JP5735161B1 - Coating apparatus and method for improving the same - Google Patents

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Abstract

【課題】塗布対象物の移送機能を備えて、設備を省スペース化することが可能であると共に、設備のレイアウト変更等で移設する際にも、コストアップを招来することのない塗布装置及びその改良方法を提供する。【解決手段】塗布液を吐出するノズル7を有する移動体6と、テーブル4に載置された基板3とが相対的に移動され、ノズルから吐出される塗布液を基板に塗布するようにした塗布装置1であって、基板を支持しつつテーブルに移送する支持アーム10が、移動体に設けられる。【選択図】図1Disclosed is a coating apparatus that has a function of transferring an object to be coated and can save space for the equipment, and that does not cause an increase in cost when the equipment is moved by changing the layout of the equipment, etc. Provide an improved method. A moving body having a nozzle for discharging a coating liquid and a substrate placed on a table are relatively moved so that the coating liquid discharged from the nozzle is applied to the substrate. A support arm 10 that is a coating apparatus 1 and transfers a table to a table while supporting a substrate is provided on the moving body. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、塗布対象物の移送機能を備えて、設備を省スペース化することが可能であると共に、設備のレイアウト変更等で移設する際にも、コストアップを招来することのない塗布装置及びその改良方法に関する。   The present invention provides a coating apparatus that has a function of transferring an object to be coated and can save space for the equipment, and that does not cause an increase in cost even when the equipment is moved by changing the layout of the equipment. It is related with the improvement method.

塗布液を塗布するノズルと塗布対象物とが相対的に移動しつつ塗布対象物に塗布液を塗布する塗布装置として、例えば、特許文献1が知られている。特許文献1の「塗布装置および塗布方法、ならびにカラーフィルター製造装置および製造方法」は、塗布液を吐出する吐出口を有する塗布器をテーブル上に保持された基板の塗布位置に移動させながら、該塗布器から塗布液を吐出することにより、基板表面に塗膜を形成する塗布方法において、前記テーブルは複数の基板を相重ならずに保持できるものであり、該テーブル上の任意の基板保持位置に載置された基板に塗膜を形成する間に、他の基板保持位置では基板の排出および/または基板の載置を行うようにしている。   For example, Patent Document 1 is known as an application apparatus that applies an application liquid to an application object while a nozzle for applying the application liquid and an application object move relatively. The “coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method” of Patent Document 1 are arranged such that the applicator having a discharge port for discharging the coating liquid is moved to the coating position of the substrate held on the table. In a coating method for forming a coating film on a substrate surface by discharging a coating solution from a coating device, the table can hold a plurality of substrates without overlapping each other, and any substrate holding position on the table While the coating film is formed on the substrate placed on the substrate, the substrate is discharged and / or placed at another substrate holding position.

特に、テーブルへ基板を搬入し、テーブルから基板を搬出する移載装置(ロボット)が、テーブルが設置されているベースに対して、基板搬送方向上流側及び下流側に設置されている。   In particular, transfer devices (robots) that carry substrates into and out of the tables are installed upstream and downstream in the substrate transport direction with respect to the base on which the tables are installed.

特開2002−102771号公報JP 2002-102771 A

背景技術では、塗布装置と、基板の搬入、搬出を行うロボット等の移載装置とが、別個に設置されていた。このため、塗布装置及び移載装置双方を設置し得る広いスペースが必要であった。また、設備のレイアウト変更や設備の移転などにあたって、工場等のスペースが狭いなどの理由により、塗布装置と移載装置とを、所望の位置に設置することができないおそれがあり、既存の移載装置を用いて塗布装置に対し基板の搬入、搬出を行うことができない場合には、移載装置を新たに購入したり製作しなければならないため、コストアップになってしまうという課題があった。   In the background art, a coating device and a transfer device such as a robot that carries in and out a substrate are separately installed. For this reason, the wide space which can install both a coating device and a transfer apparatus was required. In addition, when changing the layout of equipment or moving equipment, there is a possibility that the coating device and the transfer device cannot be installed at a desired position because the space of the factory is small, etc. In the case where the substrate cannot be carried into and out of the coating apparatus using the apparatus, a transfer apparatus must be newly purchased or manufactured, resulting in an increase in cost.

本発明は上記従来の課題に鑑みて創案されたものであって、塗布対象物の移送機能を備えて、設備を省スペース化することが可能であると共に、設備のレイアウト変更等で移設する際にも、コストアップを招来することのない塗布装置及びその改良方法を提供することを目的とする。   The present invention was devised in view of the above-described conventional problems, and has a function of transferring an object to be coated, which can save space for the equipment, and can be relocated by changing the layout of the equipment. It is another object of the present invention to provide a coating apparatus that does not cause an increase in cost and a method for improving the same.

本発明にかかる塗布装置は、塗布液を吐出するノズルを有するノズルユニットと、テーブルに載置された塗布対象物とが相対的に移動され、該ノズルから吐出される塗布液を塗布対象物に塗布するようにした塗布装置であって、前記テーブルは、塗布対象物を支持して昇降可能なリフトピンを備え、塗布対象物を支持しつつ上記テーブルに移送する支持アームが、上記ノズルユニットに設けられ、前記支持アームは、上記リフトピンにより上昇された状態の塗布対象物の下方に入り込み、該リフトピンが降下されることにより塗布対象物を支持し、上記リフトピンは、上昇することにより、上記支持アームに支持された状態の塗布対象物を持ち上げて支持することを特徴とする。 In the coating apparatus according to the present invention, a nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid and a coating object placed on a table are relatively moved, and the coating liquid discharged from the nozzle is applied to the coating object. A coating apparatus for coating, wherein the table includes lift pins that can move up and down while supporting a coating target, and a support arm that supports the coating target and moves to the table is provided in the nozzle unit. The support arm enters the lower part of the object to be applied that has been lifted by the lift pin, and supports the object by lowering the lift pin, and the lift pin is lifted to raise the support arm. The object to be applied is lifted and supported by the coating object .

前記支持アームは、上下方向の軸を中心に、前記リフトピンに支持された塗布対象物を支持可能な支持位置と、該リフトピンに支持された塗布対象物から退避される退避位置との間で水平方向に旋回される、あるいは上記ノズルユニットの幅方向にスライド移動自在とされ、該支持位置と該退避位置との間でスライド移動されることを特徴とする。 The support arm is horizontally between a support position capable of supporting the application target supported by the lift pin and a retreat position retracted from the application target supported by the lift pin, with the vertical axis as a center. The nozzle unit is slidable in the width direction or slidable in the width direction of the nozzle unit, and is slid between the support position and the retracted position .

本発明にかかる塗布装置の改良方法は、塗布液を吐出するノズルを有するノズルユニットと、塗布対象物を支持して昇降可能なリフトピンを備えるテーブルに載置された塗布対象物とが相対的に移動され、該ノズルから吐出される塗布液を塗布対象物に塗布するようにした既存の塗布装置の該ノズルユニットに、塗布対象物を支持しつつ上記テーブルに移送する支持アームを後付けする工程を含む塗布装置の改良方法であって、前記支持アームは、上記リフトピンにより上昇された状態の塗布対象物の下方に入り込み、該リフトピンが降下されることにより塗布対象物を支持し、上記リフトピンは、上昇することにより、上記支持アームに支持された状態の塗布対象物を持ち上げて支持することを特徴とする。  The improvement method of the coating device according to the present invention is such that a nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid and a coating object placed on a table having lift pins that can be lifted and lowered while supporting the coating object are relatively A step of retrofitting a support arm that moves and applies the coating liquid ejected from the nozzle to the table while supporting the coating object on the nozzle unit of the existing coating apparatus. The application device includes an improvement method, wherein the support arm enters below the application object in a state where the support pin is lifted by the lift pin, and the lift pin is lowered to support the application object. By lifting, the object to be coated supported by the support arm is lifted and supported.

前記支持アームは、上下方向の軸を中心に、前記リフトピンに支持された塗布対象物を支持可能な支持位置と、該リフトピンに支持された塗布対象物から退避される退避位置との間で水平方向に旋回される、あるいは上記ノズルユニットの幅方向にスライド移動自在とされ、該支持位置と該退避位置との間でスライド移動されることを特徴とする。
The support arm is horizontally between a support position capable of supporting the application target supported by the lift pin and a retreat position retracted from the application target supported by the lift pin , with the vertical axis as a center. The nozzle unit is slidable in the width direction or slidable in the width direction of the nozzle unit, and is slid between the support position and the retracted position .

本発明にかかる塗布装置及びその改良方法にあっては、塗布対象物の移送機能を備えて、設備を省スペース化することができると共に、設備のレイアウト変更等で移設する際にも、コストアップを防止することができる。   In the coating apparatus and the method for improving the same according to the present invention, it is possible to reduce the space of the equipment by providing a function of transferring the object to be coated, and also increase the cost when the equipment is moved by changing the layout of the equipment. Can be prevented.

本発明に係る塗布装置及びその改良方法の好適な一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows suitable one Embodiment of the coating device which concerns on this invention, and its improvement method. 図1に示した塗布装置に採用されるアーム本体の要部拡大斜視図である。It is a principal part expansion perspective view of the arm main body employ | adopted as the coating device shown in FIG. 図1に示した塗布装置の動作の前半を示す図であって、図3(a)〜(i)は第1動作から第9動作までを、正面側から見た模式図である。It is a figure which shows the first half of operation | movement of the coating device shown in FIG. 1, Comprising: Fig.3 (a)-(i) is the schematic diagram which looked at 1st operation to 9th operation from the front side. 図1に示した塗布装置の動作の後半を示す図であって、図4(j)〜(r)は第10動作から第18動作までを、正面側から見た模式図である。FIG. 4 is a diagram illustrating the latter half of the operation of the coating apparatus illustrated in FIG. 1, and FIGS. 4J to 4R are schematic views of the tenth operation to the eighteenth operation as viewed from the front side. 図1に示した塗布装置の動作を示す図であって、図5(a)〜(e)はそれぞれ、図3中、A矢視、B矢視、C矢視、D矢視、並びにE矢視を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the coating device shown in FIG. 1, Comprising: (a)-(e) is respectively A arrow view, B arrow view, C arrow view, D arrow view, and E in FIG. It is a figure which shows an arrow view. 図1に示した塗布装置に採用されるアームユニットと対比して、変形例に係るアームユニットを示す図であって、図6(a)は図1の実施形態のアームユニットの動作を、図6(b)は変形例に係るアームユニットの動作を、図6(c)は他の変形例に係るアームユニットの動作を示す平面図である。FIG. 6A is a diagram showing an arm unit according to a modification as compared with the arm unit employed in the coating apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 6A shows the operation of the arm unit of the embodiment of FIG. 6B is a plan view showing the operation of the arm unit according to the modification, and FIG. 6C is a plan view showing the operation of the arm unit according to another modification.

以下に、本発明にかかる塗布装置及びその改良方法の好適な一実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本実施形態に係る塗布装置(例えば、テーブルコータ(日本国登録商標)などと称される)を示す斜視図である。   Hereinafter, a preferred embodiment of a coating apparatus and a method for improving the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a coating apparatus (for example, called a table coater (registered trademark in Japan)) according to the present embodiment.

本実施形態に係る塗布装置1は概略的には、塗布液を吐出するノズル7を有するノズルユニットと、テーブル4に載置された塗布対象物である基板3とが相対的に移動され、ノズル7から吐出される塗布液を基板3に塗布するようにした塗布装置1であって、基板3を塗布装置1外部からテーブル4近くまで搬送する外部搬送装置14(図3及び図4に図示)とテーブル4との間で基板3を支持しつつ移送する支持アーム10が、ノズルユニットに設けられる。   In the coating apparatus 1 according to the present embodiment, a nozzle unit having a nozzle 7 that discharges a coating liquid and a substrate 3 that is a coating target placed on a table 4 are relatively moved, and the nozzle 7 is a coating apparatus 1 configured to apply the coating liquid discharged from the substrate 7 to the substrate 3, and the substrate 3 is transported from the outside of the coating apparatus 1 to the vicinity of the table 4 (shown in FIGS. 3 and 4). A support arm 10 is provided in the nozzle unit to transfer the substrate 3 while supporting the substrate 3.

外部搬送装置14は、所定位置に搬送された基板3を支持して昇降可能な外部リフトピン14bを備え、テーブル4は、基板3を支持して昇降可能なリフトピン4bを備え、支持アーム10は、外部リフトピン14b及びリフトピン4bのいずれか一方により上昇された状態の基板3の下方に入り込み、外部リフトピン14b及びリフトピン4bのいずれか一方が降下されることにより基板3を支持し、外部リフトピン14b及びリフトピン4bのいずれか一方は、上昇することにより、支持アーム10に支持された状態の基板3を持ち上げて支持するようになっている。   The external transfer device 14 includes an external lift pin 14b that can move up and down while supporting the substrate 3 transferred to a predetermined position, the table 4 includes a lift pin 4b that supports the substrate 3 and can be moved up and down, It enters below the substrate 3 raised by one of the external lift pins 14b and the lift pins 4b and supports the substrate 3 by lowering one of the external lift pins 14b and the lift pins 4b. The external lift pins 14b and the lift pins Any one of 4b raises and supports the board | substrate 3 of the state supported by the support arm 10 by raising.

テーブル4に載置された基板3に対してノズルユニットが移動されることにより、ノズルユニットと基板3との相対的な移動が行われる。支持アーム10は、上下方向の軸を中心に、外部リフトピン14b及びリフトピン4bのいずれか一方に支持された基板3を支持可能な支持位置と、外部リフトピン14b及びリフトピン4bのいずれか一方に支持された基板3から退避される退避位置との間で水平方向に旋回される。   By moving the nozzle unit with respect to the substrate 3 placed on the table 4, the nozzle unit and the substrate 3 are moved relative to each other. The support arm 10 is supported by a support position capable of supporting the substrate 3 supported by one of the external lift pins 14b and the lift pins 4b and one of the external lift pins 14b and the lift pins 4b with the vertical axis as the center. It is turned in the horizontal direction between the retracted position retracted from the substrate 3.

本実施形態に係る塗布装置1は例えば、基台2上に設けられ、塗布液の塗布対象物としての板状をなす基板3が載置される平面視長方形状のテーブル4と、基台2上に設けられ、テーブル4の一対の平行な縁に沿って設けられた一対のレール5と、一対のレール5に沿って移動可能な移動体6と、移動体6に設けられ、基板3に塗布する塗布液を吐出可能なノズル7とを備える。基板3は、テーブル4より面積が小さな長方形状に形成され、テーブル4上に載置されたときには、基板3の全体がテーブル4上に配置される。   The coating apparatus 1 according to the present embodiment is provided on a base 2, for example, and has a rectangular table 4 in plan view on which a plate-like substrate 3 as a coating object to be coated is placed, and the base 2. A pair of rails 5 provided along a pair of parallel edges of the table 4, a movable body 6 movable along the pair of rails 5, a movable body 6, and a substrate 3. And a nozzle 7 capable of discharging a coating liquid to be applied. The substrate 3 is formed in a rectangular shape having a smaller area than the table 4, and when placed on the table 4, the entire substrate 3 is placed on the table 4.

テーブル4は、基板3より広い面積を有し、上面は高精度の水平面に形成される。テーブル4には、互いに所定の間隔を隔てて、上下方向に貫通する貫通孔4aが複数設けられる。貫通孔4aにはそれぞれ、昇降可能なリフトピン4bが出没するように設けられる。リフトピン4bは、上端で基板3を支持する。このため、基板3は、リフトピン4bに支持されて、テーブル4の上方にて上下方向に移動可能であると共に、リフトピン4bの上端が、テーブル4の上面より下方へ没入することにより、テーブル4上に載置される。   The table 4 has a larger area than the substrate 3, and the upper surface is formed on a highly accurate horizontal plane. The table 4 is provided with a plurality of through-holes 4a penetrating in the vertical direction at predetermined intervals. Each through hole 4a is provided with a lift pin 4b that can be raised and lowered. The lift pins 4b support the substrate 3 at the upper end. For this reason, the substrate 3 is supported by the lift pins 4 b and can move in the vertical direction above the table 4, and the upper end of the lift pins 4 b is immersed below the upper surface of the table 4, thereby Placed on.

一対のレール5は、基台2上に、テーブル4を挟んで平行に配設される。レール5は、長方形状のテーブル4の長辺より長く設けられる。   The pair of rails 5 are disposed on the base 2 in parallel with the table 4 interposed therebetween. The rail 5 is provided longer than the long side of the rectangular table 4.

移動体6は、各レール5上を移動自在に設けられた2つの移動柱体8と、2つの移動柱体8に架け渡され、移動柱体8の上端部同士を連結する連結梁体9とから構成される。移動体の連結梁体9には、基板3を支持しつつ外部搬送装置14からテーブル4に移送し、あるいは、テーブル4から外部搬送装置14へ移送する支持アーム10を有する2つのアームユニット11が設けられる。   The moving body 6 spans between the two moving column bodies 8 provided so as to be movable on the rails 5 and the two moving column bodies 8 and connects the upper end portions of the moving column bodies 8 to each other. It consists of. In the connecting beam body 9 of the moving body, there are two arm units 11 having a support arm 10 that transfers the substrate 3 from the external transfer device 14 to the table 4 while supporting the substrate 3, or transfers from the table 4 to the external transfer device 14. Provided.

連結梁体9は、レール5に沿う方向(以下、相対移動方向という)と直交する方向(以下、幅方向という)に沿って、2つの移動柱体8に架け渡される。移動体6は、レール5に沿って移動すると、連結梁体9がテーブル4の上面から間隔を隔てて、テーブル4上方を移動する。   The connecting beam body 9 is bridged between the two moving column bodies 8 along a direction (hereinafter referred to as a width direction) orthogonal to a direction along the rail 5 (hereinafter referred to as a relative movement direction). When the moving body 6 moves along the rail 5, the connecting beam body 9 moves above the table 4 at a distance from the upper surface of the table 4.

2つのアームユニット11は、連結梁体9に、テーブル4の幅方向における中央から幅方向に振り分けた各位置に1つずつ固定して設けられる。2つのアームユニット11の各支持アーム10は、基板3を幅方向両側から挟むように配置され、後述する突起10cが基板3の下に入り込んで基板3を支持する。このため、支持アーム10は、基板3を支持するときに、レール5の長さ方向と平行に、互いに向かい合うように配置される。また、向かい合ったときの2つの支持アーム10の間隔は、いずれの支持アーム10も突起10cで支持した基板3の幅方向外側に位置するように、基板3の幅とほぼ等しくなるように配置される。   The two arm units 11 are fixedly provided to the connecting beam body 9 one by one at each position distributed in the width direction from the center in the width direction of the table 4. The support arms 10 of the two arm units 11 are arranged so as to sandwich the substrate 3 from both sides in the width direction, and a projection 10c described below enters under the substrate 3 to support the substrate 3. For this reason, the support arms 10 are arranged so as to face each other in parallel with the length direction of the rail 5 when supporting the substrate 3. Further, the distance between the two support arms 10 when facing each other is arranged so as to be substantially equal to the width of the substrate 3 so that both of the support arms 10 are located outside in the width direction of the substrate 3 supported by the protrusions 10c. The

2つのアームユニット11は各々、連結梁体9に固定されるベース12と、ベース12上に固定され、駆動軸13a(図6参照)がベース12を上下方向に貫通して設けられたモーター13と、モーター13の駆動軸に連結されてベース12の下側で水平方向に旋回自在に設けられ、基板3を支持する支持アーム10とを有している。   Each of the two arm units 11 is a base 12 fixed to the connecting beam 9 and a motor 13 fixed on the base 12 and having a drive shaft 13a (see FIG. 6) penetrating the base 12 in the vertical direction. And a support arm 10 that is connected to the drive shaft of the motor 13 and is pivotable in the horizontal direction below the base 12 and supports the substrate 3.

支持アーム10は、モーター13の駆動軸13aに連結された基端部10aと、基端部10aから所定方向に延びて基板3を保持するアーム本体10bとを有する。2つの支持アーム10は、基端部10aがモーター13により回転駆動されて、アーム本体10bが旋回し、基板3を支持可能な支持位置(図3(c)及び図3(e)参照)と、リフトピン4bまたは後述する外部リフトピン14bに支持された基板3から退避される退避位置(図3(a)、図3(b)及び図3(d)参照)との間で水平方向に旋回されるように構成される。図5に示すように、支持位置は、アーム本体10bがレール5に沿う方向に配置される位置であり、退避位置は、アーム本体10bが幅方向に沿って配置される位置である。   The support arm 10 includes a base end portion 10 a connected to the drive shaft 13 a of the motor 13 and an arm main body 10 b that extends from the base end portion 10 a in a predetermined direction and holds the substrate 3. The two support arms 10 have a base end portion 10a that is rotationally driven by a motor 13 so that the arm body 10b rotates to support the substrate 3 (see FIGS. 3C and 3E). , And is pivoted in a horizontal direction between a retreat position (see FIGS. 3 (a), 3 (b), and 3 (d)) retreated from a substrate 3 supported by lift pins 4b or external lift pins 14b described later. Configured to be As shown in FIG. 5, the support position is a position where the arm main body 10b is arranged in the direction along the rail 5, and the retracted position is a position where the arm main body 10b is arranged along the width direction.

図2は、アーム本体10bの要部拡大斜視図である。アーム本体10bには、支持アーム10が支持位置に移動したときに、互いに対向する側に向かって突出する突起10cが、先端側と基端部10a側とに設けられる。突起10cは、アーム本体10bの厚み(上下方向の幅)より薄く形成されると共に、アーム本体10bの上面よりも低い高さ位置に設けられる。これにより、突起10cとアーム本体10bとの間に段差10dが形成される。   FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the arm body 10b. The arm main body 10b is provided with protrusions 10c that protrude toward opposite sides when the support arm 10 is moved to the support position on the distal end side and the proximal end portion 10a side. The protrusion 10c is formed thinner than the thickness (width in the vertical direction) of the arm main body 10b, and is provided at a height position lower than the upper surface of the arm main body 10b. As a result, a step 10d is formed between the protrusion 10c and the arm body 10b.

基板3は、支持位置に移動した2つの支持アーム10の突起10c上に載置され、基板3の縁が水平方向から段差10d及びアーム本体10bの側面に当接する状態で支持アーム10上に支持される。   The substrate 3 is placed on the protrusions 10c of the two support arms 10 that have moved to the support position, and is supported on the support arm 10 with the edges of the substrate 3 coming into contact with the step 10d and the side surfaces of the arm body 10b from the horizontal direction. Is done.

2つの支持アーム10は、退避位置において、アーム本体10bが幅方向へ互いに反対方向に向かってテーブル4から突出される。2つの支持アーム10は、基板3を支持する際には、モーター13が右回り及び左回りに互いに反対方向に回転することにより、基板3に向かって近づくように旋回される。このため、2つの支持アーム10のアーム本体10bは、テーブル4を挟んで、対称な形状に形成される。   In the two support arms 10, the arm main body 10 b protrudes from the table 4 in the width direction in opposite directions at the retracted position. When the substrate 3 is supported, the two support arms 10 are turned so as to approach the substrate 3 by rotating the motor 13 clockwise and counterclockwise in opposite directions. For this reason, the arm main bodies 10b of the two support arms 10 are formed in a symmetrical shape with the table 4 interposed therebetween.

ノズル7は、連結梁体9の下に設けられる。ノズル7は、塗布液をテーブル4に載置された基板3に向けて吐出するようになっている。ノズル7は、テーブル4の幅方向全長にわたって、当該テーブル4と対向するように設けられる。移動体6がレール5に沿って移動しつつノズル7から塗布液が吐出されると、テーブル4のほぼ全面に載置された基板3に対し塗布液を塗布することができる。ノズル7を備えた移動体6がノズルユニットに相当する。そして、ノズルユニットがテーブル4に対して相対移動することにより、基板3に塗布液が塗布される。   The nozzle 7 is provided below the connecting beam body 9. The nozzle 7 discharges the coating liquid toward the substrate 3 placed on the table 4. The nozzle 7 is provided so as to face the table 4 over the entire length in the width direction of the table 4. When the coating liquid is discharged from the nozzle 7 while the moving body 6 moves along the rail 5, the coating liquid can be applied to the substrate 3 placed on almost the entire surface of the table 4. The moving body 6 provided with the nozzle 7 corresponds to a nozzle unit. Then, the nozzle unit moves relative to the table 4 so that the coating liquid is applied to the substrate 3.

上記構成の塗布装置1は、既に工場等の設備に設置されている既存の塗布装置を改良する場合に、当該既存の塗布装置の移動体6(ノズルユニットに相当)に、上述したような、基板3を支持しつつテーブル4に移送する支持アーム10を後付けする工程を含めた改良方法を適用することによっても、塗布装置1を新設する場合と同様に設備に組み込むことができる。   When the coating apparatus 1 having the above-described configuration is used to improve an existing coating apparatus already installed in a facility such as a factory, the moving body 6 (corresponding to the nozzle unit) of the existing coating apparatus, as described above, By applying an improved method including a step of retrofitting the support arm 10 that supports the substrate 3 and transfers it to the table 4, the coating apparatus 1 can be incorporated into the equipment as in the case of newly installing.

次に、本実施形態に係る塗布装置1の動作について、図3〜図5を用いて説明する。図3(a)〜(i)は、塗布装置1の第1動作から第9動作までを、正面側から見た模式図である。図4(j)〜(r)は、塗布装置1の第10動作から第18動作までを、正面側から見た模式図である。図5(a)〜(e)はそれぞれ、図3におけるA矢視、B矢視、C矢視、D矢視、並びにE矢視を示す図である。   Next, operation | movement of the coating device 1 which concerns on this embodiment is demonstrated using FIGS. 3A to 3I are schematic views of the first operation to the ninth operation of the coating apparatus 1 as viewed from the front side. FIGS. 4J to 4R are schematic views of the tenth operation to the eighteenth operation of the coating apparatus 1 as viewed from the front side. FIGS. 5A to 5E are views showing the A arrow view, the B arrow view, the C arrow view, the D arrow view, and the E arrow view in FIG. 3, respectively.

図3(a)及び図5(a)に示すように、塗布装置1の移動体6の移動方向(レール5の長さ方向)に並べて設けられた外部搬送装置14により、基板3が塗布装置1側の所定位置に搬送される。このとき、支持アーム10は、退避位置に位置している。   As shown in FIG. 3A and FIG. 5A, the substrate 3 is applied to the coating device by an external transfer device 14 arranged in the moving direction of the moving body 6 of the coating device 1 (length direction of the rail 5). It is conveyed to a predetermined position on one side. At this time, the support arm 10 is located at the retracted position.

外部搬送装置14は例えば、基板3を下から支持しつつ搬送することが可能な、細い複数本の搬送ベルト14aを、搬送ベルト14a同士の間に隙間を空けて、配設したものであり、上端で基板3を支持して昇降移動が可能な外部リフトピン14bは、搬送ベルト14a同士の隙間に配設される。基板3は、外部リフトピン14bに支持されて外部搬送装置14の上方で上下方向に移動可能とされる。外部リフトピン14bの上端が、外部搬送装置14の上面より下方に没入することにより、基板3は外部搬送装置14上に載置される。   The external transport device 14 is, for example, a plurality of thin transport belts 14a that can be transported while supporting the substrate 3 from below, with a gap between the transport belts 14a, and disposed. External lift pins 14b that can move up and down while supporting the substrate 3 at the upper end are disposed in a gap between the transport belts 14a. The substrate 3 is supported by the external lift pins 14b and is movable in the vertical direction above the external transfer device 14. When the upper end of the external lift pin 14 b is immersed below the upper surface of the external transfer device 14, the substrate 3 is placed on the external transfer device 14.

基板3が、図3(b)及び図5(b)に示すように、外部リフトピン14bにより、支持アーム10よりも高い位置まで上昇されると、支持アーム10が退避位置のまま、移動体6はレール5に沿って基台2の外部搬送装置14側の端まで移動する。   As shown in FIGS. 3B and 5B, when the substrate 3 is raised to a position higher than the support arm 10 by the external lift pin 14b, the movable body 6 remains in the retracted position. Moves along the rail 5 to the end of the base 2 on the external transfer device 14 side.

次に、2つの支持アーム10は水平方向へ旋回して、図3(c)及び図5(c)に示すように、2つの支持アーム10同士がほぼ平行となる基板3の支持位置に移動する。これにより、突起10cが基板3の下方に入り込む。   Next, the two support arms 10 pivot in the horizontal direction and move to the support position of the substrate 3 where the two support arms 10 are substantially parallel to each other, as shown in FIGS. 3 (c) and 5 (c). To do. As a result, the protrusion 10 c enters below the substrate 3.

次に、図3(d)に示すように、外部リフトピン14bが降下して、基板3が支持アーム10上に載置される。その後、図3(e)に示すように、支持アーム10が基板3を支持した状態で、移動体6がレール5に沿って基台2の外部搬送装置14側とは反対側の端まで移動する。   Next, as shown in FIG. 3D, the external lift pins 14 b are lowered and the substrate 3 is placed on the support arm 10. Thereafter, as shown in FIG. 3E, the moving body 6 moves along the rail 5 to the end opposite to the external transfer device 14 side of the base 2 with the support arm 10 supporting the substrate 3. To do.

次に、図3(f)及び図5(d)に示すように、リフトピン4bが上昇し、その上端が支持アーム10よりも高い位置まで上昇することにより、基板3は、支持アーム2からリフトピン4bに受け渡されて支持される。   Next, as shown in FIGS. 3 (f) and 5 (d), the lift pin 4b is raised and the upper end thereof is raised to a position higher than the support arm 10, whereby the substrate 3 is lifted from the support arm 2 to the lift pin. Passed to 4b and supported.

次に、図3(g)及び図5(e)に示すように、支持アーム10が退避位置に移動する。次いで、図3(h)に示すように、リフトピン4bが降下して、基板3はテーブル4上に載置される。   Next, as shown in FIGS. 3G and 5E, the support arm 10 moves to the retracted position. Next, as shown in FIG. 3 (h), the lift pins 4 b are lowered and the substrate 3 is placed on the table 4.

次に、図3(i)に示すように、移動体6が基台2上で外部搬送装置14の反対側から外部搬送装置14側に向かってレール5に沿って移動する(矢印f参照)。このとき、テーブル4に載置されている基板3に対し、ノズル7から塗布液を吐出して塗膜3aを形成する。その後、図4(j)に示すように、移動体6がレール5に沿って反対方向に移動して、元の位置に戻る(矢印g参照)。   Next, as shown in FIG. 3I, the moving body 6 moves on the base 2 along the rail 5 from the opposite side of the external transfer device 14 toward the external transfer device 14 (see arrow f). . At this time, the coating liquid 3a is formed by discharging the coating liquid from the nozzle 7 onto the substrate 3 placed on the table 4. Thereafter, as shown in FIG. 4 (j), the moving body 6 moves in the opposite direction along the rail 5 and returns to the original position (see arrow g).

移動体6が元の位置に戻った後、図4(k)に示すように、リフトピン4bが上昇し、基板3がリフトピン4bによって支持される。次いで、2つの支持アーム10が退避位置から支持位置へ向かって旋回する。図4(l)に示すように、2つのアーム本体10bがほぼ平行となる支持位置に移動すると、基板3の下方に突起10cが入り込む。その後、図4(m)に示すように、リフトピン4bが降下して、基板3は支持アーム10の突起10c上に載置され、アーム本体10bに保持される。   After the movable body 6 returns to the original position, as shown in FIG. 4 (k), the lift pins 4b are raised and the substrate 3 is supported by the lift pins 4b. Next, the two support arms 10 pivot from the retracted position toward the support position. As shown in FIG. 4L, when the two arm main bodies 10b move to a support position that is substantially parallel, the protrusion 10c enters the lower side of the substrate 3. Thereafter, as shown in FIG. 4M, the lift pins 4b are lowered, and the substrate 3 is placed on the protrusions 10c of the support arm 10 and held by the arm body 10b.

塗膜3aが形成された基板3が支持アーム10に支持された状態で、図4(n)に示すように、移動体6がレール5に沿って基台2の外部搬送装置14側の端まで移動する(矢印f参照)。これにより、基板3が外部搬送装置14の上方に位置される。   In a state where the substrate 3 on which the coating film 3 a is formed is supported by the support arm 10, as shown in FIG. 4 (n), the moving body 6 extends along the rail 5 on the end of the base 2 on the side of the external transport device 14. (See arrow f). As a result, the substrate 3 is positioned above the external transfer device 14.

次に、図4(o)に示すように、外部リフトピン14bが支持アーム10よりも高い位置まで上昇して、基板3は支持アーム10から外部リフトピン14bに受け渡されて支持される。その後、図4(p)に示すように、支持アーム10が旋回して退避位置に移動する。次いで、図4(q)に示すように、外部リフトピン14bが降下して、基板3は外部搬送装置14上に載置される。   Next, as shown in FIG. 4 (o), the external lift pin 14b rises to a position higher than the support arm 10, and the substrate 3 is transferred from the support arm 10 to the external lift pin 14b and supported. Thereafter, as shown in FIG. 4 (p), the support arm 10 turns and moves to the retracted position. Next, as shown in FIG. 4 (q), the external lift pins 14 b are lowered and the substrate 3 is placed on the external transfer device 14.

最後に、図4(r)に示すように、外部搬送装置14が稼働して、塗膜3aが形成された基板3が搬送されると共に、移動体6が元の位置に戻り(矢印g参照)、これにより一連の工程が終了する。   Finally, as shown in FIG. 4 (r), the external transfer device 14 is operated, the substrate 3 on which the coating film 3a is formed is transferred, and the moving body 6 returns to the original position (see arrow g). ), Thereby completing a series of steps.

本実施形態に係る塗布装置1及びその改良方法にあっては、基板3を搬送する外部搬送装置14と塗布を行うテーブル4との間で基板3を移送する支持アーム10が、ノズル7を備える移動体6に設けられている。すなわち、塗布液を塗布する際の移動装置と、基板3を外部搬送装置14とテーブル4との間で受け渡す際の移動装置とを兼ねている。これに対し、背景技術で説明した特許文献1の「塗布装置および塗布方法、ならびにカラーフィルター製造装置および製造方法」(特開2002−102771号公報)では、テーブルと、テーブルへ基板を搬入し、テーブルから基板を搬出する、ハンドを備えたロボットとを別々に設置している。別々に設置する特許文献1では、テーブル及びロボットに対し、個々に設備スペースを確保する必要がある。また、テーブル及びロボットはそれぞれ、個別に装置として完成したものであるため、大型な装置になってしまうと同時に、コストアップになってしまう。これに対し、本実施形態に係る塗布装置1及びその改良方法では、上述したように、テーブル4に備えられる塗布用の移動体6に、搬送用の支持アーム10を組み込むようにしていて、テーブルとハンド付きロボットが別々の特許文献1とは異なり、塗布機能と搬送機能を一体化した構成としている。このため、特許文献1のように、各々別個の移動装置等を備える場合よりも、コストを低減できると共に、装置そのものを小さくできて、設置スペースも狭くすることができる。要するに、本実施形態に係る塗布装置1及びその改良方法では、外部搬送装置14とテーブル4との間での基板3の移送機能を備えて、設備を省スペース化することができると共に、設備のレイアウト変更等で移設する際にも、コストアップを防止することができる。   In the coating apparatus 1 and the improvement method thereof according to the present embodiment, the support arm 10 that transports the substrate 3 between the external transport apparatus 14 that transports the substrate 3 and the table 4 that performs coating includes the nozzle 7. The movable body 6 is provided. In other words, it also serves as a moving device for applying the coating liquid and a moving device for transferring the substrate 3 between the external transfer device 14 and the table 4. On the other hand, in the “coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method” (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-102771) of Patent Document 1 described in the background art, a substrate and a substrate are carried into the table. A robot equipped with a hand that unloads substrates from the table is installed separately. In Patent Document 1 installed separately, it is necessary to secure an equipment space individually for the table and the robot. In addition, since the table and the robot are individually completed as devices, the table and the robot become a large device, and at the same time, increase the cost. On the other hand, in the coating apparatus 1 and the improvement method thereof according to the present embodiment, as described above, the support arm 10 for conveyance is incorporated in the moving body 6 for coating provided in the table 4, and the table Unlike the patent document 1 in which a robot with a hand and a robot are different from each other, the coating function and the transport function are integrated. For this reason, as in Patent Document 1, it is possible to reduce the cost, as well as to reduce the size of the device itself and to reduce the installation space, compared to the case where separate moving devices are provided. In short, the coating apparatus 1 and the improvement method thereof according to the present embodiment have a function of transferring the substrate 3 between the external transfer apparatus 14 and the table 4, and can save space for the equipment, Cost increases can also be prevented when relocating due to layout changes and the like.

そして、本実施形態に係る塗布装置1の改良方法によれば、既存の塗布装置の移動体6に、支持アーム10等を後付けする工程を含んで、既存の塗布装置を改良するようにしているので、これにより、既存の塗布装置自体、その場で改良できることはもちろんのこと、この既存の塗布装置を他所へ移設した際に、ロボット等の移載装置を別途設ける必要がなくなり、必要設置面積を小さく狭めることが可能となる。   And according to the improvement method of the coating device 1 which concerns on this embodiment, it is made to improve the existing coating device including the process of attaching the support arm 10 etc. to the moving body 6 of the existing coating device. Therefore, as a result, the existing coating apparatus itself can be improved on the spot, and when the existing coating apparatus is moved to another place, it is not necessary to separately provide a transfer device such as a robot, and the required installation area Can be made smaller.

また、本実施形態に係る塗布装置1及びその改良方法では、テーブル4が、基板3を支持して昇降可能なリフトピン4bを備え、支持アーム10は、その突起10cがリフトピン4bにより上昇された状態の基板3の下方に入り込み、リフトピン4bが降下されることにより基板3を支持し、リフトピン4bは、上昇することにより、支持アーム10に支持された状態の基板3を持ち上げて支持するようになっている。このため、支持アーム10により基板3を上下方向に移動させる必要がない。すなわち、支持アーム10は、基板3を水平方向に移送するだけで足り、複雑な動作を要求されることがない。支持アーム10は、ロボットのような複雑な運動機構が不要なので、コストダウンを図ることができる。   Further, in the coating apparatus 1 and the improvement method thereof according to the present embodiment, the table 4 includes lift pins 4b that can move up and down while supporting the substrate 3, and the support arm 10 has the protrusion 10c raised by the lift pins 4b. Then, the lift pin 4b is lowered to support the substrate 3, and the lift pin 4b is lifted to lift and support the substrate 3 supported by the support arm 10. ing. Therefore, it is not necessary to move the substrate 3 in the vertical direction by the support arm 10. That is, the support arm 10 only needs to move the substrate 3 in the horizontal direction, and does not require complicated operations. Since the support arm 10 does not require a complicated motion mechanism such as a robot, the cost can be reduced.

外部搬送装置14に対しても同様であって、基板3が外部リフトピン14bにより上昇された状態で、支持アーム10の突起10cが基板3の下に入り込み、外部リフトピン14bが降下することにより支持アーム10に基板3が支持され、また、支持アーム10に支持されている基板3は、外部リフトピン14bが上昇することにより、当該外部リフトピン14bに移し替えられて支持される。従って、支持アーム10は、複雑な運動機構が不要で、コストダウンを図ることができる。   The same applies to the external transfer device 14, and in a state where the substrate 3 is lifted by the external lift pins 14b, the protrusion 10c of the support arm 10 enters under the substrate 3 and the external lift pins 14b descend to support the support arm. The substrate 3 is supported by 10 and the substrate 3 supported by the support arm 10 is transferred to and supported by the external lift pins 14b as the external lift pins 14b rise. Therefore, the support arm 10 does not require a complicated motion mechanism and can reduce the cost.

また、支持アーム10は、上下方向の軸(駆動軸13a)を中心に、リフトピン4bに支持された基板3を支持可能な支持位置と、リフトピン4bに支持された基板3から退避される退避位置との間で水平方向に旋回されるので、簡単な機構で基板3を移送することができる。   The support arm 10 has a support position capable of supporting the substrate 3 supported by the lift pins 4b and a retreat position retracted from the substrate 3 supported by the lift pins 4b, with the vertical axis (drive shaft 13a) as the center. , The substrate 3 can be transferred by a simple mechanism.

上記実施形態おいては、固定して設置されたテーブル4に載置された基板3に対してノズル7を備えた移動体6(ノズルユニット)が移動することにより、ノズル7と基板3との相対移動が行われる例について説明したが、ノズル7が固定され、基板3が載置されるテーブル4が移動する構成であっても良い。   In the above embodiment, the moving body 6 (nozzle unit) including the nozzles 7 moves with respect to the substrate 3 placed on the table 4 that is fixedly installed. Although an example in which relative movement is performed has been described, a configuration in which the nozzle 7 is fixed and the table 4 on which the substrate 3 is placed may move is also possible.

上記実施形態においては、移動体6に近接する位置に、支持アーム10を駆動するモーター13の駆動軸13aを設ける場合について説明したが、これに限るものではない。図6には、上記実施形態のアームユニット11の構成(図6(a)参照)と対比して、変形例に係るアームユニット11の構成(図6(b)参照)が示されている。   In the above embodiment, the case where the drive shaft 13a of the motor 13 that drives the support arm 10 is provided at a position close to the moving body 6 has been described, but the present invention is not limited to this. FIG. 6 shows a configuration (see FIG. 6B) of the arm unit 11 according to the modification, in contrast to the configuration of the arm unit 11 of the above embodiment (see FIG. 6A).

図6(b)に示すように、図1に示した幅方向に関し、駆動軸13aを移動体6の中央側に寄せると共に、当該駆動軸13aを、移動体6から支持アーム10が旋回する側へ突出させたベース12の先端側に設けることにより、移動体6から離隔して配置し、さらに、支持アーム10をL字状に形成することによって、支持アーム10の旋回範囲を狭めることができる。これにより、支持アーム10の退避位置における幅寸法W2を、図6(a)に示した上記実施形態の支持アーム10の退避位置における幅寸法W1よりも小さくすることができる。これにより、さらに省スペース化を達成することができる。   As shown in FIG. 6B, the drive shaft 13 a is brought closer to the center side of the movable body 6 in the width direction shown in FIG. 1, and the drive shaft 13 a is swung from the movable body 6 on the side on which the support arm 10 turns. By providing at the front end side of the base 12 that protrudes toward the base, the base arm 12 is disposed away from the moving body 6, and further, by forming the support arm 10 in an L shape, the turning range of the support arm 10 can be narrowed. . Thereby, the width dimension W2 at the retracted position of the support arm 10 can be made smaller than the width dimension W1 at the retracted position of the support arm 10 of the embodiment shown in FIG. Thereby, further space saving can be achieved.

また、2つの支持アーム10は、必ずしも旋回運動させなくてもよい。図6(c)には、アームユニットの構成について、他の変形例が示されている。具体的には、2つの支持アーム10が基板3を支持することが可能な平行状態を保ったまま、図1に示した幅方向にスライド移動自在とされ、移動体6に沿ってスライド移動されて突起10cが基板3の下に入り込む支持位置と、突起10cが基板3の下から外れた退避位置との間で移動される構成としても良い。   Further, the two support arms 10 do not necessarily have to be pivoted. FIG. 6C shows another modification of the configuration of the arm unit. Specifically, the two support arms 10 are slidable in the width direction shown in FIG. 1 while maintaining a parallel state capable of supporting the substrate 3, and are slid along the moving body 6. The protrusion 10c may be moved between a support position where the protrusion 10c enters under the substrate 3 and a protrusion position where the protrusion 10c is removed from the bottom of the substrate 3.

基板3を塗布装置1外部からテーブル4近くまで搬送する外部搬送装置14は、上述した実施形態の例に限らず、基板3を塗布装置1に備えた支持アーム10に受け渡しできるものであれば、どのようなものであってもよく、搬送用のロボットで搬送して受け渡ししても、作業員が搬送して受け渡しを行ってもよい。   The external conveyance device 14 that conveys the substrate 3 from the outside of the coating apparatus 1 to the vicinity of the table 4 is not limited to the example of the above-described embodiment, and can be any device that can deliver the substrate 3 to the support arm 10 provided in the coating apparatus 1. It may be anything, and it may be transferred by a transfer robot or transferred by a worker.

1 塗布装置
2 基台
3 基板
3a 塗膜
4 テーブル
4a 貫通孔
4b リフトピン
5 レール
6 移動体
7 ノズル
8 移動柱体
9 連結梁体
10 支持アーム
10a 基端部
10b アーム本体
10c 突起
10d 段差
11 アームユニット
12 ベース
13 モーター
13a 駆動軸
14 外部搬送装置
14a 搬送ベルト
14b 外部リフトピン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating device 2 Base 3 Board | substrate 3a Coating film 4 Table 4a Through-hole 4b Lift pin 5 Rail 6 Moving body 7 Nozzle 8 Moving column body 9 Connection beam body 10 Support arm 10a Base end part 10b Arm main body 10c Protrusion 10d Step 11 Arm unit 12 Base 13 Motor 13a Drive shaft 14 External transport device 14a Transport belt 14b External lift pin

Claims (4)

塗布液を吐出するノズルを有するノズルユニットと、テーブルに載置された塗布対象物とが相対的に移動され、該ノズルから吐出される塗布液を塗布対象物に塗布するようにした塗布装置であって、前記テーブルは、塗布対象物を支持して昇降可能なリフトピンを備え、塗布対象物を支持しつつ上記テーブルに移送する支持アームが、上記ノズルユニットに設けられ、
前記支持アームは、上記リフトピンにより上昇された状態の塗布対象物の下方に入り込み、該リフトピンが降下されることにより塗布対象物を支持し、
上記リフトピンは、上昇することにより、上記支持アームに支持された状態の塗布対象物を持ち上げて支持することを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus in which a nozzle unit having a nozzle for discharging a coating liquid and a coating object placed on a table are relatively moved to apply a coating liquid discharged from the nozzle to the coating object. The table includes a lift pin that can move up and down while supporting the application target, and a support arm that transfers the table to the table while supporting the application target is provided in the nozzle unit.
The support arm enters below the application object in a state of being lifted by the lift pin, and supports the application object by lowering the lift pin.
The said lift pin raises and supports the coating target object of the state supported by the said support arm by raising.
前記支持アームは、上下方向の軸を中心に、前記リフトピンに支持された塗布対象物を支持可能な支持位置と、該リフトピンに支持された塗布対象物から退避される退避位置との間で水平方向に旋回される、あるいは上記ノズルユニットの幅方向にスライド移動自在とされ、該支持位置と該退避位置との間でスライド移動されることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。   The support arm is horizontally between a support position capable of supporting the application target supported by the lift pin and a retreat position retracted from the application target supported by the lift pin, with the vertical axis as a center. The coating apparatus according to claim 1, wherein the coating apparatus is swung in a direction or is slidable in a width direction of the nozzle unit, and is slid between the support position and the retracted position. 塗布液を吐出するノズルを有するノズルユニットと、塗布対象物を支持して昇降可能なリフトピンを備えるテーブルに載置された塗布対象物とが相対的に移動され、該ノズルから吐出される塗布液を塗布対象物に塗布するようにした既存の塗布装置の該ノズルユニットに、塗布対象物を支持しつつ上記テーブルに移送する支持アームを後付けする工程を含む塗布装置の改良方法であって、
前記支持アームは、上記リフトピンにより上昇された状態の塗布対象物の下方に入り込み、該リフトピンが降下されることにより塗布対象物を支持し、
上記リフトピンは、上昇することにより、上記支持アームに支持された状態の塗布対象物を持ち上げて支持することを特徴とする塗布装置の改良方法。
A nozzle unit having a nozzle that discharges the coating liquid and a coating object that is placed on a table that includes a lift pin that supports the coating object and can be moved up and down is relatively moved, and the coating liquid is discharged from the nozzle. A method of improving the coating apparatus, including the step of retrofitting a support arm that transfers the object to the table while supporting the coating object on the nozzle unit of the existing coating apparatus that is configured to coat the coating object .
The support arm enters below the application object in a state of being lifted by the lift pin, and supports the application object by lowering the lift pin.
A method for improving a coating apparatus, wherein the lift pin is lifted to lift and support a coating object supported by the support arm.
前記支持アームは、上下方向の軸を中心に、前記リフトピンに支持された塗布対象物を支持可能な支持位置と、該リフトピンに支持された塗布対象物から退避される退避位置との間で水平方向に旋回される、あるいは上記ノズルユニットの幅方向にスライド移動自在とされ、該支持位置と該退避位置との間でスライド移動されることを特徴とする請求項3に記載の塗布装置の改良方法。 The support arm is horizontally between a support position capable of supporting the application target supported by the lift pin and a retreat position retracted from the application target supported by the lift pin, with the vertical axis as a center. The improvement of the coating device according to claim 3, wherein the coating device is swiveled in a direction or is slidable in the width direction of the nozzle unit and is slid between the support position and the retracted position. Method.
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