KR20160006092A - Coating apparatus and method to improve a coating apparatus - Google Patents

Coating apparatus and method to improve a coating apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20160006092A
KR20160006092A KR1020140162595A KR20140162595A KR20160006092A KR 20160006092 A KR20160006092 A KR 20160006092A KR 1020140162595 A KR1020140162595 A KR 1020140162595A KR 20140162595 A KR20140162595 A KR 20140162595A KR 20160006092 A KR20160006092 A KR 20160006092A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
coating
nozzle
lift pin
support arm
Prior art date
Application number
KR1020140162595A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102206258B1 (en
Inventor
지단 웨이
마사키 요코야마
Original Assignee
쥬가이로 고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쥬가이로 고교 가부시키가이샤 filed Critical 쥬가이로 고교 가부시키가이샤
Publication of KR20160006092A publication Critical patent/KR20160006092A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102206258B1 publication Critical patent/KR102206258B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Provided is a coating apparatus which has a coating object-transporting function and of which saving space for facilities are possible. In addition, costs do not increase even when translocation is required due to a layout alteration in the facilities. Also, provide is a method for improving the same. According to the present invention, the coating apparatus comprises a moving body (6) including a nozzle which discharges a coating liquid. Furthermore, the coating apparatus (1) allows the coating liquid which is discharged from the nozzle to be coated on a substrate, while the substrate (3) disposed on a table (4) relatively moves along. In addition, a supporting arm (10) involved in transportation while supporting the substrate is provided on the moving body.

Description

도포 장치 및 그 개량 방법{COATING APPARATUS AND METHOD TO IMPROVE A COATING APPARATUS}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a coating apparatus,

본 발명은, 도포 대상물의 이송 기능을 구비하여, 설비를 공간 절약화하는 것이 가능함과 아울러, 설비의 레이아웃 변경 등으로 이전할 때에도, 비용 상승을 초래하지 않는 도포 장치 및 그 개량 방법에 관한 것이다.An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a method of improving a coating apparatus which are equipped with a transporting function of an object to be coated,

도포액을 도포하는 노즐과 도포 대상물이 상대적으로 이동하면서 도포 대상물에 도포액을 도포하는 도포 장치로서, 예를 들면, 특허 문헌 1이 알려져 있다. 특허 문헌 1의 「도포 장치 및 도포 방법, 및 칼라 필터 제조 장치 및 제조 방법」은, 도포액을 토출하는 토출구를 가지는 도포기를 테이블 상에 유지된 기판의 도포 위치로 이동시키면서, 해당 도포기로부터 도포액을 토출하는 것에 의해, 기판 표면에 도막을 형성하는 도포 방법에 있어서, 상기 테이블은 복수의 기판을 서로 겹치지 않고 유지할 수 있는 것이며, 해당 테이블 상의 임의의 기판 유지 위치에 재치(載置)된 기판에 도막을 형성하는 동안에, 다른 기판 유지 위치에서는 기판의 배출 및/또는 기판의 재치를 행하도록 하고 있다. Patent Document 1 is known as a coating apparatus for applying a coating liquid to an object to be coated while a nozzle for applying the coating liquid and an object to be coated are relatively moved. "Coating device, coating method, and color filter manufacturing device and manufacturing method" in Patent Document 1 is a method of applying a coating material having a discharge port for discharging a coating liquid to a coating position of a substrate held on a table, A coating method for forming a coating film on a surface of a substrate by discharging a liquid, characterized in that the table is capable of holding a plurality of substrates without overlapping each other, and the substrate is placed on any substrate holding position on the table The substrate is discharged and / or the substrate is mounted at another substrate holding position.

특히, 테이블로 기판을 반입하고, 테이블로부터 기판을 반출하는 이재(移載, 전달) 장치(로봇)가, 테이블이 설치되어 있는 베이스에 대해서, 기판 반송 방향 상류측 및 하류측에 설치되어 있다. Particularly, a transfer device (robot) for carrying a substrate into a table and carrying the substrate out of the table is provided on the upstream side and the downstream side in the substrate transport direction with respect to the base on which the table is mounted.

[특허문헌 1] 일본특허공개 제2002-102771호 공보[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-102771

배경 기술에서는, 도포 장치와, 기판의 반입, 반출을 행하는 로봇 등의 이재 장치가, 별개로 설치되어 있었다. 이 때문에, 도포 장치 및 이재 장치 쌍방을 설치할 수 있는 넓은 스페이스가 필요했었다. 또, 설비의 레이아웃 변경이나 설비의 이전 등을 함에 있어서, 공장 등의 스페이스가 좁은 등의 이유에 의해, 도포 장치와 이재 장치를, 원하는 위치에 설치할 수 없을 우려가 있어, 기존의 이재 장치를 이용하여 도포 장치에 대해 기판의 반입, 반출을 행할 수 없는 경우에는, 이재 장치를 새롭게 구입하거나 제작해야 하기 때문에, 비용이 상승하게 되어 버린다고 하는 과제가 있었다. In the background art, a coating apparatus and a transfer apparatus such as a robot for carrying in and carrying out a substrate are provided separately. Therefore, it has been necessary to provide a large space in which both the application device and the transfer device can be installed. In addition, there is a possibility that the application device and the transfer device can not be installed at a desired position due to a reason such as a space of a factory or the like being small in the layout change of the facility or transfer of the facility, If the substrate can not be carried in or out of the application device, the transfer device must be newly purchased or manufactured, which leads to an increase in cost.

본 발명은 상기 종래의 과제를 감안하여 창안된 것으로서, 도포 대상물의 이송 기능을 구비하여, 설비를 공간 절약화하는 것이 가능함과 아울러, 설비의 레이아웃 변경 등으로 이전할 때에도, 비용 상승을 초래하지 않는 도포 장치 및 그 개량 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and it is an object of the present invention to provide a transfer function of an object to be coated so as to save space in facilities, And an object of the present invention is to provide a coating apparatus and a method of improving the same.

본 발명에 관한 도포 장치는, 도포액을 토출하는 노즐을 가지는 노즐 유닛과 테이블에 재치(載置)된 도포 대상물이 상대적으로 이동되며, 해당 노즐로부터 토출되는 도포액을 도포 대상물에 도포하도록 한 도포 장치로서, 도포 대상물을 지지하면서 상기 테이블로 이송하는 지지 암이, 상기 노즐 유닛에 마련되는 것을 특징으로 한다. A coating device according to the present invention is a coating device in which a nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid and an object to be coated placed on the table are relatively moved and a coating liquid discharged from the nozzle is applied to an object to be coated As the apparatus, a support arm for supporting the object to be coated and being transferred to the table is provided in the nozzle unit.

상기 테이블은, 도포 대상물을 지지하여 승강할 수 있는 리프트 핀을 구비하고, 상기 지지 암은, 상기 리프트 핀에 의해 상승된 상태의 도포 대상물의 하부로 들어가고, 해당 리프트 핀이 강하되는 것에 의해 도포 대상물을 지지하며, 상기 리프트 핀은, 상승하는 것에 의해, 상기 지지 암에 지지된 상태의 도포 대상물을 들어 올려 지지하는 것을 특징으로 한다. The table is provided with a lift pin capable of lifting and lowering by supporting the object to be coated. The support arm enters the lower portion of the object to be coated, which is raised by the lift pin, and the lift pin is lowered, And the lift pin lifts up the object to be coated in a state of being supported by the support arm by lifting the lift pin.

상기 지지 암은, 상하 방향의 축을 중심으로, 상기 리프트 핀에 지지된 도포 대상물을 지지할 수 있는 지지 위치와, 해당 리프트 핀에 지지된 도포 대상물로부터 퇴피되는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향으로 선회되는 것을 특징으로 한다. Wherein the support arm includes a support arm which is rotatable about a vertical axis in a horizontal direction between a support position capable of supporting an object supported by the lift pin and a retreat position retracted from the object supported by the lift pin, .

본 발명에 관한 도포 장치의 개량 방법은, 도포액을 토출하는 노즐을 가지는 노즐 유닛과, 테이블에 재치된 도포 대상물이 상대적으로 이동되며, 해당 노즐로부터 토출되는 도포액을 도포 대상물에 도포하도록 한 기존의 도포 장치의 해당 노즐 유닛에, 도포 대상물을 지지하면서 상기 테이블로 이송하는 지지 암을 추가적으로 부착하는 공정을 포함하여, 해당 기존의 도포 장치를 개량하도록 한 것을 특징으로 한다. A method for improving a coating device according to the present invention is a method for improving a coating device comprising a nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid and a nozzle unit for applying a coating liquid dispensed from the nozzle, And a step of additionally attaching a support arm to be transferred to the table while supporting the object to be coated, on the nozzle unit of the application device of the applicator of the present invention.

본 발명에 관한 도포 장치 및 그 개량 방법으로서는, 도포 대상물의 이송 기능을 구비하여, 설비를 공간 절약화할 수 있음과 아울러, 설비의 레이아웃 변경 등으로 이전할 때에도, 비용 상승을 방지할 수 있다. As a coating device and its improving method according to the present invention, it is possible to save a space of a facility by providing a transporting function of an object to be coated, and to prevent an increase in cost even when transferring to a layout change of the facility.

도 1은 본 발명에 관한 도포 장치 및 그 개량 방법의 바람직한 일 실시 형태를 나타내는 사시도이다.   
도 2는 도 1에 나타낸 도포 장치에 채용되는 암 본체의 요부 확대 사시도이다.
도 3은 도 1에 나타낸 도포 장치의 동작의 전반(前半)을 나타내는 도면으로서, 도 3의 (a) ~ (i)는 제1 동작 내지 제9 동작까지를, 정면측으로부터 본 모식도이다.
도 4는 도 1에 나타낸 도포 장치의 동작의 후반(後半)을 나타내는 도면으로서, 도 4의 (j) ~ (r)은 제10 동작 내지 제18 동작까지를, 정면측으로부터 본 모식도이다.
도 5는 도 1에 나타낸 도포 장치의 동작을 나타내는 도면으로서, 도 5의 (a) ~ (e)는 각각, 도 3 중, A 화살표로부터, B 화살표로부터, C 화살표로부터, D 화살표로부터, 및 E 화살표로부터 상태를 나타내는 도면이다.
도 6은 도 1에 나타낸 도포 장치에 채용되는 암 유닛과 대비하여, 변형예에 관한 암 유닛을 나타내는 도면으로서, 도 6의 (a)는 도 1의 실시 형태의 암 유닛의 동작을, 도 6의 (b)는 변형예에 관한 암 유닛의 동작을, 도 6의 (c)는 다른 변형예에 관한 암 유닛의 동작을 나타내는 평면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a perspective view showing a preferred embodiment of a coating apparatus and its improving method according to the present invention. Fig.
2 is an enlarged perspective view of a main portion of the arm body employed in the coating apparatus shown in Fig.
Fig. 3 is a diagram showing the first half of the operation of the coating apparatus shown in Fig. 1. Figs. 3 (a) to 3 (i) are schematic views of the first to ninth operations from the front side.
Fig. 4 is a diagram showing the second half of the operation of the coating apparatus shown in Fig. 1, and Figs. 4 (j) to 4 (r) are schematic views of the tenth to eighteen operations from the front side.
Fig. 5 is a view showing the operation of the coating apparatus shown in Fig. 1, wherein (a) to (e) of Fig. 5 each show, from arrow A, arrow B, arrow C, arrow D, E Fig.
Fig. 6 is a view showing the arm unit according to the modified example in comparison with the arm unit employed in the coating apparatus shown in Fig. 1. Fig. 6 (a) shows the operation of the arm unit in the embodiment of Fig. 1, FIG. 6B is a plan view showing the operation of the arm unit according to the modified example, and FIG. 6C is a plan view showing the operation of the arm unit according to another modified example.

이하에, 본 발명에 관한 도포 장치 및 그 개량 방법의 바람직한 일 실시 형태를, 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 도 1은, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(예를 들면, '테이블 코터(table coater, 일본국등록상표)' 등 이라고 칭해짐)를 나타내는 사시도이다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a coating apparatus and a method for improving the coating apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Fig. 1 is a perspective view showing a coating apparatus (referred to as a 'table coater', for example) in the present embodiment.

본 실시 형태에 관한 도포 장치(1)는 개략적으로는, 도포액을 토출하는 노즐(7)을 가지는 노즐 유닛과, 테이블(4)에 재치(載置)된 도포 대상물인 기판(3)이 상대적으로 이동되며, 노즐(7)로부터 토출되는 도포액을 기판(3)에 도포하도록 한 도포 장치(1)로서, 기판(3)을 도포 장치(1) 외부로부터 테이블(4) 근처까지 반송하는 외부 반송 장치(14)(도 3 및 도 4에 도시)와 테이블(4)과의 사이에서 기판(3)을 지지하면서 이송하는 지지 암(10)이, 노즐 유닛에 마련된다. The coating apparatus 1 according to the present embodiment is roughly composed of a nozzle unit having a nozzle 7 for discharging a coating liquid and a nozzle unit 3 having a nozzle 4 mounted on the table 4, And the coating liquid discharged from the nozzle 7 is applied to the substrate 3. The coating device 1 is provided with a nozzle 3 for discharging the substrate 3 from the outside of the coating device 1 to the vicinity of the table 4, A support arm 10 for supporting and transferring the substrate 3 between the transfer device 14 (shown in Figs. 3 and 4) and the table 4 is provided in the nozzle unit.

외부 반송 장치(14)는, 소정 위치로 반송된 기판(3)을 지지하여 승강할 수 있는 외부 리프트 핀(14b)을 구비하고, 테이블(4)은, 기판(3)을 지지하여 승강할 수 있는 리프트 핀(4b)을 구비하며, 지지암(10)은, 외부 리프트 핀(14b) 및 리프트 핀(4b) 중 어느 일방에 의해 상승된 상태의 기판(3)의 하부로 들어가고, 외부 리프트 핀(14b) 및 리프트 핀(4b) 중 어느 일방이 강하(降下)되는 것에 의해 기판(3)을 지지하며, 외부 리프트 핀(14b) 및 리프트 핀(4b) 중 어느 일방은, 상승하는 것에 의해, 지지 암(10)에 지지된 상태의 기판(3)을 들어 올려 지지하도록 되어 있다. The external transfer device 14 is provided with an external lift pin 14b capable of supporting the substrate 3 carried to a predetermined position and capable of ascending and descending and the table 4 can be moved up and down by supporting the substrate 3 And the support arm 10 enters the lower portion of the substrate 3 in an elevated state by either the outer lift pin 14b or the lift pin 4b, Either one of the outer lift pin 14b and the lift pin 4b is lifted to support the substrate 3 and either the outer lift pin 14b or the lift pin 4b is lifted, The substrate 3 supported by the support arm 10 is lifted up.

테이블(4)에 재치된 기판(3)에 대해서 노즐 유닛이 이동되는 것에 의해, 노즐 유닛과 기판(3)과의 상대적인 이동이 행해진다. 지지 암(10)은, 상하 방향의 축을 중심으로, 외부 리프트 핀(14b) 및 리프트 핀(4b) 중 어느 일방에 지지된 기판(3)을 지지할 수 있는 지지 위치와, 외부 리프트 핀(14b) 및 리프트 핀(4b) 중 어느 일방에 지지된 기판(3)으로부터 퇴피(退避)되는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향으로 선회된다. The nozzle unit is moved relative to the substrate 3 placed on the table 4 so that the relative movement between the nozzle unit and the substrate 3 is performed. The support arm 10 has a support position capable of supporting the substrate 3 supported by either the outer lift pin 14b or the lift pin 4b and the outer lift pin 14b And a retreat position retracted from the substrate 3 supported by either one of the lift pins 4a and 4b.

본 실시 형태에 관한 도포 장치(1)는 예를 들면, 기대(基台, 2) 상에 마련되며, 도포액의 도포 대상물로서의 판 모양을 이루는 기판(3)이 재치되는 평면에서 보았을 때 장방형 모양의 테이블(4)과, 기대(2) 상에 마련되며, 테이블(4)의 한 쌍의 평행한 가장자리를 따라서 마련된 한 쌍의 레일(5)과, 한 쌍의 레일(5)을 따라 이동 가능한 이동체(6)와, 이동체(6)에 마련되며, 기판(3)에 도포하는 도포액을 토출 가능한 노즐(7)을 구비한다. 기판(3)은, 테이블(4)보다 면적이 작은 장방형 모양으로 형성되며, 테이블(4) 상에 재치되었을 때에는, 기판(3)의 전체가 테이블(4) 상에 배치된다. The coating device 1 according to the present embodiment is provided on a base (base) 2 and has a rectangular shape when viewed from the plane in which the substrate 3 forming the plate- A pair of rails 5 provided on the base 2 and arranged along a pair of parallel edges of the table 4 and a pair of rails 5 which are movable along the pair of rails 5 A movable body 6 and a nozzle 7 provided on the moving body 6 and capable of discharging a coating liquid to be applied to the substrate 3. [ The substrate 3 is formed in a rectangular shape having a smaller area than the table 4. When the substrate 3 is placed on the table 4, the entire substrate 3 is placed on the table 4. [

테이블(4)은, 기판(3)보다 넓은 면적을 가지며, 상면은 고정밀도의 수평면으로 형성된다. 테이블(4)에는, 서로 소정의 간격을 두고, 상하 방향으로 관통하는 관통공(4a)이 복수 마련된다. 관통공(4a)에는 각각, 승강할 수 있는 리프트 핀(4b)이 출몰하도록 마련된다. The table 4 has a larger area than the substrate 3, and the upper surface is formed with a high-precision horizontal surface. The table (4) is provided with a plurality of through holes (4a) passing through in the vertical direction at a predetermined interval. The through holes 4a are provided with lift pins 4b capable of ascending and descending, respectively.

리프트 핀(4b)은, 상단에서 기판(3)을 지지한다. 이 때문에, 기판(3)은, 리프트 핀(4b)에 의해 지지되어, 테이블(4)의 상부에서 상하 방향으로 이동 가능함과 아울러, 리프트 핀(4b)의 상단이, 테이블(4)의 상면보다 하부로 몰입하는 것에 의해, 테이블(4) 상에 재치된다. The lift pins 4b support the substrate 3 at the top. Therefore, the substrate 3 is supported by the lift pins 4b and is movable in the vertical direction at the upper portion of the table 4, and the upper end of the lift pins 4b is in contact with the upper surface of the table 4 And is placed on the table 4 by being immersed in the lower portion.

한 쌍의 레일(5)은, 기대(2) 상에, 테이블(4)을 사이에 두고 평행하게 배치된다. 레일(5)은, 장방형 모양의 테이블(4)의 장변 보다 길게 마련된다. A pair of rails 5 are arranged on the base 2 in parallel with the table 4 therebetween. The rail (5) is provided longer than the long side of the table (4) having a rectangular shape.

이동체(6)는, 각 레일(5) 상을 이동 가능하게 마련된 2개의 이동 기둥체(8)와, 2개의 이동 기둥체(8)에 걸쳐 놓여지며, 이동 기둥체(8)의 상단부끼리를 연결하는 연결 빔체(beam體, 9)로 구성된다. 이동체의 연결 빔체(9)에는, 기판(3)을 지지하면서 외부 반송 장치(14)로부터 테이블(4)로 이송하거나, 혹은, 테이블(4)로부터 외부 반송 장치(14)로 이송하는 지지 암(10)을 가지는 2개의 암 유닛(11)이 마련된다. The movable body 6 is provided with two movable columns 8 movable on the respective rails 5 and a pair of movable columns 8 which are placed over the two movable columns 8, And a connecting beam body (9) for connection. A supporting arm 9 for supporting the substrate 3 and transferring the substrate 3 from the external transport apparatus 14 to the table 4 or from the table 4 to the external transport apparatus 14 10 are provided.

연결 빔체(9)는, 레일(5)을 따르는 방향(이하, '상대 이동 방향'이라고 함)과 직교하는 방향(이하, '폭방향'이라고 함)을 따라서, 2개의 이동 기둥체(8)에 걸쳐 놓여진다. 이동체(6)는, 레일(5)을 따라서 이동하면, 연결 빔체(9)가 테이블(4)의 상면으로부터 간격을 두고, 테이블(4) 상부를 이동한다. The connecting beam body 9 has two moving columns 8 along a direction perpendicular to the rail 5 (hereinafter referred to as a "relative moving direction") (hereinafter referred to as a "width direction" Lt; / RTI > When the moving body 6 moves along the rail 5, the connecting beam body 9 moves above the table 4 with an interval from the upper surface of the table 4. [

2개의 암 유닛(11)은, 연결 빔체(9)에, 테이블(4)의 폭방향에서의 중앙으로부터 폭방향으로 나눈 각 위치에 1개씩 고정하여 마련된다. 2개의 암 유닛(11)의 각 지지 암(10)은, 기판(3)을 폭방향 양측으로부터 사이에 두도록 배치되며, 후술하는 돌기(10c)가 기판(3)의 아래로 들어가서 기판(3)을 지지한다. 이 때문에, 지지 암(10)은, 기판(3)을 지지할 때에, 레일(5)의 길이 방향과 평행하게, 서로 마주 향하도록 배치된다. 또, 서로 마주 향했을 때의 2개의 지지 암(10)의 간격은, 2개의 지지 암(10)이 돌기(10c)에 의해 지지한 기판(3)의 폭방향 외측에 위치하도록, 기판(3)의 폭과 거의 동일하도록 배치된다. The two arm units 11 are fixed to the connecting beam body 9 at angular positions divided in the width direction from the center in the width direction of the table 4 by one. The respective supporting arms 10 of the two arm units 11 are arranged so as to interpose the substrate 3 from both sides in the width direction and the projections 10c to be described later enter below the substrate 3, Lt; / RTI > Therefore, the support arms 10 are arranged so as to face each other in parallel with the longitudinal direction of the rails 5 when the substrate 3 is supported. The spacing between the two support arms 10 when facing each other is set so that the distance between the two support arms 10 on the side of the substrate 3 Of the width of the protruding portion.

2개의 암 유닛(11)은 각각, 연결 빔체(9)에 고정되는 베이스(12)와, 베이스(12) 상에 고정되며, 구동축(13a, 도 6 참조)이 베이스(12)를 상하 방향으로 관통하여 마련된 모터(13)와, 모터(13)의 구동축에 연결되어 베이스(12)의 하측에서 수평 방향으로 선회 가능하게 마련되며, 기판(3)을 지지하는 지지 암(10)을 가지고 있다. The two arm units 11 are respectively fixed to the connecting beam body 9 and a base 12 fixed on the base 12 and the driving shaft 13a And a supporting arm 10 connected to the driving shaft of the motor 13 and rotatable in the horizontal direction at the lower side of the base 12 and supporting the substrate 3.

지지 암(10)은, 모터(13)의 구동축(13a)에 연결된 기단부(基端部, 10a)와, 기단부(10a)로부터 소정 방향으로 연장하여 기판(3)을 유지하는 암 본체(10b)를 가진다. 2개의 지지 암(10)은, 기단부(10a)가 모터(13)에 의해 회전 구동되어, 암 본체(10b)가 선회하고, 기판(3)을 지지할 수 있는 지지 위치(도 3의 (c) 및 도 3의 (e) 참조)와, 리프트 핀(4b) 또는 후술하는 외부 리프트 핀(14b)에 의해 지지된 기판(3)으로부터 퇴피되는 퇴피 위치(도 3의 (a), 도 3의 (b) 및 도 3의 (d) 참조)와의 사이에서 수평 방향으로 선회되도록 구성된다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 지지 위치는, 암 본체(10b)가 레일(5)을 따르는 방향으로 배치되는 위치이며, 퇴피 위치는, 암 본체(10b)가 폭 방향을 따라서 배치되는 위치이다.The support arm 10 includes a base end portion 10a connected to the drive shaft 13a of the motor 13 and an arm body 10b extending in a predetermined direction from the base end portion 10a and holding the substrate 3, . The two support arms 10 are rotatably supported by the base 13 in such a manner that the proximal end 10a is rotationally driven by the motor 13 so that the arm body 10b is pivotable to support the base plate 3 (See Fig. 3 (a), Fig. 3 (e)) and the retracted position retracted from the substrate 3 supported by the lift pin 4b or an external lift pin 14b (see Figs. 3B and 3D). 5, the support position is a position in which the arm body 10b is arranged in the direction along the rail 5, and the retreat position is a position in which the arm body 10b is arranged along the width direction.

도 2는, 암 본체(10b)의 요부 확대 사시도이다. 암 본체(10b)에는, 지지 암(10)이 지지 위치로 이동했을 때에, 서로 대향하는 측을 향해 돌출하는 돌기(10c)가, 선단측과 기단부(10a)측에 마련된다. 돌기(10c)는, 암 본체(10b)의 두께(상하 방향의 폭)보다 얇게 형성됨과 아울러, 암 본체(10b)의 상면 보다도 낮은 높이 위치에 마련된다. 이것에 의해, 돌기(10c)와 암 본체(10b)와의 사이에 단차(10d)가 형성된다.Fig. 2 is an enlarged perspective view of the arm body 10b. The arm body 10b is provided with projections 10c projecting toward the mutually facing sides when the support arm 10 is moved to the support position on the tip side and the base end 10a side. The projection 10c is formed to be thinner than the thickness (width in the vertical direction) of the arm body 10b and at a position lower than the upper surface of the arm body 10b. As a result, a step 10d is formed between the projection 10c and the arm body 10b.

기판(3)은, 지지 위치로 이동한 2개의 지지 암(10)의 돌기(10c) 상에 재치되며, 기판(3)의 가장자리가 수평 방향으로부터 단차(10d) 및 암 본체(10b)의 측면에 맞닿은 상태로 지지 암(10) 상에 지지된다The substrate 3 is placed on the protrusions 10c of the two support arms 10 moved to the support position and the edge of the substrate 3 is moved from the horizontal direction to the step 10d and the side surface of the arm body 10b And is supported on the support arm 10

2개의 지지 암(10)은, 퇴피 위치에서, 암 본체(10b)가 폭방향으로 서로 반대방향을 향해 테이블(4)로부터 돌출된다. 2개의 지지 암(10)은, 기판(3)을 지지할 때에는, 모터(13)가 우회전 및 좌회전으로 서로 반대 방향으로 회전하는 것에 의해, 기판(3)을 향해 근접하도록 선회된다. 이 때문에, 2개의 지지 암(10)의 암 본체(10b)는, 테이블(4)을 사이에 두고, 대칭인 형상으로 형성된다. The two support arms 10 protrude from the table 4 in the retracted position such that the arm body 10b faces the mutually opposite directions in the width direction. The two support arms 10 are pivoted toward the substrate 3 when the substrate 3 is supported by the motor 13 rotating in the directions opposite to each other in the right and left directions. Therefore, the arm body 10b of the two support arms 10 is formed in a symmetrical shape with the table 4 therebetween.

노즐(7)은, 연결 빔체(9)의 아래에 마련된다. 노즐(7)은, 도포액을 테이블(4)에 재치된 기판(3)을 향해서 토출하도록 되어 있다. 노즐(7)은, 테이블(4)의 폭방향 전체 길이에 걸쳐서, 해당 테이블(4)과 대향하도록 마련된다. 이동체(6)가 레일(5)을 따라서 이동하면서 노즐(7)로부터 도포액이 토출되면, 테이블(4)의 거의 전면(全面)에 재치된 기판(3)에 대해 도포액을 도포할 수 있다. 노즐(7)을 구비한 이동체(6)가 노즐 유닛에 상당한다. 그리고, 노즐 유닛이 테이블(4)에 대해서 상대 이동하는 것에 의해, 기판(3)에 도포액이 도포된다. A nozzle (7) is provided below the connecting beam body (9). The nozzle 7 is adapted to discharge the coating liquid toward the substrate 3 placed on the table 4. The nozzle 7 is provided so as to face the table 4 over the entire length in the width direction of the table 4. [ The coating liquid can be applied to the substrate 3 placed on the almost entire surface of the table 4 when the moving body 6 is moved along the rail 5 and the coating liquid is discharged from the nozzle 7 . The moving body 6 having the nozzle 7 corresponds to the nozzle unit. Then, the nozzle unit is moved relative to the table 4 so that the coating liquid is applied to the substrate 3.

상기 구성의 도포 장치(1)는, 이미 공장 등의 설비에 설치되어 있는 기존의 도포 장치를 개량하는 경우에, 해당 기존의 도포 장치의 이동체(6, 노즐 유닛에 상당)에, 상술한 바와 같이, 기판(3)을 지지하면서 테이블(4)로 이송하는 지지 암(10)을 추가적으로 부착하는 공정을 포함하는 개량 방법을 적용하는 것에 의해서도, 도포 장치(1)를 신설하는 경우와 동일하게 설비에 조립할 수 있다. The coating device 1 of the above-described configuration is a device which, when an existing coating device already installed in a facility such as a factory is to be improved, the moving device 6 (corresponding to the nozzle unit) And a step of additionally attaching a support arm 10 for supporting the substrate 3 and transferring the support arm 10 to the table 4 is also applied to the equipment in the same manner as when the coating device 1 is newly installed Can be assembled.

다음으로, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1)의 동작에 대해서, 도 3 ~ 도 5를 이용하여 설명한다. 도 3의 (a) ~ (i)는, 도포 장치(1)의 제1 동작 내지 제9 동작까지를, 정면측으로부터 본 모식도이다. 도 4의 (j) ~ (r)은, 도포 장치(1)의 제10 동작 내지 제18 동작까지를, 정면측으로부터 본 모식도이다. 도 5의 (a) ~ (e)는 각각, 도 3에서의 A 화살표로부터, B 화살표로부터,C 화살표로부터, D 화살표로부터, 및 E 화살표로부터 본 상태를 나타내는 도면이다. Next, the operation of the coating device 1 according to the present embodiment will be described with reference to Figs. 3 to 5. Fig. 3 (a) to 3 (i) are schematic views of the first to ninth operations of the application device 1, viewed from the front side. 4 (j) to 4 (r) are schematic views of the tenth through eighteenth operations of the coating device 1, viewed from the front side. 5 (a) to 5 (e) are diagrams showing states viewed from arrow A, arrow B, arrow C, arrow D, and arrow E, respectively, in FIG.

도 3의 (a) 및 도 5의 (a)에 나타내는 바와 같이, 도포 장치(1)의 이동체(6)의 이동 방향(레일(5)의 길이 방향)으로 늘어서 마련된 외부 반송 장치(14)에 의해, 기판(3)이 도포 장치(1)측의 소정 위치로 반송된다. 이 때, 지지 암(10)은, 퇴피 위치에 위치하고 있다. As shown in Figs. 3 (a) and 5 (a), in the external transport device 14 arranged in the moving direction (the longitudinal direction of the rail 5) of the moving body 6 of the coating device 1 The substrate 3 is transported to a predetermined position on the coating device 1 side. At this time, the support arm 10 is located at the retreat position.

외부 반송 장치(14)는 예를 들면, 기판(3)을 아래로부터 지지하면서 반송하는 것이 가능한, 가느다란 복수개의 반송 벨트(14a)를, 반송 벨트(14a)끼리의 사이에 간극을 두어, 배치한 것이며, 상단에서 기판(3)을 지지하여 승강 이동이 가능한 외부 리프트 핀(14b)은, 반송 벨트(14a)끼리의 간극에 배치된다. 기판(3)은, 외부 리프트 핀(14b)에 의해 지지되어 외부 반송 장치(14)의 상부에서 상하 방향으로 이동 가능하게 된다. 외부 리프트 핀(14b)의 상단이, 외부 반송 장치(14)의 상면보다 하부로 몰입하는 것에 의해, 기판(3)은 외부 반송 장치(14) 상에 재치된다.The external conveying device 14 is provided with a plurality of narrow conveying belts 14a capable of conveying the substrate 3 while supporting the substrate 3 therebetween by arranging a gap between the conveying belts 14a And the outer lift pins 14b capable of supporting the substrate 3 at the upper end and being movable up and down are disposed in the clearance between the transport belts 14a. The substrate 3 is supported by the outer lift pins 14b so as to be movable up and down at the top of the outer carrier 14. [ The upper end of the outer lift pin 14b is immersed below the upper surface of the outer carrying device 14 so that the substrate 3 is placed on the outer carrying device 14. [

기판(3)이, 도 3의 (b) 및 도 5의 (b)에 나타내는 바와 같이, 외부 리프트 핀(14b)에 의해, 지지암(10)보다도 높은 위치까지 상승되면, 지지 암(10)이 퇴피 위치인 채로, 이동체(6)는 레일(5)을 따라서 기대(2)의 외부 반송 장치(14)측의 단부까지 이동한다. When the substrate 3 is raised to a position higher than the support arm 10 by the external lift pins 14b as shown in Figs. 3B and 5B, The moving body 6 moves to the end of the base 2 on the side of the external carrying device 14 along the rail 5. [

다음으로, 2개의 지지 암(10)은 수평 방향으로 선회하여, 도 3의 (c) 및 도 5의 (c)에 나타내는 바와 같이, 2개의 지지 암(10)끼리가 거의 평행이 되는 기판(3)의 지지 위치로 이동한다. 이것에 의해, 돌기(10c)가 기판(3)의 하부로 들어간다. Next, the two support arms 10 are rotated in the horizontal direction, and as shown in Figs. 3 (c) and 5 (c), the two support arms 10 are substantially parallel to each other 3). As a result, the projection 10c enters the lower portion of the substrate 3.

다음으로, 도 3의 (d)에 나타내는 바와 같이, 외부 리프트 핀(14b)이 강하하여, 기판(3)이 지지 암(10) 상에 재치된다. 그 후, 도 3의 (e)에 나타내는 바와 같이, 지지 암(10)이 기판(3)을 지지한 상태로, 이동체(6)가 레일(5)을 따라서 기대(2)의 외부 반송 장치(14)측과는 반대측의 단부까지 이동한다. Next, as shown in Fig. 3 (d), the outer lift pin 14b is lowered, and the substrate 3 is placed on the support arm 10. 3 (e), the moving body 6 is moved along the rail 5 in the state that the support arm 10 supports the substrate 3, 14) side.

다음으로, 도 3의 (f) 및 도 5의 (d)에 나타내는 바와 같이, 리프트 핀(4b)이 상승하고, 그 상단이 지지 암(10)보다도 높은 위치까지 상승하는 것에 의해, 기판(3)은, 지지 암(2)으로부터 리프트 핀(4b)으로 주고 받아져 지지된다3 (f) and 5 (d), the lift pin 4b rises and the upper end of the lift pin 4b rises to a position higher than the support arm 10, Are supported by being supported by the lift pins 4b from the support arms 2

다음으로, 도 3의 (g) 및 도 5의 (e)에 나타내는 바와 같이, 지지 암(10)이 퇴피 위치로 이동한다. 그 다음으로, 도 3의 (h)에 나타내는 바와 같이, 리프트 핀(4b)이 강하하여, 기판(3)은 테이블(4) 상에 재치된다. Next, as shown in Figs. 3 (g) and 5 (e), the support arm 10 moves to the retreat position. Next, as shown in FIG. 3 (h), the lift pins 4b are lowered, and the substrate 3 is placed on the table 4.

다음으로, 도 3의 (i)에 나타내는 바와 같이, 이동체(6)가 기대(2) 상에서 외부 반송 장치(14)의 반대측으로부터 외부 반송 장치(14)측을 향해 레일(5)을 따라서 이동한다(화살표 f 참조). 이 때, 테이블(4)에 재치되어 있는 기판(3)에 대해, 노즐(7)로부터 도포액을 토출하는 도막(塗膜, 3a)을 형성한다. 그 후, 도 4의 (j)에 나타내는 바와 같이, 이동체(6)가 레일(5)을 따라서 반대 방향으로 이동하여, 원래의 위치로 되돌아온다(화살표 g 참조).Next, as shown in Fig. 3 (i), the moving body 6 moves along the rail 5 from the opposite side of the outer carrying device 14 toward the outer carrying device 14 side on the base 2 (See arrow f). At this time, a coating film (coating film) 3a for discharging the coating liquid from the nozzle 7 is formed on the substrate 3 placed on the table 4. 4 (j), the moving body 6 moves in the opposite direction along the rail 5 and returns to its original position (see arrow g).

이동체(6)가 원래의 위치로 되돌아온 후, 도 4의 (k)에 나타내는 바와 같이, 리프트 핀(4b)이 상승하고, 기판(3)이 리프트 핀(4b)에 의해서 지지된다. 다음으로, 2개의 지지 암(10)이 퇴피 위치로부터 지지 위치를 향해 선회한다. 도 4의 (l)에 나타내는 바와 같이, 2개의 암 본체(10b)가 거의 평행이 되는 지지 위치로 이동하면, 기판(3)의 하부로 돌기(10c)가 들어간다. 그 후, 도 4의 (m)에 나타내는 바와 같이, 리프트 핀(4b)이 강하하여, 기판(3)은 지지 암(10)의 돌기(10c) 상에 재치되어, 암 본체(10b)에 유지된다. The lift pins 4b are lifted and the substrate 3 is supported by the lift pins 4b as shown in Figure 4 (k) after the moving body 6 is returned to the original position. Next, the two support arms 10 are pivoted from the retracted position toward the support position. The projection 10c enters the lower portion of the substrate 3 when the two arm bodies 10b move to the support position where they are almost parallel as shown in Fig. 4 (m), the lift pins 4b are lowered, and the substrate 3 is placed on the projection 10c of the support arm 10 and held on the arm body 10b do.

도막(3a)이 형성된 기판(3)이 지지 암(10)에 지지된 상태로, 도 4의 (n)에 나타내는 바와 같이, 이동체(6)가 레일(5)을 따라서 기대(2)의 외부 반송 장치(14)측의 단부까지 이동한다(화살표 f 참조). 이것에 의해, 기판(3)이 외부 반송 장치(14)의 상부에 위치된다. The moving body 6 is moved along the rail 5 to the outside of the base 2 in the state in which the substrate 3 on which the coating film 3a is formed is supported by the supporting arm 10, And moves to the end of the conveying device 14 side (see arrow f). Thereby, the substrate 3 is positioned on the upper portion of the outer carrying device 14.

다음으로, 도 4의 (o)에 나타내는 바와 같이, 외부 리프트 핀(14b)이 지지 암(10)보다도 높은 위치까지 상승하여, 기판(3)은 지지 암(10)으로부터 외부 리프트 핀(14b)으로 주고 받아져 지지된다. 그 후, 도 4의 (p)에 나타내는 바와 같이, 지지 암(10)이 선회하여 퇴피 위치로 이동한다. 그 다음으로, 도 4의 (q)에 나타내는 바와 같이, 외부 리프트 핀(14b)이 강하하여, 기판(3)은 외부 반송 장치(14) 상에 재치된다. 4 (o), the outer lift pin 14b is raised to a position higher than the support arm 10, and the substrate 3 is moved from the support arm 10 to the outer lift pin 14b, And is supported and received. Thereafter, as shown in Fig. 4 (p), the support arm 10 is turned and moved to the retreat position. Next, as shown in (q) of Fig. 4, the outer lift pin 14b is lowered, and the substrate 3 is placed on the outer carrier 14. [

마지막으로, 도 4의 (r)에 나타내는 바와 같이, 외부 반송 장치(14)가 가동하여, 도막(3a)이 형성된 기판(3)이 반송됨과 아울러, 이동체(6)가 원래의 위치로 되돌아와(화살표 g 참조), 이것에 의해 일련의 공정이 종료한다. Finally, as shown in Fig. 4 (r), the external transfer device 14 is activated, the substrate 3 on which the coating film 3a is formed is transported, and the moving body 6 returns to its original position (See arrow g), thereby completing a series of processes.

본 실시 형태에 관한 도포 장치(1) 및 그 개량 방법에서는, 기판(3)을 반송하는 외부 반송 장치(14)와 도포를 행하는 테이블(4)과의 사이에서 기판(3)을 이송하는 지지 암(10)이, 노즐(7)을 구비하는 이동체(6)에 마련되어 있다. 즉, 도포액을 도포할 때의 이동 장치와, 기판(3)을 외부 반송 장치(14)와 테이블(4)과의 사이에서 주고 받을 때의 이동 장치를 겸하고 있다. 이것에 대해, 배경 기술에서 설명한 특허 문헌 1의 「도포 장치 및 도포 방법, 및 칼라 필터 제조 장치 및 제조 방법」(일본특허공개 제2002-102771호 공보)에서는, 테이블과, 테이블로 기판을 반입하고, 테이블로부터 기판을 반출하는, 핸드를 구비한 로봇을 별개로 설치하고 있다. 별개로 설치하는 특허 문헌 1에서는, 테이블 및 로봇에 대해, 개개로 설비 스페이스를 확보할 필요가 있다. 또, 테이블 및 로봇은 각각, 개별로 장치로서 완성한 것이기 때문에, 대형인 장치가 되어 버림과 동시에, 비용이 상승하게 되어 버린다. 이것에 대해, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1) 및 그 개량 방법에서는, 상술한 바와 같이, 테이블(4)에 구비되는 도포용 이동체(6)에, 반송용 지지 암(10)을 조립하도록 하고 있어, 테이블과 핸드가 부착된 로봇이 별개인 특허 문헌 1과는 다르며, 도포 기능과 반송 기능을 일체화한 구성으로 하고 있다. 이 때문에, 특허 문헌 1과 같이, 각각 별개의 이동 장치 등을 구비하는 경우 보다도, 코스트를 저감할 수 있음과 아울러, 장치 그 자체를 작게 할 수 있어, 설치 스페이스도 좁게 할 수 있다. 요컨데, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1) 및 그 개량 방법에서는, 외부 반송 장치(14)와 테이블(4)과의 사이에서의 기판(3)의 이송 기능을 구비하여, 설비를 공간 절약화할 수 있음과 아울러, 설비의 레이 아웃 변경 등으로 이전할 때에도, 비용 상승을 방지할 수 있다. The coating apparatus 1 according to the present embodiment and the method for improving the same are provided with a supporting arm 14 for transferring a substrate 3 between an external carrying apparatus 14 for carrying a substrate 3 and a table 4 for coating, (10) is provided on a moving body (6) provided with a nozzle (7). That is, the transfer device also serves as a transfer device for transferring the application liquid and a transfer device for transferring the substrate 3 between the external transfer device 14 and the table 4. On the other hand, in the "coating device, coating method, and color filter manufacturing device and manufacturing method" (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2002-102771) of Patent Document 1 described in the background art, , And a robot equipped with a hand for taking out the substrate from the table are provided separately. In Patent Document 1, which is installed separately, it is necessary to secure facility space for each of the table and the robot. In addition, since the table and the robot are each completed as a device, the device becomes a large-sized device and the cost increases. On the other hand, in the coating device 1 and the improving method according to the present embodiment, as described above, the transporting support arm 10 is assembled to the applicating moving body 6 provided on the table 4 The robot having the table and the hand is different from the one disclosed in Patent Document 1, and the application function and the transport function are integrated with each other. Therefore, as in Patent Document 1, the cost can be reduced, the apparatus itself can be made smaller, and the installation space can be made narrower than in the case of using separate moving devices or the like. In the coating device 1 and the improvement method according to the present embodiment, the transfer function of the substrate 3 is provided between the external transfer device 14 and the table 4, It is possible to prevent an increase in cost even when transferring the equipment to a layout change or the like.

그리고, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1)의 개량 방법에 의하면, 기존의 도포 장치의 이동체(6)에, 지지 암(10) 등을 추가적으로 부착하는 공정을 포함하여, 기존의 도포 장치를 개량하도록 하고 있으므로, 이것에 의해, 기존의 도포 장치 자체, 그 자리에서 개량할 수 있는 것은 물론, 이 기존의 도포 장치를 다른 곳으로 이전했을 때에, 로봇 등의 이재 장치를 별도로 마련할 필요가 없게 되어, 필요 설치 면적을 작게 좁히는 것이 가능해진다. According to the method for improving the coating device 1 of the present embodiment, it is possible to improve the existing coating device including the step of additionally attaching the support arm 10 or the like to the moving body 6 of the existing coating device. This makes it possible to improve the existing coating apparatus itself, and it is not necessary to separately provide a transfer apparatus such as a robot when the existing applicator is moved to another place , It is possible to narrow the required installation area.

또, 본 실시 형태에 관한 도포 장치(1) 및 그 개량 방법에서는, 테이블(4)이, 기판(3)을 지지하여 승강할 수 있는 리프트 핀(4b)을 구비하고, 지지 암(10)은, 그 돌기(10c)가 리프트 핀(4b)에 의해 상승된 상태의 기판(3)의 하부로 들어가, 리프트 핀(4b)이 강하되는 것에 의해 기판(3)을 지지하며, 리프트 핀(4b)은, 상승하는 것에 의해, 지지 암(10)에 지지된 상태의 기판(3)을 들어 올려 지지하도록 되어 있다. 이 때문에, 지지 암(10)에 의해 기판(3)을 상하 방향으로 이동시킬 필요가 없다. 즉, 지지 암(10)은, 기판(3)을 수평 방향으로 이송하는 것만으로 충분하며, 복잡한 동작이 요구되지는 않는다. 지지 암(10)은, 로봇과 같은 복잡한 운동 기구가 불필요한 것으로, 비용 절감을 도모할 수 있다. In the coating device 1 and the improvement method of the present embodiment, the table 4 is provided with a lift pin 4b capable of lifting and lowering by supporting the substrate 3, , The projection 10c enters the lower portion of the substrate 3 in a state in which the lift pin 4b is lifted by the lift pin 4b and the lift pin 4b is lowered to support the substrate 3, The substrate 3 held by the support arm 10 is lifted up. Therefore, it is not necessary to move the substrate 3 in the vertical direction by the support arm 10. In other words, it is sufficient that the support arm 10 is moved in the horizontal direction of the substrate 3, and complicated operation is not required. The support arm 10 does not require a complicated exercise mechanism such as a robot, and can reduce costs.

외부 반송 장치(14)에 대해서도 마찬가지로, 기판(3)이 외부 리프트 핀(14b)에 의해 상승된 상태로, 지지 암(10)의 돌기(10c)가 기판(3)의 아래로 들어가, 외부 리프트 핀(14b)이 강하하는 것에 의해 지지 암(10)에 기판(3)이 지지되며, 또, 지지 암(10)에 지지되어 있는 기판(3)은, 외부 리프트 핀(14b)이 상승하는 것에 의해, 해당 외부 리프트 핀(14b)으로 옮겨져 지지된다. 따라서, 지지 암(10)은, 복잡한 운동 기구가 불필요하여, 비용 절감을 도모할 수 있다. The protrusion 10c of the support arm 10 enters under the substrate 3 with the substrate 3 lifted by the outer lift pin 14b in the same manner with respect to the outer transfer device 14, The substrate 3 is supported on the support arm 10 by the lowering of the pin 14b and the substrate 3 supported on the support arm 10 is moved in the direction in which the outer lift pin 14b is lifted To the corresponding external lift pin 14b. Therefore, the support arm 10 does not require a complicated exercise mechanism, and the cost can be reduced.

또, 지지 암(10)은, 상하 방향의 축(구동축(13a))을 중심으로, 리프트 핀(4b)에 의해 지지된 기판(3)을 지지할 수 있는 지지 위치와, 리프트 핀(4b)에 의해 지지된 기판(3)으로부터 퇴피되는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향으로 선회되므로, 간단한 기구로 기판(3)을 이송하는 것이 가능하다. The support arm 10 has a supporting position capable of supporting the substrate 3 supported by the lift pins 4b with respect to the vertical axis (drive shaft 13a) And the retracted position retracted from the substrate 3 supported by the substrate 3, it is possible to transfer the substrate 3 with a simple mechanism.

상기 실시 형태에서는, 고정하여 설치된 테이블(4)에 재치된 기판(3)에 대해서 노즐(7)을 구비한 이동체(6)(노즐 유닛)가 이동하는 것에 의해, 노즐(7)과 기판(3)과의 상대 이동이 행해지는 예에 대해 설명했지만, 노즐(7)이 고정되고, 기판(3)이 재치되는 테이블(4)이 이동하는 구성이라도 괜찮다. The moving body 6 (nozzle unit) provided with the nozzle 7 moves to the substrate 3 placed on the fixed table 4 to move the nozzle 7 and the substrate 3 However, the configuration in which the nozzle 7 is fixed and the table 4 on which the substrate 3 is mounted moves.

상기 실시 형태에서는, 이동체(6)에 근접하는 위치에, 지지 암(10)을 구동하는 모터(13)의 구동축(13a)을 마련하는 경우에 대해 설명했지만, 이것으로 한정하는 것은 아니다. 도 6에는, 상기 실시 형태의 암 유닛(11)의 구성(도 6의 (a) 참조)과 대비하여, 변형예에 관한 암 유닛(11)의 구성(도 6의 (b) 참조)이 나타내어져 있다. In the above embodiment, the case where the drive shaft 13a of the motor 13 for driving the support arm 10 is provided at a position close to the moving body 6 is described, but the present invention is not limited to this. 6 shows a configuration of the arm unit 11 according to the modified example (see FIG. 6 (b)) in comparison with the configuration of the arm unit 11 It's gone.

도 6의 (b)에 나타내는 바와 같이, 도 1에 나타낸 폭방향에 관해, 구동축(13a)을 이동체(6)의 중앙측에 가까이 함과 아울러, 해당 구동축(13a)을, 이동체(6)로부터 지지 암(10)이 선회하는 측으로 돌출시킨 베이스(12)의 선단측에 마련하는 것에 의해, 이동체(6)로부터 이격시켜 배치하고, 또, 지지 암(10)을 L자 모양으로 형성하는 것에 의해서, 지지 암(10)의 선회 범위를 좁히는 것이 가능하다. 이것에 의해, 지지 암(10)의 퇴피 위치에서의 폭 치수 W2를, 도 6의 (a)에 나타낸 상기 실시 형태의 지지 암(10)의 퇴피 위치에서의 폭 치수 W1 보다도 작게 하는 것이 가능하다. 이것에 의해, 더 공간 절약화를 달성할 수 있다. The drive shaft 13a is moved toward the center of the moving body 6 and the drive shaft 13a is moved from the moving body 6 to the center of the moving body 6 as shown in Figure 6 (b) The support arm 10 is provided at the tip end side of the base 12 protruded to the side on which the support arm 10 is pivotally moved so as to be spaced apart from the moving body 6 and the support arm 10 is formed into an L- , The swing range of the support arm 10 can be narrowed. This makes it possible to make the width dimension W2 at the retracted position of the support arm 10 smaller than the width dimension W1 at the retracted position of the support arm 10 of the above-described embodiment shown in Fig. 6 (a) . As a result, further space saving can be achieved.

또, 2개의 지지 암(10)은, 반드시 선회 운동시키지 않아도 좋다. 도 6의 (c)에는, 암 유닛의 구성에 대해서, 다른 변형예가 나타내어져 있다. 구체적으로는, 2개의 지지암(10)이 기판(3)을 지지하는 것이 가능한 평행 상태를 유지한 채로, 도 1에 나타낸 폭방향으로 슬라이드 이동 가능하게 되며, 이동체(6)를 따라서 슬라이드 이동되어 돌기(10c)가 기판(3)의 아래로 들어가는 지지 위치와, 돌기(10c)가 기판(3)의 아래로부터 벗어난 퇴피 위치와의 사이에서 이동되는 구성으로 해도 좋다. In addition, the two support arms 10 may not necessarily be pivotally moved. Fig. 6C shows another modification of the configuration of the arm unit. Concretely, the two support arms 10 are slidable in the width direction shown in Fig. 1 while being held in a parallel state capable of supporting the substrate 3, and are slid along the moving body 6 The protrusion 10c may be moved between the support position where the protrusion 10c enters the lower side of the substrate 3 and the retraction position where the protrusion 10c deviates from the lower side of the substrate 3. [

기판(3)을 도포 장치(1) 외부로부터 테이블(4) 근처까지 반송하는 외부 반송 장치(14)는, 상술한 실시 형태의 예에 한정하지 않고, 기판(3)을 도포 장치(1)에 구비한 지지 암(10)에 건네 받을 수 있는 것이면, 어떠한 것이라도 괜찮고, 반송용 로봇으로 반송하여 건네 받음을 행하여도, 작업원이 반송하여 건네 받음을 행하여도 괜찮다. The external transfer device 14 for transferring the substrate 3 from the outside of the application device 1 to the vicinity of the table 4 is not limited to the example of the embodiment described above and may be applied to the application device 1 Anything that can be handed to the support arm 10 provided is acceptable, and even if the robot is carried by the carrying robot and handed over, the worker may be returned and handed over.

1 : 도포 장치 2 : 기대
3 : 기판 3a : 도막
4 : 테이블 4a : 관통공
4b : 리프트 핀 5 : 레일
6 : 이동체 7 : 노즐
8 : 이동 기둥체 9 : 연결 빔체
10 : 지지 암 10a : 기단부
10b : 암 본체 10c : 돌기
10d : 단차 11 : 암 유닛
12 : 베이스 13 : 모터
13a : 구동축 14 : 외부 반송 장치
14a : 반송 벨트 14b : 외부 리프트 핀
1: Coating device 2: Expectation
3: Substrate 3a: Coating film
4: Table 4a: Through-hole
4b: Lift pin 5: Rail
6: moving body 7: nozzle
8: movable column body 9: connecting beam body
10: Support arm 10a:
10b: arm body 10c: projection
10d: step 11: arm unit
12: base 13: motor
13a: drive shaft 14: external carrier
14a: conveyor belt 14b: external lift pin

Claims (4)

도포액을 토출하는 노즐을 가지는 노즐 유닛과, 테이블에 재치(載置)된 도포 대상물이 상대적으로 이동되며, 해당 노즐로부터 토출되는 도포액을 도포 대상물에 도포하도록 한 도포 장치로서,
도포 대상물을 지지하면서 상기 테이블로 이송하는 지지 암이, 상기 노즐 유닛에 마련되는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
A coating unit for coating a coating liquid discharged from the nozzle relative to a coating object placed on a table, the coating unit comprising: a nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid;
Wherein a support arm for supporting the object to be coated and transferring the object to the table is provided in the nozzle unit.
청구항 1에 있어서,
상기 테이블은, 도포 대상물을 지지하여 승강할 수 있는 리프트 핀을 구비하고,
상기 지지 암은, 상기 리프트 핀에 의해 상승된 상태의 도포 대상물의 하부로 들어가고, 해당 리프트 핀이 강하(降下)되는 것에 의해 도포 대상물을 지지하며,
상기 리프트 핀은, 상승하는 것에 의해, 상기 지지 암에 지지된 상태의 도포 대상물을 들어 올려 지지하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
The method according to claim 1,
The table is provided with a lift pin capable of supporting and lifting the object to be coated,
The support arm supports the object to be coated by being lowered by the lift pin and lowered by the lift pin,
Wherein the lift pin lifts up the object to be coated in a state of being supported by the support arm by lifting up the lift pin.
청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 지지 암은, 상하 방향의 축을 중심으로, 상기 리프트 핀에 지지된 도포 대상물을 지지할 수 있는 지지 위치와, 해당 리프트 핀에 지지된 도포 대상물로부터 퇴피(退避)되는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향으로 선회(旋回)되는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The support arm includes a support arm for supporting a support object supported by the lift pin and a retracted position retracted from the object to be coated supported by the lift pin, (Swirling) in the direction of the arrow.
도포액을 토출하는 노즐을 가지는 노즐 유닛과, 테이블에 재치된 도포 대상물이 상대적으로 이동되며, 해당 노즐로부터 토출되는 도포액을 도포 대상물에 도포하도록 한 기존의 도포 장치의 해당 노즐 유닛에, 도포 대상물을 지지하면서 상기 테이블로 이송하는 지지 암을 추가적으로 부착하는 공정을 포함하여, 해당 기존의 도포 장치를 개량하도록 한 것을 특징으로 하는 도포 장치의 개량 방법.A nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid and a nozzle unit for applying a coating liquid discharged from the nozzle relative to the nozzle unit of the existing coating apparatus in which the object to be coated placed on the table is relatively moved, And a step of additionally attaching a supporting arm to be transferred to the table while supporting the existing supporting apparatus, so as to improve the existing applicator.
KR1020140162595A 2014-07-08 2014-11-20 Coating apparatus and method to improve a coating apparatus KR102206258B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014140250A JP5735161B1 (en) 2014-07-08 2014-07-08 Coating apparatus and method for improving the same
JPJP-P-2014-140250 2014-07-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160006092A true KR20160006092A (en) 2016-01-18
KR102206258B1 KR102206258B1 (en) 2021-01-22

Family

ID=53487062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140162595A KR102206258B1 (en) 2014-07-08 2014-11-20 Coating apparatus and method to improve a coating apparatus

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5735161B1 (en)
KR (1) KR102206258B1 (en)
CN (1) CN105312193B (en)
TW (1) TWI641423B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7097759B2 (en) * 2018-06-22 2022-07-08 東京エレクトロン株式会社 Board processing equipment and board processing method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05237430A (en) * 1992-02-27 1993-09-17 Suzuki Motor Corp Work feeding jig
JP2002102771A (en) 2000-09-27 2002-04-09 Toray Ind Inc Device and method for coating and device and method for manufacturing color filter
JP2007287914A (en) * 2006-04-17 2007-11-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus
JP2009165942A (en) * 2008-01-15 2009-07-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus and method
JP2011161395A (en) * 2010-02-12 2011-08-25 Seiko Epson Corp Apparatus and method for discharging droplet

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63147866U (en) * 1987-03-17 1988-09-29
JP4770041B2 (en) * 2001-03-26 2011-09-07 東レ株式会社 Substrate transfer hand and color filter manufacturing equipment
JP4481688B2 (en) * 2003-04-10 2010-06-16 Hoya株式会社 Substrate processing apparatus, coating apparatus, coating method, and photomask manufacturing method
JP4445228B2 (en) * 2003-08-20 2010-04-07 しげる工業株式会社 Paint drying line equipment
JP4297943B2 (en) * 2007-01-26 2009-07-15 中外炉工業株式会社 How to apply plate material
JP5977042B2 (en) * 2012-02-27 2016-08-24 株式会社Screenホールディングス Coating device, substrate holding device, and substrate holding method
JP6125783B2 (en) * 2012-09-24 2017-05-10 東レエンジニアリング株式会社 Coating apparatus and coating method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05237430A (en) * 1992-02-27 1993-09-17 Suzuki Motor Corp Work feeding jig
JP2002102771A (en) 2000-09-27 2002-04-09 Toray Ind Inc Device and method for coating and device and method for manufacturing color filter
JP2007287914A (en) * 2006-04-17 2007-11-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus
JP2009165942A (en) * 2008-01-15 2009-07-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus and method
JP2011161395A (en) * 2010-02-12 2011-08-25 Seiko Epson Corp Apparatus and method for discharging droplet

Also Published As

Publication number Publication date
CN105312193A (en) 2016-02-10
TW201601844A (en) 2016-01-16
KR102206258B1 (en) 2021-01-22
TWI641423B (en) 2018-11-21
JP2016016357A (en) 2016-02-01
CN105312193B (en) 2018-11-16
JP5735161B1 (en) 2015-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008212804A (en) Conveying and coating machine of substrate
JP2012044052A (en) Coating apparatus
JP5550882B2 (en) Coating device
JP5771432B2 (en) Coating device
JP5912403B2 (en) Application processing equipment
KR20160006092A (en) Coating apparatus and method to improve a coating apparatus
KR101859279B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR20160041178A (en) Apparatus for guiding transportation and apparatus for transferring substrate
CN104961360A (en) Manufacture method and manufacture device
KR101631414B1 (en) Coating apparatus
JP6134201B2 (en) Work equipment for printed circuit boards
JP5752088B2 (en) Exposure equipment
TWI481540B (en) Coating apparatus and coating method
JP5244445B2 (en) Coating device
KR102222263B1 (en) Substrate processing apparatus
JP5244446B2 (en) Coating device
JP2013102153A (en) Processing stage device and coating processor using the same
JP5663297B2 (en) Coating device
JP5778224B2 (en) Coating device
KR20130000150A (en) A continuous diverter apparatus
JP5469992B2 (en) Coating method and coating apparatus
KR20200072420A (en) Substrate transport apparatus and coating apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant