 제2 전극은 비강 삽입 프롱의 길이를 따라 길이 방향으로 이격될 수 있거나, 또는 비강 삽입 프롱 원주를 둘러서 방사상으로 이격될 수 있다. 상기 방법의 일부 변형에서, 환자 격막의 제2 측면 상에서 비강 점막과 접촉되도록 위치된 전극이 없고, 전기 자극 파형의 전달은 양측 유루(bilateral lacrimation)를 초래한다.
환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법이 또한 본 명세서에 기재된다. 상기 방법은 적어도 3개의 전기 접점을 포함하는 장치를 이용하여 환자의 조직에 전기 자극을 전달하는 단계를 포함할 수 있되, 전기 자극은 전달 동안 적어도 3개의 전기 접점 사이에서 하나 이상의 경로를 취하고, 전기 자극의 하나 이상의 경로는 전달 동안 시간에 따라 변한다. 전류의 제1 양이 제1 경로를 취하고, 전류의 제2 양이 제2 경로를 취하도록, 전기 자극은 적어도 3개의 전기 접점 사이에 2개의 경로를 취할 수 있다. 일부 예에서, 제1 양 대 제2 양의 비는 전달 동안 시간에 따라 변한다. 상기 비는 일부 경우에 장치의 사용자 인터페이스를 이용하여 환자에 의해 변화될 수 있다. 상기 장치는 이식 가능할 수 있거나, 또는 휴대용일 수 있다. 상기 장치의 일부 변형은 1개의 전극, 2개의 전극 또는 그 이상을 포함할 수 있는 단일 비강 삽입 프롱을 가진다. 장치의 일부 변형은 전류를 전달하기 위해 또는 복귀 접점으로서 작용하도록 구성된 전기 접점을 포함하는 자극기 몸체를 포함한다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 방법은 안구 영역 또는 비강 영역 내 해부학적 구조에 대해 패턴화된 전기자극을 적용하여 눈물샘을 활성화시키는 단계, 및 패턴화된 전기자극을 이용하여 눈물 생산을 증가시키는 단계를 포함하되, 패턴화된 전기자극은 캐소드 방향 및 애노드 방향 펄스쌍을 갖는 2상 파형을 포함한다. 일부 변형에서, 펄스쌍의 서브세트는 리딩 캐소드 방향 펄스를 가지며, 펄스쌍의 서브세트는 리딩 애노드 방향 펄스를 가진다. 일부 변형에서, 각각의 펄스는 지속기간 및 진폭을 가지되, 각각의 펄스에 대한 지속기간 대 진폭의 비는 시간에 따라 가변적이다. 일부 변형에서, 2상 파형은 전하 균형 상태이다. 이들 변형 중 일부에서, 캐소드 방향 펄스에 대한 지속기간 대 진폭의 비는 지수증가 상 및 지수감소 상을 갖는 함수에 따라 시간에 걸쳐 변한다. 이들 변형 중 일부에서, 캐소드 방향 펄스에 대한 지속기간 대 진폭의 비는 톱니 함수에 따라 시간에 따라 변한다. 이들 변형 중 일부에서, 캐소드 방향 펄스에 대한 지속기간 대 진폭의 비는 사인 함수에 따라 시간에 따라 변한다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 방법은 눈물샘을 활성화시키기 위해 대상체의 안구 영역 또는 비강 영역 내에 자극 장치를 이식하는 단계, 자극 장치로부터 패턴화된 전기자극을 적용하는 단계 및 패턴화된 전기자극을 이용하여 눈물 생산을 증가시키는 단계를 포함하되, 눈물 생산은 양측이다. 일부 변형에서, 눈물 생산은 대상체의 양쪽 눈에서 거의 동일하다. 본 명세서에 기재된 방법의 일부 변형은 대상체의 안구 영역 또는 비강 영역에 자극을 전달하여 눈물샘을 활성화시키는 단계 및 패턴화된 전기자극을 이용하여 눈물 생산을 증가시키는 단계를 포함하되, 상기 자극은 전기적 파형이고, 눈물 생산은 양측이다. 일부 변형에서, 자극은 일방적으로 전달된다.
파형의 주파수, 피크 대 피크 진폭, 및 펄스폭은 일정할 수 있지만, 일부 변형에서 자극기는 파형의 주파수, 진폭 및/또는 펄스폭을 변화시키도록 구성될 수 있다. 이 변화는 사전 결정된 계획에 따라 일어날 수 있거나, 또는 주어진 매개변수 내에서 무작위로 일어나도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 일부 변형에서 파형의 피크 대 피크 진폭이 시간에 따라 변하도록(예를 들어, 맥놀이 주파수를 갖는 사인함수, 톱니함수 또는 지수함수에 따라) 파형이 구성될 수 있거나; 일부 변형에서 파형의 주파수가 시간에 따라 변하도록(예를 들어, 사인함수, 톱니함수 또는 지수함수에 따라) 파형이 구성될 수 있거나; 또는 일부 변형에서 파형의 펄스폭이 시간에 따라 변하도록(예를 들어, 사인함수, 톱니함수 또는 지수함수에 따라) 파형이 구성될 수 있다. 일부 변형에서, 가변적 기본 주파수의 직사각형 자극 펄스가 사용된다. 다른 변형에서, 삼각형 자극 펄스가 사용될 수 있고 직사각형 자극 펄스에 대해 기재된 바와 같이 조절될 수 있다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 방법은 유루를 유발하는 방법을 포함한다. 일부 변형에서, 상기 방법은 안구 건조증을 갖는 환자에게 전기 자극을 전달하는 단계를 포함하되, 전기 자극은 휴대용 자극기로부터 전달되고, 전기 자극은 전달 동안 변하는 펄스폭을 갖는 파형을 포함한다. 일부 변형에서, 상기 방법은 휴대용 자극기를 이용하여 안구 건조증을 갖는 환자에게 전기 자극을 전달하는 단계 및 전기 자극을 제1 사전 고정 파형으로부터 제2 사전 고정 파형으로 변화시키는 한편, 전기 자극을 전달하는 단계를 포함하되, 전기 자극은 적어도 제1 사전 고정(preset) 파형 및 제2 사전 고정 파형을 포함하는 복수의 사전 고정 파형 중 하나일 수 있다. 전기 자극은 환자에 의해 제1 사전 고정 파형으로부터 제2 사전 고정 파형으로 변화될 수 있다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 방법은 안구 건조증을 갖는 환자에게 장치를 제공하는 단계, 및 파형의 전달 동안 느껴지는 감각 마비의 양에 기반하여 상기 환자가 복수의 파형 중 하나를 선택하도록 지시하는 단계를 포함하되, 상기 장치는 환자의 해부학적 표적에 대해 복수의 전기적 파형을 전달하도록 구성된다. 이들 변형 중 일부에서, 해부학적 표적은 비강 점막일 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 해부학적 표적은 전사골 신경일 수 있다. 이들 변형 중 다른 것에서, 해부학적 표적은 안구 영역 내일 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 복수의 파형 중 적어도 하나는 시간에 따라 변하는 펄스폭을 가질 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 펄스폭은 지수함수에 따라서 시간에 따라 변할 수 있다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 방법은 패턴화된 파형을 사용함으로써 안구, 안와 또는 비강 영역에서 전기 자극에 대한 환자 순응을 감소시키는 방법을 포함한다.
일부 변형에서 본 명세서에 기재된 방법은 자극 장치를 이식하는 단계, 2상 펄스를 갖는 파형을 전달하는 단계, 및 파형을 변형시킴으로써 상이한 해부학적 구조를 활성화시키는 단계를 포함하는, 상이한 해부학적 구조를 우선적으로 활성화시키는 방법을 포함한다. 일부 변형에서, 파형은 2상 펄스의 진폭을 조절함으로써 변형된다. 일부 변형에서, 파형은 2상 펄스의 캐소드 방향 펄스 및 애노드 방향 펄스의 순서를 조절함으로써 변형된다.
환자의 비강 점막에 전기 자극을 전달하기 위한 장치가 또한 본 명세서에 기재된다. 장치는 비강 삽입 프롱을 포함하는 자극기 프로브를 포함하되, 비강 삽입 프롱의 원위 부분은 제1 전극 및 제2 전극을 포함한다. 제1 전극은 전류를 전달하도록 구성될 수 있다. 상기 장치는 또한 비강 삽입 프롱의 기저에서 자극기 프로브 상에 위치된 복귀 접점을 포함할 수 있고, 또한 환자가 제1 전극과 제2 전극 사이 및 제1 전극과 복귀 접점 사이에 전달된 전류의 양을 조절하도록 구성된 사용자 인터페이스를 포함할 수 있다. 제1 전극, 제2 전극 및/또는 복귀 접점은 하이드로겔을 포함할 수 있다. 일부 변형에서, 복귀 접점은 고리 형상을 가진다. 복귀 접점은 콧구멍에서 또는 근처에서 조직과 접촉하도록 구성될 수 있다.
안구 건조증을 갖는 환자의 비강 점막에 전기 자극을 전달하기 위한 장치는 또한 제1 비강 삽입 프롱, 제2 비강 삽입 프롱 및 사용자 인터페이스를 포함할 수 있다. 제1 비강 삽입 프롱은 첫 번째 콧구멍 내로 삽입되도록 구성될 수 있고, 제1 전극을 포함할 수 있다. 제2 비강 삽입 프롱은 두 번째 콧구멍 내로 삽입되도록 구성될 수 있으며, 제2 전극을 포함할 수 있다. 상기 장치는 2상 전하 균형 펄싱(charge-balanced pulsed) 파형을 전달하도록 구성될 수 있으며, 여기서 사용자 인터페이스는 환자가 파형의 진폭:지속기간 종횡비를 조절하도록 구성된다.
전기 자극 파형을 생성하고 조절하기 위한 시스템이 본 명세서에서 추가로 개시된다. 상기 시스템은 일반적으로 하나 이상의 전극 및 제어기를 포함할 수 있되, 제어기는 복수의 패턴화된 자극 파형을 저장하도록 구성된 프로그램 가능한 메모리를 포함한다. 자극 파형은 감각 마비와 관련될 수도 있고 관련되지 않을 수도 있다. 제어기는 또한 복수의 자극 옵션을 통해 순환하는 프로그램을 실행하도록 구성될 수 있다. 사용자 인터페이스는 환자가 저장된 복수의 자극 중 2 이상을 선택하는 방식으로 포함되고 구성될 수 있다.
일부 변형에서, 자극기는 안구 영역 또는 비강 영역 내 이식을 위해 구성된다. 이들 변형 중 일부에서, 자극기는 점막 표면 상에 또는 점막하 조직 내에 위치되도록 구성된다. 예를 들어, 1, 2, 3개 이상의 활성 전극을 포함할 수 있는 자극기는 또한 비강 또는 부비강 내에 위치되도록 구성될 수 있다. 다른 변형에서, 제어기는 안구 영역 또는 비강 영역에 대해 외부에 위치되도록 구성된다. 일부 변형에서, 전기자극은 비강 또는 부비강 내에 배치된 전극에 의해 적용된다. 일부 변형에서, 패턴화된 전기자극은 눈물샘 근처에 이식된 전극에 의해 적용된다. 일부 변형에서, 시스템은 점막 표면 내 또는 점막하 조직 내에 피부 센서 또는 피부 센서에 분포된 신경 섬유를 활성화시키도록 구성된다. 일부 변형에서, 시스템은 안구 영역, 이마, 또는 머리의 관자놀이 영역의 피부 및 근육과 같은 조직에서 피부 센서 또는 피부 신경에 분포된 신경 섬유를 활성화시키도록 구성된다.
일부 변형에서, 패턴화된 전기자극은 메모리 내에 저장된 복수의 패턴화된 자극 파형을 포함하는 자극기에 의해 적용된다. 이들 변형 중 일부에서, 적용된 패턴화된 자극은 복수의 저장된 패턴화된 자극 파형으로부터 무작위로 선택된다. 이들 변형 중 일부에서, 복수의 저장된 패턴화된 자극 파형은 환자-최적화된 파형이다. 일부 변형에서, 적용된 패턴화된 자극은 환자-최적화된 파형으로서 메모리에 저장된다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 시스템은 하나 이상의 자극 전극 및 제어기를 포함하되, 제어기는 감각 마비와 관련된 복수의 패턴화된 자극 파형을 저장하도록 구성된 프로그램 가능한 메모리를 포함한다. 일부 변형에서, 하나 이상의 자극 전극은 안구 영역 또는 비강 영역 내 이식을 위해 구성된다. 이들 변형 중 일부에서, 제어기는 안구 영역 또는 비강 영역에 대해 외부에 위치되도록 구성된다. 일부 변형에서, 하나 이상의 자극 전극은 점막 표면 상에서 또는 점막하 조직 내에 위치되도록 구성된다. 일부 변형에서, 하나 이상의 자극 전극은 비강 또는 부비강 내에 위치되도록 구성된다.
일부 변형에서, 프로그램 가능한 메모리는 10개까지의 패턴화된 자극 파형을 저장할 수 있다. 일부 변형에서, 시스템은 저장된 복수의 패턴화된 파형 중 하나 이상을 선택하기 위해 사용자 인터페이스를 추가로 포함한다. 일부 변형에서, 제어기는 복수의 파형 매개변수 옵션을 통해 순환하는 프로그램을 실행하도록 구성된다.
일부 변형에서, 본 명세서에 기재된 장치는 사용자 인터페이스를 포함하는 자극기 몸체, 및 전극을 포함하는 비강 삽입 프롱을 포함하는 자극기 프로브를 포함하는 휴대용 자극기를 포함한다. 자극기는 복수의 전기 파형을 전달하도록 구성될 수 있으며, 사용자 인터페이스는 복수의 전기 파형 중 하나의 선택을 위해 구성될 수 있다. 각각의 파형은 시간에 따라 변조되는 펄스 형상, 최대 진폭, 펄스폭, 또는 주파수 중 적어도 하나를 가질 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 각각의 파형은 시간에 따라 변조되는 펄스 형상, 최대 진폭, 펄스폭 또는 주파수 중 적어도 둘을 가진다. 일부 변형에서, 각각의 파형은 시간에 따라 변조되는 펄스 형상을 가진다. 일부 변형에서, 파형은 2상 전류 제어 파형을 포함하는 제1 기간, 및 전류 제어상 다음에 전압 제어상을 포함하는 제2 기간을 포함한다.
도 1은 말초 신경계의 다양한 신경절 및 신경계의 핵에서
가공된 감각 생산물 작용의 제안된 경로를 도시한 도면.
도 2A 내지 2C는 예시적인 이식 가능한 마이크로 자극기의 도시를 도시한 도면.
도 3은 이식 가능한 마이크로 자극기에 대한 예시적인 외부 제어기를 도시한 도면.
도 4a 내지 도 4c는 예시적인 휴대용 자극기를 도시한 도면.
도 5A 내지 도 5C는 예시적인 파형을 도시한 도면.
도 6A 내지 도 6D는 시간에 따른 예시적인 진폭 변화를 도시한 도면.
도 7A 내지 도 7D는 시간에 따른 예시적인 펄스폭 변화를 도시한 도면.
도 8은 지수함수에 따라 증가 및 감소하는 펄스폭을 정하는 예시적인 함수를 도시한 도면.
도 9는 환자-최적화된 파형을 결정함에 있어서 사용되는 방법을 도시하는 흐름도를 도시한 도면.
도 10은 예시적인 형상 조절을 도시한 도면.
도 11은 예시적인 펄스폭 변조를 도시한 도면.
도 12A 내지 도 12E는 진폭 및 주파수 파형 매개변수의 예시적인 변조를 도시한 도면.
도 13a 내지 도 13e는 시간에 따라 동시에 변조된 다수 매개변수를 나타내는 예시적인 파형을 도시한 도면.
도 14a는 30㎐(비패턴화)에서 적용된 자극에 의해 느껴지는 감각이상을 도시한 도면. 도 14b는 파형 패턴화에 의해 얻어지는 예시적인 이동 감각이상을 도시한 도면. 도 14c는 파형 패턴화에 의해 얻어지는 다른 예시적인 이동 감각이상을 도시한 도면. 도 14d는 파형 패턴화에 의해 느껴지는 감각이상을 도시한 도면.
도 15는 기저 눈물로부터의 눈물 결과(좌측, 자극 없음)를 30㎐ 비-패턴화된 파형 자극(중간)에 대해, 패턴화된, 환자-최적화된 자극 파형(우측)에 대해 비교하는 막대 차트 다이어그램을 도시한 도면.
도 16a는 자극이 없고, 30㎐ 비-패턴화된 자극을 지니고, 환자-특이적 패턴화된 파형을 지니는 양측 셔머(Schirmer) 스코어를 도시한 도면. 도 16b는 자극이 없고, 30㎐ 비-패턴화된 자극을 지니고, 환자-특이적 패턴화된 파형을 지니는 대측성 셔머 스코어를 도시한 도면.
도 17A 내지 도 17B는 30㎐ 비-패턴화된 자극(17A) 및 환자-특이적 패턴화된 파형(17B)에 대한 양측 반응을 도시한 도면.
도 18은 토끼에서 좌전신경 영역에 대한 셔머 스코어를 도시한 도면.
도 19A 내지 도 19B는 예시적인 비강 삽입 프롱의 원위 부분을 도시한 도면.
도 20은 2개의 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 비강 자극기의 원위 부분을 도시한 도면.
도 21A 내지 도 21B는 단일 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 비강 자극기의 투시도를 도시한 도면.
도 22A는 예시적인 비강 삽입 프롱의 원위 부분을 도시한 도면. 도 22B는 도 22A의 비강 삽입 프롱의 횡단면도를 도시한 도면.
도 23A는 2개의 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 비강 자극기의 원위 부분을 도시한 도면. 도 23B는 도 23A의 휴대용 비강 자극기의 컷-어웨이(cut-away) 도면을 도시한 도면.
도 24는 단일 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 비강 자극기의 투시도를 도시한 도면.
도 25는 예시적인 비강 삽입 프롱의 원위 부분을 도시한 도면.
도 26은 단일 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 비강 자극기의 투시도를 도시한 도면.
도 27A 내지 도 27C, 도 28A 내지 도 28B, 및 도 29A 내지 도 29B는 복귀 접점을 갖는 예시적인 휴대용 비강 자극기의 투시도를 도시한 도면.
도 29C 내지 도 29E는 도 29A 내지 도 29B의 휴대용 비강 자극기의 구성의 개략도를 도시한 도면.
도 30A는 2개의 비강 삽입 프롱을 포함하는 예시적인 휴대용 자극기를 도시한 도면. 도 30B 내지 도 30E는 도 30A의 자극기 전극 사이에서 전류가 구동될 수 있는 방법의 변형을 도시한 도면.
도 31은 단일 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 자극기의 전극과 복귀 접점 사이에서 전류가 구동될 수 있는 방법을 도시한 도면.
도 32a 내지 도 32b는 2개의 비강 삽입 프롱을 갖는 예시적인 휴대용 자극기의 전극 사이에서 전류가 유도될 수 있는 방법을 도시한 도면. 도 32c는 도 32a 내지 도 32b의 자극기의 전기 회로망 부분의 개략적 도시를 도시한 도면. 도 32d는 도 32a 내지 도 32b의 자극기의 전기 회로망의 대안의 구성의 일부의 개략적 도시를 도시한 도면.
도 33은 전극 사이에서 전류가 향할 수 있는 방법의 도시와 함께 도 23A 내지 도 23B의 자극기의 컷어웨이 도면을 도시한 도면.
본 명세서에서 안구 영역 또는 비강 영역 내에 위치된 해부학적 구조에 대해 한 가지 이상의 병태(예컨대 안구 건조증, 눈 피로, 컨택트 렌즈 착용으로부터의 안구 불편함)를 치료하기 위한 장치, 시스템 및 방법이 기재된다. 구체적으로, 본 명세서에 개시된 방법은 일반적으로 눈물샘을 활성화하기 위해 안구 영역 또는 비강 영역 내 해부학적 구조에 전기자극을 적용하는 단계를 포함하며, 여기서 전기자극은 복수의 파형 매개변수에 의해 정해진다. 전기자극은 자극의 전달 동안 또는 전달 후에 증가된 눈물 생산과 같은 효과를 초래할 수 있다.
일반적으로, 본 명세서에 개시된 방법은 신경, 근육(따라서 간접적으로 감각 정보를 다시 중추 신경계로 제공하는 근방추 및 골지건 수용체를 통한 신경), 및/또는 눈의 안와의 샘 또는 비강 점막 및 하부 점막을 전기적으로 자극하는 단계를 포함한다. 해당 접근을 이용하여, 신경 조직은 일부 방식으로 활성화될 수 있다. 예를 들어, 도 1에 대해, 본 발명자들은 비강내 위치(102)에서 또는 안구 위치(104)에서의 활성화가 전극이 신경을 직접적으로 활성화한다면 작용 퍼텐셜은 활성화 지점으로부터 역방향성 및 정방향성으로 실행되는 것을 야기하며, 샘 및 근육이 뇌에 대한 감각 입력을 야기하도록 활성화된다면, 구심성 신경 상에서 정방향으로 실행되는 것을 야기한다는 가설을 세운다. 뇌에 대한 감각 입력은 화살표(106, 108, 110 및 112)에 의해 나타내는 바와 같이 도중에 몇몇 신경절을 통과한 후에 뇌교 내 누핵에 도달된다. 본 명세서에서 신경 연산 및 데이터 감소는 정보가 대뇌 내 감각 피질 영역으로 추가로 전달되기 전에 각각의 신경절에서뿐만 아니라 뇌교 내 핵에서 일어날 가능성이 있다. 따라서, 신경 조직의 활성화는 입력에 반응하도록 직접적으로 또는 간접적으로 중추 신경계(예를 들어, 뇌, 척수, 잠재적으로 말초 신경계 내 신경절)에서의 순환을 야기할 수 있다. 이어서, 뇌줄기(118)로부터의 출력물은 화살표(114)로 나타내는 바와 같이 눈물샘으로 피드백을 보낼 수 있다.
예시적인 자극기
본 명세서에 기재된 자극 파형은 이식 또는 비이식(예를 들어, 휴대용) 자극기를 통해 전달될 수 있다.
예시적인 이식 가능한 마이크로자극기
본 명세서에 기재된 자극 파형이 이식 가능한 자극기를 이용하여 적용될 때, 자극기는 하우징 및 상기 하우징에 연결된 상보적 가요성 연장부를 포함하여 일원화 마이크로 자극기를 형성하는 마이크로 자극기를 포함한다. 예를 도 2A 내지 도 2C에 나타낸다. 거기에 나타내는 바와 같이, 마이크로 자극기(200)는 하우징(202) 및 상기 하우징(202)에 연결된 가요성 연장부(204)를 포함할 수 있다. 하우징(202)은 밀봉될 수 있고, 그 안에 일부 또는 모든 자극 전기 회로망을 수용할 수 있다. 마이크로 자극기(200)는 임의의 적합한 자극 회로, 예컨대 전문이 이미 참고로 포함된 미국 특허 출원 제13/441,806호에 기재된 것을 포함할 수 있다. 하우징(202)은 하나 이상의 금속(예를 들어, 티탄) 또는 다른 생체 적합성 물질로부터 형성될 수 있다.
연장부(204)는 가요성 물질, 예컨대 실리콘으로부터 형성될 수 있고, 제1 전극(206), 제2 전극(208), 및 코일(210)을 포함할 수 있다. 2개의 전극을 갖는 것으로 나타났지만, 이식 가능한 자극기는 소수(예를 들어, 1개) 이상의(예를 들어, 3, 4, 5, 6개 이상의) 전극을 가질 수 있다. 이식 가능한 자극기가 복수의 전극을 포함할 때, 조직을 통한 전류 경로는 다양한 전극에 대해/전극으로부터 전류를 전달함으로써 제어될 수 있는데, 이는 시간에 따라 변할 수 있다. 일부 변형에서, 연장부(204)는 몰딩 성분, 예컨대 몰딩 실리콘일 수 있다. 연장부 및 하우징이 함께 도 2A 내지 도 2B에 나타내는 바와 같이 일원화된 형상을 갖도록, 연장부는 하우징에 대해 대응하며 상보성인 형상을 가질 수 있다. 가요성 연장부(204)는 조직 내에 이식될 때 해부학적 구조의 하나 이상의 부분(예를 들어, 안와 또는 눈물샘)에 일치될 수 있다. 도 2B는 마이크로 자극기(200)의 측면도를 나타낸다. 거기에 나타내는 바와 같이, 연장부(204)의 두께는 하우징(202) 두께 미만일 수 있고, 하우징(202) 두께로 증가될 수 있다. 추가적으로, 연장부(204)의 폭은 하우징(202)의 폭보다 더 커지는 것으로 도 2A에 나타내는 바와 같으며, 하우징(202)의 두께로 감소될 수 있다.
전극(206 및 208) 및 코일(210)은 피드스루(feedthrough)를 통해 마이크로 자극기 전기 회로망에 연결될 수 있다. 예를 들어, 도 2C는 연장부(204)가 제거된 하우징(202)의 투시도를 나타낸다. 거기에 나타내는 바와 같이, 하우징(202)은 하우징(202)을 통해 연장되는 복수의 피드스루(212)를 포함할 수 있다. 하나 이상의 구성요소(예를 들어, 전극(206 또는 208) 또는 코일(210) 중 하나)는 피드스루(212)에 대한 연결에 의해 밀봉된 자극 전기 회로망에 전기적으로 연결될 수 있다. 추가적으로, 일부 피드스루(212)는 하우징(202)으로부터 피드스루(212)를 전기적으로 격리시킬 수 있는 절연 부재(214)를 포함할 수 있다. 본 명세서에 기재된 전기적 자극을 전달할 수 있는 이러한 그리고 다른 이식 가능한 자극기는 전문이 참고로 포함된 미국 특허 출원 제13/441,806호; 및 전문이 이전에 참고로 포함된 미국 특허 출원 제14/256,915호에 기재되어 있다.
자극기가 이식 가능한 마이크로 자극기일 때, 시스템은 전력, 정보 등을 전송 및/또는 수신하기 위해 마이크로 자극기와 통신할 수 있는 제어기를 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 자극 시스템이 패시브(passive) 자극 회로(또는 배터리 또는 내부 전원공급기를 달리 포함하지 않는 자극 회로)를 갖는 마이크로자극기를 포함하는 변형에서, 제어기 신호는 제어기의 출력 신호를 통해 자극기에 전력을 공급할 수 있다. 제어기는 마이크로 자극기와 무선으로 및/또는 유선 연결을 통해 통신할 수 있다. 제어기는 신체 내에 이식용으로 구성될 수 있거나, 또는 신체에 대해 외부에 남아 있도록 구성될 수 있다. 제어기는 일회용일 수 있거나, 재사용 가능할 수 있거나, 또는 부분적으로 재사용 가능할 수 있다. 일부 예에서, 제어기는 재충전 가능할 수 있다.
도 3은 예시적인 외부 제어기를 도시한다. 거기에 나타내는 바와 같이, 자극 시스템(300)은 휴대용 장치를 포함하는 제어기(302)를 포함한다. 제어기(302)는 이식된 마이크로 자극기(306) 근처로 운반될 수 있고, 이식된 마이크로 자극기(306)에 의해 수신된 출력 신호(308)를 생성할 수 있다. 이식된 마이크로 자극기는 결국 본 명세서에 더욱 상세하게 기재하는 바와 같은 해부학적 표적을 자극하기 위해 사용되는 자극 신호(310)를 생성할 수 있다. 본 명세서에 기재된 전기 자극을 전달하기 위해 사용될 수 있는 이런 그리고 다른 제어기는 전문이 이전에 참고로 포함된 미국 특허 출원 제13/441,806호에 기재되어 있다.
마이크로 자극기의 길이 및 폭은 눈물샘 상에서, 부분적으로 눈물샘 내에 또는 눈물샘 근처에서, 또는 목적으로 하는 조직, 예컨대 자극될 것이 요망되는 눈물샘 또는 신경(예컨대, 이하로 제한되는 것은 아니지만, 비모양체 신경 또는 전사골 신경) 근처에서 마이크로 자극기의 일부의 배치를 허용하도록 선택될 수 있다. 이들 이식 위치 중 일부는 전문이 이전에 참고로 포함된 미국 특허 출원 제13/441,806호에서; 전문이 이전에 참고로 포함된 미국 특허 출원 제14/256,915호에서; 전문이 본 명세서에 참고로 포함된 2014년 3월 12일자로 출원된 미국 특허 출원 제14/207,072호(발명의 명칭: "Implant Delivery Devices, Systems, and Methods")에서 더욱 상세하게 기재된다.
마이크로 자극기는 전달 시스템을 이용하여 환자 내로 주사될 수 있다. 전달 시스템은 삽입 장치(예컨대, 마이크로 자극기에 제거 가능하게 부착될 수 있는 도관, 샤프트 등) 및/또는 절개 도구를 포함할 수 있다. 일부 변형에서, 삽입 장치는 12 또는 더 큰 게이지의 바늘이다. 다른 변형에서, 삽입 장치는 캐뉼라를 포함한다. 일부 변형에서, 삽입 장치는 피스톤 조립체를 포함할 수 있는데, 이는 일부 변형에서 스프링으로 움직이는 것일 수 있다. 마이크로 자극기는 삽입 장치 내로 장착될 수 있고, 삽입 장치는 삽입 경로에 삽입될 수 있다. 마이크로 자극기가 안구 영역 내로 이식된 일부 변형에서, 눈 모서리에서의 해부학적 지표를 이용하여, 전달 장치(예를 들어, 바늘)가 눈물샘에 근접하여 위치될 수 있고, 마이크로 자극기는 전달 장치를 이용하여 배치될 수 있다. 해부학적 지표는 외안각, 눈꺼풀 가장자리, 눈물샘의 안검엽, 안와골연, 안와의 위 - 외측면 상의 골 돌출부, 혈관상 등을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 일부 변형에서, 마이크로 자극기는 눈꺼풀을 들어올림으로써, 눈꺼풀 하의 결막을 통해 삽입 경로를 형성함으로써, 그리고 마이크로 자극기를 삽입 경로 내로 진행시킴으로써 이식될 수 있다. 삽입 경로는 해부 도구를 이용하여 형성될 수 있다. 일부 변형에서, 삽입 경로는 삽입 도구의 해부 구성요소를 이용하여 형성될 수 있다. 일부 변형에서, 삽입 경로는 골막과 안와골 사이에 형성될 수 있다. 다른 변형에서, 삽입 경로는 골막과 눈물샘 사이에 형성될 수 있다. 마이크로 자극기는 최소 침습성 회수를 용이하게 하기 위한 하나 이상의 특징을 가질 수 있다. 이전에 전문이 참고로 포함된 미국 특허 출원 제14/207,072호는 본 명세서에 기재된 마이크로 자극기를 이식하기 위해 사용될 수 있는 삽입 장치의 다양한 변형을 기재한다.
예시적인 휴대용 자극기
본 명세서에 기재된 자극기는 또한 휴대용일 수 있다. 휴대용 자극기는 자극기 몸체 및 자극기 프로브를 포함할 수 있다. 자극기 프로브는 대상체의 콧구멍 내로 삽입되도록 구성된 적어도 하나의 비강 삽입 프롱을 포함할 수 있다. 자극기 몸체는 비강 삽입 프롱을 통해 대상체에게 전달될 수 있는 자극을 생성하도록 구성될 수 있다. 자극기 몸체는 함께 자극을 생성하고 제어할 수 있는 제어 부시스템 및 전력원을 포함할 수 있다.
휴대용 자극기의 일 변형을 도 4a 내지 도 4c에 나타낸다. 이들 도면은 각각 휴대용 자극기(400)의 투시도, 컷 어웨이 뒷면 및 컷 어웨이 측면도를 나타낸다. 자극기(400)는 자극기 몸체(402) 및 자극기 프로브(404)를 포함한다. 자극기 몸체(402)는 전면 하우징(438), 후면 하우징(440) 및 근위 하우징(442)을 포함하는데, 이는 함께 끼워져서 몸체 공동부(454)를 정할 수 있다. 몸체 공동부(454)는 제어 부시스템 및 전력원(452)을 수용할 수 있다.
자극기 몸체는 이하에 더 상세하기 기재하는 바와 같이, 자극의 하나 이상의 매개변수를 조절하기 위해 하나 이상의 작동 기계를 포함하는 사용자 인터페이스를 포함할 수 있다. 작동 기계는 프로세서, 메모리 및/또는 자극 부시스템을 포함할 수 있는, 제어 부시스템에 정보를 제공할 수 있다. 일부 변형에서, 작동 기계는 도 4a 및 도 4c에서 (414 및 416)으로서 예시를 위해 도시된 바와 같은 제1 버튼 및 제2 버튼을 포함할 수 있다. 일부 변형에서, 제1 버튼을 누르는 것은 자극기를 켜고/켜거나 자극 파형을 변화시킬 수 있는 한편, 제2 버튼을 누르는 것은 자극기를 끄고/끄거나 자극 파형을 변화시킬 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 사용자 인터페이스는 하나 이상의 피드백 구성요소(예를 들어, 빛, 소리, 진동 등에 기반함)를 포함할 수 있다. 도 4a에 나타내는 바와 같이, 사용자 피드백 구성요소는 사용자에게 정보를 제공할 수 있는 지시기(418)로서 나타내는 광-기반 지시기를 포함할 수 있다. 이들 특징은 본 명세서에 포함된 각각의 휴대용 자극기 장치에 존재할 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
본 명세서에 기재된 각각의 휴대용 자극기에 대해, 일부 변형에서 자극기 몸체 및 자극기 프로브는 가역적으로 부착 가능할 수 있다. 일부 또는 모든 자극기는 일회용일 수 있고, 일부 또는 모든 자극기는 재사용 가능할 수 있다. 예를 들어, 자극기 프로브가 자극기 몸체에 해제 가능하게 연결되는 변형에서, 자극기 몸체는 재사용가능할 수 있고, 자극기 프로브는 일회용이며, 주기적으로 대체될 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 상기 장치는 자극기 몸체로부터 분리된 후에 자극기 프로브가 자극기 몸체에 재연결될 때에 대상체에 대한 자극 전달을 방지하는 불능화 기계를 포함한다. 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 장치는 자극기 몸체로부터 분리된 후에 자극기 프로브가 자극기 몸체에 재연결되는 것을 방지하는 폐쇄 기계를 포함할 수 있다. 일부 변형에서, 상기 장치는 분리 가능한 보호 캡을 추가로 포함한다. 본 명세서에 기재된 자극기는 전문이 이전에 포함된 미국 특허 출원 제14/256,915호에서 더욱 상세하게 기재되는 바와 같은 추가적인 특징을 가질 수 있다.
본 명세서에 기재된 각각의 휴대용 자극기에 대해, 자극기 프로브는 적어도 하나의 비강 삽입 프롱을 포함할 수 있다. 도 4a 내지 도 4c에 나타낸 휴대용 자극기 변형에서, 예를 들어, 자극기 프로브(404)는 2개의 비강 삽입 프롱(406 및 408)을 포함할 수 있다. 비강 삽입 프롱은 환자의 콧구멍 내로 삽입될 때 자동 조심(self-aligning)일 수 있다. 자극기 프로브(404)는 릿지(420)를 추가로 포함할 수 있는데, 이는 환자가 프로브(404)를 더 용이하게 잡게 할 수 있다. 비강 삽입 프롱은 환자의 비강 내로 적어도 부분적으로 삽입되도록 구성될 수 있다. 비강 삽입 프롱은 자극기 프로브의 기저 부재로부터 연장될 수 있고, 그의 원위 단부에서 원위 부분을 갖는 세장형 부분을 포함할 수 있다. 비강 삽입 프롱의 길이는 바람직하게는 프롱이 환자 범위에서 목적으로 하는 자극 위치(예를 들어, 비주 위의 비강 점막, 예컨대 비강골과 상부 외측 연골 사이의 계면 근처)에 도달할 수 있도록 충분히 길다. 비강 삽입 프롱은 사용자의 비강 내로 삽입될 때 목적으로 하는 자극 위치에 대해 비강 삽입 프롱이 자동 조심하도록 그리고/또는 보통의 사용 및 삽입 동안 및/또는 갑작스런 움직임(예를 들어, 재채기) 동안 비강 조직에 대해 비외상성이 되도록 하기 위해 가요성 물질(예를 들어, 가요성 중합체, 예컨대 열가소성 탄성중합체(예를 들어, 열가소성 탄성중합체 합금(예를 들어, 버사플렉스(Versaflex)(상표명)), 열가소성 폴리우레탄 등), 실리콘 등)을 포함할 수 있다. 이는 또한 사용자에 대한 편안함을 개선시킬 수 있다. 일부 변형에서, 상기 물질의 목적으로 하는 경도는 약 40D 내지 약 90D, 약 50D 내지 약 80D, 약 60D 내지 약 70D, 또는 약 65D일 수 있다. 비강 조직에 대해 비외상성일 수 있는 물질 특성을 갖는 것에 추가로, 코 내로의 프롱의 전진 동안 조직 손상의 위험을 최소화시키기 위한 둥근 모양의 에지를 갖는 비강 삽입 프롱의 원위 팁이 바람직할 수 있다.
일부 변형에서, 원위 부분은 윈위 부분에 대해 근위인 프롱의 세장형 부분의 직경(또는 가장 큰 횡단면 직경)보다 더 큰 직경(또는 가장 큰 횡단면 직경)을 가질 수 있다. 이는 원위 부분의 일부(예를 들어, 이하에 기재하는 하나 이상의 전극)가 대상체의 조직과 접촉하도록 허용할 수 있는 반면, 세장형 부분은 대상체의 조직과 접촉되지 않는다. 예를 들어, 원위 부분에서 비강 삽입 부분의 직경은 일부 예에서 약 3㎜ 내지 약 7㎜일 수 있는 반면, 세장형 부분의 직경은 원위 부분에 대해 약 1㎜ 내지 약 6㎜일 수 있다. 더 구체적으로는, 일부 변형에서 비강 삽입 프롱의 직경은 약 5㎜일 수 있고, 세장형 부분의 직경은 약 3㎜일 수 있다. 세장형 부분의 근위 부분은 자극기 프로브의 기저 부재에 대해 바깥쪽으로(즉, 증가되는 직경 또는 가장 큰 횡단면 치수를 가짐) 터질 수 있는데, 이는 일부 변형에서 비강 삽입 프롱이 사용자의 코 내로 전진할 수 있는 거리를 제한하는 중단부로서 작용할 수 있다.
각각의 비강 삽입 프롱은 적어도 하나의 전극을 포함할 수 있다. 전문이 이전에 참고로 포함된 미국 특허 출원 제14/256,915호에서 더욱 상세하게 기재되는 바와 같이 전기 자극이 리드(lead)를 통해, 그리고 전극을 통해 제어 부시스템으로부터 이동될 수 있도록 각각의 전극은 제어 부시스템 및 전력원에 직접적으로 또는 간접적으로 연결될 수 있는 리드에 연결될 수 있다.
전극은 임의의 적합한 설계를 가질 수 있다. 예를 들어, 전극은 기둥면의 원호를 포함할 수 있고, 타원면, 구체, 타원형 등일 수 있다. 전극은, 예컨대 약 1㎜ 내지 약 10㎜, 약 3㎜ 내지 약 7㎜, 약 5㎜, 또는 약 10㎜ 초과의 임의의 적합한 길이를 가질 수 있다. 전극은 비강 삽입 프롱의 임의의 적합한 길이방향 부분 상에 위치될 수 있고, 복수의 전극을 포함하는 비강 삽입 프롱에 대해, 비강 삽입 프롱을 따라 이격될 수 있다. 프롱을 따른 전극의 위치는 자극기 프로브가 코 내로 전잔할 때 조직에 대한 전극의 위치를 적어도 부분적으로 결정할 수 있다. 일부 변형에서, 전극은 프롱을 따라서 중간 위치에 위치될 수 있다. 전극은 프롱의 원위 팁으로부터 임의의 적합한 거리에, 예컨대 프롱의 원위 딥(dip)으로부터 약 0.1㎜ 내지 약 4㎜, 약 4㎜ 내지 약 8㎜, 또는 8㎜ 초과에(예를 들어, 원위 팁으로부터 1 ㎝) 위치될 수 있다. 일부 변형에서, 전극은 프롱의 원위 팁으로부터 약 2.5㎜에 위치될 수 있다. 전극이 전류를 전달하도록 구성되는 일부 변형에서, 전극은 비강 내로 삽입될 때, 전극이 비강 점막 또는 자극이 요망되는 다른 영역에 도달할 수 있도록, 위치될 수 있다. 일부 변형에서, 자극기 프로브의 기저 부재로부터 전류를 전달하도록 구성된 전극의 길이방향 중심까지의 거리(즉, 전극의 가장 먼 중심이 비강 내로 삽입될 수 있음)는 약 25㎜ 내지 약 45㎜일 수 있다. 다른 변형에서, 자극기 프로브의 기저 부재로부터 적어도 하나의 전극의 길이방향 중심까지의 거리는 약 30㎜ 내지 약 40㎜일 수 있다. 예를 들어, 일부 변형에서 자극기 프로브의 기저 부재로부터 적어도 하나의 전극의 길이방향까지의 거리는 약 32.5㎜일 수 있다. 그러나, 특히 전극이 복귀 전극이 되도록 구성될 때, 전극이 다른 위치에 위치될 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 전극은 또한 비강 삽입 프롱의 원위 단부에 연결될 수 있다. 일반적으로, 전극이 프롱의 원위 단부에 위치될 때, 코 내로의 전극의 전진 동안 조직 손상 위험을 최소화시키도록 전극은 에지가 없거나 또는 둥글 모양의 에지를 갖는 것이 바람직할 수 있다.
일부 변형에서, 전극은 그의 전문이 본 명세서에 참고로 포함된 2015년 2월 24일자로 출원된 미국 특허 출원 제14/630,471호(발명의 명칭: "Polymer Formulations for Nasolacrimal Stimulation")에서 더욱 상세하게 기재되는 하이드로겔을 포함한다. 그러나, 본 명세서에 기재된 전극은 다른 전도성 물질, 예컨대 금속(예를 들어, 스테인리스강, 티탄, 탄탈륨, 백금 또는 백금-이리듐, 이들의 다른 합금 등), 전도성 세라믹(예를 들어, 질화티탄), 액체, 겔 등을 포함할 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 일부 변형에서, 전극은 자극기 프로브의 전극과 조직 사이의 전기적 접촉을 촉진시키도록 구성된 하나 이상의 물질(즉, 모든 전극 또는 일부 전극, 예컨대 피복제)을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 조직에 의해 제공된 임피던스는 비강 내 유체-유사 물질(예를 들어, 점액)의 존재 또는 부재에 적어도 부분적으로 의존할 수 있다. 물질(들)은 전극과 조직 사이에 습식 계면을 제공함으로써 대상 조직 임피던스의 영향을 최소화시킬 수 있는데, 이는 전극에 의해 경험되는 임피던스를 정규화시키는 작용을 할 수 있다. 이는 결국 사용자에 의해 경험되는 출력 및 감각을 정규화시킬 수 있다.
본 명세서에 기재된 자극기는 자극기 몸체 전기 회로망에 전극(들)을 전기적으로 연결하도록 구성된 적어도 하나의 리드를 포함할 수 있다. 리드는 비강 삽입 프롱을 통해 적어도 부분적으로 연장될 수 있고, 하나 이상의 전도성 물질(예를 들어, 스테인리스강, 티탄, 백금 또는 백금-이리듐, 이들의 다른 합금 등), 전도성 세라믹(예를 들어, 질화티탄)으로부터 형성될 수 있고, 적어도 일부의 리드가 전극과 접촉하여 리드와 전극 사이의 전도 경로를 제공하도록 위치될 수 있다. 일부 변형에서, 리드는 스프링을 포함할 수 있지만, 그러나 리드는 또한 전도성 루프, 기둥 등을 포함할 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
도 4a 내지 도 4c의 예시적인 휴대용 자극기(400)에서, 프로브(404)는 비강 삽입 프롱(406) 상의 제1 전극(410) 및 비강 삽입 프롱(408) 상의 제2 전극(412)을 포함한다. 도 4b에서의 자극기(400)의 컷어웨이 도면에서 나타내는 바와 같이, 전극(410 및 412)은 프롱(406 및 408) 내에 각각 위치된 리드(430 및 432)에 연결된다. 리드(430 및 432)는 각각 커넥터(422 및 424)에 각각 연결된다. 커넥터(422 및 424)는 근위 하우징(442) 내 내강(408 및 410)을 통해 연정되며, 제어 부시스템 및 전력원(452)에 직접적으로 또는 간접적으로 연결될 수 있다. 그렇게 해서, 전기 자극은 커넥터(422 및 424)를 통해, 리드(430 및 432)를 통해, 그리고 전극(410 및 412)을 통해 제어 부시스템으로부터 이동될 수 있다.
자극기(400)는 각각 단일 전극을 포함하는 2개의 비강 삽입 프롱을 갖는 것으로 나타났지만, 다른 변형에서 자극기는 단일 비강 삽입 프롱을 포함할 수 있고/있거나, 비강 삽입 프롱 상에 복수의 전극을 포함할 수 있다. 비강 삽입 프롱 상에 복수의 전극을 포함하는 일부 변형에서, 전극은 콧구멍 내로 삽입될 때 전측 비강 내의 상이한 깊이에서 비강 조직과 접촉을 위해 구성되도록, 비강 삽입 프롱의 길이를 따라 길이 방향으로 이격될 수 있다. 도 19A는 원위 전극(1902) 및 근위 전극(1904)을 포함하는, 그러한 비강 삽입 프롱(1900)의 원위 단부의 예를 나타낸다. 거기에 나타내는 바와 같이, 각각의 전극은 스프링을 포함하는 리드에 의해 접촉되는 하이드로겔을 포함하지만, 전극 및 리드는 본 명세서에 기재된 바와 같은 다른 구성을 가질 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 도 20은 2개의 비강 삽입 프롱(2006 및 2008)을 포함하는 예시적인 휴대용 자극기(2000)의 일부를 나타내는데, 각각은 2개의 이러한 전극을 포함한다: 프롱 상에서 더 근위로 위치된 제1 전극(2010 및 2014), 및 프롱 상에서 더 원위로 위치된 제2 전극(2012 및 2016).
도 19A 및 도 20이 각각의 전극 길이보다 더 짧은 거리만큼 분리된 원위 및 근위 전극을 나타내지만, 전극은 임의의 적합한 거리만큼 길이 방향으로 분리될 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 예를 들어, 도 19B는 각각의 전극 길이보다 더 긴 길이만큼 분리된 원위 전극(1952) 및 근위 전극(1954)을 포함하는 비강 삽입 프롱(1950)의 원위 단부의 예를 나타낸다. 도 21A 내지 도 21B는 자극기 몸체(2102), 및 단일 비강 삽입 프롱(2106)을 포함하는 자극기 프로브(2104)를 포함하는, 다른 예시적인 자극기(2100)를 나타내며, 비강 삽입 프롱은 프롱을 따라 길이 방향으로 이격된 2개의 전극을 포함한다. 도 21A에 나타낸 바와 같이, 비강 삽입 프롱(2106)은 전극의 길이보다 더 긴 거리만큼 비강 삽입 프롱을 따라 길이 방향으로 분리된 제1 전극(2110) 및 제2 전극(2112)을 포함할 수 있다. 거기에 나타내는 바와 같이, 각각의 전극은 스프링을 포함하는 리드에 의해 접촉되는 하이드로겔을 포함하지만, 전극 및 리드는 본 명세서에 기재된 바와 같은 다른 구성을 가질 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
다른 변형에서, 하나 초과의 전극이 비강 삽입 프롱의 길이를 따라 동일한 길이방향 위치에 위치될 수 있다. 이들 변형에서, 전극은 비강 삽입 프롱이 콧구멍 내로 삽입될 때 전측 비강 내의 동일한 깊이로 상이한 위치에서 비강 조직과 접촉을 위해 구성되도록, 비강 삽입 프롱의 원주 주위의 상이에 위치에 있을 수 있으며, 즉, 비강 삽입 프롱 주위에서 방사상으로 이격된다. 예를 들어, 콧구멍 내로 위치될 때, 전극은 코의 전면쪽으로 접할 수 있고, 다른 전극은 격막쪽으로 접할 수 있다. 일부 예에서, 각각의 전극은 부분적 원기둥(예를 들어, 약 10도 내지 180도의 원호)을 포함할 수 있다. 도 22A는 수직 리브(rib)(2206)에 의해 분리되는 제1 전극(2202) 및 제2 전극(2204)을 포함하는 이러한 비강 삽입 프롱(2200)의 원위 단부의 예이다. 도 22B는 비강 삽입 프롱(2200)의 횡단면도를 나타낸다. 도 23A 및 도 23B는 수직 리브에 의해 분리되는 제1 전극 및 제2 전극을 각각 갖는 2개의 비강 삽입 프롱(2306 및 2308)을 포함하는 휴대용 자극기(2300)의 투시도 및 컷어웨이 도면을 각각 나타낸다. 더 구체적으로는, 각각의 비강 삽입 프롱은 전극(2310, 2312 및 2314, 2316)의 쌍을 각각 포함한다. 전극쌍(2310, 2312 및 2314, 2316)은 원주 주위로 이격된 비강 삽입 프롱의 길이를 따라 동일한 길이방향 위치에 위치된다. 다른 예로서, 도 24는 자극기 몸체(2402), 및 단일 비강 삽입 프롱(2406)을 포함하는 자극기 프로브(2404)를 포함하는 예시적인 자극기(2400)를 나타내며, 비강 삽입 프롱은 비강 삽입 프롱의 원주 주위에 방사상으로 이격된 제1 전극 및 제2 전극(2410 및 2412)을 포함한다. 도 22 내지 도 24의 각각의 전극이 스프링을 포함하는 리드에 의해 접촉되는 하이드로겔을 포함하는 것으로 나타나지만, 전극 및 리드는 본 명세서에 기재된 바와 같은 다른 구성을 가질 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
또 다른 변형에서, 전극은 비강 삽입 프롱의 길이를 따라 길이 방향으로 그리고 비강 삽입 프롱의 원주 주위로 방사상으로 이격될 수 있다. 도 25는 3개의 전극(원위 전극(2502), 및 수직 리브(2508)에 의해 분리되는 제1 근위 전극 및 제2 근위 전극(2504 및 2506))을 포함하는 이러한 비강 삽입 프롱(2500)의 원위 단부의 예를 나타낸다. 거기에 나타내는 바와 같이, 전극(2504 및 2506)은 공통 길이방향 위치를 가지며(즉, 서로 인접하여 수평으로 위치됨) 전극(2502)에 대해 근위로 위치된다. 도 26은 자극기 몸체(2602), 및 단일 비강 삽입 프롱(2606)을 포함하는 자극기 프로브(2604)를 포함하는 예시적인 휴대용 자극기(2600)를 나타내며, 여기서 비강 삽입 프롱은 프롱의 길이를 따라 길이 방향으로 그리고 프롱의 원주 주위로 방사상으로 이격된 전극을 포함한다. 전극(2610)은 비강 삽입 프롱(2606) 주위로 방사상으로 이격되고 수직의 리브(2616)에 의해 분리된 전극(2612 및 2614)에 대해 원위로 위치된다. 도 25 내지 도 26의 각각의 전극이 스프링을 포함하는 리드에 의해 접촉되는 하이드로겔을 포함하는 것으로 나타나지만, 전극 및 리드는 본 명세서에 기재된 바와 같은 다른 구성을 가질 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
상기 기재한 예는 비강 삽입 프롱 상에 1, 2 또는 3개의 전극을 포함하지만, 비강 삽입 프롱은 임의의 적합한 배열에서 비강 삽입 프롱을 따라서 길이 방향으로 및/또는 비강 삽입 프롱 주위로 방사상으로 이결될 수 있는 더 많은(예를 들어, 4, 5, 6개 이상의) 전극을 가질 수 있다. 일부 예에서, 각각의 전극은 별도의 리드를 가질 수 있는 반면, 다른 것에서, 하나 이상의 전극은 전기적으로 연결된 리드를 가질 수 있다(즉, 동일한 퍼텐셜일 수 있다).
추가적으로 또는 대안적으로, 휴대용 자극기의 일부 변형은 대안의 또는 추가적인 전류 경로를 제공할 수 있는 비강 삽입 프롱 상에 위치되지 않는 복귀 접점을 포함할 수 있다. 예를 들어, 휴대용 자극기는 자극기 프로브의 기저 부재 상에 또는 자극기 몸체 상에 위치된 복귀 접점을 포함할 수 있다. 복귀 접점은 다양한 해부학적 위치와, 예컨대, 이하로 제한되는 것은 아니지만, 손 또는 콧구멍의 구멍 근처의 조직 영역, 비주, 인중 또는 윗입술과 접촉되도록 구성될 수 있다. 추가로, 본 명세서에 기재된 구성에서, 복귀 접점은 대신에 전류를 전달하도록 구성될 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
예를 들어, 도 27A 내지 도 27B는 각각 단일 프롱을 포함하는 예시적인 휴대용 비강 자극기 및 비강 삽입 프롱 상에 위치된 복귀 접점을 나타낸다. 각각 자극기 몸체(2704 및 2744) 상에 위치된 각각 복귀 접점(2702 및 2742)을 갖는 휴대용 비강 자극기(2700 및 2740)를 나타낸다. 그렇게 해서, 복귀 접점은 사용자의 손과 접촉되도록 구성될 수 있지만, 활성 전극(2706 및 2746, 2748)은 비강 점막과 접촉되도록 구성된다. 도 27C는 각각 전극을 지니는 2개의 비강 삽입 프롱을 포함하고, 자극기 몸체(2724) 상에 위치된 복귀 접점(2722)을 포함하는, 비강 자극기(2720)를 나타낸다. 도 27A 내지 도 27C에 나타내는 바와 같이, 자극기 몸체 상에 위치된 복귀 접점을 포함하는 휴대용 자극기는 비강 삽입 프롱 상에 위치된 전극의 임의의 적합한 수, 예컨대 프롱 당 1(도 27A 및 도 27C), 2(도 27B), 3, 4, 5, 6개 이상의 활성 전극을 가질 수 있다.
도 27A 내지 도 27C에서 복귀 접점은 자극기 몸체 주위의 밴드를 각각 포함하는 것으로 나타내지만, 사용자의 손과 접촉되도록 구성된 복귀 접점은 임의의 적합한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 복귀 접점은 사용자가 자극기 몸체 주위에서 이격된 동일한 퍼텐셜에서 자극기, 또는 복수의 밴드 또는 복수의 밴드를 보유할 수 있는 다양한 방법을 수용하기 위해 복수의 교차 밴드를 포함할 수 있다. 복귀 접점의 총 표면적은 전류가 최대 전압을 초과하는 일 없이 복귀 접점을 통해 구동될 수 있는 지점에 대해 임피던스를 감소시키기에 충분히 큰 것이 바람직할 수 있다. 복귀 접점은 임의의 적합한 물질, 이하로 제한되는 것은 아니지만, 하나 이상의 전도성 물질, 예컨대 금속(예를 들어, 스테인리스강, 티탄, 탄탈륨, 백금 또는 백금-이리듐, 기타 이들의 합금 등), 전도성 세라믹(예를 들어, 질화티탄) 또는 하이드로겔을 포함할 수 있다.
다른 변형에서, 복귀 접점은 비강 삽입 프롱의 기저 근처에서 자극기 프로브의 기저 부재 상에 위치될 수 있다. 예를 들어, 도 28A 및 도 28B는 비강 삽입 프롱(2804 및 2824)의 근위 단부 근처에서 자극기 프로브(2806 및 2826) 상에 위치된 각각 복귀 접점(2802 및 2822) 비강 자극기(2800 및 2820)를 나타낸다. 비강 삽입 프롱이 비강 내로 삽입될 때 복귀 접점이 콧구멍의 구멍 근처의 조직 영역과 접촉을 위해 구성되도록, 복귀 접점(2802 및 2822)은 비강 삽입 프롱의 근위 단부 근처에서 고리 형상을 갖는 것으로 나타난다. 콧구멍의 구멍 근처에 위치된 복귀 접점을 가짐으로써, 격막의 목적으로 하는 부분을 통한 전류 흐름이 있을 수 있는 한편, 단일 비강 삽입 프롱(즉, 격막의 각각의 측면 상의 적어도 하나의 전극과 반대로, 격막의 하나의 측면 상에서만 하나 이상의 전극)만을 가진다. 다른 변형에서, 복귀 접점은 다른 적합한 형상, 예컨대 복수의 밴드 또는 접점을 가질 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 도 28A 내지 도 28B에 나타낸 바와 같이, 비강 삽입 프롱의 기저 근처에 위치된 복귀 접점을 포함하는 휴대용 자극기는 비강 삽입 프롱 상이 위치된 전극의 임의의 적합한 수, 예컨대 프롱 당 1(도 28A), 2(도 28B), 3, 4, 5, 6개 이상의 전극을 가질 수 있다. 도 28A 내지 도 28B는 단일 비강 삽입 프롱을 포함하는 자극기의 비강 삽입 프롱의 근위 단부 근처에 위치된 복귀 접점을 나타내지만, 복귀 접점은 또한 2개의 비강 삽입 프롱을 포함하는 자극기의 비강 삽입 프롱 중 하나 또는 둘 다의 근위 단부 근처에 위치될 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
또 다른 변형에서, 복귀 접점은 비강 삽입 프롱의 근위 단부로부터 떨어진 자극기 프로브의 기저 부재 상에 위치될 수 있다. 예를 들어, 도 29A 내지 도 29B는 첫 번째 콧구멍 내로 삽입되도록 구성된 단일 비강 삽입 프롱, 및 피부 및/또는 비강 점막에 대해 두 번째 콧구멍의 구멍 근처의 조직 영역과 접촉되도록 구성된 복귀 접점을 포함하는 휴대용 자극기를 나타낸다. 도 29A는 단일 자극기 프로브(2908)를 포함하는 휴대용 자극기(2900)를 도시한다. 자극기 프로브(2908)는 단일 전극(2906)을 갖는 단일 비강 삽입 프롱(2904)을 포함한다. 자극기 프로브(2908)의 기저 부재(2912)는 복귀 접점(2910)을 포함한다. 비강 삽입 프롱(2904)이 첫 번째 콧구멍 내로 삽입될 때, 복귀 접점(2910)이 두 번째 콧구멍의 구멍 근처 조직 영역과 접촉되도록 자극기(2900)가 구성될 수 있다. 도 29B는 2개의 전극(2956 및 2962)을 포함하는 단일 비강 삽입 프롱(2954), 및 두 번째 콧구멍의 구멍 근처 조직 영역에 접촉을 위해 구성된 복귀 접점(2960)을 포함하는 기저부재(2952)를 포함하는 자극기 프로브(2958)를 포함하는 유사한 휴대용 자극기(2950)를 나타낸다.
도 29B에 나타낸 변형에서, 각각의 전극 또는 복귀 접점이 상이한 퍼텐셜에 있을 수 있거나 또는 2개가 동일한 퍼텐셜일 수 있도록 리드는 다양한 배열을 가질 수 있다. 예를 들어, 각각의 전극(2956, 2962) 및 복귀 접점(2960)에 연결된 리드는, 일부 변형에서 도 29C에 개략적으로 도시된 바와 같이 별개일 수 있다. 다른 변형에서, 전극 및 복귀 접점이 동일한 퍼텐셜이도록 도 29D에 개략적으로 도시한 바와 같이 두 전극(2956, 2962) 중 하나는 복귀 접점(2960)을 지니는 공통의 리드를 가질 수 있다. 또 다른 변형에서, 2개의 전극(2956, 2962)은 도 29E에 나타낸 바와 같은 공통의 리드를 가질 수 있다. 저항기는 선택적으로 전극과 복귀접점 사이에, 또는 두 전극 사이에 위치될 수 있는데, 이는 전류 전달의 분포에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 도 29C는 전극(2962)과 복귀 접점(2960) 사이에 위치된 저항기(2964)를 나타낸다. 이들 다양한 배열은 본 명세서에 더 상세하게 기재되는 바와 같은 전류의 공간적 전달에 영향을 미칠 수 있다.
공간적 제어
본 명세서에 기재된 전극 및 복귀 접점은 공간적으로 제어되는 자극기에 의한 자극 전달을 허용할 수 있다. 즉, 전류 스티어링은 전극 또는 복귀 접점 사이의 전류 특정 경로를 구동함으로써 달성될 수 있고, 일부 예에서, 조직을 통한 전류의 경로(들)는 공간적 패턴화를 달성하기 위해 시간에 따라 변할 수 있다. 각각의 전극에 의해 또는 각각의 전극에 대해 전달될 전류는 일부 예에서 이들 효과를 달성하기 위해 개개로 제어될 수 있다. 예를 들어, 동일 또는 상이한 파형, 또는 파형 없음은 임의의 주어진 시간에 각각의 전극에 의해 전달될 수 있고, 각각의 전극에 의한 자극 전달은 시간에 따라 변할 수 있다. 전류 스티어링은 전류 경로와 제어될 각각의 경로에 따른 전류의 양을 둘 다 허용할 수 있다. 전류 스티어링은 조직의 특정 영역이 자극에 의해 표적화될 수 있게 하며, 공간적 패턴화는 자극의 대상체 인식에 영향을 미칠 수 있고, 적응을 감소시킬 수 있다. 공간적 패턴화는 시간에 따라 변화 조직에 대해(예를 들어, 신경 가지의, 예컨대 비강 점막 내 전사골 신경의 변화세트에 대해) 신경 활성화를 제공할 수 있다. 일부 예에서, 예를 들어, 이는 단일의 고정된 전류 경로를 갖는 시스템의 물리적 움직임과 유사한 것으로 해석될 수 있고, 이에 의해 신경 섬유의 변화 세트를 활성화시키기 위해 사용자가 코 내에서 전극을 이동시킬 필요를 감소시킨다.
일부 변형에서, 예시적인 해부학적 표적은 전기적으로 자극될 수 있는 유루 또는 선상 확장의 과정에 연루된 환자의 매끈한 피부 및 털이 있는 피부, 분비선 또는 다른 구조에서 신경, 근육, 점막 또는 점막하 조직 조직(예를 들어, 비강 또는 부비강 점막 또는 점막하 조직), 감각 세포를 포함할 수 있다. 예를 들어, 해부학적 구조는 눈물샘, 하나 이상의 마이봄선, 누관, 피부 수용기(기계적 수용기, 마이스너 소체, 신경건방추, 골지건 기관, 루피니소체, 신장수용기, 루피니소체 종말기관, 파치니 소체 종말 기관, 모낭 수용기, 자유 신경 종말, 온도수용기, 망울 또는 크라우제소체, 노시셉터), 부교감신경, 섬유 및 신경돌기, 교감 신경, 섬유 및 신경돌기, 누골 가지, 눈물 신경, 누선동맥의 혈관주위 신경 및 이들의 가지, 마이봄선을 분포시키는 신경 섬유, 눈물샘의 근상피 세포, 눈물샘의 선포세포, 또는 눈물샘의 췌관세포를 포함할 수 있지만, 이들로 제한되지 않는다. 또한 추가 변형에서, 해부학적 구조는 아래-활차신경이다. 다른 변형에서, 해부학적 구조는 간에 따른 힘 또는 온도 변화의 감지를 초래하는 피부 수용기 또는 피부에서 자라는 털을 움직임으로써 직접적으로 또는 간접적으로 피부에 적용된 힘의 변화를 보고하는 피부 영역 내 한 세트의 피부 수용기, 또는 피부 또는 피부의 털에 적용된 힘의 변화 또는 점막을 포함하는 피부의 온도 변화를 보고하는 피부 수용기에 분포된 신경, 코 내의 점막하 조직 또는 눈의 결막이다.
일부 예에서, 눈물샘 조직에 분포하는 하나 이상의 신경에 대해 본 명세서에 기재된 전기적 자극을 전달하는 것이 바람직할 수 있다. 다른 것에서, 비강 점막에 본 명세서에 기재된 전기적 자극을 전달하는 것이 바람직할 수 있다. 이는 비루관 반사를 활성화시킴으로써 유루를 야기할 수 있다. 일부 예에서, 표적화된 영역은 비모양체 신경의 전사골 가지에 의해 분포된 조직을 포함할 수 있다. 다른 변형에서, 해부학적 구조는 후사골 신경이다. 일부 예에서, 비강 점막의 표적화된 영역은 비주 비주보다 위에 있을 수 있다. 이는 일부 예에서 비강골의 하부 단부 근처(즉, 비강골과 상부 외측 연골 사이의 계면 근처)일 수 있다. 그렇게 해서, 자극은 환자의 비강 내로 약 20㎜ 내지 약 35㎜에서, 일부 경우에서 환자의 비강 내로 약 25㎜ 내지 약 35㎜에서 전극을 통해 전달될 수 있다. 다른 예에서, 표적화된 영역은 비주일 수 있다. 자극은 비강의 전측 부분 내, 콧구멍 내에서 그리고 비갑개에 대한 전측, 일부 예에서, 중간 비갑개에 대한 전측 위치에서, 또는 하부 비갑개에 대한 전측 위치에서 전달되는 것이 바람직할 수 있다. 자극은 격막의 조직을 통해 또는 격막 근처에서 적어도 부분적으로 전달될 수 있고, 이는 일부 예에서 일부는 코의 앞쪽으로 향하도록 자극을 보내는 것이 바람직할 수 있다. 이는 격막 전방의 신경(예를 들어, 삼차 신경의 안신경가지)의 선택적 활성화를 허용할 수 있는 반면, 비강 격막 뒤쪽 신경의 활성화를 최소화하는데, 이는 치아에 분포된 신경 자극으로부터 생길 수 있는 부정적인 부작용을 감소시키고, 비루를 감소시킬 수 있다. 또한 일부 예에서 후각영역의 자극으로부터 생길 수 있는 부정적인 부작용을 감소시키기 위해 자극을 보내는 것이 바람직할 수 있다.
이들 표적 영역 중 하나 이상의 자극을 달성하기 위한 한 방법은 전류 스티어링일 수 있다. 예를 들어, 전류는 표적 신경(예를 들어, 전사골 신경)이 위치된 영역(예를 들어, 격막의 특정 부분) 내에서 농축되도록, 경로 내의 흐름을 지시할 수 있는 한편, 불편함 또는 불필요한 불쾌한 감각을 야기할 수 있는 자극 영역(예를 들어, 치아에 분포하는 삼차 신경의 부분)을 회피할 수 있다. 이 방법으로 전류를 스티어링함으로써, 우선적인 활성화를 달리 달성할 수 없는 파형에 의해 특정 신경의 우선적인 활성화가 달성될 수 있다.
하나 이상의 비강 삽입 프롱을 포함하는 휴대용 자극 장치에서, 예를 들어, 전류 스티어링은 동일한 프롱 상의 전극 사이에서, 추가적으로 또는 대안적으로 상이한 프롱 상의 전극 사이에 2개의 비강 삽입 프롱을 포함하는 장치에서 전류를 구동시키기 위해 사용될 수 있다. 본 명세서에 기재된 바와 같은, 휴대용 자극 장치는 또한 추가적인 가능한 전류 경로를 제공하기 위해 하나 이상의 복귀 접점을 포함할 수 있다. 공간적 제어는 전류 경로와 제어될 각각의 경로에 따른 전류의 양을 둘 다 허용할 수 있고, 이들이 시간에 따라 변화되게 할 수 있다. 전류 경로를 제어함으로써, 특정 조직 영역이 표적화될 수 있다. 일부 변형에서, 전류 스티어링은 이식된 또는 일시적으로 삽입된 자극기를 이동시키는 일 없이 조직의 목적으로 하는 영역에 대해 자극 전달 위치를 조절하기 위해 사용될 수 있다.
일부 경우에, 전류 스티어링은 각각의 경로에 대해 별도의 전류원을 지니는 격리된 회로를 가짐으로써 달성될 수 있되, 각각은 통상적인 접지 없이 부동이다. 다른 경우에서, 전류 스티어링은 다수 경로의 임피던스 값에 기반하여 단일 전류원을 이용하여 달성될 수 있다. 전류 스티어링은 또한 일부 예에서 파형 발생기 내에 위치될 수 있는 다중화기를 이용하여 수행될 수 있다. 다른 예에서, 예를 들어, 제어기 주파수의 작은 변화가 전극에 의한 자극의 선택적 전달을 허용하도록, 상이한 공진 주파수를 갖는 수신기 코일에 상이한 전극을 연결함으로써, 주파수 선택성을 이용하여 수행될 수 있다.
공간 제어 중 하나의 예로서, 도 30A는 각각 2개의 전극(3006, 3008 및 3010, 3012)를 각각 포함하는 2개의 비강 삽입 프롱(3002 및 3004)을 포함하는 예시적인 자극기(3000)을 도시한다. 전류 스티어링은 상이한 해부학적 표적의 자극을 초래할 수 있는 2개의 비강 삽입 프롱 사이, 동일한 비강 삽입 프롱 상의 전극 사이, 또는 둘 다를 포함하는 4개의 전극 사이의 상이한 경로를 통해 전류를 구동시키기 위해 사용될 수 있다.
도 30B 내지 도 30E는 전류가 전극 사이로 향할 수 있는 방법의 변형을 나타낸다. 일부 변형에서, 전류는 프롱(3002) 상의 하나 이상의 전극으로부터 프롱(3004) 상의 하나 이상의 전극까지의 흐름을 지시할 수 있다. 예를 들어, 도 30B에서, 전류는 전극(3006)에 의해 전달되는 반면, 전극(3008)은 임의의 전류를 전달하지 않는다. 전류의 일부(예를 들어, 50%)는 전극(3006)으로부터 전극(3010)까지 흐르고, 전류의 일부(예를 들어, 50%)는 전극(3006)으로부터 (3012)까지 흐르도록 전극(3006)으로부터의 전류는 복귀 전극으로서 작용하는 전극(3010 및 3012) 쪽으로 스티어링된다. 도 30C에서, 전류는 또한 하나의 비강 삽입 프롱으로부터 다른 비강 프롱까지 구동되지만, 이 구성에서, 전극(3006 및 3008)은 둘 다 전류를 전달하고, 총 전류의 일부(예를 들어, 50%)가 전극(3006 내지 3010)으로부터 흐르고, 총 전류의 일부(예를 들어, 50%)가 전극(3008)으로부터 전극(3012)으로 흐르도록, 전극(3010 및 3012)은 둘 다 복귀 전극으로서 작용한다. 도 30D에서, 전류는 하나의 비강 삽입 프롱으로부터 다른 비강 삽입 프롱까지 구동되고, 전극(3006 및 3008)은 둘 다 전류를 전달하며, 전극(3010 및 3012)은 둘 다 복귀 전극으로서 작용한다. 그러나, 도 30C의 예와 대조적으로, 총 전류의 일부(예를 들어, 50%)는 전극(3006)으로부터 (3012)로 흐르고, 총 전류의 일부(예를 들어, 50%)는 전극(3008)으로부터 (3010)으로 흐른다. 이들 예에서 전류는 경로 사이에서 균일하게 나뉘어질 필요가 없다는 것과, 더 많은 전류가 두 경로 중 하나를 통해 보내질 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
도 30B 내지 도 30D의 예에서, 전류는 제1 프롱(3002)으로부터 제2 프롱(3004) 상의 전극까지 구동되지만, 다른 변형에서, 전류는 동일한 프롱 상의 전극 사이로 보내질 수 있다. 예를 들어, 도 30E에서, 전류는 동일한 프롱 상에서 전극(3006), 및 전극(3008)에 의해 전달되고, 다른 프롱 상의 전극(3010)은 복귀 전극으로서 작용한다. 즉, 전류의 일부(예를 들어, 80%)는 제1 프롱(3002) 상의 전극(3006)으로부터 제2 프롱(3004) 상의 전극(3010)까지 이동될 수 있는 반면, 나머지(예를 들어, 20%)는 전극(3006)으로부터 전극(3008)까지 이동될 수 있는데, 둘 다 제1 프롱(3002) 상에 위치된다. 도 30B 내지 도 30E에 도시한 각각의 배열에서, 기재된 전류 스티어링은, 예를 들어, 각각의 경로에 대해 별개의 전류원과 함께 격리된 회로를 가짐으로써 달성될 수 있으며, 여기서 각각은 통상적인 접지 없이 부동이다. 도 30B 내지 도 30E에서 전류 스티어링의 각각의 구성은 자극되고 있는 격막 근처에서 그리고 내에서 상이한 해부학적 표적을 초래할 수 있다.
전류는 또한 비강 삽입 프롱 상에 위치된 하나 이상의 전극과 하나 이상의 복귀 접점 사이에서 스티어링될 수 있다. 도 29A 내지 도 29B의 휴대용 비강 자극기로 되돌아가서, 도 29C 내지 도 29E의 각각의 전기 구성은 전류 전달의 상이한 공간적 구성을 초래할 수 있고, 따라서 해부학적 표적은 자극된다. 예를 들어, 도 29C는 전극(2962)과 복귀 접점(2960) 사이에 위치된 저항기(2964)를 나타낸다. 이 구성에서, 전극(2956)이 전류를 전달한다면, 저항기(2964)의 존재는 저항기(2964)가 없는 구성에 비해 전극(2956)으로부터 전극(2962)까지 더 적은 전류가 구동되게 하고, 전극(2956)으로부터 복귀 접점(2960)까지 더 많은 전류가 구동되게 한다. 그 결과, 비강 삽입 프롱(2954)이 콧구멍 내로 삽입될 때, 전극(2956 및 2962)이 비강 점막과 접촉되도록, 저항기(2964)가 없는 구성에 비해 더 많은 전류가 격막을 통해 구동될 수 있다. 일부 변형에서, 저항기는 가변적일 수 있다. 이는 사용자가 자극 효과를 조절할 수 있도록 사용에 의해 제어 가능할 수 있다.
다른 예로서, 도 31은 제1 전극 및 제2 전극(3154 및 3156)을 포함하는 비강 삽입 프롱(3152)뿐만 아니라 사용자의 손과 접촉되도록 구성된 복귀 접점(3160)을 포함하는 한편, 제1 전극 및 제2 전극이 사용자의 비강 점막과 접촉되는 휴대용 자극기(3150)를 이용하는 다중 경로를 통한 전류 스티어링을 도시한다. 도시한 바와 같이, 화살표(3162)에 의해 도시되는 일부(예를 들어, 70%)가 비강 삽입 프롱(3152) 상에서 전극(3156)으로부터 전극(3154)까지 이동되는 한편, 화살표(3164)에 의해 도시되는 일부(예를 들어, 30%)는 자극기 몸체(3158) 상에서 전극(3156)으로부터 복귀 접점(3160)까지 이동되도록 전류가 스티어링될 수 있다. 그 결과, 전류 밀도가 더 높을 수 있으며, 이에 의해 표적 신경(예를 들어, 전사골 신경)의 영역에 걸쳐 전압이 더 크게 하락하는 반면, 더 낮은 전류 밀도가 다른 영역을 통과할 것이다. 화살표(3162, 3164), 및 본 명세서의 전류 경로를 나타내는 기타 화살표는 조직을 통한 전류의 정확한 신체 경로를 도시하는 것으로 의도되는 것이 아니며, 오히려, 장치에 대한 전류의 원점 및 복귀를 도시한다는 것이 인식되어야 한다. 조직을 통한 전류의 실제 경로는 그것이 원점으로부터 복귀점까지 이동하기 때문에 조직 형상 및 특성에 의존할 것이다.
전류가 스티어링되는 경로는 자극 전달을 공간적으로 패턴화하기 위해 시간에 따라 변할 수 있다. 그것은, 예를 들어, 전류가 경로(들)의 제1 세트를 통해 구동될 수 있는 제1 시간 동안, 그리고 전류가 경로(들)의 제2 세트를 통해 구동될 수 있는 제2 시간 동안이다. 이는 자극에 대한 환자 순응을 감소시킬 수 있는 이동 자극의 감각을 생성할 수 있다. 예를 들어, 휴대용 비강 자극기(3000)는 도 30B 내지 도 30E에 나타낸 전류 스티어링 패턴을 통해 사전 결정된 방식으로, 무작위로, 또는 사용자 제어 하에서 순환하도록 구성될 수 있다.
다른 예로서, 도 32a 내지 도 32b는 제1 비강 삽입 프롱(3202) 및 제2 비강 삽입 프롱(3204)을 포함하는 자극기(3200)를 나타낸다. 제1 비강 삽입 프롱(3202)은 제1 전극(3206) 및 제2 전극(3208)을 포함하는 반면, 제2 비강 삽입 프롱(3204)은 단일 전극(3210)을 포함한다. 자극기(3200)는 전류가 제1 비강 삽입 프롱(3202) 상의 전극(3206)으로부터 제2 비강 삽입 프롱(3204) 상의 전극(3210)까지 흐르는 제1 구성(도 32a에 도시) 및 전류가 제1 비강 삽입 프롱(3202) 상의 전극(3208)으로부터 제2 비강 삽입 프롱(3204) 상의 전극(3210)까지 흐르는 제2 구성(도 32b에 도시)을 가질 수 있다. 제1 구성과 제2 구성 사이의 스위칭을 위해, 자극기(3200)는 도 32c에 개략적으로 도시한 스위치(3222)를 포함하여, 전극(3206)으로부터의 전류 전달을 초래하는 출력(3224), 또는 전극(3208)으로부터의 전류 전달을 초래하는 출력(3226)의 선택을 허용한다. 도 32c에 나타낸 변형은 또한 이하에 더 상세하게 논의하는 2개의 단일 발생기(3212 및 3214)를 나타내지만, 자극기는 더 소수 또는 더 많은 신호 발생기를 포함할 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 예를 들어, 도 32d는 단일 신호 발생기(3252)를 포함하는 자극기에 대한 전기 회로망의 일부 대안의 구성의 개략적 도시를 나타내며, 이것으로부터의 출력은 다중화기(3260)의 선택 스위치(3258 및 3250)를 통해 제1 출력(3254) 또는 제2 출력(3256)까지 보내질 수 있다. 출력(3254)은 제1 전극(예를 들어, 전극(3206))으로 갈 수 있고, 출력(3256)은 제2 전극(예를 들어, 전극(3208))으로 갈 수 있다.
상이한 전극으로부터의 전류 전달을 스위칭함으로써, 전류 경로는 시간에 따라 변화될 수 있는데, 이는 시간에 따라 상이한 조직 영역의 자극을 허용할 수 있다. 이는 결국 순응을 감소시킬 수 있고/있거나 특정 해부학적 영역이 표적화되게 할 수 있다. 일부 예에서, 이는 일시적으로 특정 영역에 대해 바람직할 수 있다. 예를 들어, CN-V2의 주기적 부분적 활성화는 전사골 신경의 자극 동안 달리 인식될 수도 있는 재채기가 하고 싶은 느낌을 감소시킬 수 있다.
유사하게, 도 33은 도 23A 내지 도 23B의 자극기(2300)의 컷 어웨이 도면을 나타낸다. 도 33에 나타내는 바와 같이, 전류가 다양한 경로를 통해 스티어링될 수 있도록 자극기(2300)가 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 비강 삽입 프롱 상의 전극(2312)으로부터의 전류 흐름은 경로(3202)를 통해 제2 비강 삽입 프롱 상의 전극(2316)에 대해; 경로(3206)를 통해 제2 비강 삽입 프롱 상의 전극(2314)에 대해; 또는 경로(3204)를 통해 제1 비강 삽입 프롱 상의 전극(2310)에 대해 구동될 수 있다.
일부 변형에서, 전류는 다양한 경로를 통해 순차적으로 스티어링될 수 있다. 이런 유형의 공간적 패턴화는 통상적인 접지에 대해 2개 이상의 전극을 구동하기 위해 사용되는 단일 전류원을 포함하는 자극기에서 달성될 수 있다. 이는, 예를 들어, 다중화기를 이용하여 실행될 수 있다. 전류는 다양한 경로를 통해 동시에 스티어링될 수 있다. 이 유형의 전류 스티어링은 복수의 독립적 또는 전기적으로 부동, 전류원을 포함하는 자극기에서 달성될 수 있다. 이들 변형에서, 다중화기는 전극이 각각의 공급원으로부터 전류를 수신하는 것을 제어하기 위해 사용될 수 있다.
상기 논의한 도면이 휴대용 비강 자극기에 대한 전류 스티어링의 적용을 나타내지만, 전류 스티어링은 다른 장치, 예컨대 본 명세서에 기재된 이식 가능한 자극기(예를 들어, 눈 또는 비강 영역에 이식된 자극기)의 사용에 의해 적용될 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 전극 접점을 이동시키는 일 없이 조직의 특정 영역을 표적화하는 능력은 조직에 대해 고정된 위치를 갖는 이식 가능한 자극기의 경우에 특히 유용할 수 있다.
자극기가 자극 전달의 공간적 패턴화를 위해 구성될 때, 공간적 패턴화는 임의의 적합한 매개변수를 가질 수 있다. 예를 들어, 전류 전달은 사전 결정된 주파수에서, 예컨대 약 0.5초, 1초, 2초, 5초, 10초 이상마다 2개 이상의 경로 사이에서 스위칭될 수 있다. 다른 변형에서, 사용자는 사용자 인터페이스, 예컨대 본 명세서에 기재된 사용자 인터페이스를 이용하여 2 이상의 경로 사이에서 전환할 수 있다. 또 다른 변형에서, 경로는 개개 환자에 대한 임상의에 의해 선택될 수 있다. 예를 들어, 자극기가 이식 가능한 자극기일 때, 임상의는 이식 후에 경로를 선택할 수 있고, 따라서 자극된 조직은 이식 부위를 조절하는 일 없이 이식 후에 맞춤될 수 있다.
파형
본 명세서에 기재된 자극기에 의해 전달된 전기 자극 파형은 특정 치료 요법 및/또는 특정 환자에 대해 맞춤될 수 있다. 2 이상의 경로를 통해 전류를 전달하도록 구성된 자극기의 변형에서, 상이한 파형은 각각의 경로를 통해 전달될 수 있고, 각각의 경로를 통해 전달된 파형은 시간에 따라 변할 수 있다. 도 32c로 되돌아가서, 자극기는 제1 파형을 생성하도록 구성된 제1 단일 발생기(3212) 및 제2 파형을 생성하도록 구성된 제2 단일 생성기(3214)를 포함할 수 있다. 다중화기(3230)는 대응하는 제1 선 및 제2 선(3218 및 3220)을 가질 수 있다. 상기 기재한 스위치(3222)와 조합하여, 다중화기(3230)는 신호 발생기로부터의 파형이 비강 삽입 프롱(3202)의 전극에, 또는 복귀점(3228) 중 하나에 전달되게 할 수 있다. 도 32c는 단지 2개의 발생기 및 2개의 출력을 나타내지만, 단일 발생기 및 출력에 대해 유사한 구성이 사용될 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 각각의 신호 발생기에 의해 생성된 파형은 임의의 적합한 매개변수를 가질 수 있고, 본 명세서에서 더 상세하게 기재되는 임의의 파형일 수 있다.
본 명세서에서 더 상세하게 정의하는 바와 같이, 전기 자극 파형의 일시적 패터닝이 사용될 때, 파형 매개변수, 예컨대 형상, 주파수, 진폭 및 펄스폭이 조절될 수 있다. 파형의 주파수, 펄스폭 및/또는 진폭은 선형으로, 지수로, 톱니로서, 사인형태 등에 의해 조절될 수 있거나, 또는 그들은 무작위로 조절될 수 있다. 자극은 또한 일시적 패터닝의 부분으로서 중단될 수 있다. 즉, 자극은, 예를 들어, 1초 온/1초 오프, 5초 온/5초 오프 등의 지속기간 동안 온/오프 조건에 있을 수 있다. 리듬성 또는 비결정성, 비리듬성 방식에서 파형 형상(예를 들어, 직사각형 대 삼각형 대 지수)의 조절이 또한 사용될 수 있다. 따라서, 일시적 파형 패턴화에서 수많은 변형이 달성될 수 있다. 반복적 방식으로 시간에 따른 이들 매개 변수 변화의 조합은 또한 일시적 패터닝으로 고려될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 일부 예에서, 무작위 일시적 패터닝이 사용될 수 있다. 일시적 패턴화는 적용된 자극에 대한 환자 습관화를 방지하게 할 수 있다(즉, 자극 동안 자극 감소에 대한 환자 반응을 방지하게 할 수 있다).
일부 예에서, 부작용을 최소화하기 위해 자극 파형을 구성하는 것이 바람직할 수 있다. 일부 예에서, 치료 효과를 촉진시키는 더 큰 직경의 신경(예를 들어, 삼차 신경의 구심성 섬유)의 자극을 촉진시키는 한편, 통증, 불편함 또는 점막 생성을 초래할 수 있는 더 작은 신경(예를 들어, a-델타 섬유, c 섬유, 교감 및 부교감 섬유)을 감소시키는 것이 바람직할 수 있다. 일반적으로, 더 작은 펄스폭에 대해, 더 큰 직경 신경에 대한 활성화 역치는 더 작은 신경 섬유에 대한 활성화 역치보다 더 낮을 수 있다. 대조적으로, 더 큰 펄스폭에 대해, 더 큰 직경 신경에 대한 활성화 역치는 더 작은 신경 섬유에 대한 활성화 역치보다 더 클 수 있다. 따라서, 일부 예에서, 거대 직경 신경을 바람직하게 작동시키는 펄스폭을 선택하는 것이 바람직할 수 있다. 일부 변형에서, 펄스폭은 50㎲ 내지 약 1200㎲일 수 있다. 다른 예로서, 특정 파형은 톱니로 이동하는 삼차 신경(예를 들어, CN V2)의 분자의 활성화를 최소화할 수 있다. 이들은 펄스폭이 30㎲ 내지 300㎲, 주파수가 10㎐ 내지 150㎐, 진폭이 0.1㎃ 내지 5㎃의 범위에 있는 파형을 포함할 수 있다.
자극은 규칙적 또는 불규칙적 간격으로 주기적으로 전달될 수 있다. 자극 버스트는 규칙적 또는 불규칙적 간격으로 주기적으로 전달될 수 있다. 자극 진폭, 펄스폭 또는 주파수는 자극 과정 동안 변형될 수 있다. 예를 들어, 자극 진폭은 시간 기간에 걸쳐 낮은 진폭으로부터 더 큰 진폭으로 증가될 수 있다. 다른 변형에서, 자극 진폭은 시간 기간에 걸쳐 큰 진폭으로부터 더 낮은 진폭으로 증가될 수 있다. 자극 펄스폭은 또한 시간 기간에 걸쳐 낮은 펄스폭으로부터 더 높은 펄스폭까지 증가될 수 있다. 자극 펄스폭은 시간 기간에 따라 높은 펄스폭으로부터 더 낮은 펄스폭까지 증가될 수 있다. 램프 기간은 1초 내지 15분일 수 있다. 대안적으로, 램프 기간은 5초 내지 30초일 수 있다.
본 명세서에 기재된 일시적으로 패턴화된 자극 파형은 환자의 편안함을 증가시키기 위해 사용될 수 있고/있거나 자극의 효능을 개선시키기 위해 사용될 수 있고, 따라서, 편안함 및/또는 효능을 증가시키기 위해 단독으로 또는 조합하여 사용될 수 있는 파형 매개변수가 이하에 기재된다.
본 명세서에 기재된 파형은 다극성, 예컨대 양극성, 삼극성, 사극성 또는 더 높은 극성의 구성 또는 원위 복귀가 있는 단극성 구성을 통해 전달될 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 파형은 본 명세서에 더 상세하게 기재되는 바와 같이 사인곡선, 반- 사인곡선, 구형파, 톱니, 경사진 또는 삼각 파형, 이들의 절단 형태(예를 들어, 특정 진폭에 도달될 때 파형은 안정상태를 유지함) 등일 수 있다.
형상
일부 예에서, 파형 형상 또는 이들의 조절은 자극의 편안함 및/또는 효능에 영향을 미칠 수 있다. 자극기(전극 장치)가 펄스 기반 전기 파형을 생성하기 위해 구성될 때, 펄스는 임의의 적합한 펄스(예를 들어, 정사각형 펄스, 하버사인 펄스 등)일 수 있다. 이들 파형에 의해 전달되는 펄스는 2상, 교번의 1상 또는 1상 등에 의할 수 있다. 펄스가 2상일 때, 펄스는 반대의 극성을 갖는 단일 상 부분의 쌍을 포함할 수 있다(예를 들어, 제1 상의 반대 극성을 갖는 제1 상 및 전하-균형상). 2상 펄스의 각각의 상은 전압 제어 또는 전류 제어될 수 있다. 일부 변형에서, 2상 펄스의 제1 상과 전하 균형상은 둘 다 전류 제어될 수 있다. 다른 변형에서, 2상 펄스의 제1 상과 전하 균형상은 둘 다 전압 제어될 수 있다. 또 다른 변형에서, 2상 펄스의 제1 상은 전류 제어될 수 있고, 2상 펄스의 제2 상은 전압 제어될 수 있고, 또는 반대일 수 있다. 일부 예에서, 전류 제어된 양측 자극과 전압 제어 전하 균형의 조합은 일측성 자극을 허용할 수 있고, 파형 형상을 변형함으로써, 본 명세서에 기재된 바와 같이, 전극이 각각의 콧구멍 내에 위치될 때, 자극 영역 사이의, 예를 들어 콧구멍 사이의 전환을 허용할 수 있다.
파형이 2상 펄스를 포함하는 일부 변형에서, 2상 펄스가 전하 균형이 되도록 구성되는 것이 바람직할 수 있고, 따라서 2상 펄스에 의해 전달되는 순전하는 거의 0이다. 일부 변형에서, 제1 상 및 전하 균형상이 동일한 펄스폭 및 진폭을 갖도록 2상 펄스는 대칭일 수 있다. 대칭적 2상 펄스를 갖는 것은 동일한 유형의 자극이, 예를 들어 각각의 비강에 전달되게 할 수 있다. 제1 상의 펄스는 코의 첫 번째 측면을 자극할 수 있는 반면(한편으로, 코의 두 번째 측면에 전하 균형상을 제공함), 반대상의 펄스는 코의 두 번째 측면을 자극할 수 있다(코의 첫 번째 측면에 대해 전하 균형상을 제공함).
파형이 2상 펄스를 포함하는 다른 변형에서, 2상 펄스는 비대칭일 수 있으며, 여기서 제1 펄스의 진폭 및/또는 펄스폭은 전하 균형상과 상이할 수 있다. 2상 펄스가 비대칭이라도, 2상 펄스는 전하 균형될 수 있다. 예를 들어, 캐소드 방향 펄스는 애노드 방향펄스보다 진폭은 더 낮지만, 지속기간은 더 길 수 있고, 또는 캐소드 방향 펄스는 애노드 방향 펄스보다 더 높지만 더 짧은 지속기간을 가질 수 있다. 예 둘 다에서, 2상 펄스에 의해 전달되는 순 전하가 거의 0이 되도록 전하 주입(진폭 시간 지속기간)은 각각의 펄스에 대해 동일할 수 있다.
파형의 형상은 전극 근처의 조직을 우선적으로 활성화시키도록 변화될 수 있다. 예를 들어, 도 5A 내지 도 5C는 두 전극 중 하나 근처의 조직을 우선적으로 활성화시키도록 구성된 예시적인 파형을 도시하며, 여기서, 우선적인 활성화는 시간에 따라 하나의 전극으로부터 다른 전극으로 이동할 수 있다. 자극기가 각각의 콧구멍에서 전극을 갖도록 구성된 휴대용 자극기인 변형에서, 예를 들어, 이 우선적인 활성화는 시간에 따라 변할 수 있는 두 콧구멍 중 하나에서 조직의 우선적인 활성화를 허용할 수 있다. 예를 들어, 도 5A는 펄스의 종횡비(진폭:지속기간)가 시간에 따라 변하는 2상 전하-균형 파형(518)의 변형을 나타낸다. 제1 패턴을 갖는 파형을 나타내되, 리딩 캐소드 방향 펄스는 다음의 애노드 방향 펄스에 비해 더 큰 진폭 및 더 짧은 지속기간을 가진다. 이 패턴은 (510 및 514)에 의해 표시되는 시간 기간에서 발견된다. 파형은 리딩 캐소드 방향 펄스가 다음의 애노드 방향 펄스에 비해 더 짧은 진폭 및 더 긴 지속기간을 갖는 제2 패턴을 가진다. 이 패턴은 (512 및 516)에 의해 표시되는 시간 기간에서 발견된다. 각각의 시간 기간은 임의의 적합한 지속기간을 가질 수 있고, 따라서 임의의 적합한 수의 펄스를 포함한다는 것이 인식되어야 한다. 일 예로서, 각각의 시간 기간은 약 1초 동안 지속될 수 있다. 다른 예에서, 각각의 시간 기간은 1초 미만, 약 1 내지 약 5초, 약 5 내지 약 10초, 약 10 내지 약 20초, 또는 그 이상 동안 지속될 수 있다.
일부 변형에서 파형은 갑작스런 방식으로 두 종횡비 사이에서 천이할 수 있다. 다른 변형에서, 천이는 점진적일 수 있으며, 여기서 캐소드 방향 펄스의 종횡비는 시간에 따라 증가될 수 있고, 이어서, 시간에 따라 감소될 수 있는 반면, 애노드 방향펄스의 종횡비는 시간에 따라 감소될 수 있고, 이어서 시간에 따라 증가될 수 있다. 도 5B는 종횡비 사이를 점진적으로 천이하는 파형(520)의 예를 나타낸단. 이들 증가 및 감소는 임의의 적합한 형태, 예컨대 선형 증가 및 감소 또는 또는 사인곡선 증가 및 감소를 가질 수 있다. 다른 변형에서, 천이는 톱니 형상을 가질 수 있으며, 이때 캐소드 방향 펄스의 종횡비는 시간에 따라 점진적으로 증가되는 반면, 애노드 방향펄스의 종횡비는 시간에 따라 점진적으로 감소되고, 이어서, 캐소드 방향 펄스의 종횡비는 갑자기 감소되는 반면, 애노드 방향펄스의 종횡비는 갑자기 증가된다.
일부 변형에서, 극성은 캐소드 방향 펄스가 첫 번째인 패턴과 애노드 방향펄스가 첫 번째인 패턴 사이에서 왔다갔다하면서 스위칭된다. 예를 들어, 도 5C는 이러한 자극 파형(522)의 예시적인 형태를 나타낸다. 거기에 나타내는 바와 같이, (502 및 506)으로 표시하는 시간 기간은 캐소드 방향 펄스, 다음에 애노드 방향펄스를 가질 수 있는 반면, (504 및 508)로 표시되는 시간 기간은 애노드 방향펄스 다음에 캐소드 방향 펄스를 가질 수 있다. 각각의 시간 기간은 임의의 적합한 지속기간을 가질 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 일 예로서, 각각의 시간 기간은 약 1초 동안 지속될 수 있다. 다른 예에서, 각각의 시간 기간은 1초, 약 1 내지 5초, 약 5 내지 10초, 약 10 내지 20초 동안, 또는 더 길게 지속될 수 있다. 일부 변형에서, 각각의 시간 기간은 자극 파형이 두 애노드 방향 펄스 및 두 캐소드 방향 펄스의 반복 패턴을 포함하도록, 단일 쌍의 펄스 동안 지속될 수 있다.
가변적 진폭:지속기간 종횡비를 갖는 패턴이 균일한 전하 주입을 가질 수 있지만, 그들은 두 전극 중 하나 근처의 조직을 우선적으로 활성화시킬 수 있다. 즉, 리딩 캐소드 방향 펄스가 애노드 방향펄스보다 더 큰 진폭 및 더 짧은 지속기간을 가질 때, 파형은 캐소드 방향 전극 근처에서 조직을 우선적으로 활성화시킬 수 있고; 리딩 캐소드 방향 펄스가 애노드 방향펄스보다 더 짧은 진폭 및 더 긴 지속기간을 가질 때, 파형은 애노드 방향전극 근처의 조직을 우선적으로 활성화시킬 수 있다. 본 명세서에 기재된 바와 같은 변화하는 종횡비 및 스위칭 극성은 유루 반응을 증가시킬 수 있고/있거나 자극으로부터 초래되는 눈물 조성을 변화시킬 수 있다. 이는 전환 극성이 중추 신경계에 의해 인식된 자극의 비선형 첨가를 야기하기 때문일 뿐만 아니라, 전환 극성이 자극에 대한 환자의 순응을 감소시킬 수 있기 때문일 수 있다. 추가적으로, 사용자가, 예컨대 사용자 인터페이스를 이용하는 것에 의해 우선적인 활성화 위치 또는 정도를 변화시키기 위해 2상 파형의 종횡비를 변화시킬 수 있도록 본 명세서에 기재된 일부 자극기가 구성될 수 있다. 일부 환자에 대해, 종횡비를 조절하는 것은 더 대칭적인 파형의 인식을 초래할 수 있고/있거나 더 대칭적으로 양측 치료 효과를 초래할 수 있다. 일부 예에서, 예를 들어 하나의 눈에서 다른 눈보다 더 중증의 안구 건조증을 갖는 환자에서, 비대칭적 양측 치료 효과, 또는 일측성 치료 효과를 갖는 것이 바람직할 수 있다. 이들 예에서, 환자는 목적으로 하는 비대칭적 효과를 달성하기 위해 종횡비를 조절하도록 사용자 인터페이스를 사용할 수 있다.
주파수
안구 건조증을 치료하거나 또 다르게는 조직을 자극함으로써 눈물 반응을 생성하기 위해, 본 명세서에 기재된 자극기는 표적화된 조직(예를 들어, 신경)에 적합한 주파수에서 하나 이상의 파형을 생성하도록 구성될 수 있다. 주파수는 자극의 편안함 및/또는 효능에 영향을 미칠 수 있다. 일반적으로, 주파수는 바람직하게는 약 0.1㎐ 내지 약 200㎐이다. 이들 변형 중 일부에서, 주파수는 바람직하게는 약 10㎐ 내지 약 200㎐이다. 이들 변형 중 일부에서, 주파수는 바람직하게는 약 30㎐ 내지 약 150㎐이다. 다른 이들 변형에서, 주파수는 바람직하게는 약 50㎐ 내지 약 80㎐이다. 다른 이들 변형에서, 주파수는 바람직하게는 약 30㎐ 내지 약 60㎐이다. 일부 변형에서, 주파수는 약 1.5㎐, 약 10.25㎐, 약 70㎐, 약 150㎐, 약 25㎐, 약 27.5㎐, 약 30㎐, 약 32.5㎐, 약 35㎐, 약 37.5㎐, 약 40㎐, 약 42.5㎐, 약 45㎐, 약 47.5㎐, 약 50㎐, 약 52.5㎐, 약 55㎐, 약 57.5㎐, 약 60㎐, 약 62.5㎐, 또는 약 65㎐일 수 있다. 일부 변형에서, 고주파수, 예컨대 약 145㎐ 내지 약 155㎐의 주파수는 표적 조직을 자극/활성화시키기에 각각의 펄스에 대해 너무 높을 수 있다. 그 결과, 자극은 무작위성의 구성요소를 갖도록 환자에 의해 이해될 것인데, 이는 결국 환자 습관화를 감소시키게 할 수 있다. 본 명세서에 기재된 주파수는 눈물을 생성하기 위해 눈물샘을 활성화시키는 반사회로를 개시하는 표적화된 조직의 자극에 적합할 수 있고/있거나 눈물샘에 분포하는 원심성 섬유를 직접적으로 구동시키는 데 적합할 수 있다. 일부 예에서, 주파수는 본 명세서에 기재된 바와 같은 특정 해부학적 표적의 우선적인 활성화를 위해 선택될 수 있다.
진폭
조직을 자극함으로써 안구 건조증을 치료하거나 눈물 반응을 생성하기 위해, 본 명세서에 기재된 자극기는 표적화된 조직(예를 들어, 신경)을 자극하는 데 적합한 전류를 전달하도록 구성될 수 있다. 최대 진폭 또는 이의 조절은 자극의 편안함 및/또는 효능에 영향을 미칠 수 있다. 자극이 2상 펄스를 포함하고 2상 펄스의 제1 상이 전류 제어될 때, 제1 상은 바람직하게는 약 1.0㎃ 내지 약 10㎃의 진폭을 가질 수 있다. 이들 범위 내의 진폭은 표적화된 조직을 자극하기에 충분히 높을 수 있지만, 조직의 임의의 상당한 가열, 조직의 마모 등을 회피하기에 충분히 낮다. 일부 변형에서 진폭은 약 1.0㎃ 내지 약 5.0㎃일 수 있다. 다른 변형에서, 제1 상은 진폭이 약 0.1㎃, 약 0.2㎃, 약 0.3㎃, 약 0.4㎃, 약 0.5㎃, 약 0.6㎃, 약 0.7㎃, 약 0.8㎃, 약 0.9㎃, 또는 약 1.0㎃일 수 있다. 일부 변형에서, 진폭은 가변적일 수 있다. 예를 들어, 진폭은 약 1.3㎃ 내지 약 1.5㎃, 약 2.2㎃ 내지 약 2.5㎃, 약 3.2㎃ 내지 약 3.7㎃, 약 4.3㎃ 내지 약 5.0㎃로 변할 수 있다. 2상 펄스의 제1 상이 전압 제어될 때, 제1 상은 바람직하게는 약 10㎷ 내지 약 100V의 진폭을 가질 수 있다.
자극기가 펄스 기반 파형을 전달하기 위해 구성될 때, 일부 변형에서, 펄스의 진폭은 시간에 따라 일정할 수 있다. 다른 변형에서, 펄스의 진폭은 시간에 따라 변할 수 있다. 이는 환자 순응을 감소시킬 수 있다. 일부 변형에서, 펄스의 진폭은 최소값으로부터 최대값까지 (선형으로, 지수적으로 등) 증가되고, 최소값으로 하락되며, 필요하다면 반복될 수 있다. 일부 변형에서, 펄스의 진폭은 사인곡선 프로파일에 따라 변할 수 있다. 다른 변형에서, 도 6A에 도시하는 바와 같이, 진폭은 단일 펄스에 대해 기준 진폭(A)으로부터 더 높은 진폭 (B)까지 주기적으로 증가될 수 있다. 또 다른 변형에서, 도 6B 내지 도 6C에 도시되는 바와 같이, 펄스의 진폭은 2개의 더 낮은 진폭(A, B) 사이의 주기적으로 증가 및 감소되는 패턴에 따를 수 있고, 단일 펄스에 대해(도 6B) 또는 복수의 펄스(예를 들어, 2개의 펄스)(도 6C)에 대해 더 큰 진폭(C)으로 주기적으로 증가할 수 있다. 또 다른 변형에서, 도 6D에 도시하는 바와 같이, 더 큰 진폭 펄스(또는 펄스)가 잠깐의 휴지(즉, 전류 전달 없음)에 의해 진행될 수 있다. 진폭 변조의 각각의 이들 유형은 단독으로 또는 임의의 다른 유형의 진폭 변조와 조합하여 실행될 수 있고, 환자 순응을 감소시킬 수 있다.
진폭이 시간에 따라 변하는 일부 변형에서, 진폭은 환자 순응을 감소시키는 데 또는 환자의 편안함을 증가시키는 데 적합한 주파수, 예컨대 약 0.1㎐ 내지 약 5㎐, 약 1㎐ 내지 약 5㎐, 약 1㎐ 내지 2㎐, 약 2㎐ 내지 3Hz, 약 3㎐ 내지 4㎐, 또는 약 4㎐ 내지 약 5㎐에서 변할 수 있다. 일부 변형에서, 진폭은 약 1.0㎐, 약 1.1㎐, 약 1.2㎐, 약 1.3㎐, 약 1.4㎐, 약 1.5㎐, 약 1.6㎐, 약 1.7㎐, 약 1.8㎐, 약 1.9㎐, 약 2.0㎐, 약 2.1㎐, 약 2.2㎐, 약 2.3㎐, 약 2.4㎐, 약 2.5㎐, 약 2.6㎐, 약 2.7㎐, 약 2.8㎐, 약 2.9㎐, 약 3.0㎐, 약 3.1㎐, 약 3.2㎐, 약 3.3㎐ 약 3.4㎐, 약 3.5㎐, 약 3.6㎐, 약 3.7㎐, 약 3.8㎐, 약 3.9㎐, 또는 약 4.0㎐의 주파수에서 변할 수 있다. 다른 변형에서, 자극 파형은 상기 기재한 범위의 맥놀이 주파수에서 조절될 수 있는 변조된 고주파수 신호(예를 들어, 사인곡선)일 수 있다. 이러한 변형에서, 반송 주파수는 약 100㎐ 내지 약 100kHz일 수 있다.
펄스폭
조직을 자극함으로써 안구 건조증을 치료하거나 눈물 반응을 생성하기 위해, 제1 상이 바람직하게는 약 1㎲ 내지 약 10 ms에서 펄스폭을 가질 수 있는 파형을 전달하도록 본 명세서에 기재된 자극기가 구성될 수 있다. 이들 변형 중 일부에서, 펄스폭은 약 10㎲ 내지 약 100㎲일 수 있다. 다른 변형에서, 펄스폭은 약 100㎲ 내지 약 1ms일 수 있다. 또 다른 변형에서, 펄스폭은 약 0㎲ 내지 약 300㎲일 수 있다. 또 다른 변형에서, 펄스폭은 약 0㎲ 내지 500㎲일 수 있다. 상기 기재한 바와 같이, 더 큰 직경의 신경을 바람직하게 작동시키는 펄스폭을 선택하는 것이 바람직할 수 있다. 일부 변형에서, 펄스폭은 50㎲ 내지 약 1200㎲일 수 있다. 다른 예로서, 펄스폭 30㎲ 내지 300㎲는 톱니로 이동하는 삼차 신경 (예를 들어, CN V2)의 가지의 활성화를 최소화할 수 있다.
일부 변형에서, 펄스폭은 시간에 따라 일정할 수 있다. 다른 변형에서, 펄스폭은 시간에 따라 변할 수 있다. 시간에 따른 펄스폭 변조는 자극의 효능 및/또는 편안함을 증가시킬 수 있다. 일부 변형에서, 펄스폭은 최소값으로부터 최대값까지 (선형으로, 지수적으로 등) 증가되고, 최소값으로 하락되며, 필요하다면 반복될 수 있다. 일부 변형에서, 펄스폭은 사인곡선 프로파일에 따라 변할 수 있다. 다른 변형에서, 도 7A에 도시하는 바와 같이, 펄스폭은 기준 펄스폭(A)으로부터 더 긴 펄스폭(B)까지 단일 펄스 동안 주기적으로 증가될 수 있다. 또 다른 변형에서, 도 7B 내지 도 7C에 도시한 바와 같이, 펄스폭은 2개의 더 짧은 펄스폭(A, B) 사이의 주기적으로 증가 및 감소되는 패턴에 따를 수 있고, 단일 펄스(도 7B)에 대해 또는 복수의 펄스(예를 들어, 두 펄스)(도 7C)에 대해 더 긴 펄스폭(C)으로 주기적으로 늘어날 수 있다. 또 다른 변형에서, 도 7D에 도시하는 바와 같이, 더 긴 펄스폭 펄스(또는 펄스)는 잠깐의 휴지(즉, 전류 전달 없음)에 의해 진행될 수 있다. 펄스폭 변조의 각각의 이들 유형은 단독으로 또는 임의의 다른 유형의 펄스폭 변조와 조합하여 실행될 수 있다. 임의의 형태의 펄스폭 변조에서, 펄스폭은 임의의 적합한 주파수에서 변할 수있다. 일부 변형에서 펄스폭은 약 0.1㎐, 약 0.2㎐, 약 0.3㎐, 약 0.4㎐, 약 0.5㎐, 약 0.6㎐, 약 0.7㎐, 약 0.8㎐, 약 0.9㎐, 약 1㎐, 약 1.1㎐, 약 1.2㎐, 약 1.3㎐, 약 1.4㎐, 또는 약 1.5㎐에서 다를 수 있다. 일부 변형에서, 약 0.5㎐ 내지 1㎐의 속도에서 펄스폭의 변조는 자극 동안 환자 편안함을 증가시키는 것이 바람직할 수 있다.
일부 변형에서, 펄스폭의 증가 및 감소는 자극기에 의해 실행되는 함수에 의해 정해질 수 있다. 예를 들어, 펄스폭이 지수적으로 변하도록 펄스폭은 함수에 의해 정해질 수 있다. 일 변형에서, 펄스폭을 정하는 함수는 2개의 상 - 리딩 펄스의 펄스폭이 시간에 따라 증가되는 제1상, 및 리딩 펄스의 펄스폭이 시간에 따라 감소되는 제2상을 포함할 수 있다. 제1 상 동안, 리딩 펄스의 펄스폭은 지수 함수에 따라 최대 펄스폭에 접근하며, 시간 t에서, PW{t}는 하기 식으로 정해진다
Figure pct00001
여기서, PW max 는 최대 허용 펄스폭이고, PW min 은 최소 허용 펄스폭이며,
Figure pct00002
은 시간 상수이다.
일단 사전결정된 시간의 양이 경과된다면(시간 상수
Figure pct00003
의 배수), 펄스폭 변조는 제2 상에 유입될 수 있다. 제2 상 동안, 리딩 펄스의 펄스폭은 지수 방정식에 따라 그의 최대 값으로부터 최소 값까지 지수적으로 붕괴된다
Figure pct00004
사전 결정된 양의 시간이 경과된 후에(시간 상수의 배수
Figure pct00005
), 펄스폭 변조는 제1상에 재유입될 수 있고, 주기는 반복될 수 있다. 이차적(전하 균형) 펄스의 펄스폭은 전하 완전 균형을 유지하기 위해 그에 따라 증가 및 감소된다. PWmax, PWmin, 및
Figure pct00006
은 본 명세서에 기재된 펄스폭을 달성하기 위한 임의의 적합한 값을 가질 수 있지만, 일 예에서, 파형은 PWmax 300㎲, PWmin 0㎲, 및
Figure pct00007
1/5㎲를 가질 수 있다. 다른 변형에서, 예를 들어, PWmax는 약 100㎲, 약 200㎲, 약 300㎲, 약 400㎲, 또는 약 500㎲일 수 있고; PWmin은 약 0㎲, 약 10㎲, 약 50㎲, 또는 약 100㎲일 수 있으며;
Figure pct00008
은 약 1/3㎲, 약 1/4㎲, 약 1/5㎲, 또는 약 1/6㎲일 수 있다. 지수적으로 증가 및 감소되는 펄스폭을 정하는 예시적인 함수를 도 8에 나타낸다.
온/ 오프 기간
일부 예에서, 본 명세서에 기재된 파형은 연속적 방식으로 전달될 수 있는 반면, 다른 예에서, 파형은 환자 순응을 감소시킬 수 있는 온 기간 및 오프 기간을 갖는 비연속적 방식으로 전달될 수 있다. 예시적인 온/오프 지속기간은 1초 온/1초 오프, 1초 온/2초 오프, 2초 온/1초 오프, 5초 온/5초 오프, 0.2초 온/0.8초 오프, 1초 미만의 온/10초 미만의 오프를 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다.
예시적인 파형
임의의 상기 파형 매개변수가 인식되어야 하며, 매개변수의 변형은 본 명세서에 기재된 바와 같은 일시적으로 패턴화된 파형을 생성하기 위해 조합될 수 있고, 이들 파형은 본 명세서에 기재된 임의의 자극기에 의해 전달될 수 있다. 예를 들어, 파형이 2상 펄스를 포함하는 경우의 변형에서, 2상 펄스는 임의의 적합한 주파수, 펄스폭 및 진폭을 가질 수 있다. 자극 진폭, 펄스폭 및 주파수는 펄스 간에 동일할 수 있거나, 또는 본 명세서에 더욱 상세하게 기재되는 바와 같이 시간에 따라 변할 수 있다. 이들 매개변수의 조합은 자극의 효능 및/또는 편안함을 증가시킬 수 있으며, 일부 경우에, 효능 및/또는 편안함은 본 명세서에 더욱 상세하게 기재되는 바와 같이 개개 환자에 따라 다를 수 있다. 장치 유형에 의해 범주화되는 예시적인 파형 매개변수는 이하의 표 1에 열거한다.
예시적인 파형 매개변수
장치
유형
파형 매개변수
자극 표적 온/오프 주파수
(Hz)
펄스
폭(PW)
진폭
(mA)


안구 자극기
(이식 가능)


안와 신경
(구심성 및 원심성)
상수 온 30 50㎲ 내지 1200㎲로 고정









0.1 내지 10
1초 온/
1초 오프
30
5초 온/
5초 오프
30
1초 온/
1초 오프
70
1초 온/
1초 오프
155
상수 온 삼각 방식으로 30 내지 70으로 변조됨
상수 온 30 0.5㎐에서 50㎲로부터 최대 PW까지
변조된 삼각
상수 온 30 1㎐에서 50㎲로부터 최대 PW까지 변조된 삼각
상수 온 70 0.5㎐에서 50㎲로부터 최대 PW까지 변조된 삼각

비강 자극기(휴대용 또는 이식 가능)


내부 및 외부 비강 신경
(예를 들어, 전사골 신경)
상수 온 30





0㎲ 내지 300㎲






0.1 내지 10
상수 온 50
상수 온 80
상수 온 150
1초 온/
1초 오프
30
1초 온/
1초 오프
50
1초 온/
1초 오프
80
상수 온 30
1초 온/
1초 오프
70
파형이 교번의 1상 펄스 파형인 경우의 변형에서, 자극기에 의해 전달되는 각각의 펄스는 단일상을 가질 수 있고, 연속적인 펄스는 교번의 극성을 가질 수 있다. 일반적으로, 교번의 1상 펄스는 주어진 주파수(예컨대 상기 열거된 주파수 중 하나 이상, 예컨대 30㎐ 및 80㎐)에서 쌍으로 전달되며, 쌍의 제1 펄스와 제2 펄스 사이에 내부 펄스 간격(예를 들어, 약 100㎲, 50㎲ 내지 150㎲ 등)을 가질 수 있다. 각각의 펄스는 전류 제어 또는 전압-제어될 수 있고, 연속 펄스는 전류 제어 또는 전압 제어될 필요가 없다. 펄스 파형이 전하 균형되는 일부 변형에서, 파형은 1상 펄스의 전달 후에 패시브 전하 균형상을 포함할 수 있는데, 이는 파형이 펄스 사이에서 전하 차이를 보상하는 것을 허용할 수 있다.
전기 자극 파형을 전달하기 위해 구성되는 자극기가 비강 격막의 측면 중 하나에 대해 전극을 놓도록 위치될 때, 교번의 1상 펄스는 비강 조직의 양측 자극을 촉진시킬 수 있다. 제1 상의 펄스는 코의 첫 번째 측면을 자극할 수 있는 반면(한편으로, 코의 두 번째 측면에 전하 균형상을 제공함), 반대상의 펄스는 코의 두 번째 측면을 자극할 수 있는데(코의 첫 번째 측면에 대해 전하 균형상을 제공함), 신경이 애노드 방향 및 캐소드 방향 펄스에 대해 상이하게 반응할 수 있기 때문이다. 펄스간 간격은 반대의 상 펄스에 의해 반전되기 전에 표적 신경을 활성화/극성화시키기 위해 제1상 펄스에 의해 제공되는 자극에 대한 시간을 제공할 수 있다.
본 명세서에 기재된 파형을 포함하는 자극은 이전에 전문이 참고로 포함된 미국 특허 출원 제13/441,806호; 및 전문이 이전에 참고로 포함된 미국 특허 출원 제14/256,915호에 기재된 것과 같은 자극기를 이용하여 이들 해부학적 표적에 전달될 수 있다.
환자-최적화 파형
본 발명자에 의한 실험은 일부 예에서, 자극에 의해 야기되는 유루가 특정 환자에 대한 하나 이상의 환자-최적화된 파형의 식별에 의해 증가될 수 있으며, 여기서 환자-최적화된 파형은 본 명세서에 기재된 파형 매개변수의 조합을 포함할 수 있다는 것을 발견하였다. 그렇게 해서, 환자-최적화된 파형의 식별 방법이 바람직할 수 있다. 본 발명자에 의한 실험은 또한 감각 마비가 유루와 강하게 관련되며, 따라서 감각이상의 환자 인식은 환자-최적화 파형의 식별에서 사용될 수 있다는 것을 발견하였다. 안구 영역에서 이식된 마이크로 자극기를 갖는 환자에서 환자-최적화된 파형을 얻기 위한 예시적인 방법은 도 9에 도시된다. 자극의 유효성을 증가시키기 위해(예를 들어, 눈물을 증가시키기 위해) 각각의 개체에 대해 이 방법을 수행하는 것이 바람직할 수 있다. 자극 파형(들) 및/또는 전류 스티어링은 성장 인자 수준 및/또는 삼투압몰농도를 포함하지만, 이들로 제한되지 않는 유효성의 특정 임상적 지표를 최적화하도록 구성될 수 있다.
거기에 나타낸 바와 같이, 파형은 본 명세서에 기재된 자극기를 이용하여 환자에게 파형을 포함하는 전기 자극을 전달함으로써 환자 최적화되는지의 여부를 결정하도록 평가될 수 있다. 상기 방법은 가장 낮은 진폭 및/또는 펄스폭에서 파형을 처음 전달하는 단계 및 진폭 및/또는 펄스폭이 증가됨에 따라 감각에 대한 피드백을 위해 환자에게 질문하는 단계를 포함할 수 있다. 이어서, 상기 방법은 환자가 전기 자극 동안 임의의 감각을 느끼는지의 여부를 평가하는 단계를 포함할 수 있다. 그렇지 않다면, 상이한 파형이 선택될 수 있다(예를 들어, 매개변수, 예컨대 주파수, 진폭, 펄스폭, 온/오프 기간, 또는 이들 매개변수의 일시적 변조의 상이한 조합을 가짐). 상기 방법은 환자가 불편함을 경험하지 않는다는 것을 보장하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 환자가 불편함을 경험한다면, 상기 방법은 새로운 파형에 의해 재시작될 수 있거나, 또는 진폭 및/또는 펄스폭은 불편함을 완화시키기 위해 감소될 수 있다. 유사하게, 상기 방법은 파형의 적용 동안의 감각이 환자에 대해 편안하다는 것을 보장하는 단계를 포함할 수 있다. 진폭 및/또는 펄스폭은 환자 편안함을 달성하도록 조절될 수 있다. 편안함은 환자의 감은 눈과 뜬 눈 둘 다에 의해 평가될 수 있다.
환자가 파형을 해당일에 느낀 가장 편안하고/하거나 효과적인 파형으로서 인식한다면; 그리고/또는 환자가 그/그녀의 눈이 촉촉해지는 것을 느낀다면; 그리고/또는 환자가 감각이상을 인식한다면 - 더 구체적으로는, 눈꺼풀에서의 움직임에 따라 간지러움과 떨림이 둘 다 인식된다면, 파형은 환자-최적화된 파형으로서 표기될 수 있다. 환자가 눈꺼풀의 간지러움을 인식하지만, 떨림이 없다면, 진폭 및/또는 펄스폭은 간지러움 및/또는 떨림의 증가된 인식을 달성하도록 조절될 수 있다. 환자가 떨림을 인식하지만, 간지러움은 없다면, 진폭 및/또는 펄스폭은 (예를 들어, 눈꺼풀과 눈썹 사이의) 떨림 움직임의 증가된 감각을 달성하도록 조절될 수 있다. 또한 자극의 마지막 전달 후에 환자가 감각(예를 들어, 간지러움 또는 떨림)을 느끼는 것이 바람직할 수 있다. 동정된 환자-최적화된 파형의 각각의 경우에서, 동일한 감각이 더 낮은 진폭 및/또는 펄스폭을 이용하여 달성될 수 있는지의 여부를 결정하기 위해 더 낮은 진폭 및/또는 펄스폭이 시험될 수 있다. 전류 경로의 공간적 제어를 허용하도록 구성된 자극기의 변형에서, 환자-최적화는 또한 상이한 전류 경로의 시험 또는 전류 경로의 조합을 포함할 수 있다.
도 9의 방법이 안구 영역에 위치된 이식 가능한 자극기를 갖는 환자에 대해 기재되지만, 다른 영역(예를 들어, 비강 영역) 내 이식 가능한 자극기에 대해 또는 휴대용 자극기에 대해 하나 이상의 환자-최적화된 파형을 동정하기 위해 유사한 방법이 사용될 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 일단 환자-최적화된 파형 또는 파형이 동정된다면, 자극기는 파형(들)을 전달하도록 구성될 수 있다. 일부 변형에서, 외부 장치는 동정된 파형(들)을 전달하기 위해 자극기를 구성하는 데 사용될 수 있다. 시스템이 패시브 자극 회로를 갖는 이식 가능한 자극기와 함께 사용하기 위한 제어기를 포함하는 변형에서, 동정된 자극 파형(들)을 초래하는 출력 신호를 생성하도록 구성된 제어기가 사용될 수 있다.
복수의 파형을 갖는 장치
임상의 및/또는 환자가 복수의 이용 가능한 파형으로부터 목적으로 하는 파형을 선택할 수 있도록 본 명세서에 기재된 자극기의 일부 변형은 복수의 파형에 의해 구성될 수 있다. 예를 들어, 자극기는 칩 상에서 보호된 복수의 자극 파형을 포함할 수 있다. 예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 또는 10개 초과의 자극 파형이 칩 상에서 절약될 수 있다. 일 변형에서, 2 내지 10개의 자극 파형이 칩 상에 절약된다. 다른 변형에서, 2 내지 8개의 자극 파형, 또는 3 내지 5개의 자극 파형이 장치 칩 상에서 절약될 수 있다. 일부 변형에서, 자극기 상에서 절약될 파형의 바람직한 세트는 예컨대 상기 기재한 방법을 통해 특정 환자에 대해 다양한 자극 파형의 초기 시험에 기반하여 임상의에 의해 사전 결정될 수 있다. 이는 환자에서 강한 감각이상을 유발하는 것이 되는 절약된 자극 파형에 대해 유용할 수 있는데, 본 발명자에 의한 실험은 감각 마비가 본 명세서에 기재된 바와 같은 유루와 더 강하게 관련된다는 것을 발견하였기 때문이다. 다른 변형에서, 자극기는 개개 환자에 대해 독특하지 않은 복수의 자극 파형을 지니도록 사전 구성될 수 있다.
일부 변형에서, 해당 일 동안 제공된 모든 자극에 대해, 상이한 파형은 복수의 파형으로부터 무작위로 선택될 수 있다. 각각의 시간에 상이한 파형을 무작위로 선택함으로써, 임의의 특정 자극 패턴에 대해 환자가 내성이 발생될 위험은 저하될 수 있다. 다른 실행에서, 상이한 반복적 파형으로부터의 조각을 조합할 때 "반-비반복적" 파형을 형성하도록 내부로 저장된 파형의 상이한 조합을 제공하기 위해 다중화기가 사용될 수 있다. 하나의 조합된 파형에 대해 상이한 파형을 다중화함으로써, 파형에 대한 습관화는 잠재적으로 추가로 제한될 수 있다. 복수의 가능한 전류 경로를 갖는 자극기에 대해, 동일 또는 상이한 파형은 각각의 경로를 통해 전달될 수 있다.
일부 변형에서, 환자는 자극기 상에서 절약된 복수의 자극 파형 사이에서, 예를 들어, 본 명세서에 기재된 바와 같은 사용자 인터페이스를 이용하여 선택적으로 선택할 수 있다. 이러한 사용자 인터페이스를 갖는 변형에서, 사용자 인터페이스는 하나 이상의 작동 기계를 포함할 수 있는데, 이는 사용자(즉, 환자)가 자극 파형을 제어하게 할 수 있다. 예를 들어, 사용자 인터페이스는 하나 이상의 구조, 예컨대 이하로 제한되는 것은 아니지만 버튼, 슬라이더, 레버, 터치패드, 손잡이 또는 하우징의 변형 가능한/짤 수 있는 부분을 포함할 수 있는데, 이는 사용자가 자극 파형을 변화시키는 것을 허용할 수 있다.
환자가 강도 범위를 늘림에 따라 환자가 파형을 인식할 수 있도록 상이한 파형이 구성될 수 있다. 자극기가 상이한 형상을 지니는 파형을 전달하도록 구성된 것의 변형에서, 환자는 상이한 형상을 갖는 파형을 선택함으로써(예를 들어, 처음에 캐소드 방향 펄스를 갖는 파형으로부터 처음에 애노드 방향 펄스를 갖는 파형으로 전환) 본 명세서에 기재된 바와 같은 파형에 의해 우선적으로 시뮬레이션되는 조직을 변화시킬 수 있다. 일부 변형에서, 환자가 제2의 또는 후속 치료 기간 동안 자극기를 켤 때에, 자극기는 환자에 의해 앞서 선택한 파형(예를 들어, 이전의 치료 세션 동안 사용한 파형, 복수의 치료 세션 동안 가장 통상적으로는 사용된 파형 등)에 대해 초기에 켤 수 있다.
예를 들어, 휴대용 비강 자극기가 사용되는 경우의 예에서, 사용자가 비강 조직과 접촉되는 자극기의 일부에 위치된 후에, 사용자는 복수의 자극 파형 사이에서 변함으로써 자극의 인식 강도를 증가시킬 수 있다. 불편함을 야기하는 일 없이 자극이 바람직한 감각이상(예를 들어, 아린감, 간지럼, 따끔거림)을 야기할 때까지 환자는 자극 강도를 증가시키는 것이 바람직할 수 있다. 그렇게 해서, 환자는 적절한 자극 강도를 자기 결정할 수 있고, 목적으로 하는 결과(예를 들어, 눈물 생산)를 달성하는 데 효과적인 파형으로 자극을 자기 조절할 수 있다. 불편함을 최소화하기 위해 사용자는 자극 강도를 서서히 증가시키는 것이 바람직할 수 있다. 일부 환자는 시간 과정에 걸쳐 그들이 감각 수준이 변하는 것을 선호할 수 있다. 그들은 강한 감각으로 시작한 다음에 약한 감각이 이어지는 것을 원할 수 있다. 그들은 약한 감각(예를 들어, 약한 간지러움)으로 시작한 다음에 더 강한 일시적 감각(예를 들어, 매우 짧은 시간 동안 약한 불편함)이 이어지는 것을 선호할 수 있다. 일부 환자는 강한 감각과 약한 감각이 변한다면, 자극 동안 재채기하고 싶은 느낌을 감소시킬 수 있다.
일 특정 예에서, 본 명세서에 기재된 자극기는 각각 본 명세서에 기재된 바와 같은 형상 변조, 최대 진폭 변조, 펄스폭 변조 및 주파수 변조 중 하나 이상의 조합을 갖는 복수의 상이한 파형을 전달하도록 구성될 수 있다.
하나 이상의 파형은 시간에 따라 변조되는 펄스 형상을 가질 수 있다. 도 10에 도시한 변형에서, 펄스 형상은 4개 기간 사이에서 순환될 수 있다. 제1 기간은 대칭적 상을 지니는 2상 전류 제어 파형을 포함할 수 있다. 제2 기간은 전류 제어된 제1 상, 다음에 전압 제어된 제2상을 포함할 수 있다. 이는 하나의 전극에 더 가까운 위치를 우선적으로 자극하게 할 수 있다. 제1 상은 제1 전극에 의해 공급되고 제2 전극에 의해 약해지는 전류를 가질 수 있는 반면, 제2 상은 제2 전극에 의해 공급되고 제1 전극에 의해 약해지는 전류를 가질 수 있다. 제3 기간은 대칭적 상을 지니는 2상 전류 제어 파형을 포함할 수 있다(즉, 제3 기간은 제1 기간과 동일할 수 있다). 제4 기간은 전류 제어된 제1 상, 다음에 전압 제어된 제2상을 포함할 수 있다. 제1 상은 제2 전극에 의해 공급되고 제1 전극에 의해 약해지는 전류를 가질 수 있는 반면, 제2 상은 제1 전극에 의해 공급되고 제2 전극에 의해 약해지는 전류를 가질 수 있다. 각각의 기간에, 펄스는 전하 균형될 수 있다. 펄스 형상은 임의의 적합한 주파수, 예컨대 약 0.1㎐에서 변조될 수 있다.
하나 이상의 파형은 시간에 따라 변조되는 펄스폭을 가질 수 있다. 일 변형에서, 전류 제어상의 펄스폭은 0㎲ 내지 300㎲로 변조될 수 있다. 변조는 도 11에 도시한 바와 같이 그리고 도 8에 대해 더욱 상세하게 기재하는 바와 같이, 시간에 따른 펄스폭의 증가 및 감소를 기재하는 지수 함수에 따를 수 있다.
하나 이상의 파형은 시간에 따라 변조되는 최대 진폭을 가질 수 있다. 전류 제어상의 진폭 변조는 삼각 형상, 직사각형 형상, 또는 임의의 다른 적합한 형상에 근접할 수 있다. 다양한 주파수에서 예시적인 진폭 변조는 직사각형 형상을 갖는 진폭 변조(도 12B) 및 삼각 형상에 근접한 진폭 변조(도 12C 내지 도 12E)를 나타내는 도 12A 내지 도 12E에 도시된다. 최대 진폭은 임의의 적합한 주파수, 예컨대 약 0.5㎐ 내지 약 3㎐에서 변조될 수 있다. 일부 다른 변형에서, 최대 진폭은 도 12A에 나타낸 바와 같이 일정할 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
도 13a 내지 도 13e는 각각 예시적인 파형(1310, 1320, 1330, 1340 및 1350)을 도시하되, 이들 매개변수 중 하나 이상은 시간에 따라 변조되고, 각각의 변조 유형은 다른 변조 유형과 독립적이고 동시에 발생할 수 있다. 도 13e 상의 박스(1302, 1304 및 1306)는 형상, 펄스폭 및 최대 진폭의 변조를 각각 강조한다. 일부 변형에서(예를 들어, 도 13b 내지 도 13e의 변형) 모두 3개의 형상, 펄스폭 및 최대 진폭이 시간에 따라 변조되지만, 파형의 다른 변형에서(예를 들어, 도 13a), 이들 매개변수 중 단지 1 또는 2개가 시간에 따라 변조될 수 있다는 것이 인식되어야 한다.
도 13a 내지 도 13e의 5개 파형은 자극기(예를 들어, 도 4a 내지 도 4c에 대해 상기 기재한 자극기(400), 또는 도 2A 내지 도 2C에 대해 상기 기재한 마이크로 자극기(200))에 대해 이용 가능할 수 있고, 환자가 5개의 상이한 파형 사이에서 선택을 위해 사용자 인터페이스(예를 들어, 두 버튼을 포함하는 인터페이스)를 선택할 수 있도록, 자극기가 구성될 수 있다. 장치의 일부 변형에서, 장치가 치료 기간 동안 사용되고, 전원이 꺼지며, 추가 치료 기간 동안 복귀될 때, 장치는 사용한 마지막 자극 설정으로 자동적으로 복귀될 수 있다.
도 13a에 도시한 설정 1은 자극 주파수 30㎐; 최소 자극 전류 진폭 0.7㎃, 최대 자극 전류 진폭 0.7㎃, 및 따라서 최대 자극 전류 진폭의 변형 없음(도 12A에 나타낸 바와 같음); 최소 펄스폭 0㎲; 최대 펄스폭 300㎲; 펄스폭 변조 주파수 1㎐(지수 함수에 따른 상승 및 하락, 도 11에 나타낸 바와 같음); 상 당 최소 전하 주입(0㎲ 펄스폭에서) 0μC; 상 당 최대 전하 주입(0.7㎃ 및 300㎲에서) 0.21μC; 및 도 10에 대해 상기 기재한 바와 같이 변조된 펄스 형상을 가질 수 있다.
도 13b에 도시한 설정 2는 자극 주파수 37.5㎐; 최소 자극 전류 진폭 1.33㎃, 최대 자극 전류 진폭 1.5㎃, 최대 자극 전류 진폭의 변화 0.17㎃ 및 진폭 변조 주파수 2.1Hz(도 12B에 나타낸 바와 같음); 및 최소 펄스폭 0㎲; 최대 펄스폭 300㎲; 펄스폭 변조 주파수 1㎐(지수 함수에 따른 상승 및 하락, 도 11에 나타낸 바와 같음); 상 당 최소 전하 주입(0㎲ 펄스폭에서) 0μC; 상 당 최대 전하 주입(1.5㎃ 및 300㎲에서) 0.45μC; 및 도 10에 대해 상기 기재한 바와 같이 변조된 펄스 형상을 가질 수 있다.
도 13c에 도시한 설정 3은 자극 주파수 45㎐; 최소 자극 전류 진폭 2.17㎃, 최대 자극 전류 진폭 2.5㎃, 최대 자극 전류 진폭의 변화 0.33㎃ 및 진폭 변조 주파수 2.6Hz(도 12C에 나타낸 바와 같음); 및 최소 펄스폭 0㎲; 최대 펄스폭 300㎲; 펄스폭 변조 주파수 1㎐(지수 함수에 따른 상승 및 하락, 도 11에 나타낸 바와 같음); 상 당 최소 전하 주입(0㎲ 펄스폭에서) 0μC; 상 당 최대 전하 주입(2.5㎃ 및 300㎲에서) 0.75μC; 및 도 10에 대해 상기 기재한 바와 같이 변조된 펄스 형상을 가질 수 있다.
도 13d에 도시한 설정 4는 자극 주파수 52.5㎐; 최소 자극 전류 진폭 3.2㎃, 최대 자극 전류 진폭 3.7㎃, 최대 자극 전류 진폭의 변화 0.5㎃ 및 진폭 변조 주파수 2.8Hz(도 12D에 나타낸 바와 같음); 및 최소 펄스폭 0㎲; 최대 펄스폭 300㎲; 펄스폭 변조 주파수 1㎐(지수 함수에 따른 상승 및 하락, 도 11에 나타낸 바와 같음); 상 당 최소 전하 주입(0㎲ 펄스폭에서) 0μC; 상 당 최대 전하 주입(3.7㎃ 및 300㎲에서) 1.11μC; 및 도 10에 대해 상기 기재한 바와 같이 변조된 펄스 형상을 가질 수 있다.
도 13e에 도시한 설정 5는 자극 주파수 60㎐; 최소 자극 전류 진폭 4.3㎃, 최대 자극 전류 진폭 5.0㎃, 최대 자극 전류 진폭의 변화 0.67㎃ 및 진폭 변조 주파수 2.5Hz(도 12E에 나타낸 바와 같음); 및 최소 펄스폭 0㎲; 최대 펄스폭 300㎲; 펄스폭 변조 주파수 1㎐(지수 함수에 따른 상승 및 하락, 도 11에 나타낸 바와 같음); 상 당 최소 전하 주입(0㎲ 펄스폭에서) 0μC; 상 당 최대 전하 주입(5.0㎃ 및 300㎲에서) 1.5μC; 및 도 10에 대해 상기 기재한 바와 같이 변조된 펄스 형상을 가질 수 있다.
이들 매개변수 조합을 갖는 파형을 통해, 큰 매개변수 공간이 단순한 사용자 인터페이스 및 제한된 수의 설정을 지니는 단일 장치 상에서 제공될 수 있다. 이들은 매개변수가 각각의 환자에 대해 개개로 조율되는 파형으로서 개개 환자에 대해 효과적이거나 또는 거의 효과적인 파형을 전달하도록 제한된 수의 사전 고정 파형을 갖는 단일 장치의 능력을 증가시킬 수 있다.
실시예
다음의 실시예는 본 명세서에 개시된 바와 같은 전기자극 패턴 및 그들의 효과를 추가로 도시하며, 그들의 범주를 제한하는 임의의 방법으로서 해석되어서는 안 된다.
실시예 1: 누액 이식물을 이용하는 자극
안구 영역에서 이식된 마이크로 자극기를 갖는 환자는 30㎐ 비-패턴화된 자극(대조군)에 의해 그리고 온/오프 패턴(1초 온 /I초 오프, 2초 온/2초 오프 및 5초 온/5초 오프)에 의해 상이한 주파수(30㎐, 70㎐ 및 155㎐)에서 시험하였다. 이식된 마이크로 자극기는 도 2A 내지 도 2C에 나타내고 본 명세서에 기재한 특징을 가진다.
자극의 환자 인식은 30㎐ 비-패턴화된 파형 제어와 일시적으로 패턴화된 파형 간에 상이하였다. 구체적으로, 30㎐ 비-패턴화된 파형을 수신하는 3명의 환자가 자극 기간에 걸쳐 점점 희미해지는 그들의 파형을 인식한 반면, 일시적으로 패턴화된 파형을 수신할 때, 자극 기간에 걸쳐 파형 페이딩(fading)의 인식을 보고한 환자는 없었다. 자극이 30㎐, 1초 온/오프 파형("패턴 1")이었을 때, 3명의 환자는 파형을 연속적인 것으로 인식한 반면, 15명은 파형을 간헐적인 것으로 인식하였다. 자극이 30㎐였을 때, 5초 온/오프 파형("패턴 2")이었을 때, 모든 환자는 파형을 간헐적인 것으로 인식하였다. 자극이 70㎐, 1초 온/오프 파형("패턴 3")이었을 때, 2명의 환자는 파형을 연속적인 것으로 인식하였고, 10명은 파형을 간헐적인 것으로 인식하였다. 환자는 그들이 패턴 3을 다른 파형보다 "더 강한", "더 빠른" 그리고 "더 뾰족한" 것으로 인식한다는 것을 보고하였다. 자극이 155㎐, 1초 온/오프 파형("패턴 4")이었을 때, 환자가 파형을 연속적 또는 간헐적으로서 인식하는지 여부는 진폭-의존적이며, 파형의 보고를 "더 약한", "강한" 또는 "핀치"로서 포함하는 정량적 인식의 범위에 있다.
게다가, 환자는 감각이상의 양 및/또는 위치 변화를 보고하였다. 도 14a는 30㎐ 비-패턴화된 파형을 이용하는 자극에 의해 느껴지는 감각이상의 영역(1402)을 도시한다. 일시적으로 패턴화된 파형에 의해, 환자는 도 14b에 나타내는 바와 같은 감각이상의 움직임을(떨림 및/또는 간질거림의 형태로) 느꼈다(떨림 및/또는 따끔거림은 화살표(1404)의 방향에서 그들의 눈꺼풀을 따라 이동됨). 도 14c에 나타낸 바와 같이, 일부 환자는 일 영역(1408)에서 연속적으로 존재하는 떨림을 느꼈고, 다른 영역(1406)에서 연속적으로 존재하거나 부분적으로 나타내고 다시 나타나는 감각 또는 간질거림을 느꼈다. 다른 환자는 눈썹 중 하나 또는 둘 다를 따라서 및/또는 코를 따라서 또는 코에서 연장되는 영역(1410)으로서 도 14d에서 나타낸 일시적으로 패턴화된 파형을 지니는 감각이상을 지니는 환부의 증가를 경험하였다.
자극의 중단 후에 환부 인식은 또한 30㎐ 비-패턴화된 파형과 일시적으로 패턴화된 파형 간에 상이하였다. 환자가 제어의 중단 후에 감각이상을 인식하지 못 한다면, 환자는 패턴 1, 3 및 4의 중단 후에 아린감의 형태로 감각이상을 인식하는 것으로 보고되었다.
셔머 스코어는 30Hz 비패턴화된 파형 제어에 비해 일시적으로 패턴화된 파형으로 증가되었다. 패턴 1에 의해, 환자의 1/3은 셔머 스코어가 50%만큼 증가되었다. 패턴 3에 의해, 환자의 3/4은 셔머 스코어가 50 내지 100%만큼 증가되었다. 패턴 4에 의해, 환자의 3/8은 셔머 스코어가 100% 이상만큼 증가되었다.
일부 일시적으로 패턴화된 파형은 또한 추가적인 이점이 제공되었다. 예를 들어, 패턴 1은 대조군보다 더 적은 전력을 사용하는 한편 환자 순응을 감소시켰고; 패턴 4는 신경 자극과 차단을 둘 다 허용하였다.
실시예 2: 누액 이식물을 이용하는 자극(2)
안구 영역에 이식된 마이크로 자극기를 갖는 환자에서, 일시적으로 패턴화된 파형의 사용은 기저눈물(대조군 1 = 전기 자극 없음)에 비해 그리고 30㎐에서의 자극(비- 패턴화된)(대조군 2)에 비해 셔머 시험에 의해 측정한 바와 같은 유루의 증가를 생성하였다. 이식된 마이크로 자극기는 도 2A 내지 도 2C에 나타내고 본 명세서에 기재한 특징을 가진다. 데이터는 이하의 표 2에서 제공하며, 기저 눈물(좌측, 자극 없음)로부터 30㎐ 비-패턴화된 파형 자극(중간) 내지 일시적으로 패턴화된, 환자-최적화된 자극 파형(우측)까지의 평균 눈물 결과를 비교하는 막대 그래프를 도 15에 나타낸다. 표 2의 데이터에 기반하여, 기저 눈물에 대한 평균 값은 4.71㎜였고, 30Hz에서 비-패턴화된 자극에 대한 평균 값은 4.96㎜이며, 일시적으로 패턴화된 자극을 사용하였을 때 평균 값은 8.29㎜였다. 전반적으로, 30㎐에서 비-패턴화된 자극을 이용하는 평균 셔머 스코어의 증가는 기저눈물에 비해 약 5%였고, 일시적으로 패턴화된 파형을 이용하는 평균 셔머 스코어의 증가는 기저눈물에 비해 약 76%였다. 따라서, 환자-최적화된 패턴 파형은 30㎐ 비-패턴화된 파형보다 훨씬 떠 큰 양으로(이 경우에, 70% 지점) 눈물을 증가시킬 수 있었다.
12명 환자로부터의 셔머 스코어.
이식된 측면 기본 셔머 스코어(mm) 30㎐ 비-패턴화된 셔머 스코어(mm) 패턴화된 셔머 스코어(mm) 패턴화된 파형
평균 평균 평균
8 5 6.5 3 4 3.5 8 5 6.5 약 30%만큼 변조된 30Hz 진폭
3 8 5.5 3 5 4 5 8 6.5 약 30%만큼 변조된 70Hz 진폭
3 2 2.5 3 5 4 3 8 5.5 70Hz 1초 온, 1초 오프
2 3 2.5 5 5 5 5 3 4 약 30%만큼 변조된 70Hz 진폭
12 18 15 10 9 9.5 13 19 16 100%만큼 변조된 30Hz 진폭
4 3 3.5 6 6 6 7 7 7 약 30%만큼 변조된 70Hz 진폭
2 3 2.5 3 3 3 8 7 7.5 30㎐ 1초 온, 1초 오프
5 7 6 5 5 5 8 8 8 70Hz 1초 온, 1초 오프
2 2 2 2 1 1.5 5 5 5 약 30%만큼 변조된 70Hz 진폭
4 2 3 12 6 9 18 12 15 30㎐ 5초 온, 5초 오프
4 2 3 7 2 4.5 7 7 7 30㎐ 1초 온, 1초 오프
4 5 4.5 5 4 4.5 7 16 11.5 무작위화된 주파수-변조된 30Hz 내지 70Hz
일시적으로 패턴화된 파형은 자극 동안 감각이상을 느끼지 못한 환자에서 또는 단기(예를 들어, 자극이 연속적으로 공급되지 않는다고 해도 느껴지는 감각이상의 30초 미만, 종종 단지 10초 미만) 감각이상만을 경험한 환자에서 감각이상을 생성할 수 있었다. 새로 획득된 또는 재획득된 감각이상은 추가로 유루의 증가를 수반하였고, 환자 만족도를 개선시켰다.
환자는 종종 자극 동안 떨림, 자극 중단 동안(예를 들어, 1초 온/1초 오프 패턴을 갖는 파형의 오프 부분 동안) 그리고 적용 후 자극을 중단한 후 몇 초 또는 몇 분 동안 특정 경우에서 따끔거림을 보고하였고, 떨림 또는 따끔거림은 눈꺼풀 및 눈썹을 따라서, 이 두 경우에 그들의 비강 영역(코 외부 및/또는 내부)에서조차, 물리적으로 이동되는 환자 느낌의 몇몇 보고가 있었다. 환자 수용은 일반적으로 매우 긍정적이었다.
실시예 3: 누액 이식물을 이용하는 자극(3)
19명의 환자는 안구 영역에 이식된 마이크로 자극기를 가졌다. (이들 환자 중 12명은 실시예 2에서와 동일한 환자이다) 각각의 환자에 대해, 환자-최적화된 일시적으로 패턴화된 파형은 상기 기재한 바와 같은 안와 영역에서 보고된 감각이상을 최대화하기 위해 파형 주파수, 펄스폭 및 온/오프 기간을 변조시키는 한편 환자 피드백을 모으는 것에 의해 결정하였다.
각각의 파형은 각각의 환자에 대해 동일한 제어기/활력제를 이용하여 제공되었다. 각각의 환자에 대해 시험한 파형은 하기를 포함하였다:
- 30㎐
- 30㎐, 1초 온, 1초 오프
- 30㎐, 5초 온, 5초 오프
- 70㎐, 1초 온, 1초 오프
- 30㎐, 100%로부터 0%로 그리고 1초에 100%로 다시 변조된 펄스폭
- 30㎐, 100%로부터 70%로 그리고 1초에 100%로 다시 변조된 펄스폭
- 70㎐, 100%로부터 70%로 그리고 1초에 100%로 다시 변조된 펄스폭
- 5㎐의 단계에 의해 거의 선형 방식으로 30㎐ 내지 70㎐로 변조되고(즉, 주파수 변조, 30㎐, 35㎐, 40㎐, 50㎐, 55㎐, 60㎐, 65㎐, 70㎐의 증가 부분에 대해), 1초에 위 아래로 변조된(70에서 30으로, 그리고 1초에 다시 70으로) 주파수
- 무작위 방식으로 30㎐로부터 70㎐까지 5㎐ 간격의 주파수(30㎐, 35㎐, 40㎐, 45㎐, 55㎐, 60㎐, 65㎐, 70㎐)로 변조된 주파수
환자는 하기를 포함하는 각각의 파형에 대한 일련의 질문을 받았다:
- 파형이 불편함을 야기하는지의 여부;
- 그들이 30㎐ 비-패턴화된 파형, 및 동일한 날에 이미 시험한 임의의 다른 파형을 포함하여, 파형으로부터 다른 파형까지의 감각을 비교하는 방법;
- 그들의 눈이 촉촉하게 되는 감각을 갖는지의 여부;
- 그들이 간질거림 및 떨림의 조합을 느꼈는지의 여부;
- 감각(간질거림 및/또는 떨림)이 움직이고 있는 것 같이 느껴지는 지의 여부(이는 더 적은 순응 가능성을 시사함); 및
- 감각의 위치.
환자가 상부 눈꺼풀에서 감각을 느끼는 것은 바람직할 수 있는데, 이는 누액 및 안와내 전두신경의 활성화에 대응할 가능성이 있는 것으로 고려되기 때문이다. 더 가까울수록 감각은 눈 그 자체에 대한 것이며, 감각이상 영역이 더 클수록, 더 최적의 파형이 등급화되었다. 추가적으로, 삼차 신경(CN VI)의 안구 가지의 감각 경로에 대응하는 위치에서 간질거림 및 떨림 감각의 혼합으로서 인식된 파형이 바람직할 수 있었다. 이들 위치는 눈꺼풀뿐만 아니라 눈썹, 이마의 관자놀이 영역, 코(특히 코 내부), 및 이마의 특정 영역을 포함하였다.
각각의 환자에 대해, 3가지 셔머 스코어를 기록하였다: 임의의 자극이 없는 기저 셔머 스코어("기저 셔머"), 30㎐ 비-패턴화된 파형의 적용 동안의 급성 셔머 스코어("30㎐ 셔머"), 및 각각의 환자에 대해 환자-최적화된 패턴화된 파형의 적용 동안의 급성 셔머 스코어("패턴화된 셔머").
평균 양측 30㎐ 셔머 스코어 및 평균 양측 패턴화된 셔머 스코어는 둘 다 평균 양측 기저 셔머 스코어보다 더 높았다. 평균 양측 패턴화된 셔머 스코어는 평균 양측 30㎐ 셔머 스코어보다 더 높았다. 평균 양측 셔머 스코어에 대한 특정 데이터를 도 16a에 나타낸다. 거기에 나타낸 바와 같이, 중증의 DED(기저 셔머 스코어가 10㎜미만인 것으로 정의함)를 지니는 15명의 환자는 평균이 30㎐ 셔머 스코어에 대해 기저 셔머 스코어 이상으로 22% 증가 및 패턴화된 셔머 스코어에 대해 기저 셔머 스코어 이상으로 78% 증가였다.
더 많은 환자는 30㎐ 비-패턴화된 파형보다 환자-최적화된 일시적 패턴화된 파형을 이용하여 자극했을 때 증가된 양측 셔머 스코어를 나타내었다. 도 17A 내지 도 17B에 나타낸 바와 같이, 중증의 DED를 지니는 15명의 환자 중에서, 비반응자의 수는 30㎐ 파형을 이용하여 47%(도 17A에 나타낸 바와 같음)로부터 환자-최적화된 일시적으로 패턴화된 파형을 이용하여 20%까지(도 17B에 나타낸 바와 같음)감소되었다.
동측성(즉, 안구 이식물과 동일측 상의 눈), 대측성(즉, 안구 이식물과 반대측의 눈), 및 양측(즉, 양쪽 눈의 평균) 셔머 스코어의 비교는 단일 안구 이식물로부터의 자극이 양측 눈물 생산을 초래하였지만, 효과는 환자-최적화된 일시적으로 패턴화된 파형 자극에 대해 더 확연하였다는 것을 나타내었다. 동측성 30㎐ 셔머 스코어는 양측 30㎐ 셔머 스코어보다 더 높은 것을 발견하였는데, 이는 30㎐ 자극이 대측성 눈보다 동측성눈에서 더 많은 눈물 생산을 초래한다는 것을 나타내고; 대조적으로, 대측성 30㎐ 셔머 스코어는 양측 30㎐ 셔머 스코어보다 더 낮은 것을 발견하였는데, 이는 30㎐ 자극이 동측성 눈보다 대측성 눈에서 더 적은 눈물 생산을 초래하였다는 것을 나타낸다.
대조적으로, 동측성과 대측성 패턴화된 셔머 스코어는 양측 패턴화된 셔머 스코어와 유사한 것을 발견하였다. 이는 환자 최적화된 일시적으로 패턴화된 파형이 동측성과 대측성 눈 둘 다에서 눈물 생산을 자극함에 있어서 동일하게 효과적이 되도록, 일시적으로 패턴화된 자극이 30㎐ 자극보다 대측성 눈에서 눈물 생산을 더 양호하게 자극하였다는 것을 시사하였다. 이는 직접 구동(누선 신경만)에 더해지는 반사 구동(누선 및 전두 신경을 자극함으로써 활성화됨)의 결과라는 가설을 세웠다. 도 16b는 중증의 DED를 지니는 15명의 환자에 대한 대측성 셔머 스코어를 나타낸다. 거기에 나타낸 바와 같이, 환자는 평균이 30㎐ 셔머 스코어에 대해 기저 셔머 스코어 이상으로 9% 증가 및 패턴화된 셔머 스코어에 대해 기저 셔머 스코어 이상으로 82% 증가였다.
스위칭 주파수에 의해, 선형으로 또는 무작위로, 환자들은 떨림 및 간질거림의 혼합을 경험하였다. 1초 온/1초 오프에서 70Hz의 더 고주파수로 변경하고/하거나, 주파수를 변조하고/하거나(5Hz 증분으로 30 내지 70㎐), 펄스폭을 변화시킴으로써, 특정 환자는 떨림에 추가적으로 간질거림, 간질거림 단독 또는 종종 간질거림의 움직이는 감각과 조합된 움직이는 떨림 인상의 감지를 보고하였다. 또한 환자-최적화된 일시적으로 패턴화된 파형에 의한 자극은 이식물을 더 빨리 그리고 반복적으로 결합하기 위해 환자가 활력제/제어기를 보유하기 위한 위치를 찾게 한다는 발견하였다.
실시예 4: 비강 점막의 전기적 자극
패턴화된 파형을 도 4a 내지 도 4c에 대해 기재한 바와 같은 장치를 이용하여 대상체의 비강 점막에 전달하였다. 전달된 일시적으로 패턴화된 파형은 도 13a 내지 도 13e에 나타내고 본 명세서에 기재한 파형뿐만 아니라 1초 온/오프 및 5초 온/오프의 온/오프 기간으로 30㎐, 70㎐, 및 155㎐에서의 파형을 포함하였다. 비패턴화된 자극과 동일한 수준에서 눈물 출력이 달성되는 한편, 대상체가 재채기하는 경향은 감소될 수 있었다. 대상체는 또한 대부분의 경우에 개선된 감각 인상으로서 보인 비강 마사지 느낌을 보고하였다. 대상체는 더 나아가 비강 자극 동안 증가된 자극 진폭을 사용하여 불편함 없이 증가된 눈물을 야기할 수 있었는데, 자극을 위해 사용한 전하의 최대 진폭이 단시간 동안만 적용되었기 때문이다. 대상체 수용은 일반적으로 매우 긍정적이었다.
실시예 5: 전두 신경 자극(토끼)
토끼는 그의 좌측 전두 신경 영역 내로 미세한 무선 전극이 이식되었고, 자극은 0.1㎃ 내지 5.0㎃ 사이의 진폭으로 30㎐에서 적용되었다. 자극 및 기준선 측정을 각각 3회 반복하였다. 이하의 표 3 및 도 18에 나타낸 바와 같이, 증가된 유루가 30㎐(비-패턴화된) 파형에 의해 관찰되었지만, 유루의 증가는 자극 전달 동안 취한 셔머 스코어에 의해 측정한 바와 같이, 각각 10초의 온 및 오프 기간으로 일시적으로 패턴화된 자극을 이용할 때 더 확연하였다.
기준 패턴화된 파형 30㎐
평균 표준 편차 평균 표준 편차 평균 표준 편차
자극 없음 오른쪽 눈 5.5 0.7 7.8 0.4 5.3 3.2
자극한 눈 좌측
5.0 1.4 16.5 2.8 9.0 2.8

Claims (21)

  1. 치료가 필요한 환자에서의 안구 건조증의 치료 방법으로서,
    상기 환자의 비강 점막을 제1 전극과 접촉시키는 단계; 및
    상기 환자의 조직을 통해 상기 전극으로부터의 전류를 복귀 접점에 전달하는 단계를 포함하되,
    상기 전극은 자극기의 자극기 프로브의 비강 삽입 프롱(nasal insertion prong) 상에 위치되고, 상기 복귀 접점은 상기 자극기의 자극기 몸체 상에 위치되며, 상기 자극기 프로브는 상기 자극기 몸체에 가역적으로 부착될 수 있는, 안구 건조증의 치료 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 환자의 조직을 통해 상기 제1 전극으로부터의 전류를 제2 전극에 전달하는 단계를 더 포함하되, 상기 제2 전극은 상기 비강 삽입 프롱 상에 위치되는, 안구 건조증의 치료 방법.
  3. 제2항에 있어서, 전류는 상기 제1 전극으로부터 상기 복귀 접점까지 그리고 상기 제1 전극으로부터 상기 제2 전극까지 동시에 전달되는, 안구 건조증의 치료 방법.
  4. 제2항에 있어서, 전류는 상기 제1 전극으로부터 상기 복귀 접점까지 그리고 상기 제1 전극으로부터 상기 제2 전극까지 순차적으로 전달되는, 안구 건조증의 치료 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 전극은 상기 전측 비강 내 비강 점막과 접촉되는, 안구 건조증의 치료 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1 전극은 전측 위치의 비강 점막을 상기 비강의 중간 또는 하위의 비갑개와 접촉시키는, 안구 건조증의 치료 방법.
  7. 자극기 몸체 및 자극기 프로브를 포함하는 자극기를 이용하는 안구 건조증을 갖는 환자의 치료 방법으로서, 상기 자극기 프로브는 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 비강 삽입 프롱을 포함하되, 하기 단계들을 포함하는, 안구 건조증을 갖는 환자의 치료 방법:
    상기 비강 삽입 프롱을 상기 환자의 콧구멍 내로 삽입하는 단계;
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 상기 환자의 격막의 제1 측면 상의 비강 점막과 접촉되도록 위치시키는 단계;
    복귀 접점을 상기 환자의 조직과 접촉되도록 위치시키는 단계; 및
    상기 제1 전극으로부터 상기 제2 전극까지, 그리고 상기 제1 전극으로부터 상기 복귀 접점까지 전기 자극 파형을 전달하는 단계.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 상기 비강 삽입 프롱의 길이를 따라서 길이 방향으로 이격된, 안구 건조증을 갖는 환자의 치료 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 상기 비강 삽입 프롱의 원주 주위로 방사상으로 이격된, 안구 건조증을 갖는 환자의 치료 방법.
  10. 제7항에 있어서, 상기 환자의 상기 격막의 제2 측면 상에서 상기 비강 점막과 접촉되도록 위치된 전극이 없고, 상기 전기 자극 파형의 전달은 양측 유루(bilateral lacrimation)를 초래하는, 안구 건조증을 갖는 환자의 치료 방법.
  11. 전기 자극을 환자의 비강 점막에 전달하는 장치로서,
    비강 삽입 프롱을 포함하는 자극기 프로브로서, 상기 비강 삽입 프롱의 원위 부분은 제1 전극 및 제2 전극을 포함하되, 상기 제1 전극은 전류를 전달하도록 구성된, 상기 자극기 프로브;
    상기 비강 삽입 프롱의 기저에서 상기 자극기 프로브 상에 위치된 복귀 접점; 및
    상기 환자가 제1 전극과 제2 전극 사이에서 그리고 상기 제1 전극과 상기 복귀 접점 사이에서 전달된 전류의 양을 조절하도록 구성된 사용자 인터페이스를 포함하는, 전기 자극을 환자의 비강 점막에 전달하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 하이드로겔을 포함하는, 전기 자극을 환자의 비강 점막에 전달하는 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 복귀 접점은 하이드로겔을 포함하는, 전기 자극을 환자의 비강 점막에 전달하는 장치.
  14. 제11항에 있어서, 상기 복귀 접점은 고리 형상을 가지고, 콧구멍에서 조직과 접촉되도록 구성된, 전기 자극을 환자의 비강 점막에 전달하는 장치.
  15. 안구 건조증을 갖는 환자의 비강 점막에 전기 자극을 전달하는 장치로서,
    첫 번째 콧구멍 내로 삽입되도록 구성된 제1 비강 삽입 프롱으로서, 제1 전극을 포함하는, 상기 제1 비강 삽입 프롱;
    두 번째 콧구멍 내로 삽입되도록 구성된 제2 비강 삽입 프롱으로서, 제2 전극을 포함하는, 상기 제2 비강 삽입 프롱; 및
    사용자 인터페이스를 포함하되,
    상기 장치는 2상 전하 균형 펄싱(charge-balanced pulsed) 파형을 전달하도록 구성되고, 상기 사용자 인터페이스는 상기 환자가 파형의 진폭:지속기간 종횡비를 조절하도록 구성된, 안구 건조증을 갖는 환자의 비강 점막에 전기 자극을 전달하는 장치.
  16. 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법으로서,
    적어도 3개의 전기 접점을 포함하는 장치를 이용하여 환자의 조직에 전기 자극을 전달하는 단계로서, 상기 전기 자극은 전달 동안 상기 적어도 3개의 전기 접점 사이에서 하나 이상의 경로를 취하고, 상기 전기 자극의 하나 이상의 경로는 전달 동안 시간에 따라 변하는, 상기 전기 자극을 전달하는 단계를 포함하는, 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 전류의 제1 양이 제1 경로를 취하고, 전류의 제2 양이 제2 경로를 취하도록 상기 전기 자극은 적어도 3개의 전기 접점 사이에서 2개의 경로를 취하며, 상기 제1 양 대 상기 제2 양의 비는 전달 동안 시간에 따라 변하는, 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법.
  18. 제16항에 있어서, 상기 장치는 이식 가능한, 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법.
  19. 제17항에 있어서, 상기 제1 양 대 상기 제2 양의 비는 상기 장치의 사용자 인터페이스를 이용하여 상기 환자에 의해 변화되는, 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법.
  20. 제16항에 있어서, 상기 장치는 단일 비강 삽입 프롱을 가지되, 상기 비강 삽입 프롱은 2개의 전극을 포함하는, 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 장치는 자극기 몸체를 포함하되, 상기 자극기 몸체는 전류를 전달하거나 또는 복귀 접점으로서 작용하도록 구성된 전기 접점을 포함하는, 환자에서 눈물 생산을 증가시키는 방법.
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