JP2002102771A - Device and method for coating and device and method for manufacturing color filter - Google Patents

Device and method for coating and device and method for manufacturing color filter

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JP2002102771A
JP2002102771A JP2000293654A JP2000293654A JP2002102771A JP 2002102771 A JP2002102771 A JP 2002102771A JP 2000293654 A JP2000293654 A JP 2000293654A JP 2000293654 A JP2000293654 A JP 2000293654A JP 2002102771 A JP2002102771 A JP 2002102771A
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潔 箕浦
Yoshiyuki Kitamura
義之 北村
Hiromitsu Kanamori
浩充 金森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and a method for coating, by which the time (tact time) necessary for treating a piece of a base board is remarkably reduced without increasing the cost for the equipment and labor by using a die coater having a structure for treating the base board intermittently with a set of a die and a device, and a method for manufacturing a color filter. SOLUTION: In the coating method for forming a coating film on the surface of the base board by moving a coater having a discharge port for discharging the coating liquid to a coating position of the substrate held on a table and discharging a coating liquid from the coater, the table is capable of holding plural base boards without overlapping, and while the coating film is formed on the base board placed at an optional base board holding position on the table, the discharge of the base bard and/or the placing of the base board is carried out at other base board holding position.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イ用カラーフィルター、光学フィルター、プラズマディ
スプレイ用パネルなどの製造分野において好ましく使用
されるもので、詳しくは、ガラスなどの枚葉被塗布基板
に、短いタクトタイムで、塗布液を塗布する塗布装置お
よび塗布方法、ならびに、これらを用いたカラーフィル
ターの製造装置および製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is preferably used in the field of manufacturing color filters for liquid crystal displays, optical filters, panels for plasma displays and the like. The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for applying a coating liquid in a tact time, and a color filter manufacturing apparatus and a manufacturing method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】高精度に塗布液を塗布する手段として、
スリット状の吐出口を持つダイから塗布液を一定間隔離
れた基材に吐出して塗布を行うダイコータ塗布があり、
近年、フィルム等の連続した基材の他に、ガラス等の枚
葉状基板への塗布にも適用されている。枚葉状基板への
塗布は、シート状基材への連続塗布とは異なり、特開平
8−182953号公報に示されるように各基板ごとの
塗布以外に、基板のテーブルへの載置および排出、テー
ブルまたはダイの移動、さらに、塗布開始部で所定の膜
厚を安定して得るために行うダイ吐出口の清掃、といっ
た種々の処理作業が必要となる。枚葉状基板への塗布工
程で生産性を向上させるには、1枚の基板の処理に要す
る時間(タクトタイム)を短くすれば良いが、そのため
には、塗布はもちろんのこと上記の塗布以外の処理作業
時間を短縮することが必要となる。
2. Description of the Related Art As means for applying a coating liquid with high precision,
There is a die coater coating in which a coating liquid is discharged from a die having a slit-shaped discharge port to a base material separated at a fixed interval to perform coating.
In recent years, in addition to a continuous substrate such as a film, it has been applied to application to a sheet-like substrate such as glass. The application to the sheet-like substrate is different from the continuous application to the sheet-like substrate. In addition to the application to each substrate as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-182951, the substrate is placed on a table and discharged. Various processing operations, such as movement of a table or a die, and cleaning of a die discharge port to stably obtain a predetermined film thickness at an application start portion are required. In order to improve the productivity in the coating process on a single-wafer substrate, the time required for processing one substrate (tact time) may be shortened. It is necessary to reduce the processing time.

【0003】各処理作業時間を短縮するのはあまり容易
ではないので、その時間をかえないでも大幅にタクトタ
イムを短くできる手段の一つが、特開2000−117
179号公報に開示されているものである。ここでは、
ステージに連続配置した複数の基板に、間欠することな
くダイコータ塗布を行うことで、各処理の作業時間に関
係なく、基板1枚あたりのタクトタイムの短縮を図って
いる。
Since it is not so easy to shorten the processing time of each processing, one of means for greatly reducing the tact time without changing the time is disclosed in JP-A-2000-117.
179 is disclosed. here,
By applying the die coater to the plurality of substrates continuously arranged on the stage without intermittent operation, the tact time per substrate can be shortened regardless of the work time of each processing.

【0004】また、同じ思想の手段としては、特開平1
0−216599号公報に開示されているものがあり、
ここでは、1台のダイコータの中に複数のダイと基板を
配し、それによって複数の基板に同時に塗布して基板1
枚あたりのタクトタイムの短縮を実現している。
[0004] As a means of the same idea, Japanese Patent Laid-Open No.
There is one disclosed in Japanese Patent Publication No. 0-216599.
Here, a plurality of dies and a substrate are arranged in a single die coater, and are thereby applied to a plurality of substrates simultaneously to make the substrate 1
The tact time per sheet has been reduced.

【0005】さらに、単に、ダイコータを複数台配し
て、並列して基板を塗布処理することにより、基板1枚
あたりのタクトタイムを短縮する手段も同じ範疇に入れ
ることができる。
Further, a means for shortening the tact time per substrate by simply arranging a plurality of die coaters and coating the substrates in parallel can be included in the same category.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、以上の従来の
手段には次のような問題があって、実用に供せられてい
ない。複数の基板をステージに連続配置して、間欠する
ことなく連続して塗布を行う手段の場合、塗布後に基板
を引き離す時に、基板間の液離れが均等に行われず、基
板端部の膜厚分布が不均一になる。さらに、基板裏面へ
塗布液が廻りこんで、基板を汚すという問題がある。
However, the above conventional means have not been put to practical use because of the following problems. In the case of a means in which a plurality of substrates are continuously arranged on a stage and the coating is performed continuously without intermittent, when the substrates are separated after coating, the liquid separation between the substrates is not performed uniformly, and the film thickness distribution at the edge of the substrate. Becomes uneven. Further, there is a problem in that the coating liquid flows around the back surface of the substrate, thereby soiling the substrate.

【0007】次に、複数のダイで、基板に同時に塗布を
行う場合、装置が大型化して装置コストが高くなる。特
に、今後主流になると予想されるメータ角サイズの基板
に対応させるには超大型のダイコータが必要となるが、
所定の機械精度を維持させながら大型化するのは、事実
上不可能である。さらに、複数のダイの塗布液充填作業
や組立作業、塗布作業管理が必要となるため、人的コス
トも増大する。
Next, when a plurality of dies are simultaneously coated on a substrate, the size of the apparatus is increased and the cost of the apparatus is increased. In particular, an ultra-large die coater is required to support a meter-sized substrate, which is expected to become mainstream in the future.
It is practically impossible to increase the size while maintaining a predetermined machine precision. Further, since the application liquid filling operation, the assembling operation, and the application operation management of a plurality of dies are required, human costs are also increased.

【0008】さらに、単に、ダイコータを複数配する手
段は、ダイコータの増加台数分だけ装置コストと、メン
テナンスや塗布作業に要する人的コストが増大する。
Further, the means for simply arranging a plurality of die coaters increases the equipment cost and the human cost required for maintenance and coating work by the increased number of die coaters.

【0009】この発明は、上述の問題点を解消するため
になされたものであり、その目的とするところは、1台
のダイで間欠的に基板を処理する一般的なダイコータの
構成で、タクトタイムを大幅に短縮することが可能な低
コストの塗布装置および塗布方法、ならびにそれを用い
たカラーフィルターの製造装置および製造方法を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a general die coater for intermittently processing a substrate with a single die. An object of the present invention is to provide a low-cost coating apparatus and a coating method capable of greatly reducing time, and a color filter manufacturing apparatus and a manufacturing method using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は以下の構成を採用する。すなわち、 (1)複数の基板を相重ならないように保持する基板保
持位置を有するテーブルと、前記基板表面に塗布液を吐
出する吐出口を有する塗布器と、前記吐出口を清掃する
吐出口清掃装置と、前記塗布器に塗布液を供給する塗布
液供給機構と、前記塗布器を基板保持位置に保持した基
板の塗布位置に移動させる移動手段と、前記テーブル上
に基板を載置する基板載置手段と、前記テーブル上から
基板を排出する基板排出手段と、任意の基板保持位置に
載置された基板に前記塗布器から塗布液を吐出する間に
他の基板保持位置へ基板を載置および/または排出させ
る制御手段とが、設けられたことを特徴とする塗布装
置。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following constitution. That is, (1) a table having a substrate holding position for holding a plurality of substrates so as not to overlap each other, an applicator having a discharge port for discharging a coating liquid onto the substrate surface, and a discharge port cleaning for cleaning the discharge port. An apparatus, a coating liquid supply mechanism for supplying a coating liquid to the coating device, a moving unit for moving the coating device to a coating position of a substrate held at a substrate holding position, and a substrate mount for mounting the substrate on the table. Mounting means, a substrate discharging means for discharging the substrate from the table, and mounting the substrate to another substrate holding position while discharging the coating liquid from the applicator onto the substrate mounted at an arbitrary substrate holding position. And / or a control unit for discharging.

【0011】(2)前記基板保持位置を2箇所有するこ
とを特徴とする前記(1)に記載の塗布装置。
(2) The coating apparatus according to (1), wherein the substrate holding position is provided at two positions.

【0012】(3)前記塗布液供給機構のすべて、また
は、その一部と、前記吐出口清掃装置とが、前記移動手
段に配されたことを特徴とする前記(1)あるいは
(2)に記載の塗布装置。
(3) The above (1) or (2), wherein the whole or a part of the application liquid supply mechanism and the discharge port cleaning device are arranged in the moving means. The coating device according to the above.

【0013】(4)前記吐出口清掃装置に取り付けられ
て、前記吐出口に付着した塗布液を除去する清掃ヘッド
が2個配されたことを特徴とする前記(1)乃至(3)
のいずれかに記載の塗布装置。
(4) The above (1) to (3), wherein two cleaning heads attached to the discharge port cleaning device for removing the coating liquid adhering to the discharge ports are arranged.
The coating device according to any one of the above.

【0014】(5)前記塗布器が、前記吐出口を複数有
することを特徴とする前記(1)乃至(4)のいずれか
に記載の塗布装置。
(5) The coating device according to any one of (1) to (4), wherein the coating device has a plurality of the discharge ports.

【0015】(6)前記(1)乃至(5)のいずれかに
記載の塗布装置を用いて、カラーフィルターを製造する
ことを特徴とするカラーフィルター製造装置。
(6) A color filter manufacturing apparatus, wherein a color filter is manufactured using the coating apparatus according to any one of the above (1) to (5).

【0016】(7)塗布液を吐出する吐出口を有する塗
布器をテーブル上に保持された基板の塗布位置に移動さ
せながら、該塗布器から塗布液を吐出することにより、
基板表面に塗膜を形成する塗布方法において、前記テー
ブルは複数の基板を相重ならずに保持できるものであ
り、該テーブル上の任意の基板保持位置に載置された基
板に塗膜を形成する間に、他の基板保持位置では基板の
排出および/または基板の載置を行うことを特徴とする
塗布方法。
(7) By discharging the coating liquid from the coating device while moving the coating device having a discharge port for discharging the coating liquid to the coating position of the substrate held on the table,
In the coating method for forming a coating film on a substrate surface, the table can hold a plurality of substrates without overlapping, and forms the coating film on a substrate placed at an arbitrary substrate holding position on the table. And discharging the substrate and / or placing the substrate at another substrate holding position during the application.

【0017】(8)前記塗膜形成のときの前記塗布器の
移動方向は、隣り合う基板保持位置で相反することを特
徴とする前記(7)に記載の塗布方法。
(8) The coating method according to (7), wherein the moving directions of the coating device at the time of forming the coating film are opposite at adjacent substrate holding positions.

【0018】(9)前記塗布器へ塗布液を供給する塗布
液供給機構のすべて、または、その一部を移動させなが
ら前記塗膜形成を行うことを特徴とする前記(7)ある
いは(8)に記載の塗布方法。
(9) The coating film is formed while moving all or a part of the coating liquid supply mechanism for supplying the coating liquid to the coating device (7) or (8). Coating method.

【0019】(10)前記吐出口の清掃を、前記塗布器
を移動させながら行うことを特徴とする前記(7)乃至
(9)のいずれかに記載の塗布方法。
(10) The coating method according to any one of (7) to (9), wherein the cleaning of the discharge port is performed while moving the coating device.

【0020】(11)前記(7)乃至(10)のいずれ
かに記載の塗布方法を用いて、カラーフィルターを製造
することを特徴とするカラーフィルター製造方法。
(11) A method for producing a color filter, comprising producing a color filter using the coating method according to any one of (7) to (10).

【0021】上記発明に係る塗布装置、および、塗布方
法によれば、1台のダイで間欠的に基板を処理する一般
的な構成のダイコータで、塗布工程とそれ以外の工程を
別々の位置で同時に並列処理できるので、従来よりもタ
クトタイムを大幅に短縮することができる。
According to the coating apparatus and the coating method of the present invention, a die coater having a general configuration for intermittently processing a substrate with one die performs a coating step and other steps at different positions. Since the parallel processing can be performed at the same time, the tact time can be significantly reduced as compared with the related art.

【0022】さらに、上記発明に係るカラーフィルター
の製造装置および製造方法によれば、この発明の塗布装
置、および、塗布方法を用いるので、装置・人的コスト
を増大させずに、高い生産性でカラーフィルターを製造
することができる。
Further, according to the color filter manufacturing apparatus and the manufacturing method according to the present invention, since the coating apparatus and the coating method of the present invention are used, high productivity can be achieved without increasing equipment and human costs. A color filter can be manufactured.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好ましい実施形
態を、図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1はこの発明の塗布装置であるダイコー
タの一例を示す概略斜視図であり、図2はダイコータの
ステージ部を塗布方向と垂直に破断したときの一例を示
す断面図であり、図3はダイコータのステージ部を塗布
幅方向と垂直に破断したときの一例を示す断面図であ
り、図4はこのダイコータに用いるダイの一例を示す断
面図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of a die coater which is a coating apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example when a stage portion of the die coater is cut perpendicularly to a coating direction. 3 is a cross-sectional view showing an example when the stage portion of the die coater is broken perpendicularly to the coating width direction, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a die used in the die coater.

【0025】図1に示すように、ダイコータ10は、ス
テージ20、ダイ昇降部40、塗布液供給部60、ダイ
80、移載装置200、および、これらの動作を制御す
るシーケンサ150から構成される。
As shown in FIG. 1, the die coater 10 includes a stage 20, a die elevating unit 40, a coating liquid supply unit 60, a die 80, a transfer device 200, and a sequencer 150 for controlling the operation of these units. .

【0026】図1および図2によると、ステージ20に
は、ベース21上に基板保持台22A、22Bが並列し
て設置されている。ベース21上には、さらに一対のリ
ニアスライダー23、リニアモータ24も設置されてい
る。リニアスライダー23には支柱ベース25を介し
て、門型の支柱26が取り付けられており、この支柱2
6の中央部にあるダイ昇降部40のダイ保持材50に、
ダイ80が取り付けられている。したがって、ダイ80
は支柱26とともにリニアモータ24によって矢印27
A、27B方向に自在に往復移動できる。
Referring to FIGS. 1 and 2, the stage 20 has substrate holders 22A and 22B mounted on a base 21 in parallel. On the base 21, a pair of linear sliders 23 and a linear motor 24 are further installed. A gate-shaped column 26 is attached to the linear slider 23 via a column base 25.
6, the die holding member 50 of the die elevating unit 40 at the center
Die 80 is attached. Therefore, die 80
Is the arrow 27 by the linear motor 24 with the support 26
It can reciprocate freely in directions A and 27B.

【0027】ダイ昇降部40にはダイ保持材50を昇降
させるリニアガイドとリニア駆動装置が内蔵されてお
り、これによってダイ80を自在に昇降させることがで
きる。
The die elevating section 40 has a built-in linear guide and a linear driving device for elevating and lowering the die holding member 50, so that the die 80 can be raised and lowered freely.

【0028】ダイ80の下方に位置する基板保持台22
A、22Bは、上面に設けられた図示しない吸着孔によ
って、基板300を相重ならない位置に吸着して保持す
ることができる。基板300を吸着する手段としては、
吸着孔の他、溝や、溝と吸着孔を組み合わせたものを用
いても良い。
Substrate holder 22 located below die 80
A and 22B can suck and hold the substrate 300 at a position where they do not overlap with each other by suction holes (not shown) provided on the upper surface. As means for sucking the substrate 300,
Instead of the suction hole, a groove or a combination of the groove and the suction hole may be used.

【0029】さらに、基板保持台22A、22Bには、
リフトピン28A、28Bと基板ガイドピン29A、2
9Bが内蔵されている。リフトピン28A、28Bは図
示しないACサーボモータに連結されており、所定位置
間を自在に往復して、基板300を基板保持台22A、
22Bの上面で昇降させることができる。
Further, the substrate holders 22A and 22B have
Lift pins 28A, 28B and board guide pins 29A, 2
9B is built in. The lift pins 28A and 28B are connected to an AC servomotor (not shown), and freely reciprocate between predetermined positions to move the substrate 300 to the substrate holding table 22A.
It can be raised and lowered on the upper surface of 22B.

【0030】一方、基板ガイドピン29A、29Bは基
板300の端辺に沿うように配置されているとともに、
エアーシリンダーに連結されて自在に昇降できるので、
基板300を基板保持台22A、22B上面の所定位置
に位置決めすることができる。なお、昇降機構にはエア
ーシリンダーの他、モータ駆動などいかなるものを用い
ても良い。基板300の位置決めは、基板ガイドピン2
9A、29Bを突出させた状態で、基板300を支持し
たリフトピン28A、28Bを下降させることで行われ
る。
On the other hand, the board guide pins 29A and 29B are arranged along the edge of the board 300, and
Since it can be freely moved up and down by being connected to the air cylinder,
The substrate 300 can be positioned at a predetermined position on the upper surfaces of the substrate holding tables 22A and 22B. In addition, other than an air cylinder, any mechanism such as a motor drive may be used for the lifting mechanism. The positioning of the substrate 300 is performed by using the substrate guide pins 2.
This is performed by lowering the lift pins 28A, 28B supporting the substrate 300 with the 9A, 29B protruding.

【0031】さらに、ステージ20の近傍には塗布液供
給部60が設けられている。塗布液供給部60は、塗布
液を供給するタンク61、塗布液を定容量送るシリンジ
ポンプ62の他、タンク61とシリンジポンプ62との
間を連結する吸引ホース63、シリンジポンプ62とダ
イ80との間を連結する供給ホース64により構成され
る。各ホース63、64の途中には、開閉弁65A、6
5Bが設けられて、シリンジポンプ62と各々の開閉弁
65A、65Bの動作によって、タンク61内の塗布液
がダイ80に供給される。
Further, a coating liquid supply unit 60 is provided near the stage 20. The coating liquid supply unit 60 includes a tank 61 for supplying the coating liquid, a syringe pump 62 for feeding a constant volume of the coating liquid, a suction hose 63 connecting the tank 61 and the syringe pump 62, a syringe pump 62 and a die 80. It is constituted by a supply hose 64 connecting between the two. On the way of each of the hoses 63, 64, an on-off valve 65A, 6
5B is provided, and the application liquid in the tank 61 is supplied to the die 80 by the operation of the syringe pump 62 and the respective on-off valves 65A and 65B.

【0032】ここで、図2を見ると、シリンジポンプ6
2および開閉弁65Bは、支柱26に連結する支柱ベー
ス25に取り付けられており、支柱26、ダイ80と同
時にベース21上を往復移動できる構造となっている。
これにより、ダイ80を移動させても供給ホース64は
同調して移動することになって振動が発生せず、振動起
因の送液量のむらが全く起こらないため、ダイ80から
吐出される塗布液の量にバラツキが生ぜず、高精度な膜
厚分布が得られる。
Here, referring to FIG. 2, the syringe pump 6
The 2 and the on-off valve 65B are attached to a support base 25 connected to the support 26, and have a structure capable of reciprocating on the base 21 simultaneously with the support 26 and the die 80.
As a result, even when the die 80 is moved, the supply hose 64 moves in synchronism, so that no vibration occurs, and there is no unevenness in the amount of liquid supply caused by the vibration. Does not vary, and a highly accurate film thickness distribution can be obtained.

【0033】なお、塗布液供給部60は全体を支柱ベー
ス25に取り付けても良い。また、塗布液の定容量供給
手段としては、シリンジポンプ以外に、ギアポンプ、ダ
イヤフラムポンプ、チューブポンプの他、エアー圧送を
用いても良い。
The entire coating solution supply section 60 may be attached to the support base 25. Further, as a means for supplying a constant volume of the coating liquid, air pumping may be used in addition to a syringe pump, in addition to a gear pump, a diaphragm pump, and a tube pump.

【0034】さて、ダイ80は図4に示す断面をなして
おり、リップA81、スペーサ83、リップB82を組
み合わせて、ボルト84で締め付けることにより、スペ
ーサ83の厚みに等しいスリット86を形成する。ま
た、リップA81には、リップB82と対向する面にマ
ニホールド87が形成されて、塗布液が流入する流入口
85と連結している。この流入口85に塗布液供給部6
0の供給ホース64が連結される。
Now, the die 80 has the cross section shown in FIG. 4, and the lip A81, the spacer 83, and the lip B82 are combined and tightened with the bolt 84 to form a slit 86 equal in thickness to the spacer 83. The lip A81 has a manifold 87 formed on a surface facing the lip B82, and is connected to an inlet 85 through which the coating liquid flows. The coating liquid supply unit 6 is
0 supply hose 64 is connected.

【0035】流入口85から流入する塗布液は、マニホ
ールド87でダイ80の長手方向に拡がった後、スリッ
ト86を通って吐出口90から吐出されることになり、
ダイ80を矢印27A、または27Bの方向に移動させ
ながら、吐出口90から塗布液を流出すれば、基板上に
塗布液を塗布できる。
The coating solution flowing from the inflow port 85 spreads in the longitudinal direction of the die 80 by the manifold 87, and then is discharged from the discharge port 90 through the slit 86.
If the coating liquid flows out of the discharge port 90 while moving the die 80 in the direction of the arrow 27A or 27B, the coating liquid can be coated on the substrate.

【0036】次に、図3を見ると、支柱26にはダイ8
0の吐出口90付近を清掃する吐出口清掃装置100も
取り付けられている。吐出口清掃装置100は、清掃ユ
ニット110、ユニット保持部材101、駆動部120
から構成される。
Next, referring to FIG.
A discharge port cleaning device 100 for cleaning the vicinity of the discharge port 90 of No. 0 is also attached. The discharge port cleaning device 100 includes a cleaning unit 110, a unit holding member 101, a driving unit 120.
Consists of

【0037】清掃ユニット110は、清掃具111と、
これを保持する清掃具保持部材112と、液受け114
から構成される。清掃具111はダイ80の吐出口90
付近に密着できる形状を有し、これを吐出口90に当接
させてダイ長手方向に移動させることにより、吐出口9
0の周辺に付着した塗布液を掻き取って除去する。掻き
取られた塗布液は液受け114に溜まり、図示しない吸
引装置によって、液受け114より排出される。また、
清掃具111の材質は吐出口90を傷つけない高分子樹
脂からなるものが好ましい。
The cleaning unit 110 includes a cleaning tool 111,
A cleaning tool holding member 112 for holding the liquid;
Consists of The cleaning tool 111 is provided at the discharge port 90 of the die 80.
It has a shape that can be in close contact with the vicinity, and is brought into contact with the discharge port 90 and moved in the longitudinal direction of the die.
The coating solution adhering to the periphery of the area 0 is scraped off. The scraped application liquid accumulates in the liquid receiver 114 and is discharged from the liquid receiver 114 by a suction device (not shown). Also,
The material of the cleaning tool 111 is preferably made of a polymer resin that does not damage the discharge port 90.

【0038】この清掃ユニット110の移動は、清掃ユ
ニット110にユニット保持部材101を介して連結さ
れた駆動部120によって行われる。
The movement of the cleaning unit 110 is performed by a driving unit 120 connected to the cleaning unit 110 via a unit holding member 101.

【0039】駆動部120は、支柱26に取り付けられ
ており、ダイ80の長手方向に延びるリニアモータ12
1、リニアガイド122から構成されている。清掃ユニ
ット110はリニアモータ121の制御によって、自在
に往復移動できる。なお、吐出口90の清掃は、ダイ8
0の長手方向に清掃具111を移動させるなら、どちら
側からも行うことが可能である。また、駆動部120が
支柱26に取り付けられているので、ダイ80の移動中
に、清掃ユニット110を動作させるといった並列作業
が可能となり、タクトタイムの短縮に寄与する。
The driving section 120 is attached to the support 26 and extends in the longitudinal direction of the die 80.
1. It is composed of a linear guide 122. The cleaning unit 110 can reciprocate freely under the control of the linear motor 121. The discharge port 90 is cleaned by the die 8.
If the cleaning tool 111 is moved in the longitudinal direction of 0, it can be performed from either side. In addition, since the driving unit 120 is attached to the support 26, parallel operations such as operating the cleaning unit 110 while the die 80 is moving can be performed, which contributes to a reduction in tact time.

【0040】再度、図1を参照すると、ダイコータ10
の基板保持台22A、22Bへの基板300の搬入、搬
出を行う移載装置200A、200Bが基板搬送方向上
流側および下流側に設置されている。移載装置200
A、200Bはそれぞれロボット201A、201Bと
基板300の裏面を支持するハンド202A、202B
から構成されており、任意のタイミングで、基板の搬出
入を行うことができる。ここで、ロボット201A、2
01Bは、多関節アーム型ロボットや円筒座標型ロボッ
トなどいかなるタイプのものを用いても良い。また、ハ
ンド202A、202Bは基板裏面を吸着保持してもよ
いが、基板搬送時における吸着動作時間を省略するため
に、吸着を用いずに単に裏面を支持するだけの方が好ま
しい。
Referring again to FIG. 1, the die coater 10
Transfer devices 200A and 200B for carrying the substrate 300 into and out of the substrate holding tables 22A and 22B are installed on the upstream side and the downstream side in the substrate transfer direction. Transfer device 200
Reference numerals A and 200B denote robots 201A and 201B and hands 202A and 202B supporting the back surface of the substrate 300, respectively.
The substrate can be carried in and out at an arbitrary timing. Here, the robot 201A, 2
01B may be of any type, such as an articulated arm robot or a cylindrical coordinate robot. In addition, the hands 202A and 202B may hold the back surface of the substrate by suction, but it is preferable to simply support the back surface without using suction in order to save the suction operation time during the transfer of the substrate.

【0041】以上の装置構成によって、片方の基板保持
台に保持された基板に塗布を行っている最中に、もう片
方の基板保持台に基板の搬入・搬出を同時に並列処理す
ることが可能となり、タクトタイムを大幅に短縮でき
る。
With the above-described apparatus configuration, it is possible to simultaneously carry in and carry out the substrate into and out of the other substrate holding table while coating the substrate held by the one substrate holding table. , Tact time can be greatly reduced.

【0042】次に、この発明の塗布方法の一例を図5を
用いて説明する。
Next, an example of the coating method of the present invention will be described with reference to FIG.

【0043】まず、ダイコータにおける各作動部の原点
復帰が行われると、ダイ80はスタンバイの位置(塗布
開始位置P1の上方)に移動する。このとき、タンク6
1〜ダイ80まで塗布液がすでに充満されており、ダイ
を上向きにして塗布液を吐出して、ダイ内部の残留エア
ーを排出する、いわゆるエアー抜き作業も既に終了して
いる。そして、基板保持台22Aの表面ではリフトピン
28Aが上昇して、ハンド202Aからの基板300の
載置のために待機している。ここから、以下に記載の
(1)〜(5)の手順にしたがって、塗布を行う。
First, when the origin return of each operating portion in the die coater is performed, the die 80 moves to the standby position (above the coating start position P1). At this time, tank 6
The coating liquid has already been filled from 1 to the die 80, and the so-called air bleeding operation of discharging the coating liquid with the die facing upward and discharging the residual air inside the die has already been completed. Then, the lift pins 28A rise on the surface of the substrate holding table 22A, and wait for the placement of the substrate 300 from the hand 202A. From here, coating is performed according to the following procedures (1) to (5).

【0044】(1)シーケンサ150からの信号によ
り、移載装置200Aを作動させて、上流側の移載装置
200Aのハンド202Aにより基板300を図示しな
い基板搬送方向の上流側装置から把持して、取り出し、
次に、リフトピン28A上に載置する。なお、図示しな
い上流側の工程にある時に、基板300の厚さは測定さ
れており、厚さデータもシーケンサ150に転送されて
いる。そして、転送されたデータをもとにシーケンサ1
50では、基板300とダイ80の間のクリアランスが
あらかじめ設定した値になる位置に、ダイ80を下降す
る。
(1) The transfer device 200A is operated by a signal from the sequencer 150, and the substrate 300 is gripped by the hand 202A of the upstream transfer device 200A from the upstream device in the substrate transport direction (not shown). take out,
Next, it is mounted on the lift pins 28A. It should be noted that the thickness of the substrate 300 has been measured and the thickness data has been transferred to the sequencer 150 at the time of the upstream step (not shown). Then, based on the transferred data, the sequencer 1
At 50, the die 80 is lowered to a position where the clearance between the substrate 300 and the die 80 has a preset value.

【0045】次に、リフトピン28Aを下降させて、基
板300を基板ガイドピン29Aによって位置決めしな
がら基板保持台22Aの上面に載置する。そして、真空
ポンプ等の吸引源を作動させて、吸着孔より基板300
を真空吸引して、基板保持台22A上に吸着保持した
後、基板ガイドピン29Aを下降して待避させる。(基
板保持台22Aでの基板載置) (2)次に、ダイ80を塗布開始位置P1まで水平移動
して停止させる。これと同時に、塗布液をシリンジポン
プ62からダイ80に送り込む。シリンジポンプの塗布
液送り込み動作開始と同時に、シーケンサ150内のタ
イマーがスタートし、定められた時間の後にシーケンサ
150からスタート信号が出され、ダイ80が設定され
た塗布速度で塗布終了位置P2へ水平移動を開始し、塗
布が開始される。
Next, the lift pins 28A are lowered, and the substrate 300 is placed on the upper surface of the substrate holder 22A while being positioned by the substrate guide pins 29A. Then, a suction source such as a vacuum pump is operated, and the substrate 300
Is sucked and held on the substrate holding table 22A, and then the substrate guide pins 29A are lowered and retracted. (Substrate Placement on Substrate Holder 22A) (2) Next, the die 80 is horizontally moved to the application start position P1 and stopped. At the same time, the application liquid is sent from the syringe pump 62 to the die 80. Simultaneously with the start of the application liquid feeding operation of the syringe pump, a timer in the sequencer 150 starts, and after a predetermined time, a start signal is issued from the sequencer 150, and the die 80 moves horizontally to the application end position P2 at the set application speed. The movement is started, and the application is started.

【0046】塗布終了位置P2付近のあらかじめ設定さ
れた位置までダイ80が到達すると、シリンジポンプ6
2を停止して、塗布液の吐出を終えた後、ダイ昇降部4
0を作動させてダイ80を高速で上方へ移動させる。
When the die 80 reaches a preset position near the coating end position P2, the syringe pump 6
2 is stopped, and after the discharge of the application liquid is finished, the die elevating unit 4
0 is operated to move the die 80 upward at a high speed.

【0047】一方、この塗布動作の間に、基板保持台2
2Bに、移載装置200Aによって別の基板を載置す
る。(基板保持台22Aでの塗布と、基板保持台22B
での基板載置) (3)基板保持台22Aでの塗布終了後、ダイ80をリ
ニアモータ24で増速して、基板保持台22Bの塗布開
始位置P3まで水平移動させる。
On the other hand, during this coating operation, the substrate holder 2
Another substrate is placed on 2B by the transfer device 200A. (Application on the substrate holder 22A and the substrate holder 22B
(3) After the coating on the substrate holder 22A is completed, the speed of the die 80 is increased by the linear motor 24, and the die 80 is horizontally moved to the coating start position P3 of the substrate holder 22B.

【0048】その間に、基板保持台22Aでは、塗布さ
れた基板300の取出しを行う。すなわち、基板300
の吸着保持を解除した後、リフトピン28によって、基
板300を持ち上げ、これを下流側の移載装置200B
のハンド202Bに受け渡して、図示しない次の工程に
搬出する。
In the meantime, on the substrate holding table 22A, the coated substrate 300 is taken out. That is, the substrate 300
Is lifted, the substrate 300 is lifted by the lift pins 28, and the substrate 300 is moved to the downstream transfer device 200B.
, And carried out to the next step (not shown).

【0049】また、ダイ80の水平移動の間に、シリン
ジポンプ62を作動させてタンク61内の塗布液を、シ
リンジポンプ62側に充填するとともに、充填完了後に
吐出口90にわずかに付着する程度の少量の塗布液を吐
出する。そして、清掃具111を吐出口90に当接させ
ながらダイ80の長手方向に移動させて、吐出口90を
清掃する。(基板保持台22Aでの基板取出しと、ダイ
80の水平移動および清掃) (4)次に、すでに、新たな基板300が載置されてい
る基板保持台22B上で塗布を行う。塗布は、塗布開始
位置P3〜塗布終了位置P4に向かってダイ80を水平
移動させながら、シリンジポンプに塗布開始位置P1〜
塗布終了位置P2まで塗布した時と全く同じ動作を行わ
せて実行する。
During the horizontal movement of the die 80, the syringe pump 62 is operated to charge the coating liquid in the tank 61 to the syringe pump 62 side, and the liquid is slightly adhered to the discharge port 90 after the filling is completed. A small amount of the coating liquid is discharged. Then, the cleaning tool 111 is moved in the longitudinal direction of the die 80 while being in contact with the discharge port 90, and the discharge port 90 is cleaned. (Take out the substrate at the substrate holder 22A, move and clean the die 80 horizontally) (4) Next, the coating is performed on the substrate holder 22B on which the new substrate 300 is already placed. The application is performed by moving the die 80 horizontally toward the application start position P3 to the application end position P4 while applying the application start position P1 to the syringe pump.
The same operation as when the coating is performed up to the coating end position P2 is performed and executed.

【0050】また、基板保持台22Bで塗布する間に、
基板保持台22Aには上流側の移載装置200Aによっ
て、次に塗布する基板300が載置される。(基板保持
台22Bでの塗布と、基板保持台22Aでの基板載置) (5)塗布終了位置P4で塗布が完了すれば、ダイ80
を塗布開始位置P1に水平移動させ、それと同時に基板
保持台22Bでは、下流側の移載装置200Bを用いて
基板の取出しを行う。また、上記(3)に記載のシリン
ジポンプの吸引動作とダイ80の吐出口90の清掃を行
う。但し、このときの清掃具111の移動方向は、上記
(3)の場合と逆となる。(基板保持台22Bでの基板
取出しと、ダイ80の水平移動および清掃) 上記(5)の作業が完了すれば上記(2)の動作に戻
り、以降(2)〜(5)の一連の動作を繰り返すことに
より、順次、基板を塗布していく。
Further, during the application on the substrate holding table 22B,
The substrate 300 to be applied next is placed on the substrate holding table 22A by the transfer device 200A on the upstream side. (Application on the substrate holder 22B and placement of the substrate on the substrate holder 22A) (5) If the application is completed at the application end position P4, the die 80
Is horizontally moved to the application start position P1, and at the same time, the substrate is taken out of the substrate holding table 22B by using the transfer device 200B on the downstream side. Further, the suction operation of the syringe pump and the cleaning of the discharge port 90 of the die 80 described in (3) above are performed. However, the moving direction of the cleaning tool 111 at this time is opposite to the case of the above (3). (Removal of Substrate by Substrate Holder 22B and Horizontal Movement and Cleaning of Die 80) When the operation (5) is completed, the operation returns to the operation (2), and a series of operations (2) to (5) thereafter. Is repeated to apply the substrate sequentially.

【0051】図6は上記の塗布方法にしたがって、基板
を処理した時の一連の動作をタイムチャートにして表し
たものである。
FIG. 6 is a time chart showing a series of operations when a substrate is processed according to the above-described coating method.

【0052】ところで、図7は特開平8−182953
号公報等に示される従来のダイコータの斜視図であり、
図8は図7のダイコータによって実施され一連の動作を
タイムチャートにして表したものである。図7と図8よ
り、従来のダイコータ400では、まず基板保持台40
2上に移載装置410が基板を載置している間にダイ4
03の吐出口の清掃を行う。次に、基板保持台402を
移動させながら、静止しているダイ403より塗布液を
吐出させて、基板に塗布を行う。塗布後は基板保持台4
02上の基板を移載装置411に受け渡す。基板を受け
渡した後、基板保持台は最初の位置に戻り、以降同じ動
作を繰り返して、基板を1枚ずつ処理していく。
FIG. 7 is a schematic diagram of Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-182295.
It is a perspective view of a conventional die coater shown in Japanese Patent Publication No.
FIG. 8 is a time chart showing a series of operations performed by the die coater of FIG. 7 and 8, in the conventional die coater 400, first, the substrate holding table 40
While the transfer device 410 is mounting the substrate on the die 2, the die 4
Cleaning of the discharge port 03 is performed. Next, the coating liquid is discharged from the stationary die 403 while moving the substrate holding table 402 to perform coating on the substrate. After coating, substrate holder 4
02 is transferred to the transfer device 411. After the transfer of the substrates, the substrate holder returns to the initial position, and thereafter, the same operation is repeated to process the substrates one by one.

【0053】図6および図8に示す一連の動作を比較す
ると、本発明の塗布方法(図6)では、一定の時間内に
2枚の基板を塗布できているのに対して、従来の塗布方
法(図8)では、1枚の基板しか塗布できていない。し
たがって、本発明の塗布方法による基板1枚の処理に要
する時間(タクトタイム)は、各々の動作時間は同じで
あっても、従来の塗布方法の1/2にできる。なお、両
者ともにダイコータおよびダイは1台のみで構成されて
いるため、装置コスト、および、塗布運転前のセットア
ップやメンテナンスにかかる人的コストは同じである。
A comparison of the series of operations shown in FIGS. 6 and 8 reveals that the coating method of the present invention (FIG. 6) allows two substrates to be coated within a fixed time, whereas the conventional coating method In the method (FIG. 8), only one substrate was applied. Therefore, the time required for processing one substrate by the coating method of the present invention (tact time) can be reduced to half that of the conventional coating method, even if the respective operation times are the same. In addition, since both are comprised of only one die coater and one die, the apparatus cost and the human cost for setup and maintenance before the coating operation are the same.

【0054】以上の実施形態では基板保持台が2台の場
合について述べたが、3台以上有しても良い。
In the above embodiment, the case where the number of the substrate holders is two has been described, but three or more substrate holders may be provided.

【0055】また、本発明の別の実施態様について説明
する。図9は2つの吐出口を有するダイ180を分解し
た状態を示す側面断面図であり、図10は基板上に塗布
液を塗布するときの側面断面図である。
Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a side sectional view showing a state in which a die 180 having two discharge ports is disassembled, and FIG. 10 is a side sectional view when a coating liquid is applied onto a substrate.

【0056】図9を見ると、ダイ180はリップA18
1、リップB182、の間にスペーサ183A、183
B、リップC193を組み合わせて、ボルト184で締
め付けて、スペーサ183A、183Bに等しいスリッ
ト190A、190Bを形成する。スリット190A、
190Bの先端には2つの吐出口194A、194Bが
形成される。また、リップC193の先端には先端部が
シャープエッジとなる切り欠き部189が設けられてい
る。
Referring to FIG. 9, the die 180 has a lip A18.
1, spacers 183A, 183 between lip B182
B and lip C193 are combined and tightened with bolts 184 to form slits 190A, 190B equal to spacers 183A, 183B. Slit 190A,
Two discharge ports 194A and 194B are formed at the tip of 190B. A notch 189 having a sharp edge at the tip of the lip C193 is provided.

【0057】また、リップA181とリップB182に
は、リップC193と対向する面に、それぞれマニホー
ルド191A、191Bが形成されている。このマニホ
ールド191A、191Bは塗布液が流入する流入口1
85A、185Bと連結されている。さらに、各流入口
185A、185Bはダイ連結ホース187A、187
Bを介して、シリンジポンプ62に取り付けられている
切替バルブ188に接続されている。この切替バルブ1
88を制御することにより、シリンジポンプ62から送
られる塗布液を選択的に流入口185Aと185Bに送
ることができる。このダイ180を用いた塗布は、矢印
27Aの方向に移動させる時は流入口185Aから塗布
液を流入し、矢印27Bの方向に移動させる時は流入口
185Bから塗布液を流入して行う。
The lip A 181 and the lip B 182 have respective manifolds 191 A and 191 B on the surface facing the lip C 193. The manifolds 191A and 191B are provided at the inlet 1 through which the coating solution flows.
85A and 185B. Further, each inlet 185A, 185B is connected to a die connection hose 187A, 187B.
Through B, it is connected to a switching valve 188 attached to the syringe pump 62. This switching valve 1
By controlling 88, the coating liquid sent from the syringe pump 62 can be selectively sent to the inlets 185A and 185B. The coating using the die 180 is performed by flowing the coating liquid from the inlet 185A when moving in the direction of arrow 27A, and by flowing the coating liquid from the inlet 185B when moving in the direction of arrow 27B.

【0058】本実施態様は、図1のダイコータ10でダ
イ80の吐出口先端部形状が非対称形でないと塗布でき
ない場合に有効である。特に、ダイ180の先端部と基
板300の間に形成される液溜まり192を高速でも安
定させるには、液溜まりの下流側となるリップの先端を
シャープエッジ形状にすると良いことが知られており、
図10に示す実施例ではどちらの塗布方向27A、27
Bにおいても、液溜まり192の下流側のリップ形状は
シャープエッジとなるように配されているので、塗布速
度の増速が可能となり、さらなるタクトタイムの短縮に
有効である。
This embodiment is effective when the die coater 10 shown in FIG. 1 cannot be applied unless the tip of the discharge port of the die 80 is asymmetric. In particular, in order to stabilize the liquid pool 192 formed between the tip of the die 180 and the substrate 300 even at high speed, it is known that the tip of the lip on the downstream side of the liquid pool should have a sharp edge shape. ,
In the embodiment shown in FIG. 10, either application direction 27A, 27
Also in B, since the lip shape on the downstream side of the liquid pool 192 is arranged so as to have a sharp edge, the coating speed can be increased, which is effective for further shortening the tact time.

【0059】なお、本実施態様では、ダイ180を図示
しない1台の定容量送液ポンプに連結した場合について
述べたが、切替バルブ188を無くして、それぞれのダ
イ連結ホース187A、187Bを別々のシリンジポン
プ等の送液ポンプに接続しても良い。
In this embodiment, the case where the die 180 is connected to one constant volume liquid feed pump (not shown) has been described. However, the switching valve 188 is not provided, and the respective die connection hoses 187A and 187B are separately provided. It may be connected to a liquid sending pump such as a syringe pump.

【0060】また、リップC193の先端形状は図9に
示す切欠き部189に限らず、シャープエッジ形状であ
ればいかなる形態でも良い。
The tip shape of the lip C193 is not limited to the cutout portion 189 shown in FIG. 9, but may be any shape as long as it has a sharp edge shape.

【0061】なお、ダイ180を用いた時の塗布方法
は、塗布方向にしたがって、シリンジポンプ62からの
送液先として、ダイ180の流入口185A、185B
を選択する。他は上記した塗布方法と全く同じである。
The coating method when using the die 180 is as follows. According to the coating direction, the inflow ports 185A, 185B of the die 180 are used as the liquid sending destination from the syringe pump 62.
Select Others are exactly the same as the above-mentioned coating method.

【0062】さらにまた、本発明の別の実施態様につい
て説明する。図11は本発明になる別の清掃ユニット1
30を塗布方向から見たときの概略正面図である。本実
施態様では清掃ユニット130は、対向するように配さ
れた清掃具131A、131Bと、これらを保持する清
掃具保持部材132A、132Bと、これらを吐出口9
0と離接する方向に昇降するエアーシリンダー133
A、133Bと液受け134からなる。この清掃ユニッ
ト130は図2に示す清掃ユニット110のかわりに用
いる。
Further, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 11 shows another cleaning unit 1 according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic front view when 30 is viewed from a coating direction. In the present embodiment, the cleaning unit 130 includes cleaning tools 131A and 131B arranged so as to face each other, cleaning tool holding members 132A and 132B for holding these tools, and discharge ports 9 for these.
Air cylinder 133 that moves up and down in the direction away from and close to 0
A, 133B and a liquid receiver 134. This cleaning unit 130 is used instead of the cleaning unit 110 shown in FIG.

【0063】ここで、清掃具131Aと131Bは吐出
口90と線接触する形状を有しており、吐出口90に接
触させながら、135Aまたは135Bの方向に清掃ユ
ニット130を移動させることで吐出口90の周辺に付
着した塗布液を掻き取って除去する。135Aの方向に
移動するときは清掃具131Aを、135Bの方向に移
動するときは清掃具131Bを吐出口90に当接させ
る。このように、それぞれの移動方向で清掃具を最適な
姿勢で吐出口90に線接触させることにより、1回の動
作で確実に塗布液を除去することができる。本実施態様
は図1のダイコータ10において、ダイ80の吐出口9
0に付着した塗布液を除去する時に、清掃具の角度等に
方向性があって、1個の清掃具では1方向にしか掻き取
れず、戻りの動作のためにタクトタイムが増大する場合
に有効である。
Here, the cleaning tools 131A and 131B have a shape that is in line contact with the discharge port 90, and the cleaning unit 130 is moved in the direction of 135A or 135B while making contact with the discharge port 90 so that the discharge port is formed. The coating liquid adhering around 90 is scraped off. When moving in the direction of 135A, the cleaning tool 131A is brought into contact with the discharge port 90 when moving in the direction of 135B. In this way, by bringing the cleaning tool into linear contact with the discharge port 90 in the optimum posture in each moving direction, the coating liquid can be reliably removed by one operation. This embodiment is different from the die coater 10 shown in FIG.
When removing the coating liquid adhering to 0, if the angle of the cleaning tool has directionality, one cleaning tool can only scrape in one direction, and the tact time increases due to the return operation. It is valid.

【0064】本発明が適用できる塗布液としては、粘度
が1cps〜100000cps、望ましくは10cp
s〜50000cpsであり、ニュートニアンが塗布性
から好ましいが、チキソ性を有する塗布液にも適用でき
る。本発明は特に、カラーフィルターの製造工程で使用
するブラックマトリックス、R、G、Bの各画素用塗布
液、および、レジスト液、オーバーコート剤を、枚葉塗
布するスリットダイに適している。
The coating liquid to which the present invention can be applied has a viscosity of 1 cps to 100,000 cps, preferably 10 cp.
s to 50,000 cps, and Newtonian is preferable from the viewpoint of applicability, but it can also be applied to a coating solution having thixotropic properties. The present invention is particularly suitable for a slit die for applying a black matrix, a coating solution for each of R, G, and B pixels, a resist solution, and an overcoat agent used in a color filter manufacturing process in a sheet-by-sheet manner.

【0065】また、本発明が適用できる基板サイズは対
角の長さが、100mm〜2000mmであり、より好
ましくは500mm〜1600mmである。基板材質は
ガラスの他に、アルミなどの金属板、セラミック板、シ
リコンウェハー等でもよい。
The substrate size to which the present invention can be applied has a diagonal length of 100 mm to 2000 mm, more preferably 500 mm to 1600 mm. The substrate material may be a metal plate such as aluminum, a ceramic plate, a silicon wafer, or the like, in addition to glass.

【0066】さらに使用する塗布条件としては、クリア
ランスが40〜500μm、より好ましくは80〜30
0μm、塗布速度が0.1m/分〜10m/分、より好
ましくは0.5m/分〜6m/分、ダイのスリット幅は
50〜1000μm、より好ましくは100〜600μ
m、塗布厚さが5〜400μm、より好ましくは20〜
250μmである。
The coating conditions to be further used include a clearance of 40 to 500 μm, more preferably 80 to 30 μm.
0 μm, coating speed 0.1 m / min to 10 m / min, more preferably 0.5 m / min to 6 m / min, die slit width 50 to 1000 μm, more preferably 100 to 600 μm
m, coating thickness is 5 to 400 μm, more preferably 20 to
250 μm.

【0067】また、本発明は、ダイコータ以外に、ダイ
をノズルやスプレーノズルにしたノズル塗布やスプレー
塗布にも適用できる。
In addition to the die coater, the present invention can be applied to nozzle coating or spray coating using a die as a nozzle or spray nozzle.

【0068】[0068]

【実施例】実施例1 360×465mmで厚さ0.7mmの無アルカリガラス基
板上に、基板の幅方向にピッチが254μm、基板の長
手方向にピッチが85μm、線幅が20μm、RGB画
素数が4800(基板長手方向)×1200(基板幅方
向)、対角の長さが20インチ(基板幅方向に305m
m、基板長手方向に406mm)となる格子形状で、厚さ
が1μmとなるブラックマトリックス膜を作成した。ブ
ラックマトリックス膜は、チタン酸窒化物を遮光材、ポ
リアミック酸をバインダーとして用いたものであった。
EXAMPLE 1 On a 360 × 465 mm non-alkali glass substrate having a thickness of 0.7 mm, a pitch of 254 μm in the width direction of the substrate, a pitch of 85 μm in a longitudinal direction of the substrate, a line width of 20 μm, and the number of RGB pixels Is 4800 (substrate longitudinal direction) x 1200 (substrate width direction), diagonal length is 20 inches (305 m in substrate width direction)
m, 406 mm in the longitudinal direction of the substrate), and a black matrix film having a thickness of 1 μm was formed. The black matrix film used titanium oxynitride as a light-shielding material and polyamic acid as a binder.

【0069】続いてウェット洗浄によって基板上のパー
ティクルを除去後、ポリアミック酸をバインダー、γ−
ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドンと3−メ
チル−3−メトキシブタノールの混合物を溶媒、ピグメ
ントレッド177を顔料にして固形分濃度10%で混合
し、さらに粘度を50cpsに調整したカラーフィルター
用R色の塗布液を、図1のダイコータ10で、クリアラ
ンス100μm、塗布速度3m/分の塗布条件で、20
μm全面塗布した。
Subsequently, after removing particles on the substrate by wet cleaning, a polyamic acid was used as a binder and γ-
A mixture of butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone and 3-methyl-3-methoxybutanol was mixed at a solid concentration of 10% using a solvent, Pigment Red 177 as a pigment, and the viscosity was adjusted to 50 cps. The coating solution of the color was applied to the die coater 10 in FIG. 1 under the coating conditions of 100 μm in clearance and 3 m / min in coating speed.
μm was applied over the entire surface.

【0070】ここで、ダイは1個の吐出口を有するもの
で、吐出口の長さが360mm、スリット幅が100μ
mであり、吐出口清掃装置には先端にシリコンゴム製の
清掃具を1個備えたものを用いた。
Here, the die has one discharge port, the discharge port length is 360 mm, and the slit width is 100 μm.
m, and a discharge port cleaning device provided with one silicon rubber cleaning tool at the tip was used.

【0071】続いて、真空乾燥を80℃で20秒実施し
た後、上記と全く同じダイと塗布速度、クリアランスを
用いて、粘度8%のレジスト液を10μm塗布後、90
℃のホットプレートで10分乾燥後、露光・現像・剥離
を行って、R画素部にのみ色塗膜を残した。
Subsequently, after vacuum drying was carried out at 80 ° C. for 20 seconds, a resist solution having a viscosity of 8% was applied to a thickness of 10 μm using the same die, application speed, and clearance as described above, and then 90
After drying on a hot plate at 10 ° C. for 10 minutes, exposure, development, and peeling were performed to leave a color coating film only on the R pixel portion.

【0072】同様の色塗膜の形成をG、B色について
も、上記と全く同じダイと塗布条件を用いてそれぞれの
色塗膜を形成した。ここでG色の塗布液には、R色の塗
布液で顔料をピグメントグリーン36にして固形分濃度
10%で粘度を40cpsに調整したもの、B色の塗布液
には、R色の塗布液で顔料をピグメントブルー15にし
て固形分濃度10%で粘度を50cpsに調整したもの、
を用いた。
The same color coating film was formed for G and B colors using the same die and coating conditions as above. Here, for the G color coating solution, an R color coating solution was used to make pigment Green 36 and the viscosity was adjusted to 40 cps at a solid concentration of 10%, and for the B color coating solution, the R color coating solution was used. The pigment was adjusted to Pigment Blue 15 with a solid content of 10% and the viscosity adjusted to 50 cps.
Was used.

【0073】R、G、Bの画素膜形成後に260度のホ
ットプレートで30分加熱して、キュアを行った。
After forming the R, G, and B pixel films, the substrate was heated on a hot plate at 260 ° C. for 30 minutes to cure.

【0074】そして最後にITOをスパッタリングで付
着させた。
Finally, ITO was deposited by sputtering.

【0075】以上の工程によりカラーフィルターを連続
して100枚作成した。
By the above steps, 100 color filters were continuously formed.

【0076】ここで、R、G、B、レジストを塗布する
時のタクトタイムは平均15秒であった。また、得られ
たカラーフィルターは、色度も基板全面にわたって均一
で、品質的に申し分ないものであった。
Here, the tact time for applying R, G, B and resist was 15 seconds on average. Further, the obtained color filter was uniform in chromaticity over the entire surface of the substrate, and was excellent in quality.

【0077】比較例1 本比較例では、R、G、B、レジストを塗布するダイコ
ータとして、図7のダイコータを用いる以外は上記実施
例1と全く同じ条件でカラーフィルターを製造した。こ
こで、R、G、B、レジストを塗布する時のタクトタイ
ムは平均30秒となった。
Comparative Example 1 In this comparative example, a color filter was manufactured under exactly the same conditions as in Example 1 except that the die coater of FIG. 7 was used as a die coater for applying R, G, B, and resist. Here, the tact time for applying R, G, B and resist was 30 seconds on average.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上説明したように本発明の塗布装置お
よび塗布方法では、複数の基板保持位置の一方で塗布を
行う間に、他の基板保持位置で基板の載置または排出を
行うので、1台のダイコータで複数の基板をもっとも効
果的に並列処理することが可能になり、タクトタイムを
大幅に短縮することができる。
As described above, in the coating apparatus and the coating method of the present invention, while coating is performed at one of a plurality of substrate holding positions, the substrate is placed or discharged at another substrate holding position. A plurality of substrates can be processed most effectively in parallel by one die coater, and the tact time can be greatly reduced.

【0079】また、方向性を考慮して、ダイの移動の間
にダイ吐出口を清掃できるようにしたり、複数の吐出口
を有するダイで塗布できるようにしたので、いかなる塗
布液にも対応でき、塗布の高速化が可能となる。
Further, in consideration of the directionality, the die discharge port can be cleaned during the movement of the die, or the die can be coated with a die having a plurality of discharge ports. In addition, the application speed can be increased.

【0080】さらにまた、本発明のカラーフィルター製
造装置および製造方法によれば、1台のダイコータおよ
びダイを用いて、短いタクトタイムで基板を処理できる
ので、装置・人的コストを増大させずに、高い生産性で
カラーフィルターを製造できる。
Further, according to the color filter manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present invention, the substrate can be processed in a short tact time by using one die coater and a die, so that the apparatus and the manpower are not increased. Color filters can be manufactured with high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明のダイコータを示す概略斜視図であ
る。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a die coater of the present invention.

【図2】この発明のダイコータを塗布方向に垂直に破断
したときのステージ部断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a stage portion when the die coater of the present invention is broken perpendicularly to a coating direction.

【図3】この発明のダイコータを塗布幅方向と垂直に破
断したときのステージ部断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a stage portion when the die coater of the present invention is broken perpendicularly to a coating width direction.

【図4】この発明のダイを用いて塗布するときの断面図
である。
FIG. 4 is a cross-sectional view when applying using the die of the present invention.

【図5】この発明の塗布方法の一例を示す概略図であ
る。
FIG. 5 is a schematic view showing one example of a coating method of the present invention.

【図6】この発明の塗布方法によるタイムチャートであ
る。
FIG. 6 is a time chart according to the coating method of the present invention.

【図7】従来の発明の塗布装置を示す概略斜視図であ
る。
FIG. 7 is a schematic perspective view showing a coating apparatus of a conventional invention.

【図8】従来の発明の塗布方法によるタイムチャートで
ある。
FIG. 8 is a time chart according to a coating method of a conventional invention.

【図9】この発明の別のダイの分解した状態えお示す側
面断面図である。
FIG. 9 is a side sectional view showing an exploded state of another die of the present invention.

【図10】この発明の別のダイを用いて塗布するときの
側面断面図である。
FIG. 10 is a side cross-sectional view when applying using another die of the present invention.

【図11】この発明の別の清掃ユニットを示す概略正面
図である。
FIG. 11 is a schematic front view showing another cleaning unit of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:ダイコータ 20:ステージ 21:ベース 22A、22B:基板保持台 23:リニアスライダー 24:リニアモータ 25:支柱ベース 26:支柱 27A、27B:塗布方向 28A、28B:リフトピン 29A、29B:基板ガイドピン 40:ダイ昇降部 50:ダイ保持材 60:塗布液供給部 61:タンク 62:シリンジポンプ 63:吸引ホース 64:供給ホース 65A、65B:開閉弁 80:ダイ 81:リップA 82:リップB 83:スペーサ 84:ボルト 85:流入口 86:スリット 87:マニホールド 90:吐出口 100:吐出口清掃装置 101:ユニット保持部材 110:清掃ユニット 111:清掃具 112:清掃具保持部材 114:液受け 120:駆動部 121:リニアモータ 122:リニアガイド 130:清掃ユニット 131A、131B:清掃具 132A、132B:清掃具保持部材 133A、133B:エアーシリンダー 134:液受け 150:シーケンサ 135A、135B:移動方向 180:ダイ 181:リップA 182:リップB 183A、183B:スペーサ 184:ボルト 185A、185B:流入口 187A、187B:ダイ連結ホース 188:切替バルブ 189:切り欠き部 190A、191B:スリット 191A、191B:マニホールド 192:液溜まり 193:リップC 194A、194B:吐出口 200、200A、200B:移載装置 201A、201B:ロボット 202A、202B:ハンド 300:基板 400:ダイコータ 402:基板保持台 403:ダイ 410、411:移載装置 P1、P3:塗布開始位置 P2、P4:塗布終了位置 10: Die coater 20: Stage 21: Base 22A, 22B: Substrate holder 23: Linear slider 24: Linear motor 25: Post base 26: Post 27A, 27B: Coating direction 28A, 28B: Lift pins 29A, 29B: Substrate guide pins 40 : Die lifting / lowering part 50: Die holding material 60: Application liquid supply part 61: Tank 62: Syringe pump 63: Suction hose 64: Supply hose 65A, 65B: Open / close valve 80: Die 81: Lip A 82: Lip B 83: Spacer 84: Bolt 85: Inlet 86: Slit 87: Manifold 90: Discharge port 100: Discharge port cleaning device 101: Unit holding member 110: Cleaning unit 111: Cleaning tool 112: Cleaning tool holding member 114: Liquid receiver 120: Drive unit 121: Linear motor 122: Linear guide 1 30: Cleaning unit 131A, 131B: Cleaning tool 132A, 132B: Cleaning tool holding member 133A, 133B: Air cylinder 134: Liquid receiver 150: Sequencer 135A, 135B: Moving direction 180: Die 181: Lip A 182: Lip B 183A, 183B: Spacer 184: Bolt 185A, 185B: Inlet 187A, 187B: Die connecting hose 188: Switching valve 189: Notch 190A, 191B: Slit 191A, 191B: Manifold 192: Pool 193: Lip C 194A, 194B: Discharge port 200, 200A, 200B: Transfer device 201A, 201B: Robot 202A, 202B: Hand 300: Substrate 400: Die coater 402: Substrate holder 403: Die 410, 411: Transfer device P1, P3: coating start position P2, P4: coating end position

フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA43 BA45 BB02 BB42 4D075 AC02 AC73 AC78 AC86 AC88 CA47 DA06 DB07 DB13 DB14 DC24 EA45 EB39 4F041 AA05 AB01 BA05 BA13 BA22 BA60 4F042 AA06 BA08 DF15 DF28 DF29 ED03 Continued on the front page F term (reference) 2H048 BA43 BA45 BB02 BB42 4D075 AC02 AC73 AC78 AC86 AC88 CA47 DA06 DB07 DB13 DB14 DC24 EA45 EB39 4F041 AA05 AB01 BA05 BA13 BA22 BA60 4F042 AA06 BA08 DF15 DF28 DF29 ED03

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の基板を相重ならないように保持する
基板保持位置を有するテーブルと、前記基板表面に塗布
液を吐出する吐出口を有する塗布器と、前記吐出口を清
掃する吐出口清掃装置と、前記塗布器に塗布液を供給す
る塗布液供給機構と、前記塗布器を基板保持位置に保持
した基板の塗布位置に移動させる移動手段と、前記テー
ブル上に基板を載置する基板載置手段と、前記テーブル
上から基板を排出する基板排出手段と、任意の基板保持
位置に載置された基板に前記塗布器から塗布液を吐出す
る間に他の基板保持位置へ基板を載置および/または排
出させる制御手段とが、設けられたことを特徴とする塗
布装置。
1. A table having a substrate holding position for holding a plurality of substrates so as not to overlap each other, an applicator having a discharge port for discharging a coating liquid onto the surface of the substrate, and a discharge port cleaning for cleaning the discharge port. An apparatus, a coating liquid supply mechanism for supplying a coating liquid to the coating device, a moving unit for moving the coating device to a coating position of a substrate held at a substrate holding position, and a substrate mount for mounting the substrate on the table. Mounting means, a substrate discharging means for discharging the substrate from the table, and mounting the substrate to another substrate holding position while discharging the coating liquid from the applicator onto the substrate mounted at an arbitrary substrate holding position. And / or a control unit for discharging.
【請求項2】前記基板保持位置を2箇所有することを特
徴とする請求項1に記載の塗布装置。
2. The coating apparatus according to claim 1, wherein said substrate holding position has two positions.
【請求項3】前記塗布液供給機構のすべて、または、そ
の一部と、前記吐出口清掃装置とが、前記移動手段に配
されたことを特徴とする請求項1あるいは2に記載の塗
布装置。
3. The coating apparatus according to claim 1, wherein all or a part of the coating liquid supply mechanism and the discharge port cleaning device are arranged in the moving unit. .
【請求項4】前記吐出口清掃装置に取り付けられて、前
記吐出口に付着した塗布液を除去する清掃ヘッドが2個
配されたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに
記載の塗布装置。
4. The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising two cleaning heads attached to said discharge port cleaning device for removing a coating liquid adhering to said discharge ports. Coating device.
【請求項5】前記塗布器が、前記吐出口を複数有するこ
とを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の塗布
装置。
5. The coating device according to claim 1, wherein said coating device has a plurality of said discharge ports.
【請求項6】請求項1乃至5のいずれかに記載の塗布装
置を用いて、カラーフィルターを製造することを特徴と
するカラーフィルター製造装置。
6. A color filter manufacturing apparatus for manufacturing a color filter using the coating apparatus according to claim 1.
【請求項7】塗布液を吐出する吐出口を有する塗布器を
テーブル上に保持された基板の塗布位置に移動させなが
ら、該塗布器から塗布液を吐出することにより、基板表
面に塗膜を形成する塗布方法において、前記テーブルは
複数の基板を相重ならずに保持できるものであり、該テ
ーブル上の任意の基板保持位置に載置された基板に塗膜
を形成する間に、他の基板保持位置では基板の排出およ
び/または基板の載置を行うことを特徴とする塗布方
法。
7. A coating film is discharged from the coating device while moving the coating device having a discharge port for discharging the coating solution to a coating position of the substrate held on a table, thereby forming a coating film on the substrate surface. In the coating method for forming, the table is capable of holding a plurality of substrates without overlapping, and while forming a coating film on a substrate placed at an arbitrary substrate holding position on the table, another table is formed. A coating method characterized by discharging a substrate and / or mounting a substrate at a substrate holding position.
【請求項8】前記塗膜形成のときの前記塗布器の移動方
向は、隣り合う基板保持位置で相反することを特徴とす
る請求項7に記載の塗布方法。
8. The coating method according to claim 7, wherein the moving directions of the coating device at the time of forming the coating film are opposite at adjacent substrate holding positions.
【請求項9】前記塗布器へ塗布液を供給する塗布液供給
機構のすべて、または、その一部を移動させながら前記
塗膜形成を行うことを特徴とする請求項7あるいは8に
記載の塗布方法。
9. The coating according to claim 7, wherein the coating is formed while moving all or a part of the coating liquid supply mechanism for supplying the coating liquid to the coating device. Method.
【請求項10】前記吐出口の清掃を、前記塗布器を移動
させながら行うことを特徴とする請求項7乃至9のいず
れかに記載の塗布方法。
10. The coating method according to claim 7, wherein the cleaning of the discharge port is performed while moving the coating device.
【請求項11】請求項7乃至10のいずれかに記載の塗
布方法を用いて、カラーフィルターを製造することを特
徴とするカラーフィルター製造方法。
11. A method for manufacturing a color filter, comprising manufacturing a color filter using the coating method according to claim 7. Description:
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