KR20150106402A

KR20150106402A - 치과 임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소 및 치료 시스템

Info

Publication number: KR20150106402A
Application number: KR1020157015695A
Authority: KR
Inventors: 홀거 지프리치
Original assignee: 홀거 지프리치; 슐레, 마르쿠스; 브로트베크, 우어스
Priority date: 2012-11-14
Filing date: 2013-10-18
Publication date: 2015-09-21
Also published as: JP2016501057A; CA2891376C; BR112015010747B1; HUE044480T2; US20150282907A1; RU2015122386A; TWI643604B; JP6306604B2; AU2013347233B2; RU2655266C2; CN104902843A; IL238763A0; CN104902843B; AU2013347233A1; BR112015010747A2; EP3510967B1; ES2724850T3; CA2891376A1; EP2919702B1; IL238763B

Abstract

본 발명은 환자의 턱뼈 내로 고정된 치과 임플란트 부품(2)과 함께 사용하기 위한 치료 요소(30, 30', 30", 30"') 및 이 같은 치료 요소(30, 30', 30", 30"')를 구비한 치료 시스템(90) 및 치료 요소(30, 30', 30", 30"')가 특히 유리한 방식으로 사용될 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따라, 치과 임플란트 부품(2)과의 기계적 연결을 위해 본체(40)가 상기 치과 임플란트 부품(2)에 적응된 연결 시스템을 가지며 세정액을 위한 하나 이상의 매체 채널(56)이 제공된다.

Description

치과 임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소, 치료 시스템 및 치과 임플란트 부품 세정 방법 {TREATMENT ELEMENT FOR USE TOGETHER WITH A DENTAL IMPLANT PART, TREATMENT SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING A DENTAL IMPLANT PART}

본 발명은 특히 환자의 턱뼈에 고정되는 치과-임플란트 부품(dental-implant part)과 함께 사용하기 위한 치료 요소(treatment element)에 관한 것이다. 또한 이 같은 치료 요소를 구비한 치료 시스템에 관한 것일뿐만 아니라 치과-임플란트 부품을 세정하기 위한 방법에 관한 것이다.

치아의 손실을 보완하기 위해, 치과 임플란트들이 재건요법의 체계 내에서 사용될 수 있다. 보통, 치과 임플란트들은 발치되거나 저절로 빠진 치아 대신 턱뼈 내로 삽입되어 4주 내지 12주의 치료 단계 후 치아가 빠진 부분에 틀니 부분(denture piece)으로서 기능하는 크라운(crown) 또는 의치 부품(prosthetic part)을 고정한다. 이를 위해, 이 같은 치과 임플란트는 보통 적합한 형상의 금속체로서 설계되는데, 이 금속체는 그 안에 나사 조립함으로써 턱뼈 안의 의도된 위치에 삽입된다. 대체로, 치과 임플란트의 설형 단부(apical end)에는 나사의 나삿니(thread), 주로 자체-절삭 나사의 나삿니가 제공되며, 이 나사의 나삿니에 의해 치과 임플란트는 대응하여 준비된 임플란트 베드 내로 삽입된다.

한편, 특히 치과 분야에서 인체 내로 삽입되는 비교적 많은 개수의 임플란트들, 및 임플란트들의 비교적 긴 사용 지속 기간을 고려하면, 임플란트 주변 조직의 생물막(biofilm)-관련 염증 상황들의 발생이 끊임없이 증가하고 있음에 주의한다. 조직 및 조직 액에 의해 둘러싸인 임플란트의 고체 표면상에, 최종적으로 만성적이고 재발하는 감염들을 초래할 수 있는 박테리아가 서식하는 생물막이 발생한다(develop). 이러한 증후군은 임플란트 주위염(periimplantitis)이라 불린다. 특히 치과 분야에서, 치주염과 유사하게, 무시된 입 위생, 통상적인 기둥 부품(post part)의 미세 거칠기 표면상에 생물막의 부착, 및 다른 인자들의 조합이 임플란트 주위염으로 가득한 상황을 초래하며, 이는 단단하고 연한 조직들의 증가하는 관리(charge) 및 손상을 특징으로 한다. 단단하고/단단하거나 연한 조직들을 재치료하는 영역들은 보통 생물막에 의해 덮인다.

치료를 받든 치료를 받지 않든 양자 모두, 임플란트 주변 염증의 진척은 임플란트의 손실 및 고정 위치의 영역에서 신체 또는 뼈의 조직의 악화를 초래할 수 있다. 따라서, 이 같은 감염을 발견한 후 가능한 빨리 적절한 대응조치들을 시작하는 것이 바람직하다. 이러한 조치들은 구상 위생의 최적화로부터 수술 조치들의 형태의 치료적 개입들, 즉 손상된 임플란트의 제거 및 대체 임플란트의 새로운 삽입까지 포함할 수 있다. 그러나, 특히 마지막으로 언급된 조치는 대체로 조직에 큰 부담이 되고 종종 삽입 장소의 환경 내 조직의 상당한 감소를 수반한다. 따라서, 존재하거나 시작하는 임플란트 주위염을 제거하기 위한 대안적이고 효과적인 조치들을 찾는 것이 매우 바람직하다.

따라서, 본 발명은 정확히 말해서 치료적 조치들 전에 미리 사용될 수 있는, 가능하게는 치료적 조치들을 완전히 불필요하게 하는, 시작하는 임플란트 주위염과 싸우거나 체크하기 위한 치료 요소를 제공하는 문제를 기초로 한다. 더욱이, 이 같은 치료 요소를 구비한 치료 시스템 및 방법이 제공되어야 하며 이 치료 시스템 및 방법에 의해 치료 요소가 특히 선호하는 방식으로 사용될 수 있다.

치료 요소에 대해, 이러한 문제는 청구항 1의 특징들에 의해 본 발명에 따라 해결된다.

본 발명의 유용한 실시예들은 종속항들의 요지이다.

본 발명은 특히 삽입된 치과 임플란트의 환경에서 염증 현상의 효과적이고 효율적인 치료를 위해, 임플란트의 박테리아 서식 및 이러한 환경과 미리 초기 단계에서 지속적으로 싸움으로써 치료적 조치들이 회피될 수 있거나 적어도 낮은 정도로 유지될 수 있는 고려에 따라 시작한다. 이는 특히 치료적 조치들이 아직 필요하지 않을 때 미리 발생되어야 한다. 박테리아 서식과의 이 같은 지속적인 싸움은 두 개의 주요 접근들, 즉 한편으로 박테리아의 가능한 장기적이고 신뢰성 있는 박멸 및 다른 한편으로 임플란트 재료의 신뢰성 있고 포괄적인 세정이 후속하여서, 박테리아의 새로운 서식을 증진할 수 있는 어떠한 들러붙는 유기 잔류물들 등도 상당한 정도로 제거하여야 한다.

가장 놀랍게도, 이러한 두 개의 목적들이 적절한 세정액을 의도적이고 국부적인 방식으로 손상된 공간 영역에 공급함으로써, 예를 들면 적절히 선택된 살균성 액체 등을 사용함으로써 통상적인 접근 방법이 후속될 수 있는 것으로 판명되었다. 따라서, 처리 요소의 본체에는 세정액을 위한 다수의 매체 도관들이 제공된다.

바람직하게는, 이러한 매체 도관들은 삽입된 치과-임플란트 부품 내의 세정될 영역의 정확한 목표 위치에 작용하는 것이 가능한 방식으로 안내되고 위치 설정된다. 이를 위해, 유리하게는 매체 도관 또는 각각의 매체 도관은 출구 개구를 포함하며, 상기 출구 개구는 치과-임플란트 부품상에 놓이는 본체와 함께, 치과-임플란트 부품으로부터, 10 mm 이하, 바람직하게는 5 mm 이하, 특히 바람직하게는 3 mm 이하의 거리에 위치 설정된다. 대안적인 또는 부가적인 유리한 개선예에서, 매체 도관(들)은 일체화된 구성의 방식으로 본체 내 또는 본체 상에 직접 배열된다.

놀랍게도, 특히 높은 세정 작용이 서로 또는 순차적으로 차례로 조합된 수 개의 상이한 세정액들을 인가함으로써 삽입된 임플란트 부품상에서 달성될 수 있다는 것이 판명되었다. 이를 의도적이고 요구 중심적인 방식으로 가능하게 하도록, 치료 요소의 본체 내 또는 본체 상에 제공된 매체 도관은 유리하게는 서로 독립적으로 액체가 충전될 수 있는 두 개 이상의 부분 도관들을 구비한 도관 시스템을 형성한다. 다른 유리한 실시예에서, 삽입 장소의 영역으로부터 사용된 세정액을 회수하거나 흡입하기 위한 하나 이상의 역류 도관이 부가적으로 제공된다.

특히 유리한 추가예에서, 박테리아를 박멸하고/박멸하거나 손상된 임플란트 부품을 세정하기 위한 매체로서 전류를 의도적으로 사용하는 것이 부가적으로 제공된다. 특히, 임의의 들러붙는 유기 물질의 확실한 제거는 임플란트 부품을 전류로 충전함으로써 달성될 수 있다. 치료적 간섭들의 회피 하에서, 즉 특히 삽입된 임플란트를 수술적으로 제거하지 않으면서 이를 가능하게 하도록, 임플란트 부품이 여전히 삽입되어 있으면서, 즉 뼈 조직으로부터 임플란트 부품의 사전 제거 없이 손상된 임플란트 부품에 직접 전류를 공급하는 것이 제공된다.

이를 위해, 치료 요소의 설계에 의해 삽입된 치과-임플란트 부품상에 고정하기 위해 제공되고 결과적으로 삽입된 치과-임플란트 부품에 적절히 적응되는 연결 수단들을 포함하는 바람직한 치료 요소가 공급된다. 유리하게는 바로 인접한 공간 영역에서 의도적으로 국부화된 방식으로 삽입된 임플란트 부품을 세정하기 위해 제공된 전류 흐름을 생성하기 위한 치료 요소가 설계된다. 특히, 이와 관련하여 치료 요소에 대한 설계 원리로서, 전류 흐름을 안내하기 위한 수단을 공급하는 것이 제공되고, 이 수단에 의해 전류가 삽입된 임플란트 부품에 공급될 수 있고, 나삿니가 제공된 임플란트 부품의 삽입된 영역, 특히 뼈 조직 내의 삽입 영역이 전극으로서 사용될 수 있다. 대향 전극 또는 상대 전극을 형성하도록, 바로 근처에 접촉 표면 또는 전기적 접촉 지점이 적절히 위치 설정되는 것이 부가적으로 제공된다. 앞에서 언급된 구성요소들은 치료 및 세정의 목적을 위해 인가된 전류가 박테리아에 의해 손상된 삽입된 임플란트 부품의 표면 구역을 통하여 그리고 거기로부터 가능하게는 직접적으로, 즉 특히 추가 신체 조직 등을 통하여 어떠한 "우회들" 없이 접촉 표면 또는 접촉 지점으로 유동할 수 있는 방식으로 위치 설정되고 바람직하게는 적절히 전류원과 연결되어야 한다.

이를 위해, 치료 요소는 유리하게는 적절히 선택되고 위치 설정된 전도 요소들을 포함하는데, 이 전도 요소들은 전도 요소들의 부분들을 위해 적절히 선택된 전류원 또는 전압원에 연결될 수 있다. 이 설계에 의해, 특히 전도 요소들 중 하나의 전도 요소를 통해 삽입된 임플란트 부품에 전도적 연결을 설정하는 것이 제공되어, 삽입된 임플란트 부품을 통한 바람직한 전류 흐름이 발생할 수 있고 삽입된 임플란트 부품은 전극들 중 하나의 전극을 형성할 수 있다.

대항 전극의 방식으로 제공되고 전류 흐름을 위한 다른 접촉 표면을 형성하는 제 2 전도 요소는 바람직하게는 삽입된 임플란트 부품의 공간적으로 바로 근처에 위치 설정된다. 이에 의해, 전류가 신체 조직의 과도하게 큰 영역을 통한 전류 흐름을 요구하지 않으면서 삽입된 임플란트 부품의 접촉 영역을 통하여 주변 뼈 조직 또는 연질 조직으로 그리고 주변 뼈 조직 또는 연질 조직으로부터 가능한 직접적으로 접촉 표면으로 흐르는 것이 의도된다. 이를 위해, 제 2 전도 요소는 바람직하게는 예를 들면 니들형 또는 와이어 형 형태의 형상으로 삽입 장소 근처에 상당한 정도로 국부화되는 "전기 활성" 존이 발생하는 방식으로 기하학적으로 형성된다. 대안적이거나 부가적으로 유리한 개선예에서, 제 2 전도 요소는 일체화된 실시예의 방식으로, 예를 들면 전극체의 형태로 처리 요소의 본체 내 또는 처리 요소의 본체 상에 배열된다.

전도 요소들은 "종래" 전극의 방식으로 적절히 선택되고 기하학적으로 구성된 전극들로서, 예를 들면 금속 와이어들 등의 형태의 금속을 기초로 하여 설계될 수 있다. 이러한 경우, 제 2 전도 요소를 형성하는 전극에는 바람직하게는 예를 들면 플라스틱-코팅 와이어로서 전기 절연부가 제공되며, 접촉부 및 접촉 표면을 형성하기 위해 예를 들면 단부 측면 상에 추가로 절연되지 않는 순수 금속 영역을 제공한다. 그러나, 대안적으로 전기 전도성 액체들, 예를 들면 염들, 등의 수용액들의 사용을 기초로 하여, 전도 요소들 중 하나 이상의 전도 요소, 바람직하게는 제 2 전도 요소를 제공하는 것이 바람직하다. 이 같은 경우, 관련된 전도 요소는 또한 치료 요소 내 또는 치료 요소 상에 적절히 안내된 다수의 도관들에 의해 형성될 수 있으며, 이 도관들은 사용 중 적절히 선택된 전기 전도성 액체로 채워지고 전기 전도성 액체는 도관의 부분들을 위해 예를 들면 적절히 위치 설정된 전극을 통해 전류원 또는 전압원과 전기적으로 연결된다. 전기 전류 흐름을 위한 접촉부 또는 접촉 표면은 이러한 경우 각각의 도관의 단부-측면 출구 표면에 의해 형성되며, 이를 통해 도관 내에 안내된 액체는 도관의 환경과 전기적으로 접촉하게 될 수 있다. 이러한 출구 표면은 이에 따라 위에서 언급된 의미로, 삽입된 임플란트 부품에 매우 근접하게 적절히 위치 설정되어야 한다.

치과 임플란트들은 소위 단일-부품 임플란트들로서 설계될 수 있으며, 이의 본체는 실질적으로 일체형으로 구성된다. 그러나 환자의 구강 내로 용이한 도입 및 특히 정확히 말해서 환자의 치료 전에 예를 들면 치과 기공실에서 미리 임플란트에 의치를 고정할 때 의치의 특히 광범위한 준비를 가능하게 하기 위해, 치과 임플란트들은 또한 수 개의 부품들로 구성될 수 있다. 특히, 두개의 부품 구성, 턱뼈에 고정하기 위해 제공되고, 또한 정확히 말해서 임플란트 또는 기둥 부품으로서 지칭되는 제 1 임플란트 부품, 및 이에 부가하여 그 위에 의치 등으로서 의도된 틀니 부분이 체결될 수 있는 또한 상부 구조 부품 또는 교대(abutment)로서 지칭되는 관련된 제 2 임플란트 부품이 제공될 수 있다. 제 1 임플란트 부품 또는 기둥 부품의 외부는 보통 자체 커팅으로서 아니면 비 자체 커팅 나삿니로서 설계될 수 있는 나삿니가 제공된다. 보통, 뼈 또는 뼈 조직 내로 성장할 영역의 표면은 거칠게 되거나 코팅된다.

상부구조 부품 또는 교대는 보통 적절하게 선택된 연결 나사에 의해 기둥 부품과 함께 나사 조립된다. 교대를 고정할 때, 연결 나사의 나삿니는 연결 나사와 관련된 기둥 부품에 있는 내부 나사로 나사 조립된다. 나사 조립 공정 동안, 연결 나사의 머리는 교대의 카운터보어(counterbore)를 통해 교대를 기둥 부품상으로 가압한다. 특히 유리한 실시예에서, 치료 요소는 이 같은 두 개의 부품 또는 다중 부품의 치과 임플란트에 대한 사용을 위해 제공된다. 이를 위해, 치과 임플란트의 연결 시스템은 편의상 두 개의 부품 또는 다중 부품의 치과 임플란트 시스템의 기둥 부품의 나사 도관 내로 삽입될 연결 나사를 포함한다. 이러한 실시예에서, 따라서 치료 요소는 "치료 교대"로서 지칭될 수 있고, 이 치료 교대는 상기 다수 부품의 치과 임플란트 시스템의 실제로 제공된 교대 대신 다수 부품의 치과-임플란트 시스템의 기둥 부품상으로 미끄러져 이와 연결된다.

이 같은 구조를 가지며 삽입된 기둥 부품, 즉 특히 삽입된 기둥 부품의 금속 본체의 삽입 영역으로 전기적으로 특히 신뢰가능하고 유효한 접근 또는 접촉을 얻기 위해, 치료 요소가 다른 유리한 실시예에서 연결 나사가 전기 전도 방식으로 제 1 전도 요소와 연결되는 방식으로 설계된다.

유리하게는, 치료 요소의 본체는 치과-임플란트 부품으로의 치료 요소의 본체의 접촉 표면을 전기적으로 절연된다. 이는 즉 전류 안내부 내로 치과-임플란트 부품의 삽입된 영역의 구체적인 산입에 의해 전류 또는 전위가 원하는 방식으로 안내될 수 있는 것을 보장한다. 본체는 예를 들면 세라믹 바디 또는 플라스틱 바디로서 전기 절연 재료를 기초로 하는 것과 같이 설계될 수 있고, 이 경우 전극들이 적절하게 위치 설정된 금속 구성요소들 또는 적절하게 안내된 액체 도관들을 통하여 구성되는 것이 가능하다. 대안적으로, 본체는 또한 예를 들면 티타늄으로 제조된 금속체로서 설계될 수 있다. 이 경우, 치과-임플란트 부품에 대한 절연 작용은 적절한 절연 요소, 특히 독립 구성요소를 부착함으로써 그렇지 않으면 표면 코팅에 의해 달성될 수 있다.

임플란트 부품의 삽입 장소의 공간적인 바로 근처에 원하는 전류 또는 전위 안내를 특히 증진시키기 위해, 치료 요소의 제 2 전도 요소는 유리한 개선예에서 본체의 중앙 축선에 대해 실질적으로 평행한 길이 방향으로 이동 가능하도록 본체 상에 장착된다. 전극으로서의 구성에서, 전극은 특히 니들형 요소로서, 예를 들면 얇은 와이어 등의 형태로 설계될 수 있는데, 니들형 요소는 치과-임플란트 부품 상에 치료 요소의 장착 후 삽입 영역을 향하여 이동될 수 있다. 전도성 액체를 운반하는 도관으로서의 구성에서, 얇은 파이프, 중공형 니들 등이 예를 들면 대신 제공될 수 있는데, 얇은 파이프, 중공형 니들 등은 치과 임플란트 부품 상에 치료 요소의 장착 후, 또한 이의 출구 표면이 치료를 필요로 하는 삽입된 임플란트 부품의 공간 영역에 충분히 근접하게 위치 설정되는 방식으로 삽입 영역을 향하여 이동될 수 있다.

대안적으로 또는 부가적으로 유리한 개선예에서, 제 2 전도 요소는 단부 측 상에 배열된 제 2 전도 요소의 접촉부가 측면 방향으로 볼 때 치과-임플란트 부품의 중앙 길이 방향 축선으로부터 최대 10 mm의 거리, 바람직하게는 최대 5 mm의 거리에 위치 설정될 수 있고 부가적인 또는 추가의 유리한 실시예에서, 측면 방향으로 볼 때 치과-임플란트 부품의 중앙 길이방향 축선으로부터 적어도 1 mm, 바람직하게는 적어도 1.5 mnm의 거리에 위치될 수 있는 방식으로 본체에 고정된다. 이러한 방식으로, 다른 신체 조직상에 이와 달리 낮은 전류 부하를 가지고 임플란트 부품의 삽입 장소에 직접 비교적 높은 전류 밀도의 바람직한 발생은 특히 유리한 방식으로 달성될 수 있다.

위에서 설명된 바와 같이, 전도 요소들은 예를 들면 금속 기재인 적절하게 선택되고 기하학적으로 구성된 전극들로서 "종래" 전극들의 방식으로 설계될 수 있다. 그러나, 전기 전도성 액체들의 사용을 기반으로 한 대안적인 실시예는 특히 유리한 것으로 고려되는데, 이는 이 경우 한편으로 비교적 높은 가요성의 도관 안내부 및, 이에 따라, 또한 전류 또는 전위 안내가 달성될 수 있기 때문이다.

치과-임플란트 부품에 대한 치료 시스템에 대해, 전술된 문제점은 전술된 유형의 치료 요소를 사용하여 해결되며, 이 치료 요소의 전도 요소들은 전류원 또는 전압원과 전기적으로 연결된다.

상당히 놀랍게도 박테리아에 의해 손상된 임플란트를 전류 또는 전압 펄스들로 충전하는 것은 특히 박테리아가 박멸된 후 재료상에 여전히 붙어있는 유기 잔류물들의 제거에 관하여 특별히 높은 정도로 효과적이라는 것이 판명되었다. 따라서, 치료 시스템의 전류원 또는 전압원은 특히 유리한 실시예에서 전도 요소들을 전류 또는 전압을 필요에 따라 맥동 충전하기 위해 구성된다. 30 V까지 전극들 상에 인가되는 작동 전압을 제공하는 것이 특히 바람직하다.

삽입된 치과-임플란트 부품의 전기적 치료 및 특히 유리한 것으로서 고려되는 액체 기반 치료의 조합을 가능하게 하도록, 세정액 또는 수 개의 세정액들의 조합을 위한 공급 시스템은 유리하게는 치료 시스템의 치료 요소에 연결된다. 세정액으로서, 하나 이상의 산 및/또는 하나 이상의 염과 혼합된 물을 제공하는 것이 특히 바람직하다. 산으로서, 인산, 구연산, 포름 산, 에타노익 산(ethanoic acid), 젖산, 탄산, 또는 이들의 조합물로서 제공되는 것이 특히 바람직하다. 대안적으로 또는 부가적으로, 염으로서, 나트륨, 칼슘, 알루미늄, 마그네슘, 주석, 또는 요오드화칼륨, 염화칼륨, 질산칼륨, 탄산칼륨, 또는 탄산수소염 및/또는 염화암모늄, 질산암모늄, 또는 요오드화암모늄, 또는 이들의 조합을 제공하는 것이 바람직하다.

치과-임플란트 부품을 세정하기 위한 방법에 대해, 상술된 문제점은 전기 전압을 치과-임플란트 부품 상에 인가함으로써 그리고 치과-임플란트 부품을 세정액으로 세척함으로써 해결된다. 유리하게는, 전기 전압은 맥동 방식으로 인가된다. 대안적으로 또는 부가적으로 유리한 개선예에서, 전술된 유형의 세정액이 사용된다.

본 발명에 의해 달성되는 장점들은 특히 전도 요소를 구비한 치료 요소의 구성을 통하여, 특히 그리고 특별히 바람직한 방식으로 세정액을 공급하기 위해 적절히 안내된 도관과 조합하여, 이러한 목적을 위해 환자의 구강으로부터의 제거 또는 다른 치료상 개입을 요구하지 않으면서 치과-임플란트 부품이 의도적이고 국부적인 방식으로 적절한 전류 또는 전압 펄스들로 충전될 수 있는 것으로 이루어진다. 이에 따라, 방지 또는 체킹 조치의 방식으로, 삽입된 임플란트 부품 상의 박테리아 서식과 초기 단계에서 싸울 수 있으며, 이에 의해 박테리아를 박멸하기 위해, 그러나 또한 삽입된 임플란트 몸체상에 여전히 들러붙어 있는 어떠한 유기 재료도 제거하기 위해 놀랍게도 발견된 효율의 전류들이 사용될 수 있다.

본 발명의 예시적인 실시예가 도면에 의해 상세하게 설명된다.
도 1, 도 2는 각각 치과-임플란트 시스템을 도시하며,
도 3, 도 4는 각각 치과-임플란트 시스템의 임플란트 부품 또는 기둥 부품을 도시하며,
도 5는 환자의 턱뼈 내로 삽입된 치과-임플란트 부품을 위한 치료 요소의 사시도이며,
도 6, 도 7은 각각 도 5에 따른 치료 요소의 변형예의 길이 방향 단면을 도시하며,
도 8, 도 9는 각각 치료 요소의 다른 변형예의 사시도이며,
도 10은 도 9에 따른 처리 요소의 길이 방향 단면을 도시하며,
도 11은 치료 요소의 사용을 위해 구성된 치료 시스템을 개략적으로 도시한다.

동일한 부분들은 모든 도면에서 동일한 도면 부호들에 의해 확인된다.

도 1에 따른 치과-임플란트 시스템(1)은 턱뼈에서 발치되거나 저절로 빠진 치아 대신 사용하기 위해, 틀니 피스로서 기능하는 크라운 또는 의치 부품을 치아가 빠진 부분에 고정하는 것이 의도된다. 치과-임플란트 시스템(1)은 수 개의 부품들로 이루어지고 소위 기둥 부품으로서 구성되는 제 1 임플란트 부품(2) 및 제 1 임플란트 부품과 결합되고 틀니 피스를 체결하기 위해 제공되는 상부 구조 부품 또는 교대로서 또한 지칭되는 제 2 임플란트 부품(4)을 포함한다. 제 1 임플란트 부품(2) 또는 기둥 부품은 그 외측에 특히 정점 단부(8)에 자체-절삭 나사의 나삿니로서 구성되는 외부 나삿니(6)가 제공되며, 이 외부 나싯니에 의해 제 1 임플란트 부품(2) 또는 기둥 부품은 이 외부 나삿니를 나사 조립함으로써 턱뼈 내 의도된 장소에 삽입될 수 있다.

이를 가능하게 하도록, 높은 기계적 안정성을 가지고 기둥 부품 또는 제 1 임플란트 부품(2) 내에 틀니 피스 또는 의치를 고정하기 위해 교대 또는 제 2 임플란트 부품(4) 상에 틀니 피스 또는 의치를 적절히 체결한 후, 연결 스터드(10)가 제 2 임플란트 부품(4) 상에 성형되며 이 연결 스터드(10)는 제 1 임플란트 부품(2)에 제공된 관련된 수용 도관(12) 내로 가압될 수 있다. 연결 스터드(10)를 수용 도관(12) 내로 가압함으로써, 임플란트 부품(2, 4)들은 서로 기계식으로 커플링된다. 높은 기계적 안정성을 보장하기 위해, 연결 스터드(10)의 외측 윤곽은 수용 도관(12)의 내측 윤곽에 맞춰지며, 연결 스터드 및 수용 도관 모두가 길이 방향으로 볼 때 원추 형상인 것이 가능하다(도 2에 따른 예시적인 실시예). 또한, 특히 도 3에 따른 예시적인 실시예에서 제공된 바와 같이, 연결 스터드(10)의 외측 윤곽- 및 개조에 따라, 또한 수용 도관(12)의 내측 윤곽은 다중으로 대칭되는 횡단면으로 제공될 수 있어(예시된 실시예에서, 6중 대칭) 전술된 구성요소들이 연결될 때, 회전 잠금 기어가 생성되고 이에 따라 기둥 부품에 대한 교대의 신뢰성있는 회전 방위가 조정될 수 있다. 도 3, 도 4에 따른 예시적인 실시예에서, 횡단면이 또한 다중 대칭을 보여주는 인덱싱 요소(14)는 인덱싱을 위해 또는 회전 잠금 기어를 생성하기 위해 연결 스터드(10)의 단부 측 상에 배열되고, 상기 인덱싱 요소(14)는 수용 도관(12) 내의 대응하여 관련된 도관 단부 피스(16) 내로 조립된 상태로 맞물린다.

예시적인 실시예에서, 치과-임플란트 시스템(1)은 임플란트 부품(2, 4)을 서로 나사 연결하기 위해 구성된다. 이를 위해, 제 1 임플란트 부품(2) 내부에 제공되는 나사의 나삿니(20) 내로 맞물리는 연결 나사(18)가 제공된다. 이들의 재료들의 선택에 대해, 임플란트 부품(2, 4)들은 의도된 적용에 적절히 적응되고 일반적으로 예를 들면 지르코늄 옥사이드 또는 알루미늄 옥사이드와 같은 세라믹 재료, 아니면 예를 들면 티타늄과 같은 그 밖의 적절히 선택된 금속으로 제조된다.

일반적으로, 치과-임플란트 시스템들, 특히 또한 전술된 유형의 두 개-부품의 임플란트 시스템들은 염증들 또는 염증 진원지(focus)가 삽입 장소 근처의 조직 영역 내로, 특히 턱 안으로 절삭되는 외부 나삿니(6)의 영역에 박테리아 또는 세균들의 침투에 의해 발생할 수 있다. 특히 또한 소위 임플란트 주위염의 결과로서 이 같은 감염들은 특히 감염들이 심해질 수 있고 긴 기간에 걸쳐 유지될 때 삽입의 장소의 영역에 조직 및 뼈의 심각한 악화를 초래할 수 있다. 적절한 대응조치들 없이, 이러한 악화들은 뼈로부터 전체 임플란트 시스템, 즉 특히 또한 이미 삽입된 기둥 부분 또는 제 2 임플란트 부품(4)을 제거하고 이를 다른 의치들로 대체할 필요성을 초래할 수 있다. 따라서 임플란트 주변 염에 의해 유발된 이러한 가장 바람직하지 않은 영향은 임플란트 시스템의 총 손실을 초래하여, 예를 들면 턱뼈 내의 손상된 영역을 긁어내고 새로운 임플란트 시스템으로의 치료와 같은 재생 수술 조치들이 필요하게 될 수 있다. 또한 이 같은 제거는 뼈의 손실 또는 조직 물질의 다른 손실을 수반하며 이는 극단적인 경우 심지어 다른 임플란트로의 새로운 치료를 완전히 불가능하게 할 수 있다. 임플란트 주변 염에 의해 유발된 새로운 치료의 이 같은 필요성은 임플란트 시스템의 제 1 삽입 후 예를 들면 수년 또는 심지어 수십년 까지의 비교적 긴 기간 후 발생할 수 있다.

임플란트 주변 염과 관련하여 관측된 세균 또는 박테리아는 원칙적으로 기둥 부분(2)의 내부에 서식할 수 있지만 대체로 세균 또는 박테리아는 바람직하게는 주변 조직 또는 뼈 물질과의 접촉 영역에 즉, 특히 외측 나삿니(6)의 영역에 턱뼈 내로 삽입된 기둥 부품(2)의 표면 상에 직접 들러붙는다. 외측 나삿니의 영역에서, 기둥 부품(2)의 표면에는 거칠기(roughening) 등이 제공될 수 있어 기둥 부품의 삽입 후 특히 조직 또는 뼈의 성장을 증진하고 기둥 부품(2)의 치유를 지원한다. 그러나, 임플란트 시스템에 대해 특히 선호하는 것으로서 실제로 고려된 특히 표면의 이 같은 거칠어진 영역에서, 세균 또는 박테리아의 서식이 증가될 수 있고 거칠기는 존재하는 세균들 또는 박테리아의 구체적인 제거를 더 어렵게 한다.

따라서, 시작하는 임플란트 주변염 또는 이미 존재하는 임플란트 주변염의 경우 및 이미 삽입된 임플란트 시스템, 즉 특히 이미 삽입된 기둥 부품(2)의 보존 하에서 감염 진원지와 효과적으로 싸우고 침투된 세균을 박멸시키기 위해 적절한 대응조치들이 긴급히 요구되어 그 후에 건강한 조직 또는 건강한 뼈 물질이 외부 나삿니(6) 주변 영역에서 다시 성장할 수 있다. 이를 위해, 손상된 영역에서 세균 또는 세균의 구체적인 박멸에 부가하여 또한 세균 또는 세균의 물질 잔류물들 및 관련된 공간 영역으로부터 조각들을 확실히 제거하는 것이 바람직할 수 있어, 이때 손상된 영역이 다시 건강한 조직 또는 뼈 물질로 채워질 수 있고 기둥 부품(2)의 외측 표면과 주변 조직 또는 뼈 물질 사이의 밀접한 연결이 다시 발생할 수 있다. 또한, 박멸된 박태리아의 유기 잔류물을 포함하는 박테리아 층에 의해 형성된 생물막이 확실히 제거되어야 한다.

이를 위해, 즉, 기둥 부품(2)의 삽입 영역에서 세균 또는 박테리아를 박멸하기 위해 그리고 특히 또한 후속하는 박멸한 박테리아의 재료 및 조직의 잔류물들을 세척, 제거 및 운반하기 위해, 도 5에서 사시도로 도시된 치료 요소와 같이, 치료 요소(30, 30')가 제공된다. 치료 시스템(30)의 바람직한 제 1 변형예는 도 6에 길이 방향 단면으로 도시되며, 치료 시스템(30')의 바람직한 제 2 변형예는 도 7에 길이 방향 단면으로 도시된다.

예시적인 실시예에서, 치료 요소(30, 30')는 임플란트 시스템(1)의 실제로 두 개의 부품의 실시예에 의해 치료 교대의 방식으로 설계되고 앞에서 언급된 치료를 수행하기 위해 도시된 두 개의 부품의 임플란트 시스템(1)을 위해 제공되며, 여기서 치료 교대(30, 30')는 임시적으로 실제 교대 또는 제 2 임플란트 부품(4) 대신 기둥 부품(2) 상에 배치되어야 한다. 따라서, 아래 실시예들은 두 개의 부품의 임플란트 시스템(1)의 경우를 지칭하지만; 물론 유사한 실시예에서, 단일 부품의 임플란트들에 대한 대응하는 사용이 또한 제공될 수 있고; 이를 위해, 단지 예를 들면 적절한 접촉 표면을 통해 치료 동안 턱뼈 내에 남아 있는 임플란트 시스템의 상기 부품과 치료 요소(30, 30')의 기계적 연결을 적절히 구성하는 것이 필요할 수 있는데, 예를 들면 적절한 접촉 표면을 통해, 임플란트 시스템의 상기 부품에 의해 치료 요소(30, 30')가 의치들 대신 임플란트의 교대 상으로 배치될 수 있다. 대안적으로, 치료 요소(30, 30')는 임플란트 시스템(1)의 실제 교대(4)의 상부에 배치될 수 있어, 상기 목적을 위한 실제 교대(4)를 제거하지 않으면서 예를 들면 표면의 세척 및 박테리아의 박멸을 통하여 연한 조직의 감염(점막염)과 싸우기 위한 사용이 제공될 수 있다.

예시적인 실시예에 제공된 임플란트 시스템(1)의 두 개의 부품의 실시예에 의해, 우선, 가능하게는 실제 교대 또는 제 2 임플란트 부품(4) 상에 고정된 의치들의 제거 후, 아래에서 상세하게 설명되는 치료를 수행하기 위해 제 1 및 제 2 임플란트 부품(2, 4)들 사이의 나사 연결이 분리되고 제 2 임플란트 부품(4)이 벗겨진다. 제 1 임플란트 부품 또는 기둥 부품(2)은 턱뼈 내에 남아 있다. 이때, 치료 교대(30, 30')는 실제 교대(4) 대신 기둥 부품(2) 상에 배치된다.

도 6 및 도 7에 도시된 치료 요소(30, 30')의 변형예들은 실질적으로 동일한 구성이지만 기둥 부품(2) 상의 체결이 정확히 말해서 치료 동안 실행되는 방식에서 상이하다. 도 6에 따른 변형예에서, 나사 연결을 사용하는 체결이 제공되는 반면, 도 7에 따른 변형예에서 처리 요소(30, 30')가 단지 기둥 부품(2) 상으로 미끄러지는 것이 제공된다.

이에 따라, 도 6에 도시된 처리 요소(30)는 기둥 부품(2) 상으로 배치되고 이후에 나사 연결을 통해 기둥 부품에 연결되는 반면, 도 7에 도시된 처리 요소(30')는 기둥 부품상에 배치될 때 기둥 부품(2) 내로 미끄러진다. 이를 위해, 치료 임플란트(30, 30')는 양 변형예들에서 실질적으로 평평한 접촉 표면(32)을 포함하며 이 실질적으로 평평한 접촉 표면에 의해 치료 임플란트는 기둥 부품(2)의 단부 에지(34) 상에 배치될 수 있다. 접촉 표면(32)은 특정 환경들 하에서 또한 밀봉면의 기능을 충족할 수 있고 이에 따라서 설계될 수 있으며, 특히 상기 목적을 위한 원추형 설계일 수 있다.

이의 설계 및 기본적 구성에 대해, 치료 교대(30, 30')는 두 개의 주 개념들을 기초로 하며, 이 개념들 각각은 독립적으로 발명으로서 고려되며; 한편으로, 세정제 또는 살균제이지만 인체 기관에 의해 용인되는 소독약의 특별한 공급을 통하여 기둥 부품(2)의 삽입 영역에 존재하는 세균 또는 박테리아를 특별히 박멸하기 위해 설계된다. 다른 한편으로 기둥 부분의 표면상에, 특히 외부 나삿니(6)의 영역에 여전히 둘러붙어 있는 세균들 및/또는 박테리아의 어떠한 잔류물 또는 조각들도 기둥 부품(2)의 외측 표면으로부터 전류 임펄스들을 갖는 펄스형 충전을 통하여 제거하고 이어서 이 같은 잔류물들을 씻어 버리기 위해 설계된다.

시스템의 구성에 대해 그리고 치료 방법의 제공된 단계들에 대해 모두 발명으로서 독립적으로 고려되는 제 1 양태에서, 치료 요소(30, 30')는 둘다 이에 따라 세균 또는 박테리아를 박멸하도록 치료액을 특별히 공급하기 위해 및/또는 기둥 부품(2)의 삽입 영역 내로 삽입된 임플란트 부품(2), 특히 기둥 부품의 외부 나삿니(6)의 영역을 세정하기 위해 구조적으로 그리고 기능적으로/개념적으로 설계된다. 처리 액체로서, 하나 이상의 산 및/또는 하나 이상의 염과 혼합된, 물을 제공하는 것이 특히 바람직하다. 산으로서, 인산, 구연산, 포름산, 에토노익 산, 젖산, 탄산 또는 이들의 조합을 제공하는 것이 특히 바람직하다. 대안적으로 또는 부가적으로, 염으로서, 나트륨, 칼슘, 알루미늄, 마그네슘, 주석, 또는 요오드화칼륨, 염화칼륨, 질산칼륨, 탄산칼륨, 또는 탄산수소염 및/또는 염화암모늄, 질산암모늄, 또는 요오드화암모늄, 또는 이들의 조합을 제공하는 것이 특히 바람직하다. 세정액은 치료 요소(30, 30')에 매우 근접하게 그리고 이에 따라 관련된 공간 영역의 바로 근처에, 즉 기둥 부품(2)의 삽입 영역에 공급되어야 한다.

또한 시스템의 구성에 대해 그리고 치료 방법의 제공된 단계들에 대해 모두 독립적으로 발명인 제 2 양태에서, 치료 요소(30, 30')는 기둥 부품(2)의 외측 표면으로부터 박멸된 박테리아 또는 세균들, 각각 이들의 잔류물들 또는 부분들을 확실히 분리하기 위해 설계되어, 이어서 치료 요소가 씻겨 질 수 있어서, 이후 건강한 조직 또는 뼈 재료가 다시 기둥 부품(2)의 표면과 접촉할 수 있고 기둥 부품이 다시 건강한 조직 또는 뼈 물질 내로 완전히 성장할 수 있다. 표면으로부터 박테리아 또는 세균들, 각각 이들의 잔류물들 또는 조각들을 분리하기 위해, 전도성 액체로 박테리아 또는 세균들을 적셔서 이를 펄스형 전류 임펄스들로 충전하는 것이 제공된다. 또한 가장 놀랍게는 상기 표면이 거칠어져서 사실 특히 이의 표면 구조에 의해 유기 재료의 부착을 증진하는 경우조차 전류 임펄스들로 정확히 이러한 펄스 충전하는 것은 특히 확실한 방식으로 표면 아래로부터 박테리아 또는 세균들, 각각 이들의 잔류물들 또는 조각들의 분리를 실행하는 것으로 간주되는 것으로 판명된다.

이는 기둥 부품의 외측 표면의 영역에서, 즉 특히 외부 나삿니(6)의 영역에서 펄스형 전류 임펄스들로 기둥 부품(2) 자체를 충전하는 것이 표면으로부터 기둥 재료 자체, 즉 예를 들면, 티타늄의 조각들의 분리를 초래하는 놀라운 발견을 기초로 한다. 특히, 전류 임펄스들로, 특히 적절하게 선택된 전도성 액체로, 예를 들면, 이온 또는 산성 성분으로의 충전은 TiO₂ 영역들의 형성을 초래하며, 이는 이어서 티타늄 표면으로부터 분리될 수 있다. 기둥 부분(2)으로부터 표면 구성요소의 이러한 분리를 통하여, 세균들 또는 박테리아의 표면에 부착되는 구성요소들 또는 조각들이 또한 분리되고 완저히 제거되어, 세균들 또는 박테리아가 이러한 영역들 내에 세균들의 새로운 서식을 위한 근거 또는 영양소 매체를 제공하지 않을 수 있다. 남아 있는 것은 기둥 부품(2)의 세균, 박테리아 또는 이들의 구성요소들 또는 잔류물들로부터 세정된 거칠어진 그리고 다공성의 표면이며 이 구성요소들 또는 잔류물들은 또한 재성장하는 뼈 조직 내의 앞으로의 통합을 위한 근거로서 잘 기능할 수 있다. 나머지 표면은 또한 티타늄 산화물 층에 의해 형성될 수 있으며 또한 표면을 양극 산화 처리할 때 발생한다.

표면의 신뢰성 있는 세정의 의미에서 바람직한, 삽입된 기둥 부품(2)으로부터 표면 구성요소들의 이러한 분리의 다른 증진은 전류로 충전하는 동안 유리하고 특히 잘 맞는 공정 안내를 통하여 달성될 수 있다. 상기 공정 안내는 전류 유동에 의해 기포들의 전해질 형성이 삽입된 표면의 영역에 발생되는 것일 수 있다. 여기서, 기둥 부품(2)은 양극으로 또는 음극으로 스위칭될 수 있다. 특히 기둥 부분(2)의 적어도 일시적인 음극 스위칭의 경우, 가스들 수소, 산소, 질소, 및/또는 이산화탄소가 전해질 유도를 통해 발생한다. 기포들의 형성은 이에 의해 주변 액체에서 상승하고 이에 따라 비말 동반 작용을 발생시키며, 이 비말 동반 작용을 통하여 상술된 표면 구성요소들은 또한 제거되어 외부를 향하여 방출된다. 예를 들면, 가장 놀랍게도 양의 이온들을 포함하는 용액, 예를 들면 수성 염류 용액을 사용할 때, 이러한 이온들은 기둥 부품이 음극으로 스위칭될 때 기둥 부품(2) 상에 쌓이고 이에 따라 기포의 형성을 확실히 증가시킨다. 예를 들면, 기둥 부품(2)의 음극 스위칭의 경우 Na⁺이온들의 존재는 기포들의 상당한 형성을 초래하는데, 이는 Na가 즉시 산화를 초래하기 때문이다.

독립적인 발명의 제 3 양태에서, 또한 시스템의 구성 그리고 치료 방법들의 제공된 단계들 모두에 대해, 치료 요소(30, 30')는 앞에서 언급된 양태들의 특히 간단하고 효과적인 조합에 대해 설계된다. 이는 세정액의 제공된 공급 및 박테리아 및 세균들의 잔류물들 및 조각들의 구체적인 분리 모두가 통상적인 시스템에서 위에서 언급된 전류 임펄스를 인가함으로써 그리고 이에 따라 특별한 간단한 수단으로 달성될 수 있다는 개념을 기초로 한다.

이러한 설계 목적들을 고려하여, 치료 요소(30, 30')는 도 5에 따른 사시도 및 도 6 및 도 7에 따른 길이 방향 단면으로의 묘사로부터 취할 수 있는 구성을 보유하고, 치료 요소(30, 30')는 각각의 경우 기둥 부품(2) 상에 장착된 상태에서 묘사된다. 상기 묘사들은 또한 링-형상 방식으로 이의 외부 나삿니(6)의 영역에서, 임플란트 주위염으로 손상되고 박테리아로 감염된 턱뼈(38)에서 기둥 부품(2)을 둘러싸는, 공간 영역(36)을 도시한다.

치료 요소(30, 30')는 실질적으로 원통형 케이싱의 형태의 몸체로서 설계된, 본체(40)를 포함하며, 접촉 표면(32)을 형성하는 상기 본체의 단부 면(42)은 기둥 부품(2)의 상단부면 또는 단부 에지(34) 상에 배치된다. 더욱이, 기계적 안정성을 증가시키기 위해, 연결 스터드(43)는 본체(40) 상으로 부가적으로 성형되어, 연결 스터드의 윤곽 및 기하학적 매개변수들은 기둥 부품(2) 내의 수용 도관(12)에 적용되고 연결 스터드는 기둥 부품 내로 가압될 수 있어, 연결 스터드가 내부로 가압되면서 확실한 위치 설정 및 임시 고정을 가능하게 한다.

본체(40)의 내부에서 그리고 본체와 동축으로, 중심 내부 도관(44)이 제공된다. 도 6에 따른 변형예의 치료 요소(30)는 의도된 치료 단계 동안 나사 연결의 사용을 위해 구성되고 이에 따라 연결 나사(46)는 이러한 변형에서 내부 도관(44) 내로 안내된다. 연결 나사(46)의 나사의 나삿니(48)는 기둥 부품(2) 내부에 제공된 나사의 나삿니(20) 내로 맞물린다. 기둥 부품(2)을 구비한 실제 교대(4)를 연결하기 위해 제공된 연결 나사(18)와 반대로, 연결 나사(46)는 높은 기계적 부하 지지 성능 및 생산된 나사 연결부의 수명을 위해 설계되지 않으며; 연결 나사(46)는 오히려 다른 설계 기준들을 기초로 하여서, 아래에서 설명되는 특히 치료 과정에서 고려되며, 여기서 연결 나사(46) 및 이 연결 나사와 함께 기둥 부품(2)이 전류 임펄스들을 위한 전극으로서 기능하여야 한다. 결론적으로, 연결 나사(46)는 전기 전도성 재료, 특히 예를 들면 티타늄과 같은 금속으로 제조된다.

도 7에 따른 변형예에서, 치료 요소(30')는 대조적으로 기둥 부품(2)과 플러그-인 연결을 위해 구성된다(그밖에는, 실질적으로 구성이 동일함). 이를 위해, 이러한 변형예에서, 전기 접촉 요소(49)가 안내되어 바람직하게는 내부 도관(44) 내에서 이의 길이 방향으로 변위되도록 운반된다. 전기 접촉 요소(49)의 설계 및 공간 구성에서, 아래에서 설명되는 치료의 과정은 또한 고려되었으며, 여기서 전기 접촉 요소(49) 및 전기 접촉 요소와 함께, 기둥 부품(2)은 전류 임펄스들을 위한 전극으로서 기능한다. 따라서 본 변형예에서, 전기 접촉 요소(49)는 적절한 전기 전도성 재료, 특히 예를 들면 티타늄과 같은 금속으로 제조되고 전기 접촉 요소가 내부 도관(44) 내로 완전히 가압될 때 전기 접촉 요소의 니들 팁(50)이 내부 도관(44)의 저부(52) 또는 다른 구역과 충돌하는 방식으로 내부 도관(44) 내에서 운반 및 안내되어, 기둥 부품(2)과 신뢰성 있는 전기 접촉을 한다. 대안적으로, 전기 접촉 요소(49)는 또한 이의 단부 구역 내에 내부 도관(44)의 측면 내벽들 상에 확실한 전기 접촉을 하는 펼쳐질 수 있는 탄성 요소로서 설계될 수 있다.

치료 요소(30, 30')는 특히 또한 세균들 또는 박테리아를 박멸하는 작용을 할 수 있는 세정액을 공간 영역(36) 내로 공급하기 위해 설계된다. 이를 위해, 본체(40)에는 유입 측면 상에 치료액을 위한 서플라이 또는 공급 시스템과 연결되는 복수의 매체 도관(56)들이 제공된다. 예시적인 실시예에서, 매체 도관(56)들은 본체(40)를 둘러싸는 고리형 몸체(58) 내로 성형되는 그루브(59)들에 의해 형성된다. 고리형 몸체(58)는 본체(40) 상으로 가압되어, 그루브(59)들이 본체(40)의 외측 케이싱에 의해 내부를 향하여 폐쇄되고 이에 따라 매체 도관(56)들로 구성된 도관 시스템을 형성한다. 대안적으로, 매체 도관들은 물론 또한 다른 방식으로 본체(40) 내로 직접 성형될 수 있다.

기둥 부품(2)의 단부 에지(34)를 구비한 본체(40)의 단부면(42)의 접촉 영역의 중간 근처에서, 매체 도관(56)들에 의해 형성된 도관 시스템은 복수의 출구 개구(60)들을 포함하며 개구는 도 6, 도 7에서 각각 명료성을 향상시키기 위해 단지 두 개만 도시한다. 예시적인 실시예에서, 각각의 매체 도관(56)에는 출구 개구(60)가 제공된다. 그러나, 출구 개구(60)들의 횡단면 및 개수는 또한 개별 사양들에 적응될 수 있다. 예를 들면, 단부면(42)과 단부 에지(34) 사이의 전체 주변 상에 예를 들면 고리형 갭을 형성하는 단일 출구 개구가 제공될 수 있다. 대안적으로, 특히 본체(40)의 주변 방향으로 볼 때 본체(40) 둘레에 균일하게 배열될 수 있는 복수의 출구 개구(60)들이 제공될 수 있다. 대안적으로, 바람직하게는 개별적으로 위치 설정 가능하여 제한된 공간 영역 내에 치료액의 국부적 방출을 위해 설계된, 하나의 관련된 출구 개구(60)를 구비한 단지 하나의 매체 도관(56)이 제공될 수 있다.

매체 도관(들)(56)에 의해 형성된 도관 시스템의 출구 개구(60)들은 단부 면(42)의 바로 근처에서 그리고 이에 따라 공간 영역(36) 바로 위에서 나가서, 출구 개구(60)들의 밖으로 유동하는 매체는 그 아래 위치되는 공간 영역(36) 내로 거의 직접적으로 들어간다. 독립적인 본 발명의 양태와 같은 것으로서 고려되는 본체(40)의 이러한 실시예를 통하여, 치료 요소(30, 30')는 이에 따라 도관 시스템을 형성하고, 이 도관 시스템에 의해 치료액이 치료를 필요로 하는 공간 영역(36) 내로 직접, 의도적이고 효과적인 방식으로 도입될 수 있다.

또한, 치료 요소(30, 30')는 또한 전기 시스템으로서 특별히 구성된다. 설계 원리로서, 특히 펄스 방식으로 전류 임펄스들로 매체 도관(56) 내에서 운반되는 매체, 특히 매체 도관 안에서 운반되는 염류 용액을 충전하는 것이 가능하게 하는 것이 제공된다. 치료 요소(30, 30')는 치료를 필요로 하는 공간 영역(36) 내로 특히 국부화된 방식으로 삽입된 임플란트 부품(2)을 세정하기 위해 제공된 전류 유동을 생성하기 위해 설계된다. 치료 요소(30, 30')는 설계 원리에 따라 전류가 삽입된 임플란트 부품(2)에 공급되고 삽입된 임플란트 부품이 전극으로서 사용될 수 있도록 구성된다. 이를 위해, 치료 요소(30, 30')는 전류 경로를 형성하고 전기 접촉 요소(49) 또는 연결 나사(46)를 통해 임플란트 부품(2)과 전기적으로 연결하고 이어서 적절히 선택된 전류원 또는 전압원에 연결될 수 있는 제 1 전도 요소(62)를 포함한다.

대향 전극(opposite pole) 또는 상대 전극을 형성하도록, 매체 도관(56) 내에서 운반되는 세정액의 전기 전도성을 이용하는 것이 제공된다. 이를 위해, 매체 도관(56)들의 내부는 이어서 전류원 또는 전압원의 다른 극과 전기적으로 연결된다. 이에 따라, 매체 도관(56)들의 출구 개구(60)들은 전기적 의미에서 접촉부(64) 또는 전기 접촉 지점을 형성하며, 이 접촉부 또는 전기 접촉 지점을 통해 임플란트 부품(2) 내로 또는 밖으로의 전류 유동이 실행된다. 전기 접촉부(64)로서, 치료를 필요로 하는 공간 영역(36)의 바로 근처에 위치 설정되는 출구 개구(60)들의 이러한 이용에 의해, 치료 및 세정을 위해 인가되는 전류가 박테리아에 의해 손상된, 삽입된 임플란트 부품(2)의 표면 존(zonw)을 통하여 그리고 이 표면 존으로부터 가능한 직접, 즉 특히 추가의 신체 조직 등을 통한 어떠한 "우회(detour)들"도 없이 접촉 표면(64) 또는 접촉 지점으로 유동할 수 있는 것이 달성된다. 따라서, 매체 도관 내에서 운반되는 전기 전도성 세척 액을 포함하는 매체 도관(56) 및 대응하는 연결 요소들은 예시적인 실시예에서 제 2 전도 요소(66)를 형성하여 단부 측에 배열된 접촉부(64)로의 전류 경로를 형성한다.

그러나, 대안적으로, 제 2 전도 요소(66)는 또한 "종래" 전극의 방식으로, 즉 특히 금속으로 제조된 전기 전도성 니들형 요소로서 설계될 수 있다. 이러한 전극은 특히 본체(40)의 중앙 축선에 대해 실질적으로 평행한 길이 방향으로 이동 가능하게 되도록 본체(40) 상에 장착될 수 있다. 요구된 바와 같이 예를 들면 전기장을 국부적으로 발생시키기 위해, 예를 들면 전기장을 강화하기 위해 제공될 수 있는 이러한 전극 또는 부가적으로 제공된 제 3 전극을 형성하도록, 적절히 형성된 추가의 금속 몸체(68)가 부가적으로 제공될 수 있다. 치료 요소(30, 30')들은 또한 매체 도관들 없이 설계될 수 있으며, 상대 전극 및 이에 따른 제 2 전류 경로가 오로지 금속 몸체(68)에 의해서만 형성되는 것이 가능하다. 이러한 경우, 접촉부(64)는 각각의 전극 몸체의 단부-측 자유 표면에 의해 형성된다.

출구 개구(60)들 및/또는 금속 몸체(68)의 단부-측 접촉 표면(69)의 위치 설정은 더욱이 이들에 의해 형성된 제 2 전도 요소(66)의 접촉 표면(64)이 측면 방향으로 볼 때 치과-임플란트 부품(2)의 중심 길이 방향 축선으로부터 적어도 1 mm 및 최대 10 mm의 거리에 위치 설정되는 것을 보장한다.

치료 요소(30, 30')의 본체(40)는 예를 들면 세라믹 또는 합성 재료와 같은 절연 재료로 제조될 수 있다. 그러나, 예시적인 실시예에서, 금속, 즉 티타늄으로 제조된다. 서로에 대한 구성요소의 확실한 전기적 절연을 보장하도록, 치과-임플란트 부품(2)에 대해 접촉 표면을 형성하는 이의 단부 면(42)에는 절연 코팅(70)이 제공되어 전기 절연 방식으로 구성된다. 더욱이, 고리형 몸체(58)는 예를 들면 세라믹과 같은 절연 재료로 제조된다.

상세하게 도시되지 않은 대안적인 실시예에서, 본체(40)가 기둥 부품(2)의 단부 에지(34) 상에 배치될 때 비-밀봉 연결이 제공될 수 있다. 이는 의도된 치료 또는 세정액이 기둥 부품(2)의 내부 내로 관통하는 것을 가능하게 하여 기둥 부품이 또한 필요한 경우 세척될 수 있다.

대안적인 실시예에서, 도 8에 사시도로 도시된 바와 같은, 치료 요소(30")에는 예를 들면 세척 액의 회수 도관으로서, 매체 혼합물을 도입하기 위한 개별 공급 라인으로서 그렇지 않으면 흡입 도관으로서 제공될 수 있는 다른 도관 시스템이 제공된다. 이를 위해, 고리형 몸체(58)는 본 실시예에서 다른 고리형 몸체(71)에 둘러싸이며 이 고리형 몸체 내로 또한 그루브(74)가 부가 매체 도관(72)들을 형성하기 위해 내부에 장착된다.

위에서 설명된 실시예들에서, 매체 도관(56) 및/또는 전도 요소(60, 66)들은 실질적으로 일체화된 구성으로 설계되고 본체(40) 내측으로 또는 본체에 연결된 고리형 몸체(58, 71) 내부로 안내된다. 대안적으로 또는 부가적으로, 그러나 매체 도관(56)들 및/또는 전도성 요소(60, 66)들 중 몇몇 또는 모두는 또한 본체(40)의 외부에 배열될 수 있고 적절한 유지 요소들을 통해 본체(40)와 연결될 수 있다. 이러한 구성은 도 9에 따른 사시도 및 도 10에 따른 길이 방향 단면도의 예시적인 실시예에로 도시된다. 이미 설명된 구성 요소들에 부가하여, 도 9 및 도 10에 도시된 치료 요소(30"')에는 길이 방향으로 이동될 수 있도록 고리형 몸체(58)의 외부에 배열되는 도관 요소(80)들이 제공된다. 상기 도관 요소(80)들은 중공형 니들 등의 방식으로 매체 도관(56)들과 유사하게 설계될 수 있고 세정액으로 충전될 수 있고 부가적으로 전도 요소(66)로서 기능할 수 있다. 그러나, 대안적으로, 도관 요소들은 또한 전극들의 방식으로 금속으로 설계될 수 있고 전류원 또는 전압원과 전기적으로 적절한 방식으로 연결된다. 또한, 도 9에 따른 예시적인 실시예는 변형예를 도시하며, 변형예에서, 외부에 배열된 도관 요소(80)들에 의해 형성된 매체 도관들에 부가하여, 고리형 몸체(58) 내에 그루브(59)들에 의해 형성된 일체형 매체 도관(56)이 또한 제공된다.

치료 요소(30, 30', 30", 30''')는 바람직하게는 도 11에 도시된 바와 같이, 치료 시스템(90)에서 사용된다. 치료 시스템(90)은 삽입된 치과-임플란트 부품 또는 기둥 부품(2)을 위해 제공되고 치료 요소(30, 30', 30", 30''')를 포함하고 이에 부가하여 치료 요소(30, 30', 30", 30''')와 호스 패키지(94) 사이의 연결 요소(92), 환자의 구강 외측에 배열되는 서플라이 및 제어 유닛(98)과 호스 패키지(94) 사이에 플러그-인 연결부(96)를 포함한다. 이러한 서플라이 및 제어 유닛(98)은 전기 공급원을 포함하며 이 전기 공급원은 전압을 인가할 수 있고/인가할 수 있거나 기둥 부품(2) 내의 전극과 다른 전극 사이에 전류를 유동하는데, 다른 전극은 치료 요소(30, 30', 30", 30'''), 플러그-인 연결부(96)들, 호스 패키지(94) 및/또는 서플라이 및 제어 유닛(98) 내에 위치될 수 있다. 이러한 전극은 매체/전해질에 대한 전기 전도성 접촉 지점을 포함한다.

이러한 전압 또는 전류는 양 방향들의 극성을 가진 직류 전압/직류로서 또는 교류 전압으로서 두 개의 전극들에 인가될 수 있다. 전압이 교류 전압인 경우, 전압은 상이한 주파수들을 가지고 사인, 삼각형, 직사각형 또는 이들의 형상들의 어떠한 상상 가능한 겹침의 형상도 가질 수 있다. 더욱이, 이러한 교류 전압은 직류 전압에 의해 겹쳐질 수 있다. 또한 맥동하는 직류 전압을 사용하는 것이 가능하다. 전기장을 발생시키기 위해, 바람직하게는 치료 요소(30, 30', 30", 30''') 내에 수용된, 제 3의 전기 절연 전극이 제공될 수 있다.

이에 부가하여, 서플라이 및 제어 유닛(98)은 펌프들을 통해 그리고 하나 또는 수 개의 밸브들 또는 밸브 유닛들을 통해 동시에(혼합하여) 또는 호스 패키지(94)를 통해 차례로 치료 요소(30, 30', 30", 30''') 내로 이송될 수 있는 두 개 이상의 액체들 또는 전해질들을 위한 저장부들을 포함한다. 특히 유리한 경우에서, 서플라이 및 제어 유닛(98)은 또한 흡입 장치를 포함하고, 흡입 장치에 의해 치료 요소(30, 30', 30", 30''')를 통해 공급된 액체들 또는 전해질들이 사용 후 흡입될 수 있다. 특히 유리한 실시예에서, 서플라이 및 제어 유닛(98)은 또한 물 또는 다른 액체들/전해질들을 위한 CO₂ 처리 유닛을 포함한다. 공정을 최적화하기 위해, 매체 온도 제어부가 또한 서플라이 및 제어 유닛(98) 내로 포함될 수 있다.

호스 패키지(94) 및 플러그-인 연결부(96)는 이들이 전류 유동 및 매체 유동을 보장할 수 있도록 설계된다. 완전한 장비가 특히 3개의 전기 도관들 및 두 개의 액체/전해질 도관들을 포함할 것이다.

전극들은 기둥 부품(2)과 동일한 재료로 제조될 수 있다. 기둥 부품(2)들이 바람직하게는 티타늄 또는 티타늄 합금으로 제조되기 때문에, 다른 금속의 다른 전극(들)로 제조되는 것이 바람직하다. 티타늄 및 티타늄과 유사한 금속들은 주로, 양극으로 동력이 공급될 때(anodically energized) 절연체로서 작용하는 보호 산화물 층을 형성한다. 이 같은 산화물 층을 통한 전류 유동을 제한하지 않도록, 기둥 부품(2)의 음극 동력 제공(cathodic energization)의 경우, 상대 전극으로서 거의 어떠한 산화물 층을 형성하지 않거나 전혀 형성하지 않는 금속을 사용하는 것이 유리하다. 특히 유리한 경우에서, 이러한 전극은 매체들/전해질들과의 접촉을 통하거나 또는 전압 또는 전류의 인가 하에서 부식하지 않는다. 바람직하게는, 이러한 전극은 금, 백금, 팔라듐으로 제조된다.

삽입된 임플란트/기둥 부품(2)의 내부가 또한 오염되고 후속적으로 세정되어야 하는 경우, 매체로 내부를 세척하고 내부를 개별적으로 또는 함께 전류로 충전하는 것이 가능하다.

전도 요소들은 또한 어떠한 액체들도 통과하는 것을 허용하지 않고 단지 전해질 내에 존재하는 이온들만 통과하는 것을 허용하는, 가요성 또는 단단한 다이어프램의 형태로 설계될 수 있다. 이 같은 일 실시예에서, 바람직하게는 전류 경로들 중 하나가 기둥 부품(2)의 내부에 존재하고 접촉 표면(32)들을 지나 연속하는데, 이 경우 기둥 부품(2)의 외측 표면까지 단지 부분적으로 밀봉되거나 전혀 밀봉되지 않는다.

상기 방법의 안내를 위해 의도되는 치료액은 위에서 언급된 양태들을 고려하여 적절히 선택되고 구성된 특별히 유용한 실시예 내에 있다. 치료액의 기본 구성들의 선택 및 구성 성분은 특히 의도된 기능, 즉 치료를 필요로 하는 표면의 공간 영역 내의 전류의 인가를 고려하여 선택되고, 특히 치료액의 전기 전도성이 이를 위해 충분히 큰 것을 보장한다. 이는 특히 치료액 내의 선택된 충분히 높은 이온 밀도에 의해 보장되어야 한다. 이를 위해, 바람직하게는 수용액 내의 금속 염은 치료액의 기본적 구성 성분으로서 제공된다. 상기 금속 염은 전류 및 또한 각각의 전극 반응이 또한 적절한 생화학적 작용들을 가질 수 있는 후 발생하는 변환 생성물의 운반을 위한 이온들을 공급한다. 충분히 높은 전기 전도도를 특별히 선택함으로써, 삽입된 임플란트에서 세정 방법의 수행 동안 치료액을 통하여 그리고 이에 따라 치료를 필요로 하는 부분들 및 구성요소들을 통하여 그러나 환자의 신체 조직을 통하지 않고 전류가 유동하는 것을 보장하여야 하여서 연질 조직, 뼈들, 혈액, 및/또는 다른 신체 물질들을 통한 원하지 않는 전류 유동을 통과하는 환자에 대한 위험이 최소화될 수 있다. 치료액의 전기 전도도가 가능하게는 혈액, 뼈들, 연질 조직들, 지방 조직, 또는 다른 신체 물질들의 전기 전도도의 배수가 되어야 한다.

결론적으로, 후속하는 전도도 값들은 특히 치료액의 기본적 구성 성분의 선택 및 조성을 고려하여 취한다(전기 전도도(σ)는 통상적인 단위 mS/cm로 표시된다):

피부: 0.03 내지 0.1　mS/cm

뼈: 0.06 내지 0.2　mS/cm

지방 조직: 0.20 내지 1.0　mS/cm

근육 조직: 0.80 내지 2.5　mS/cm

혈액: 대략 6.7　mS/cm

다른 체액들: 대략 15　mS/cm

환자에 대한 위험 잠재성을 적절히 낮게 유지하고 전류 유동을 원하는 구역들로 제한하기 위해, 전기 전도도는 이에 따라 다른 체액들의 전도도의 적어도 두 배, 바람직하게는 5배, 특히 바람직하게는 10배가 되어야 한다. 따라서, 치료액의 전기 전도도는 적어도 30 mS/cm, 바람직하게는 적어도 75 mS/cm 및 특히 바람직하게는 적어도 150 mS/cm의 값을 가져야 한다. 혈액과 비교하면, 이는 치료액의 전기 전도도가 바람직하게는 혈액의 전도도의 적어도 대략 5배, 바람직하게는 적어도 대략 10 배 및 특히 바람직하게는 적어도 대략 20 배가 된다. 측정치들은 이러한 방식으로 선택된 치료액을 인가할 때, 신체 조직, 혈액, 체액들 등으로 노출되는 전기 전압은 6 V 미만, 바람직하게는 3 V 미만, 특히 바람직하게는 1.5 V 미만이어서 전압들이 낮제 유지될 때 환자에 대한 손상들이 확실히 배제될 수 있다는 것을 보여준다. 이 같은 전도도를 달성하도록, 특히 치료액 내 및 치료액을 형성하는 기본적 구성 성분 내의 이온 농도는 충분히 높게 선택되고; 이를 위해, 물질의 부식성 용액들, 산들, 염들, 및/또는 다른 이온 형성 물질들 또는 조성들이 사용될 수 있다.

치료액의 기본적 구성 성분들의 선택 및 조성에는 오염된 임플란트 표면의 세정 또는 전해질 치료의 생물막-분리 작용이 가능하다면, 서로 상보적으로 이용되어야 하는 수 개의 원인들의 조합을 기초로 한다는 점이 특히 높은 정도로 고려된다. 한편으로, 전류가 바람직하게는 전극들의 영역 내의 전해질을 통하여 유동할때 가스들 또는 기포들이 형성될 수 있고, 이 가스들 또는 기포들이 생물막 상에 분리(기계적) 작용을 갖는다. 이러한 가스들은 전극으로서 기능하는 임플란트 표면들에서 바로 및 이에 따라 상기 임플란트 표면과 생물막 사이에서 발생한다. 발생하는 기포들의 성장 속도 및 최대 크기는 분리 공정에 영향을 미친다.

전해질 공정의 임플란트-세정 또는 생물막 분리 작용에 대한 제 2 이유는 임플란트 표면 상의 생물막의 접착 상, 즉 글루잉(gluing) 또는 고정 메카니즘 상의 전해질적으로 생성된 물질들 또는 물질의 조성물들의 분해, 파괴, 및 용해 작용이다.

전해 공정의 세정 또는 분리 작용에 대한 제 3 이유는 임플란트 재료에 대한 재료-부식 작용들을 기초로 하며, 이 재료-부식 작용들을 통하여 정확히 말해서 임플란트의 구성 요소 부품들 또는 입자들이 임플란트의 표면적에 있는 임플란트로부터 추출된다.

전해 공정의 세척 또는 분리 작용에 대한 제 4 이유는 이를 허용하는 금속 임플란트들의 산화물 층의 형성을 기초로 한다. 이 경우, 금속 기재 재료의 금속 원자들은 가능하게는 인가된 전기 전압에 의해 이미 존재하는 산화 층을 관통하고 전해질의 물질들과 반응한다(주로 산소=>금속 산화물의 형성). 산화물 층을 형성하지 않거나 기계적으로 안정한 산화물 층을 형성하지 않는 금속에서, 후속하여 용해되는 물질의 비 산화 조성물들(주로 염들)이 또한 발생할 수 있다.

치료액을 형성하기 위해 제공된 기본적 구성 성분들은 이러한 작용들을 고려하여 적절히 선택되어 조합된다. 더욱이, 독성 작용들 또는 다른 방식으로 환자들에게 위험하거나 불쾌한 작용들이 발생하지 않아서 치료액이 또한 삽입된 치과 임플란트 상에 즉 환자의 구강 내에 적용되기에 적절한 것을 기본적 설계 목표로서 고려된다. 예시적인 실시예에서, 제공된 기본적 구성 성분들은 한편으로 하나 이상의 염 및 다른 한편으로 하나의 산이 바람직하게는 물로 희석되며 이의 선택 및 조성은 특히 위에서 언급된 기준을 따른다. 산, 인산, 구연산, 말산, 에타노익 산, 젖산, 탄산 또는 이들의 조합을 제공하는 것이 특히 바람직하다. 대안적으로 또는 부가적으로, 염으로서, 나트륨, 칼슘, 알루미늄, 마그네슘, 또는 요오드화칼륨, 염화칼륨, 질산칼륨, 탄산칼륨, 또는 탄산수소염 및/또는 염화암모늄, 질산암모늄, 또는 요오드화암모늄, 또는 이들의 조합을 제공하는 것이 특히 바람직하다.

더욱이, 의도된 전해 공정이 선택적으로 기둥 부품의 양극 또는 음극 스위칭으로 수행될 수 있다는 것이 고려된다. 결론적으로, 아래에서 양극 반응과 음극 반응 사이에서 차이가 난다.

양극 반응에서, 즉 양극에서 기둥 부품(2)의 양극 스위칭에 의해 치료액에 존재하는 음이온들이 일반적으로 전자들의 회수를 통하여 산화된다. 이는 재료와의 중간 반응, 특히 임플란트의 재료와 산화물 층 및/또는 염의 형성을 초래할 수 있다. 뼈 임플란트들 및 이에 따라 또한 기둥 부품(2)은 주로 티타늄, 지르코늄, 탄탈 또는 이 금속들의 합금으로 이루어진다. 더욱이, 다른 금속들이 합금에 의해 부가된다. 이러한 금속들 또는 금속 합금들은 대부분의 경우 높은 정도의 산화물 층 형성을 보유한다. 이러한 산화물 층 형성은 표면상에 부동태화 작용을 가지며 이러한 금속들 또는 금속 합금들의 양극 반응이 방지되거나 적어도 매우 강하게 감소되는 결과를 갖는다. 생물막이 주로 산소와의 화합물을 포함하기 때문에, 대부분의 경우에서 이러한 부동태화를 방지하는 것이 가능하지 않다. 기둥 부품이 양극으로 스위칭되는 경우, 분리 세정 작용은 이에 따라 주로 산화물 층 형성으로 제한된다. 예를 들면, 10 V 초과의 더 높은 작동 전압들에 의해, 재료-제거 공정이 가능하지만 재료-제거 공정이 열의 강한 발생을 포함하는 것이 대규모 시험들에 의해 증명될 수 있다. 열의 이러한 발생은 바람직하지 않은 골괴사를 초래할 수 있다. 더욱이, 재료의 동반하는 제거는 또한 바람직하지 않은 방식으로 원래의 임플란트 표면의 특성들을 변화한다.

이로부터의 예외로서, 놀랍게도 합금 구성 성분(예를 들면 대략 6% 알루미늄 및 4% 바나듐을 포함하는, 티타늄 그레이드 5에 의해)으로서 알루미늄을 포함하는 기둥 부품(2)의 기본 재료에 의해, 기둥 부품(2)의 양극 동력 제공은 산화물 층의 형성에 의해 공정이 너무 심하게 방해받지 않으면서 가능하다는 것이 판명되었다. 따라서, 치료액의 조성에 따라, 염소 가스 또는 요오드 가스 아니면 CO₂는 기둥 부품(2)의 표면 상에 직접 생성될 수 있고 이에 따라 생물막의 의도된 분리를 위해 바로 사용가능하게 될 수 있다. 방법의 이 같은 안내에 대해, 치료 요소(30)는 특히 유용하게는 예를 들면 DLC(다이아몬드형 탄소), 금속, 전도성 합성 재료, 또는 전기 전도성 세라믹의 전도성 표면 코팅이 제공된다.

기둥 부품의 기본 재료 티타늄 그레이드 IV 또는 티타늄 그레이드 V에 의해, 치료액에 CO₂를 첨가함으로써, CO₂, Cl 및/또는 I의 형성이 가능하여, 양극 동력 제공 하에서 형성하는 산화물 층에도 불구하고, 더 긴 지속 기간의 전류 유동을 가능하게 한다.

상술된 이유들 때문에, 그러나, 기둥 부품(2)은 일반적으로 치료액을 이용한 치료 동안 바람직하게 음극으로 스위칭된다. 이러한 경우, 양극으로 하전된 이온들(양이온들)은 기둥 부품(2)의 표면에 흐른다(wander). 이러한 이온들은 예를 들면 이온성 액체들로부터 특히 H⁺ 이온들, 금속 이온들 또는 긴 사슬 탄화수소 이온들이 될 수 있다. 치료액을 위한 기본 구성 성분으로서 제공된 염은 이 경우 양이온들의 특성들을 고려하여 특히 의도적으로 선택되는데, 이 양이온들은 위에서 언급된 공정을 증진하거나 제 1 장소에서 가능하게 한다. 가능한 높은 전도성을 발생시키기 위하여, 게다가 다른 특히 유리한 작용의 방식으로, 비교적 용이한 방식으로 가능한 존재하는 생물막을 관통하는 것이 가능한 작은 이온들(H⁺ 이온들 또는 금속 양이온들)이 특히 적합하다. H⁺ 이온들은 기둥 부품(2)에 의해 형성된 음극 상의 원자 수소 H로 감소된다. 이는 거품들의 형성을 생성한다. 다른 음극 반응은 원자 금속의 석출이다. 그러나, 대부분의 금속들은 전체 영역을 덮는 금속 퇴적물로서 석출한다. 이는 바람직하지 않은 작용일 것인데, 이는 이러한 코팅이 유리하지 않은 접착 특성들 및 유리하지 않은 화학적(전자화학적 및 생화학적) 특성들을 가질 것이기 때문이다.

위에서 언급된 이유들 때문에, 바람직하게는 양이온들이 환자에 대한 어떠한 생물학적 위험 잠재성을 포함하지 않고 원자 상태에서 전해질에서 물과 가능한 강하게 화학적으로 반응하는 금속들은 임플란트 표면 상의 음극 반응을 위해 제공된다. 알칼리 금속들, 귀금속들 및/또는 알루미늄은 주변 물과 즉시 음극 상의 전해질 감소에 반응하고 원자 수소 및 이의 금속 양이온들 및 OH^- 이온들을 형성한다. 이는 수소 기포들 및 사용된 금속 이온들의 수산화물이 형성하는 것을 의미한다. 이러한 구성요소들의 조합을 통하여, 이에 따라 발생하는 수소의 분리 작용에 부가하여 금속 수산화물이 항균 작용 및 생물막 상의 희석 또는 용해 영향 또는 생물막의 접착 메커니즘을 갖는다.

신체 조직과의 불친화성을 회피하도록, 특히 신체 내에서 자연적으로 생성된 금속 양이온들(예를 들면, 칼륨 및/또는 나트륨 이온들)은 금속 양이온들로서 특히 바람직하다. 또한, 칼슘, 마그네슘 및/또는 알루미늄 이온들이 또한 적절하다. 치료액을 위한 기본적 구성 성분으로서 제공된 염은 이에 따라 특히 바람직하게는 이러한 금속들의 염인데, 이는 특히 이러한 금속 양이온들이 어떻게 해서든지 오로지 염의 형태로, 예를 들면 물 내에 용해되어 이용가능하게 될 수 있기 때문이다.

이러한 금속 염들은 위에서 언급된 금속들과 적절한 할로겐, 예를 들면 황, 인, 질소, 불소, 염소, 요오드, 브롬, 탄화수소, 산소, 붕소, 또는 다른 비금속들의 화합물들일 수 있다. 할로겐은 유리하게는 원리 "음이온이 클수록, 전기 전도도가 낮아 진다"를 고려하여 일반적으로 원하는 높은 전기 전도도의 관점을 고려하여 적절하게 선택된다. 더욱이, 바람직하게는 건강 또는 임플란트 주변 조직에 영향을 미치지 않는 물질들 만이 음이온으로서 고려된다. 더욱이, 불쾌한 냄새들 또는 맛의 화합물이 원하지 않는다는 것이 고려되어야 한다. 이러한 이유들 때문에, 산소 또는 다른 원소들과 조합하는 황 음이온 또는 황을 포함하는 음이온들이 오히려 적합하지 않은 것으로서 고려된다. 이는 또한 불소, 브롬, 질소, 및 붕소 이온들, 가능하게는 또한 다른 원소들과 조합하여 적용한다.

이와 대조적으로, 인, 인 이온들 및 인화수소 이온들은 주로 거의 어떠한 해로운 작용도 갖지 않거나 전혀 갖지 않는다. 염소 이온들 또는 염소를 포함하는 이온들은 주로 항균 작용을 갖는다. 그러나, 염소 이온이 전해질적으로 산화되어 전해질 상태로 물 내에 존재하는 경우, 염산 및 차아염소산이 형성될 것이다. 음극으로 발생된 수산화물과 조합하여, 이는 중성화를 초래할 것이지만 검사는 임플란트(음극)에 대한 상대전극 상에 발생하는 염소가 전해질로부터 가스의 형태로 상당한 정도로 방출된다는 것을 보여주었다는 것이 사실이다. 치료 동안 염소를 완전히 흡입하는 것이 가능하지 않은 경우, 폐 및/또는 점막들 내의 극심한 소작(cauterization)들이 초래될 수 있다. 이러한 경우, 환자에 대한 이익 또는 환자의 위험 중 어느 것이 더 큰지 여부에 대한 균형이 맞추어져야 한다.

알루미늄, 칼륨, 나트륨, 칼슘, 또는 마그네슘의 인산염들에 대해, 또한 인산염들의 물에서의 용해성이 매우 낮아서 전해질의 충분한 전기 전도도가 보장되지 않는다(그러나, 이러한 인산염들은 pH 값을 완충하기 위한 전해질의 첨가물로서 매우 잘 맞는다)는 점에 주의하여야 한다. 4개의 위에서 언급된 금속들 중 염화물들이 물에서 충분한 용해성을 가지며 생물막 상의 우수한 세정 및 박멸 작용을 가지지만, 염화물들은 최적으로서 고려되지 않을 수 있다. 질산염들 및/또는 아질산염들의 경우, NO_x 가스들의 형성을 통한 환자의 위험성이 예측되어야 한다. 이러한 이유 때문에, 질산염들 또는 아질산염들의 사용은 권장되지 않는다.

상술된 설계 목표를 고려하여, 특히 환자에 대한 특히 우수한 친화성에 대해, 요오드가 바람직한 실시예에서 할로겐으로서 제공된다. 칼륨 및 나트륨의 요오드 염들이 신체 내에 자연적으로 존재하는 것이 특히 바람직하다. 양극 상의 요오드 이온들의 산화를 통하여, 무엇보다도 원소 요오드가 발생하고 이 원소 요오드는 요오드화나트륨/요오드화칼륨 용액 내에 용해될 수 있다. 요오드-칼륨-요오드화물 용액 또는 요오드-나트륨-요오드화물 용액이 이에 의해 초래될 것이다. 용액들 모두 강한 살균제이며, 이는 자체적으로 사람용 약제로 입증되었다.

그러나, 요오드화나트륨 또는 요오드화칼륨의 순수 용액들 또는 두 개의 용액들의 혼합물은 수산화나트륨 및/또는 수산화칼륨의 형성 및 pH-값의 결과적인 증가의 가능한 단점을 수반한다. 사실 매우 일반적으로 금속 수산화물이 전해질의 pH-값을 증가시키는 것이 위에서 언급된 금속 수산화물의 형성물의 문제점으로 고려될 수 있다. 이 같은 증가된 pH-값 및 용해된 금속 수산화물의 발생하는 부식성 용액은 환자의 구강 내의 주변 조직 및 특히 뼈 상에 바람직하지 않은 영향을 미칠 수 있다. 더욱이, 인접한 치아들이 손상될 수 있다. 더욱이, 수산화물의 형성은 수산화물의 매우 낮은 물 용해도에 의해 기둥 부품(2) 상에 또는 일반적으로 치료를 필요로 하는 구성요소 부품 상에 수산화물의 침전을 초래할 수 있어 추가 전류 유동 및 이에 따라 전체적으로 공정을 저해시킨다. 기껏해야 치료액에서 칼슘 염을 사용할 때, 뼈 재료 내에 존재하는 발생하는 수산화칼슘은 뼈 내로 통합될 수 있고; 칼슘은 이에 따라 염의 특히 바람직한 구성 성분이다. 이러한 바람직하지 않은 영향들을 보완하기 위하여, 치료액은 pH-완충제 또는 pH-환원제의 방식으로 다른 기본적 구성 성분으로서 산을 포함한다.

산은 가능한 경우 환자 또는 임프란트 주변 조직에 위험하지 않지만, 한편으로 수산화물을 중성화하고(그리고 가능한 경우 pH-값을 7 초과의 값으로 증가하는 것을 방지함), 이에 의해 다른 한편으로, 반응 제품들이 임플란트 몸체를 세정하고 생물막을 제거하는 실제 목표를 위해 기능하여야 하는 방식으로 산은 부분적으로 설계 기준의 방식으로 의도적으로 선택된다. 무기산, 인산 및/또는 인산 산화물들이 상기 목적에 대해 바람직하다. 건강 및/또는 뼈/조직에 대한 위험의 이유들 때문에, 이들의 농도는 30% 또는 바람직하게는 10% 내지 20%의 최대 값으로 제한되어야 한다. 또한 무기산으로서 고려되고 박멸 및 세정의 전체 목적에 대한 특히 긍정적인 작용을 갖는 특히 바람직한 산은 한편으로 탄산이다. 그러나, 탄산의 사용가능한 양은 물에서의 비교적 낮은 용해도때문에 제한된다.

이와 반대로, 무기산들과 유사한 유기산들은 pH-값-환원 및 수산화물 중성화 H⁺ 이온들을 제공한다. 또한 유기산들이 조직 또는 전체적으로 환자에게 어떠한 손상들도 일으키지 않거나 기껏해야 약간의 손상들을 일으킬 때, 이 같은 유기산들은 치료액의 기본 구성 성분으로서 가장 특별히 바람직하다. 유기산들은 예를 들면, 알칸산, 과일 산, 카복실산 뿐만 아니라 하이드록시 탄산이다. α-하이드록시 탄산들은 특히 적절한 산들로서 판명되었다. 특히, 특히 바람직한 산들, 젖산, 구연산 및 말산은 일반적으로 환자 또는 임플란트 주변 조직 상의 건강에 위험한 작용을 하지 않는다. 특히 치석이 또한 발생하는 생물막으로 상당히 덮여져 오염된 임플란트들 상에, 우수한 세척 성공이 에탄올 산의 비교적 낮은 용량들로 달성되었다. 세정뿐만 아니라 살균 작용을 갖지만 건강 이유에 대해 유해하지 않은 다른 산들은 푸마르 산, 글루콘 산, 글리콜 산, 살리실산, 만델산, 주석산, 옥살산, 및 포름산이다.

수산화물 이온 OH^- 가 산의 대응하는 H⁺ 이온으로 중성화될 때, 대응하는 금속 수산화물의 사용된 산의 금속 염이 부가적으로 생성된다. 산의 의도된 사용은 이에 따라 pH-값을 완충하기 위한 장점이 있는 것뿐만 아니라 비교적 열악한 수용성 수산화물을 비교적 우수한(well) 수용성 염들로의 변환에 기여하여, 치료를 필요로 하는 구성요소 부품상에 공정에 해로운 원하지 않는 퇴적물들의 석출을 방지한다. 위에서 언급된 염들은 특히 또한 의료 분야에 위에서 언급된 바람직한 재료들을 조합할 때 특별히 사용된다. 젖산에 의한 칼륨, 나트륨 및/또는 칼슘 수산화물의 중성화 동안, 젖산칼륨(광역 살균 작용을 가짐), 젖산나트륨 또는 젖산칼슘이 발생한다. 그러나, 생산된 수산화물들은 구연산으로 중성화되고 칼륨, 나트륨 또는 칼슘의 구연산염이 발생할 것이다. 특히, 구연산 나트륨의 경우, 구연산 나트륨이 혈액의 응고를 방지하기 때문에 이는 특히 유용하다. 공정 동안 흘러나와 임플란트 표면상에 응고하는 혈액이 임플란트 표면까지 이온들이 돌아다니는 것을 방지할 수 있고 이에 따라 치료 공정이 전체적으로 계속되기 때문에 구연산 나트륨은 특히 유리하다.

이와 반대로, 말리산에 의한 수산화물의 중성화의 경우, 각각의 양이온의 말산염들이 발생하며 이는 또한 공정에 유리한 영향들을 미친다. 에타노익 산에 의한 수산화물의 중성화의 경우, 칼륨, 나트륨 및/또는 칼슘의 아세테이트들이 발생하며 이는 또한 공정에 유리한 영향들을 미친다.

칼륨, 나트륨 및/또는 칼슘들의 젖산염, 구연산염, 말산염, 및/또는 아세테이트는 모두 산 조절 작용을 가지며 매우 친화적이어서 음식 첨가제들에 관한 현재의 EU 규정에 따라, 이들의 사용은 어떠한 양적 제한도 가해지지 않는다.

산들이 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 알루미늄, 및/또는 칼슘의 요오드화물 및/또는 염화물과 조합하여 전해질에 사용할 때, 놀랍게도 전해질 분야에서 H⁺ 이온들의 직접적인 감소가 거품들의 형성에 매우 긍정적으로 영향을 미쳐서 생물막이 더 신속하고 양호하게 확실히 벗겨진다는 것이 판명되었다. 높은 재생률로, 다수의 비교적 작은 거품들이 발생하는데, 이 작은 거품들은 이들의 비교적 작은 크기에 의해 생물막을 전체적으로뿐만 아니라 생물막 아래의 표면으로부터 국부적으로 분리할 수 있다. 이러한 방식으로, 생물막은 바람직하게는 다수의 더 작은 조각들 대신에 전체적으로 또는 비교적 큰 응집성 부분들로 분리되는데, 이는 확실히 개선된 세정 작용을 수반한다.

금속 양이온들 대신, 암모니아 양이온들이 또한 사용될 수 있다. 그러나, 이러한 경우, 전해질 공정에서 다른 암모늄 화합물(예를 들면, 암모니아)들이 생성되는 위험이 존재한다. 이는 환자에 대한 위험을 구성하고 또한 매우 불쾌한 맛 및 냄새를 통하여 인지된다.

생물막이 매우 작은 조각들로 아니면 더 큰 응집성 피스들로 부분적으로 제거되는 것이 테스트에서 관측되었다. 이러한 경우 매우 유리한 세정 결과들이 비교적 큰 영역들 상에서 달성되기 때문에 더 큰 응접성 피스들로 부분적으로 제거하는 것이 바람직하다. 시험들이 또한 분리된 생물막 및/또는 이의 조각들의 제거가 임플란트 표면 상에 포옴(foam)의 형성에 의해 증진된다는 것을 보여준다. 특히 박멸 및 분리를 담당하는 위에서 설명된 금속 염들, 산들 및 물로 이루어지는 전해질의 사용 후 제 2 전해질을 적용하는 것이 유리한데, 이는 또한 음극의 영역에서 포옴의 형성을 보여주는 것이 판명되었다. 포옴의 이 같은 형성은 바람직하게는 전해질에 3개 이상의 CH₂ 체인 링크들 또는 하나 이상의 CH₂ 체인 링크 및 하나 이상의 탄소 링 화합물을 포함하는 다른 물질을 부가함으로써 달성될 수 있다. 여기서, 예를 들면, 오일 및/또는 클로르헥시딘이 사용될 수 있다. 더욱이, 바람직하게는 I^-, Cl^- 및/또는 OH^- 이온들을 포함하는 이온성 액체들이 또한 사용될 수 있다. 이온성 액체의 유기 양이온 지분이 임플란트 표면 상에 감소된 특정 환경 하에 있고 거기에 남아 있기 때문에, 특히 유리한 실시예에서 이러한 양이온 지분에 뼈 성장 인자들을 추가하는 것이 가능하다.

염화물들 및 요오드화물이 정정 비율로 혼합되는 경우, 염소 가스의 교란 형성이 회피될 수 있다. 음극에서, 아래와 같이 발생된다:

2J + 5Cl + 6H₂O → 10HCl + 2HIO₃

이는 수산화물 및 요오드화물 모두가 음극에서 형성되는 것을 의미한다. 이 산들은 확실히 강한 항균 작용을 가지며 또한 음극으로 발생된 수산화물과 만날 때 다시 중성화된다.

연구소 테스트에서 특히 유리한 세척 특성들을 보여주는 치료액의 가장 특히 바람직한 조성은 대략 2.7 내지 2.9의 pH-값으로 락산의 첨가에 의해 완충된 30 ml 액체(즉, 바람직하게는 CO₂로 부화된물(H₂O)) 당 적어도 5g, 바람직하게는 적어도 10g, 특히 바람직하게는 적어도 20g의 염의 혼합 비율의 요오드화나트륨(NaI) 또는 요오드화칼륨(KI)의 수용액을 포함한다.

공정 안내에서, 기둥 부품(2)에서 또는 치료를 필요로 하는 구성요소 부품에서 적어도 50 mA/cm², 유리하게는 적어도 100 mA/cm², 특히 바람직하게는 적어도 250 mA/cm²의 중간 전류 밀도가 제공되고, 이러한 전류 밀도는 기둥 부품(2)의 외측 표면에 관한 것이다(즉, 예를 들면, 거칠기 또는 표면 구조와 같은 어떠한표면 확장 특성들도 고려하지 않음). 생물막의 분리에 대해, 50 mA/cm² 내지 300 mA/cm², 유리하게는 100 mA/cm² 내지 200 mA/cm²의 중간 전류 밀도는 특히 유리한 것으로 판명된다. 생물막 조각들의 제거에 대해, 중간 전류 밀도는 바람직하게는 300 mA/cm² 내지 5,000 mA/cm², 또는 특히 유리하게는 1,000 mA/cm² 내지 2,000 mA/cm²의 범위로 증가되어야 한다.

H₂O₂의 첨가는 음극에서의 거품 발생 작용을 상당히 감소하거나 방지한다. 표면을 플러싱(flushing)하기 위해 사용될 수 있는 H₂O의 매우 강력한 형성물이 발생한다.

1 치과-임플란트 시스템
2 제 1 임플란트 부품/기둥 부품
4 제 2 임플란트 부품
6 외부 나사
8 설형 단부
10 연결 스터드
12 수용 도관
14 색인 요소
16 도관 단부 피스
18 연결 나사
20 나사의 나삿니
30, 30', 30", 30''' 치료 요소/치료 교대
32 접촉 표면
34 단부 에지
36 공간 영역
40 본체
42 단부면
43 연결 스터드
44 안내 슬리브
45 스페이서 블록들
46 연결 나사
48 나사의 나삿니
49 전기 접촉 요소
50 니들 팁
52 저부
56 도관/매체 도관
58 고리형 몸체
59 그루브들
60 출구 개구
62 전도 요소
64 접촉부
66 전도 요소
68 금속 바디
69 접촉 표면
70 절연 코팅
71 고리형 몸체
72 매체 도관
74 그루브
90 처리 시스템
92 연결 요소
94 호스 패키지
96, 98 서플라이 및 제어 유닛

Claims

환자의 턱뼈에 고정되는 치과-임플란트 부품(2)과 함께 사용하기 위한 치료 요소(30, 30', 30", 30''')로서,
상기 치과-임플란트 부품(2)과의 기계적 연결을 위해 상기 치과-임플란트 부품에 적응되는 연결 시스템을 포함하고 세정액을 위한 하나 이상의 매체 도관(56)이 제공되는 본체(40)를 가지는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 1 항에 있어서,
상기 매체 도관 또는 각각의 매체 도관(56)은 출구 개구(60)를 포함하며, 상기 출구 개구는 상기 치과-임플란트 부품(2) 상에 놓이는 본체(40)와 함께, 상기 치과-임플란트 부품(2)으로부터 10 mm 이하의 거리에 위치 설정되는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 본체(40)는 전류 경로를 형성하고 상기 치과-임플란트 부품(2)과 연결될 수 있는 제 1 전도 요소(62)를 포함하는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 3 항에 있어서,
상기 본체(40)는 상기 제 1 전도 요소(62)로부터 전기적으로 절연되는 방식으로, 단부 측면 상에 배열된 접촉부(64)로의 전류 경로를 형성하는 제 2 전도 요소(66)를 포함하고 상기 접촉부(64)는 상기 치과-임플란트 부품(2) 근처의 공간 영역(36) 내에 위치 설정될 수 있는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 4 항에 있어서,
상기 제 2 전도 요소(66)는 매체 도관(56)들 중 하나 또는 수 개에 의해 형성되는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 제 2 전도 요소(66)는 상기 본체(40)의 중앙 축선에 대해 실질적으로 평행한 길이 방향으로 이동될 수 있도록 상기 본체(40) 상에 장착되는 전극 또는 도관 요소(80)로서 설계되는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 전도 요소(66)는 상기 단부 측면 상에 배열된 상기 제 2 전도 요소의 접촉부(64)가 측면 방향으로 볼 때 상기 치과-임플란트 부품(2)의 중심 길이 방향 축선으로부터 최대 10 mm, 바람직하게는 최대 5 mm의 거리에 위치 설정될 수 있는 방식으로 상기 본체(40)에 고정되는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 치과-임플란트 부품(2)에 대한 상기 본체(40)의 접촉 표면(42)이 전기 절연 방식으로 설계되는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연결 시스템은 두 개 또는 세 개 이상의 부품들로 구성된 치과-임플란트 시스템(1)의 기둥 부품(2)의 나사 도관 내로 삽입될 연결 나사(46)를 포함하는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 9 항에 있어서,
상기 연결 나사(46)는 전기 전도 방식으로 상기 제 1 전도 요소(62)와 연결되는,
치과-임플란트 부품과 함께 사용하기 위한 치료 요소.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항의 치료 요소(30, 30', 30", 30"')를 가지는 치과-임플란트 부품(2)용 치료 시스템(90)으로서,
상기 전도 요소(62, 66)들이 전기 전도 방식으로 전류원 또는 전압원과 연결되는,
치과-임플란트 부품용 치료 시스템.
제 10 항에 있어서,
상기 전류원 또는 전압원은 필요에 따라, 전극들을 전류 또는 전압으로 맥동식 충전하기 위해 설계되는,
치과-임플란트 부품용 치료 시스템.
제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
최고 30V의 작동 전압이 상기 전극 상에 인가되도록 설계되는,
치과-임플란트 부품용 치료 시스템.
제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 치료 요소(30, 30', 30", 30"')에는 세정액을 위한 공급 시스템이 연결되는,
치과-임플란트 부품용 치료 시스템.
제 13 항에 있어서,
하나 이상의 산 및/또는 하나 이상의 염과 혼합된 물이 세정액으로서 제공되는,
치과-임플란트 부품용 치료 시스템.
치과-임플란트 부품(2)을 세정하기 위한 방법으로서,
전기 전압이 상기 치과-임플란트 부품(2)에 인가되고, 상기 치과-임플란트 부품이 세정액으로 세척되는,
치과-임플란트 부품을 세정하기 위한 방법.
제 15 항에 있어서,
상기 전기 전압이 맥동 방식으로 인가되는,
치과-임플란트 부품을 세정하기 위한 방법.
제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
하나 이상의 산 및/또는 하나 이상의 염과 혼합된 물이 세정액으로서 사용되는,
치과-임플란트 부품을 세정하기 위한 방법.