JP5983810B1 - Light irradiation device - Google Patents
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Abstract
【課題】効率良く光照射を行うことができる小型の光照射装置を提供する。【解決手段】光照射装置は、予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、照射領域をワークが通過する通過方向に延び、ワークの下に気体を吹き出してワークを浮上させる浮上台31と、浮上台31を通過方向と交わる方向に挟んだ両脇に一対で設けられ、一対の各々が、ワークを保持して通過方向へと移動する機能を有し、一対の一方がワークを保持して移動する際に、一対の他方がワークとすれ違って移動する保持移動機32、33と、を備える。【選択図】図1A compact light irradiation apparatus capable of performing light irradiation efficiently is provided. A light irradiation apparatus is a light irradiation apparatus that irradiates light to a workpiece that passes through a preset irradiation region, and extends in a direction in which the workpiece passes through the irradiation region, and blows gas under the workpiece. A pair of levitating bases 31 for levitating the work and a pair of both sides sandwiching the levitating base 31 in the direction intersecting the passing direction, each of the pair holding the work and moving in the passing direction When the pair of one side holds and moves the workpiece, the other pair of holding and moving machines 32 and 33 move to pass the workpiece. [Selection] Figure 1
Description
本発明は、光照射領域内を通過するワークに光を照射する光照射装置に関し、特に、液晶パネル用のガラス基板などの大型で重量の大きいワークを光処理するための光照射装置に関する。 The present invention relates to a light irradiation apparatus that irradiates light to a work passing through a light irradiation region, and more particularly to a light irradiation apparatus for light processing a large and heavy work such as a glass substrate for a liquid crystal panel.
従来、液晶パネル用基板(ワーク)に対して効率よく(高いスループットで)光照射処理を行う装置として、例えば特許文献1には、基板を2つのステージで交互に光照射領域内を通過させる光照射装置が記載されている。
液晶パネル用基板などは近年特に大型化し、例えば2mを超える長さのものも用いられている。ワークの大型化につれて重量も重くなっているため、上述したようなステージによる搬送の場合、大型で重いワークを搬送するためには、その分大型で重いステージが必要となり、搬送の機構を含んだ光照射装置全体も大型で重量が重いものとなる。
このようなステージを用いずにワークを搬送して処理する光照射装置として、例えば特許文献2には、エアの噴出でワークを浮かせて搬送するものが記載されている。
Conventionally, as an apparatus for performing light irradiation processing efficiently (with high throughput) on a substrate (workpiece) for a liquid crystal panel, for example, Patent Document 1 discloses light that allows a substrate to alternately pass through a light irradiation region on two stages. An irradiation device is described.
In recent years, liquid crystal panel substrates and the like have become particularly large, and for example, substrates having a length exceeding 2 m have been used. As the workpiece becomes larger, the weight also increases, so in the case of conveyance by the stage as described above, in order to convey a large and heavy workpiece, a larger and heavier stage is required, which includes a conveyance mechanism. The entire light irradiation device is also large and heavy.
As a light irradiation apparatus that transports and processes a workpiece without using such a stage, for example, Patent Document 2 describes a device that floats and transports a workpiece by ejecting air.
特許文献2に記載の光照射装置の場合、ステージを用いないのでワークが大型化しても光照射装置は比較的小型であるが、特許文献2に記載の光照射装置では特許文献1に記載の光照射装置のような高いスループットは実現できない。
このため、ワークが大型化しても装置全体の軽量化小型化が図られ、高いスループットで光照射が可能な光照射装置が望まれている。
そこで、本発明は、効率良く光照射を行うことができる小型の光照射装置を提供することを課題とする。
In the case of the light irradiation apparatus described in Patent Document 2, since the stage is not used, the light irradiation apparatus is relatively small even if the workpiece is enlarged, but the light irradiation apparatus described in Patent Document 2 is described in Patent Document 1. A high throughput like a light irradiation device cannot be realized.
For this reason, there is a demand for a light irradiation apparatus that can reduce the weight of the entire apparatus and reduce the size of the apparatus even when the workpiece is large, and can perform light irradiation with high throughput.
Then, this invention makes it a subject to provide the small light irradiation apparatus which can perform light irradiation efficiently.
上記課題を解決するために、本発明に係る光照射装置の一態様は、予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、前記照射領域を前記ワークが通過する通過方向に延び、該ワークの下に気体を吹き出して該ワークを浮上させる浮上台と、前記浮上台を前記通過方向と交わる方向に挟んだ両脇に一対で設けられ、該一対の各々が、前記ワークを保持して前記通過方向へと移動する機能を有し、該一対の一方が該ワークを保持して移動する際に、該一対の他方が該ワークとすれ違って移動する保持移動機と、を備える。 In order to solve the above-described problem, one aspect of a light irradiation apparatus according to the present invention is a light irradiation apparatus that irradiates light to a workpiece that passes through a preset irradiation region, and the workpiece passes through the irradiation region. A pair of levitation bases that extend in the passing direction and blow the gas under the work to float the work, and a pair on both sides sandwiching the levitation base in a direction crossing the passing direction, each of the pair A holding and moving machine having a function of holding the workpiece and moving in the passing direction, and moving the pair of the other by passing the workpiece while the one of the pair of holding and moving the workpiece. And comprising.
このような光照射装置によれば、浮上台の両脇に設けられた一対の保持移動機が前記通過方向に交互に移動することで複数のワークを続けて搬送することができ、高いスループットが実現する。また、気体の吹き出しでワークを浮上させるのでステージ不要であるとともに、搬送方向が前記通過方向の一方向であるので照射領域を前記通過方向に挟んだそれぞれのサイズはワーク1つ分が載るサイズであればよい。このため、光照射装置の軽量化小型化が図られる。
前記光照射装置において、前記保持搬送機が、前記ワークとすれ違う方向に移動するに際して該ワークよりも下方に下がった状態で移動するものであることが好ましい。このような好ましい構成の光照射装置によれば、ワークと保持搬送機とのすれ違いにおける接触を容易に防ぐことができる。
According to such a light irradiation device, a pair of holding and moving machines provided on both sides of the levitating platform can alternately convey a plurality of workpieces by moving alternately in the passing direction, resulting in high throughput. Realize. In addition, since the work is lifted by blowing the gas, a stage is not necessary, and since the transport direction is one direction of the passing direction, each size sandwiching the irradiation region in the passing direction is a size on which one work is placed. I just need it. For this reason, the light irradiation apparatus can be reduced in weight and size.
In the light irradiation apparatus, it is preferable that the holding and transporting device is moved in a state of being lowered below the workpiece when moving in a direction passing the workpiece. According to the light irradiation device having such a preferable configuration, it is possible to easily prevent contact between the workpiece and the holding and conveying machine.
また、前記光照射装置において、前記保持搬送機が、前記浮上台から突き出した前記ワークの一部を下方から吸着して保持するものであることも好ましい。このような好ましい構成の光照射装置によれば、前記ワークの保持性を確保するとともに、保持された一部に対する光照射も可能となる。
また、前記光照射装置において、前記浮上台上のワークを回転させる回転機をさらに備え、前記ワークは矩形状のワークであり、前記保持搬送機が、前記回転機による回転で前記浮上台の脇から突き出た前記ワークの角部を保持するものであることが好適である。
この好適な構成の光照射装置によれば、浮上台から吹き出す気体を受ける面積を確保してワークの十分な浮上を図りつつワークを十分に保持することができる。
Moreover, in the light irradiation device, it is also preferable that the holding and transporting device holds and holds a part of the workpiece protruding from the levitation base from below. According to the light irradiation apparatus having such a preferable configuration, it is possible to ensure the holding property of the workpiece and to irradiate light to a held part.
The light irradiation apparatus further includes a rotating machine that rotates the work on the levitation table, the work is a rectangular work, and the holding and conveying machine is rotated by the rotating machine, It is preferable to hold the corner portion of the workpiece protruding from the edge.
According to the light irradiation device of this preferred configuration, it is possible to sufficiently hold the workpiece while ensuring the area for receiving the gas blown from the levitation stand and sufficiently floating the workpiece.
本発明の光照射装置によれば、効率良く光照射を行うことができるとともに装置の小型化も図られる。 According to the light irradiation apparatus of the present invention, light irradiation can be performed efficiently and the apparatus can be miniaturized.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1と図2は、本発明の光照射装置の一実施形態に相当する偏光光照射装置の概略的構成を示す図である。図1は斜視図であり、図2は上面図である。
偏光光照射装置100は、高い剛性を有する土台5上に、所定の波長の偏光光(偏光した光)を照射する光照射部10と、ワークWの向きを所定の向きに合わせるアライメント部20(図1では図示省略、図2参照)と、ワークWを搬送する搬送部30とを備える。ここで、ワークWは、光配向膜が形成された、例えば液晶パネルの製造に用いられる、例えば300mm×500mmを超す大型の矩形状の基板である。なお、本実施形態ではワークWを矩形状としているが、本発明にいうワークはこれに限定されるものではなく、任意の形状とすることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 and 2 are diagrams showing a schematic configuration of a polarized light irradiation apparatus corresponding to an embodiment of the light irradiation apparatus of the present invention. 1 is a perspective view, and FIG. 2 is a top view.
The polarized
偏光光照射装置100は、光照射部10から偏光光を照射しながら、搬送部30によってワークWを直線移動させ、ワークWの光配向膜に偏光光を照射して光配向処理をするものである。
光照射部10は、線状の光源であるランプ11と、ランプ11の光を反射するミラー12とを備える。また、光照射部10は、その光出射側に配置された偏光子ユニット13を備える。さらに、光出射部10は、ランプ11、ミラー12及び偏光子ユニット13を収容するランプハウス14を備える。
The polarized
The
光照射部10は、ランプ11の長手方向をワークWの搬送方向(X方向)に直交する方向(Y方向)に一致させた状態で設置されている。
ランプ11は長尺状のランプであり、その発光部が、搬送方向に直交する方向におけるワークWの幅に相応した長さを有する。このランプ11は、例えば、高圧水銀ランプや、水銀に他の金属を加えたメタルハライドランプ等であり、波長200nm〜400nmの紫外光を放射する。
The
The lamp 11 is a long lamp, and its light emitting portion has a length corresponding to the width of the workpiece W in a direction orthogonal to the transport direction. The lamp 11 is, for example, a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp obtained by adding another metal to mercury, and emits ultraviolet light having a wavelength of 200 nm to 400 nm.
光配向膜の材料としては、波長254nmの光で配向されるもの、波長313nmの光で配向されるもの、波長365nmの光で配向されるものなどが知られており、光源の種類は必要とされる波長に応じて適宜選択される。
なお、光源としては、紫外光を放射するLEDやLDを直線状に並べて配置した線状光源を用いることもできる。その場合、LEDやLDを並べる方向がランプの長手方向に相当する。また、複数のランプを上記Y方向に並べて構成してもよい。
As materials for the photo-alignment film, those that are aligned by light having a wavelength of 254 nm, those that are aligned by light having a wavelength of 313 nm, and materials that are aligned by light having a wavelength of 365 nm are known. Depending on the wavelength to be selected, it is appropriately selected.
As the light source, a linear light source in which LEDs or LDs that emit ultraviolet light are arranged in a straight line can be used. In that case, the direction in which the LEDs and LDs are arranged corresponds to the longitudinal direction of the lamp. A plurality of lamps may be arranged in the Y direction.
ミラー12は、ランプ11からの放射光をランプハウス14の底面側に反射するものであり、断面が楕円形または放物線状となった樋状集光鏡である。ミラー12は、その長手方向がランプ11の長手方向と一致するように配置されている。
ランプハウス14は底面に、ランプ11からの放射光およびミラー12による反射光が通過する光出射口を有する。偏光子ユニット13は、ランプハウス14の光出射口に取り付けられ、当該光出射口を通過する光を偏光する。光出射口を通過した光は、光照射部10の下に形成された偏光光照射領域Rに照射される。
The
The
偏光子ユニット13は、複数の偏光子をランプ11の長手方向に沿って並べて配置した構成を有する。これら複数の偏光子は、例えばフレーム等により支持されている。
偏光子は、例えばワイヤーグリッド型偏光素子であり、偏光子の個数は、偏光光を照射する領域の大きさに合わせて適宜選択される。なお、各偏光子は、それぞれ透過軸が同一方向を向くように配置されている。
アライメント部20は、アライメントカメラ21と、回転ステージ22とを備え、アライメントマークの検出に基づいてワークWを予め設定された方向に向けるものである。回転ステージ22が、本発明にいう回転機の一例に相当する。
アライメントカメラ21はワークWの上方に例えば2つ配置されており、ワークW上に例えば2つ設けられたアライメントマークMを、アライメントカメラ21各々が1つずつ検出する。
The
The polarizer is, for example, a wire grid type polarization element, and the number of the polarizers is appropriately selected according to the size of the region where the polarized light is irradiated. Each polarizer is arranged such that the transmission axis faces the same direction.
The
For example, two
回転ステージ22は上面が丸板状のものであり、その上面には、ワークWを吸着保持できるように、例えば真空吸着孔や真空吸着溝が形成されている。なお、本実施形態では、ワークWを丸板状の上面で吸着保持する構成となっているが、本発明にいう回転機はこの構成に限定されるものではなく、複数のピンによってワークWを吸着保持するものであってもよい。
回転ステージ22はX軸とY軸とが含まれる平面に対して直交するZ軸を回転軸として回転する(θ回転)。この回転ステージ22がワークW下面を吸着保持して回転させ、アライメントカメラ21により検出されるアライメントマークMの位置が予め決められた位置となる角度にワークWを向けることにより、ワークWの方向と偏光光の偏光軸の方向とが、所望の関係になるように位置合せがなされる。
The upper surface of the
The
搬送部30は、ワークWの下面にエアを噴出してワークWを浮上させるエア浮上ユニット31と、エア浮上ユニット31で浮上されているワークWを保持して移動する一対のワーク保持移動機構(第1のワーク保持移動機構32と第2のワーク保持移動機構33)と、ワーク保持移動機構32,33がエア浮上ユニット31に沿って移動するためのレール34と、ワーク保持移動機構32,33を駆動する駆動機(図示省略)とを備えている。
エア浮上ユニット31が、本発明にいう浮上台の一例に相当し、ワーク保持移動機構32,33が、本発明にいう保持移動機の一例に相当する。
搬送部30は、ワークWを上記搬送方向に搬送して偏光光照射領域Rを通過させるものである。
偏光光照射領域Rを挟んだ両側(図2の左右両側)における搬送部30のサイズは、例えば、それぞれワークW1つ分程度のサイズとなっており、ワークWが大型化した場合であっても偏光光照射装置100は比較的小型の装置となる。
The
The
The
The size of the
エア浮上ユニット31は、エアが吹き出す例えば孔や溝が上面に形成されたブロック状の部材が例えば3列に連結された構造を一例として有する。エアの吹き出す孔や溝、およびエアを吹き出すための構造については、図示が省略されている。エア浮上ユニット31の幅(上記Y方向のサイズ)はワークWのサイズよりも狭く、ワークWの一部はエア浮上ユニット31をY方向に挟んだ両脇から突き出る。
The
第1および第2のワーク保持移動機構32,33は、エア浮上ユニット31の両脇に設けられ、エア浮上ユニット31から突き出したワークWの部分を下面から真空吸着等の方法により吸着してワークWを保持する。これらのワーク保持移動機構32,33は上面が平板状のものであり、その上面には、ワークWを吸着保持できるように、例えば真空吸着孔や真空吸着溝が形成されている。なお、本実施形態では、ワークWを平板状の上面で吸着保持する構成となっているが、本発明にいう保持移動機はこの構成に限定されるものではなく、複数のピンによってワークWを吸着保持するものであってもよい。
The first and second workpiece holding and moving
第1および第2のワーク保持移動機構32,33はいずれも、図2の左側でワークWを保持して図2の右側に移動する。ワーク保持移動機構32,33のこのような移動によってワークWは図2の左から右へと搬送される。搬送中にワークWは偏光光照射領域Rを通過し、光配向の処理が行われる。
このような偏光光照射装置100による光配向処理の手順について以下説明する。
光配向処理の第1段階では、偏光光照射装置100の外部からワークWが偏光光照射装置100のエア浮上ユニット31上に搬送されて来る。
図3および図4は、ワークWが偏光光照射装置に搬送されてきた状態を示す上面図および側面図である。図4には、偏光光照射装置100を図3の左方から見た状態が示されている。
Both the first and second workpiece holding and moving
The procedure of the photo-alignment process by the polarized
In the first stage of the photo-alignment process, the workpiece W is conveyed from the outside of the polarized
3 and 4 are a top view and a side view showing a state in which the workpiece W has been conveyed to the polarized light irradiation device. FIG. 4 shows a state in which the polarized
ワークWがエア浮上ユニット31上に搬送されてきた時点でのアライメントマークMの位置は、図3に示すように、アライメントカメラ21の視野から外れている。この搬送されて来たワークWはエア浮上ユニット31によって浮上され、浮上したワークWに対し、図4に示すように、回転ステージ22の上面が上昇してきてワークWの下面を吸着保持する。
このような第1段階に続く光配向処理の第2段階では、ワークWの向きが所望の向きに調整される。
図5および図6は、ワークWの向きが所望の向きに調整される様子を示す上面図および側面図である。図6には、偏光光照射装置100を図5の左方から見た状態が示されている。
As shown in FIG. 3, the position of the alignment mark M at the time when the workpiece W is conveyed onto the
In the second stage of the photo-alignment process following the first stage, the direction of the workpiece W is adjusted to a desired direction.
5 and 6 are a top view and a side view showing how the orientation of the workpiece W is adjusted to a desired orientation. FIG. 6 shows a state where the polarized
回転ステージ22は、図5に示すように、ワークWの向きが光照射部10に対して例えば20°程度傾くように回転する。回転ステージ22が回転した結果ワークW上のアライメントマークMがアライメントカメラ21の視野に入って検出される。また、回転ステージ22の回転角度の調整により、アライメントマークMの位置がアライメントカメラ21の視野中の所定位置に位置合わせされる。このような位置合わせにより、ワークWの方向と偏光光照射領域Rに照射される偏光光の偏光軸の方向とが所望の関係になる。また、ワークWが回転されることでワークWの角部Cがエア浮上ユニット31から突き出した状態となる。
As illustrated in FIG. 5, the
その後、図6に示すように、ワーク保持移動機構(ここでは一例として第1のワーク保持移動機構32)の上面が上昇し、エア浮上ユニット31から突き出したワークWの一部(この例では角部C)をワークWの下面から吸着して保持する。一方、回転ステージ22は上面が下降して待避する。1つのワークWは、第1および第2のワーク保持移動機構32,33のうちのどちらか一方(図6の例では第1のワーク保持移動機構32)によって保持される。
Thereafter, as shown in FIG. 6, the upper surface of the workpiece holding and moving mechanism (here, the first workpiece holding and moving
図5および図6に示す例のようにワーク保持移動機構32がワークWの角部Cを保持すると、エア浮上ユニット31からのエアを受ける面積が充分に広く、エア浮上ユニット31によりワークWが容易且つ充分に浮上する。また、角部Cは面積としては小さいものの、エア浮上ユニット31に直近の付け根部分では搬送方向に充分な長さを有しているので、ワーク保持移動機構32が角部Cを保持することで充分な保持性が確保される。
このような第2段階に続く光配向処理の第3段階では、ワーク保持移動機構32が移動してワークWが搬送される。
When the workpiece holding and moving
In the third stage of the photo-alignment process following the second stage, the work holding and moving
図7および図8は、ワーク保持移動機構の移動を示す上面図および正面図である。図8には、偏光光照射装置100を図7の下方側から見た状態が示されている。
ワークWを保持したワーク保持移動機構(ここでは一例として第1のワーク保持移動機構32)はレール34に沿って上記搬送方向に移動してワークWを搬送する。ワーク保持移動機構による搬送によってワークWは偏光光照射領域Rを通過し、偏光光照射領域Rで偏光光が照射されることによって光配向処理が行われる。ワークWの角部Cについても、ワーク保持移動機構が下面を吸着して保持しているので偏光光が照射されて光配向処理が施される。
7 and 8 are a top view and a front view showing movement of the workpiece holding and moving mechanism. FIG. 8 shows a state in which the polarized
A workpiece holding / moving mechanism that holds the workpiece W (here, the first workpiece holding / moving
ワークWを保持した一方のワーク保持移動機構(例えば第1のワーク保持移動機構32)が上記搬送方向に移動する際に、他方のワーク保持移動機構(例えば第2のワーク保持移動機構33)は、ワークWとすれ違って上記搬送方向とは逆方向に移動する。この逆方向の移動に際し、他方のワーク保持移動機構の上面は、一方のワーク保持移動機構に保持されたワークWの下面よりも下まで下がっており、ワークWとのすれ違いにおける接触が容易に回避される。
光配向処理の実行中でも偏光光照射装置100には、図7の左側にワークWが納まるスペースが空くので、偏光光照射装置100の外部から次のワークWが搬送されてきて、アライメント部20による位置合わせが行われる。
When one workpiece holding and moving mechanism (for example, the first workpiece holding and moving mechanism 32) holding the workpiece W moves in the transport direction, the other workpiece holding and moving mechanism (for example, the second workpiece holding and moving mechanism 33) Then, it passes by the workpiece W and moves in the direction opposite to the conveying direction. When moving in the opposite direction, the upper surface of the other workpiece holding / moving mechanism is lowered below the lower surface of the workpiece W held by the one workpiece holding / moving mechanism, so that contact with the workpiece W when passing is easily avoided. Is done.
Even during the execution of the photo-alignment process, the polarized
また、ワークWが偏光光照射領域Rを通過する通過速度は光配向処理のために制限された速度となるが、ワークWとすれ違う他方のワーク保持移動機構にはそのような速度制限はなく、光配向処理が完了する前に、次のワークWの搬入箇所(図7の左側)まで戻ることができる。そして、次のワークWが他方のワーク保持移動機構に保持され、前のワークWの光配向処理に続けて間断なく次のワークWの光配向処理が実行される。このため光配向処理のスループットが高い。 Further, the passing speed at which the workpiece W passes through the polarized light irradiation region R becomes a speed limited for the photo-alignment processing, but the other workpiece holding and moving mechanism passing the workpiece W has no such speed limitation. Before the photo-alignment process is completed, it is possible to return to the next work W loading position (left side in FIG. 7). Then, the next workpiece W is held by the other workpiece holding and moving mechanism, and the optical alignment processing of the next workpiece W is executed without interruption following the optical alignment processing of the previous workpiece W. For this reason, the throughput of photo-alignment processing is high.
なお、上記実施形態においては、偏光光照射装置に本発明を適用する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ワークの下に気体を吹き出してワークを浮上させる浮上台を有する光照射装置であれば、本発明を適用することで上記実施形態と同様の効果が得られる。このような光照射装置としては、例えば、DI(ダイレクト・イメージ:直描)露光装置や、紫外線により熱硬化処理を行う紫外線照射装置等がある。
また、上記実施形態においては、光照射部が1つ設けられた例について説明したが、本発明の光照射装置は、複数の光照射部がワークの搬送方向に直列に設けられたものであってもよい。
In addition, in the said embodiment, although the case where this invention was applied to a polarized light irradiation apparatus was demonstrated, this invention is not limited to this, The floating stand which blows off gas under a workpiece | work and floats a workpiece | work If it is a light irradiation apparatus which has this, the effect similar to the said embodiment is acquired by applying this invention. Examples of such a light irradiation apparatus include a DI (direct image) exposure apparatus and an ultraviolet irradiation apparatus that performs thermosetting with ultraviolet rays.
In the above-described embodiment, an example in which one light irradiation unit is provided has been described. However, the light irradiation device of the present invention includes a plurality of light irradiation units provided in series in the workpiece conveyance direction. May be.
10…光照射部、11…放電ランプ、12…ミラー、13…偏光子ユニット、14…ランプハウス、20…アライメント部、21…アライメントカメラ、22…回転ステージ、30…搬送部、31…エア浮上ユニット、32…第1のワーク保持移動機構、33…第2のワーク保持移動機構、34…レール、100…偏光光照射装置
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記照射領域を前記ワークが通過する通過方向に延び、該ワークの下に気体を吹き出して該ワークを浮上させる浮上台と、
前記浮上台を前記通過方向と交わる方向に挟んだ両脇に一対で設けられ、該一対の各々が、前記ワークを保持して前記通過方向へと移動する機能を有し、該一対の一方が該ワークを保持して移動する際に、該一対の他方が該ワークとすれ違って該通過方向とは逆方向に移動する保持移動機と、
を備えたことを特徴とする光照射装置。 A light irradiation device for irradiating light to a workpiece passing through a preset irradiation region,
A levitation base that extends in the passing direction through which the work passes through the irradiation area, and blows a gas under the work to float the work;
A pair is provided on both sides sandwiching the levitation table in a direction intersecting the passing direction, each of the pair has a function of holding the workpiece and moving in the passing direction, and the one of the pair is A holding and moving machine that moves in the direction opposite to the passing direction when the other of the pair passes the workpiece when holding and moving the workpiece;
A light irradiation apparatus comprising:
前記保持移動機が、前記回転機による回転で前記浮上台の脇から突き出た前記ワークの角部を保持することを特徴とする請求項1または2記載の光照射装置。 It further comprises a rotating machine for rotating the work on the levitation table, the work is a rectangular work,
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the holding and moving machine holds a corner portion of the work projecting from a side of the levitation base by rotation by the rotating machine.
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