KR20200072420A - Substrate transport apparatus and coating apparatus - Google Patents

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아키히토 시오타
아쓰시 구로에다
유키오 도미후지
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

The present invention relates to a substrate returning apparatus and a spreading apparatus, capable of preventing defective returning of a substrate and damaging to the substrate. According to the present invention, in the substrate returning apparatus, when the horizontal direction crossing the returning direction (Dt) of a substrate (S) is the widthwise direction, a substrate support stage (31) has an extension unit (39) in which an end unit on the uppermost stream side in the returning direction is extended at least up to the position of a rotary shaft of a returning roller (212) from a different position in the widthwise direction from that of the returning roller when viewed from a plane. An upper surface of the extension unit (39) has the same height as that of a substrate support surface (31a) and is connected to the substrate support surface (31a). The returning roller (212) whose position is determined at an upper position by an elevation instrument returns the substrate (S) until the front unit (Sa) of the substrate (S) arrives at a more downstream side than the rotary shaft of the returning roller (212) when viewed from a plane. And then, the elevation instrument lowers the returning roller (212) to a lower position, thereby delivering the substrate (S) to the substrate support stage (31) from the returning roller (S).

Description

기판 반송 장치 및 도포 장치{SUBSTRATE TRANSPORT APPARATUS AND COATING APPARATUS}Substrate conveying device and coating device {SUBSTRATE TRANSPORT APPARATUS AND COATING APPARATUS}

본 발명은, 기판을 수평 자세로 반송하는 기판 반송 장치에 관한 것이며, 특히, 롤러에 의해 반송되는 기판을, 기체를 토출하는 스테이지에 수도(受渡)하는 기술에 관한 것이다. 또한, 상기 기판에는, 반도체 기판, 포토마스크용 기판, 액정 표시용 기판, 유기 EL 표시용 기판, 플라즈마 표시용 기판, FED(Field Emission Display) 용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광학 자기 디스크용 기판 등이 포함된다.The present invention relates to a substrate conveying apparatus for conveying a substrate in a horizontal attitude, and more particularly, to a technique for transferring a substrate conveyed by a roller to a stage for discharging gas. In addition, the substrate includes: a semiconductor substrate, a photomask substrate, a liquid crystal display substrate, an organic EL display substrate, a plasma display substrate, a FED (Field Emission Display) substrate, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, and an optical magnet. And disk substrates.

반도체 장치나 액정 표시 장치 등의 전자 부품 등의 제조 공정에서는, 기판에 대한 가공 처리를 실현하기 위해 기판을 수평 자세로 반송하는 프로세스가 많이 이용된다. 그 중에는, 수평 또한 평탄한 스테이지의 상면으로부터 기체를 토출시켜, 기판에 하방으로부터 부력을 부여한 상태로 기판을 지지하는 것이 있다.In a manufacturing process such as an electronic component such as a semiconductor device or a liquid crystal display device, a process in which a substrate is conveyed in a horizontal attitude is often used to realize a processing process for the substrate. Among them, there are those which discharge the gas from the upper surface of the horizontal and flat stage, and support the substrate in a state in which buoyancy is applied from below to the substrate.

예를 들면, 일본 특허 제5346643호 공보(특허 문헌 1)에 기재된 기술은, 기판에 처리액을 도포하는 장치에 관한 것이다. 이 기술에서는, 기체를 토출하는 스테이지상에서 기판을 부상시킨 상태로, 기판으로의 도포액의 도포가 행해진다. 스테이지로의 기판의 반송은, 기판의 하면에 맞닿게 한 롤러 컨베이어에 의해 행해진다.For example, the technique described in Japanese Patent No. 5346643 (Patent Document 1) relates to an apparatus for applying a treatment liquid to a substrate. In this technique, the coating liquid is applied to the substrate with the substrate floating on the stage for discharging the gas. The conveyance of the substrate to the stage is performed by a roller conveyor brought into contact with the lower surface of the substrate.

기판의 대형화 및 박형화에 따라, 반송 경로에서의 기판의 자세 유지는 중요한 과제가 되어왔다. 예를 들면, 기판을 하방으로부터 국소적으로 지지하는 경우, 지지를 받는 부분에 비해 다른 부분이 하방으로 휜다는 문제가 있다. 상기한 종래 기술의 하방으로부터 부력을 부여하는 방법은, 이러한 문제에 대응하여 기판을 평탄한 상태로 유지할 수 있는 것이다. 그러나 기판을 스테이지에 재치(載置)할 때에 같은 문제가 생길 수 있다. 즉, 컨베이어에 의해 반송되는 기판의 선두부가 아래로 처져, 스테이지 중 반송 방향에 있어서의 상류측 단면에 충돌해 버리는 일이 있을 수 있다. 이 때문에, 기판의 반송이 정체되거나, 기판을 손상시켜 버린다는 문제가 발생한다.With the increase in size and thickness of the substrate, maintaining the posture of the substrate in the transport path has been an important issue. For example, when the substrate is supported locally from below, there is a problem that the other part extends downward compared to the part receiving support. The method of applying buoyancy from the lower side of the prior art described above is to keep the substrate in a flat state in response to this problem. However, the same problem may occur when the substrate is placed on the stage. That is, the leading portion of the substrate conveyed by the conveyor may fall down, and may collide with the upstream end face in the conveying direction of the stage. For this reason, there arises a problem that the conveyance of the substrate becomes stagnant or the substrate is damaged.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 하방으로부터 부력을 부여하여 기판을 지지하는 스테이지로의 기판의 반송을 원활하게 행하여, 기판의 반송 불량이나 손상을 방지할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a technique capable of smoothly conveying a substrate to a stage supporting the substrate by applying buoyancy from below to prevent defects or damage in conveyance of the substrate. do.

본 발명의 일 형태는, 기판을 수평 자세로 반송하는 기판 반송 장치로서, 상기 목적을 달성하기 위해 상기 기판을 하방으로부터 지지하면서 회전하여 상기 기판을 수평 방향으로 반송하는 반송 롤러와, 상기 기판의 반송 방향에 있어서의 상기 반송 롤러의 하류측에 인접하여 배치된 수평한 평탄면인 기판 지지면을 가지며, 상기 반송부에 의해 반송된 상기 기판을 받아들여, 상기 기판 지지면으로부터 기체를 토출시켜 하방으로부터 부력을 부여하여 상기 기판을 지지하는 기판 지지 스테이지와, 상기 반송 롤러를 승강시켜, 상기 기판 지지 스테이지의 상면보다도 상기 반송 롤러의 상단이 상방이 되는 상부 위치와, 상기 기판 지지 스테이지의 상면보다도 상기 반송 롤러의 상단이 하방이 되는 하부 위치의 사이에서 상기 반송 롤러를 이동시키는 승강 기구를 구비하고 있다. One aspect of the present invention is a substrate conveying apparatus for conveying a substrate in a horizontal posture, and a conveying roller that rotates while supporting the substrate from below to convey the substrate in a horizontal direction to achieve the above object, and conveyance of the substrate It has a substrate support surface which is a horizontal flat surface disposed adjacent to the downstream side of the transport roller in the direction, accepts the substrate conveyed by the transport unit, discharges gas from the substrate support surface, and from below The substrate support stage for supporting the substrate by applying buoyancy, the carrier roller is raised and lowered, and the upper position of the upper end of the transport roller is higher than the upper surface of the substrate support stage, and the transport is higher than the upper surface of the substrate support stage. A lifting mechanism is provided to move the conveying roller between lower positions where the upper end of the roller is downward.

여기서, 상기 반송 방향과 직교하는 수평 방향을 폭방향이라고 정의할 때, 상기 기판 지지 스테이지는, 상기 반송 방향에 있어서의 상류측을 향하여 단부가 부분적으로 연장된 연신부를 가지며, 평면에서 볼 때 상기 반송 롤러는 상기 폭방향으로 다른 위치에서, 상기 연신부의 상기 반송 방향에 있어서의 최상류측 단부가 적어도 상기 반송 롤러의 회전축의 위치까지 연장되어 있으며, 상기 연신부의 상면은, 높이가 상기 기판 지지면과 동일하고, 또한 상기 기판 지지면과 연속되어 있다.Here, when defining the horizontal direction orthogonal to the conveying direction as the width direction, the substrate support stage has an elongated portion whose end partly extends toward the upstream side in the conveying direction, and viewed from a plane The roller has a different position in the width direction, and the uppermost end in the conveying direction of the stretching portion extends at least to the position of the rotating shaft of the conveying roller, and the upper surface of the stretching portion has a height that is the substrate support surface. Same as and also continuous with the substrate support surface.

또, 상기 승강 기구에 의해 상기 상부 위치에 위치 결정된 상기 반송 롤러가, 평면에서 볼 때 상기 기판의 상기 반송 방향의 선두부가 상기 반송 롤러의 회전축보다도 상기 반송 방향의 하류 위치에 도달할 때까지 상기 기판을 반송하고, 그 후에 상기 승강 기구가 상기 반송 롤러를 상기 하부 위치로 하강시킴으로써, 상기 기판을 상기 반송 롤러로부터 상기 기판 지지 스테이지에 수도한다.In addition, the substrate is positioned until the head of the conveying direction of the substrate reaches a position downstream of the conveying roller from the rotational axis of the conveying roller when the conveying roller positioned at the upper position by the lifting mechanism is viewed in plan. , And then the lifting mechanism lowers the conveying roller to the lower position, thereby transferring the substrate from the conveying roller to the substrate supporting stage.

이와 같이 구성된 발명에서는, 기판을 반송하는 반송 롤러로부터 기판 지지 스테이지로의 기판의 수도가, 반송 방향으로의 기판의 반송에 의해서가 아니라, 반송 롤러의 하강에 의해서 실현된다. 구체적으로는 다음과 같다. 또한, 이하에서 「상류」 및 「하류」라는 표현은, 특별한 언급이 없는 한, 반송 롤러에 의한 기판의 반송 방향에 관해서 사용하는 것으로 한다.In the invention configured as described above, the number of substrates from the conveying roller for conveying the substrate to the substrate support stage is realized by lowering the conveying roller, not by conveying the substrate in the conveying direction. Specifically, it is as follows. In addition, in the following, the expressions "upstream" and "downstream" shall be used for the conveying direction of the substrate by the conveying roller, unless otherwise specified.

이 발명에서 기판에 하방으로부터 부력을 부여하여 기판을 지지하는 기판 지지 스테이지는, 기판의 반송 방향에 있어서 적어도 반송 롤러의 회전축의 위치까지 연장된 연신부를 가지고 있다. 연신부의 상면은, 기판 지지 스테이지의 기판 지지면과 연속되어 있으며, 그 높이도 같다. 그리고, 상부 위치에 위치 결정된 반송 롤러에 의해, 기판은, 그 선두부가 평면에서 볼 때 반송 롤러의 회전축의 위치를 넘는 위치까지 반송된다. 이 시점에서 기판의 선두부는, 연신부의 최상류측 단부보다도 하류측까지 이동해 와 있다.In this invention, the substrate support stage for supporting the substrate by applying buoyancy to the substrate from below has a stretched portion extending at least to the position of the rotational axis of the transfer roller in the transfer direction of the substrate. The upper surface of the stretched portion is continuous with the substrate support surface of the substrate support stage, and has the same height. And the substrate is conveyed by the conveying roller positioned in the upper position to a position exceeding the position of the rotational axis of the conveying roller when its leading part is viewed in a plan view. At this point, the head portion of the substrate moves to the downstream side from the uppermost end portion of the stretched portion.

즉 이 때, 평면에서 볼 때는 기판과 연신부가 부분적으로 겹쳐져 있다. 단, 이 시점에서는 반송 롤러는 상부 위치에 있고, 그 상단은 기판 지지면 및 연신부 상면보다 상방에 위치해 있다. 이 때문에, 반송 롤러에 의해 지지되는 기판의 하면도, 지지면 및 연신부 상면보다 상방에 있고, 기판은 기판 지지 스테이지에 접촉해 있지 않다. 환언하면, 이 시점에서 기판의 선두부는 연신부를 포함하는 기판 지지 스테이지의 상방에 위치하고 있다.That is, at this time, when viewed in a plane, the substrate and the stretched portion partially overlap. However, at this point, the transport roller is in the upper position, and its upper end is located above the substrate support surface and the upper surface of the stretched portion. For this reason, the lower surface of the substrate supported by the conveying roller is also above the supporting surface and the upper surface of the stretched portion, and the substrate is not in contact with the substrate supporting stage. In other words, at this point, the leading portion of the substrate is located above the substrate supporting stage including the stretched portion.

따라서, 이 상태로부터 반송 롤러를 하강시키면, 기판의 선두부는 기판 지지면에 연속되는 연신부의 상면에 실리게 된다. 즉, 반송 롤러로부터 기판 지지 스테이지로의 기판의 수도가, 반송 방향으로의 기판 반송을 필요로 하지 않고, 반송 롤러의 하강에 의해서 실현 가능하다. 이 때문에, 기판의 선두부가 기판 지지 스테이지 또는 연신부의 단면에 접촉하는 것이 미연에 방지된다.Therefore, when the conveying roller is lowered from this state, the leading portion of the substrate is put on the upper surface of the stretched portion that is continuous to the substrate supporting surface. That is, the number of substrates from the conveying roller to the substrate support stage can be realized by lowering the conveying roller without the need for conveying the substrate in the conveying direction. For this reason, it is previously prevented that the head part of a board|substrate contacts the end surface of a board|substrate support stage or a stretched part.

이상과 같이, 본 발명에 의하면, 하방으로부터 부력을 부여해서 기판을 지지하는 기판 지지 스테이지로의 기판의 반송을, 기판의 선두부가 스테이지 단면에 접촉하는 것에 기인하는 기판의 반송 불량이나 손상을 발생시키지 않고, 원활하게 실행할 수 있다.As described above, according to the present invention, the conveyance of the substrate to the substrate supporting stage supporting the substrate by applying buoyancy from below does not cause defects or damage in conveyance of the substrate due to the contact of the leading end portion of the substrate with the stage end face. It can be executed smoothly.

도 1은, 본 발명의 일 실시형태인 도포 장치의 전체 구성을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 2는, 도포 장치를 연직 상방으로부터 본 평면도이다.
도 3a는, 입력 이재부(移載部)의 구조를 나타낸 도면이다.
도 3b는, 입력 이재부의 구조를 나타낸 도면이다.
도 4a는, 트랜스퍼 플레이트를 대신하는 변형예를 나타낸 도면이다.
도 4b는, 트랜스퍼 플레이트를 대신하는 변형예를 나타낸 도면이다.
도 5는, 이 실시형태에 있어서의 기판 반송의 흐름을 나타낸 플로차트이다.
도 6a는, 반송 중의 장치 각부의 상태를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 6b는, 반송 중의 장치 각부의 상태를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 6c는, 반송 중의 장치 각부의 상태를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 6d는, 반송 중의 장치 각부의 상태를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 7은, 반송계의 지지 기구를 나타낸 도면이다.
도 8a는, 트랜스퍼 플레이트의 다른 변형예를 나타낸 도면이다.
도 8b는, 트랜스퍼 플레이트의 다른 변형예를 나타낸 도면이다.
도 8c는, 트랜스퍼 플레이트의 다른 변형예를 나타낸 도면이다.1 is a diagram schematically showing the overall configuration of a coating device according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a plan view of the coating device viewed from above vertically.
3A is a diagram showing the structure of an input transfer part.
3B is a diagram showing the structure of the input transfer unit.
4A is a view showing a modified example in place of the transfer plate.
4B is a view showing a modified example in place of the transfer plate.
Fig. 5 is a flowchart showing the flow of substrate transport in this embodiment.
6A is a diagram schematically showing the state of each part of the device during transportation.
6B is a diagram schematically showing the state of each part of the device during transportation.
6C is a diagram schematically showing the state of each part of the device during transportation.
6D is a diagram schematically showing the state of each part of the device during transportation.
It is a figure which showed the support mechanism of a conveyance system.
8A is a view showing another modification of the transfer plate.
8B is a view showing another modification of the transfer plate.
8C is a view showing another modification of the transfer plate.

도 1은 본 발명에 따른 기판 반송 장치의 일 실시형태인 도포 장치의 전체 구성을 모식적으로 나타낸 도면이다. 또, 도 2는 도포 장치를 연직 상방으로부터 본 평면도이다. 이 도포 장치(1)는, 도 1의 왼쪽으로부터 오른쪽을 향해 수평 자세로 반송되는 기판(S)의 상면(Sf)에 도포액을 도포하는 슬릿 코터이다. 또한, 이하 각 도면에 있어서 장치 각부의 배치 관계를 명확하게 하기 위해서, 기판(S)의 반송 방향을 「X 방향」이라고 하고, 도 1의 왼쪽에서 오른쪽으로 향하는 수평 방향을 「＋X 방향」이라고 칭하고, 역방향을 「-X 방향」이라고 칭한다. 또, X 방향과 직교하는 수평 방향 Y 중, 장치의 정면측을 「-Y 방향」이라고 칭하는 것과 더불어, 장치의 배면측을 「＋Y 방향」이라고 칭한다. 또한, 연직 방향 Z에 있어서의 상방향 및 하방향을 각각 「＋Z 방향」 및 「-Z 방향」이라고 칭한다.1 is a view schematically showing the overall configuration of a coating apparatus as an embodiment of a substrate transport apparatus according to the present invention. Moreover, Fig. 2 is a plan view of the coating device seen from above vertically. The coating device 1 is a slit coater that applies a coating liquid to the upper surface Sf of the substrate S conveyed in a horizontal attitude from left to right in FIG. 1. In addition, in order to clarify the arrangement relationship of each part of the apparatus in the following drawings, the transport direction of the substrate S is referred to as "X direction", and the horizontal direction from left to right in FIG. 1 is referred to as "+X direction". , The reverse direction is called "-X direction". Moreover, among the horizontal directions Y orthogonal to the X direction, the front side of the device is referred to as the "-Y direction", and the rear side of the device is referred to as the "+Y direction". In addition, the upward direction and the downward direction in the vertical direction Z are called "+Z direction" and "-Z direction", respectively.

먼저 도 1 및 도 2를 이용해 이 도포 장치(1)의 구성 및 동작의 개요를 설명한 후, 각부의 보다 상세한 구조에 대해 설명한다. 또한, 도포 장치(1)의 기본적인 구성이나 동작 원리는, 전술한 특허 문헌 1(일본 특허 제5346643호)에 기재된 것과 공통된다. 따라서 본 명세서에서는 도포 장치(1)의 각 구성 중 이 공지 문헌에 기재된 것과 같은 구성을 적용할 수 있는 것, 및 이들 문헌의 기재로부터 구조를 용이하게 이해할 수 있는 것에 대해서는 자세한 설명을 생략하고, 본 실시형태의 특징적인 부분을 주로 설명하는 것으로 한다.First, an outline of the configuration and operation of the coating device 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 2, and then a more detailed structure of each part will be described. In addition, the basic structure and operation principle of the coating device 1 are common to those described in Patent Document 1 (Japanese Patent No. 5346643) described above. Accordingly, in this specification, detailed descriptions of the components of the coating device 1 that can be applied to those described in this known document and that the structure can be easily understood from the description of these documents are omitted. The characteristic parts of the embodiment will be mainly described.

도포 장치(1)에서는, 기판(S)의 반송 방향(Dt)(＋X 방향)을 따라서 입력 컨베이어(100), 입력 이재부(2), 부상 스테이지부(3), 출력 이재부(4), 출력 컨베이어(110)가 이 순서로 근접하여 배치되어 있고, 이하에 상술하는 바와 같이, 이들에 의해 대략 수평 방향으로 연장된 기판(S)의 반송 경로가 형성되어 있다. 또한, 이하의 설명에서 기판(S)의 반송 방향(Dt)과 관련지어 위치 관계를 나타낼 때, 「기판(S)의 반송 방향(Dt)에 있어서의 상류」를 줄여서 「상류」라고 하며, 「기판(S)의 반송 방향(Dt)에 있어서의 하류」를 줄여서「하류」라고 할 때가 있다. 이 예에서는, 어떤 기준 위치에서 볼 때 상대적으로 (-X) 쪽이 「상류」, (＋X) 쪽이 「하류」에 상당한다.In the coating apparatus 1, the input conveyor 100, the input transfer part 2, the floating stage part 3, the output transfer part 4 along the conveyance direction Dt (+X direction) of the board|substrate S, The output conveyors 110 are disposed in close proximity in this order, and as described below, a transport path of the substrate S extending in the substantially horizontal direction is formed by them. In the following description, when referring to the positional relationship in relation to the transport direction Dt of the substrate S, the term "upstream in the transport direction Dt of the substrate S" is abbreviated as "upstream", and " The downstream in the conveyance direction Dt of the substrate S is sometimes referred to as “downstream”. In this example, when viewed from a certain reference position, the (-X) side corresponds to the "upstream" and the (+X) side corresponds to the "downstream".

처리 대상인 기판(S)은 도 1의 왼쪽으로부터 입력 컨베이어(100)에 반입된다. 입력 컨베이어(100)는, 롤러 컨베이어(101)와, 이것을 회전 구동 하는 회전 구동 기구(102)를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어(101)의 회전에 의해 기판(S)은 수평 자세로 하류측, 즉 (＋X) 방향으로 반송된다. 입력 이재부(2)는, 복수의 반송 롤러(21)를 갖는 컨베이어와, 이것을 회전 구동하는 기능 및 승강시키는 기능을 갖는 회전·승강 구동 기구(22)를 구비하고 있다. 반송 롤러(21)가 회전함으로써 기판(S)은 더 (＋X) 방향으로 반송된다. 또, 반송 롤러(21)가 승강함으로써, 기판(S)의 연직 방향 위치가 변경된다. 이와 같이 구성된 입력 이재부(2)에 의해, 기판(S)은 입력 컨베이어(100)로부터 부상 스테이지부(3)에 이재된다.The substrate S to be processed is carried into the input conveyor 100 from the left side in FIG. 1. The input conveyor 100 is equipped with the roller conveyor 101 and the rotation drive mechanism 102 which drives it rotationally. By the rotation of the roller conveyor 101, the board|substrate S is conveyed to the downstream side, ie, (+X) direction in a horizontal attitude. The input transfer unit 2 is equipped with a conveyor having a plurality of conveying rollers 21 and a rotation/elevation driving mechanism 22 having a function of rotating and elevating it. As the conveying roller 21 rotates, the substrate S is further conveyed in the (+X) direction. Moreover, the vertical position of the board|substrate S is changed by the raising/lowering of the conveyance roller 21. By the input transfer unit 2 configured as described above, the substrate S is transferred from the input conveyor 100 to the floating stage unit 3.

부상 스테이지부(3)는, 기판의 반송 방향(Dt)을 따라 3분할된 평판 형상의 스테이지를 구비한다. 즉, 부상 스테이지부(3)는, 입구 부상 스테이지(31), 도포 스테이지(32) 및 출구 부상 스테이지(33)를 구비하고 있다. 이들 각 스테이지의 상면은, 서로 동일 평면의 일부를 이루고 있다. 입구 부상 스테이지(31) 및 출구 부상 스테이지(33)의 각각의 상면에는 부상 제어 기구(35)로부터 공급되는 압축 공기를 분출하는 분출구멍이 매트릭스형으로 다수 형성되어 있다. 분출구멍으로부터 분출되는 기류로부터 부여되는 부력에 의해, 기판(S)이 부상한다. 이렇게 기판(S)의 하면(Sb)이 스테이지 상면으로부터 이격된 상태로 수평 자세로 지지된다. 기판(S)의 하면(Sb)과 스테이지 상면의 거리, 즉 부상량은, 예를 들면 10마이크로 미터 내지 500마이크로 미터로 할 수 있다.The floating stage portion 3 includes a flat plate-shaped stage divided into three along the transport direction Dt of the substrate. That is, the floating stage part 3 is provided with the inlet floating stage 31, the application stage 32, and the exit floating stage 33. The upper surfaces of these stages form a part of the same plane. On each of the upper surfaces of the inlet floating stage 31 and the outlet floating stage 33, a plurality of jet holes for ejecting compressed air supplied from the floating control mechanism 35 are formed in a matrix form. The board|substrate S floats by the buoyant force provided from the airflow ejected from a jet hole. In this way, the lower surface Sb of the substrate S is supported in a horizontal position while being spaced from the upper surface of the stage. The distance between the lower surface Sb of the substrate S and the upper surface of the stage, that is, the floating amount, may be, for example, 10 micrometers to 500 micrometers.

한편, 도포 스테이지(32)의 상면에서는, 압축 공기를 분출하는 분출구멍과 기판(S)의 하면(Sb)과 스테이지 상면 사이의 공기를 흡인하는 흡인구멍이 번갈아 배치되어 있다. 부상 제어 기구(35)가 분출구멍으로부터의 압축 공기의 분출량과 흡인구멍으로부터의 흡인량을 제어함으로써, 기판(S)의 하면(Sb)과 도포 스테이지(32)의 상면의 거리가 정밀하게 제어된다. 이렇게 함으로써 도포 스테이지(32)의 상방을 통과하는 기판(S)의 상면(Sf)의 연직 방향 위치가, 규정치로 제어된다.On the other hand, on the upper surface of the application stage 32, the ejection hole for ejecting compressed air and the suction hole for sucking air between the lower surface Sb of the substrate S and the upper surface of the stage are alternately arranged. The distance between the lower surface Sb of the substrate S and the upper surface of the application stage 32 is precisely controlled by the floating control mechanism 35 controlling the blowing amount of compressed air from the blowing hole and the suction amount from the suction hole. do. By doing so, the position in the vertical direction of the upper surface Sf of the substrate S passing through the upper side of the coating stage 32 is controlled to a prescribed value.

또한, 입구 부상 스테이지(31)에는, 도면에는 나타나지 않은 리프트 핀이 배치되어 있고, 부상 스테이지부(3)에는 이 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 구동 기구(34)가 설치되어 있다. 또, 입구 부상 스테이지(31)의 상류측 단부, 즉 도 1에 있어서 좌측인 (-X) 방향측의 단부에는, 트랜스퍼 플레이트(39)가 장착되어 있다. 그 자세한 구조 및 기능에 대해서는 후술하는데, 트랜스퍼 플레이트(39)는 입력 이재부(2)로부터 입구 부상 스테이지(31)로의 기판(S)의 수도를 원활하게 행할 목적으로 설치된다.In addition, a lift pin not shown in the drawing is disposed on the entrance floating stage 31, and a lift pin driving mechanism 34 for lifting and lowering the lift pin is provided on the floating stage portion 3. Moreover, the transfer plate 39 is attached to the upstream end of the entrance floating stage 31, that is, the left side in the (-X) direction in FIG. 1. The detailed structure and function will be described later, and the transfer plate 39 is installed for the purpose of smoothly performing the water supply of the substrate S from the input transfer unit 2 to the entrance floating stage 31.

입력 이재부(2)를 통해 부상 스테이지부(3)에 반입되는 기판(S)은, 반송 롤러(21)의 회전에 의해 (＋X) 방향으로의 추진력이 부여되어, 입구 부상 스테이지(31) 상에 반송된다. 입구 부상 스테이지(31), 도포 스테이지(32) 및 출구 부상 스테이지(33)는 기판(S)을 부상 상태로 지지하지만, 기판(S)을 수평 방향으로 이동시키는 기능을 갖고 있지 않다. 부상 스테이지부(3)에 있어서의 기판(S)의 반송은, 입구 부상 스테이지(31), 도포 스테이지(32) 및 출구 부상 스테이지(33)의 하방에 배치된 기판 반송부(5)에 의해 행해진다.The board|substrate S carried into the floating stage part 3 through the input transfer part 2 is given the thrust force in the (+X) direction by rotation of the conveyance roller 21, and is provided on the entrance floating stage 31. Is returned to. The entrance floating stage 31, the application stage 32, and the exit floating stage 33 support the substrate S in a floating state, but do not have a function of moving the substrate S in the horizontal direction. The transfer of the substrate S in the floating stage portion 3 was performed by the substrate transfer portion 5 disposed below the inlet floating stage 31, the application stage 32, and the exit floating stage 33. All.

기판 반송부(5)는, 기판(S)의 하면 주연부에 부분적으로 맞닿음으로써 기판(S)을 하방으로부터 지지하는 척 기구(51)와, 흡착·주행 제어 기구(52)를 구비하고 있다. 흡착·주행 제어 기구(52)는, 척 기구(51) 상단의 흡착 부재에 설치된 흡착 패드 및 흡착 홈(모두 도시 생략)에 부압을 부여하여 기판(S)을 흡착유지시키는 기능, 및 척 기구(51)를 X 방향으로 왕복 주행시키는 기능을 갖는다. 척 기구(51)가 기판(S)을 유지한 상태에서는, 기판(S)의 하면(Sb)은 부상 스테이지부(3)의 각 스테이지의 상면보다 높은 위치에 위치하고 있다. 따라서 기판(S)은 척 기구(51)에 의해 주연부가 흡착유지되면서, 부상 스테이지부(3)로부터 부여되는 부력에 의해 전체적으로 수평 자세를 유지한다.The board|substrate conveyance part 5 is equipped with the chuck mechanism 51 which supports the board|substrate S from below by partially making contact with the peripheral edge part of the lower surface of the board|substrate S, and the adsorption-driving control mechanism 52. The adsorption/driving control mechanism 52 has a function of applying negative pressure to the adsorption pads and the adsorption grooves (not shown) provided on the adsorption member at the upper end of the chuck mechanism 51 to adsorb and hold the substrate S, and the chuck mechanism ( It has a function to reciprocate 51) in the X direction. When the chuck mechanism 51 holds the substrate S, the lower surface Sb of the substrate S is positioned higher than the upper surface of each stage of the floating stage portion 3. Therefore, the substrate S maintains the horizontal posture by the buoyancy provided from the floating stage 3 while the peripheral portion is adsorbed and held by the chuck mechanism 51.

입력 이재부(2)로부터 부상 스테이지부(3)에 반입된 기판(S)을 척 기구(51)가 유지하고, 이 상태로 척 기구(51)가 (＋X) 방향으로 이동한다. 이에 의해, 기판(S)이 입구 부상 스테이지(31)의 상방으로부터 도포 스테이지(32)의 상방을 경유하여 출구 부상 스테이지(33)의 상방으로 반송된다. 반송된 기판(S)은, 출구 부상 스테이지(33)의 (＋X) 측에 배치된 출력 이재부(4)에 수도된다.The board|substrate S carried in from the input transfer part 2 to the floating stage part 3 is hold|maintained by the chuck mechanism 51, and the chuck mechanism 51 moves to (+X) direction in this state. Thereby, the board|substrate S is conveyed from the upper side of the entrance floating stage 31 to the upper side of the exit floating stage 33 via the upper side of the coating stage 32. The conveyed board|substrate S can also be provided to the output transfer part 4 arrange|positioned on the (+X) side of the exit floating stage 33.

출력 이재부(4)는, 롤러 컨베이어(41)와, 이를 회전 구동하는 기능 및 승강시키는 기능을 갖는 회전·승강 구동 기구(42)를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어(41)가 회전함으로써, 기판(S)에 (＋X) 방향으로의 추진력이 부여되어 기판(S)은 반송 방향(Dt)을 따라 더 반송된다. 또, 롤러 컨베이어(41)가 승강함으로써 기판(S)의 연직 방향 위치가 변경된다. 그리고 출력 이재부(4)에 의해, 기판(S)은 출구 부상 스테이지(33)의 상방으로부터 출력 컨베이어(110)에 이재된다.The output transfer part 4 is equipped with the roller conveyor 41, and the rotation/elevation drive mechanism 42 which has a function to rotate and elevate it. When the roller conveyor 41 rotates, the driving force in the (+X) direction is applied to the substrate S, and the substrate S is further transported along the transport direction Dt. Moreover, the vertical position of the board|substrate S is changed by the roller conveyor 41 raising and lowering. Then, by the output transfer unit 4, the substrate S is transferred to the output conveyor 110 from above the exit floating stage 33.

출력 컨베이어(110)는, 롤러 컨베이어(111)와, 이를 회전 구동하는 회전 구동 기구(112)를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어(111)의 회전에 의해, 기판(S)은 더 (＋X) 방향으로 반송되어 최종적으로 도포 장치(1) 밖으로 반출된다. 또한, 입력 컨베이어(100) 및 출력 컨베이어(110)는 도포 장치(1)의 구성의 일부로서 설치되어도 되지만, 도포 장치(1)와는 별체의 것이어도 된다. 또 예를 들면, 도포 장치(1)의 상류측에 설치되는 별도 유닛의 기판 반출 기구가 입력 컨베이어(100)로서 이용되어도 된다. 또한, 도포 장치(1)의 하류측에 설치되는 별도 유닛의 기판 수납 기구가 출력 컨베이어(110)로서 이용되어도 된다.The output conveyor 110 is equipped with the roller conveyor 111 and the rotation drive mechanism 112 which drives it rotationally. By the rotation of the roller conveyor 111, the substrate S is further conveyed in the (+X) direction and finally taken out of the coating apparatus 1. Further, the input conveyor 100 and the output conveyor 110 may be provided as part of the configuration of the coating device 1, but may be separate from the coating device 1. Further, for example, a substrate transport mechanism of a separate unit provided on the upstream side of the coating device 1 may be used as the input conveyor 100. Further, a substrate storage mechanism of a separate unit provided on the downstream side of the coating device 1 may be used as the output conveyor 110.

이렇게 해서 반송되는 기판(S)의 반송 경로 상에, 기판(S)의 상면(Sf)에 도포액을 도포하기 위한 도포 기구(7)가 배치된다. 도포 기구(7)는, 슬릿 노즐인 노즐(71)을 포함하는 노즐 유닛(70)을 구비하고 있다. 노즐(71)에는, 도포액 공급부(78)로부터 도포액이 공급된다. 노즐 하부에 있어서 하향으로, 또한 Y 방향을 길이 방향으로 하여서 슬릿 형태로 개구하는 토출구(711)로부터 도포액이 토출된다. The coating mechanism 7 for applying the coating liquid to the upper surface Sf of the substrate S is disposed on the transportation path of the substrate S conveyed in this way. The coating mechanism 7 is provided with a nozzle unit 70 including a nozzle 71 as a slit nozzle. The coating liquid is supplied from the coating liquid supply unit 78 to the nozzle 71. The coating liquid is discharged from the discharge port 711 which opens downward in the slit shape with the Y direction in the downward direction and below the nozzle.

노즐(71)은, 위치 결정 기구(73)에 의해 X 방향 및 Z 방향으로 이동 위치 결정 가능하게 되어 있다. 위치 결정 기구(73)에 의해, 노즐(71)이 도포 스테이지(32)의 상방의 도포 위치(도 1에서 점선으로 나타내는 위치)에 위치 결정된다. 도포 위치에 위치 결정된 노즐(71)로부터 도포액이 토출되어, 도포 스테이지(32)와의 사이를 반송되어 오는 기판(S)에 도포된다. 이렇게 기판(S)에 대한 도포액의 도포가 행해진다.The nozzle 71 is capable of positioning the movement in the X direction and the Z direction by the positioning mechanism 73. By the positioning mechanism 73, the nozzle 71 is positioned at the coating position above the coating stage 32 (the position indicated by the dotted line in Fig. 1). The coating liquid is discharged from the nozzle 71 positioned at the coating position, and is applied to the substrate S that is conveyed between the coating stage 32. Thus, the coating liquid is applied to the substrate S.

이 외에, 도포 장치(1)에는, 장치 각부의 동작을 제어하기 위한 제어 유닛(9)이 설치되어 있다. 제어 유닛(9)은 소정의 제어 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 기억 수단, 이 제어 프로그램을 실행함으로써 장치 각부로 하여금 소정의 동작을 실행하게 하는 CPU 등의 연산 수단, 유저나 외부 장치와의 정보 교환을 담당하는 인터페이스 수단 등을 구비하고 있다.In addition, the coating device 1 is provided with a control unit 9 for controlling the operation of each part of the device. The control unit 9 is a storage means for storing a predetermined control program or various data, arithmetic means such as a CPU, etc., which causes each device unit to execute a predetermined operation by executing the control program, and exchange information with a user or an external device It is equipped with an interface means and the like in charge.

이하, 도 2를 참조하면서 도포 장치(1)의 기계적 구성을 더 설명한다. 몇 개의 기구에 대해서는 전술한 일본 특허 제5346643호에 기재된 내용을 참조함으로써 보다 상세한 구조를 이해하는 것이 가능하다. 또한, 도 2에 있어서는 입력 컨베이어(100) 등이 가지는 롤러에 대한 기재가 생략되어 있다.Hereinafter, the mechanical configuration of the coating device 1 will be further described with reference to FIG. 2. For some mechanisms, it is possible to understand a more detailed structure by referring to the contents described in Japanese Patent No. 5346643 described above. In addition, in FIG. 2, the description of the rollers of the input conveyor 100 and the like is omitted.

도포 기구(7)의 노즐 유닛(70)은, 노즐(71)과 이를 이동시켜 소정 위치에 위치 결정 하는 위치 결정 기구(73)를 구비하고 있다. 위치 결정 기구(73)는, 도 2에 나타낸 바와 같이 가교 구조를 갖고 있다. 구체적으로는, 위치 결정 기구(73)는, 부상 스테이지부(3)의 상방에서 Y 방향으로 연장된 빔 부재(731)의 Y 방향 양단부를, 기대(10)로부터 상방에 세워 설치된 1쌍의 기둥 부재(732, 733)로 지지한 구조를 가지고 있다. 기둥 부재(732, 733)의 각각에는 예를 들면 볼 나사 기구에 의해 구성된 승강 기구(도시 생략)가 장착되어 있다. 이들 승강 기구에 의해, 빔 부재(731)의 (-Y)측 및 (＋Y)측 단부가 승강 가능하게 지지되어 있다. 제어 유닛(9)으로부터의 제어 지령에 따라 승강 기구가 연동함으로써, 빔 부재(731)가 수평 자세인 채로 연직 방향(Z 방향)으로 이동한다.The nozzle unit 70 of the application mechanism 7 is provided with a nozzle 71 and a positioning mechanism 73 that moves it and positions it at a predetermined position. The positioning mechanism 73 has a crosslinked structure as shown in FIG. 2. Specifically, the positioning mechanism 73 is provided with a pair of pillars in which both ends of the Y-direction of the beam member 731 extending in the Y-direction from above the floating stage portion 3 are placed upward from the base 10. It has a structure supported by members 732 and 733. Each of the pillar members 732 and 733 is equipped with a lifting mechanism (not shown) constituted by, for example, a ball screw mechanism. The (-Y) and (+Y) side ends of the beam member 731 are supported so as to be elevated by these lifting mechanisms. When the lifting mechanism interlocks according to the control command from the control unit 9, the beam member 731 moves in the vertical direction (Z direction) while being in a horizontal posture.

기둥 부재(732, 733)는 기대(10) 상에 있어서 X 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 기대(10)의 (＋Y)측 및 (-Y)측 단부 상면의 각각에, X 방향으로 연장 설치된 1쌍의 주행 가이드(81L, 81R)가 장착되어 있다. 또 기둥 부재(732, 733)의 하부에는 도시되지 않는 슬라이더가 장착되어 있으며, 슬라이더가 주행 가이드(81L, 81R)에 걸어맞춰진다. 이로 인해 위치 결정 기구(73)는 X 방향으로 이동 가능하게 지지된다. 위치 결정 기구(73)는 또한, 제어 유닛(9)에 의해 제어되는 리니어 모터, 볼 나사 기구 등의 적절한 구동 기구(도시 생략)를 구비하고 있다. 따라서 위치 결정 기구(73)의 각부가 제어 유닛(9)으로부터의 제어 지령에 따라 작동함으로써, 노즐 유닛(70)의 X 방향 및 Z 방향으로의 이동이 실현된다.The pillar members 732 and 733 are configured to be movable in the X direction on the base 10. Specifically, a pair of travel guides 81L and 81R extending in the X direction is attached to each of the upper surfaces of the (+Y) and (-Y) side ends of the base 10. Further, a slider (not shown) is mounted on the lower portions of the pillar members 732 and 733, and the slider is engaged with the traveling guides 81L and 81R. For this reason, the positioning mechanism 73 is movably supported in the X direction. The positioning mechanism 73 also includes a suitable driving mechanism (not shown) such as a linear motor and a ball screw mechanism controlled by the control unit 9. Therefore, each part of the positioning mechanism 73 operates in accordance with the control command from the control unit 9, thereby realizing movement of the nozzle unit 70 in the X direction and the Z direction.

노즐 유닛(70)의 빔 부재(731)의 중앙 하부에는, 노즐(71)이 토출구(711)(도 1)를 하향으로 하여 장착되어 있다. 위치 결정 기구(73)가 제어 유닛(9)의 제어 지령에 따라 노즐 유닛(70)을 이동시킴으로써, 노즐(71)이 X 방향 및 Z 방향으로 이동한다. 이로써, 동작 프로세스의 진행에 따른 소정의 위치로의 위치 결정이 실현된다.The nozzle 71 is attached to the lower part of the center of the beam member 731 of the nozzle unit 70 with the discharge port 711 (FIG. 1) downward. The positioning mechanism 73 moves the nozzle unit 70 according to the control command of the control unit 9, so that the nozzle 71 moves in the X direction and the Z direction. Thereby, positioning to a predetermined position according to the progress of the operation process is realized.

또, 기대(10)에는 1쌍의 주행 가이드(87L, 87R)가 설치되어 있다. 부상 스테이지부(3)의 상방에서 기판(S)을 반송하기 위한 척 기구(51)는, 이들 주행 가이드(87L, 87R)에 걸어맞춰져, X 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.In addition, a pair of travel guides 87L and 87R is provided on the base 10. The chuck mechanism 51 for conveying the board|substrate S above the floating stage part 3 is engaged with these travel guides 87L, 87R, and is movable in the X direction.

도 3a 및 도 3b는 입력 이재부의 구조를 나타낸 도면이다. 도 3a에 나타낸 바와 같이, 입력 이재부(2)는 복수의 반송 롤러(21)로 이루어지는 컨베이어를 구비하고 있다. 보다 구체적으로는, 반송 방향(Dt)(X 방향) 및 그와 직교하는 폭방향(Y 방향)의 각각에 있어서, 복수의 반송 롤러(21)가 배열되어 있다. 이 예에서는, X 방향으로 2개, Y 방향으로 4개의 반송 롤러가 배열되어 있으나, 반송 롤러의 배열수는 이에 한정되지 않는다. 이하에서는, X 방향으로 배열된 반송 롤러(21)를 구별할 필요가 있는 경우, 이들 중 반송 방향(Dt)에 있어서의 상류측, 즉 (-X) 방향 측의 것(상류측 반송 롤러)에 부호 211을 붙이는 것으로 한다. 또, 하류측, 즉 (＋X) 방향측의 것(하류측 반송 롤러)에 부호 212를 붙이는 것으로 한다.3A and 3B are views showing the structure of the input transfer unit. 3A, the input transfer part 2 is equipped with the conveyor which consists of several conveying rollers 21. As shown in FIG. More specifically, a plurality of transport rollers 21 are arranged in each of the transport direction Dt (X direction) and the width direction (Y direction) orthogonal thereto. In this example, two conveying rollers are arranged in the X direction and four in the Y direction, but the number of arrangements of the conveying rollers is not limited to this. Hereinafter, when it is necessary to distinguish the conveyance rollers 21 arranged in the X direction, among them, to the upstream side in the conveyance direction Dt, that is, on the (-X) direction side (upstream conveyance roller) It is assumed that 211 is added. In addition, it is assumed that reference numeral 212 is added to the downstream side (ie, the (+X)) side (downstream conveying roller).

반송 롤러(21(211, 212))의 각각은 회전·승강 구동 기구(22)의 작동에 의해, 도면에 일점쇄선으로 나타낸 회전축 둘레로, 도면에 나타낸 화살표(Dr) 방향으로 회전한다. 이와 같이 반송 롤러(21)가 회전함으로써, 입력 컨베이어(100)측으로부터 반송되어 오는 기판(S)을, 입력 부상 스테이지(31)측으로 더 반송할 수 있다.Each of the conveying rollers 21 (211, 212) is rotated in the direction of the arrow Dr shown in the drawing around the axis of rotation indicated by the dashed-dotted line in the drawing by the operation of the rotation/lift driving mechanism 22. Thus, when the conveyance roller 21 rotates, the board|substrate S conveyed from the input conveyor 100 side can be conveyed further to the input floating stage 31 side.

반송 방향(Dt)에 있어서 입력 부상 스테이지(31)의 상류측 단면(31b)에는, 트랜스퍼 플레이트(39)가 고정되어 있다. 트랜스퍼 플레이트(39)는, 폭방향(Y 방향)에 있어서 입력 부상 스테이지(31)와, 거의 같은 길이를 갖는 접속부(391)와 접속부(391)로부터 상류 방향, 즉 (-X) 방향으로 부분적으로 연장된 돌출부(392)를 가지고 있다. 접속부(391) 및 돌출부(392)를 포함해, 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a)은, 입구 부상 스테이지(31)의 상면(31a)과 동일한 높이로 동일 평면을 이루고 있다. 즉, 입구 부상 스테이지(31)의 상면(31a)과 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a)은 연속한 단일 평면을 이루고 있다. 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a)에는 입구 부상 스테이지(31)의 상면(31a)와 같이 기체의 분출구멍이 설치되어 있어, 분출하는 기체에 의해, 기판(S)에 하방으로부터 부력을 부여하는 것이 가능하게 되어 있다.In the conveying direction Dt, the transfer plate 39 is fixed to the upstream end face 31b of the input floating stage 31. The transfer plate 39 is partially in the upstream direction, that is, in the (-X) direction from the input floating stage 31 in the width direction (Y direction), the connecting portion 391 and the connecting portion 391 having almost the same length. It has an extended projection 392. The upper surface 39a of the transfer plate 39, including the connecting portion 391 and the protruding portion 392, is flush with the upper surface 31a of the entrance floating stage 31 at the same height. That is, the upper surface 31a of the entrance floating stage 31 and the upper surface 39a of the transfer plate 39 form a continuous single plane. The upper surface 39a of the transfer plate 39 is provided with a gas ejection hole like the upper surface 31a of the inlet floating stage 31, and the buoyant gas gives the substrate S buoyancy from below. It becomes possible.

돌출부(392)는, 폭방향(Y 방향)에 있어서는, 하류측의 반송 롤러(212)와는 다른 위치에 설치된다. 이 때문에, 돌출부(392)는, 폭방향으로 이격 배치된 복수의 반송 롤러(212)의 사이에 들어가도록 연장되어 있다. 이 예에서는, Y 방향으로 배열된 4개의 반송 롤러(212) 사이의 공간에 총 3개의 돌출부(392)가 설치되어 있다. 환언하면, 트랜스퍼 플레이트(39)는, 반송 롤러(212)의 위치에 대응하는 부분을 잘라냄으로써 반송 롤러(212)와의 간섭을 회피하면서, 상류측으로 연장되어 있다.The protruding portion 392 is provided at a position different from the downstream conveying roller 212 in the width direction (Y direction). For this reason, the protruding portion 392 is extended so as to enter between the plurality of conveying rollers 212 spaced apart in the width direction. In this example, a total of three projections 392 are provided in the space between the four conveying rollers 212 arranged in the Y direction. In other words, the transfer plate 39 extends to the upstream side while avoiding interference with the conveying roller 212 by cutting a portion corresponding to the position of the conveying roller 212.

도 3b는 입력 이재부(2)를 Y 방향으로 본 측면도이다. 회전·승강 구동 기구(22)에 의해, 반송 롤러(21)는, 도면에 실선으로 나타낸 상부 위치와 파선으로 나타낸 하부 위치의 사이를 이동한다. 실선으로 나타낸 상부 위치에서는, 반송 롤러(21)의 상단은, 일점쇄선으로 나타낸, 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a) 및 입구 부상 스테이지(31)의 상면(31a)의 높이보다도 상방으로 돌출한다. 파선으로 나타낸 하부 위치에서는, 반송 롤러(21)의 상단은, 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a) 및 입구 부상 스테이지(31)의 상면(31a)의 높이보다 하방까지 퇴피한다.3B is a side view of the input transfer member 2 viewed in the Y direction. The conveying roller 21 moves between the upper position indicated by the solid line in the drawing and the lower position indicated by the broken line by the rotation/elevation driving mechanism 22. In the upper position indicated by the solid line, the upper end of the conveying roller 21 protrudes above the height of the upper surface 39a of the transfer plate 39 and the upper surface 31a of the inlet floating stage 31, indicated by a dashed-dotted line. . In the lower position indicated by the broken line, the upper end of the conveying roller 21 is retracted to a level lower than the height of the upper surface 39a of the transfer plate 39 and the upper surface 31a of the inlet floating stage 31.

한편, X 방향에 있어서는, 트랜스퍼 플레이트(39)의(보다 엄밀하게는 돌출부(392)의) 상류측 단부(392a)는, 이점쇄선에 의해 나타낸 하류측 반송 롤러(212)의 회전축의 위치보다도 상류측까지 연장되어 있다. 또한, 원리적으로는, 트랜스퍼 플레이트(39)의 상류측 단부는 적어도 하류측 반송 롤러(212)의 회전축의 위치까지 연장되어 있으면 된다.On the other hand, in the X-direction, the upstream end 392a of the transfer plate 39 (more precisely, the protrusion 392) is upstream than the position of the rotational axis of the downstream conveying roller 212 indicated by the double-dashed line. It extends to the side. In addition, in principle, the upstream end of the transfer plate 39 should just extend at least to the position of the rotating shaft of the downstream conveying roller 212.

또한, 상기의 예에서는, 입구 부상 스테이지(31)의 상류측 단면(31b)에 그것과는 별체로 형성된 트랜스퍼 플레이트(39)가 고정되어 있다. 그러나 이를 대신해 이하와 같은 변형예를 채용할 수도 있다.Moreover, in the above example, the transfer plate 39 formed separately from it is fixed to the upstream end face 31b of the inlet floating stage 31. However, the following modifications can be adopted instead.

도 4a 및 도 4b는 트랜스퍼 플레이트를 대신하는 변형예를 나타낸 도이다. 도 4a에 나타낸 변형예에서는, 입구 부상 스테이지(131)의 상류측 단부가 부분적으로 더 상류측으로 돌출하여 돌출부(139)가 되어 있다. 이처럼 돌출부가 입구 부상 스테이지와 일체인 부재로서 구성되어도 된다. 또, 도 4b에 나타낸 변형예에서는, 접속부에 상당하는 부분이 없고, 돌출부에 상당하는 부분만이 별도의 부재(239)로서 입구 부상 스테이지(31)에 고정되어 있다. 이들 구성에 의해서도, 이하에 설명하는 기판(S)의 수도를 실시하는 것이 가능하다.4A and 4B are views showing a modified example in place of the transfer plate. In the modified example shown in Fig. 4A, the upstream end of the entrance floating stage 131 partially protrudes further upstream to become a projection 139. As such, the protrusion may be configured as a member integral with the entrance floating stage. In the modified example shown in Fig. 4B, there is no portion corresponding to the connecting portion, and only the portion corresponding to the protruding portion is fixed to the entrance floating stage 31 as a separate member 239. Even with these structures, it is possible to perform the water supply of the substrate S described below.

도 5는 이 실시형태에 있어서의 기판 반송의 흐름을 나타낸 플로차트이다. 또한, 도 6a 내지 도 6d는 반송 중의 장치 각부 상태를 모식적으로 나타낸 도면이다. 도 5에서는, 도포 처리의 대상이 되는 기판(S)이 도포 장치(1)의 입력 컨베이어(100)에 반입되고, 입력 이재부(2)를 통해 부상 스테이지부(3)에 반송될 때까지의 동작의 흐름이 나타나 있다. 이후의 동작에 대해서는, 예를 들면 특허 문헌 1에 기재된 동작 내용을 적용하는 것이 가능하기 때문에, 여기서는 설명을 생략한다.5 is a flow chart showing the flow of substrate transport in this embodiment. 6A to 6D are views schematically showing the state of each part of the device during transportation. In Fig. 5, until the substrate S, which is the object of the coating process, is carried into the input conveyor 100 of the coating device 1 and conveyed to the floating stage part 3 through the input transfer part 2 The flow of action is shown. For the subsequent operation, for example, it is possible to apply the operation contents described in Patent Document 1, and therefore, the description is omitted here.

반송 롤러(21)는, 회전·승강 구동 기구(22)에 의해 미리 상부 위치에 위치 결정된다(단계 S101). 반송 로봇이나 전처리 장치 등 외부로부터 처리 대상의 기판(S)이 입력 컨베이어(100)에 반입된다(단계 S102). 그리고 도 6a에 나타낸 바와 같이, 롤러 컨베이어(101)의 회전에 의해, 기판(S)은 반송 방향(Dt), 즉 (＋X) 방향으로 반송된다(단계 S103).The conveying roller 21 is previously positioned at the upper position by the rotation/elevating drive mechanism 22 (step S101). The substrate S to be processed is loaded into the input conveyor 100 from the outside, such as a transfer robot or a pre-processing device (step S102). Then, as shown in Fig. 6A, by the rotation of the roller conveyor 101, the substrate S is conveyed in the conveying direction Dt, i.e., (+X) direction (step S103).

기판(S)이 입력 이재부(2)에 도달하면, 반송 롤러(21)의 회전에 의해서도 기판(S)이 반송되게 된다(단계 S104). 이렇게 반송을 계속하는 동안에, 반송되는 기판(S)의 선두부(Sa)가 소정의 「트랜스퍼 위치」에 도달한 것이 도시되지 않은 센서에 의해서 검출되면(단계 S105), 그 시점에서 반송이 일단 정지된다(단계 S106).When the board|substrate S reaches the input transfer part 2, the board|substrate S will also be conveyed by rotation of the conveyance roller 21 (step S104). While continuing the conveyance in this way, if it is detected by a sensor (not shown) that the leading part Sa of the conveyed substrate S has reached a predetermined "transfer position" (step S105), the conveyance is once stopped at that point. It becomes (step S106).

「트랜스퍼 위치」는, 도 6b에 나타난 바와 같이, 반송 방향(Dt)에 있어서의 기판(S)의 선두부(Sa)가 일점쇄선으로 나타낸 반송 롤러(212)의 회전축 위치보다 하류측의 적절한 위치에 도달했을 때의, 기판(S)의 위치이다. 이 때, 기판(S)은 반송 롤러(21)에 의해 하면이 지지되고, 그 선두부(Sa)가 반송 롤러(212)의 상단으로부터 다소 하류측으로 돌출된 상태가 되어 있다. 반송 롤러(21)의 상단이 롤러 컨베이어(101)의 상태보다 상방(상부 위치)에 있을 때, 기판(S)은 그 선두부(Sa)가 반송 롤러(21)에 의해 밀어 올려진 상태가 된다.The "transfer position" is an appropriate position downstream of the rotational axis position of the conveyance roller 212 in which the leading part Sa of the substrate S in the conveyance direction Dt is indicated by a dashed-dotted line in the conveyance direction Dt. It is the position of the board|substrate S when it reached. At this time, the lower surface of the substrate S is supported by the conveying roller 21, and the leading portion Sa is protruded somewhat downstream from the upper end of the conveying roller 212. When the upper end of the conveying roller 21 is above (upper position) than the state of the roller conveyor 101, the substrate S is in a state where its leading part Sa is pushed up by the conveying roller 21. .

또한, 트랜스퍼 플레이트(39)는, 반송 롤러(212)의 회전축 위치보다도 상류측까지 연장되어 있다. 따라서, 위에서 보면, 이 때 기판(S)과 트랜스퍼 플레이트(39)는 X 방향에 있어서 일부가 겹친 상태가 되어 있다. 상부 위치에 있는 반송 롤러(212)의 상단은, 트랜스퍼 플레이트 상면(39a)보다 상방에 있다. 그렇기 때문에, 기판(S)과 트랜스퍼 플레이트(39)는 접촉해 있지 않고, 기판(S)의 선두부(Sa)는 트랜스퍼 플레이트(39)의 상방에 위치해 있게 된다. 환언하면, 트랜스퍼 플레이트(39)의 선단이 기판(S)의 하방에 들어가 있다.In addition, the transfer plate 39 extends upstream from the position of the rotating shaft of the conveying roller 212. Therefore, when viewed from above, at this time, the substrate S and the transfer plate 39 are partially overlapped in the X direction. The upper end of the transfer roller 212 in the upper position is above the transfer plate upper surface 39a. Therefore, the substrate S and the transfer plate 39 are not in contact, and the leading portion Sa of the substrate S is located above the transfer plate 39. In other words, the tip of the transfer plate 39 enters below the substrate S.

이 상태로부터, 반송 롤러(21)가 하부 위치까지 하강된다(단계 S107). 그 결과, 도 6c에 나타낸 바와 같이, 기판(S)의 하면(Sb)이 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a)의 높이까지 하강한 시점에서, 반송 롤러(21)에 의한 지지가 종료되고, 이후에는 기판(S)의 선두부(Sa)가 트랜스퍼 플레이트(39)에 의해 지지된 상태가 된다. 즉, 반송 롤러(21)로부터 입구 부상 스테이지(31)로의 기판(S)의 수도가 실현된다. 또한, 트랜스퍼 플레이트 상면(39a)에서는 기체가 분출되고 있다. 이 때문에, 기판(S)은 트랜스퍼 플레이트 상면(39a)에 맞닿는 것이 아니라, 소정의 갭을 두고 트랜스퍼 플레이트 상면(39a)으로부터 약간 부상한 상태로 지지되게 된다.From this state, the conveying roller 21 is lowered to the lower position (step S107). As a result, as shown in Fig. 6C, when the lower surface Sb of the substrate S descends to the height of the upper surface 39a of the transfer plate 39, the support by the conveying roller 21 ends, Thereafter, the leading portion Sa of the substrate S is brought into a state supported by the transfer plate 39. That is, the water supply of the substrate S from the conveying roller 21 to the entrance floating stage 31 is realized. In addition, gas is ejected from the upper surface 39a of the transfer plate. For this reason, the board|substrate S does not contact the upper surface 39a of the transfer plate, but is supported in the state which slightly floated from the upper surface 39a of the transfer plate with a predetermined gap.

반송 롤러의 하강 후, 입력 컨베이어(100)의 롤러 컨베이어(101)가 다시 회전하여 기판(S)의 반송이 재개된다(단계 S108). 이에 의해, 도 6d에 나타낸 바와 같이, 기판(S)은 더 (＋X) 방향으로 반송되어 선두부(Sa)는 트랜스퍼 플레이트 상면(39a)으로부터 입구 부상 스테이지 상면(31a)으로 진행되어 간다. 그리고, 특허 문헌 1에 기재된 기술과 마찬가지로, 기판(S)이 입력 이재부(2)로부터 입구 부상 스테이지(31)에 수도된 후, 척 기구(51)에 의해 반송되게 된다. 예를 들면, 하부 위치까지 하강한 반송 롤러(21)와 기판 하면(Sb)의 간극에 척 기구(51)를 진입시켜, 기판(S)을 척 기구(51)에 유지시킬 수 있다.After the conveying roller is lowered, the roller conveyor 101 of the input conveyor 100 rotates again, and the conveyance of the substrate S is resumed (step S108). Thereby, as shown in FIG. 6D, the board|substrate S is further conveyed in (+X) direction, and the leading part Sa advances from the transfer plate upper surface 39a to the entrance floating stage upper surface 31a. Then, as in the technique described in Patent Document 1, the substrate S is transferred from the input transfer member 2 to the entrance floating stage 31 and then conveyed by the chuck mechanism 51. For example, the chuck mechanism 51 is allowed to enter the gap between the conveying roller 21 lowered to the lower position and the lower surface Sb of the substrate, so that the substrate S can be held in the chuck mechanism 51.

이와 같이, 본 실시형태에 있어서의 입력 이재부(2)로부터 부상 스테이지부(3)로의 기판(S)의 수도에서는, 기판(S)을 반송 방향(Dt)으로 이동시킴으로써 수도를 실시하는 것은 아니다. 즉, 기판(S)의 하방에 트랜스퍼 플레이트(39)가 들어간 상태로, 기판(S)을 지지하는 반송 롤러(21)를 하강시킴으로써 수도를 실시한다. 그렇기 때문에, 반송에 의한 수도에서 발생할 수 있는, 기판(S)의 선두부(Sa)가 처진 상태로 반송되어 스테이지 단면에 접촉하는 문제가 해소되고 있다.In this way, in the water supply of the substrate S from the input transfer unit 2 to the floating stage unit 3 in the present embodiment, water transfer is not performed by moving the substrate S in the transport direction Dt. . That is, water supply is performed by lowering the transport roller 21 supporting the substrate S while the transfer plate 39 enters below the substrate S. For this reason, the problem that the leading part Sa of the substrate S, which may occur in the water supply by conveying, is conveyed in a sagging state and is in contact with the end face of the stage is solved.

도 7은 반송계의 지지 기구를 나타낸 도면이다. 도포 장치(1)에 있어서, 입구 부상 스테이지(31)를 포함하는 부상 스테이지부(3) 및 도포 기구(7) 등의 주요한 구성은, 튼튼한 기대(10)에 설치되어 있다. 한편, 입력 이재부(2)는 기대(10)로부터 기계적으로 분리되어 있다. 구체적으로는, 반송 롤러(21(211, 212)) 및 이를 회전시키는 모터(221)는, 승강 프레임(222)에 장착되어 있다. 승강 프레임(222)은 승강 기구(223)에 의해 승강 가능하게 지지된다. 승강 기구(223)는 베이스부(20)에 의해 지지된다. 모터(221), 승강 프레임(222) 및 승강 기구(223)가 일체적으로, 본 실시형태에서의 회전·승강 구동 기구(22)로서의 기능을 가지고 있다.It is a figure which showed the support mechanism of a conveyance system. In the coating apparatus 1, the main structures, such as the floating stage part 3 including the entrance floating stage 31, and the coating mechanism 7, are provided in the sturdy base 10. On the other hand, the input transfer part 2 is mechanically separated from the base 10. Specifically, the conveying rollers 21 (211, 212) and the motor 221 for rotating them are attached to the lifting frame 222. The elevating frame 222 is supported so as to be elevable by the elevating mechanism 223. The lifting mechanism 223 is supported by the base portion 20. The motor 221, the elevating frame 222, and the elevating mechanism 223 integrally have a function as the rotating/elevating driving mechanism 22 in this embodiment.

베이스부(20)는 기대(10)와는 독립된 구조물로서 구성된다. 그리고 트랜스퍼 플레이트(39)는 입구 부상 스테이지(31)에 고정되어 있다. 즉, 트랜스퍼 플레이트(39)는 입구 부상 플레이트(31)를 개재하여 기대(10)에 의해 지지되어 있으며. 입력 이재부(2)와는 기계적으로는 분리되어 있다.The base portion 20 is configured as a structure independent of the base 10. And the transfer plate 39 is fixed to the entrance floating stage 31. That is, the transfer plate 39 is supported by the base 10 via the entrance floating plate 31. The input transfer part 2 is mechanically separated.

만일 트랜스퍼 플레이트(39)를 입력 이재부(2)와 일체로 지지했을 경우, 트랜스퍼 플레이트(39)와 입구 부상 스테이지(31)는 서로 독립된 지지 기구로 지지되어 있다. 이 때문에, 반송 롤러(21)의 회전이나 승강에 수반하는 진동에 의해서, 트랜스퍼 플레이트(39)와 입구 부상 스테이지(31)의 사이에 위치 어긋남이 발생하는 경우가 있다. 특히, 장기간의 가동에 수반하는 누적적인 위치 어긋남은, 트랜스퍼 플레이트(39)와 입구 부상 스테이지(31)의 사이에 간극을 발생시키거나, 양자 간에 연직 방향의 단차를 발생시킨다. 이는 기판(S)의 원활한 반송을 저해하고, 반송 불량이나 기판(S)의 손상의 원인이 된다.If the transfer plate 39 is integrally supported with the input transfer member 2, the transfer plate 39 and the inlet floating stage 31 are supported by independent support mechanisms. For this reason, the positional displacement may arise between the transfer plate 39 and the entrance floating stage 31 by the vibration accompanying rotation or lifting of the conveyance roller 21. In particular, the cumulative positional displacement accompanying long-term operation creates a gap between the transfer plate 39 and the inlet floating stage 31, or a vertical step difference between the two. This hinders smooth transportation of the substrate S, and may cause defective transportation or damage to the substrate S.

이 문제를 회피하기 위해, 본 실시형태에서는, 트랜스퍼 플레이트(39)를 입구 부상 스테이지(31)에 고정하거나, 혹은 이들을 일체화하는 등의 방법에 의해, 입력 이재부(2)의 동작에 수반하는 진동이 트랜스퍼 플레이트(39)와 입구 부상 스테이지(31)의 위치 관계에 영향을 주지 않게 하고 있다. 이에 의해, 기판(S)이 트랜스퍼 플레이트(39)로부터 입구 부상 스테이지(31)에 이송될 때에, 그 단차에 충돌하는 문제가 회피된다. 또한 도 4a에 나타낸 바와 같이, 돌출부가 입력 부상 스테이지와 일체로 형성되어 있는 경우에는, 본질적으로 이러한 문제는 발생하지 않는다.In order to avoid this problem, in this embodiment, the vibration accompanying the operation of the input transfer member 2 is fixed by a method such as fixing the transfer plate 39 to the inlet floating stage 31 or integrating them. The positional relationship between the transfer plate 39 and the entrance floating stage 31 is not affected. Thereby, when the board|substrate S is transferred from the transfer plate 39 to the entrance floating stage 31, the problem of colliding with the level|step difference is avoided. Also, as shown in Fig. 4A, in the case where the protrusion is integrally formed with the input floating stage, this problem does not occur essentially.

도 8a 내지 도 8c는 트랜스퍼 플레이트의 다른 변형예를 나타낸 도면이다. 도 8a는 변형예에 있어서의 개략 구성을 나타낸 사시도이다. 또, 도 8b는 그 측면도, 도 8c는 정면도이다. 도 8a에 나타낸 바와 같이, 이 변형예에서는, 트랜스퍼 플레이트(39)의 각 돌출부(392)의 상류측 단면(392a)에 프리 롤러(395)가 설치되어 있다. 보다 구체적으로는, 프리 롤러(395)는 지지 부재(396)에 대해 회전 가능하게 장착되어 있고 지지 부재(396)가 돌출부(392)의 (-X) 방향측 단면(392a)에 고정되어 있다. 프리 롤러(395)는 구동원에 접속되어 있지 않고 자유 회전한다.8A to 8C are views showing another modification of the transfer plate. 8A is a perspective view showing a schematic configuration in a modification. 8B is a side view, and FIG. 8C is a front view. As shown in Fig. 8A, in this modified example, a free roller 395 is provided on the upstream end face 392a of each projection 392 of the transfer plate 39. More specifically, the free roller 395 is rotatably mounted with respect to the support member 396, and the support member 396 is fixed to the cross section 392a in the (-X) direction of the protrusion 392. The free roller 395 is not connected to a drive source and rotates freely.

도 8b에 나타낸 바와 같이, 측면에서 보았을 때, 프리 롤러(395)의 상단은, 일점쇄선으로 나타낸 트랜스퍼 플레이트(39) 및 입구 부상 스테이지(31)의 상면의 높이와 같은 높이, 또는 이보다 높으며, 또한 이점쇄선으로 나타낸 반송 롤러(21)(212)가 상부 위치에 있을 때의 상단의 높이보다 낮은 위치에 배치된다.As shown in Fig. 8B, when viewed from the side, the top of the free roller 395 is equal to or higher than the height of the upper surface of the transfer plate 39 and the entrance floating stage 31, indicated by a dashed-dotted line, and also The conveying rollers 21 and 212 indicated by the double-dashed line are arranged at a position lower than the height of the upper end when in the upper position.

도 8c에 나타낸 바와 같이, 이와 같이 구성된 프리 롤러(395)는, 반송 롤러(212)에 의해 반송되고 있는 기판(S) 중, 폭방향(Y 방향)에 있어서 반송 롤러(212)에 의한 지지를 받지 않은 부분에 하방으로부터 맞닿는다. 이에 의해, 이 부분이 하향으로 휘어 트랜스퍼 플레이트(39)의 상면(39a)보다 하방까지 처지는 것이 방지된다.As shown in Fig. 8C, the free roller 395 configured as described above, among the substrates S being conveyed by the conveying roller 212, supports by the conveying roller 212 in the width direction (Y direction). It comes into contact with the part that was not received from below. Thereby, this part is bent downward and it is prevented from sagging to the lower side than the upper surface 39a of the transfer plate 39.

기판(S)의 하면(Sb)이 트랜스퍼 플레이트 상면(39a)보다 하방에 있는 상태로 반송되면, 이 부분에서 기판(S)의 선두부가 트랜스퍼 플레이트(39)의 단면(392a)에 충돌해 버리게 된다. 프리 롤러(395)로 기판(S)을 보조적으로 지지함으로써, 이러한 문제를 회피할 수 있다.When the lower surface Sb of the substrate S is conveyed in a state below the upper surface 39a of the transfer plate, the leading portion of the substrate S collides with the end surface 392a of the transfer plate 39 at this portion. . By assisting the substrate S with the free roller 395, this problem can be avoided.

또한, 여기서는 원리 설명을 위해 1개의 돌출부(392)에 대해 1개의 프리 롤러(395)가 설치된 예를 이용했지만, 1개의 돌출부(392)에 대해, 폭방향으로 위치를 다르게 해 복수의 프리 롤러(395)가 설치되어도 된다. 또, 이 프리 롤러(395)는, 돌출부(392)의 단면뿐만 아니라, 필요에 따라 기판 반송 경로상의 적절한 위치에 배치되어도 된다. 이렇게 함으로써, 반송되는 기판(S)의 휨을 보다 저감하여, 안정된 반송 및 입력 이재부(2)로부터 부상 스테이지부(3)로의 원활한 수도를 실현하는 것이 가능해진다.In addition, here, an example in which one free roller 395 is installed for one protrusion 392 is used for explanation of the principle, but a plurality of free rollers having different positions in the width direction with respect to one protrusion 392 are used ( 395) may be installed. In addition, the free roller 395 may be arranged not only in the cross section of the protruding portion 392, but also in an appropriate position on the substrate transport path as necessary. By doing in this way, it becomes possible to further reduce the warpage of the conveyed substrate S, and to realize stable conveyance and smooth water supply from the input transfer part 2 to the floating stage part 3.

이상 설명한 것처럼, 상기 실시형태의 도포 장치(1)는, 본 발명의 「기판 반송 장치」의 일 실시형태를 구성의 일부로서 포함하는 장치인 것과 더불어, 본 발명의 「도포 장치」의 일 실시형태이기도 하다. 이 실시형태에 있어서, 반송 롤러(21) 중 하류측의 것, 즉 하류측 반송 롤러(212)가 본 발명의 「반송 롤러」로서 기능하는 한편, 회전·승강 구동 기구(22)가 본 발명의 「승강 기구」로서 기능하고 있다. 또, 부상 스테이지부(3), 특히 입구 부상 스테이지(31)가 본 발명의 「기판 지지 스테이지」로서 기능하고 있다. 그리고, 상면(31a)이 본 발명의 「기판 지지면」에 상당한다.As described above, the coating device 1 of the above-described embodiment is a device including one embodiment of the "substrate conveying device" of the present invention as part of the configuration, and an embodiment of the "applying device" of the present invention It is also. In this embodiment, the downstream side of the conveying roller 21, that is, the downstream conveying roller 212 functions as the "conveying roller" of the present invention, while the rotating and elevating driving mechanism 22 of the present invention It functions as a "lifting mechanism." Moreover, the floating stage part 3, especially the entrance floating stage 31 functions as the "substrate support stage" of the present invention. And the upper surface 31a corresponds to the "substrate support surface" of this invention.

또한, 상기 실시형태에서는, 트랜스퍼 플레이트(39)가 본 발명의 「연신부」 및 「서브 스테이지」로서 기능하고 있다. 그리고 기대(10) 및 베이스부(20)가 각각 본 발명의 「스테이지 지지부」 및 「반송계 지지부」로서 기능하고 있다. 또한, 프리 롤러(395)가 본 발명의 「보조 롤러」로서 기능하고 있다. 또한, 입력 컨베이어(100) 및 척 기구(51)가, 모두 본 발명의 「부반송 기구」로서 기능할 수 있다. 또한, 도포 스테이지(32)가 본 발명의 「부력 부여부」로서 기능하고 있다.Moreover, in the said embodiment, the transfer plate 39 functions as the "stretching part" and "substage" of this invention. Then, the base 10 and the base 20 function as the "stage support" and "carrier support" of the present invention, respectively. Further, the free roller 395 functions as the "secondary roller" of the present invention. In addition, both the input conveyor 100 and the chuck mechanism 51 can function as the "subcarriage mechanism" of the present invention. In addition, the coating stage 32 functions as the "buoyancy imparting part" of the present invention.

또한, 본 발명은 상기한 실시형태에 한정되는 것이 아니며, 그 취지를 벗어나지 않는 한 상술한 것 이외에 여러 가지 변경을 행하는 것이 가능하다. 예를 들면, 상기 실시형태에 있어서의 기판(S)의 수도에서는, 기판(S)의 선두부(Sa)가 반송 롤러(212)의 상단보다 약간 돌출된 시점에서 반송을 정지하고, 반송 롤러(212)를 하강시킴으로써 기판(S)을 수도한다. 그러나 반송을 더 계속하여, 예를 들면 기판(S)의 선두부(Sa)가 트랜스퍼 플레이트(39)로부터 입구 부상 스테이지(31)까지 진출한 시점에서 반송을 정지시키도록 해도 된다.In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit. For example, in the capital of the board|substrate S in the said embodiment, conveyance stops when the head part Sa of the board|substrate S protrudes slightly from the upper end of the conveyance roller 212, and conveyance roller ( The substrate S can also be lowered by lowering 212). However, the conveyance may be continued, and the conveyance may be stopped, for example, when the leading portion Sa of the substrate S advances from the transfer plate 39 to the entrance floating stage 31.

이 경우에도, 반송 롤러(212)의 상단을 통과한 기판(S)의 선두부(Sa)가 트랜스퍼 플레이트(39)에 다다르는 시점에서 트랜스퍼 플레이트(39)에 의한 부상 지지를 받을 수 있으므로, 원활한 반송이 가능하다. 단, 이 경우, 폭방향에 있어서 반송 롤러 사이에서 휨에 의해 처진 기판(S)이 돌출부(392)의 단면에 접촉하는 것을 방지하기 위해서, 적절한 위치에 프리 롤러(395)를 설치하는 것이 바람직하다.Even in this case, since the leading part Sa of the substrate S that has passed through the upper end of the conveying roller 212 reaches the transfer plate 39, it is possible to receive injury support by the transfer plate 39, so that the conveyance is smooth. This is possible. However, in this case, in order to prevent the substrate S sagging due to bending between the conveying rollers in the width direction from coming into contact with the end faces of the protrusions 392, it is preferable to provide the free rollers 395 at appropriate positions. .

또한, 상기 실시형태에서는, 트랜스퍼 플레이트(39)의 돌출부(392)는, 반송 롤러(212)의 회전축보다 약간 상류측까지 연장되어 있다. 이것을 더 연장하여, 예를 들면 상류측 반송 롤러(211)의 회전축 부근까지 연장되도록 해도 된다.Moreover, in the said embodiment, the protrusion part 392 of the transfer plate 39 extends slightly upstream from the rotation axis of the conveyance roller 212. You may extend this further, for example, to extend to the vicinity of the rotational axis of the upstream conveyance roller 211.

또한, 상기 실시형태의 도포 장치(1)는, 예를 들면 유리 기판이나 반도체 기판 등의 기판에 레지스트 액을 도포하는 장치를 상정한 것이다. 그러나, 기판의 종류나 토출되는 유체의 종류는 이들에 한정되지 않고 임의이다. 예를 들면, 유체는 액체에 한정되지 않고 기체여도 된다. 또, 도포에 한정되지 않고, 다른 목적으로 기판의 반송을 행하는 기판 반송 장치에도 본 발명을 적용하는 것이 가능하다.Moreover, the coating apparatus 1 of the said embodiment is supposing the apparatus which apply|coats a resist liquid, for example to a board|substrate, such as a glass substrate and a semiconductor substrate. However, the type of the substrate and the type of the fluid to be discharged are not limited to these and are arbitrary. For example, the fluid is not limited to a liquid and may be a gas. Moreover, it is not limited to application|coating, It is possible to apply this invention also to the board|substrate conveying apparatus which conveys a board|substrate for other purposes.

이상, 구체적인 실시형태를 예시하여 설명해온 것처럼, 본 발명에 따른 기판 반송 장치에 있어서, 예를 들면 연신부는, 상면으로부터 기체를 토출시켜 기판에 하방으로부터 부력을 부여하는 구성이어도 된다. 이러한 구성에 의하면, 연신부가, 반송 롤러로부터 수도되는 기판을 부상시킨 상태로 기판 지지 스테이지에 반송할 수 있다.As described above, specific embodiments have been exemplified and described, in the substrate transport apparatus according to the present invention, for example, the stretching portion may be configured to discharge a gas from an upper surface and apply buoyancy to the substrate from below. According to such a structure, a stretched part can convey to the board|substrate support stage in the state which the board|substrate which may also be transferred from the conveyance roller floats.

또 예를 들면, 승강 기구는, 반송 롤러가 기판을 반송한 후, 반송 롤러의 회전이 정지한 상태로 반송 롤러를 하강시키는 구성으로 할 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 반송 롤러로부터 연신부로의 기판의 수도가, 반송 방향으로의 이동을 수반하지 않는 반송 롤러의 승강만으로 실현된다. 이 때문에, 기판이 연신부나 기판 지지 스테이지의 단면에 접촉하는 것이 확실히 방지된다.Further, for example, the lifting mechanism can be configured to lower the conveying roller in a state where the rotation of the conveying roller is stopped after the conveying roller conveys the substrate. According to this configuration, the number of substrates from the conveying roller to the stretched portion is realized only by raising and lowering the conveying roller that does not involve movement in the conveying direction. For this reason, it is reliably prevented that the substrate comes into contact with the stretched portion or the end face of the substrate support stage.

또 예를 들면, 연신부는, 반송 방향에 있어서 기판 지지 스테이지의 최상류측 단부에 연결된 서브 스테이지로서 할 수 있다. 혹은, 기판 지지 스테이지가 부분적으로 반송 방향에 있어서의 상류측으로 연장되어 연신부를 이루는 구성이어도 된다. 이와 같이, 연신부에 대해서는, 기판 지지 스테이지와 일체의 것으로서 형성된 구성, 또 별체로 형성되어 기판 지지 스테이지에 연결된 구성 중 어느 것에 의해서나 실현 가능하다. 이에 의해, 연신부의 상면과 기판 지지 스테이지의 상면을 연속한 것으로 할 수 있어, 기판의 원활한 반송이 가능해진다.Further, for example, the stretched portion can be a sub-stage connected to the uppermost end of the substrate support stage in the transport direction. Alternatively, the configuration may be such that the substrate support stage partially extends to the upstream side in the conveying direction to form a stretched portion. In this way, the stretched portion can be realized by either a structure formed as an integral part of the substrate support stage or a structure formed separately and connected to the substrate support stage. Thereby, the upper surface of the stretched portion and the upper surface of the substrate support stage can be made continuous, and smooth transfer of the substrate is enabled.

여기서, 연신부가 기판 지지 스테이지와는 별체의 서브 스테이지로서 설치되는 경우, 당해 서브 스테이지는 예를 들면, 기판 지지 스테이지의 최상류측 단부에 인접하여 설치된, 폭방향에 있어서의 길이가 기판 지지 스테이지와 대략 동일한 접속부와, 접속부로부터 부분적으로 반송 방향의 상류측을 향해 돌출된 돌출부를 가지는 구성으로 할 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 접속부의 상면을 기판 지지 스테이지의 상면과 일체인 것으로 간주할 수 있으므로, 실질적으로 기판 지지 스테이지의 단부가 연장되어 연신부를 이루는 구성과 같은 것으로서 기능시킬 수 있다.Here, when the stretched portion is provided as a sub-stage separate from the substrate support stage, the sub-stage has a length in the width direction approximately equal to the substrate support stage, for example, provided adjacent to the uppermost end of the substrate support stage. It can be set as the structure which has the same connection part and the protrusion part which protrudes toward the upstream side of a conveyance direction partially from the connection part. According to this configuration, since the upper surface of the connection portion can be regarded as integral with the upper surface of the substrate support stage, it is possible to substantially function as the same configuration as the end portion of the substrate support stage extending to form the stretched portion.

또한, 기판 지지 스테이지를 지지하는 스테이지 지지부와, 스테이지 지지부와는 별체로서 구성되어 반송 롤러 및 승강 기구를 지지하는 반송계 지지부가 더 설치되어도 되며, 이 경우 서브 스테이지는 기판 지지 스테이지를 개재하여 스테이지 지지부에 의해 지지되게 하는 것이 바람직하다. 회전 및 승강을 수반하는 반송 롤러 및 그 지지부에 있어서는 동작 시에 진동이 발생한다. 이러한 진동이 서브 스테이지에 전해지면, 서브 스테이지와 기판 지지 스테이지의 사이에 미소한 위치 어긋남이 발생하는 경우가 있다. 이로 인해 양자의 상면의 사이에 단차가 발생하면 기판의 반송이 저해될 우려가 있다. 이를 피하기 위해, 서브 스테이지는 반송계 지지부와는 별체의 스테이지 지지부에 의해 지지되는 것이 바람직하다.In addition, a stage support portion for supporting the substrate support stage and a transfer system support portion configured as a separate body from the stage support for supporting the conveying roller and the lifting mechanism may be further provided. In this case, the sub-stage supports the stage through the substrate support stage. It is preferred to be supported by. Vibration occurs during operation in the conveying roller and its supporting portion accompanying rotation and elevation. When such vibration is transmitted to the sub-stage, there may be a case where a small positional displacement occurs between the sub-stage and the substrate support stage. For this reason, if a step occurs between the upper surfaces of both, there is a fear that the transfer of the substrate is inhibited. To avoid this, it is preferred that the sub-stage is supported by a stage support separate from the carrier-based support.

또 예를 들면, 반송 롤러는 폭방향으로 위치를 다르게 해 복수 설치되며, 복수의 반송 롤러 간에 연신부가 설치된 구성으로 할 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 기판의 폭방향에 있어서의 복수 개소를 복수의 반송 롤러로 각각 지지함으로써, 기판을 수평에 가까운 자세로 지지, 반송할 수 있다. 또, 이들 반송 롤러의 사이에 연신부가 설치됨으로써, 반송 롤러로부터 연신부로의 기판의 수도를 보다 원활하게 실행할 수 있다.Further, for example, a plurality of transport rollers are provided with different positions in the width direction, and a stretched section may be provided between the plurality of transport rollers. According to such a structure, by supporting a plurality of places in the width direction of the substrate with a plurality of conveying rollers, the substrate can be supported and conveyed in a position close to the horizontal. Moreover, by providing an extending part between these conveying rollers, the number of substrates from a conveying roller to an extending part can be performed more smoothly.

또 예를 들면, 반송 방향에 있어서의 연신부의 최상류측 단부보다 상류측에, 상단의 높이가 연신부의 상면과 동일 또는 이보다 높고, 또한, 상부 위치에 위치 결정된 반송 롤러의 상단보다 낮은 보조 롤러가 설치되어도 된다. 이러한 구성에 의하면, 기판을 반송하는 반송 롤러로 지지되지 않은 기판 하면을 보조 롤러로 지지함으로써, 기판의 휨을 억제하고, 이 휨에 기인하여 발생할 수 있는, 연신부의 단면에 대한 기판의 충돌을 미연에 회피할 수 있다.Further, for example, in the conveying direction, on the upstream side of the uppermost end of the stretched portion, the height of the upper end is the same as or higher than the upper surface of the stretched portion, and an auxiliary roller lower than the upper end of the transfer roller positioned in the upper position. May be installed. According to this configuration, by supporting the lower surface of the substrate, which is not supported by the transport roller for transporting the substrate, with the auxiliary roller, the warpage of the substrate is suppressed, and the collision of the substrate against the end face of the stretched portion, which may occur due to this warpage, is not observed. To avoid.

또 예를 들면, 기판 지지 스테이지에 수도된 후의 기판을 반송 방향으로 반송하는 부반송 기구를 구비하고 있어도 된다. 이러한 구성에 의하면, 반송 롤러가 하부 위치에 하강하여 기판에 대한 반송력을 발휘하지 않게 된 후에도 기판을 반송 방향으로 반송하는 것이 가능하다.Further, for example, a sub-conveying mechanism for conveying the substrate after being transferred to the substrate support stage in the conveying direction may be provided. According to this structure, it is possible to convey the substrate in the conveying direction even after the conveying roller is lowered to the lower position and the conveying force to the substrate is no longer exerted.

또한, 본 발명은, 예를 들면 상기한 부반송 기구를 가지는 기판 반송 장치와 부반송 기구에 의해 반송되는 기판의 상면에 대향 배치되어 기판의 상면을 향해서 도포액을 토출하는 노즐을 구비하는 도포 장치로서 실시되어도 된다. 이러한 구성에 의하면, 상기 이유에 의해 안정적으로 반송되는 기판에 대해 노즐로부터 도포액이 공급되기 때문에, 기판의 상면에 균질의 도포막을 형성하는 것이 가능하다.In addition, the present invention is, for example, a substrate conveying device having the above-described sub-conveying mechanism and a coating device having a nozzle disposed opposite to the upper surface of the substrate conveyed by the sub-conveying mechanism to discharge the coating liquid toward the upper surface of the substrate. It may be carried out as. According to such a structure, since the coating liquid is supplied from the nozzle to the substrate stably conveyed for the above reason, it is possible to form a homogeneous coating film on the upper surface of the substrate.

예를 들면, 노즐의 하방에 배치되고, 부반송 기구에 의해 반송되어 노즐과의 대향 위치를 통과하는 기판의 하면에 기체를 토출하여, 기판에 하방으로부터 부력을 부여하는 부력 부여부가 설치되어도 된다. 이러한 구성에 의하면, 부상 상태로 지지되는 기판에 대해 도포가 행해진다. 이 때문에, 예를 들면 기판 하면 쪽을 기계적으로 지지하여 도포를 행하는 경우에 비해, 도포 시의 기판을 보다 평탄한 상태로 유지하는 것이 가능하고, 도포막의 품질 향상을 도모할 수 있다. 이 경우, 기판 반송 장치의 기판 지지 스테이지에 부력 부여부로서의 기능을 겸비시켜도 되고, 또 반송을 위한 기판 지지 스테이지와는 별도로, 도포 처리에 특화된 부력 부여부가 설치되어도 된다.For example, a buoyancy imparting portion which is disposed below the nozzle and is conveyed by the sub-conveying mechanism to discharge the gas to the lower surface of the substrate passing through the position opposite to the nozzle, and providing buoyancy from the bottom to the substrate may be provided. According to this structure, coating is performed on the substrate supported in the floating state. For this reason, it is possible to maintain the substrate at the time of coating in a more flat state, for example, and to improve the quality of the coating film, as compared with, for example, the case where the lower surface of the substrate is mechanically supported and applied. In this case, a function as a buoyancy imparting portion may be provided on the substrate support stage of the substrate conveying apparatus, and a buoyancy imparting portion specialized in coating treatment may be provided separately from the substrate support stage for conveyance.

본 발명은, 기판에 하방으로부터 부력을 부여하면서 지지, 반송하는 기판 반송 장치에 알맞게 적용 가능하다. 예를 들면, 기판을 수평 자세로 부상시키면서 그 표면에 도포액을 도포하는 도포 장치의 반송계에 적용할 수 있다. 그 외에도, 각종 목적으로 기판을 수평 자세로 반송하는 장치에 대해서, 본 발명을 알맞게 적용 가능하다.The present invention can be suitably applied to a substrate conveying apparatus for supporting and conveying while applying buoyancy from below to the substrate. For example, it can be applied to a transfer system of a coating device that applies a coating liquid to its surface while floating the substrate in a horizontal position. In addition, the present invention can be suitably applied to an apparatus for conveying a substrate in a horizontal position for various purposes.

1: 도포 장치(기판 반송 장치) 10: 기대(스테이지 지지부)
20: 베이스부(반송계 지지부) 21, 211, 212: 반송 롤러
22: 회전·승강 구동 기구(승강 기구)
31: 입구 부상 스테이지(기판 지지 스테이지)
31a: 기판 지지면 32: 도포 스테이지(부력 부여부)
39: 트랜스퍼 플레이트(연신부, 서브 스테이지)
51: 척 기구(부반송 기구) 71: 노즐
100: 입력 컨베이어(부반송 기구) 139, 239: 돌출부(연신부)
391: 접속부 392: 돌출부
395: 프리 롤러(보조 롤러) Dt: 반송 방향
S: 기판1: coating device (substrate conveying device) 10: base (stage support)
20: base (conveying system support) 21, 211, 212: conveying roller
22: rotary/elevating driving mechanism (elevating mechanism)
31: entrance injury stage (substrate support stage)
31a: substrate support surface 32: coating stage (buoyancy imparting part)
39: transfer plate (stretching section, sub-stage)
51: chuck mechanism (sub-conveying mechanism) 71: nozzle
100: input conveyor (sub-conveying mechanism) 139, 239: projection (extension)
391: connecting portion 392: protrusion
395: free roller (secondary roller) Dt: conveying direction
S: Substrate

Claims (12)

기판을 수평 자세로 반송하는 기판 반송 장치로서,
상기 기판을 하방으로부터 지지하면서 회전하여 상기 기판을 수평 방향으로 반송하는 반송 롤러와,
상기 기판의 반송 방향에 있어서의 상기 반송 롤러의 하류측에 인접하여 배치된 수평한 평탄면인 기판 지지면을 가지며, 상기 반송부에 의해 반송된 상기 기판을 받아들여, 상기 기판 지지면으로부터 기체를 토출시켜 하방으로부터 부력을 부여하여 상기 기판을 지지하는 기판 지지 스테이지와,
상기 반송 롤러를 승강시켜, 상기 기판 지지 스테이지의 상면보다도 상기 반송 롤러의 상단이 상방이 되는 상부 위치와, 상기 기판 지지 스테이지의 상면보다도 상기 반송 롤러의 상단이 하방이 되는 하부 위치의 사이에서 상기 반송 롤러를 이동시키는 승강 기구를 구비하고,
상기 반송 방향과 직교하는 수평 방향을 폭방향이라고 정의할 때,
상기 기판 지지 스테이지는, 상기 반송 방향에 있어서의 상류측을 향하여 단부가 부분적으로 연장된 연신부를 가지며, 평면에서 볼 때 상기 반송 롤러와는 상기 폭방향으로 다른 위치에서, 상기 연신부의 상기 반송 방향에 있어서의 최상류측 단부가 적어도 상기 반송 롤러의 회전축의 위치까지 연장되어 있으며, 상기 연신부의 상면은, 높이가 상기 기판 지지면과 동일하고, 또한 상기 기판 지지면과 연속되어 있으며,
상기 승강 기구에 의해 상기 상부 위치에 위치 결정된 상기 반송 롤러가, 평면에서 볼 때 상기 기판의 상기 반송 방향의 선두부가 상기 반송 롤러의 회전축보다도 상기 반송 방향의 하류 위치에 도달할 때까지 상기 기판을 반송하고, 그 후에 상기 승강 기구가 상기 반송 롤러를 상기 하부 위치로 하강시킴으로써, 상기 기판을 상기 반송 롤러로부터 상기 기판 지지 스테이지에 수도(受渡)하는, 기판 반송 장치.A substrate transport apparatus for transporting a substrate in a horizontal position,
A conveying roller that rotates while supporting the substrate from below to convey the substrate in a horizontal direction,
It has a substrate support surface which is a horizontal flat surface disposed adjacent to the downstream side of the transport roller in the transport direction of the substrate, accepts the substrate transported by the transport unit, and receives gas from the substrate support surface. A substrate support stage for discharging and applying buoyancy from below to support the substrate;
The conveyance roller is moved up and down, and the conveyance between the upper position where the upper end of the conveyance roller is above the upper surface of the substrate support stage and the lower position where the upper end of the conveyance roller is lower than the upper surface of the substrate support stage. Equipped with a lifting mechanism for moving the roller,
When defining the horizontal direction orthogonal to the conveying direction as the width direction,
The substrate support stage has an extending portion whose end partly extends toward the upstream side in the conveying direction, and in a position different from the conveying roller in the width direction when viewed in plan view, the conveying direction of the extending portion The uppermost end at the top extends at least to the position of the rotational axis of the transport roller, and the upper surface of the stretched portion has the same height as the substrate support surface and is continuous with the substrate support surface,
The conveying roller positioned at the upper position by the lifting mechanism conveys the substrate when viewed from a plane until the head of the conveying direction of the substrate reaches a position downstream of the conveying roller than the rotational axis of the conveying roller. Then, the said lifting mechanism lowers the said conveying roller to the said lower position, and the said board|substrate conveys the apparatus from which the said board|substrate is also transferred from the said conveying roller to the said board|substrate support stage. 청구항 1에 있어서,
상기 연신부는, 상면으로부터 기체를 토출시켜 상기 기판에 하방으로부터 부력을 부여하는, 기판 반송 장치.The method according to claim 1,
The said extending|stretching part is a board|substrate conveyance apparatus which discharges a gas from an upper surface and provides buoyancy to the said board|substrate from below. 청구항 1에 있어서,
상기 승강 기구는, 상기 반송 롤러가 상기 기판을 반송한 후, 상기 반송 롤러의 회전이 정지한 상태로 상기 반송 롤러를 하강시키는, 기판 반송 장치.The method according to claim 1,
The said lifting mechanism is a board|substrate conveyance apparatus which, after the said conveyance roller conveys the said board|substrate, lowers the said conveyance roller in the state which rotation of the said conveyance roller stopped. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연신부는, 상기 반송 방향에 있어서 상기 기판 지지 스테이지의 최상류측 단부에 연결된 서브 스테이지인, 기판 반송 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
The said extending|stretching part is a sub-stage connected to the uppermost end part of the said board|substrate support stage in the said conveyance direction, The board|substrate conveyance apparatus. 청구항 4에 있어서,
상기 서브 스테이지는, 상기 기판 지지 스테이지의 최상류측 단부에 인접하여 설치된, 상기 폭방향에 있어서의 길이가 상기 기판 지지 스테이지와 대략 동일한 접속부와, 상기 접속부로부터 부분적으로 상기 반송 방향의 상류측을 향하여 돌출된 돌출부를 갖는, 기판 반송 장치.The method according to claim 4,
The sub-stage is provided adjacent to the uppermost end of the substrate support stage, and the length in the width direction is approximately the same as that of the substrate support stage, and partially projects toward the upstream side in the transport direction from the connection portion. Substrate conveying device having an overhang. 청구항 4에 있어서,
상기 기판 지지 스테이지를 지지하는 스테이지 지지부와, 상기 스테이지 지지부와는 별체로서 구성되어, 상기 반송 롤러 및 상기 승강 기구를 지지하는 반송계 지지부를 구비하고,
상기 서브 스테이지는, 상기 기판 지지 스테이지를 개재하여 상기 스테이지 지지부에 의해 지지되는, 기판 반송 장치.The method according to claim 4,
A stage support portion supporting the substrate support stage, and a transfer system support portion configured as a separate body from the stage support portion to support the transfer roller and the lifting mechanism,
The said sub-stage is supported by the said stage support part via the said substrate support stage, The board conveyance apparatus. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 지지 스테이지가 부분적으로 상기 반송 방향에 있어서의 상류측으로 연장되어 상기 연신부를 이루는, 기판 반송 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
A substrate transport apparatus in which the substrate support stage partially extends upstream in the transport direction to form the stretching portion. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 반송 롤러는 상기 폭방향으로 위치를 다르게 해 복수 설치되며, 상기 복수의 반송 롤러 간에 상기 연신부가 설치되는, 기판 반송 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
The conveying roller is provided in a plurality of different positions in the width direction, the substrate conveying device, the stretching portion is provided between the plurality of conveying rollers. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 반송 방향에 있어서의 상기 연신부의 최상류측 단부보다 상류측에, 상단의 높이가 상기 연신부의 상면과 동일 또는 이보다 높고, 또한, 상기 상부 위치에 위치 결정된 상기 반송 롤러의 상단보다 낮은, 보조 롤러가 설치된, 기판 반송 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
In the conveying direction, on the upstream side of the uppermost end of the stretching portion, the height of the upper end is the same as or higher than the upper surface of the stretching portion, and further lower than the upper end of the conveying roller positioned at the upper position. A substrate conveying device provided with a roller. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판 지지 스테이지에 수도된 후의 상기 기판을 상기 반송 방향으로 반송하는 부반송 기구를 구비하는, 기판 반송 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
And a sub-conveying mechanism for conveying the substrate after being transferred to the substrate support stage in the conveying direction. 청구항 10에 기재된 기판 반송 장치와,
상기 부반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 상면에 대향 배치되어, 상기 기판의 상면을 향해 도포액을 토출하는 노즐을 구비하는, 도포 장치.The substrate transport apparatus according to claim 10,
And a nozzle disposed opposite to the upper surface of the substrate conveyed by the sub-conveying mechanism to discharge a coating liquid toward the upper surface of the substrate. 청구항 11에 있어서,
상기 노즐의 하방에 배치되며, 상기 부반송 기구에 의해 반송되어 상기 노즐과의 대향 위치를 통과하는 상기 기판의 하면에 기체를 토출하여, 상기 기판에 하방으로부터 부력을 부여하는 부력 부여부를 구비하는, 도포 장치.The method according to claim 11,
It is disposed below the nozzle, and is provided by a buoyancy imparting portion that is conveyed by the sub-carrying mechanism to discharge gas to a lower surface of the substrate passing through a position opposite to the nozzle, thereby applying buoyancy to the substrate from below. Application device.
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