KR20160016706A - Light orientation device - Google Patents

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마코토 이마이
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이와사키 덴끼 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention is to provide a light orientation device for reducing the process time of a work process. In a light orientation device (1), a pair of work collection stages (PU1, PU2) are installed at both ends of the light orientation device, a light irradiating device (5) is installed in the center part thereof, a pair of work loading stages (PL1, PL2) are disposed between the work collection stages (PU1, PU2) and the light irradiating device (5), and adjacent to both ends (E1, E2) of the light irradiating device (5).

Description

광배향 장치{LIGHT ORIENTATION DEVICE}[0001] LIGHT ORIENTATION DEVICE [0002]

본 발명은 워크에 편광광을 조사하여 광배향하는 광배향 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an optical alignment apparatus for aligning a work by irradiating polarized light to a work.

종래, 광원과, 편광자를 구비하고, 이 편광자에 의해 광원으로부터의 광을 편광하여 광배향막(워크)에 조사하여, 광배향막을 광배향하는 광배향 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 광배향 장치에서는 광배향막을 스테이지 상에 적재하여 반송함으로써, 비교적 큰 광배향막을 광배향하고 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).Conventionally, there is known a photo-alignment apparatus having a light source and a polarizer, polarizing light from a light source by the polarizer, irradiating the photo alignment film (work), and optically orienting the photo alignment film (see, for example, Patent Document 1 ). In this optical alignment apparatus, a photo alignment film is stacked on a stage and transported, so that a relatively large photo alignment film is optically oriented (see, for example, Patent Document 1).

일본 특허 출원 공개 제2002-350858호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-350858

그러나, 광배향 장치에 있어서는, 워크 처리의 공정 작업 시간을 단축하는 것이 요망되고 있다.However, in the photo-alignment apparatus, it is desired to shorten the processing time of the work process.

본 발명은 상술한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 워크 처리의 공정 작업 시간을 단축 가능한 광조사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and it is an object of the present invention to provide a light irradiation apparatus capable of shortening a processing time of a work process.

상술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 광배향 장치는 한 쌍의 워크 회수 스테이지가 양단부에 설치되고, 중앙부에 광조사기가 설치되고, 워크 회수 스테이지와 광조사기 사이이며, 광조사기의 양 단부 근방 위치에 한 쌍의 워크 탑재 스테이지가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In order to attain the above object, the optical alignment apparatus of the present invention is characterized in that a pair of work recovery stages are provided at both ends, an optical reflector is provided at the center, a space between the work collecting stage and the light irradiator, And a pair of work mounting stages are provided at the positions.

상술한 구성에 있어서, 일단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 일단부측의 워크 회수 스테이지의 순으로 워크를 왕복시킴과 함께, 타단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 타단부측의 워크 회수 스테이지의 순으로 워크를 왕복시키는 반송 기구를 구비하고, 상기 반송 기구는 한쪽의 워크가 조사 영역을 통과할 때에, 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키고 있어도 된다. 그 반대도 마찬가지로, 상기 반송 기구는 다른 쪽의 워크가 조사 영역을 통과할 때에, 한쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키고 있어도 된다.In the above-described configuration, the workpiece is moved back and forth in the order of the workpiece mounting stage at one end, the irradiation area of the light irradiator at the center, and the workpiece collection stage at one end side, and the workpiece mounting stage at the other end, And a transport mechanism for reciprocating the work in the order of the work area, the irradiation area, and the work recovery stage on the other end side. The transport mechanism retracts the other work from the work mounting stage when one work passes through the irradiation area do. Similarly, the transport mechanism may retract one of the workpieces from the workpiece mounting stage when the other workpiece passes the irradiation area.

상술한 구성에 있어서, 워크 탑재 스테이지에 워크를 탑재하는 로봇 장치를 구비하고, 상기 로봇 장치는 2개의 워크를 보유 지지 가능하게 구성되어도 된다.In the above-described configuration, a robot apparatus for mounting a work on a workpiece mounting stage may be provided, and the robot apparatus may be configured to be capable of holding two workpieces.

상술한 구성에 있어서, 상기 반송 기구는 워크가 조사 영역을 통과하는 전후에서 워크의 이동 속도를 변경 가능하게 구성되어도 된다.In the above-described configuration, the transport mechanism may be configured to change the moving speed of the work before and after the work passes through the irradiation area.

상술한 구성에 있어서, 상기 다른 쪽의 워크에 조사 후에, 상기 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시켜도 된다. 그 반대도 마찬가지로, 상기 한쪽의 워크에 조사 후에, 상기 한쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시켜도 된다.In the above-described configuration, after irradiating the other work, the other work may be retracted from the work mounting stage. Similarly, after irradiating the one work, the one work may be retracted from the work mounting stage.

상술한 구성에 있어서, 상기 로봇 장치는 2개의 워크를 상하에 보유 지지 가능하게 구성되어, 조사 전의 워크를 하단에, 조사 후의 워크를 상단에 보유 지지해도 된다.In the above-described configuration, the robot apparatus may be configured to hold two workpieces vertically, and may hold the workpiece before irradiation at the lower end and the work after irradiation at the upper end thereof.

상술한 구성에 있어서, 상기 로봇 장치는 2개의 워크를 워크 탑재 스테이지측과, 워크 회수 스테이지측에 수평으로 보유 지지 가능하게 구성되어, 조사 전의 워크를 워크 탑재 스테이지측에, 조사 후의 워크를 워크 회수 스테이지측에 보유 지지해도 된다.In the above-described configuration, the robot apparatus is configured so that two workpieces can be held horizontally on the side of the workpiece mounting stage and on the side of the workpiece collecting stage, and the workpiece before irradiation is placed on the side of the workpiece mounting stage, Or may be held on the stage side.

또한, 본 발명의 광배향 장치는 중앙부에 광조사기가 설치되고, 광조사기의 양 단부 근방 위치에 한 쌍의 워크 탑재 스테이지가 설치되고, 일단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 일단부측의 워크 탑재 스테이지의 순으로 워크를 왕복시킴과 함께, 타단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 타단부측의 워크 탑재 스테이지의 순으로 워크를 왕복시키는 반송 기구를 구비하고, 상기 반송 기구는 한쪽의 워크가 조사 영역을 통과할 때에, 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키고 있는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 반송 기구는 다른 쪽의 워크가 조사 영역을 통과할 때에, 한쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키고 있어도 된다.Further, in the optical alignment apparatus of the present invention, a light irradiator is provided at the center, a pair of work mounting stages are provided at positions near both ends of the light irradiator, and a work mounting stage at one end, And a transport mechanism for reciprocating the work in the order of the workpiece mounting stage on the one end side and the workpiece mounting stage on the other end side and the workpiece mounting stage on the other end side of the workpiece mounting stage on the other end side, And the transport mechanism retracts the other work from the work mounting stage when one work passes the irradiation area. Further, the transport mechanism may move one of the workpieces backward from the workpiece mounting stage when the other workpiece passes the irradiation region.

상술한 구성에 있어서, 워크 탑재 스테이지에 워크를 탑재하는 로봇 장치를 구비하고, 상기 로봇 장치는 2개의 워크를 보유 지지 가능하게 구성되어도 된다.In the above-described configuration, a robot apparatus for mounting a work on a workpiece mounting stage may be provided, and the robot apparatus may be configured to be capable of holding two workpieces.

상술한 구성에 있어서, 상기 반송 기구는 워크가 조사 영역을 통과하는 전후에서 워크의 이동 속도를 변경 가능하게 구성되어도 된다.In the above-described configuration, the transport mechanism may be configured to change the moving speed of the work before and after the work passes through the irradiation area.

상술한 구성에 있어서, 상기 다른 쪽의 워크에 조사 후에, 상기 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시켜도 된다.In the above-described configuration, after irradiating the other work, the other work may be retracted from the work mounting stage.

상술한 구성에 있어서, 워크 탑재 스테이지가 워크 회수 스테이지를 겸해도 된다.In the above-described configuration, the work mounting stage may also serve as a work collecting stage.

상술한 구성에 있어서, 상기 로봇 장치는 2개의 워크를 상하에 보유 지지 가능하게 구성되어, 조사 전의 워크를 하단에, 조사 후의 워크를 상단에 보유 지지해도 된다.In the above-described configuration, the robot apparatus may be configured to hold two workpieces vertically, and may hold the workpiece before irradiation at the lower end and the work after irradiation at the upper end thereof.

본 발명에 따르면, 한 쌍의 워크 회수 스테이지가 양단부에 설치되고, 중앙부에 광조사기가 설치되고, 워크 회수 스테이지와 광조사기 사이이며, 광조사기의 양 단부 근방 위치에 한 쌍의 워크 탑재 스테이지가 설치되어 있으므로, 워크 처리의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다.According to the present invention, a pair of work collecting stages are provided at both ends, an optical irradiator is provided at the center, a pair of work mounting stages are provided between the work collecting stage and the light irradiator, So that the processing time of the work process can be shortened.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 광배향 장치를 구비한 광배향 시스템을 모식적으로 도시하는 평면도.
도 2는 광배향 장치를 모식적으로 도시하는 정면도.
도 3은 편광자 유닛의 구성을 도시하는 도면으로, (A)는 평면도, (B)는 측 단면에서 본 도면.
도 4는 하류측 로봇 장치(60)를 도시하는 도면으로, (A)는 상면도, (B)는 측면도, (C)는 정면도이다.
도 5는 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지에 광배향 대상물을 탑재하는 상태의 구성도.
도 6은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.
도 7은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제2 워크 스테이지의 이동 중에, 제1 워크 스테이지로부터 광배향 대상물을 회수하는 상태의 구성도.
도 8은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제2 워크 스테이지의 이동 중에, 제1 워크 스테이지에 광배향 대상물을 탑재하는 상태의 구성도.
도 9는 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제 2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.
도 10은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 워크 스테이지의 이동 중에, 제2 워크 스테이지로부터 광배향 대상물을 회수하는 상태의 구성도.
도 11은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 워크 스테이지의 이동 중에, 제2 워크 스테이지에 광배향 대상물을 탑재하는 상태의 구성도.
도 12는 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.
도 13은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제2 워크 스테이지의 이동 중에, 제1 워크 스테이지로부터 광배향 대상물을 회수하는 상태의 구성도.
도 14는 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 광배향 장치를 구비한 광배향 시스템을 모식적으로 도시하는 평면도.
도 15는 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지에 광배향 대상물을 탑재하는 상태의 구성도.
도 16은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.
도 17은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.
도 18은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제2 워크 스테이지의 이동 중에, 제1 워크 스테이지로부터 광배향 대상물을 회수 및 탑재하는 상태의 구성도.
도 19는 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.
도 20은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 워크 스테이지의 이동 중에, 제2 워크 스테이지로부터 광배향 대상물을 회수 및 탑재하는 상태의 구성도.
도 21은 광배향 조사 시스템의 구성을 모식적으로 도시하는 평면도로, (A)는 제1 및 제2 워크 스테이지의 이동 상태의 설명도, (B)는 제1 및 제2 워크 스테이지를 이동하는 상태의 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a plan view schematically showing an optical alignment system including an optical alignment apparatus according to a first embodiment of the present invention. Fig.
2 is a front view schematically showing a photo-alignment device;
Fig. 3 is a view showing the configuration of the polarizer unit, and Fig. 3 (A) is a plan view and Fig.
Fig. 4 is a view showing the downstream side robot apparatus 60. Fig. 4 (A) is a top view, Fig. 4 (B) is a side view, and Fig.
FIG. 5 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, wherein (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, (B) A configuration diagram of a state in which an object is mounted.
Fig. 6 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 6 (A) is an explanatory diagram of the movement states of the first and second workstations, Fig. 6 (B) State diagram of the state.
Fig. 7 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 7 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, and Fig. 7 (B) FIG. 5 is a configuration diagram of a state in which a photo-alignment object is recovered from a work stage. FIG.
Fig. 8 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 8 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 8 (B) FIG. 8 is a configuration diagram of a state in which a photo-alignment target is mounted on a workpiece stage. FIG.
Fig. 9 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 9 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 9 (B) State diagram of the state.
Fig. 10 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 10 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 10 (B) FIG. 5 is a configuration diagram of a state in which a photo-alignment object is recovered from a work stage. FIG.
Fig. 11 is a plan view schematically showing the configuration of the photo-alignment irradiation system, Fig. 11 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 11 (B) FIG. 8 is a configuration diagram of a state in which a photo-alignment target is mounted on a workpiece stage. FIG.
Fig. 12 is a plan view schematically showing the configuration of the photo-alignment illumination system, Fig. 12 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 12 (B) State diagram of the state.
Fig. 13 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 13 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 13 (B) FIG. 5 is a configuration diagram of a state in which a photo-alignment object is recovered from a work stage. FIG.
14 is a plan view schematically showing an optical alignment system including the optical alignment device according to the second embodiment of the present invention.
Fig. 15 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 15 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 15 (B) A configuration diagram of a state in which an object is mounted.
Fig. 16 is a plan view schematically showing the configuration of the photo-alignment irradiation system, Fig. 16 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 16 (B) State diagram of the state.
Fig. 17 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 17 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 17 State diagram of the state.
Fig. 18 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 18 (A) is an explanatory diagram of the moving state of the first and second workstations, Fig. 18 (B) FIG. 5 is a configuration diagram of a state in which a light-directed object is collected and mounted from a workpiece stage. FIG.
Fig. 19 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 19 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 19 (B) State diagram of the state.
Fig. 20 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 20 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 20 (B) FIG. 5 is a configuration diagram of a state in which a light-directed object is collected and mounted from a workpiece stage. FIG.
Fig. 21 is a plan view schematically showing the configuration of the photo alignment illumination system, Fig. 21 (A) is an explanatory diagram of a moving state of the first and second workstations, Fig. 21 (B) State diagram of the state.

<제1 실시 형태>&Lt; First Embodiment >

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 제1 실시 형태에 관한 광배향 장치를 구비한 광배향 시스템을 모식적으로 도시하는 평면도이고, 도 2는 광배향 장치를 모식적으로 도시하는 정면도이다.Fig. 1 is a plan view schematically showing an optical alignment system including the optical alignment apparatus according to the first embodiment, and Fig. 2 is a front view schematically showing the optical alignment apparatus.

광배향 시스템(100)은, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 광배향 장치(1)와, 반입출 장치(20)와, 상류측 로봇 장치(30)와, 클리너(40)와, 턴 유닛(각도 조정 장치)(50)과, 하류측 로봇 장치(60)와, 제어 장치(제어부)(70)를 구비하여 구성되어 있다. 이 광배향 시스템(100)은, 예를 들어 클린 룸 등의 비교적 이물이 적은 환경에 배치된다.1 and 2, the optical alignment system 100 includes a photo-alignment device 1, a carry-in / out device 20, an upstream side robot device 30, a cleaner 40, (Angle adjusting device) 50, a downstream side robot apparatus 60, and a control device (control section) This optical alignment system 100 is placed in an environment with relatively few foreign objects such as a clean room.

광배향 장치(1)는 평면에서 볼 때 직사각 형상으로 형성된 판 형상 혹은 띠 형상의 광배향 대상물(워크)(W)의 광배향막에 편광광을 조사하여 광배향하는 광조사 장치이다. 이 광배향 장치(1)는 워크 스테이지(반송 스테이지, 지지 부재)(2)와, 스테이지 반송 가대(3)와, 조사기 설치 가대(4)와, 광조사기(5)를 구비하고 있다.The photo-alignment apparatus 1 is a light irradiation apparatus for irradiating polarized light to a photo alignment film of a plate-shaped or strip-shaped photo-aligned object (workpiece) W formed in a rectangular shape in a plan view, The optical alignment apparatus 1 is provided with a work stage (a transport stage, a support member) 2, a stage transport stage 3, an irradiator mount 4, and an irradiator 5.

워크 스테이지(2)는, 예를 들어 대략 사각형 판 형상의 스테이지이고, 스테이지 반송 가대(3)에 한 쌍 설치되어 있다. 워크 스테이지(2)는 상면에 하류측 로봇 장치(60)에 의해 광배향 대상물(W)이 적재되고, 광배향 대상물(W)을 보유 지지한다. 한 쌍의 워크 스테이지(2)는 동일 형상으로 형성되고, 각 워크 스테이지(2)는 광배향 대상물(W)을 배치 가능한 크기로 형성되어 있다.The workpiece carrier 2 is, for example, a substantially rectangular plate-shaped stage, and is provided on the stage carrier 3 in a pair. The workpiece stage 2 is mounted on the upper surface thereof with the downstream-side robot apparatus 60 to carry the object W, and holds the object-to-be-oriented W. The pair of workstations 2 are formed in the same shape, and each workpiece stage 2 is formed to a size such that the object W can be arranged.

조사기 설치 가대(4)는 스테이지 반송 가대(3)로부터 소정 거리 이격된 상방 위치에서 스테이지 반송 가대(3)의 폭 방향(후술하는 직동 기구의 직동 방향 X에 수직인 방향)으로 가로로 걸쳐져 있는 문형상체이고, 그 양 기둥이 스테이지 반송 가대(3)에 고정된다. 조사기 설치 가대(4)는 워크 스테이지(2)가 출입하는 부분 이외는 차광벽으로 형성되어 있다. 조사기 설치 가대(4)는 광조사기(5)를 내장하고, 광조사기(5)가 바로 아래에 편광광을 조사한다. 또한, 워크 스테이지(2)의 이동에 수반하는 진동과 광조사기(5)의 냉각에 기인하는 진동을 분리하기 위해, 조사기 설치 가대(4)를 스테이지 반송 가대(3)에 고정하는 것이 아니라 당해 스테이지 반송 가대(3)와 별도 설치하는 구성이어도 된다. 스테이지 반송 가대(3)와, 조사기 설치 가대(4)는 방진 구조를 가져도 된다.The illuminator mounting bracket 4 has a rectangular shape extending transversely in the transverse direction of the stage transporting support 3 (in a direction perpendicular to the linear direction X of the linear movement mechanism described later) at a position above a predetermined distance from the stage transporting carriage 3 And both the columns are fixed to the stage transporting platform 3. [ The illuminator mounting platform 4 is formed of a light shielding wall except for the portion where the workpiece stage 2 enters and exits. The irradiator mount 4 includes a light irradiator 5 and the light irradiator 5 irradiates the polarized light directly below. In order to separate the vibration caused by the movement of the workpiece stage 2 and the vibration caused by the cooling of the light irradiator 5, it is not necessary to fix the irradiation device mount 4 to the stage carrier 3, Or may be provided separately from the conveying platform 3. The stage transporting platform 3 and the irradiation installation mount 4 may have a dustproof structure.

스테이지 반송 가대(3)에는 제어 장치(70)의 제어 하에서, 직동 방향 X를 따라 스테이지 반송 가대(3)의 면 위를 광조사기(5)의 바로 아래를 통과하도록 워크 스테이지(2)를 이송하는 직동 기구(반송 기구)(6)가 내설되어 있다. 광배향 대상물(W)의 광배향에 있어서는, 워크 스테이지(2)에 적재된 광배향 대상물(W)이, 직동 기구(6)에 의해 직동 방향 X를 따라 이송되어 광조사기(5)의 바로 아래를 통과하고, 이 통과 시에 편광광에 폭로되어 광배향막이 배향된다. 직동 기구(6)는 워크 스테이지(2)를 이동하는 속도를 변경 가능하게 구성되어 있다. 본 실시 형태의 직동 기구(6)는, 예를 들어 리니어 모터식이나 벨트 구동식으로서 구성되지만, 이들로 한정되지 않고, 각종 기구를 사용하는 것이 가능하다.Under the control of the control device 70, the stage transporting carriage 3 is provided with a conveying mechanism for conveying the workstage 2 so as to pass directly below the surface of the stage transporting carriage 3 along the direction of movement X A direct-acting mechanism (transport mechanism) 6 is installed. The optical alignment object W placed on the workpiece stage 2 is transferred along the linear direction X by the direct drive mechanism 6 and is directly under the light irradiator 5 And is exposed to the polarized light at the time of passing through it, and the photo alignment film is oriented. The direct drive mechanism 6 is configured to be capable of changing the speed at which the work stage 2 is moved. The direct drive mechanism 6 of the present embodiment is configured as, for example, a linear motor type or a belt driven type, but is not limited thereto and various mechanisms can be used.

광조사기(5)는, 도 2에 도시한 바와 같이, 하면에 광출사 개구부(7A)를 갖는 하우징(7)과, 이 하우징 내에 배치되는 램프(광원)(8) 및 반사경(9)과, 광출사 개구부(7A)에 배치되는 편광자 유닛(10)을 구비하고 있다.2, the light irradiator 5 includes a housing 7 having a light emission opening 7A on its lower surface, a lamp (light source) 8 and a reflector 9 disposed in the housing, And a polarizer unit 10 disposed in the light exit opening 7A.

하우징(7)은 광배향 대상물(W)로부터 소정 거리 이격된 상방 위치에서 조사기 설치 가대(4)에 지지되어 있다. 램프(8)는 적어도 광배향 대상물(W)의 길이 방향의 길이와 동등 이상으로 연장되는 직관형(봉 형상)의 자외선 램프가 사용되어 있다. 즉, 램프(8)의 장축 L은 직동 방향 X에 직교하는 방향에 일치하고 있다. 이 램프(8)는 방전등이고, 제어 장치(70)의 제어에 기초하여 점등한다. 반사경(9)은 단면 타원형이고, 또한 램프(8)의 길이 방향을 따라 연장되는 실린드리컬 오목면 반사경이고, 램프(8)의 광을 집광하여 광출사 개구부(7A)로부터 편광자 유닛(10)을 향해 조사한다.The housing 7 is supported on the irradiation device mount 4 at a position above a predetermined distance from the object W to be photo-aligned. The lamp 8 is an ultraviolet lamp of straight tube type (rod shape) which extends at least equal to the length of the object W in the longitudinal direction. That is, the long axis L of the lamp 8 coincides with the direction orthogonal to the linear direction X. The lamp 8 is a discharge lamp, and is turned on based on the control of the control device 70. [ The reflector 9 is a cylindrical concave reflector that is elliptical in cross section and extends along the longitudinal direction of the lamp 8. The reflector 9 condenses the light of the lamp 8 and transmits the light from the light exit opening 7A to the polarizer unit 10, Lt; / RTI &gt;

광출사 개구부(7A)는 램프(8)의 바로 아래에 형성된 평면에서 볼 때 직사각 형상의 개구부이고, 길이 방향이 램프(8)의 길이 방향에 일치하도록 설치되어 있다. 또한, 도시는 생략하지만, 광출사 개구부(7A)의 내측에는 투과하는 광의 파장을 선택하는 파장 선택 필터가 설치되고, 이 파장 선택 필터에 의해 광조사기(5)는 원하는 파장의 광을 조사하도록 되어 있다. 본 실시 형태에서는, 파장 선택 필터를 설치하였지만, 램프(8) 자체에서 원하는 파장의 광을 출사할 수 있는 경우에는, 파장 선택 필터를 생략해도 된다.The light exit opening 7A is an opening having a rectangular shape as viewed in a plane formed immediately below the lamp 8 and is provided so that its longitudinal direction coincides with the longitudinal direction of the lamp 8. [ Although not shown, a wavelength selection filter for selecting the wavelength of light to be transmitted is provided inside the light output opening 7A, and the light irradiator 5 is adapted to irradiate light of a desired wavelength with this wavelength selection filter have. In the present embodiment, a wavelength selection filter is provided. However, when the lamp 8 itself can emit light of a desired wavelength, the wavelength selection filter may be omitted.

본 실시 형태에서는, 하우징(7)은 광배향 대상물(W)과 근접하여 설치되어 있고, 광출사 개구부(7A)의 크기가 조사 영역(R)의 크기에 상당한다. 또한, 조사 영역(R)의 중심축은 램프(8)의 장축 L에 일치하고 있다.In the present embodiment, the housing 7 is provided in proximity to the object W, and the size of the light exit opening 7A corresponds to the size of the irradiation area R. The center axis of the irradiation area R coincides with the long axis L of the ramp 8.

스테이지 반송 가대(3)에는 각 워크 스테이지(2)에 대응하여 설치되어, 워크 스테이지(2)를 회전 구동하는 회전 구동 기구(도시하지 않음)가 내부 설치되어 있다. 이 회전 구동 기구는 제어 장치(70)의 제어 하에서, 광배향 대상물(W)이, 광배향 대상물(W)의 한 쌍의 변이 램프(8)의 장축 L에 대해 일치(평행)하고, 광배향 대상물(W)의 다른 한 쌍의 변이 램프(8)의 장축 L에 대해 직교하는 정자세가 되도록, 워크 스테이지(2)를 회전시키고, 광배향 대상물(W)의 각도를 미세 조정한다. 또한, 광배향 대상물(W)의 조사에 필요한 편광광의 편광축 각도가 램프(8)의 장축 L에 대해 소정의 각도인 경우, 회전 구동 기구는 워크 스테이지(2)를 소정 각도 회전시킨다.The stage transporting platform 3 is internally provided with a rotation drive mechanism (not shown) provided corresponding to each workpiece stage 2 for rotationally driving the workpiece stage 2. [ Under the control of the control device 70, the rotation driving mechanism is configured such that the optical alignment object W coincides (is parallel to) the long axis L of the ramp 8 of the pair of the optical alignment target W, The workpiece stage 2 is rotated and the angle of the object W is finely adjusted so that the other pair of the object W is placed in a straight line orthogonal to the longitudinal axis L of the ramp 8. [ When the polarization axis angle of the polarized light required for irradiation of the object W is a predetermined angle with respect to the long axis L of the ramp 8, the rotation driving mechanism rotates the work stage 2 by a predetermined angle.

도 3은 편광자 유닛(10)의 구성을 도시하는 도면으로, 도 3의 (A)는 평면도, 도 3의 (B)는 측단면에서 본 도면이다.Fig. 3 is a diagram showing a configuration of the polarizer unit 10, Fig. 3 (A) is a plan view, and Fig. 3 (B) is a side sectional view.

편광자 유닛(10)은, 도 3에 도시한 바와 같이 복수의 단위 편광자 유닛(12)과, 이들 단위 편광자 유닛(12)을 횡배열로 일렬로 정렬하는 프레임(14)을 구비하고 있다. 프레임(14)은 각 단위 편광자 유닛(12)을 연접 배치하는 판 형상의 프레임체이다. 단위 편광자 유닛(12)은 대략 직사각형 판 형상으로 형성된 와이어 그리드 편광자(편광자)(16)를 구비하고 있다.As shown in Fig. 3, the polarizer unit 10 includes a plurality of unit polarizer units 12 and a frame 14 that aligns the unit polarizer units 12 in a row. The frame 14 is a plate-like frame body for arranging the unit polarizers 12 in a contiguous arrangement. The unit polarizer unit 12 has a wire grid polarizer (polarizer) 16 formed in a substantially rectangular plate shape.

본 실시 형태에서는, 각 단위 편광자 유닛(12)은 와이어 그리드 편광자(16)를 와이어 방향 A가 직동 방향 X와 평행이 되도록 지지하고, 이 와이어 방향 A와 직교하는 방향과, 와이어 그리드 편광자(16)의 배열 방향 B가 일치하도록 되어 있다.In the present embodiment, each unit polarizer unit 12 supports the wire grid polarizers 16 so that the wire direction A is parallel to the direction X and the direction orthogonal to the wire direction A and the direction perpendicular to the wire grid polarizers 16, Are aligned with each other.

와이어 그리드 편광자(16)는 직선 편광자의 1종이고, 기판의 표면에 그리드를 형성한 것이다. 상술한 바와 같이, 램프(8)가 봉 형상이므로, 와이어 그리드 편광자(16)에는 다양한 각도의 광이 입사하지만, 와이어 그리드 편광자(16)는 비스듬히 입사하는 광이라도 직선 편광화되어 투과한다.The wire grid polarizer 16 is one type of linear polarizer, and a grid is formed on the surface of the substrate. As described above, since the lamp 8 is a rod shape, light of various angles is incident on the wire grid polarizer 16, but the wire grid polarizer 16 transmits linearly polarized light even when obliquely incident.

와이어 그리드 편광자(16)는 그 법선 방향을 회전축으로 하여 면 내에서 회전시키고 편광축(C1)의 방향을 미세 조정할 수 있도록 단위 편광자 유닛(12)에 지지되어 있다. 즉, 복수의 와이어 그리드 편광자(16)는 편광축(C1)의 방향을 미세 조정할 수 있도록 서로 간극을 두고 배치되어 있다.The wire grid polarizer 16 is supported on the unit polarizer unit 12 so that the direction of the normal to the rotation axis can be rotated in the plane and the direction of the polarization axis C1 can be finely adjusted. That is, the plurality of wire grid polarizers 16 are disposed with a gap therebetween so as to finely adjust the direction of the polarization axis C1.

스테이지 반송 가대(3)에는 제어 장치(70)의 제어에 기초하여 편광광을 검출하고 편광광의 편광 방향 및 소광비를 측정하는 측정 유닛(18)이 설치되어 있다. 이 측정 유닛(18)이 측정한 편광광의 편광 방향에 기초하여 와이어 그리드 편광자(16)의 편광축(C1)의 방향이 조정된다.The stage transporting carriage 3 is provided with a measuring unit 18 for detecting the polarized light based on the control of the controller 70 and measuring the polarization direction and the extinction ratio of the polarized light. The direction of the polarization axis C1 of the wire grid polarizer 16 is adjusted based on the polarization direction of the polarized light measured by the measurement unit 18. [

모든 단위 편광자 유닛(12)에 대해, 와이어 그리드 편광자(16)의 편광축(C1)이 소정의 조사 기준 방향으로 정렬되도록 미세 조정됨으로써, 편광자 유닛(10)의 장축 방향의 전체 길이에 걸쳐서 편광축(C1)이 고정밀도로 정렬된 편광광을 얻을 수 있어, 고품위의 광배향이 가능해진다. 편광축(C1)이 조정된 와이어 그리드 편광자(16)는 단위 편광자 유닛(12)의 상단부 및 하단부가 나사(고정 수단)(19)에 의해 프레임(14)에 고정됨으로써, 프레임(14)에 고정 배치된다.The polarization axis C1 of the wire grid polarizer 16 is finely adjusted so that the polarization axis C1 of the wire grid polarizer 16 is aligned in the predetermined irradiation reference direction with respect to all the unit polarizer units 12, ) Can be obtained with highly-aligned polarized light, and high-quality light distribution can be achieved. The wire grid polarizer 16 whose polarization axis C1 is adjusted is fixed to the frame 14 by fixing the upper end portion and the lower end portion of the unit polarizer unit 12 to the frame 14 by screws do.

반입출 장치(20)는, 도 1에 도시한 바와 같이 스테이지 반송 가대(3)에 평행하게 설치된 본체(21)를 구비하고, 이 본체(21)에 복수의 광배향 대상물(W)을 적재하는 적재대(22)를 구비하고 있다. 이 적재대(22)에 외부로부터 광배향 대상물(W)이 반입됨과 함께, 광배향된 광배향 대상물(W)이 적재대(22)에 적재되고, 이 적재대(22)로부터 다음의 처리 장치로 반출된다. 본 실시 형태에서는, 4개의 적재대(22)가 설치되어 있지만, 적재대(22)의 수는 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 반입용 적재대(22) 및 반출용 적재대(22)를 설치하도록 해도 된다.As shown in Fig. 1, the loading / unloading apparatus 20 is provided with a main body 21 provided in parallel to the stage transporting platform 3, and a plurality of photo-oriented objects W are loaded on the main body 21 And a loading table 22. The photo-aligned object W is carried from the outside into the mount table 22 and the optically-oriented photo-aligned object W is placed on the mount table 22 from the mount table 22, . In this embodiment, although four stacking tables 22 are provided, the number of stacking tables 22 is not limited to this. For example, the number of stacking tables 22 and 22 May be installed.

상류측 로봇 장치(30)는 스테이지 반송 가대(3)에 평행하게 설치된 정반(31)과, 이 정반(31)에 지지된 로봇(32)과, 로봇(32)을 직동 방향 X를 따라 왕복 이동하는 왕복 구동 기구(33)를 구비하여 구성되어 있다. 로봇(32)은 회전 및 신축 가능한 아암(32A)과, 아암(32A)에 고정되어 광배향 대상물(W)을 보유 지지하는 보유 지지부(32B)를 구비하고 있다. 아암(32A)은 정반(31)에 수평면에 있어서 회전 가능하게 지지되어 있다. 본 실시 형태의 아암(32A)은 회전 가능한 복수의 관절을 갖고 신축 가능하게 구성된 다관절 아암이지만, 아암(32A)의 구성은 이에 한정되는 것은 아니다. 로봇(32)은 제어 장치(70)의 제어 하에서, 직동 방향 X로 이동함과 함께 아암(32A)을 이동하고, 반입출 장치 (20), 클리너(40) 및 턴 유닛(50) 사이에서 광배향 대상물(W)을 전달한다.The upstream side robot apparatus 30 includes a base 31 provided parallel to the stage transporting support 3, a robot 32 supported by the base 31, and a robot 32 reciprocating And a reciprocating drive mechanism 33 for reciprocating motion. The robot 32 includes a rotatable and retractable arm 32A and a holding portion 32B fixed to the arm 32A and holding a subject W to be aligned. The arm 32A is rotatably supported on the base 31 in a horizontal plane. The arm 32A of the present embodiment is a multi-joint arm having a plurality of rotatable joints and configured to be able to expand and contract, but the configuration of the arm 32A is not limited to this. The robot 32 moves under the control of the controller 70 in the linear direction X and moves the arm 32A so as to move the arm 32A between the load / unload device 20, the cleaner 40 and the turn unit 50, And transfers the object W to be oriented.

클리너(40)는 상류측 로봇 장치(30)의 정반(31)에 평행하고 또한 인접하여 설치된 정반(41)과, 광배향 대상물(W)의 표면의 이물을 제거하는 클리닝 유닛(42)과, 광배향 대상물(W)을 클리닝 유닛(42)을 향해 이동하는 이동 기구(43)를 구비하여 구성되어 있다. 클리닝 유닛(42)은 정반(41)의 상방으로, 직동 방향 X에 직교하는 방향(장축 L의 방향)을 따라 설치되어 있다. 클리닝 유닛(42)은 제어 장치(70)의 제어에 기초하여, 하방으로부터 공기 등의 기체를 분출 가능하게 구성되어 있다. 이동 기구(43)는 제어 장치(70)의 제어 하에서, 직동 방향 X를 따라 정반(41)의 면 위를 클리닝 유닛(42)의 바로 아래를 통과하도록 광배향 대상물(W)을 이동하는 기구이고, 예를 들어 벨트식으로 구성되어 있다.The cleaner 40 includes a base 41 disposed parallel to and adjacent to the table 31 of the upstream side robot apparatus 30, a cleaning unit 42 for removing foreign objects from the surface of the object A, And a moving mechanism 43 for moving the object W toward the cleaning unit 42. The cleaning unit 42 is provided above the surface plate 41 along a direction perpendicular to the linear direction X (direction of the long axis L). The cleaning unit 42 is configured to be capable of ejecting a gas such as air from below under the control of the control device 70. The moving mechanism 43 is a mechanism for moving the object W so as to pass directly below the cleaning unit 42 on the surface of the table 41 along the direction of the straight line X under the control of the controller 70 For example, a belt type.

광배향 대상물(W)은 이동 기구(43)에 의해 직동 방향 X를 따라 이송되어 클리닝 유닛(42)의 바로 아래를 통과하고, 이 통과 시에 기체가 분사되어, 광배향 대상물(W)에 부착되어 있던 이물이 제거된다. 또한, 클리너(40)에는 도시는 생략하지만, 정전기를 제거하는 정전기 제거기가 설치되어 있고, 클리너(40)에 있어서, 광배향 대상물(W)의 정전기도 제거된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 클리너(40)는 이동 기구(43)를 구비하고 있었지만, 클리닝 유닛(42)이 광배향 대상물(W)의 광배향막 전체면에 걸쳐서 기체를 분출 가능하게 구성되어 있으면, 이 이동 기구(43)는 생략해도 된다. 또한, 광배향 대상물(W)을 이동하는 이동 기구(43) 대신에, 클리닝 유닛(42)을 직동 방향 X로 이동 가능한 이동 기구(도시하지 않음)를 설치해도 된다.The optical alignment object W is conveyed along the linear direction X by the moving mechanism 43 and passes directly under the cleaning unit 42. The gas is sprayed upon passing through the cleaning unit 42 to be adhered to the object W The foreign matter is removed. The cleaner 40 is provided with a static eliminator for removing static electricity, though not shown, and the static electricity of the object W is also removed by the cleaner 40. In the present embodiment, the cleaner 40 is provided with the moving mechanism 43. However, if the cleaning unit 42 is configured to eject the gas over the entire surface of the optical alignment film of the object W, The moving mechanism 43 may be omitted. A moving mechanism (not shown) capable of moving the cleaning unit 42 in the linear direction X may be provided instead of the moving mechanism 43 for moving the object W to be aligned.

턴 유닛(50)은 상류측 로봇 장치(30)의 정반(31)에 인접하고, 클리너(40)와 병설하여 설치되어 있다. 턴 유닛(50)은 제어 장치(70)의 제어에 기초하여 광배향 대상물(W)이 적재되고 광배향 대상물(W)의 각도를 조정하는 조정 스테이지(51)를 구비하고 있다. 턴 유닛(50)은 광배향 대상물(W)의 한 쌍의 변이 램프(8)의 장축 L에 대해 일치(평행)하고, 광배향 대상물(W)의 다른 한 쌍의 변이 램프(8)의 장축 L에 대해 직교하는 정자세가 되도록, 광배향 대상물(W)의 각도를 조정한다.The turn unit 50 is provided adjacent to the surface plate 31 of the upstream side robot apparatus 30 and in parallel with the cleaner 40. The turn unit 50 is provided with an adjustment stage 51 on which the optical alignment target W is mounted and which adjusts the angle of the optical alignment target W based on the control of the controller 70. [ The turn unit 50 is arranged such that the pair of sides of the object W to be aligned coincide with the long axis L of the ramp 8 and the other pair of sides of the object W to be aligned is parallel to the long axis L of the ramp 8, The angle of the photo-aligned object W is adjusted so that the normal straight line orthogonal to L is obtained.

도 4는 하류측 로봇 장치(60)를 도시하는 도면으로, 도 4의 (A)는 상면도, 도 4의 (B)는 측면도, 도 4의 (C)는 정면도이다.Fig. 4 is a view showing the downstream side robot apparatus 60. Fig. 4 (A) is a top view, Fig. 4 (B) is a side view, and Fig. 4 (C) is a front view.

하류측 로봇 장치(60)는, 도 1 및 도 4에 도시한 바와 같이 스테이지 반송 가대(3)에 평행하게 설치된 정반(61)과, 이 정반(61)에 지지된 로봇(62)과, 로봇(62)을 직동 방향 X를 따라 왕복 이동하는 왕복 구동 기구(63)를 구비하여 구성되어 있다. 로봇(62)은 회전 및 신축 가능한 아암(62A)과, 아암(62A)에 고정되어 광배향 대상물(W)을 보유 지지하는 한 쌍의 보유 지지부(62B)를 구비하고 있다. 아암(62A)은 정반(61)에 수평면에 있어서 회전 가능하게 지지되어 있다. 본 실시 형태의 아암(62A)은 회전 가능한 복수의 관절을 갖고 신축 가능하게 구성된 다관절 아암이지만, 아암(62A)의 구성은 이에 한정되는 것은 아니다. 보유 지지부(62B)는 복수의 보유 지지 바(62B1)를 평행하게 배열하여 구성되고, 광배향 대상물(W)은 이들 보유 지지 바(62B1) 상에 배치되어 보유 지지된다. 한 쌍의 보유 지지부(62B)는, 본 실시 형태에서는 상하에 설치되어 있고, 로봇(62)은 2개의 광배향 대상물(W)을 상하 병렬로 보유 지지 가능하게 구성되어 있다. 이 경우, 로봇(62)은 조사 전의 광배향 대상물(W)을 하단의 보유 지지부(62B)에, 조사 후의 광배향 대상물(W)을 상단의 보유 지지부(62B)에 보유 지지함으로써, 조사 전의 광배향 대상물(W)의 이동을 적게 할 수 있다. 이에 의해, 턴 유닛(50)으로 조정한 광배향 대상물(W)의 각도를 보다 고정밀도로 유지할 수 있고, 광배향 정밀도를 향상시킬 수 있다. 로봇(62)은, 구체적으로는 상하에 배치되는 2개의 아암(62A)을 구비하고, 각 아암(62A)은 상하로 연장되는 지지체(62C)에 상하로 이동 가능하게 지지되고, 각 아암(62A)에 각각 보유 지지 바(62B1)가 설치되어 구성되어 있다.1 and 4, the downstream side robot apparatus 60 includes a base 61 provided parallel to the stage transportation base 3, a robot 62 supported by the base 61, And a reciprocating drive mechanism (63) for reciprocating the motor (62) along the direction of movement (X). The robot 62 includes a rotatable and retractable arm 62A and a pair of holding portions 62B that are fixed to the arm 62A and hold a subject W to be aligned. The arm 62A is rotatably supported on the base 61 in a horizontal plane. The arm 62A of the present embodiment is a multi-joint arm having a plurality of rotatable joints and configured to be able to expand and contract, but the configuration of the arm 62A is not limited thereto. The holding portion 62B is constituted by arranging a plurality of holding bars 62B1 in parallel and the object W is arranged and held on these holding bars 62B1. The pair of holding portions 62B are provided on the upper and lower sides in the present embodiment, and the robot 62 is configured to be capable of holding two objects W in the vertical direction in parallel. In this case, the robot 62 holds the object W to be irradiated before the irradiation with the holding portion 62B at the lower end and holds the object W to be irradiated after the irradiation with the holding portion 62B at the upper end, The movement of the object W to be oriented can be reduced. This makes it possible to maintain the angle of the object W adjusted by the turn unit 50 with higher accuracy and to improve the optical alignment accuracy. Specifically, each of the arms 62A is supported by a support 62C extending vertically and movably in an up-and-down direction, and each of the arms 62A And a holding bar 62B1 is provided on each of them.

또한, 한 쌍의 보유 지지부(62B)를 수평으로 병설하여 설치해도 된다. 이 경우, 로봇(62)은 광조사기(5)의 일단부(E1)측에 대해서는, 2개의 광배향 대상물(W)을 탑재[후술하는 탑재 위치(PL1)]측과, 회수(후술하는 회수 위치 PU1)측에 보유 지지 가능하게 구성되어, 조사 전의 광배향 대상물(W)을 탑재측에, 조사 후의 광배향 대상물(W)을 회수측에 보유 지지한다. 또한, 로봇(62)은 광조사기(5)의 타단부(E2)측에 대해서는, 2개의 광배향 대상물(W)을 탑재[후술하는 탑재 위치(PL2)]측과, 회수[후술하는 회수 위치(PU2)]측에 보유 지지 가능하게 구성되어, 조사 전의 광배향 대상물(W)을 탑재측에, 조사 후의 광배향 대상물(W)을 회수측에 보유 지지한다. 이에 의해, 조사 전의 광배향 대상물(W)의 이동을 적게 할 수 있어, 턴 유닛(50)으로 조정한 광배향 대상물(W)의 각도를 보다 고정밀도로 유지할 수 있고, 그 결과, 광배향 정밀도를 향상시킬 수 있다.Further, a pair of holding portions 62B may be horizontally arranged. In this case, the robot 62 is configured such that two light-oriented objects W are mounted on the side of the one end E1 of the light irradiator 5 (on the mounting position PL1 described later) Position PU1) so as to hold the object W to be irradiated before the irradiation and the object W to be irradiated after the irradiation to the collecting side. The robot 62 has two light alignment objects W mounted on the side of the other end E2 of the light irradiator 5 (the mounting position PL2 described later) and the number of times (PU2), so that the object W to be irradiated prior to irradiation is held on the mounting side and the object W to be irradiated is held on the collecting side. This makes it possible to reduce the movement of the object W to be irradiated before irradiation and maintain the angle of the object W adjusted by the turn unit 50 with high accuracy, Can be improved.

왕복 구동 기구(63)는 다양한 기구를 사용할 수 있고, 그 일례로서, 본 실시 형태에서는 리니어 모터 액추에이터로서 구성되어 있다. 구체적으로는, 왕복 구동 기구(63)는 정반(61)에 설치된 자석반(도시하지 않음) 및 리니어 레일(63A)과, 로봇(62)에 설치된 리니어 모터(도시하지 않음) 및 리니어 가이드(63B)를 구비하여 구성되어 있다. 또한, 리니어 레일(63A)은 리니어 레일로 한정되지 않고, 각종 레일을 사용하는 것이 가능하다.As the reciprocating drive mechanism 63, various mechanisms can be used. In this embodiment, the reciprocating drive mechanism 63 is configured as a linear motor actuator. More specifically, the reciprocating drive mechanism 63 includes a magnet (not shown) and a linear rail 63A provided on the table 61, a linear motor (not shown) and a linear guide 63B provided on the robot 62, Respectively. Further, the linear rail 63A is not limited to a linear rail, and various rails can be used.

로봇(62)은 제어 장치(70)의 제어 하에서, 직동 방향 X로 이동함과 함께 아암(62A)을 이동하고, 한 쌍의 워크 스테이지 및 턴 유닛(50) 사이에서 광배향 대상물(W)을 전달한다.Under the control of the controller 70, the robot 62 moves in the linear direction X, moves the arm 62A, and moves the object W between the pair of workstages and the turn unit 50 .

광배향 장치(1)의 워크 스테이지(2)에는 하류측 로봇 장치(60)와의 사이에서 광배향 대상물(W)을 전달하기 위한 구동 핀(도시하지 않음)이 복수 설치되어 있다. 이들 구동 핀은 복수의 보유 지지 바(62B1) 사이의 위치에, 광배향 대상물(W)을 보유 지지 가능한 간격으로 배치되고, 핀 구동 기구(도시하지 않음)에 의해 상하로 이동한다. 구동 핀이 워크 스테이지(2)의 상면으로부터 돌출되어 하류측 로봇 장치(60)로부터 광배향 대상물(W)을 수취하고, 그 후, 워크 스테이지(2) 내에 수납됨으로써, 광배향 대상물(W)이 워크 스테이지(2)의 상면에 적재된다. 또한, 구동 핀이 워크 스테이지(2)의 상면으로부터 돌출됨으로써, 광배향 대상물(W)은 워크 스테이지(2)로부터 이격되고, 하류측 로봇 장치(60)에 의해 보유 지지된다. 이들 구동 핀에 의해, 턴 유닛(50)으로 조정한 광배향 대상물(W)의 각도를 유지한 상태에서, 워크 스테이지(2)와 하류측 로봇 장치(60) 사이에서 광배향 대상물(W)을 전달할 수 있다.A plurality of drive pins (not shown) for transferring the object W to / from the downstream side robot apparatus 60 are provided on the workpiece stage 2 of the photo- These drive pins are disposed at positions between the plurality of holding bars 62B1 at intervals at which the optical alignment target W can be held, and are moved up and down by a pin driving mechanism (not shown). The driving pin is projected from the upper surface of the workpiece stage 2 to receive the object W from the downstream robot apparatus 60 and then stored in the workpiece stage 2, And is mounted on the upper surface of the workpiece stage 2. Further, as the drive pin projects from the upper surface of the workpiece stage 2, the object W is separated from the workpiece stage 2 and held by the downstream side robot apparatus 60. These drive pins allow the optical alignment object W to be moved between the workpiece stage 2 and the downstream side robot apparatus 60 while maintaining the angle of the optical alignment object W adjusted by the turn unit 50 .

광배향 장치(1)와, 반입출 장치(20)와, 상류측 로봇 장치(30)와, 클리너(40) 및 턴 유닛(50)과, 하류측 로봇 장치(60)는 램프(8)의 장축 L 방향으로 서로 병렬하여 배치되어 있다.The upstream side robot apparatus 30, the cleaner 40 and the turn unit 50 and the downstream side robot apparatus 60 are connected to the lamp 8 via the light directing apparatus 1, the carry-in / out apparatus 20, the upstream side robot apparatus 30, And arranged in parallel with each other in the major axis L direction.

제어 장치(70)는 광배향 시스템(100) 전체를 제어하는 제어부이고, 직동 기구(6) 등의 각 부를 제어하는 제어 프로그램을 기억하는 기억부(71)와, 제어 프로그램을 실행하는 실행부(72)를 구비하고 있다. 또한, 제어 프로그램을 컴퓨터 판독 가능하도록 구성하고, 제어 장치(70)는 이 제어 프로그램을, 예를 들어 퍼스널 컴퓨터에 실행시킴으로써 실시할 수도 있다.The control unit 70 is a control unit for controlling the entire optical alignment system 100 and includes a storage unit 71 for storing a control program for controlling each part of the direct drive mechanism 6 and the like and an execution unit 72). Further, the control program may be configured to be computer readable, and the control device 70 may be executed by executing this control program on, for example, a personal computer.

또한, 광배향 시스템(100)은 반입출 장치(20) 및 상류측 로봇 장치(30)를 구비하고 있었지만, 반입출 장치(20) 및 상류측 로봇 장치(30)를 광배향 시스템(100)과는 별도의 공급 시스템으로서 구성해도 된다. 이 경우, 광배향 시스템(100) 및 공급 시스템의 제어 장치를 설치해도 되고, 예를 들어 광배향 시스템(100) 및 공급 시스템의 제어 장치를 개별로 설치하여, 각 제어 장치를 협동시켜도 된다.The optical alignment system 100 is provided with the transfer device 20 and the upstream robot apparatus 30. The transfer system 20 and the upstream robot apparatus 30 are connected to the optical alignment system 100 May be configured as a separate supply system. In this case, the optical alignment system 100 and the control system of the supply system may be provided. For example, the optical alignment system 100 and the control system of the supply system may be separately provided, and the control systems may be cooperated.

다음에, 한 쌍의 워크 스테이지(2)에 대한 광배향 대상물(W)의 탑재 위치 및 회수 위치에 대해 설명한다.Next, the mounting position and the return position of the object W to be aligned with respect to the pair of workstations 2 will be described.

여기서, 설명의 편의상, 한쪽의 워크 스테이지(2)를 제1 워크 스테이지(2A), 다른 쪽의 워크 스테이지(2)를 제2 워크 스테이지(2B)라고 하는 것으로 한다.Here, for convenience of explanation, one workpiece stage 2 is referred to as a first workpiece stage 2A, and the other workpiece stage 2 is referred to as a second workpiece stage 2B.

도 1에 도시한 바와 같이, 제1 워크 스테이지(2A)로의 광배향 대상물(W)의 탑재 위치(워크 탑재 스테이지)(PL1)와, 제1 워크 스테이지(2A)로부터의 광배향 대상물(W)의 회수 위치(워크 회수 스테이지)(PU1)는 광조사기(5)의 일단부(E1)측에 설정되고, 각각 위치가 다르다. 보다 구체적으로는 회수 위치(PU1)와 광조사기(5) 사이이며, 광조사기(5)의 일단부(E1) 근방 위치에 탑재 위치(PL1)가 설정되어 있다.1, the mounting position (work mounting stage) PL1 of the object W to be aligned with the first workpiece stage 2A and the position W2 of the object W to be processed from the first workpiece stage 2A, (Workpiece collection stage) PU1 is set at the end E1 side of the light irradiator 5, and the positions are different from each other. More specifically, the mounting position PL1 is set between the return position PU1 and the light irradiator 5 at a position near the one end E1 of the light irradiator 5.

마찬가지로, 제2 워크 스테이지(2B)로의 광배향 대상물(W)의 탑재 위치(워크 탑재 스테이지)(PL2)와, 제2 워크 스테이지(2B)로부터의 광배향 대상물(W)의 회수 위치(워크 회수 스테이지)(PU2)는 광조사기(5)의 타단부(E2)측에 설정되고, 각각 위치가 다르다. 보다 구체적으로는 회수 위치(PU2)와 광조사기(5) 사이이며, 광조사기(5)의 타단부(E2) 근방 위치에 탑재 위치(PL2)가 설정되어 있다.Likewise, the position (workpiece mounting stage) PL2 of the object W to be aligned with the second workpiece stage 2B and the position of the object W to be aligned from the second workpiece stage 2B Stage) PU2 is set on the other end E2 side of the light irradiator 5, and the positions are different from each other. More specifically, the mounting position PL2 is set between the return position PU2 and the light irradiator 5 at a position near the other end E2 of the light irradiator 5.

또한, 도 1에서는 탑재 위치(PL1, PL2)의 워크 스테이지(2)를 실선으로, 회수 위치(PU1, PU2)의 워크 스테이지(2)를 이점쇄선으로 나타낸다. 또한, 도 5∼도 13에서는, 탑재 위치(PL1, PL2) 및 회수 위치(PU1, PU2)는 그들의 중심에 부호를 부여하여 나타내는 것으로 한다.1, the workpiece stage 2 of the placement positions PL1 and PL2 is indicated by a solid line and the workpiece stage 2 of the collection position PU1 and PU2 is indicated by a two-dot chain line. In Figs. 5 to 13, the mounting positions PL1 and PL2 and the retrieving positions PU1 and PU2 are denoted by reference numerals in their centers.

탑재 위치(PL1)에 위치하는 제1 워크 스테이지(2A)와 조사 영역(R) 사이에는 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 치수 미만의 스페이스(S1)가 형성되어 있다.The object W to be photo-aligned on the second workpiece stage 2B is spaced from the first workpiece stage 2A positioned in the mounting position PL1 to a space smaller than the dimension passing through the irradiation region R (S1) is formed.

마찬가지로, 탑재 위치(PL2)에 위치하는 제2 워크 스테이지(2B)와 조사 영역(R) 사이에는 제1 워크 스테이지(2A) 상의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 치수 미만의 스페이스(S1)가 형성되어 있다.Likewise, between the second workpiece stage 2B located in the mounting position PL2 and the irradiation area R, the optical alignment object W on the first workpiece stage 2A is smaller than the dimension passing through the irradiation area R A space S1 is formed.

또한, 회수 위치(PU1)에 위치하는 제1 워크 스테이지(2A)와 조사 영역(R) 사이에는 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 만큼 이상의 스페이스(S2)가 형성되어 있다.The object W to be photo-aligned on the second workpiece stage 2B is positioned between the first workpiece stage 2A and the irradiation area R positioned at the recovery position PU1, A space S2 is formed.

마찬가지로, 회수 위치(PU2)에 위치하는 제2 워크 스테이지(2B)와 조사 영역(R) 사이에는 제1 워크 스테이지(2A) 상의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 만큼 이상의 스페이스(S2)가 형성되어 있다.Likewise, between the second workpiece stage 2B located in the recovery position PU2 and the irradiation region R, the object W to be photo-aligned on the first workpiece stage 2A is irradiated with the irradiation region R at least A space S2 is formed.

클리너(40)는 일단부(E1)측에 배치되고, 턴 유닛(50)은 타단부(E2)측에, 조정 스테이지(51) 상의 광배향 대상물(W)의 중심이 탑재 위치(PL2)의 중심에 일치하도록 배치되어 있다. 클리너(40) 및 턴 유닛(50)의 위치는 교체해도 되고, 그 경우, 턴 유닛(50)은 조정 스테이지(51) 상의 광배향 대상물(W)의 중심이 탑재 위치(PL1)의 중심에 일치하도록 배치하면 된다.The center of the object W to be aligned on the adjustment stage 51 is located at the one end E1 side and the turn unit 50 is located at the other end E2 side, As shown in FIG. The position of the cleaner 40 and the turn unit 50 may be changed. In this case, the turn unit 50 moves the center of the object W on the adjustment stage 51 to the center of the mount position PL1 .

하류측 로봇 장치(60)는 로봇(62)을 제1 워크 스테이지(2A)의 회수 위치(PU1)에 대응하는 위치(직동 방향 X에서 대략 동일해지는 위치)로부터 제2 워크 스테이지(2B)의 회수 위치(PU2)에 대응하는 위치까지 이동 가능한 길이로 형성되어 있다.The downstream side robot apparatus 60 moves the robot 62 from the position corresponding to the return position PU1 of the first workpiece stage 2A to the position of the second workpiece stage 2B And is movable to a position corresponding to the position PU2.

다음에, 도 1, 도 5∼도 13을 참조하여, 광배향 시스템(100)의 동작에 대해 설명한다. 또한, 도 5∼도 13에서는 반입출 장치(20) 및 상류측 로봇 장치(30)의 도시를 생략하고 있다.Next, the operation of the optical alignment system 100 will be described with reference to Figs. 1 and 5 to 13. Fig. 5 to 13, the illustration of the carry-in / carry-out apparatus 20 and the upstream-side robot apparatus 30 is omitted.

초기 상태에서는, 도 1 및 도 5에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A) 및 제2 워크 스테이지(2B)는 탑재 위치(PL1, PL2)에 각각 위치함과 함께, 로봇(62)은 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치에 위치하고, 램프(8)는 점등되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는 제1 워크 스테이지(2A) 및 제2 워크 스테이지(2B)에 대한 광배향 대상물(W)의 수취 시의 구동 핀의 동작 및 제1 워크 스테이지(2A) 및 제2 워크 스테이지(2B)에 광배향 대상물(W)을 적재했을 때의 회전 구동 기구의 동작은 생략하고 있다. 또한, 광배향 대상물(W)을, 광배향되는 순서대로 광배향 대상물(WA, WB, WC, WD, WE, WF)이라고 하는 것으로 한다. 또한, 도 5 중, 부호 D1은 제1 워크 스테이지(2A)의 중심 이동 범위를, 부호 D2는 제2 워크 스테이지(2B)의 중심 이동 범위를 나타낸다.In the initial state, as shown in Figs. 1 and 5, the first workpiece stage 2A and the second workpiece stage 2B are located at the mounting positions PL1 and PL2, respectively, and the robot 62 is mounted Is located at a position corresponding to the position PL2, and the lamp 8 is turned on. In the following description, the operation of the driving pin at the time of receiving the object W with respect to the first workpiece stage 2A and the second workpiece stage 2B and the operation of the first workpiece stage 2A, The operation of the rotation drive mechanism when the object W to be optically aligned is loaded on the optical disc 2B is omitted. It is also assumed that the photo-aligned objects W are photo-aligned objects WA, WB, WC, WD, WE and WF in the order of photo-alignment. 5, reference symbol D1 denotes the center shift range of the first workpiece stage 2A, and reference symbol D2 denotes the center shift range of the second workpiece stage 2B.

먼저, 로봇(32)은 반입출 장치(20)로부터 광배향 대상물(WA)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WA)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WA)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다. 이때, 로봇(32)은 클리너(40)와 턴 유닛(50) 사이를 이동한다.First, the robot 32 receives a photo-alignment object WA from the carry-in / out device 20, removes foreign objects and static electricity of the photo-alignment object WA by the cleaner 40, Is loaded on the adjustment stage (51) of the turn unit (50). At this time, the robot 32 moves between the cleaner 40 and the turn unit 50.

턴 유닛(50)이 광배향 대상물(WA)을 정자세로 한 후, 로봇(62)은 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WA)을 수취하고, 탑재 위치(PL1)에 대응하는 위치로 이동하고, 광배향 대상물(WA)을 탑재 위치(PL1)의 제1 워크 스테이지(2A) 상에 탑재한다.After the turn unit 50 makes the optical alignment object WA into the normal state, the robot 62 receives the object WA from the turn unit 50 and moves to the position corresponding to the mount position PL1 And the optical alignment object WA is mounted on the first workpiece stage 2A at the mounting position PL1.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WA)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 탑재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WB)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WB)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WB)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.On the other hand, the robot 32 mounts the photo-alignment object WA on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, then receives the next photo-oriented object WB from the carry-in / out device 20, The object WB is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 after the foreign object and the static electricity of the object WB are removed by the cleaner 40. [

또한, 로봇(62)은 광배향 대상물(WA)을 제1 워크 스테이지(2A) 상에 탑재한 후, 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치로 이동하고, 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WB)을 수취하고, 광배향 대상물(WB)을 탑재 위치(PL2)의 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한다.The robot 62 moves the target object WA to a position corresponding to the mounting position PL2 after mounting the object WA on the first workpiece stage 2A and moves the next optical alignment The object WB is received and the object WB is mounted on the second workpiece stage 2B at the loading position PL2.

직동 기구(6)는, 도 6에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)를 타단부(E2)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)에 들어갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)에 들어가면 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동한다.The direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A to the other end E2 side as shown in Fig. 6 and polarized light is irradiated to the photo aligned object WA. At this time, the direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a high speed until the photo-aligned object WA enters the irradiated region R, and the photo-aligned object WA moves to the irradiated region R The first workpiece stage 2A is moved at a low speed.

또한, 제1 워크 스테이지(2A)의 왕로의 이동 중, 직동 기구(6)는 제2 워크 스테이지(2B)를 회수 위치(PU2)까지 고속으로 후퇴시킨다. 이와 같이, 제2 워크 스테이지(2B)를 회수 위치(PU2)까지 후퇴시킴으로써, 제1 워크 스테이지(2A)를 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 이동해도, 광배향 대상물(WA)이 광배향 대상물(WB)에 간섭하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 제1 워크 스테이지(2A) 상의 광배향 대상물(WA)의 전체면에 걸쳐서 광배향할 수 있다.In addition, during the movement of the first workpiece stage 2A in the forward path, the linear motion mechanism 6 retracts the second workpiece stage 2B to the recovery position PU2 at a high speed. Even if the first workpiece stage 2A is moved until the target object WA exits the irradiation area R by retracting the second workpiece stage 2B to the recovery position PU2, It is possible to prevent the object WA from interfering with the photo-aligned object WB. Therefore, light can be distributed over the entire surface of the object WA on the first workpiece stage 2A.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WB)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WC)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WC)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WC)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.On the other hand, after the object 32 is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, the robot 32 receives the next object WC from the carry-in / out device 20, The object to be aligned WC is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 after removing the foreign objects and the static electricity of the object WC by the cleaner 40. [

또한, 로봇(62)은 광배향 대상물(WB)을 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한 후, 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WC)을 수취한다.The robot 62 also mounts the optical alignment object WB on the second workpiece stage 2B and then receives the next optical alignment object WC from the turn unit 50. [

광배향 대상물(WA)이 왕로에서 조사 영역(R)을 빠져나가면, 직동 기구(6)는, 도 7에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)를 반전하여 일단부(E1)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)에 복로에서도 편광광이 조사된다. 또한, 직동 기구(6)는 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 일단부(E1)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WB)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 제1 워크 스테이지(2A)에 따라붙을 때[제1 워크 스테이지(2A)와 소정의 거리가 될 때]까지 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동하고, 제1 워크 스테이지(2A)에 따라붙으면 제2 워크 스테이지(2B)를 저속으로 이동한다. 또한, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 제1 워크 스테이지(2A)를 회수 위치(PU1)까지 고속으로 이동한다. 이에 의해, 제2 워크 스테이지(2B)의 왕로의 이동 중, 제1 워크 스테이지(2A)를 회수 위치(PU1)까지 후퇴시킬 수 있다. 따라서, 제2 워크 스테이지(2B)를 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 이동해도, 광배향 대상물(WB)이 광배향 대상물(WA)에 간섭하는 것을 방지할 수 있으므로, 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(WB)의 전체면에 걸쳐서 광배향할 수 있다.When the photo-aligned object WA exits the irradiation area R from the forward path, the direct drive mechanism 6 reverses the first workpiece stage 2A as shown in Fig. 7 and moves toward the one end E1 side , The polarized light is also irradiated to the photo alignment object WA in the backward direction. The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B to the one end E1 side in accordance with the movement of the first workpiece stage 2A in the backward direction and irradiates polarized light to the photodirection object WB do. At this time, the linear motion mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a high speed up to the first workpiece stage 2A (when the first workpiece stage 2A comes to a predetermined distance) When attached to one workpiece stage 2A, the second workpiece stage 2B moves at a low speed. The direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a low speed until the object WA exits the irradiation area R and moves the object HA to the irradiation area R, The first workpiece stage 2A is moved to the recovery position PU1 at high speed. Thereby, during the movement of the second workpiece stage 2B in the forward path, the first workpiece stage 2A can be retracted to the recovery position PU1. Therefore, even if the second workpiece stage 2B is moved until the photo-oriented object WB exits the irradiation region R, it is possible to prevent the photo-oriented object WB from interfering with the photo- Therefore, it is possible to perform light distribution over the entire surface of the object WB on the second workpiece stage 2B.

로봇(62)은 회수 위치(PU1)에 대응하는 위치로 이동하고, 회수 위치(PU1)의 제1 워크 스테이지(2A)로부터 광배향 대상물(WA)을 회수한다. 이때, 로봇(62)은 2개의 광배향 대상물(WA, WC)를 보유 지지하고 있다. The robot 62 moves to the position corresponding to the recovery position PU1 and recovers the object to be photo-aligned WA from the first workpiece stage 2A at the recovery position PU1. At this time, the robot 62 holds two photo-alignment objects WA, WC.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WC)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WD)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WD)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WD)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.On the other hand, after the object 32 is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, the robot 32 receives the next object WD from the transfer device 20, The object WD is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 after the foreign object and static electricity of the object WD are removed by the cleaner 40. [

광배향 대상물(WB)이 왕로에서 조사 영역(R)을 빠져나가면, 직동 기구(6)는, 도 8에 도시한 바와 같이 제2 워크 스테이지(2B)를 반전하여 타단부(E2)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WB)에 복로에서도 편광광이 조사된다. 또한, 직동 기구(6)는 제2 워크 스테이지(2B)의 복로의 이동에 추종시켜 제1 워크 스테이지(2A)를 탑재 위치(PL1)까지 이동한다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제2 워크 스테이지(2B)를 저속으로 이동하고, 탑재 위치(PL1)까지 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동한다.When the photo-oriented object WB exits the irradiation area R from the forward path, the direct drive mechanism 6 reverses the second workpiece stage 2B and moves toward the other end E2 as shown in Fig. 8 , The polarized light is also irradiated to the photo-alignment object WB in the backward direction. The linear motion mechanism 6 follows the movement of the back of the second workpiece stage 2B to move the first workpiece stage 2A to the mounting position PL1. At this time, the linear motion mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at low speed until the object WB exits the irradiation area R, and moves the workpiece W2 to the first workpiece stage 2A ) At high speed.

로봇(62)은 탑재 위치(PL1)에 대응하는 위치로 이동하고, 광배향 대상물(WC)을 탑재 위치(PL1)의 제1 워크 스테이지(2A) 상에 탑재한다. 이때, 로봇(62)은 광배향 대상물(WA)을 보유 지지하고 있다.The robot 62 moves to a position corresponding to the placement position PL1 and mounts the photo alignment object WC on the first work stage 2A of the placement position PL1. At this time, the robot 62 holds the photo-alignment object WA.

또한, 광배향 대상물(WD)은 턴 유닛(50)에서 대기 중이다.Further, the photo-alignment object WD is standing by in the turn unit 50.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WD)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WE)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WE)의 이물 및 정전기를 제거한다.On the other hand, after the object 32 is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, the robot 32 receives the next object WO from the carry-in / out apparatus 20, The cleaner 40 removes foreign matter and static electricity of the object W to be photo-aligned.

직동 기구(6)는, 도 9에 도시한 바와 같이 제2 워크 스테이지(2B)의 복로의 이동에 추종시켜 제1 워크 스테이지(2A)를 이동한다. 이때, 직동 기구(6)는 제2 워크 스테이지(2B)에 따라붙을 때[제2 워크 스테이지(2B)와 소정의 거리가 될 때]까지 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동한다. 또한, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동한다.The linear motion mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A following the movement of the second workpiece stage 2B as shown in Fig. At this time, the linear motion mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a high speed until it is attached to the second workpiece stage 2B (when the distance from the second workpiece stage 2B becomes a predetermined distance). The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a high speed when the object WB exits the irradiation area R. [

로봇(62)은 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치로 이동하여, 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WD)을 수취함과 함께, 광배향 대상물(WA)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.The robot 62 moves to a position corresponding to the mounting position PL2 to receive the next optical alignment object WD from the turn unit 50 and to move the optical alignment object WA to the position of the turn unit 50 And is mounted on the adjustment stage 51.

턴 유닛(50)이 광배향 대상물(WA)을 정자세로 한 후, 로봇(32)은 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WA)을 수취하고, 광배향 대상물(WA)을 반입출 장치(20)로 복귀시킨다.After the turn unit 50 makes the photo-alignment object WA into the normal state, the robot 32 receives the photo-alignment object WA from the turn unit 50 and outputs the photo-alignment object WA to the carry- 20).

또한, 광배향 대상물(WE)은 클리너(40)에서 대기 중이다.In addition, the photo-aligned object WE is waiting in the cleaner 40. [

직동 기구(6)는, 도 10에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)를 더 이동하고, 광배향 대상물(WC)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WC)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동하고, 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 제2 워크 스테이지(2B)를 회수 위치(PU2)까지 고속으로 이동한다.As shown in Fig. 10, the direct-drive mechanism 6 further moves the first workpiece stage 2A, and polarized light is irradiated to the photo-alignment object WC. At this time, the direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a low speed until the photo-aligned object WC exits the irradiated region R, The second workpiece stage 2B is moved to the recovery position PU2 at high speed.

로봇(62)은 회수 위치(PU2)에 대응하는 위치로 이동하고, 회수 위치(PU2)의 제2 워크 스테이지(2B)로부터 광배향 대상물(WB)을 회수한다. 이때, 로봇(62)은 2개의 광배향 대상물(WB, WD)을 보유 지지하고 있다.The robot 62 moves to a position corresponding to the recovery position PU2 and withdraws the object WB from the second workpiece stage 2B at the recovery position PU2. At this time, the robot 62 holds two photo-aligned objects WB and WD.

한편, 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WA)이 취출된 후, 로봇(32)은 클리너(40)로부터 광배향 대상물(WE)을 수취하고, 광배향 대상물(WE)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.After the optical alignment object WA is taken out from the turn unit 50, the robot 32 receives the optical alignment object WE from the cleaner 40 and outputs the optical alignment object WE to the turn unit 50 ) On the adjustment stage 51 of the apparatus.

직동 기구(6)는, 도 11에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 탑재 위치(PL2)까지 고속으로 이동한다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WC)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동한다.The direct drive mechanism 6 follows the movement of the back of the first workpiece stage 2A and moves the second workpiece stage 2B to the mounting position PL2 at a high speed as shown in Fig. At this time, the linear motion mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a low speed until the object WC exits the irradiation area R.

로봇(62)은 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치로 이동하고, 광배향 대상물(WD)을 탑재 위치(PL2)의 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한다. 이때, 로봇(62)은 광배향 대상물(WB)을 보유 지지하고 있다.The robot 62 moves to a position corresponding to the mounting position PL2 and mounts the optical alignment object WD on the second workpiece stage 2B of the mounting position PL2. At this time, the robot 62 holds the object WB.

또한, 광배향 대상물(WE)은 턴 유닛(50)에서 대기 중이다.In addition, the photo-aligned object WE is standing by in the turn unit 50.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WE)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WF)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WF)의 이물 및 정전기를 제거한다.On the other hand, after the object 32 is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, the robot 32 receives the next object WF from the carry-in / out apparatus 20, The cleaner 40 removes foreign matter and static electricity from the photo-alignment subject WF.

직동 기구(6)는, 도 12에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 이동하고, 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(WD)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WC)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동한다. 또한, 직동 기구(6)는 제1 워크 스테이지(2A)에 따라붙을 때까지 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동한다The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B following the movement of the first workpiece stage 2A in the backward direction as shown in Fig. Polarized light is irradiated onto the light guide plate WD. At this time, the direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a high speed when the photo-aligned object WC exits the irradiation area R. Further, the linear motion mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a high speed until it sticks to the first workpiece stage 2A

로봇(62)은 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WE)을 수취함과 함께, 광배향 대상물(WB)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다. The robot 62 receives the next photo aligned object WE from the turn unit 50 and loads the photo aligned object WB on the adjustment stage 51 of the turn unit 50. [

턴 유닛(50)이 광배향 대상물(WB)을 정자세로 한 후, 로봇(32)은 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WB)을 수취하고, 광배향 대상물(WB)을 반입출 장치(20)로 복귀시킨다.The robot 32 receives the object WB from the turn unit 50 and supplies the object WB to the transferring apparatus WB through the transferring / 20).

또한, 광배향 대상물(WF)은 클리너(40)에서 대기 중이다.Further, the photo-alignment object WF is standing by in the cleaner 40.

직동 기구(6)는, 도 13에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동 시에, 제1 워크 스테이지(2A)를 회수 위치(PU1)까지 고속으로 이동한다. 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WD)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제2 워크 스테이지(2B)를 저속으로 이동한다.The linear motion mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A to the collection position PU1 at a high speed when the first workpiece stage 2A moves backward as shown in Fig. The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a low speed until the optical alignment target WD exits the irradiation area R. [

로봇(62)은 회수 위치(PU1)에 대응하는 위치로 이동하고, 회수 위치(PU1)의 제1 워크 스테이지(2A)로부터 광배향 대상물(WC)을 회수한다. 이때, 로봇(62)은 2개의 광배향 대상물(WC, WE)을 보유 지지하고 있다.The robot 62 moves to a position corresponding to the recovery position PU1 and recovers the object WC from the first workpiece stage 2A at the recovery position PU1. At this time, the robot 62 holds two optical alignment objects WC and WE.

한편, 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WB)이 취출된 후, 로봇(32)은 클리너(40)로부터 광배향 대상물(WF)을 수취하고, 광배향 대상물(WF)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.After the optical alignment object WB is taken out from the turn unit 50, the robot 32 receives the optical alignment object WF from the cleaner 40 and moves the optical alignment object WF to the turn unit 50 ) On the adjustment stage 51 of the apparatus.

이후의 동작은 도 5로부터의 반복이 된다.The subsequent operation is the repetition from Fig.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 광배향 장치(1)는 한 쌍의 회수 위치(PU1, PU2)가 양단부에 설치되고, 중앙부에 광조사기(5)가 설치되고, 회수 위치(PU1, PU2)와 광조사기(5) 사이이며, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치에 한 쌍의 탑재 위치(PL1, PL2)가 설치되어 있는 구성으로 하였다. 이와 같이, 2개의 워크 스테이지(2)를 설치하였으므로, 하나의 워크 스테이지(2)의 이동에 추종하도록, 다른 워크 스테이지(2)를 이동함으로써, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, the optical alignment apparatus 1 is provided with the pair of return positions PU1 and PU2 at both ends, the light irradiator 5 at the center, and the return positions PU1, PU2 and the light irradiator 5 and a pair of mounting positions PL1 and PL2 are provided at positions near both ends E1 and E2 of the light irradiator 5. [ As described above, since the two workstations 2 are provided, the processing of the photo-alignment object W (photo-alignment irradiation) can be performed by moving the other workpiece stage 2 so as to follow the movement of one workpiece stage 2. [ Can be shortened.

또한, 회수 위치(PU1, PU2)와 광조사기(5) 사이이며, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치에 한 쌍의 탑재 위치(PL1, PL2)가 설치되어 있으므로, 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 광조사기(5)까지의 사이의 거리를 짧게 할 수 있다. 이에 의해, 광배향 대상물(W)의 이동 시간을 짧게 할 수 있고, 그 결과, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다. 또한, 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 광조사기(5)까지의 사이의 거리를 짧게 할 수 있으므로, 조사 전의 광배향 대상물(W)에 이물이 부착되는 것을 억제할 수 있다.Since the pair of mounting positions PL1 and PL2 are provided between the return positions PU1 and PU2 and the light irradiator 5 at positions near both ends E1 and E2 of the light irradiator 5, The distance between the positions PL1 and PL2 to the light irradiator 5 can be shortened. As a result, it is possible to shorten the moving time of the object W and, as a result, it is possible to shorten the processing time of the processing of the object W (photo-alignment irradiation). In addition, since the distance between the mounting positions PL1 and PL2 to the light irradiator 5 can be shortened, foreign matter can be prevented from adhering to the object W to be irradiated before irradiation.

또한, 본 실시 형태에 따르면, 일단부측의 탑재 위치(PL1), 중앙부의 광조사기(5)의 조사 영역(R), 일단부측의 회수 위치(PU1)의 순으로 광배향 대상물(W)을 왕복시킴과 함께, 타단부측의 탑재 위치(PL2), 중앙부의 광조사기(5)의 조사 영역(R), 타단부측의 회수 위치(PU2)의 순으로 워크를 왕복시키는 직동 기구(6)를 구비하고, 직동 기구(6)는 한쪽의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과할 때에, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)을 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 후퇴시키고 있는 구성으로 하였다. 이 구성에 의해, 한쪽의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 이동해도, 한쪽의 광배향 대상물(W)이 다른 쪽의 광배향 대상물(W)에 간섭하는 것을 방지할 수 있으므로, 광배향 대상물(W)의 전체면에 걸쳐서 광배향할 수 있다.According to the present embodiment, the optical alignment object W is reciprocated in the order of the placement position PL1 at one end, the irradiation region R of the light irradiator 5 at the center, and the return position PU1 at one end, The linearly moving mechanism 6 that reciprocates the work in the order of the mounting position PL2 on the other end side, the irradiation area R of the light irradiator 5 in the central part, and the return position PU2 on the other end side And the direct drive mechanism 6 is configured to retract the other optical alignment object W from the mount positions PL1 and PL2 when one of the optical alignment objects W passes through the irradiation area R Respectively. With this configuration, it is possible to prevent interference of one photo-oriented object W with the other photo-oriented object W even if one photo-oriented object W moves until it exits the irradiation area R So that light can be distributed over the entire surface of the object W to be photo-aligned.

또한, 본 실시 형태에 따르면, 탑재 위치(PL1, PL)의 워크 스테이지(2)에 광배향 대상물(W)을 탑재하는 하류측 로봇 장치(60)를 구비하고, 하류측 로봇 장치(60)는 2개의 광배향 대상물(W)을 보유 지지 가능하게 구성되었다. 이 구성에 의해, 다음의 광배향 대상물(W)을 미리 보유 지지해 둘 수 있으므로, 워크 스테이지(2)로부터 광배향 대상물(W)을 회수하여 바로 광배향 대상물(W)을 그 워크 스테이지(2)에 탑재할 수 있다. 그 결과, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다.According to the present embodiment, the downstream-side robot apparatus 60 for mounting the object W to be placed on the workpiece stage 2 of the placement positions PL1 and PL is provided, and the downstream- And is configured to be capable of holding two photo-aligned objects W. With this configuration, since the next optical alignment object W can be held in advance, the optical alignment object W is recovered from the workpiece stage 2, and the optical alignment object W is immediately returned to the work stage 2 ). &Lt; / RTI &gt; As a result, it is possible to shorten the processing time of the processing (photo-alignment irradiation) of the object W to be photo-aligned.

또한, 본 실시 형태에 따르면, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 전후에서 광배향 대상물(W)의 이동 속도를 변경 가능하게 구성된다. 이 구성에 의해, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치의 탑재 위치(PL1, PL2)에 한쪽의 광배향 대상물(W)을 탑재해도, 당해 한쪽의 광배향 대상물(W)을 다른 쪽의 광배향 대상물(W)에 따라붙도록 할 수 있다. 그 결과, 광배향 대상물(W)의 탑재를 기다릴 필요가 없어져, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다.According to the present embodiment, the direct drive mechanism 6 is configured so that the moving speed of the object W can be changed before and after the object W passes through the irradiation area R. With this configuration, even if one optical alignment target W is mounted on the mounting positions PL1 and PL2 in the vicinities of both ends E1 and E2 of the light irradiator 5, Can be attached to the other object W of the optical alignment. As a result, there is no need to wait for the mounting of the photo-aligned object W, and the processing time of the process (photo-alignment irradiation) of the photo-oriented object W can be shortened.

또한, 본 실시 형태에 따르면, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)에 조사 후에, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)을 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 후퇴시키는 구성으로 하였다. 이에 의해, 조사 전에 후퇴시키는 경우에 비해, 조사 전의 광배향 대상물(W)의 이동을 적게 할 수 있으므로, 턴 유닛(50)으로 조정한 광배향 대상물(W)의 각도를 보다 고정밀도로 유지할 수 있고, 그 결과, 광배향 정밀도를 향상시킬 수 있다.Further, according to the present embodiment, after the irradiation of the other photo-oriented object W, the other photo-oriented object W is retracted from the mount positions PL1 and PL2. Thereby, the movement of the object W to be irradiated before irradiation can be reduced, compared with the case where the object W is retracted before the irradiation, so that the angle of the object W adjusted by the turn unit 50 can be maintained with high accuracy As a result, the optical alignment accuracy can be improved.

또한, 본 실시 형태에서는 제2 워크 스테이지(2B)에 최초로 적재하는 광배향 대상물(WB)만 조사 전에 후퇴하고 있지만, 이 광배향 대상물(WB)에 대해서도, 조사 전에 후퇴시키지 않도록 해도 된다. 이 경우, 제1 워크 스테이지(2A)의 왕로의 이동 시에는, 제2 워크 스테이지(2B)에 광배향 대상물(WB)을 적재하지 않고, 제1 워크 스테이지(2A)의 왕로의 이동 중, 제2 워크 스테이지(2B)를 회수 위치(PU2)까지 고속으로 후퇴시킨다. 그리고, 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 탑재 위치(PL1)까지 이동시키고, 광배향 대상물(WB)을 탑재 위치(PL1)의 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한다. 이에 의해, 광배향 대상물(WB)의 각도도 보다 고정밀도로 유지할 수 있고, 그 결과, 광배향 정밀도를 향상시킬 수 있다.In the present embodiment, only the photo-aligned object WB to be initially loaded on the second workpiece stage 2B is retracted before irradiation. However, the photo-aligned object WB may not be retracted before irradiation. In this case, during the movement of the first workpiece stage 2A in the forward path, the object WB is not placed on the second workpiece stage 2B, and during the movement of the first workpiece stage 2A, 2 The workpiece stage 2B is moved back to the return position PU2 at a high speed. The second workpiece stage 2B is moved to the mounting position PL1 following the movement of the first workpiece stage 2A and the second workpiece stage WB is moved to the mounting position PL1, (2B). Thereby, the angle of the object WB can be maintained with higher accuracy, and as a result, the optical alignment precision can be improved.

<제2 실시 형태>&Lt; Second Embodiment >

다음에, 제2 실시 형태에 대해 설명한다.Next, a second embodiment will be described.

도 14는 제2 실시 형태에 관한 광배향 장치를 구비한 광배향 시스템을 모식적으로 도시하는 평면도이다.14 is a plan view schematically showing an optical alignment system including the optical alignment apparatus according to the second embodiment.

상술한 제1 실시 형태의 광배향 시스템(100)에서는 회수 위치(PU1, PU2)와 광조사기(5) 사이에 탑재 위치(PL1, PL2)가 설정되어 있었지만, 제2 실시 형태의 광배향 시스템(200)에서는, 도 14에 도시한 바와 같이 회수 위치(PU1, PU2)와 탑재 위치(PL1, PL2)가 동일 개소에 설정되어 있다. 즉, 워크 탑재 스테이지[탑재 위치(PL1, PL2)]가 워크 회수 스테이지[회수 위치(PU1, PU2)]를 겸하고 있다.In the optical alignment system 100 of the first embodiment described above, the mounting positions PL1 and PL2 are set between the return positions PU1 and PU2 and the light irradiator 5. In the optical alignment system 100 of the second embodiment, 200, the recovery positions PU1, PU2 and the mounting positions PL1, PL2 are set at the same positions as shown in Fig. That is, the work mounting stages (placement positions PL1 and PL2) also serve as the work recovery stages (recovery positions PU1 and PU2).

보다 상세하게는, 탑재 위치(PL1)[회수 위치(PU1)]에 위치하는 제1 워크 스테이지(2A)와 조사 영역(R) 사이에는 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 치수 미만의 스페이스(S1)가 형성되어 있다.More specifically, a photo-alignment object W on the second workpiece stage 2B is placed between the first workpiece stage 2A and the irradiation region R located at the placement position PL1 (recovery position PU1) A space S1 below the dimension passing through the irradiation area R is formed.

마찬가지로, 탑재 위치(PL2)[회수 위치(PU2)]에 위치하는 제2 워크 스테이지(2B)와 조사 영역(R) 사이에는 제1 워크 스테이지(2A) 상의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과하는 치수 미만의 스페이스(S1)가 형성되어 있다.Likewise, between the second workpiece stage 2B and the irradiation area R located at the mounting position PL2 (recovery position PU2), the photo-aligned object W on the first workpiece stage 2A is irradiated with the irradiation area R are formed in the space S1.

로봇 장치(260)는 로봇(62)을 제1 워크 스테이지(2A)의 탑재 위치(PL1)[회수 위치(PU1)]에 대응하는 위치(직동 방향 X에서 대략 동일해지는 위치)로부터 제2 워크 스테이지(2B)의 탑재 위치(PL2)[회수 위치(PU2)]에 대응하는 위치까지 이동 가능한 길이로 형성되어 있다.The robot apparatus 260 moves the robot 62 from the position corresponding to the mounting position PL1 (the return position PU1) of the first workpiece stage 2A To the position corresponding to the mounting position PL2 (the retrieving position PU2) of the second housing 2B.

제2 실시 형태에서는 회수 위치(PU1, PU2)의 위치 및 로봇 장치(260)의 직동 방향 X의 길이 이외는 대략 동일한 구성이므로, 제1 실시 형태와 동일 부분에는 동일한 부호를 부여하여 설명을 생략한다. 또한, 로봇 장치(260)의 로봇(62)은 2개의 광배향 대상물(W)을 상하 병렬로 보유 지지 가능하게 구성되어 있다.In the second embodiment, the positions other than the positions of the return positions PU1 and PU2 and the length of the robot apparatus 260 in the linear direction X are substantially the same, and therefore, the same reference numerals are given to the same parts as those in the first embodiment, . The robot 62 of the robot apparatus 260 is configured to be capable of holding two objects W in a vertical direction in parallel.

다음에, 도 14∼도 21을 참조하여, 광배향 시스템(200)의 동작에 대해 설명한다. 또한, 도 15∼도 21에서는 반입출 장치(20) 및 상류측 로봇 장치(30)의 도시를 생략하고 있다.Next, the operation of the optical alignment system 200 will be described with reference to Figs. 14 to 21. Fig. 15 to 21, the illustration of the carry-in / carry-out apparatus 20 and the upstream-side robot apparatus 30 is omitted.

초기 상태에서는, 도 14 및 도 15에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A) 및 제2 워크 스테이지(2B)는 탑재 위치(PL1, PL2)에 각각 위치함과 함께, 로봇(62)은 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치에 위치하고, 램프(8)는 점등되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는 제1 워크 스테이지(2A) 및 제2 워크 스테이지(2B)에 대한 광배향 대상물(W)의 수취 시의 구동 핀의 동작 및 제1 워크 스테이지(2A) 및 제2 워크 스테이지(2B)에 광배향 대상물(W)을 적재했을 때의 회전 구동 기구의 동작은 생략하고 있다. 또한, 광배향 대상물(W)을, 광배향되는 순서대로 광배향 대상물(WA, WB, WC, WD, WE, WF)이라고 하는 것으로 한다. 또한, 도 15 중, 부호 D1은 제1 워크 스테이지(2A)의 중심 이동 범위를, 부호 D2는 제2 워크 스테이지(2B)의 중심 이동 범위를 나타낸다.In the initial state, as shown in Figs. 14 and 15, the first workpiece stage 2A and the second workpiece stage 2B are located at the mounting positions PL1 and PL2, respectively, and the robot 62 is mounted Is located at a position corresponding to the position PL2, and the lamp 8 is turned on. In the following description, the operation of the driving pin at the time of receiving the object W with respect to the first workpiece stage 2A and the second workpiece stage 2B and the operation of the first workpiece stage 2A, The operation of the rotation drive mechanism when the object W to be optically aligned is loaded on the optical disc 2B is omitted. It is also assumed that the photo-aligned objects W are photo-aligned objects WA, WB, WC, WD, WE and WF in the order of photo-alignment. 15, reference symbol D1 denotes the center shift range of the first workpiece stage 2A, and reference symbol D2 denotes the center shift range of the second workpiece stage 2B.

먼저, 로봇(32)은 반입출 장치(20)로부터 광배향 대상물(WA)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WA)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WA)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다. 이때, 로봇(32)은 클리너(40)와 턴 유닛(50) 사이를 이동한다.First, the robot 32 receives a photo-alignment object WA from the carry-in / out device 20, removes foreign objects and static electricity of the photo-alignment object WA by the cleaner 40, Is loaded on the adjustment stage (51) of the turn unit (50). At this time, the robot 32 moves between the cleaner 40 and the turn unit 50.

턴 유닛(50)이 광배향 대상물(WA)을 정자세로 한 후, 로봇(62)은 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WA)을 수취하고, 탑재 위치(PL1)에 대응하는 위치로 이동하고, 광배향 대상물(WA)을 탑재 위치(PL1)의 제1 워크 스테이지(2A) 상에 탑재한다.After the turn unit 50 makes the optical alignment object WA into the normal state, the robot 62 receives the object WA from the turn unit 50 and moves to the position corresponding to the mount position PL1 And the optical alignment object WA is mounted on the first workpiece stage 2A at the mounting position PL1.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WA)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 탑재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WB)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WB)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WB)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 탑재한다.On the other hand, the robot 32 mounts the photo-alignment object WA on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, then receives the next photo-oriented object WB from the carry-in / out device 20, The object WB is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 after the foreign object and the static electricity of the object WB are removed by the cleaner 40. Then,

또한, 로봇(62)은 광배향 대상물(WA)을 제1 워크 스테이지(2A) 상에 탑재한 후, 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치로 이동하고, 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WB)을 수취하여, 광배향 대상물(WB)을 탑재 위치(PL2)의 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한다.The robot 62 moves the target object WA to a position corresponding to the mounting position PL2 after mounting the object WA on the first workpiece stage 2A and moves the next optical alignment The object WB is received and the object WB is mounted on the second workpiece stage 2B at the loading position PL2.

직동 기구(6)는, 도 16에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)를 타단부(E2)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)에 들어갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)에 들어가면 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동한다.The linear motion mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A toward the other end E2 side as shown in Fig. 16, and the photo-aligned object WA is irradiated with the polarized light. At this time, the direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a high speed until the photo-aligned object WA enters the irradiated region R, and the photo-aligned object WA moves to the irradiated region R The first workpiece stage 2A is moved at a low speed.

또한, 제1 워크 스테이지(2A)의 왕로의 이동 중, 직동 기구(6)는 제2 워크 스테이지(2B)를 탑재 위치(PL2)로부터 후퇴 위치(PT2)까지 고속으로 후퇴시킨다. 후퇴 위치(PT2)에 위치하는 제2 워크 스테이지(2B)와 조사 영역(R) 사이에는 제1 워크 스테이지(2A) 상의 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 통과하는 치수 이상의 스페이스(S2)가 형성되어 있다. 이와 같이, 제2 워크 스테이지(2B)를 후퇴 위치(PT2)까지 후퇴시킴으로써, 제1 워크 스테이지(2A)를 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 이동해도, 광배향 대상물(WA)이 광배향 대상물(WB)에 간섭하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 제1 워크 스테이지(2A) 상의 광배향 대상물(WA)의 전체면에 걸쳐서 광배향할 수 있다.In addition, during the forward movement of the first workpiece stage 2A, the linear motion mechanism 6 retracts the second workpiece stage 2B from the mounting position PL2 to the retreat position PT2 at a high speed. Between the second workpiece stage 2B located in the retreat position PT2 and the irradiation region R is a space (hereinafter referred to as a &quot; substrate &quot;) in which the object WA on the first workpiece stage 2A passes through the irradiation region R S2 are formed. Even if the first workpiece stage 2A is moved until the object WA is exited from the irradiation area R by retracting the second workpiece stage 2B to the retreat position PT2, It is possible to prevent the object WA from interfering with the photo-aligned object WB. Therefore, light can be distributed over the entire surface of the object WA on the first workpiece stage 2A.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WB)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WC)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WC)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WC)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.On the other hand, after the object 32 is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, the robot 32 receives the next object WC from the carry-in / out device 20, The object to be aligned WC is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 after removing the foreign objects and the static electricity of the object WC by the cleaner 40. [

광배향 대상물(WA)이 왕로에서 조사 영역(R)을 빠져나가면, 직동 기구(6)는, 도 17에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)를 반전하여 일단부(E1)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)에 복로에서도 편광광이 조사된다. 또한, 직동 기구(6)는 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 일단부(E1)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WB)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 제1 워크 스테이지(2A)에 따라붙을 때[제1 워크 스테이지(2A)와 소정의 거리가 될 때]까지 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동하고, 제1 워크 스테이지(2A)에 따라붙으면 제2 워크 스테이지(2B)를 저속으로 이동한다. 또한, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동하고, 광배향 대상물(WA)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 제1 워크 스테이지(2A)를 후퇴 위치(PT1)까지 고속으로 이동한다. 후퇴 위치(PT1)에 위치하는 제1 워크 스테이지(2A)와 조사 영역(R) 사이에는 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 통과하는 치수 이상의 스페이스(S2)가 형성되어 있다. 이에 의해, 제2 워크 스테이지(2B)의 왕로의 이동 중, 제1 워크 스테이지(2A)를 후퇴 위치(PT1)까지 후퇴시킬 수 있다. 따라서, 제2 워크 스테이지(2B)를 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 이동해도, 광배향 대상물(WB)이 광배향 대상물(WA)에 간섭하는 것을 방지할 수 있으므로, 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(WB)의 전체면에 걸쳐서 광배향할 수 있다.When the optical alignment object WA exits the irradiation area R from the forward path, the direct drive mechanism 6 reverses the first workpiece stage 2A as shown in Fig. 17 and moves toward the one end E1 side , The polarized light is also irradiated to the photo alignment object WA in the backward direction. The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B to the one end E1 side in accordance with the movement of the first workpiece stage 2A in the backward direction and irradiates polarized light to the photodirection object WB do. At this time, the linear motion mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a high speed up to the first workpiece stage 2A (when the first workpiece stage 2A comes to a predetermined distance) When attached to one workpiece stage 2A, the second workpiece stage 2B moves at a low speed. The direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a low speed until the object WA exits the irradiation area R and moves the object HA to the irradiation area R, The first workpiece stage 2A is moved to the retreat position PT1 at a high speed. The optical alignment object WB on the second workpiece stage 2B is spaced from the first workpiece stage 2A located in the retreat position PT1 by a distance not less than the dimension passing through the irradiation region R S2 are formed. Thereby, during the movement of the second workpiece stage 2B in the forward path, the first workpiece stage 2A can be retracted to the retreat position PT1. Therefore, even if the second workpiece stage 2B is moved until the photo-oriented object WB exits the irradiation region R, it is possible to prevent the photo-oriented object WB from interfering with the photo- Therefore, it is possible to perform light distribution over the entire surface of the object WB on the second workpiece stage 2B.

한편, 로봇(62)은 광배향 대상물(WB)을 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한 후, 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WC)을 수취한다. 그리고, 로봇(62)은 탑재 위치(PL1)에 대응하는 위치로 이동한다.On the other hand, the robot 62 mounts the photo-aligned object WB on the second workpiece stage 2B, and then receives the next photo-aligned object WC from the turn unit 50. [ Then, the robot 62 moves to a position corresponding to the mounting position PL1.

또한, 로봇(32)은 광배향 대상물(WC)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 탑재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WD)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WD)의 이물 및 정전기를 제거한 후, 광배향 대상물(WD)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.The robot 32 mounts the object WC on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 and then receives the next object WD from the transfer device 20, The object WD is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 after the foreign object and static electricity of the object WD are removed by the cleaner 40. [

광배향 대상물(WB)이 왕로에서 조사 영역(R)을 빠져나가면, 직동 기구(6)는, 도 18에 도시한 바와 같이 제2 워크 스테이지(2B)를 반전하여 타단부(E2)측으로 이동하고, 광배향 대상물(WB)에 복로에서도 편광광이 조사된다. 또한, 직동 기구(6)는 제2 워크 스테이지(2B)의 복로의 이동에 추종시켜 제1 워크 스테이지(2A)를 탑재 위치(PL1)까지 이동한다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제2 워크 스테이지(2B)를 저속으로 이동하고, 탑재 위치(PL1)까지 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동한다.When the photo-oriented object WB exits the irradiation area R from the forward path, the direct drive mechanism 6 reverses the second workpiece stage 2B and moves toward the other end E2 as shown in Fig. 18 , The polarized light is also irradiated to the photo-alignment object WB in the backward direction. The linear motion mechanism 6 follows the movement of the back of the second workpiece stage 2B to move the first workpiece stage 2A to the mounting position PL1. At this time, the linear motion mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at low speed until the object WB exits the irradiation area R, and moves the workpiece W2 to the first workpiece stage 2A ) At high speed.

로봇(62)은 탑재 위치(PL1)의 제1 워크 스테이지(2A)로부터 광배향 대상물(WA)을 회수함과 함께, 광배향 대상물(WC)을 탑재 위치(PL1)의 제1 워크 스테이지(2A) 상에 탑재한다. 이때, 로봇(62)은 광배향 대상물(WA)을 보유 지지하고 있다.The robot 62 retracts the photo aligned object WA from the first work stage 2A of the mount position PL1 and simultaneously holds the photo aligned object WC on the first work stage 2A of the mount position PL1 ). At this time, the robot 62 holds the photo-alignment object WA.

또한, 광배향 대상물(WD)은 턴 유닛(50)에서 대기 중이다.Further, the photo-alignment object WD is standing by in the turn unit 50.

한편, 로봇(32)은 광배향 대상물(WD)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WE)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WE)의 이물 및 정전기를 제거한다.On the other hand, after the object 32 is placed on the adjustment stage 51 of the turn unit 50, the robot 32 receives the next object WO from the carry-in / out apparatus 20, The cleaner 40 removes foreign matter and static electricity of the object W to be photo-aligned.

직동 기구(6)는, 도 19에 도시한 바와 같이, 제2 워크 스테이지(2B)의 복로의 이동에 추종시켜 제1 워크 스테이지(2A)를 이동하고, 광배향 대상물(WC)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 제2 워크 스테이지(2B)에 따라붙을 때[제2 워크 스테이지(2B)와 소정의 거리가 될 때]까지 제1 워크 스테이지(2A)를 고속으로 이동하고, 광배향 대상물(WC)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동한다. 또한, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WB)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 후퇴 위치(PT2)까지 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동한다.The linear motion mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A following the movement of the backward movement of the second workpiece stage 2B as shown in Fig. 19, . At this time, the direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a high speed until it sticks to the second workpiece stage 2B (when the distance between the second workpiece stage 2B and the second workpiece stage 2B becomes a predetermined distance) The first workpiece stage 2A is moved at a low speed until the orientation object WC exits the irradiation region R. The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a high speed to the retreat position PT2 when the object WB exits the irradiation area R. [

로봇(62)은 탑재 위치(PL2)에 대응하는 위치로 이동하고, 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WD)을 수취함과 함께, 광배향 대상물(WA)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.The robot 62 moves to the position corresponding to the loading position PL2 and receives the next object WD from the turn unit 50 and moves the object PW to the position And is mounted on the adjustment stage 51.

턴 유닛(50)이 광배향 대상물(WA)을 정자세로 한 후, 로봇(32)은 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WA)을 수취하고, 광배향 대상물(WA)을 반입출 장치(20)로 복귀시킨다.After the turn unit 50 makes the photo-alignment object WA into the normal state, the robot 32 receives the photo-alignment object WA from the turn unit 50 and outputs the photo-alignment object WA to the carry- 20).

또한, 광배향 대상물(WE)은 클리너(40)에서 대기 중이다.In addition, the photo-aligned object WE is waiting in the cleaner 40. [

직동 기구(6)는, 도 20에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 탑재 위치(PL2)까지 이동한다. 이때, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WC)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제1 워크 스테이지(2A)를 저속으로 이동하고, 탑재 위치(PL2)까지 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동한다.The direct drive mechanism 6 follows the movement of the first workpiece stage 2A in the backward direction and moves the second workpiece stage 2B to the mounting position PL2 as shown in Fig. At this time, the direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A at a low speed until the object WC passes through the irradiation area R and moves the second workpiece stage 2B ) At high speed.

로봇(62)은 탑재 위치(PL2)의 제2 워크 스테이지(2B)로부터 광배향 대상물(WB)을 회수함과 함께, 광배향 대상물(WD)을 탑재 위치(PL2)의 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한다. 이때, 로봇(62)은 광배향 대상물(WB)을 보유 지지하고 있다.The robot 62 retracts the optical alignment object WB from the second workpiece stage 2B at the mount position PL2 and moves the optical alignment object WD to the second workpiece stage 2B at the mount position PL2 ). At this time, the robot 62 holds the object WB.

또한, 광배향 대상물(WE)은 턴 유닛(50)에서 대기 중이다.In addition, the photo-aligned object WE is standing by in the turn unit 50.

한편, 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WA)이 취출된 후, 로봇(32)은 클리너(40)로부터 광배향 대상물(WE)을 수취하고, 광배향 대상물(WE)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.After the optical alignment object WA is taken out from the turn unit 50, the robot 32 receives the optical alignment object WE from the cleaner 40 and outputs the optical alignment object WE to the turn unit 50 ) On the adjustment stage 51 of the apparatus.

또한, 로봇(32)은 광배향 대상물(WE)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한 후, 반입출 장치(20)로부터 다음의 광배향 대상물(WF)을 수취하고, 클리너(40)에 의해 광배향 대상물(WF)의 이물 및 정전기를 제거한다.The robot 32 loads the optical alignment object WE on the adjustment stage 51 of the turn unit 50 and then receives the next optical alignment object WF from the transfer device 20, The cleaner 40 removes foreign matter and static electricity from the photo-alignment subject WF.

직동 기구(6)는, 도 21에 도시한 바와 같이 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 이동하고, 제2 워크 스테이지(2B) 상의 광배향 대상물(WD)에 편광광이 조사된다. 이때, 직동 기구(6)는 제1 워크 스테이지(2A)에 따라붙을 때까지 제2 워크 스테이지(2B)를 고속으로 이동하고, 광배향 대상물(WD)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 제2 워크 스테이지(2B)를 저속으로 이동한다. 또한, 직동 기구(6)는 광배향 대상물(WC)이 조사 영역(R)을 빠져나가면 제1 워크 스테이지(2A)를 후퇴 위치(PT1)까지 고속으로 이동한다.The direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B following the movement of the first workpiece stage 2A in the backward direction as shown in Figure 21 and moves the second workpiece stage 2B on the second workpiece stage 2B, Polarized light is irradiated onto the light guide plate WD. At this time, the direct drive mechanism 6 moves the second workpiece stage 2B at a high speed until it sticks along the first workpiece stage 2A, until the object WD exits the irradiated region R And moves the second workpiece stage 2B at a low speed. The direct drive mechanism 6 moves the first workpiece stage 2A to the retracted position PT1 at a high speed when the object WC exits the irradiation area R. [

로봇(62)은 턴 유닛(50)으로부터 다음의 광배향 대상물(WE)을 수취함과 함께, 광배향 대상물(WB)을 턴 유닛(50)의 조정 스테이지(51) 상에 적재한다.The robot 62 receives the next photo aligned object WE from the turn unit 50 and loads the photo aligned object WB on the adjustment stage 51 of the turn unit 50. [

턴 유닛(50)이 광배향 대상물(WB)을 정자세로 한 후, 로봇(32)은 턴 유닛(50)으로부터 광배향 대상물(WB)을 수취하고, 광배향 대상물(WB)을 반입출 장치(20)로 복귀시킨다.The robot 32 receives the object WB from the turn unit 50 and supplies the object WB to the transferring apparatus WB through the transferring / 20).

또한, 광배향 대상물(WF)은 클리너(40)에서 대기 중이다.Further, the photo-alignment object WF is standing by in the cleaner 40.

이후의 동작은 도 15로부터의 반복이 된다.The subsequent operation is repeated from Fig.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 광배향 장치(1)는 중앙부에 광조사기(5)가 설치되고, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치에 한 쌍의 탑재 위치(PL1, PL2)가 설치되고, 일단부측의 탑재 위치(PL1), 중앙부의 광조사기(5)의 조사 영역(R), 일단부측의 탑재 위치(PL1)의 순으로 광배향 대상물(W)을 왕복시킴과 함께, 타단부측의 탑재 위치(PL2), 중앙부의 광조사기(5)의 조사 영역(R), 타단부측의 탑재 위치(PL2)의 순으로 광배향 대상물(W)을 왕복시키는 직동 기구(6)를 구비하고, 직동 기구(6)는 한쪽의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과할 때에, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)을 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 후퇴시키고 있는 구성으로 하였다. 이와 같이, 2개의 워크 스테이지(2)를 설치하였으므로, 하나의 워크 스테이지(2)의 이동에 추종하도록, 다른 워크 스테이지(2)를 이동함으로써, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, the optical aligning apparatus 1 is provided with the light irradiator 5 at the center thereof, and the pair of mounting positions R0 and R0 are provided at positions near both ends E1 and E2 of the light irradiator 5 The object W is placed in the order of the placement position PL1 at one end side, the irradiation region R of the light irradiator 5 at the center, and the placement position PL1 at one end, Reciprocating the object W in the order of the mounting position PL2 on the other end side, the irradiation area R of the light irradiator 5 in the central portion, and the mounting position PL2 on the other end side, The direct drive mechanism 6 includes a direct drive mechanism 6 in which one of the photo aligned objects W passes through the irradiation area R and the other of the photo aligned objects W at the mount positions PL1 and PL2 ). &Lt; / RTI &gt; As described above, since the two workstations 2 are provided, the processing of the photo-alignment object W (photo-alignment irradiation) can be performed by moving the other workpiece stage 2 so as to follow the movement of one workpiece stage 2. [ Can be shortened.

또한, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치에 한 쌍의 탑재 위치(PL1, PL2)가 설치되어 있으므로, 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 광조사기(5)까지의 사이의 거리를 짧게 할 수 있으므로, 광배향 대상물(W)의 이동 시간을 짧게 할 수 있다. 그 결과, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다. 또한, 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 광조사기(5)까지의 사이의 거리를 짧게 할 수 있으므로, 조사 전의 광배향 대상물(W)에 이물이 부착되는 것을 억제할 수 있다.Since a pair of mounting positions PL1 and PL2 are provided at positions near both ends E1 and E2 of the light irradiator 5 from the mounting positions PL1 and PL2 to the light irradiator 5, The distance can be shortened, so that the moving time of the object W can be shortened. As a result, it is possible to shorten the processing time of the processing (photo-alignment irradiation) of the object W to be photo-aligned. In addition, since the distance between the mounting positions PL1 and PL2 to the light irradiator 5 can be shortened, foreign matter can be prevented from adhering to the object W to be irradiated before irradiation.

또한, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치에 한 쌍의 회수 위치(PU1, PU2)가 설치되어 있으므로, 광조사기(5)로부터 회수 위치(PU1, PU2)까지의 사이의 거리를 짧게 할 수 있으므로, 광배향 대상물(W)의 이동 시간을 짧게 할 수 있다. 그 결과, 광배향 대상물(W)의 처리(광배향 조사)의 공정 작업 시간을 단축할 수 있다. 또한, 광조사기(5)로부터 회수 위치(PU1, PU2)까지의 사이의 거리를 짧게 할 수 있으므로, 조사 후의 광배향 대상물(W)에 이물이 부착되는 것을 억제할 수 있다.Since a pair of recovery positions PU1 and PU2 are provided in the vicinities of both ends E1 and E2 of the light irradiator 5, the distance from the light irradiator 5 to the recovery positions PU1 and PU2 The distance can be shortened, so that the moving time of the object W can be shortened. As a result, it is possible to shorten the processing time of the processing (photo-alignment irradiation) of the object W to be photo-aligned. Further, since the distance between the light irradiator 5 and the return positions PU1 and PU2 can be shortened, foreign matter can be prevented from adhering to the object W to be irradiated.

이에 추가하여, 광조사기(5)의 양 단부(E1, E2) 근방 위치에 한 쌍의 탑재 위치(PL1, PL2) 및 한 쌍의 회수 위치(PU1, PU2)가 설치되어 있으므로, 로봇 장치(260)의 로봇(62)의 이동 거리를 짧게 할 수 있으므로, 로봇 장치(260)의 전유 스페이스를 작게 할 수 있다.In addition, since the pair of mounting positions PL1 and PL2 and the pair of return positions PU1 and PU2 are provided in the vicinities of both ends E1 and E2 of the light irradiator 5, The moving distance of the robot 62 of the robot apparatus 260 can be shortened.

또한, 직동 기구(6)는, 한쪽의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 통과할 때에, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)을 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 후퇴시키고 있는 구성으로 하였다. 이 구성에 의해, 한쪽의 광배향 대상물(W)이 조사 영역(R)을 빠져나갈 때까지 이동해도, 한쪽의 광배향 대상물(W)이 다른 쪽의 광배향 대상물(W)에 간섭하는 것을 방지할 수 있으므로, 광배향 대상물(W)의 전체면에 걸쳐서 광배향할 수 있다.The direct drive mechanism 6 is configured to retract the other optical alignment object W from the mount positions PL1 and PL2 when one of the optical alignment targets W passes through the irradiation area R Respectively. With this configuration, it is possible to prevent interference of one photo-oriented object W with the other photo-oriented object W even if one photo-oriented object W moves until it exits the irradiation area R So that light can be distributed over the entire surface of the object W to be photo-aligned.

또한, 본 실시 형태에 따르면, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)에 조사 후에, 다른 쪽의 광배향 대상물(W)을 탑재 위치(PL1, PL2)로부터 후퇴시키는 구성으로 하였다. 이에 의해, 조사 전에 후퇴시키는 경우에 비해, 조사 전의 광배향 대상물(W)의 이동을 적게 할 수 있으므로, 턴 유닛(50)으로 조정한 광배향 대상물(W)의 각도를 보다 고정밀도로 유지할 수 있고, 그 결과, 광배향 정밀도를 향상시킬 수 있다.Further, according to the present embodiment, after the irradiation of the other photo-oriented object W, the other photo-oriented object W is retracted from the mount positions PL1 and PL2. Thereby, the movement of the object W to be irradiated before irradiation can be reduced, compared with the case where the object W is retracted before the irradiation, so that the angle of the object W adjusted by the turn unit 50 can be maintained with high accuracy As a result, the optical alignment accuracy can be improved.

또한, 본 실시 형태에서는 제2 워크 스테이지(2B)에 최초로 적재하는 광배향 대상물(WB)만 조사 전에 후퇴하고 있지만, 이 광배향 대상물(WB)에 대해서도, 조사 전에 후퇴시키지 않도록 해도 된다. 이 경우, 제1 워크 스테이지(2A)의 왕로의 이동 시에는, 제2 워크 스테이지(2B)에 광배향 대상물(WB)을 적재하지 않고, 제1 워크 스테이지(2A)의 왕로의 이동 중, 제2 워크 스테이지(2B)를 회수 위치(PU2)까지 고속으로 후퇴시킨다. 그리고, 제1 워크 스테이지(2A)의 복로의 이동에 추종시켜 제2 워크 스테이지(2B)를 탑재 위치(PL1)까지 이동시키고, 광배향 대상물(WB)을 탑재 위치(PL1)의 제2 워크 스테이지(2B) 상에 탑재한다. 이에 의해, 광배향 대상물(WB)의 각도도 보다 고정밀도로 유지할 수 있고, 그 결과, 광배향 정밀도를 향상시킬 수 있다.In the present embodiment, only the photo-aligned object WB to be initially loaded on the second workpiece stage 2B is retracted before irradiation. However, the photo-aligned object WB may not be retracted before irradiation. In this case, during the movement of the first workpiece stage 2A in the forward path, the object WB is not placed on the second workpiece stage 2B, and during the movement of the first workpiece stage 2A, 2 The workpiece stage 2B is moved back to the return position PU2 at a high speed. The second workpiece stage 2B is moved to the mounting position PL1 following the movement of the first workpiece stage 2A and the second workpiece stage WB is moved to the mounting position PL1, (2B). Thereby, the angle of the object WB can be maintained with higher accuracy, and as a result, the optical alignment precision can be improved.

또한, 본 실시 형태에서는 후퇴 위치(PT1, PT2)를 탑재 위치(PL1, PL2)의 직동 방향 X 외측에 설치하였지만, 후퇴 위치(PT1, PT2)는 탑재 위치(PL1, PL2)에 간섭하지 않은 위치이면 이에 한정되지 않는다. 후퇴 위치(PT1, PT2)는, 예를 들어 탑재 위치(PL1, PL2)의 상방, 하방, 또는 측방(예를 들어, 도 14의 지면 상측)에 설치해도 된다.Although the retracted positions PT1 and PT2 are provided outside the mounting positions PL1 and PL2 in the linear direction X in the present embodiment, the retracted positions PT1 and PT2 are positions that do not interfere with the mounting positions PL1 and PL2 The present invention is not limited thereto. The retracted positions PT1 and PT2 may be provided above, below, or sideways (for example, on the upper side of Fig. 14) of the mounting positions PL1 and PL2, for example.

단, 상술한 실시 형태는 본 발명의 일 형태이고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 적절히 변경 가능한 것은 물론이다.It should be noted, however, that the above-described embodiment is an aspect of the present invention, and that it is possible to appropriately change the scope of the present invention without departing from the spirit of the present invention.

예를 들어, 상술한 실시 형태에서는 광배향 대상물(W)을 지지하는 워크 스테이지(2)를 설치하고 있었지만, 광배향 대상물(W)을 지지하는 지지 부재는 워크 스테이지(2)로 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 광배향 대상물(W)의 하면이나 측면 등을 지지하는 핀 등이어도 된다.For example, in the above-described embodiment, the workpiece stage 2 for supporting the photo-aligned object W is provided, but the support member for supporting the photo-oriented object W is not limited to the workpiece stage 2 For example, a pin or the like for supporting the lower surface or the side surface of the object W to be photo-aligned.

또한, 상술한 실시 형태에서는 왕로와 복로의 양쪽에서 광배향 조사하였지만, 왕로 또는 복로의 한쪽에서만 광배향 조사해도 된다.In the above-described embodiment, light is irradiated in both the forward and backward directions, but the light may be irradiated only in one of the forward and backward directions.

또한, 상술한 실시 형태에서는, 광원을 램프(8)로서 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 광원은 LED나 유기 EL 등의 발광 소자여도 된다. 이 경우, 복수의 발광 소자를 직선 상에 배열함으로써, 장축(축선) L을 구성하면 된다. 또한, 광원이 방사하는 광도 자외선으로 한정되는 것은 아니다.In the above-described embodiment, the light source is described as the lamp 8, but the present invention is not limited thereto, and the light source may be a light emitting element such as an LED or an organic EL. In this case, the long axis (axial line) L may be formed by arranging a plurality of light emitting elements on a straight line. In addition, the light emitted by the light source is not limited to ultraviolet rays.

또한, 상술한 실시 형태에서는 복수의 와이어 그리드 편광자(16)로 편광자 유닛(10)을 구성하고 있었지만, 와이어 그리드 편광자(16)는 1개여도 된다.In the above embodiment, the plurality of wire grid polarizers 16 constitute the polarizer unit 10. However, the number of the wire grid polarizers 16 may be one.

또한, 상술한 실시 형태에서는 편광자로서 와이어 그리드 편광자(16)를 사용하였지만, 편광자는, 예를 들어 증착막을 사용한 편광자여도 된다.Although the wire grid polarizer 16 is used as the polarizer in the above-described embodiment, the polarizer may be a polarizer using, for example, a vapor deposition film.

또한, 상술한 실시 형태에서는 탑재 위치(PL1, PL2)에 대해 하나의 하류측 로봇 장치(60, 260)를 설치하였지만, 탑재 위치(PL1, PL2)에 각각 하류측 로봇 장치(60, 260)를 설치해도 된다.In the above-described embodiment, one downstream-side robot apparatus 60, 260 is provided for the placement positions PL1, PL2, but the downstream-side robot apparatuses 60, 260 are respectively attached to the placement positions PL1, PL2 You can also install it.

1 : 광배향 장치
5 : 광조사기
6 : 직동 기구(왕복 기구)
60, 260 : 로봇 장치
100, 200 : 광배향 시스템
E1 : 일단부
E2 : 타단부
PU1, PU2 : 회수 위치(워크 회수 스테이지)
PL1, PL2 : 탑재 위치(워크 탑재 스테이지)
W : 광배향 대상물(워크)1: photo-alignment device
5: Light irradiator
6: Direct acting mechanism (reciprocating mechanism)
60, 260: robot device
100, 200: Optical alignment system
E1:
E2: the other end
PU1, PU2: Recovery position (work recovery stage)
PL1, PL2: Mounting position (work mounting stage)
W: photo-alignment object (workpiece)

Claims (10)

한 쌍의 워크 회수 스테이지가 양단부에 설치되고, 중앙부에 광조사기가 설치되고, 워크 회수 스테이지와 광조사기 사이이며, 광조사기의 양 단부 근방 위치에 한 쌍의 워크 탑재 스테이지가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.Characterized in that a pair of work recovery stages are provided at both ends, an optical irradiator is provided at the center, and a pair of work mounting stages are provided between the work recovery stage and the light irradiator and at positions near both ends of the light irradiator Lt; / RTI &gt; 제1항에 있어서, 일단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 일단부측의 워크 회수 스테이지의 순으로 워크를 왕복시킴과 함께, 타단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 타단부측의 워크 회수 스테이지의 순으로 워크를 왕복시키는 반송 기구를 구비하고,
상기 반송 기구는 한쪽의 워크가 조사 영역을 통과할 때에, 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키고 있는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The workpiece carrying device according to claim 1, wherein the workpiece is moved back and forth in the order of the workpiece mounting stage at one end, the irradiation area of the light irradiator at the center, and the workpiece collection stage at one end, And a transport mechanism for reciprocating the work in the order of the irradiation area and the work recovery stage on the other end side,
Wherein the transport mechanism retreats the other work from the workpiece mounting stage when one of the workpieces passes through the irradiation area. 제1항 또는 제2항에 있어서, 워크 탑재 스테이지에 워크를 탑재하는 로봇 장치를 구비하고,
상기 로봇 장치는 2개의 워크를 보유 지지 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The robot apparatus according to claim 1 or 2, further comprising a robot apparatus for mounting a work on a work mounting stage,
Wherein the robot apparatus is configured to be capable of holding two workpieces. 제2항에 있어서, 상기 반송 기구는 워크가 조사 영역을 통과하는 전후에서 워크의 이동 속도를 변경 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The optical alignment apparatus according to claim 2, wherein the transport mechanism is configured to change the moving speed of the workpiece before and after the workpiece passes through the irradiation area. 제2항에 있어서, 상기 다른 쪽의 워크에 조사 후에, 상기 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The optical alignment apparatus according to claim 2, wherein after irradiating the other work, the other work is retracted from the work mounting stage. 중앙부에 광조사기가 설치되고, 광조사기의 양 단부 근방 위치에 한 쌍의 워크 탑재 스테이지가 설치되고,
일단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 일단부측의 워크 탑재 스테이지의 순으로 워크를 왕복시킴과 함께, 타단부측의 워크 탑재 스테이지, 중앙부의 광조사기의 조사 영역, 타단부측의 워크 탑재 스테이지의 순으로 워크를 왕복시키는 반송 기구를 구비하고,
상기 반송 기구는 한쪽의 워크가 조사 영역을 통과할 때에, 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키고 있는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.A pair of work mounting stages are provided at positions near both ends of the light irradiator,
The workpiece is moved back and forth in the order of the workpiece mounting stage on one side, the irradiation area of the light irradiator on the center side, and the workpiece mounting stage on one end side, and the workpiece mounting stage on the other end side, the irradiation area of the light irradiator on the other side, And a workpiece mounting stage of the workpiece transporting mechanism,
Wherein the transport mechanism retreats the other work from the workpiece mounting stage when one of the workpieces passes through the irradiation area. 제5항에 있어서, 워크 탑재 스테이지에 워크를 탑재하는 로봇 장치를 구비하고,
상기 로봇 장치는 2개의 워크를 보유 지지 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The robot apparatus according to claim 5, further comprising a robot apparatus for mounting a work on a work mounting stage,
Wherein the robot apparatus is configured to be capable of holding two workpieces. 제5항에 있어서, 상기 반송 기구는 워크가 조사 영역을 통과하는 전후에서 워크의 이동 속도를 변경 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The optical alignment apparatus according to claim 5, wherein the transport mechanism is configured to change the moving speed of the workpiece before and after the workpiece passes through the irradiation area. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다른 쪽의 워크에 조사 후에, 상기 다른 쪽의 워크를 워크 탑재 스테이지로부터 후퇴시키는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.The optical alignment apparatus according to any one of claims 6 to 8, wherein after irradiating the other work, the other work is retracted from the work mounting stage. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 워크 탑재 스테이지가 워크 회수 스테이지를 겸하는 것을 특징으로 하는, 광배향 장치.
The optical alignment apparatus according to any one of claims 6 to 8, characterized in that the work mounting stage also serves as a work recovery stage.
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