KR20160115778A - 여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 화합물 - Google Patents

여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 화합물 Download PDF

Info

Publication number
KR20160115778A
KR20160115778A KR1020160034684A KR20160034684A KR20160115778A KR 20160115778 A KR20160115778 A KR 20160115778A KR 1020160034684 A KR1020160034684 A KR 1020160034684A KR 20160034684 A KR20160034684 A KR 20160034684A KR 20160115778 A KR20160115778 A KR 20160115778A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
compound
integer
phenylimine
filtration
Prior art date
Application number
KR1020160034684A
Other languages
English (en)
Inventor
이사오 히라노
Original Assignee
도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 filed Critical 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
Publication of KR20160115778A publication Critical patent/KR20160115778A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/24—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D39/00—Filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D39/14—Other self-supporting filtering material ; Other filtering material
    • B01D39/16—Other self-supporting filtering material ; Other filtering material of organic material, e.g. synthetic fibres
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D39/00—Filtering material for liquid or gaseous fluids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C249/02—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of compounds containing imino groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/04—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C251/10—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
    • C07C251/16—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having carbon atoms of imino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/34—Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2239/00—Aspects relating to filtering material for liquid or gaseous fluids
    • B01D2239/10—Filtering material manufacturing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Filtering Materials (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

식(1-0)로 나타내는 화합물 또는 그 유도체를 중합해 얻어진 고분자 화합물을 이용하는 여과 재료; 방향환과 카르보닐기를 가지고, 방향환이 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기 및 인산기의 적어도 1개를 가지는 화합물(K)과, 1개 이상의 아미노기를 가지는 탄화수소 화합물(A)을 반응시켜 식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물을 얻는 페닐이민 화합물의 제조 방법; 페닐이민 화합물과, 알킬화제를 반응시키는 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법. [R1은 중합성기 함유 탄화수소기; R2는 탄화수소기; R3은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기 또는 인산기; n1은 1~5이다.]

Description

여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 화합물{FILTERING MATERIAL, FILTER, METHOD OF FILTRATION, METHOD OF PRODUCING PHENYLIMINE COMPOUND, METHOD OF PRODUCING ALKOXYPHENYLIMINE COMPOUND, COMPOUND}
본 발명은 여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 및 화합물에 관한 것이다.
본원은 2015년 3월 26일에 일본에 출원된 일본 특원 2015-64068호에 근거해 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
반도체소자나 액정 표시 소자의 제조에서, 기판 위에 미세한 패턴을 형성하고, 이것을 마스크로 하여 에칭을 실시함으로써 상기 패턴의 하층을 가공하는 패턴 형성 방법이 이용된다. 미세한 패턴의 형성에는 레지스트 조성물을 이용한 리소그래피법이 널리 채용되고 있다.
리소그래피법에서는 기판 등의 지지체 위에 수지 등의 기재 성분을 포함하는 레지스트 조성물을 이용해 레지스트막을 형성하고, 상기 레지스트막에 대해, 빛, 전자선 등의 방사선으로 선택적 노광을 실시하고 현상 처리를 실시함으로써, 상기 레지스트막에 소정 형상의 패턴을 형성하는 공정을 실시한다.
근래의 반도체 디바이스 등의 소형화에 따라 리소그래피법에 따라 형성되는 패턴의 미세화가 급속히 진행되고 있다. 패턴의 미세화에 의해서, 종래에는 문제가 되지 않았던 미소한 결함도 리소그래피 특성에 악영향을 미치게 되고 있고, 제조 공정에서의 수율 저하의 원인으로도 되고 있다.
미소 결함의 한 요인은 레지스트 조성물이나, 패턴 형성에 이용하는 용제 중에 존재하는 금속 이온(예를 들면, Fe, Ni, Cr, Na, K 등)에 있는 것이 알려져 있고, 100ppb 미만의 금속 이온이 존재하는 것만으로, 리소그래피 특성에 악영향을 미치는 점도 확인되고 있다.
상기와 같은 문제를 해결하기 위해, 레지스트 조성물을 여과, 정제하여 금속 이온 등의 불순물을 제거하는 시도가 이루어지고 있다.
예를 들면, 특허문헌 1~2에서는 관능화 실리카 겔을 이용한 필터 시트 등에 의해 레지스트 조성물을 여과하는 방법이 기재되어 있다.
특허문헌 3에는 특정한 섬유 길이, 및 특정한 밀도를 가지는 폴리올레핀계의 부직포를 여과 부재로 하는 불순물 여과 장치를 이용한 불순물 제거 방법이 기재되어 있다.
일본 특개 2006-136883호 공보 일본 특개 2003-238958호 공보 일본 특개 2013-61426호 공보
그렇지만, 추가적인 미세화가 진행되는 중, 금속 이온 등의 불순물을 포집 및 제거 가능한, 새로운 여과 재료가 요구되고 있다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 금속 이온 등의 불순물을 적합하게 제거 가능한 여과 재료, 상기 여과 재료를 이용한 여과 필터, 상기 여과 필터를 이용한 여과 방법, 상기 여과 재료의 원료가 되는 페닐이민 화합물의 제조 방법, 상기 페닐이민 화합물을 이용한 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 및 상기 여과 재료의 원료가 되는 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기의 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 이하의 구성을 채용했다.
즉, 본 발명의 제1 태양은 하기 일반식(1-0)로 나타내는 화합물(1-0) 또는 그 유도체를 중합해 얻어진 고분자 화합물을 이용하는 것을 특징으로 하는 여과 재료이다.
[화 1]
Figure pat00001
[식 중, R1은 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기이며,
R2는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이고,
R3은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
n1은 1~5의 정수이다.]
본 발명의 제2 태양은 상기 제1 태양의 여과 재료를 이용한 것을 특징으로 하는 여과 필터이다.
본 발명의 제3 태양은 상기 제2 태양의 여과 필터에, 레지스트 조성물 또는 용제를 통액하고, 상기 레지스트 조성물 또는 용제 중의 불순물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 여과 방법이다.
본 발명의 제4 태양은 방향환과 카르보닐기를 가지고, 상기 방향환이 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기 및 인산기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 기를 가지는 화합물(K)과, 적어도 1개의 아미노기를 가지는 탄화수소 화합물(A)을 반응시켜 하기 일반식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물을 얻는 것을 특징으로 하는 페닐이민 화합물의 제조 방법이다.
[화 2]
Figure pat00002
[식 중, R1은 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기이며,
R2는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이고,
R3은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
n1은 1~5의 정수이다.]
본 발명의 제5 태양은 상기 제4 태양의 제조 방법에 따라 얻어진 페닐이민 화합물과, 알킬화제를 반응시키는 것을 특징으로 하는 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법이다.
본 발명의 제6 태양은 하기 일반식(1-1)로 나타내는 화합물이다.
[화 3]
Figure pat00003
[식 중, R1, R2는 상기와 동일하고,
R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
n11은 0~4의 정수이다.]
본 발명의 여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 및 화합물에 의하면, 금속 이온 등의 불순물을 적합하게 제거할 수 있다.
본 명세서 및 본 특허 청구의 범위에서, 「지방족」이란, 방향족에 대한 상대적인 개념으로서, 방향족성을 가지지 않는 기, 방향족성을 가지지 않는 화합물 등을 의미하는 것이라고 정의한다.
「알킬기」는 특별히 언급이 없는 한, 직쇄상, 분기쇄상 및 환상의 1가의 포화 탄화수소기를 포함하는 것으로 한다. 알콕시기 중의 알킬기도 동일하다.
「알킬렌기」는 특별히 언급이 없는 한, 직쇄상, 분기쇄상 및 환상의 2가의 포화 탄화수소기를 포함하는 것으로 한다.
「할로겐화 알킬기」는 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환된 기이며, 상기 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
「불소화 알킬기」또는 「불소화 알킬렌기」는 알킬기 또는 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소 원자로 치환된 기를 말한다.
「치환기를 가지고 있어도 된다」라고 기재하는 경우, 수소 원자(-H)를 1가의 기로 치환하는 경우와, 메틸렌기(-CH2-)를 2가의 기로 치환하는 경우 모두를 포함한다.
≪여과 재료≫
본 발명의 제1 태양의 여과 재료는 하기 일반식(1-0)로 나타내는 화합물(1-0) 또는 그 유도체를 중합해 얻어진 고분자 화합물을 이용하는 것이다.
본 발명의 여과 재료는 화합물이나 조성물의 여과에 이용할 수 있는 것으로서, 특히 금속 이온을 불순물로서 함유할 수 있는 화합물이나 조성물의 여과에 이용하는 것이 바람직하다. 특히, 엄밀한 불순물 제거가 요구되는 레지스트 조성물이나, 패턴 형성 등에 이용하는 용제의 여과에 적합하게 이용할 수 있다.
[화 4]
Figure pat00004
[식 중, R1은 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기이며,
R2는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이고,
R3은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
n1은 1~5의 정수이다.]
(화합물(1-0))
식(1-0)에서, R1은 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기이다. 「중합성기」란, 상기 중합성기를 가지는 화합물이 라디칼 중합 등에 의해 중합하는 것을 가능하게 하는 기이며, 예를 들어 에틸렌성 이중 결합 등의 탄소 원자간의 다중 결합을 포함하는 기를 말한다.
중합성기로서는, 예를 들면 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 플루오로비닐기, 디플루오로비닐기, 트리플루오로비닐기, 디플루오로트리플루오로메틸비닐기, 트리플루오로알릴기, 퍼플루오로알릴기, 트리플루오로메틸아크릴로일기, 노닐플루오로부틸아크릴로일기, 비닐에테르기, 함불소비닐에테르기, 알릴에테르기, 함불소알릴에테르기, 스티릴기, 비닐나프틸기, 함불소스티릴기, 함불소비닐나프틸기, 노르보르닐기, 함불소노르보르닐기, 실릴기 등을 들 수 있다.
R1에서의 중합성기 함유 탄화수소기는 중합성기만으로 구성되는 기여도 되고, 중합성기와 중합성기 이외의 탄화수소기로 구성되는 기여도 된다. 여기서 탄화수소기는 치환기를 가지고 있어도 된다.
R1의 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기로서는 「R11-R12-」(식 중, R11은 에틸렌성 이중 결합을 포함하는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이며, R12는 헤테로 원자를 포함하는 2가의 연결기 또는 단결합이다. R12가 식(1-0) 중의 N원자와 결합함)로 나타내는 기가 바람직하다.
·R11
R11에서의 탄화수소기는 에틸렌성 이중 결합을 포함하는 것이면 특별히 한정되지 않고, 쇄상의 탄화수소기여도 되며, 구조 중에 환을 포함하는 탄화수소기여도 된다.
R11에서의 쇄상의 탄화수소기로서는 쇄상의 알케닐기가 바람직하다. 쇄상의 알케닐기로서는 직쇄상 또는 분기쇄상 중 어느 하나여도 되고, 탄소수가 2~10인 것이 바람직하며, 2~5가 보다 바람직하고, 2~4가 추가로 바람직하며, 2 또는 3이 특히 바람직하다.
직쇄상의 알케닐기로서는, 예를 들면 비닐기, 프로페닐기(알릴기), 부티닐기 등을 들 수 있다. 분기쇄상의 알케닐기로서는, 예를 들면 1-메틸프로페닐기, 2-메틸프로페닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 비닐기 또는 프로페닐기가 바람직하다.
R11에서의 구조 중에 환을 포함하는 탄화수소기로서는, 예를 들면 환골격에 에틸렌성 이중 결합을 포함하는 불포화 지방족 탄화수소환식기; 상기 불포화 지방족 탄화수소환식기가 직쇄상 또는 분기쇄상의 지방족 탄화수소기의 말단에 결합한 기; 쇄상의 알케닐기가 환상의 탄화수소기의 말단에 결합한 기 등을 들 수 있다.
「불포화 지방족 탄화수소환식기가 직쇄상 또는 분기쇄상의 지방족 탄화수소기의 말단에 결합한 기」에서, 불포화 지방족 탄화수소환식기가 결합하는 직쇄상 또는 분기쇄상의 지방족 탄화수소기는 포화여도 불포화여도 되고, 통상은 포화인 것이 바람직하다.
상기 직쇄상 또는 분기쇄상의 지방족 탄화수소기는 탄소수가 1~10인 것이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~4가 더욱 바람직하며, 1~3이 가장 바람직하다.
직쇄상의 지방족 탄화수소기로서는 직쇄상의 알킬렌기가 바람직하고, 구체적으로는 메틸렌기[-CH2-], 에틸렌기[-(CH2)2-], 트리메틸렌기[-(CH2)3-], 테트라메틸렌기[-(CH2)4-], 펜타메틸렌기[-(CH2)5-] 등을 들 수 있다.
분기쇄상의 지방족 탄화수소기로서는 분기쇄상의 알킬렌기가 바람직하고, 구체적으로는 -CH(CH3)-, -CH(CH2CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CH3)(CH2CH3)-, -C(CH3)(CH2CH2CH3)-, -C(CH2CH3)2- 등의 알킬메틸렌기; -CH(CH3)CH2-, -CH(CH3) CH(CH3)-, -C(CH3)2CH2-, -CH(CH2CH3)CH2-, -C(CH2CH3)2-CH2- 등의 알킬에틸렌기; -CH(CH3)CH2CH2-, -CH2CH(CH3)CH2- 등의 알킬트리메틸렌기; -CH(CH3)CH2CH2CH2-, -CH2CH(CH3)CH2CH2- 등의 알킬테트라메틸렌기 등의 알킬알킬렌기 등을 들 수 있다. 알킬알킬렌기에서의 알킬기로서는 탄소수 1~5의 직쇄상의 알킬기가 바람직하다.
「쇄상의 알케닐기가 환상의 탄화수소기의 말단에 결합한 기」에서, 쇄상의 알케닐기로서는 상기와 동일한 것을 들 수 있다.
쇄상의 알케닐기가 결합하는 환상의 탄화수소기는 환상의 지방족 탄화수소기(지방족 환식기)여도 되고, 환상의 방향족 탄화수소기(방향족 환식기)여도 된다.
환상의 지방족 탄화수소기는 포화여도 되고, 불포화여도 되며, 통상은 포화인 것이 바람직하다.
상기 지방족 환식기는 탄소수가 3~20인 것이 바람직하고, 3~12인 것이 보다 바람직하다.
상기 지방족 환식기는 다환식여도 되고, 단환식여도 된다. 단환식의 지방족 환식기로서는 모노시클로알칸으로부터 1개의 수소 원자를 제외한 기가 바람직하다. 상기 모노시클로알칸으로서는 탄소수 3~6인 것이 바람직하고, 구체적으로는 시클로펜탄, 시클로헥산 등을 들 수 있다. 다환식의 지방족 환식기로서는 폴리시클로알칸으로부터 2개의 수소 원자를 제외한 기가 바람직하고, 상기 폴리시클로알칸으로서는 탄소수 7~12인 것이 바람직하며, 구체적으로는 아다만탄, 노르보르난, 이소보르난, 트리시클로데칸, 테트라시클로도데칸 등을 들 수 있다.
방향족 환식기는 방향환으로부터 수소 원자를 1개 제외한 기이다.
방향족 환식기는 탄소수가 3~30인 것이 바람직하고, 5~30인 것이 보다 바람직하며, 5~20이 더욱 바람직하고, 6~15가 특히 바람직하며, 6~10이 가장 바람직하다. 다만, 상기 탄소수에는 치환기에서의 탄소수를 포함하지 않는 것으로 한다.
방향환으로서 구체적으로는 벤젠, 비페닐, 플루오렌, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌 등의 방향족 탄화수소환; 상기 방향족 탄화수소환을 구성하는 탄소 원자의 일부가 헤테로 원자로 치환된 방향족 복소환; 등을 들 수 있다. 방향족 복소환에서의 헤테로 원자로서는 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 등을 들 수 있다.
·R12
R12의 헤테로 원자를 포함하는 2가의 연결기에서의 헤테로 원자란, 탄소 원자 및 수소 원자 이외의 원자이며, 예를 들어 산소 원자, 질소 원자, 황 원자, 할로겐 원자 등을 들 수 있다.
R12가 헤테로 원자를 포함하는 2가의 연결기인 경우, 상기 연결기로서 바람직한 것으로서는 -O-, -C(=O)-O-, -C(=O)-, -O-C(=O)-O-; -C(=O)-NH-, -NH-, -NH-C(=NH)-(H는 알킬기, 아실기 등의 치환기로 치환되어 있어도 된다.); -S-, -S(=O)2-, -S(=O)2-O-, 일반식 -Y21-O-Y22-, -Y21-O-, -Y21-C(=O)-O-, -C(=O)-O-Y21, -C(=O)-NH-Y21, -[Y21-C(=O)-O]m"-Y22- 또는 -Y21-O-C(=O)-Y22-로 나타내는 기[식 중, Y21 및 Y22는 각각 독립하여 치환기를 가지고 있어도 되는 2가의 탄화수소기이며, O는 산소 원자이고, m"은 0~3의 정수이다.] 등을 들 수 있다.
상기 헤테로 원자를 포함하는 2가의 연결기가 -C(=O)-NH-, -NH-, -NH-C(=NH)-, -C(=O)-NH-Y21의 경우, 그 H는 알킬기, 아실 등의 치환기로 치환되어 있어도 된다. 상기 치환기(알킬기, 아실기 등)는 탄소수가 1~10인 것이 바람직하고, 1~8인 것이 더욱 바람직하며, 1~5인 것이 특히 바람직하다.
식 -Y21-O-Y22-, -Y21-O-, -Y21-C(=O)-O-, -C(=O)-O-Y21-, -C(=O)-NH-Y21, -[Y21-C(=O)-O]m"-Y22- 또는 -Y21-O-C(=O)-Y22- 중, Y21 및 Y22는 각각 독립하여 치환기를 가지고 있어도 되는 2가의 탄화수소기이다.
Y21로서는 직쇄상의 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~5의 직쇄상의 알킬렌기가 더욱 바람직하고, 탄소수 1~3의 직쇄상의 알킬렌기가 특히 바람직하다.
Y22로서는 직쇄상 또는 분기쇄상의 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 메틸렌기, 에틸렌기 또는 알킬메틸렌기가 보다 바람직하다. 상기 알킬메틸렌기에서의 알킬기는 탄소수 1~5의 직쇄상의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~3의 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하며, 메틸기가 가장 바람직하다.
식 -[Y21-C(=O)-O]m"-Y22-로 나타내는 기에서의 m"은 0~3의 정수이며, 0~2의 정수인 것이 바람직하고, 0 또는 1이 보다 바람직하며, 1이 특히 바람직하다. 즉, 식 -[Y21-C(=O)-O]m"-Y22-로 나타내는 기로서는 식 -Y21-C(=O)-O-Y22-로 나타내는 기가 특히 바람직하다. 그 중에서도, 식-(CH2)a'-C(=O)-O-(CH2)b'-로 나타내는 기가 바람직하다. 상기 식 중, a'는 1~10의 정수이며, 1~8의 정수가 바람직하고, 1~5의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 더욱 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. b'는 1~10의 정수이며, 1~8의 정수가 바람직하고, 1~5의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 더욱 바람직하고, 1이 가장 바람직하다.
그 중에서도, R1로서는 「R11-R12-」(R11, R12는 상기와 동일함)로 나타내는 기가 바람직하고; 쇄상의 알케닐기만으로 이루어지는 기, 쇄상의 알케닐기가 환상의 탄화수소기의 말단에 결합한 기, 또는 쇄상의 알케닐기와 헤테로 원자를 포함하는 2가의 연결기(특히 바람직하게는, -C(=O)-NH-를 포함하는 기)의 조합이 보다 바람직하다.
식(1-0)에서, R2는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이다.
R2의 탄화수소기로서는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기, 환상의 탄화수소기를 들 수 있다.
상기 직쇄상의 알킬기는 탄소수가 1~5인 것이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 더욱 바람직하다. 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기 또는 n-부틸기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다.
상기 분기쇄상의 알킬기는 탄소수가 3~10인 것이 바람직하고, 3~5가 보다 바람직하다. 구체적으로는 이소프로필기, 이소부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 1,1-디에틸프로필기, 2,2-디메틸부틸기 등을 들 수 있고, 이소프로필기인 것이 바람직하다.
직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기는 치환기를 가지고 있어도 되고, 가지지 않아도 된다. 상기 치환기로서는 불소 원자, 불소 원자로 치환된 탄소수 1~5의 불소화 알킬기, 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 인산기 등을 들 수 있다.
R2가 환상의 탄화수소기가 되는 경우, 상기 탄화수소기는 지방족 탄화수소기여도 방향족 탄화수소기여도 되고, 또 다환식기여도 단환식기여도 된다.
단환식기인 지방족 탄화수소기로서는 모노시클로알칸으로부터 1개의 수소 원자를 제외한 기가 바람직하다. 상기 모노시클로알칸으로서는 탄소수 3~6인 것이 바람직하고, 구체적으로는 시클로펜탄, 시클로헥산 등을 들 수 있다.
다환식기인 지방족 탄화수소기로서는 폴리시클로알칸으로부터 1개의 수소 원자를 제외한 기가 바람직하고, 상기 폴리시클로알칸으로서는 탄소수 7~12인 것이 바람직하며, 구체적으로는 아다만탄, 노르보르난, 이소보르난, 트리시클로데칸, 테트라시클로도데칸 등을 들 수 있다.
R2의 환상의 탄화수소기가 방향족 탄화수소기가 되는 경우, 상기 방향족 탄화수소기는 방향환을 적어도 1개 가지는 탄화수소기이다.
이 방향환은 4n+2개의 π전자를 가지는 환상 공역계이면 특별히 한정되지 않고, 단환식이어도 다환식이어도 된다. 방향환의 탄소수는 5~30인 것이 바람직하고, 5~20이 보다 바람직하며, 6~15가 더욱 바람직하고, 6~12가 특히 바람직하다. 방향환으로서 구체적으로는 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌 등의 방향족 탄화수소환; 상기 방향족 탄화수소환을 구성하는 탄소 원자의 일부가 헤테로 원자로 치환된 방향족 복소환 등을 들 수 있다. 방향족 복소환에서의 헤테로 원자로서는 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 등을 들 수 있다. 방향족 복소환으로서 구체적으로는 피리딘환, 티오펜환 등을 들 수 있다.
R2에서의 방향족 탄화수소기로서 구체적으로는 상기 방향족 탄화수소환 또는 방향족 복소환으로부터 수소 원자를 1개 제외한 기(아릴기 또는 헤테로아릴기); 2개 이상의 방향환을 포함하는 방향족 화합물(예를 들어 비페닐, 플루오렌 등)로부터 수소 원자를 1개 제외한 기; 상기 방향족 탄화수소환 또는 방향족 복소환의 수소 원자의 하나가 알킬렌기로 치환된 기(예를 들어, 벤질기, 페네틸기) 등을 들 수 있다. 상기 방향족 탄화수소환 또는 방향족 복소환에 결합하는 알킬렌기의 탄소수는 1~4인 것이 바람직하고, 1~2인 것이 보다 바람직하며, 1인 것이 특히 바람직하다.
R2의 환상의 탄화수소기는 치환기를 가지고 있어도 되고, 가지지 않아도 된다. 상기 치환기로서는 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자, 할로겐화 알킬기, 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 인산기 등을 들 수 있다.
상기 치환기로서의 알킬기로서는 탄소수 1~5의 알킬기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, tert-부틸기인 것이 가장 바람직하다.
상기 치환기로서의 알콕시기로서는 탄소수 1~5의 알콕시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, tert-부톡시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기가 가장 바람직하다.
상기 치환기로서의 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있고, 불소 원자가 바람직하다.
상기 치환기로서의 할로겐화 알킬기로서는 상기 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 상기 할로겐 원자로 치환된 기를 들 수 있다.
예를 들면, R2가 치환기를 가지는 방향족 탄화수소기(방향족 탄화수소환으로부터 수소 원자를 1개 제외한 기)인 경우로서는 1-나프틸메틸기, 2-나프틸메틸기, 1-나프틸에틸기, 2-나프틸에틸기 등의 아릴알킬기 등을 들 수 있다.
그 중에서도, R2로서는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~5의 직쇄상 혹은 분기쇄상의 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기가 바람직하고; 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~3의 직쇄상의 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소기가 보다 바람직하며; 메틸기, 에틸기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기가 더욱 바람직하며; 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기가 특히 바람직하다.
페닐기의 치환기로서는 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 인산기가 바람직하고, 수산기가 특히 바람직하다. 페닐기는 치환기를 복수 가지고 있어도 되고, 상기 복수의 치환기는 각각 동일해도 되고, 상이해도 된다.
즉, 식(1-0)로 나타내는 화합물(1-0)로서는 하기 식(1-2)로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화 5]
Figure pat00005
[식 중, R1, R3, n1은 모두 상기와 동일하고, 식 중 복수의 R3은 각각 동일해도 상이해도 되며,
n2는 0~5의 정수이다.]
식(1-2)에서, R3, n1은 후술하는 R3, n1과 동일하다.
n2는 0~5의 정수로서, 0~2가 보다 바람직하고, 0 또는 1이 더욱 바람직하다.
상기 식(1-0)에서, R3은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이다. R3의 1개 이상은 수산기인 것이 바람직하다.
또, 적어도 1개의 R3의 결합 위치는 이미노기에 대해 파라 위치인 것이 바람직하다.
n1은 1~5의 정수로서, 1~3이 바람직하고, 1 또는 2가 특히 바람직하다.
즉, 식(1-0)로 나타내는 화합물(1-0)로서는 하기 식(1-1)로 나타내는 화합물이나, 하기 식(1-3)로 나타내는 화합물도 바람직하다.
[화 6]
Figure pat00006
식(1-1), (1-3) 중, R1은 상기와 동일하다.
식(1-1) 중, R2는 상기와 동일하다.
식(1-1), (1-3) 중, R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기로서, 수산기인 것이 바람직하다. 복수의 R31은 각각 동일해도 되고, 상이해도 된다.
식(1-1), (1-3) 중, n11은 0~4의 정수로서, 0~2의 정수가 바람직하고, 0 또는 1이 보다 바람직하다.
식(1-3) 중, n2는 0~5의 정수로서, 0 또는 1이 바람직하다.
이하에, 화합물(1-0)의 구체예를 나타낸다.
[화 7]
Figure pat00007
[화 8]
Figure pat00008
본 태양에서, 「화합물(1-0)의 유도체」란, 화합물(1-0)이 가지는 수소 원자의 일부 또는 전부가 수소 원자 이외의 치환기로 치환된 화합물을 말한다.
수소 원자 이외의 치환기로서는 알킬기, 할로겐 원자, 할로겐화 알킬기를 들 수 있고, 이들은 모두, R2의 환상의 탄화수소기의 치환기로서 든 알킬기, 할로겐 원자, 할로겐화 알킬기와 동일하다. 그 중에서도, 화합물(1-0) 중의 수소 원자가 알킬기로 치환된 유도체를 이용하는 것이 바람직하고, 화합물(1-0) 중의 R3의 수소 원자가 알킬기로 치환된 유도체를 이용하는 것이 보다 바람직하다.
(화합물(1-0) 또는 그 유도체의 중합)
본 발명의 제1 태양의 여과 재료는 화합물(1-0) 또는 그 유도체를 중합해 얻어진 고분자 화합물을 이용한다. 화합물(1-0) 또는 그 유도체는 그 구조 중의 R1에 중합성기를 가지기 때문에, 상법에 의해 화합물(1-0)끼리를 중합시킬 수 있다.
예를 들면, 화합물(1-0) 또는 그 유도체를, 예를 들면 아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 아조비스이소부티르산디메틸과 같은 라디칼 중합 개시제를 이용한 공지된 라디칼 중합 등에 의해 중합시킬 수 있다.
본 발명의 여과 재료는 금속 착체를 형성함으로써, 금속의 포집이 가능한 이미노기를 갖는다. 이와 같은 여과 재료를 이용함으로써, 불순물질, 특히 금속 이온 등의 금속 성분을 높은 제거 효율로 제거할 수 있다. 예를 들면, 여과 대상이 레지스트 조성물이면, 레지스트 조성물에 이용되는 유기용제 중의 불순물질(미량 금속 미립자, 미량 금속, 미량 금속 이온 등)을 제거하는 것이 가능해진다. 이들 금속 성분은 유기용제 중에 원래 포함되어 있기도 하지만, 배관, 이음매 등의 유기용제 이송 경로로부터의 오염에 의해 혼입하는 것도 있어, 종래 제거가 매우 곤란한 것이다.
본 발명의 여과 재료에 의하면, 리튬, 나트륨, 마그네슘, 칼륨, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 스트론튬, 몰리브덴, 은, 카드뮴, 주석, 안티몬, 바륨, 납 등 여러 가지 금속이나, 이들 이온을 제거할 수 있다. 본 발명의 여과 재료에 의하면, 이들 금속 성분이 2종 이상 혼재하고 있는 경우에도 제거가 가능하다.
그 중에서도, 이온화 경향이 높은 금속 성분이나, 제조 공정 중에서 오염에 의해 혼입하기 쉬운 철, 크롬, 니켈을 효과적으로 제거할 수 있다.
≪여과 필터≫
본 발명의 제2 태양의 여과 필터는 상기 제1 태양의 여과 재료를 이용한 것이다.
여과 필터의 형상은 특별히 한정되는 것이 아니고, 평탄형상, 롤상, 콘상, 플리츠(주름)상, 나선형, 적층형 또는 이들 조합이어도 되고, 평탄형상 또는 롤상이 바람직하다. 다만, 제3 태양에서 기재된 바와 같이, 본 태양의 여과 필터는 상기 여과 필터에 여과 대상을 통액하는 것 등을 목적으로 한다. 그 때문에, 통액시의 편리성 및 여과성의 관점에서, 여과 필터는 비표면적이 비교적 큰 형상으로 하는 것이 바람직하고, 평탄형상으로 하는 것이 특히 바람직하다.
또, 평탄형상의 필터는 예를 들면 20mm~300mm 직경의 컷 원반으로 이용해도 된다.
또, 본 발명의 여과 필터는 카트리지식으로 해도 된다. 카트리지식의 필터로서, 예를 들면 1개 이상의 층으로서 형성되고, 또한 주름을 부착하거나 또는 나선상으로 감아 올려진 카트리지 디바이스로 하는 것이 바람직하다. 또, 평탄형상의 시트상의 카트리지 디바이스로 하는 것이 보다 바람직하다.
≪여과 방법≫
본 발명의 제3 태양의 여과 방법은 상기 제2 태양의 여과 필터에 레지스트 조성물 또는 용제를 통액하고, 상기 레지스트 조성물 또는 용제 중의 불순물질을 제거하는 것을 특징으로 한다.
예를 들면 제2 태양의 여과 필터를 필터 카트리지나 컬럼에 설치하고, 필요에 따라 공지된 여과 장치를 이용해 송액 등을 실시하여 여과를 실시할 수 있다.
본 발명의 여과 방법으로 여과 대상으로 하는 레지스트 조성물, 용제로서는 특별히 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 여과 방법은 공지 관용의 레지스트 조성물, 용제에 적용할 수 있다.
예를 들면 레지스트 조성물은 비화학 증폭형 레지스트 조성물, 화학 증폭형 레지스트 조성물의 어느 하나여도 된다. 비화학 증폭형 레지스트 조성물로서는 노볼락 수지, 감광제, 및 유기용제를 가지는 조성물을 들 수 있고; 화학 증폭형 레지스트 조성물로서는 산의 작용에 의해 현상액에 대한 용해성이 변화하는 수지, 산발생제, 및 유기용제를 가지는 조성물을 들 수 있다.
예를 들면 용제는 시너, 레지스트 현상액, 레지스트 박리액, 절연재, ARC(Anti Reflective Coating) 등의 용액; 세정액으로서의 초순수, 유기용제, 암모니아/과산화수소 혼합 수용액, 희(希)불산(DHF)액, 버퍼드 불산(BHF)액 등을 들 수 있다.
유기용제로서는 락톤류, 케톤류, 다가 알코올류, 다가 알코올류의 유도체, 환상 에테르류, 에스테르류, 방향족계 유기용제, 니트릴계 유기용제 등을 들 수 있다.
여과 필터에 통액시킬 때의 레지스트 조성물 또는 용제의 통액 속도는 금속의 분리 효율에 거의 영향은 없고, 통상 0.0001~1000kg/(m2·min)의 범위여도 된다. 여과 필터에 통액시킬 때의 온도는 너무 높으면 여재(濾材)의 용출, 열화, 레지스트 조성물이나 용제의 분해 등이 일어날 우려가 있다. 또, 온도가 너무 낮으면 레지스트 조성물의 경우, 용액 중의 수지의 점도가 높아져 통액이 매우 곤란하게 된다. 그 때문에, 온도 범위는 0~50℃의 범위가 적당하다.
본 발명의 여과 방법에서, 불순물질로서 금속 성분을 적합하게 제거할 수 있다.
본 발명의 여과 방법에 의하면, 리튬, 나트륨, 마그네슘, 칼륨, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 스트론튬, 몰리브덴, 은, 카드뮴, 주석, 안티몬, 바륨, 납 등 여러 가지 금속 성분을 제거할 수 있다.
본 발명의 여과 방법에 의하면, 상기의 금속 성분이 2종 이상 혼재하고 있어도 제거 가능하다.
상기 중에서도, 이온화 경향이 높은 금속 성분이나, 제조 공정 중에서 오염에 의해 혼입하기 쉬운 철, 니켈, 크롬을 효과적으로 제거할 수 있다.
본 발명의 여과 방법에 의하면, 상기의 미량 금속을 금속 이온, 금속 미립자 등의 존재 형태와 관계없이 제거하는 것이 가능하다.
반도체 제조 프로세스에서의 각종 약액의 공급 라인 혹은 POU(point of use)로 지금까지 설치되어 있던 미립자상 불순물 제거를 위한 필터 카트리지 등으로 치환하거나 혹은 이것과 조합하여 본 발명의 여과 필터를 이용해 본 발명의 여과 방법으로 함으로써, 종래와 완전히 동일한 장치 및 조작으로, 미립자상의 불순물과 미량 금속 불순물을 동시에 효율적으로 제거하는 것을 가능하게 한다.
즉, 본 발명은 단일한 여과 공정으로 미량 금속 불순물의 제거를 달성함으로써, 반도체소자 제조에서 현재 사용되고 있는 실장치로의 적용이 매우 용이해지고, 이 점에서도 본 발명이 반도체 산업에 미치는 효과가 크다.
또, 본 발명의 여과 방법을 반도체소자 제조 프로세스의 각종 약액(용제) 공급 라인에서, 약액 탱크를 순환하는 경로의 도중에 실시함으로써, 각종 약액 중의 금속 불순물 및 미립자상 불순물을 효율적으로 제거할 수 있다. 또, 약액 중에 원래 포함되어 있는 금속 불순물의 제거에 더하여, 배관, 이음매 등의 약액 이송 경로로부터의 오염에 대처하는 것도 가능해진다.
≪페닐이민 화합물의 제조 방법≫
본 발명의 제4 태양은 방향환과 카르보닐기를 가지고, 상기 방향환이 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기 및 인산기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 기를 가지는 화합물(K)과, 적어도 1개의 아미노기를 가지는 탄화수소 화합물(A)을 반응시켜 식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물을 얻는 것이다.
이와 같은 제조 방법을 채용해 페닐이민 화합물을 제조함으로써, 산촉매를 이용하는 경우 없이, 교반만으로 매우 고수율로 목적 화합물을 얻는 것이 가능해진다.
본 발명의 제4 태양에 의해 얻어진 페닐이민 화합물은 본 발명의 제1 태양의 여과 재료에 이용할 수 있는 것으로서, 식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물, 식(1-0) 중의 R1~R3, n1은 모두 제1 태양에서 상술한 것과 동일하다.
즉, 본 태양의 페닐이민 화합물의 제조 방법에서는 치환기를 가지는 방향환과, 카르보닐기를 가지는 케톤 화합물(K), 및 1개 이상의 아미노기를 가지는 아민 화합물(A)을 적당한 유기용매에 용해하고, 냉각하면서 교반함으로써 반응시켜 페닐이민 화합물을 얻는다.
구체적으로는 하기 식에 나타낸 바와 같이, 케톤 화합물(K0)의 카르보닐기와, 아민 화합물(A1)의 아미노기를 적당한 유기용매 중에서 탈수 축합시킴으로써, 페닐이민 화합물(1-0)이 얻어진다. 보다 적합하게는 수산기를 가지는 케톤 화합물(K1)의 카르보닐기와, 아민 화합물(A1)의 아미노기를 적당한 유기용매 중에서 탈수 축합시킴으로써, 수산기 함유 페닐이민 화합물(1-1)이 얻어진다.
[화 9]
Figure pat00009
상기 반응식에서, 각 식 중의 R1~R3, R31 및 n1, n11, 및 화합물(1-0) 및 (1-1)은 모두 제1 태양의 설명 중의 R1~R3 및 화합물(1-0)과 동일하다.
식(K0)으로 대표되는 케톤 화합물(K)로서 구체적으로는 2,4-디히드록시아세토페논, 4-히드록시아세토페논, 4-히드록시벤조페논, 2,4-디히드록시프로피오페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,3,4-트리히드록시아세토페논, 2,3',4,4'-테트라히드록시벤조페논 등을 들 수 있다.
또, 식(A1)으로 대표되는 아민 화합물(A)로서 구체적으로는 p-아미노스티렌, N-아미노이소프로필메타크릴아미드를 들 수 있다.
상기 반응의 반응 온도는 10℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 0℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 반응 시간은 0.5~48시간이 바람직하고, 1~36시간이 보다 바람직하다.
유기용매로서는 탈수 축합 반응을 양호하게 진행할 수 있는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 탈수 에탄올이 바람직하다.
원료 화합물의 사용량은 케톤 화합물(K):아민 화합물(A)=1:2~2:1(몰비)이 바람직하고, 1:1.5~1.5:1(몰비)이 보다 바람직하며, 1:1(몰비)이 특히 바람직하다.
≪알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법≫
본 발명의 제5 태양은 상기 제4 태양의 제조 방법에 따라 얻어진 페닐이민 화합물과 알킬화제를 반응시키는 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법이다.
즉, 제5 태양에서는 상기 식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물 중의 치환기R3의 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기를 알킬화하여 알콕시페닐이민 화합물을 얻는다.
제5 태양에서 얻어진 알콕시페닐이민 화합물은 식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물의 유도체에 해당하는 화합물로서, 본 발명의 제1 태양의 여과 재료에 이용할 수 있다.
예를 들면, 하기 식에 나타낸 바와 같이, 페닐이민 화합물과 알킬화제를 적당한 용매 중에서 반응시켜, 페닐이민 화합물이 가지는 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기의 수소 원자를 알킬기에 치환함으로써, 알콕시페닐이민 화합물을 얻을 수 있다.
[화 10]
Figure pat00010
상기 반응식에서, 각 식 중의 R1~R3 및 n1, 및 화합물(1-0)은 모두 제1 태양의 설명 중의 R1~R3 및 화합물(1-0)과 동일하다. R3'는 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기로부터 수소 원자를 제외한 기이며, Ra는 알킬화제로부터 유래하는 탄소수 1~5의 알킬기이다.
보다 구체적으로는 페닐이민 화합물에 수산화나트륨 수용액 등을 가하여 나트륨염을 형성시켜 수용화한 후, 알킬화제를 가해 교반하여 반응시킴으로써 목적의 알콕시페닐이민 화합물을 얻을 수 있다.
상기 반응의 반응 온도는 10℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 0℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 반응 시간은 0.5~48시간이 바람직하고, 1~36시간이 보다 바람직하다.
알킬화제로서는 황산디메틸, 요오도메탄, 탄산디메틸 및 황산디에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하다.
알킬화제의 사용량은 페닐이민 화합물 1몰에 대해서, 1~10몰이 바람직하고, 1~5몰이 보다 바람직하다.
상기와 같이 하여 각 공정 후에 얻어지는 화합물의 구조는 1H-핵자기 공명(NMR) 스펙트럼법, 13C-NMR 스펙트럼법, 19F-NMR 스펙트럼법, 적외선 흡수(IR) 스펙트럼법, 질량 분석(MS)법, 원소 분석법, X선 결정 회절법 등의 일반적인 유기 분석법에 의해 확인할 수 있다.
≪신규 화합물≫
본 발명의 제6 태양은 일반식(1-1)로 나타내는 화합물이다.
하기 식 중, R1, R2, R31, n11은 모두 제1 태양의 R1, R2, R31, n11와 동일하다.
[화 11]
Figure pat00011
[식 중, R1, R2는 상기와 동일하고,
R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
n11은 0~4의 정수이다.]
[ 실시예 ]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해서 한정되는 것은 아니다.
＜실시예 1: 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-디히드록시페닐)메틸렌]의 합성＞
가지 플라스크에 4,4'-디히드록시벤조페논(119.52g, 0.697mol)를 가하고 탈수 에탄올(400㎖)을 가해 용해시키고, 0℃의 빙욕 중에서 알릴아민(40g, 0.697mol)를 가해 2시간 교반했다. 알릴아민과의 탈수 축합 반응에 의해 이민화가 일어나, 용액은 즉석에서 무색에서 황색으로 변화했다.
이베포레이터를 이용하여, 얻어진 용액으로부터 에탄올, 및 반응에 의해 발생한 물을 류거하고, 그 후 하루 밤낮 진공 건조를 실시함으로써, 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-디히드록시페닐)메틸렌]을 얻었다.
얻어진 화합물은 황색 고체이며, 수율은 91%였다. 상기 화합물은 에탄올, 아세톤 및 DMF에 가용이며, 물, 헥산 및 디클로로메탄에 불용이었다.
얻어진 화합물에 대해 NMR 분석을 실시했다.
1H-NMR(Acetone): 9.95(s, OH), 7.41-6.77(m, 8H), 6.02-5.98(m, 2H), 5.27-5.15(m, 1H), 4.20(d, 2H).
상기의 결과로부터, 화합물이 하기에 나타내는 구조를 가지는 것을 확인할 수 있었다.
[화 12]
Figure pat00012
＜실시예 2: 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-메톡시페닐)메틸렌]의 합성＞
삼각 플라스크에 상기 실시예 1에서 얻어진 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-디히드록시페닐)메틸렌](36.29g, 0.1289mol)를 가하고 0℃의 빙욕 하에서, 1mol/L 수산화나트륨 수용액(600㎖)을 교반하면서 가했다. 교반과 함께 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-디히드록시페닐)메틸렌]의 히드록실기와 나트륨 이온이 반응해, 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-디히드록시페닐)메틸렌]의 나트륨알콕시드염이 형성되어 물에 용해하여 용액은 휘황색으로 변화했다.
그 용액을 계속해 0℃ 빙욕 하에서, 황산디메틸(61.04g, 0.556mol)를 가하여 2시간 교반했다. 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-디히드록시페닐)메틸렌]의 나트륨알콕시드염과 디메틸황산이 반응해 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-메톡시페닐)메틸렌]이 형성되었다. 형성된 화합물은 물에 불용이기 때문에, 용액 내에서 고체가 석출되어 침전되었다.
반응 종료 후, 감압 여과에 의해 침전물을 회수하고, 부생성물의 N-알릴메틸아민 등을 제거하기 위해 포화 탄산수소나트륨 수용액으로 세정한 후, 헥산으로 세정했다.
그 후, 하루 밤낮 진공 건조를 실시해 목적 생성물인 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-메톡시페닐)메틸렌]을 얻었다.
얻어진 화합물은 황백색 고체이며, 수율은 75%였다. 상기 화합물은 메탄올, 에탄올, 아세톤 및 디클로로메탄에 가용이며, 물에 불용이었다.
[화 13]
Figure pat00013
＜실시예 3: 금속 포집 시험＞
상기 실시예 2에서 얻어진 2-프로펜-1-아민, N-[비스(4-메톡시페닐)메틸렌](이하, 「여과 재료」라고 함)을 이용하여 금속 포집 시험을 실시했다.
구체적으로는 실시예 2의 여과 재료 1g에 대해, FeCl3의 에탄올 용액 4㎖를 적하했다. 여과 전의 FeCl3 에탄올 용액은 황색이다. 5분 교반 후, 여과에 의해 여과 재료를 제거했다. 제거한 여과 재료는 적색을 띄었고 여액은 무색이 되었다. 여액이 투명한 점에서, 금속 성분이 완전히 흡착되었던 것이 분명하다.
이것으로부터, 본 발명의 여과 재료를 이용하여, 용제 중에 존재하는 철 등의 금속 성분을 고효율로 포집 및 제거할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
레지스트 조성물은 90중량% 이상을 유기용제가 차지하기 때문에, 유기용제에서 고효율로 금속 성분을 제거할 수 있었다는 상기의 결과로부터, 본 발명의 여과 재료를 이용해 레지스트 조성물 중의 금속 성분도 고효율로 제거 가능하다고 생각된다.

Claims (14)

  1. 하기 일반식(1-0)로 나타내는 화합물(1-0) 또는 그 유도체를 중합해 얻어진 고분자 화합물을 이용하는 것을 특징으로 하는 여과 재료.
    Figure pat00014

    [식 중, R1은 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기이며,
    R2는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이며,
    R3은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
    n1은 1~5의 정수이다.]
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 화합물(1-0)이 하기 일반식(1-1)로 나타내는 여과 재료.
    Figure pat00015

    [식 중, R1, R2는 상기와 동일하고,
    R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
    n11은 0~4의 정수이다.]
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 화합물(1-0)이 하기 일반식(1-2)로 나타내는 여과 재료.
    Figure pat00016

    [식 중, R1, R3, n1은 모두 상기와 동일하고, 식 중 복수의 R3은 각각 동일해도 상이해도 되며,
    n2는 0~5의 정수이다.]
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 화합물(1-0)이 하기 일반식(1-3)로 나타내는 여과 재료.
    Figure pat00017

    [식 중, R1은 상기와 동일하고,
    R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기로서, 식 중 복수의 R31은 각각 동일해도 상이해도 되고,
    n11은 0~4의 정수이며,
    n2는 0~5의 정수이다.]
  5. 청구항 1의 여과 재료를 이용하는 것을 특징으로 하는 여과 필터.
  6. 청구항 5의 여과 필터에 레지스트 조성물 또는 용제를 통액하여 상기 레지스트 조성물 또는 용제 중의 불순물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 여과 방법.
  7. 방향환과 카르보닐기를 가지고, 상기 방향환이 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기 및 인산기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 기를 가지는 화합물(K)과,
    적어도 1개의 아미노기를 가지는 탄화수소 화합물(A)을 반응시켜 하기 일반식(1-0)로 나타내는 페닐이민 화합물을 얻는 것을 특징으로 하는 페닐이민 화합물의 제조 방법.
    Figure pat00018

    [식 중, R1은 치환기를 가지고 있어도 되는 중합성기 함유 탄화수소기이고,
    R2는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄화수소기이며,
    R3는 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
    n1은 1~5의 정수이다.]
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 페닐이민 화합물이 하기 일반식(1-1)로 나타내는 페닐이민 화합물의 제조 방법.
    Figure pat00019

    [식 중, R1, R2는 상기와 동일하고,
    R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
    n11은 0~4의 정수이다.]
  9. 청구항 7에 있어서,
    상기 페닐이민 화합물이 하기 일반식(1-3)로 나타내는 페닐이민 화합물의 제조 방법.
    Figure pat00020

    [식 중, R1은 상기와 동일하고,
    R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기로서, 식 중 복수의 R31은 각각 동일해도 상이해도 되고,
    n11은 0~4의 정수이며,
    n2는 0~5의 정수이다.]
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 화합물(K)이 하기 일반식(K1)로 나타내고, 또한
    상기 탄화수소 화합물(A)이 하기 일반식(A1)로 나타내는 페닐이민 화합물의 제조 방법.
    Figure pat00021

    [식 중, R1, R2, R31, n11은 모두 상기와 동일하다.]
  11. 청구항 7의 제조 방법에 따라 얻어진 페닐이민 화합물과 알킬화제를 반응시키는 것을 특징으로 하는 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 알킬화제가 황산디메틸, 요오도메탄, 탄산디메틸 및 황산디에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법.
  13. 하기 일반식(1-1)로 나타내는 화합물.
    Figure pat00022

    [식 중, R1, R2는 상기와 동일하고,
    R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기이며,
    n11은 0~4의 정수이다.]
  14. 청구항 13에 있어서,
    하기 일반식(1-3)로 나타내는 화합물.
    Figure pat00023

    [식 중, R1은 상기와 동일하고,
    R31은 수산기, 티올기, 카르복실기, 설폰산기, 니트로기, 또는 인산기로서,식 중 복수의 R31은 각각 동일해도 상이해도 되고,
    n11은 0~4의 정수이며,
    n2는 0~5의 정수이다.]
KR1020160034684A 2015-03-26 2016-03-23 여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 화합물 KR20160115778A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015064068A JP2016182554A (ja) 2015-03-26 2015-03-26 濾過材料、濾過フィルター、濾過方法、フェニルイミン化合物の製造方法、アルコキシフェニルイミン化合物の製造方法、化合物
JPJP-P-2015-064068 2015-03-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160115778A true KR20160115778A (ko) 2016-10-06

Family

ID=56974267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160034684A KR20160115778A (ko) 2015-03-26 2016-03-23 여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 화합물

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20160280638A1 (ko)
JP (1) JP2016182554A (ko)
KR (1) KR20160115778A (ko)
TW (1) TW201704273A (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003238958A (ja) 2002-02-14 2003-08-27 Dainippon Ink & Chem Inc 液晶表示素子用原材料の精製方法
JP2006136883A (ja) 2004-11-12 2006-06-01 Az Electronic Materials Usa Corp フォトレジスト組成物用の成膜性樹脂の製造方法
JP2013061426A (ja) 2011-09-12 2013-04-04 Nomura Micro Sci Co Ltd フォトレジスト膜形成用樹脂溶液の不純物除去方法、不純物除去用濾過部材及び不純物除去用濾過装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2475543A1 (fr) * 1980-02-12 1981-08-14 Synthelabo Derives benzylideniques, leur preparation et leur application en therapeutique
JPH076963B2 (ja) * 1990-03-26 1995-01-30 昭和炭酸株式会社 液体クロマトグラフィー用充填剤
JP2004330056A (ja) * 2003-05-07 2004-11-25 Ebara Corp 電子素子基板表面処理液用フィルターカートリッジ
WO2009005003A1 (ja) * 2007-07-04 2009-01-08 Mitsui Chemicals, Inc. 遷移金属錯体化合物、該化合物を含むオレフィン多量化用触媒および該触媒存在下で行うオレフィン多量体の製造方法
US7911676B2 (en) * 2008-12-16 2011-03-22 Transitions Optical, Inc. Photochromic optical articles prepared with reversible thermochromic materials
JP5803444B2 (ja) * 2011-08-31 2015-11-04 国立研究開発法人産業技術総合研究所 有機分子（シッフ塩基分子）内包繊維状アルミナ自立膜とその製造法、及びこの複合膜による水中の遷移金属イオン検出法・回収法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003238958A (ja) 2002-02-14 2003-08-27 Dainippon Ink & Chem Inc 液晶表示素子用原材料の精製方法
JP2006136883A (ja) 2004-11-12 2006-06-01 Az Electronic Materials Usa Corp フォトレジスト組成物用の成膜性樹脂の製造方法
JP2013061426A (ja) 2011-09-12 2013-04-04 Nomura Micro Sci Co Ltd フォトレジスト膜形成用樹脂溶液の不純物除去方法、不純物除去用濾過部材及び不純物除去用濾過装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW201704273A (zh) 2017-02-01
US20160280638A1 (en) 2016-09-29
JP2016182554A (ja) 2016-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101135771B1 (ko) 칼릭스아렌계 화합물, 그의 제조 방법, 그의 중간체 및그의 조성물
JP5474867B2 (ja) 光酸発生剤、この製造方法、及びこれを含むレジスト組成物
US8026390B2 (en) Photoacid generator containing aromatic ring
JP5559036B2 (ja) フォトレジスト用ポリオール化合物
TWI633096B (zh) 化合物或樹脂之精製方法
US4169079A (en) Polystyrene based polymers containing cyclodextrin derivatives, metal complexes of the same, and process for the production of the same
CN107129487B (zh) 一类以硫杂蒽酮为共轭结构的led可激发硫鎓盐的制备方法及其应用
JPS6393735A (ja) （２，２）−パラシクロフアンおよびその誘導体の製造方法
TWI445691B (zh) 鋶化合物、光酸產生劑及其製造方法
JP5116312B2 (ja) スルホニウム塩
CN107324978B (zh) 联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂、正性光刻胶组合物和负性光刻胶组合物
KR20160115778A (ko) 여과 재료, 여과 필터, 여과 방법, 페닐이민 화합물의 제조 방법, 알콕시페닐이민 화합물의 제조 방법, 화합물
TWI423948B (zh) 光酸產生劑及其製造方法，以及含有該光酸產生劑的光阻組合物
CN112142769B (zh) 含硅多苯基单分子树脂及其光刻胶组合物
KR20160108336A (ko) 시클로부탄테트라카르복실산 유도체의 제조 방법
CN111187152A (zh) 一种碱性固载化离子液体催化合成假性紫罗兰酮的方法
CN107266319B (zh) 树枝状多苯基取代金刚烷衍生物单分子树脂、正性光刻胶组合物和负性光刻胶组合物
CN108314785B (zh) 八苯基取代笼形倍半硅氧烷衍生物分子玻璃及其应用
KR20080062119A (ko) 수용성 광개시제
CN111978224B (zh) 含硫单分子树脂及其光刻胶组合物
TWI650310B (zh) 新穎脂環式酯化合物之製造方法、新穎脂環式酯化合物、該化合物所聚合而成之（甲基）丙烯酸酯共聚物、及含該共聚物之感光性樹脂組成物
US2562151A (en) Halogenated nitro ethers
RU2766138C1 (ru) Способ растворитель-экономного синтеза 5,11,17,23,29,35,41,47-окта-трет-бутил-49,50,51,52,53,54,55,56-октаоксикаликс[8]арена
JP2011068602A (ja) ジスルホニウム塩及びその製造方法
JP6399555B2 (ja) 自己ドーピング機能を持つポリアニリンの製造方法およびその方法により製造されたポリアニリンを含む帯電防止剤。