KR20150144276A - 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

표시 장치를 제조할 때의 수율을 향상시키는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 형태는, 표시 소자를 사용하여 화상을 표시하는 표시 장치를 제조하는 방법으로서, 유리 기판의 제1면을, 불화수소를 포함하는 수용액에 노출시키고, 유리 기판의 제1면 상에 극성기를 갖는 유기 수지막을 형성하고, 유기 수지막 상에 표시 소자를 포함하는 층을 형성하고, 표시 소자를 덮도록 대향 기판을 접합하는 것을 특징으로 한다.

Description

표시 장치의 제조 방법 {METHOD OF MANUFACTURING A DISPLAY DEVICE}
본 출원은, 일본에서 2014년 6월 16일에 출원된 일본 특허 출원 제2014-123284호를 기초로 하여 우선권을 주장하는 것이며, 이 출원을 참조함으로써, 본 출원에 원용된다.
본 발명은, 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
액정, OLED(Organic Light Emitting Diode) 등을 사용한 표시 장치는, 종래, 유리 기판 상에 표시 소자를 형성하여 제조되고 있었다. 최근, 가요성을 갖는 기판 상에 표시 소자를 형성함으로써, 구부리는 것이 가능한 표시 장치가 개발되고 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 제2007-183605호 공보).
유리 기판 상에 가요성을 갖는 유기 수지막을 형성하고, 유기 수지막 상에 표시 소자를 형성하는 경우에, 유리 기판과 유기 수지막의 계면에 있어서, 표시 장치의 수율을 저하시키는 요인이 되는 현상이 발생하는 경우가 있었다. 본 발명은, 표시 장치를 제조할 때의 수율을 향상시키는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 형태는, 표시 소자를 사용하여 화상을 표시하는 표시 장치를 제조하는 방법으로서, 유리 기판의 제1면을, 불화수소를 포함하는 수용액에 노출시키고, 상기 유리 기판의 상기 제1면 상에 극성기를 갖는 유기 수지막을 형성하고, 상기 유기 수지막 상에 상기 표시 소자를 포함하는 층을 형성하고, 상기 표시 소자를 덮도록 대향 기판을 접합하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 개략 구성을 도시하는 평면도.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치에 사용하는 화소 회로의 일례를 나타내는 회로도.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 플렉시블 기판측의 단면 구성을 도시하는 모식도.
도 4a∼도 4c는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 제조 방법을 설명하는 도면.
도 5a∼도 5b는 비교예에 있어서의 표시 장치의 제조 방법에 의해, 막이 박리된 경우의 예를 설명하는 도면.
도 6a∼도 6d는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 도 4에 이어지는 표시 장치의 제조 방법을 설명하는 도면.
이하에, 본 발명의 각 실시 형태에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 개시는 어디까지나 일례에 불과하며, 당업자에게 있어서, 발명의 주지를 유지한 적절한 변경에 대해 용이하게 상도할 수 있는 것에 대해서는, 당연히 본 발명의 범위에 함유되는 것이다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위해, 실제의 형태에 비해, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대해 모식적으로 나타내어지는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것은 아니다. 또한, 본 명세서와 각 도면에 있어서, 기출된 도면에 관하여 전술한 것과 마찬가지의 요소에는, 동일한 부호를 부여하여, 상세한 설명을 적절하게 생략하는 경우가 있다.
<실시 형태>
[개략 구성]
본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치는, OLED를 사용한 유기 EL(Electro-Luminescence) 표시 장치이다. 이 표시 장치는, 가요성을 갖는다. 또한, 본 실시 형태에 있어서의 표시 장치는, 유기 EL 표시 장치와 같은 자발광형 표시 장치에 한정되지 않고, 액정을 사용한 액정 표시 장치, 전기 영동 소자를 사용한 전자 페이퍼형 표시 장치 등, 다른 표시 장치여도 된다.
표시 장치는, 기판에 가요성을 갖는 유기 수지막을 사용하고 있다. 이 가요성을 갖는 기판(이하, 플렉시블 기판이라 하는 경우가 있음) 상에는, 화상을 표시시키기 위한 표시 소자가 형성되어 있다. 표시 소자에는, OLED의 발광 상태를 제어하기 위한 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor) 등의 구동 소자가 포함된다. 플렉시블 기판은, 박막 트랜지스터를 형성할 때에는 유리 기판에 지지되어 있고, 표시 장치의 제조 과정에 있어서 유리 기판으로부터 박리된다.
이하에 설명하는 표시 장치의 제조 방법은, 적어도 플렉시블 기판이 유리 기판으로부터 박리될 때까지의 제조시의 수율을 향상시키는 것이다. 이하, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 구성 및 제조 방법을 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 개략 구성을 도시하는 평면도이다. 표시 장치(100)는, 표시 영역(101), 드라이버 IC(102), FPC(Flexible printed circuits)(103) 및 주사선 구동 회로(104)를 구비한다. 드라이버 IC(102) 및 주사선 구동 회로(104)는 플렉시블 기판(30) 상에 형성되어 있다.
표시 영역(101)에는, 도면 중의 횡방향으로 뻗는 복수의 주사선(g1-1, g1-2, g1-3, g2-1, g2-2, g2-3, ···)과, 종방향으로 뻗는 복수의 데이터 신호선(d1, d2, d3, ···)이 교차하여 배치되어 있다. 주사선과 데이터 신호선의 교차부에 대응하는 위치에는, 복수의 화소(105)가 매트릭스 형상으로 배치된다. 도 1에는, 일례로서, 하나의 화소(105)당 3개의 주사선(g1-1∼g1-3)과 1개의 데이터 신호선(d1)이 교차하여 배치되는 구성을 도시하고 있지만, 이 구성에 한정되는 것은 아니다. 또한, 표시 영역(101) 내에는 전원선 등의 소정의 전압을 공급하는 배선이 배치되어도 된다.
주사선 구동 회로(104)는, 주사선에 제어 신호를 공급한다. 드라이버 IC(102)는 데이터 신호선에 데이터 전압을 공급하고, 또한 주사선 구동 회로(104)를 제어한다. 각 화소(105)에는, 제어 신호 및 데이터 전압에 기초하여 발광을 제어하기 위한 화소 회로와, 화소 회로에 의해 발광이 제어되는 발광 소자(OLED)를 포함하는 표시 소자가 배치되어 있다.
대향 기판(20)은, 컬러 필터 및 차광재 등이 형성된 가요성을 갖는 유기 수지막의 기판이다. 대향 기판(20)은, 각 화소(105)의 화소 회로를 덮도록, 플렉시블 기판(30)에 접합되어 있다. 이 예에서는, 플렉시블 기판(30)과 대향 기판(20)의 사이는, 충전제로 충전되어 있다.
도 2는, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치에 사용하는 화소 회로의 일례를 나타내는 회로도이다. 도 2에 있어서, 점선의 우측 부분이, 각 화소(105)에 포함되고, 3개의 트랜지스터(SST, BCT, DRT)와, 콘덴서(CS)를 구비하는 화소 회로와, 발광 소자(OLED)를 구비한다. 트랜지스터(BCT)는, 인접하는 복수의 화소에서 공유되는 경우도 있다. 도 2에 있어서, 영상 신호(Vini, Vsig)가 입력되는 신호선은, 도 1에 도시한 데이터 신호선(d1)에 대응한다. 주사선(BG, RG, SG)은, 도 1에 도시한 주사선(g1-1, g1-2, g1-3)에 각각 대응한다. 이러한 구성을 구비하는 표시 장치는, 트랜지스터(DRT)의 역치 전압 및 전계 효과 이동도의 편차를 보정하여, 영상 신호(Vsig)에 따른 전류값을 OLED에 공급하고, 그 전류값에 따른 휘도로 OLED를 발광시킬 수 있다. 또한, 이 화소 회로의 구성은 일례이며, 다른 회로 구성이어도 된다.
도 3은, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 플렉시블 기판측의 단면 구성을 도시하는 모식도이다. 플렉시블 기판(30)에는, 상술한 각 트랜지스터에 대응하는 트랜지스터부(110)가 형성되어 있다. 또한, 도 3에서는, 트랜지스터부(110)는 트랜지스터(DRT)에 대응하는 부분을 나타내고 있다.
트랜지스터부(110)에 있어서의 평탄화막에 형성된 콘택트 홀을 통해, 트랜지스터부(110)와 접속된 화소 전극(12)이 형성되어 있다. 콘택트 홀을 매립함과 함께, 인접하는 화소와 이격시키기 위한 뱅크(13)가 형성되어 있다. 화소 전극(12) 상에는, OLED를 포함하는 발광층(11)이 형성되어 있다. 발광층(11) 상에는, 대향 전극(14)이 형성되어 있다. 이 예에서는, OLED는, 화소 전극(12)으로부터 대향 전극(14)으로의 전류 공급에 의해 백색광을 방사한다. 그로 인해, OLED는, 화소 전극(12)과 대향 전극(14) 사이에 끼인 영역에 있어서 발광한다. 그리고, 대향 기판(20)에 설치된 컬러 필터를 통과시켜, 각 색(예를 들어, RGB, RGBW 등)의 발광을 실현한다. 또한, 전체 화소에 있어서 백색광을 발광시키는 OLED를 사용하여, 컬러 필터에서 RGB를 실현하는 경우에 한정되지 않고, 적색을 발광하는 OLED, 녹색을 발광하는 OLED, 청색을 발광하는 OLED를 화소마다 분리하여 배치함으로써 RGB를 실현해도 된다.
대향 전극(14) 상에는, 밀봉막(15)이 형성되어 있다. 이 예에서는, 밀봉막(15)은 질화규소(SiNx)를 사용한다. 또한, 이 예에서는, 표시 장치(100)는, 트랜지스터부(110)의 반대측(도면의 상방측)을 향해 백색광을 방사하여 대향 기판(20)측으로부터 출사시키는, 이른바 톱 에미션 구조이다. 그로 인해, 대향 전극(14)은 광투과성을 갖도록 형성된다. 또한, 이 예에 있어서는, 표시 장치(100)는 톱 에미션 구조였지만, 트랜지스터측에 광이 출사되는 보텀 에미션 구조여도 된다. 또한, 이하의 설명에서는, 화소 전극(12), 발광층(11), 대향 전극(14) 및 밀봉막(15) 등을 발광 소자(120)라 한다. 따라서, 상술한 표시 소자(107)는 트랜지스터부(110)와 발광 소자(120)를 포함한다. 또한, 전술에 있어서 컬러 필터는 대향 기판(20)측에 설치하는 것으로 하였지만, OLED로부터 출사한 광이 시인될 때까지의 경로에 있으면 되고, 예를 들어 대향 전극(14) 상, 혹은 밀봉막(15) 상에 설치되어 있어도 된다.
[표시 장치(100)의 제조 방법]
계속해서, 표시 장치(100)의 제조 방법을 설명한다.
도 4a∼도 4c는, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 표시 장치의 제조 방법을 설명하는 도면이다. 우선, 플렉시블 기판(30)이 아닌, 이것을 지지하는 지지 기판으로서 유리 기판(10)을 준비한다. 유리 기판(10)의 두께는, 0.1㎜ 이상 1.0㎜ 이하이고, 바람직하게는 0.3㎜ 이상 0.8㎜ 이하이다.
도 4a에 도시하는 바와 같이, 유리 기판(10) 중 적어도 한쪽의 면(도면의 상방측 면, 이하, 제1면이라 하는 경우가 있음)에 대해, 불화수소(HF)를 포함하는 수용액(이하, 단순히 불산이라 하는 경우가 있음)을 사용하여 세정을 한다. 이 예에서는, 농도 0.5％의 불화수소를 포함하는 수용액이, 20초 정도, 유리 기판(10)의 제1면에 노출된다. 또한, 농도, 처리 시간 등의 조건은, 적절하게 설정된다. 또한, 세정은, 패들식, 스핀식 또는 딥식 등의 방법에 의해 실행되면 된다.
계속해서, 도 4b에 도시하는 바와 같이, 유리 기판(10)의 제1면 상에 플렉시블 기판(30)을 형성한다. 이 플렉시블 기판(30)은 유기 수지막이며, 이 예에서는, 폴리이미드로 형성된다. 이 경우, 예를 들어 가용성 폴리이미드를 포함하는 용액을 유리 기판(10)의 제1면 상에 도포하여 소성함으로써, 유리 기판(10)의 제1면 상에 플렉시블 기판(30)을 형성할 수 있다. 플렉시블 기판(30)의 두께는, 예를 들어 1㎛ 이상 100㎛ 이하, 바람직하게는 5㎛ 이상 50㎛ 이하이다.
또한, 플렉시블 기판(30)은 폴리이미드에 한정되지 않고, 다른 유기 수지막이어도 되지만, 트랜지스터부(110)를 형성할 때의 열처리의 최고 온도(적어도 300℃, 예를 들어 400℃) 이상의 내열성을 갖는 재료로 형성되는 것이 바람직하다. 플렉시블 기판(30)은, 폴리이미드 이외라도 극성기를 갖는 유기 수지막인 것이 바람직하고, 예를 들어 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN: polyethylene naphthalate) 등이어도 된다.
계속해서, 도 4c에 도시하는 바와 같이, 유기 수지막인 플렉시블 기판(30) 상에 상술한 트랜지스터부(110)를 형성한다. 트랜지스터부의 형성에 있어서는, CVD(Chemical Vapor Deposition)에 의한 성막, 막질 개선 등에 의한 열처리가 실시된다. 이때, 400℃ 정도까지 온도가 상승하게 된다.
상기한 도 4a에 있어서 설명한 불산에 의한 세정을 하지 않는 경우, 이 온도 상승에 의해, 300℃ 정도를 초과하면, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30) 사이에 막이 박리되는 현상이 발생하는 경우가 있다. 불산에 의한 세정을 하지 않는 경우(비교예)에 발생하는, 이 현상에 대해 설명한다.
도 5a∼도 5b는, 비교예에 있어서의 표시 장치의 제조 방법에 의해, 막이 박리된 경우의 예를 설명하는 도면이다. 열처리에 의해, 도 5a에 도시하는 바와 같이 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30) 사이의 일부에 있어서, 유기 수지막[플렉시블 기판(30)]이 박리된 상태로 되어 공간(S1)이 형성되는 경우가 있다. 이 공간(S1)은, 열처리의 상황에 의해, 도 5b에 도시하는 바와 같이 플렉시블 기판(30) 및 그 상층의 트랜지스터부(110)를 포함하는 층이 파열되어 파열부(S2)를 형성하는 경우도 있다. 또한, 열처리를 한 시점에서는 도 5a에 도시하는 공간(S1)이 형성되는 정도라도, 제조 공정이 진행됨에 따라, 공간(S1)이 파열부(S2)와 같이 변화되는 경우도 있다.
파열부(S2)가 발생하는 것은, 막의 파편 등이 발생하여 장치를 오염시키는 요인이 된다. 그로 인해, 파열부(S2)가 발생하기 전의 공간(S1)이 형성되어 있는 단계에서, 이 기판은 제조 공정으로부터 제외할 수밖에 없다. 이때, 기판의 일부에만 공간(S1)이 발생한 경우라도, 기판 전체를 제조 공정으로부터 제외해야만 해, 큰 수율 저하를 초래하게 된다.
한편, 상술한 바와 같이, 본 실시 형태와 같이 유리 기판(10)의 제1면에 불산으로 세정을 함으로써, 막이 박리되는 현상, 즉, 공간(S1)의 발생이 대폭 억제되었다. 이것은, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)으로 되는 유기 수지막과의 밀착성이 향상된 것에 의한다.
그 밀착력 향상의 확인을 위해, 유리 기판(10)에 대한 폴리이미드막의 밀착력을 박리 시험에 의해 측정하였다. 그 결과, 유리 기판(10)에 폴리이미드막을 형성하기 전에, 불산 세정을 하지 않고 순수에 의한 세정만을 실시한 경우에 비해, 불산에 의한 세정을 한 경우에서는 2배 정도의 밀착력 증가가 확인되었다.
이와 같이, 유리 기판(10) 상에 불산에 의한 세정을 한 후 플렉시블 기판(30)으로 되는 유기 수지막을 형성함으로써, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)의 밀착력이 향상된다. 그로 인해, 그 후의 제조 공정에 있어서, 플렉시블 기판(30)이 유리 기판(10)으로부터 박리되는 현상을 억제할 수 있다.
트랜지스터부(110)를 형성한(도 4c) 후의 표시 장치(100)의 제조 방법의 설명을 계속한다.
도 6a∼도 6d는, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 도 4에 이어지는 표시 장치의 제조 방법을 설명하는 도면이다. 도 6a에 도시하는 바와 같이, 트랜지스터부(110)를 형성한 후에, 발광 소자(120)를 형성한다. 이에 의해 트랜지스터부(110)와 발광 소자(120)를 포함하는 표시 소자(107)를 포함하는 층이 형성된다.
계속해서, 도 6b에 도시하는 바와 같이, 표시 소자(107)를 포함하는 층[트랜지스터부(110)와 발광 소자(120)]이 형성된 기판에, 표시 소자(107)를 덮도록 대향 기판(20)을 접합하여, 표시 소자(107)를 밀봉한다. 이때, 발광 소자(120)와 대향 기판(20) 사이에는 충전제가 충전되고, 또한 밀봉제 등을 사용하여 대향 기판(20)이 접합되어도 된다. 대향 기판(20)은, 플렉시블 기판(30)과 마찬가지로, 가요성을 갖는 재료, 예를 들어 유기 수지막으로 형성되어 있다. 상술한 바와 같이, 대향 기판(20)에는, 컬러 필터 등이 형성되어 있어도 된다.
그리고, 유리 기판(10)측으로부터 레이저광(LS)을 조사하면, 플렉시블 기판(30)과 유리 기판(10)의 계면에 있어서 유기 수지막에 레이저광(LS)이 흡수되어 가열된다. 이에 의해, 유기 수지막의 분해가 발생하여, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)의 밀착력이 약해진다. 레이저광(LS)은, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)을 분리하고자 하는 영역의 전부에 대해 조사되어도 되고, 일부에 대해 조사되어도 된다. 또한, 조사하는 광은 레이저광에 한정되지 않고, 램프 등에 의해 발생시킨 광이어도 된다. 또한, 조사되는 광의 파장은, 예를 들어 자외선을 포함하는 파장이지만, 그 이외라도 유리 기판(10)을 통과(일부 흡수되어도 됨)하여 플렉시블 기판(30)에 의해 흡수되는 파장을 갖고 있으면 된다. 또한, 광의 조사 강도 등의 조건은, 플렉시블 기판(30)과 유리 기판(10)의 밀착력을 저하시켜, 박리할 수 있을 정도의 밀착력으로 되도록 적절하게 설정하면 된다.
또한, 이 광의 조사를 행하는 타이밍은, 대향 기판(20)이 접합된 후에 한정되지 않고, 대향 기판(20)이 접합되기 전, 발광층(11)이 형성되기 전 등, 트랜지스터부(110)의 형성시의 열처리가 종료된 후의 어느 한 공정이면 된다. 여기서 말하는 열처리가 종료된 후라 함은, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)이 박리될 우려가 있는 온도로 가열되는 처리의 후를 나타낸다. 대향 기판(20)이 접합되기 전에 광의 조사가 행해진 경우, 유리 기판(10)을 플렉시블 기판(30)으로부터 박리하는 공정은, 그 조사의 직후에 실시되어도 되고, 대향 기판(20)이 접합된 후에 실시되어도 된다. 조사 직후에 실시되는 경우에는, 유리 기판(10)이 박리된 상태에서, 그 후의 제조 공정이 진행된다.
이와 같이, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)의 밀착력이 불산 처리에 의해 향상되지만, 유기 수지막에 광을 흡수시켜 적어도 일부를 분해시킴으로써 그 밀착력을 저하시킴으로써, 도 6c에 도시하는 바와 같이, 플렉시블 기판(30)으로부터 유리 기판(10)을 용이하게 박리할 수 있다.
또한, 표시 장치(100)가 1매의 유리 기판(10)에 있어서 통합하여 복수 형성되는 경우에는, 각각의 표시 장치(100)에 분리하는 공정이 포함된다. 이 분리 공정을 실시하는 타이밍은, 유리 기판(10)을 플렉시블 기판(30)으로부터 박리하기 전이어도, 후여도 되고, 박리하기 전이면, 레이저광(LS)을 조사하기 전이어도, 후여도 된다. 박리하기 전에 분리 공정을 실시하는 경우에는, 유리 기판(10)은 분리하지 않도록 해도 된다. 예를 들어, 플렉시블 기판(30), 대향 기판(20) 및 그 사이의 층에 대해서는 각 표시 장치(100)로 분리하고, 유리 기판(10)은 분리하지 않도록 해도 된다.
이와 같이 하여 얻어진 표시 장치(100)는, 유리 기판(10)으로부터 박리된 플렉시블 기판(30), 트랜지스터부(110), 발광 소자(120) 및 대향 기판(20)을 포함하고, 도 6d에 도시하는 바와 같이, 가요성을 갖고 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서의 표시 장치(100)의 제조 방법에서는, 유리 기판(10)을 불산에 의해 세정하고 나서 유기 수지막을 성막하여 플렉시블 기판(30)으로서 형성함으로써, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)의 밀착력을 향상시킨다. 이에 의해, 트랜지스터부(110)의 제조 과정에서 발생하는 열처리에 의해서도, 유리 기판(10)으로부터 플렉시블 기판(30)이 박리되는 것을 억제할 수 있어, 수율이 향상된다.
또한, 트랜지스터부(110)의 형성시의 열처리가 종료된 후의 공정에 있어서, 유리 기판(10)측으로부터 플렉시블 기판(30)에 광을 조사하여, 플렉시블 기판(30)과 유리 기판(10)의 밀착력을 저하시킨다. 이에 의해, 유리 기판(10)을 플렉시블 기판(30)으로부터 용이하게 박리할 수 있다.
또한, 유리 기판(10)을 플렉시블 기판(30)으로부터 박리하지 않고 표시 장치(100)로서 사용해도 되지만, 그 경우에는, 유리 기판(10)과 플렉시블 기판(30)의 밀착력을 저하시키는 공정, 즉, 광을 조사하는 공정을 실시하지 않아도 된다.
본 발명의 사상의 범주에 있어서, 당업자라면, 각종 변경예 및 수정예에 상도할 수 있는 것이며, 그들 변경예 및 수정예에 대해서도 본 발명의 범위에 속하는 것이라 이해된다. 예를 들어, 전술한 각 실시 형태에 대해 당업자가 적절하게 구성 요소의 추가, 삭제 또는 설계 변경을 행한 것, 또는 공정의 추가, 생략 혹은 조건 변경을 행한 것도, 본 발명의 요지를 구비하고 있는 한, 본 발명의 범위에 포함된다.

Claims (6)

  1. 표시 장치의 제조 방법으로서,
    유리 기판의 제1면을, 불화수소를 포함하는 수용액에 노출시키고,
    상기 유리 기판의 상기 제1면 상에 극성기를 갖는 유기 수지막을 형성하고,
    상기 유기 수지막 상에 화상을 표시하기 위한 표시 소자를 포함하는 층을 형성하고,
    상기 표시 소자를 덮도록 대향 기판을 접합하는 것을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 대향 기판이 접합된 후에, 상기 유리 기판측으로부터 상기 유기 수지막에 대해 광을 조사하고,
    상기 광을 조사한 후에, 상기 유리 기판을 상기 유기 수지막으로부터 박리하는 표시 장치의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 표시 소자를 포함하는 층을 형성할 때에는, 열처리가 실시되고,
    상기 열처리 후에, 상기 유리 기판측으로부터 상기 유기 수지막에 대해 광을 조사하고,
    상기 대향 기판이 접합된 후에, 상기 유리 기판을 상기 유기 수지막으로부터 박리하는 표시 장치의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 유기 수지막은 폴리이미드를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 표시 소자를 형성할 때, 적어도 300℃ 이상의 열처리가 실시되는 표시 장치의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 표시 소자는, 박막 트랜지스터를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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