KR20150028224A - Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전극간을 접속한 경우에, 도통 신뢰성 및 절연 신뢰성 양쪽을 높일 수 있는 절연성 입자 부착 도전성 입자를 제공한다. 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)는, 도전부(12)를 적어도 표면에 갖는 도전성 입자(2)와, 도전성 입자(2)의 표면 상에 배치된 복수의 제1 절연성 입자(3)와, 도전성 입자(2)의 표면 상에 배치된 복수의 제2 절연성 입자(4)를 구비한다. 제2 절연성 입자(4)의 평균 입자 직경은 제1 절연성 입자(3)의 평균 입자 직경보다도 작다. 도전성 입자(2)의 표면적 전체에서 차지하는 제1 절연성 입자(3)와 제2 절연성 입자(4)에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률은 50%를 초과한다.The present invention provides an insulating particle-attached conductive particle capable of increasing both conduction reliability and insulation reliability when electrodes are connected to each other. The insulating particle-attached conductive particle (1) according to the present invention comprises conductive particles (2) having at least a conductive part (12) on at least a surface and a plurality of first insulating particles (3) disposed on the surface of the conductive particle ) And a plurality of second insulating particles (4) arranged on the surface of the conductive particles (2). The average particle diameter of the second insulating particles (4) is smaller than the average particle diameter of the first insulating particles (3). The covering ratio which is the total area of the portion of the entire surface area of the conductive particles 2 covered with the first insulating particles 3 and the second insulating particles 4 exceeds 50%.

Description

절연성 입자 부착 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체{CONDUCTIVE PARTICLES WITH INSULATING PARTICLES, CONDUCTIVE MATERIAL, AND CONNECTION STRUCTURE}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to conductive particles, conductive materials, and connection structures for insulating particles,

본 발명은, 예를 들어 전극간의 전기적인 접속에 사용할 수 있는 절연성 입자 부착 도전성 입자에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 도전 재료 및 접속 구조체에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, conductive particles with insulating particles which can be used for electrical connection between electrodes. The present invention also relates to a conductive material and a connection structure using the insulating particle-adhering conductive particles.

이방성 도전 페이스트 및 이방성 도전 필름 등의 이방성 도전 재료가 널리 알려져 있다. 이 이방성 도전 재료에서는, 바인더 수지 중에 도전성 입자가 분산되어 있다.Anisotropic conductive paste such as anisotropic conductive paste and anisotropic conductive film are widely known. In this anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in the binder resin.

상기 이방성 도전 재료는, IC 칩과 플렉시블 프린트 회로 기판과의 접속 및 IC 칩과 ITO 전극을 갖는 회로 기판과의 접속 등에 사용되고 있다. 예를 들어, IC 칩의 전극과 회로 기판의 전극 사이에 이방성 도전 재료를 배치한 후, 가열 및 가압함으로써, 이들 전극을 전기적으로 접속할 수 있다.The anisotropic conductive material is used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board and for connection between a IC chip and a circuit board having an ITO electrode. For example, the anisotropic conductive material is disposed between the electrodes of the IC chip and the electrodes of the circuit board, and then the electrodes are electrically connected by heating and pressing.

상기 도전성 입자의 일례로서, 다음의 특허문헌 1에는, 도전성의 금속 표면을 갖는 입자와, 상기 도전성의 금속 표면을 갖는 입자의 표면을 피복하는 절연성 입자를 구비하는 절연성 입자 부착 도전성 입자가 개시되어 있다. 특허문헌 1에서는, 입자 직경이 상이한 2종 이상의 절연성 입자를 병용함으로써, 큰 절연성 입자에 의해 피복된 간극에 작은 절연성 입자가 인입되어, 피복 밀도가 향상됨이 기재되어 있다.As an example of the conductive particles, the following Patent Document 1 discloses an insulating particle-adhering conductive particle comprising particles having a conductive metal surface and insulating particles covering the surface of the particles having the conductive metal surface . Patent Document 1 discloses that two or more kinds of insulating particles having different particle diameters are used in combination to introduce small insulating particles into a gap covered by large insulating particles to improve coating density.

일본 특허 공개 제2005-44773호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2005-44773

특허문헌 1에 기재된 절연성 입자 부착 도전성 입자에서는, 도전성의 금속 표면이 절연성 입자에 의해 피복되어 있기 때문에, 상하의 도전 접속 후에, 접속되어서는 안되는 가로 방향으로 인접하는 전극간의 전기적인 접속을 억제할 수 있다. 즉, 도전 접속된 접속 구조체에 있어서의 절연 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 입자 직경이 상이한 2종 이상의 절연성 입자를 병용하여, 큰 절연성 입자에 의해 피복된 간극에 작은 절연성 입자를 인입시킴으로써, 피복 밀도가 높아지는 결과, 절연 신뢰성을 높일 수 있다. 단, 특허문헌 1에서는, 절연성 입자의 피복률을 5 내지 50%로 하는 것, 즉 금속 표면 입자의 표면적 전체에서 차지하는 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 면적을 5 내지 50%로 하는 것이 바람직함이 기재되어 있는 것에 불과하다.In the insulating particle-attached conductive particle described in Patent Document 1, since the conductive metal surface is covered with the insulating particles, it is possible to suppress the electrical connection between the adjacent electrodes in the transverse direction which should not be connected after the upper and lower conductive connections . That is, the insulation reliability in the conductive connection-connected structure can be improved. In addition, by using two or more kinds of insulating particles having different particle diameters in combination and introducing small insulating particles into the gap covered by the large insulating particles, the coating density becomes high, and as a result, insulation reliability can be improved. However, in Patent Document 1, it is preferable to set the covering ratio of the insulating particles to 5 to 50%, that is, the area of the portion covered by the insulating particles occupying the entire surface area of the metal surface particles is 5 to 50% Is only described.

한편, 최근 들어, 전자 부품의 소형화가 진행되고 있다. 이로 인해, 전자 부품에 있어서의 도전성 입자에 의해 접속되는 배선에 있어서, 배선이 형성된 라인(L)의 폭과, 배선이 형성되어 있지 않은 스페이스(S)의 폭을 나타내는 L/S가 작아지게 되었다. 이러한 미세한 배선이 형성되어 있는 경우에, 종래의 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 도전 접속을 행하면, 절연 신뢰성을 충분히 확보하는 것이 곤란하다.On the other hand, in recent years, miniaturization of electronic parts is progressing. As a result, in the wiring connected by the conductive particles in the electronic component, the L / S representing the width of the line L in which the wiring is formed and the width of the space S in which no wiring is formed is reduced . In the case where such fine wiring is formed, it is difficult to sufficiently secure the insulation reliability by conducting the conductive connection using the conventional insulating particle-attached conductive particles.

또한, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 도전 접속을 행하는 경우에는, 전극과 도전성 입자 사이의 절연성 입자가 충분히 배제되는 것이 요구되고 있고, 높은 도통 신뢰성도 요구되고 있다.In addition, when conductive connection is performed using the insulating particle-adhered conductive particles, it is required that the insulating particles between the electrode and the conductive particle are sufficiently removed, and high reliability of conduction is also demanded.

또한, 종래의 절연성 입자 부착 도전성 입자에서는, 도전 접속 전에, 도전성 입자의 표면으로부터 절연성 입자가 의도치 않게 탈리되기 쉽다. 예를 들어, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 바인더 수지 중에 분산시킬 때, 도전성 입자의 표면으로부터 절연성 입자가 용이하게 탈리되고, 도전성 입자의 표면이 노출되는 경우가 있다. 이 결과, 절연 신뢰성이 낮아진다는 문제가 있다.In addition, in the conventional insulating particle-attached conductive particles, before the conductive connection, the insulating particles tend to be inadvertently removed from the surface of the conductive particles. For example, when the insulating particle-adhering conductive particles are dispersed in the binder resin, the insulating particles easily detach from the surface of the conductive particles, and the surface of the conductive particles may be exposed. As a result, there is a problem that insulation reliability is lowered.

본 발명의 목적은, 전극간을 접속한 경우에, 도통 신뢰성 및 절연 신뢰성 양쪽을 높일 수 있는 절연성 입자 부착 도전성 입자, 및 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 도전 재료 및 접속 구조체를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an insulating particle-attached conductive particle which can increase both conduction reliability and insulation reliability when electrodes are connected, and a conductive material and a connection structure using the insulating particle-attached conductive particle.

본 발명의 한정적인 목적은, 도전 접속 전 등에 충격이 부여되어도, 도전성 입자의 표면으로부터 절연성 입자가 의도치 않게 탈리되기 어려운 절연성 입자 부착 도전성 입자, 및 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 도전 재료 및 접속 구조체를 제공하는 것이다.A limiting object of the present invention is to provide an insulated particle attachment conductive particle which is unlikely to inadvertently detach insulative particles from the surface of the conductive particle even if an impact is applied to the conductive connection before, Structure.

본 발명의 넓은 국면에 따르면, 도전부를 적어도 표면에 갖는 도전성 입자와, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치된 복수의 제1 절연성 입자와, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치된 복수의 제2 절연성 입자를 구비하고, 상기 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경이, 상기 제1 절연성 입자의 평균 입자 직경보다도 작고, 상기 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 상기 제1 절연성 입자와 상기 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률이 50%를 초과하는, 절연성 입자 부착 도전성 입자가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided a conductive particle comprising a conductive particle having at least a conductive portion on at least a surface thereof, a plurality of first insulating particles disposed on a surface of the conductive particle, and a plurality of second insulating particles Wherein an average particle diameter of the second insulating particles is smaller than an average particle diameter of the first insulating particles and is covered with the first insulating particles and the second insulating particles which occupy the entire surface area of the conductive particles Wherein the coating area of the conductive particles is in the range of 50% or more.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 20% 이상이, 상기 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있다.In a specific aspect of the insulating particle-adhered conductive particles according to the present invention, at least 20% of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as to contact the first insulating particles.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 50% 이상이, 상기 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있다.In a specific aspect of the insulating particle-adhered conductive particles according to the present invention, at least 50% of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as to contact the first insulating particles.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 10% 이상이, 상기 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 상기 도전성 입자에 접촉하도록, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있다.In a specific aspect of the conductive particle with insulating particles according to the present invention, it is preferable that at least 10% of the total number of the second insulating particles is in contact with the conductive particles so as not to contact the first insulating particles, And is disposed on the surface.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제1 절연성 입자가 부착되어 있다.In one specific aspect of the conductive particle with insulating particle according to the present invention, the first insulating particle is attached to the surface of the conductive particle through chemical bonding.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제1 절연성 입자 및 상기 제2 절연성 입자가 각각, 상기 도전성 입자의 표면 상에, 하이브리다이제이션(hybridization)법에 의해 배치되어 있지 않다.In a specific aspect of the insulating particle-adhered conductive particles according to the present invention, the first insulating particles and the second insulating particles are not respectively disposed on the surfaces of the conductive particles by a hybridization method .

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 도전성 입자가, 상기 도전부의 외표면에 돌기를 갖는다.In a specific aspect of the conductive particle with insulating particle according to the present invention, the conductive particle has a protrusion on the outer surface of the conductive portion.

본 발명의 넓은 국면에 따르면, 상술한 절연성 입자 부착 도전성 입자와, 바인더 수지를 포함하는, 도전 재료가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided a conductive material comprising the above-mentioned insulating particle attachment conductive particles and a binder resin.

본 발명의 넓은 국면에 따르면, 제1 전극을 표면에 갖는 제1 접속 대상 부재와, 제2 전극을 표면에 갖는 제2 접속 대상 부재와, 상기 제1 접속 대상 부재와, 상기 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비하고, 상기 접속부가, 상술한 절연성 입자 부착 도전성 입자에 의해 형성되어 있거나, 또는 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자와 바인더 수지를 포함하는 도전 재료에 의해 형성되어 있고, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극이, 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 상기 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되어 있는, 접속 구조체가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device including a first connection target member having a first electrode on a surface thereof, a second connection target member having a second electrode on a surface thereof, And the connecting portion is formed by the conductive particles having the insulating particle attachment conductive particles or the conductive material including the insulating particle attachment conductive particles and the binder resin, Wherein the electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the insulating particle-attached conductive particle.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자는, 도전부를 적어도 표면에 갖는 도전성 입자와, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치된 복수의 제1 절연성 입자와, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치된 제2 절연성 입자를 구비하고 있고, 또한 상기 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경이 상기 제1 절연성 입자의 평균 입자 직경보다도 작고, 상기 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 상기 제1 절연성 입자와 상기 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률이 50%를 초과하므로, 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 전극간을 접속한 경우에, 도통 신뢰성 및 절연 신뢰성을 높일 수 있다.The insulating particle-attached conductive particle according to the present invention includes conductive particles having at least a conductive portion on at least a surface thereof, a plurality of first insulating particles disposed on the surface of the conductive particle, and a second insulating material Wherein the first insulating particles and the second insulating particles each having an average particle diameter smaller than an average particle diameter of the first insulating particles and occupying the entire surface area of the conductive particles When the electrodes are connected using the insulating particle-adhering conductive particles according to the present invention, the covering reliability, which is the total area of the covered portions, exceeds 50%, thereby improving the conduction reliability and insulation reliability.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.
도 4는 도 1에 도시하는 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 접속 구조체를 모식적으로 도시하는 정면 단면도이다.
도 5는 피복률의 평가 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a cross-sectional view showing an insulating particle-adhering conductive particle according to a first embodiment of the present invention. Fig.
2 is a cross-sectional view showing an insulating particle-adhering conductive particle according to a second embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing an insulating particle-adhered conductive particle according to a third embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a front sectional view schematically showing a connection structure using the insulating particle-adhering conductive particles shown in Fig. 1. Fig.
5 is a schematic diagram for explaining a method of evaluating the coating rate.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 구체적인 실시 형태 및 실시예를 설명함으로써 본 발명을 명백하게 한다.Best Mode for Carrying Out the Invention Hereinafter, the present invention will be clarified by explaining specific embodiments and examples of the present invention with reference to the drawings.

(절연성 입자 부착 도전성 입자)(Conductive particles with insulating particles)

도 1에, 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 단면도로 도시한다.Fig. 1 is a cross-sectional view of conductive particles with insulating particles according to a first embodiment of the present invention.

도 1에 도시하는 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)는, 도전성 입자(2)와, 복수의 제1 절연성 입자(3)와, 복수의 제2 절연성 입자(4)를 구비한다.The insulating particle-attached conductive particle 1 shown in Fig. 1 comprises conductive particles 2, a plurality of first insulating particles 3, and a plurality of second insulating particles 4.

도전성 입자(2)는 도전부(12)를 적어도 표면에 갖는다. 제1 절연성 입자(3)는 도전성 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다. 제2 절연성 입자(4)는 도전성 입자(2)의 표면 상에 배치되어 있다.The conductive particles (2) have at least a conductive portion (12) on the surface. The first insulating particles (3) are disposed on the surface of the conductive particles (2). The second insulating particles (4) are disposed on the surface of the conductive particles (2).

도전성 입자(2)의 표면적 전체에서 차지하는 제1 절연성 입자(3)와 제2 절연성 입자(4)에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률은 50%를 초과한다.The covering ratio which is the total area of the portion of the entire surface area of the conductive particles 2 covered with the first insulating particles 3 and the second insulating particles 4 exceeds 50%.

복수의 제1 절연성 입자(3)는 도전성 입자(2)의 표면에 접촉되어 있고, 도전성 입자(2)의 표면에 부착되어 있다. 복수의 제1 절연성 입자(3)는 도전성 입자(2)에 있어서의 도전부(12)의 외표면에 접촉되어 있고, 도전부(12)의 외표면에 부착되어 있다. 복수의 제2 절연성 입자(4)는 도전성 입자(2)의 표면에 접촉되어 있고, 도전성 입자(2)의 표면에 부착되어 있다. 복수의 제2 절연성 입자(4)는 도전성 입자(2)에 있어서의 도전부(12)의 외표면에 접촉되어 있고, 도전부(12)의 외표면에 부착되어 있다.The plurality of first insulating particles 3 are in contact with the surface of the conductive particles 2 and attached to the surface of the conductive particles 2. [ The plurality of first insulating particles 3 are in contact with the outer surface of the conductive part 12 of the conductive particles 2 and attached to the outer surface of the conductive part 12. The plurality of second insulating particles 4 are in contact with the surface of the conductive particles 2 and attached to the surfaces of the conductive particles 2. [ The plurality of second insulating particles 4 are in contact with the outer surface of the conductive part 12 of the conductive particles 2 and attached to the outer surface of the conductive part 12.

도전성 입자(2)는, 기재 입자(11)와, 기재 입자(11)의 표면 상에 배치된 도전부(12)를 갖는다. 도전부(12)는 도전층이다. 도전부(12)는 기재 입자(11)의 표면을 덮고 있다. 도전성 입자(2)는 기재 입자(11)의 표면이 도전부(12)에 의해 피복된 피복 입자이다. 도전성 입자(2)는 표면에 도전부(12)를 갖는다.The conductive particles 2 have base particles 11 and conductive portions 12 disposed on the surface of the base particles 11. [ The conductive portion 12 is a conductive layer. The conductive portion 12 covers the surface of the base particle 11. The conductive particles (2) are coated particles in which the surface of the base particles (11) is covered with the conductive parts (12). The conductive particles (2) have conductive portions (12) on their surfaces.

제1 절연성 입자(3) 및 제2 절연성 입자(4)는 각각, 절연성을 갖는 재료에 의해 형성되어 있다. 제2 절연성 입자(4)의 평균 입자 직경은 제1 절연성 입자(3)의 평균 입자 직경보다도 작다.The first insulating particles 3 and the second insulating particles 4 are each formed of a material having an insulating property. The average particle diameter of the second insulating particles (4) is smaller than the average particle diameter of the first insulating particles (3).

도 2에, 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 단면도로 도시한다.Fig. 2 is a cross-sectional view of the conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention.

도 2에 도시하는 절연성 입자 부착 도전성 입자(21)는, 도전성 입자(22)와, 복수의 제1 절연성 입자(3)와, 복수의 제2 절연성 입자(4)를 구비한다.The insulating particle-adhering conductive particles 21 shown in Fig. 2 include conductive particles 22, a plurality of first insulating particles 3, and a plurality of second insulating particles 4.

도전성 입자(22)는 도전부(26)를 적어도 표면에 갖는다. 제1 절연성 입자(3)는 도전성 입자(22)의 표면 상에 배치되어 있다. 제2 절연성 입자(4)는 도전성 입자(22)의 표면 상에 배치되어 있다.The conductive particles 22 have at least a conductive portion 26 on the surface. The first insulating particles (3) are disposed on the surface of the conductive particles (22). The second insulating particles (4) are disposed on the surface of the conductive particles (22).

도전성 입자(22)의 표면적 전체에서 차지하는 제1 절연성 입자(3)와 제2 절연성 입자(4)에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률은 50%를 초과한다.The covering ratio which is the total area of the portions of the entire surface area of the conductive particles 22 covered with the first insulating particles 3 and the second insulating particles 4 exceeds 50%.

절연성 입자 부착 도전성 입자(1)와 절연성 입자 부착 도전성 입자(21)는 도전성 입자(2, 22)만이 상이하다. 도전성 입자(22)는 기재 입자(11)와, 기재 입자(11)의 표면 상에 배치된 도전부(26)를 갖는다. 도전성 입자(22)는 기재 입자(11)의 표면 상에 복수의 코어 물질(27)을 갖는다. 도전부(26)는 기재 입자(11)와 코어 물질(27)을 피복하고 있다. 코어 물질(27)을 도전부(26)가 피복하고 있음으로써, 도전성 입자(22)는 표면에 복수의 돌기(28)를 갖는다. 코어 물질(27)에 의해 도전부(26)의 표면이 융기되어 있고, 복수의 돌기(28)가 형성되어 있다.The insulating particle attachment conductive particles 1 and the insulating particle attachment conductive particles 21 differ only in the conductive particles 2 and 22. The conductive particles 22 have base particles 11 and conductive portions 26 disposed on the surface of the base particles 11. [ The conductive particles (22) have a plurality of core materials (27) on the surface of the base particles (11). The conductive portion 26 covers the base particle 11 and the core material 27. [ Since the conductive material 26 covers the core material 27, the conductive particles 22 have a plurality of projections 28 on their surfaces. The surface of the conductive portion 26 is raised by the core material 27 and a plurality of projections 28 are formed.

도 3에, 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 단면도로 도시한다.Fig. 3 is a cross-sectional view of the conductive particles with insulating particles according to the third embodiment of the present invention.

도 3에 도시하는 절연성 입자 부착 도전성 입자(31)는, 도전성 입자(32)와, 복수의 제1 절연성 입자(3)와, 복수의 제2 절연성 입자(4)를 구비한다.The insulating particle-adhering conductive particles 31 shown in Fig. 3 include conductive particles 32, a plurality of first insulating particles 3, and a plurality of second insulating particles 4.

도전성 입자(32)는 도전부(36)를 적어도 표면에 갖는다. 제1 절연성 입자(3)는 도전성 입자(32)의 표면 상에 배치되어 있다. 제2 절연성 입자(4)는 도전성 입자(32)의 표면 상에 배치되어 있다.The conductive particles 32 have conductive portions 36 at least on their surfaces. The first insulating particles (3) are disposed on the surface of the conductive particles (32). The second insulating particles (4) are disposed on the surface of the conductive particles (32).

도전성 입자(32)의 표면적 전체에서 차지하는 제1 절연성 입자(3)와 제2 절연성 입자(4)에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률은 50%를 초과한다.The covering ratio which is the total area of the portions covered by the first insulating particles 3 and the second insulating particles 4 in the entire surface area of the conductive particles 32 exceeds 50%.

절연성 입자 부착 도전성 입자(1)와 절연성 입자 부착 도전성 입자(31)는 도전성 입자(2, 32)만이 상이하다. 도전성 입자(32)는 기재 입자(11)와, 기재 입자(11)의 표면 상에 배치된 도전부(36)를 갖는다. 도전성 입자(22)는 코어 물질(27)을 갖지만, 도전성 입자(32)는 코어 물질을 갖지 않는다. 도전부(36)는 제1 부분과, 이 제1 부분보다도 두께가 두꺼운 제2 부분을 갖는다. 도전성 입자(32)는 표면에 복수의 돌기(37)를 갖는다. 복수의 돌기(37)를 제외한 부분이 도전부(36)에 있어서의 상기 제1 부분이다. 복수의 돌기(37)는 도전부(36)의 두께가 두꺼운 상기 제2 부분이다.The insulating particle-adhering conductive particles 1 and the insulating particle-adhering conductive particles 31 differ only in the conductive particles 2 and 32. The conductive particles 32 have base particles 11 and a conductive portion 36 disposed on the surface of the base particles 11. The conductive particles 22 have a core material 27, but the conductive particles 32 do not have a core material. The conductive portion 36 has a first portion and a second portion that is thicker than the first portion. The conductive particles 32 have a plurality of projections 37 on the surface. And the portion excluding the plurality of projections 37 is the first portion of the conductive portion 36. [ The plurality of protrusions 37 are the second portions of the conductive portions 36 having a large thickness.

절연성 입자 부착 도전성 입자(1, 21, 31)에서는 모두, 제2 절연성 입자(4)의 평균 입자 직경이 제1 절연성 입자(3)의 평균 입자 직경보다도 작고, 도전성 입자(2, 22, 32)의 표면적 전체에서 차지하는 제1 절연성 입자(3)와 제2 절연성 입자(4)에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률은 50%를 초과한다. 이로 인해, 절연성 입자 부착 도전성 입자(1, 21, 31)를 사용하여 상하의 전극간을 전기적으로 접속하면, 접속되어야 할 상하의 전극간을 전기적으로 접속할 수 있고, 또한 접속되어서는 안되는 가로 방향으로 인접하는 전극간이 전기적으로 접속되는 것을 억제할 수 있다. 즉, 도통 신뢰성 및 절연 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 통상 도전 접속 시에는, 제1, 제2 절연성 입자(3, 4)의 탈리에 영향을 미치는 큰 힘이 부여되는 결과, 제1, 제2 절연성 입자(3, 4)가 탈리되고, 노출된 도전성 입자(2, 22, 32)가 전극과 접촉된다.In the insulating particle-adhered conductive particles 1, 21 and 31, the average particle diameter of the second insulating particles 4 is smaller than the average particle diameter of the first insulating particles 3 and the average particle diameter of the conductive particles 2, 22, Which is the total area of the portion covered by the first insulating particles 3 and the second insulating particles 4 in the entire surface area of the first insulating particles 3 exceeds 50%. As a result, when the upper and lower electrodes are electrically connected to each other by using the insulating particle-attached conductive particles (1, 21, 31), the upper and lower electrodes to be connected can be electrically connected to each other, It is possible to suppress the electrical connection between the electrodes. That is, conduction reliability and insulation reliability can be enhanced. In addition, at the time of normal conductive connection, a large force is exerted to affect the desorption of the first and second insulating particles 3 and 4, so that the first and second insulating particles 3 and 4 are desorbed, (2, 22, 32) are brought into contact with the electrode.

또한, 도전 접속 전에, 충격에 의해 도전성 입자의 표면으로부터 비교적 큰 제1 절연성 입자가 의도치 않게 탈리되는 것을 효과적으로 방지할 수도 있다. 예를 들어, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 바인더 수지 중에 분산시킬 때, 도전성 입자의 표면으로부터 제1 절연성 입자가 탈리되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 복수의 절연성 입자 부착 도전성 입자가 접촉되었을 때에, 접촉시의 충격에 의해 도전성 입자의 표면으로부터 제1 절연성 입자가 탈리되기 어려워진다. 또한, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 상하의 전극간을 전기적으로 접속하여 접속 구조체를 얻음으로써, 접속 구조체에 충격이 가해져도 제1 절연성 입자의 의도치 않은 탈리가 억제되므로, 인접하는 전극간이 전기적으로 접속되는 것을 억제할 수 있어, 충분한 절연 신뢰성을 확보할 수 있다.It is also possible to effectively prevent the relatively large first insulating particles from being inadvertently released from the surface of the conductive particles due to the impact before the conductive connection. For example, when the insulating particle-adhering conductive particles are dispersed in the binder resin, it is possible to prevent the first insulating particles from desorbing from the surface of the conductive particles. Further, when a plurality of insulating particle-adhering conductive particles are brought into contact with each other, it is difficult for the first insulating particles to detach from the surface of the conductive particles due to impact at the time of contact. In addition, by using the insulating particle-attached conductive particles to electrically connect the upper and lower electrodes to obtain a connection structure, unintentional desorption of the first insulating particles is suppressed even when an impact is applied to the connection structure, It is possible to suppress the connection, and sufficient insulation reliability can be ensured.

절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 상기 제1 절연성 입자와 상기 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률 Z는, 바람직하게는 51% 이상, 보다 바람직하게는 55% 이상, 더욱 바람직하게는 60% 이상, 특히 바람직하게는 70% 이상, 가장 바람직하게는 80% 이상이다. 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 피복률 Z는 바람직하게는 85% 이하이다. 상기 피복률 Z는 81% 미만이어도 되고, 80% 이하이어도 된다.From the viewpoint of further enhancing the insulation reliability and the insulation reliability against impact, the covering ratio Z, which is the total area of the portions covered by the first insulating particles and the second insulating particles in the entire surface area of the conductive particles, is preferably Is preferably 51% or more, more preferably 55% or more, still more preferably 60% or more, particularly preferably 70% or more, and most preferably 80% or more. From the viewpoint of further improving insulation reliability and insulation reliability against impact, the covering rate Z is preferably 85% or less. The coating rate Z may be less than 81% or less than 80%.

상기 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 상기 제1 절연성 입자와 상기 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률은, 이하와 같이 하여 구해진다.The covering ratio which is the total area of the first insulating particles and the portion covered by the second insulating particles in the entire surface area of the conductive particles is obtained as follows.

주사형 전자 현미경(SEM)에 의한 관찰에 의해 20개의 절연성 입자 부착 도전성 입자를 관찰하고, 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 도전성 입자의 피복률 Z(%)(부착률 Z(%)라고도 함)를 구한다. 상기 피복률은, 도전성 입자의 표면적에서 차지하는 제1, 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적(투영 면적)이다.20 insulating particle attachment conductive particles were observed by observation with a scanning electron microscope (SEM), and the coating rate Z (%) of the conductive particles in the insulating particle attachment conductive particles (also referred to as adhesion rate Z (%)) . The covering ratio is the total area (projected area) of the portion covered by the first and second insulating particles in the surface area of the conductive particle.

구체적으로는, 상기 피복률은, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 일방향으로부터 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 경우, 관찰 화상에 있어서의 절연성 입자 부착 도전성 입자의 도전성 입자의 표면 외주연 부분의 원내(도 5의 (a)의 사선 부분)의 면적 전체에서 차지하는, 도전성 입자의 표면 외주연 부분의 원내에 있어서의 제1, 제2 절연성 입자의 합계 면적(도 5의 (b)의 사선 부분)을 의미한다.Specifically, when the insulating particle-attached electroconductive particles are observed from one direction by a scanning electron microscope (SEM), the covering ratio is preferably set to a value within a range of (The hatched portion in FIG. 5 (b)) of the first and second insulating particles in the periphery of the outer peripheral portion of the conductive particles, it means.

도통 신뢰성, 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경은, 상기 제1 절연성 입자의 평균 입자 직경의 9/10 이하인 것이 바람직하고, 4/5 이하인 것이 보다 바람직하고, 2/3 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1/2 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경은, 상기 제1 절연성 입자의 평균 입자 직경의 1/30 이상인 것이 바람직하고, 1/20 이상인 것이 보다 바람직하고, 1/10 이상인 것이 더욱 바람직하다.The average particle diameter of the second insulating particles is preferably not more than 9/10 of the average particle diameter of the first insulating particles, and more preferably not more than 4/5 of the average particle diameter of the first insulating particles, from the viewpoint of further improving the insulation reliability, More preferably 2/3 or less, and particularly preferably 1/2 or less. The average particle diameter of the second insulating particles is preferably 1/30 or more of the average particle diameter of the first insulating particles, more preferably 1/20 or more, and further preferably 1/10 or more.

상기 제1, 제2 절연성 입자의 「평균 입자 직경」은 각각, 수 평균 입자 직경을 나타낸다. 상기 제1, 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경은, 임의의 도전성 입자 50개를 전자 현미경 또는 광학 현미경으로 관찰하고, 평균값을 산출함으로써 구해진다.The " average particle diameter " of the first and second insulating particles respectively indicate the number average particle diameter. The average particle diameter of the first and second insulating particles is obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

도통 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 제2 절연성 입자 중의 적어도 일부가, 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 도통 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수는, 많은 쪽이 바람직하다. 도통 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 10% 이상이, 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 제1 절연성 입자에 접촉하도록 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X1은, 보다 바람직하게는 20% 이상, 한층 더 바람직하게는 30% 이상, 더욱 바람직하게는 40% 이상, 더욱 더 바람직하게는 50% 이상, 특히 바람직하게는 50% 초과, 가장 바람직하게는 80% 초과이다. 제1 절연성 입자에 제2 절연성 입자가 접촉되어 있으면, 도전 접속 시에, 제1 절연성 입자의 탈리에 수반하여, 제1 절연성 입자에 접촉하고 있는 제2 절연성 입자도 탈리되기 쉬워진다. 이 결과, 도통 신뢰성이 한층 더 높아진다. 또한, 제2 절연성 입자의 전체 개수는, 도전성 입자 1개당이 갖는 제2 절연성 입자의 개수를 나타낸다. 또한, 제1 절연성 입자에 접촉하도록 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수에는, 도전성 입자에 접촉하고 있는 제2 절연성 입자의 개수와, 도전성 입자에 접촉하고 있지 않은 제2 절연성 입자의 개수의 양쪽이 포함된다.From the viewpoint of further enhancing conduction reliability, it is preferable that at least a part of the second insulating particles are disposed on the surface of the conductive particles so as to be in contact with the first insulating particles. From the viewpoint of further enhancing the conduction reliability, the number of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles is preferably larger so as to contact the first insulating particles. From the viewpoint of further enhancing the conduction reliability, it is preferable that 10% or more of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as to be in contact with the first insulating particles. The number ratio X1 of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles so as to contact the first insulating particles is more preferably 20% or more, still more preferably 30% or more, still more preferably 40% or more , Even more preferably more than 50%, particularly preferably more than 50%, most preferably more than 80%. When the first insulating particles are in contact with the second insulating particles, the second insulating particles in contact with the first insulating particles tend to desorb as the first insulating particles separate from each other during the conductive connection. As a result, conduction reliability is further enhanced. The total number of the second insulating particles indicates the number of the second insulating particles contained in one conductive particle. The number of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles so as to come into contact with the first insulating particles includes the number of the second insulating particles in contact with the conductive particles and the number of the second insulating particles in contact with the conductive particles Both of the number of particles are included.

제1 절연성 입자에 제2 절연성 입자를 접촉시키는 방법으로서는, 제2 절연성 입자가 부착되기 쉬워지도록 제1 절연성 입자를 표면 처리하는 방법, 제1 절연성 입자가 부착되기 쉬워지도록 제2 절연성 입자를 표면 처리하는 방법, 및 제2 절연성 입자를 제1 절연성 입자의 표면에 부착시킨 후 제2 절연성 입자가 부착된 제1 절연성 입자를 도전성 입자의 표면에 부착시키는 방법 등을 들 수 있다.Examples of the method of bringing the second insulating particles into contact with the first insulating particles include a method of surface-treating the first insulating particles so that the second insulating particles are easily adhered, a method of treating the surface of the second insulating particles to facilitate attachment of the first insulating particles And a method in which the second insulating particles are attached to the surface of the first insulating particles and then the first insulating particles having the second insulating particles attached thereto are adhered to the surface of the conductive particles.

절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 제2 절연성 입자 중의 적어도 일부가, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수는, 많은 쪽이 바람직하다. 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 10% 이상이, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X2는, 보다 바람직하게는 20% 이상, 더욱 바람직하게는 30% 이상, 특히 바람직하게는 40% 이상, 가장 바람직하게는 50% 이상이다. 또한, 제2 절연성 입자의 전체 개수는, 도전성 입자 1개당이 갖는 제2 절연성 입자의 개수를 나타낸다. 또한, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수에는, 도전성 입자에 접촉하고 있는 제2 절연성 입자의 개수와, 도전성 입자에 접촉하고 있지 않은 제2 절연성 입자의 개수의 양쪽이 포함된다.It is preferable that at least a part of the second insulating particles are disposed on the surface of the conductive particles so as not to contact the first insulating particles from the viewpoint of further improving insulation reliability and insulation reliability against impact. The number of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles is preferably larger so as not to contact the first insulating particles from the viewpoint of further improving insulation reliability and insulation reliability against impact. It is preferable that at least 10% of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as not to contact the first insulating particles. The number ratio X2 of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles so as not to contact the first insulating particles is more preferably 20% or more, still more preferably 30% or more, particularly preferably 40% or more , And most preferably 50% or more. The total number of the second insulating particles indicates the number of the second insulating particles contained in one conductive particle. The number of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles so as not to contact the first insulating particles includes the number of the second insulating particles in contact with the conductive particles and the number of the second insulating particles in contact with the conductive particles, And the number of insulating particles.

절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 높이기 위해서, 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 10% 이상이, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 도전성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 도전성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X3은, 보다 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 15% 이상, 특히 바람직하게는 20% 이상, 바람직하게는 100% 이하, 보다 바람직하게는 80% 이하, 더욱 바람직하게는 60% 이하, 특히 바람직하게는 50% 미만이다. 또한, 제2 절연성 입자의 전체 개수는, 도전성 입자 1개당이 갖는 제2 절연성 입자의 개수를 나타낸다.It is preferable that 10% or more of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as to contact the conductive particles so as not to contact the first insulating particles in order to improve insulation reliability and insulation reliability against impact desirable. The number ratio X3 of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles so as not to come in contact with the first insulating particles and in contact with the conductive particles is more preferably 10% or more, still more preferably 15% , Particularly preferably not less than 20%, preferably not more than 100%, more preferably not more than 80%, further preferably not more than 60%, particularly preferably not more than 50%. The total number of the second insulating particles indicates the number of the second insulating particles contained in one conductive particle.

제1 절연성 입자에 제2 절연성 입자를 접촉시키지 않는 방법으로서는, 제2 절연성 입자가 부착되기 어려워지도록 제1 절연성 입자를 표면 처리하는 방법, 제1 절연성 입자가 부착되기 어려워지도록 제2 절연성 입자를 표면 처리하는 방법, 제2 절연성 입자가 제1 절연성 입자보다도 도전성 입자에 부착되기 쉬워지도록 제2 절연성 입자를 표면 처리하는 방법 등을 들 수 있다.Examples of a method of not contacting the first insulating particles with the second insulating particles include a method of surface-treating the first insulating particles so that the second insulating particles are less likely to adhere, a method of forming the second insulating particles on the surface A method of treating the surface of the second insulating particles so that the second insulating particles are more likely to adhere to the conductive particles than the first insulating particles, and the like.

도통 신뢰성, 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 도전성 입자 1개당의, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1은 바람직하게는 1개 이상, 보다 바람직하게는 2개 이상, 더욱 바람직하게는 3개 이상, 특히 바람직하게는 5개 이상, 가장 바람직하게는 10개 이상, 바람직하게는 100개 이하, 보다 바람직하게는 50개 이하, 더욱 바람직하게는 20개 이하이다. 상기 평균 개수 Y1은 10개 미만이어도 된다. 상기 도전성 입자 1개당의, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제1 절연성 입자의 평균 개수는, 상기 도전성 입자 1개당이 갖는 제1 절연성 입자의 개수 평균이다.From the viewpoint of further improving the reliability of conduction, insulation reliability and insulation reliability against impact, the average number Y1 of the first insulating particles arranged on the surface of the conductive particles per one conductive particle is preferably 1 More preferably 2 or more, still more preferably 3 or more, particularly preferably 5 or more, most preferably 10 or more, preferably 100 or less, more preferably 50 or less Preferably 20 or less. The average number Y1 may be less than 10. The average number of the first insulating particles disposed on the surface of the conductive particles per one conductive particle is an average of the number of the first insulating particles contained in one conductive particle.

도통 신뢰성, 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 도전성 입자 1개당의, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2는 바람직하게는 1개 이상, 보다 바람직하게는 4개 이상, 더욱 바람직하게는 6개 이상, 특히 바람직하게는 10개 이상, 가장 바람직하게는 20개 이상, 바람직하게는 1000개 이하, 보다 바람직하게는 500개 이하, 더욱 바람직하게는 100개 이하이다. 상기 도전성 입자 1개당의, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제2 절연성 입자의 평균 개수는, 상기 도전성 입자 1개당이 갖는 제2 절연성 입자의 개수 평균이다.The average number Y2 of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles per one of the conductive particles is preferably 1 or more from the viewpoint of further improving the reliability of conduction, More preferably 4 or more, more preferably 6 or more, particularly preferably 10 or more, most preferably 20 or more, preferably 1000 or less, more preferably 500 or less Preferably 100 or less. The average number of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles per one conductive particle is an average of the number of the second insulating particles contained in one conductive particle.

본 발명에 따른 도전성 입자에 있어서, 상기 도전성 입자 1개당의, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1의, 상기 도전성 입자 1개당의, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2에 대한 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)는, 바람직하게는 0.001 이상, 보다 바람직하게는 0.005 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 바람직하게는 1 이하, 보다 바람직하게는 0.5 이하이다. 상기 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)는, 0.5를 초과해도 된다. 또한, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 상기 제1, 제2 절연성 입자의 개수에는, 도전성 입자에 접촉하고 있지 않은 상기 제1, 제2 절연성 입자의 개수도 포함된다.In the conductive particle according to the present invention, the average number Y1 of the first insulating particles disposed on the surface of the conductive particle per one conductive particle, of the conductive particles per surface of the conductive particle, (Average number Y1 / average number Y2) to the average number Y2 of the second insulating particles disposed in the second insulating layer is preferably 0.001 or more, more preferably 0.005 or more, still more preferably 0.05 or more, 1 or less, more preferably 0.5 or less. The ratio (average number Y1 / average number Y2) may exceed 0.5. The number of the first and second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles also includes the number of the first and second insulating particles that are not in contact with the conductive particles.

절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제2 절연성 입자가 부착되어 있는 것이 바람직하다.From the viewpoint of further enhancing insulation reliability and insulation reliability against impact, it is preferable that the second insulating particles are attached to the surfaces of the conductive particles through chemical bonding.

충격에 의해, 도전성 입자의 표면으로부터 제1 절연성 입자가 의도치 않게 탈리되는 것을 한층 더 억제하는 관점에서는, 상기 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제1 절연성 입자가 부착되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제1 절연성 입자가 부착되어 있으면, 접속 구조체의 절연 신뢰성이 한층 더 높아진다.From the viewpoint of further suppressing the inadvertent desorption of the first insulating particles from the surface of the conductive particles by the impact, it is preferable that the first insulating particles are attached to the surface of the conductive particles through chemical bonding Do. Further, when the first insulating particles are attached to the surfaces of the conductive particles through chemical bonding, the insulation reliability of the connection structure is further enhanced.

전극간의 도통 신뢰성을 높이는 관점에서는, 상기 도전성 입자는, 상기 도전부의 외표면에 돌기를 갖는 것이 바람직하다. 일반적으로, 도전부의 외표면에 돌기가 있는 도전성 입자에서는, 그 돌기가 클수록, 절연 신뢰성이 저하되는 경향이 있다. 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자에서는, 상기 제1, 제2 절연성 입자가 구비되어 있으므로, 가령 돌기가 커도, 절연 신뢰성을 충분히 확보할 수 있다.From the viewpoint of improving conduction reliability between the electrodes, it is preferable that the conductive particles have projections on the outer surface of the conductive portion. Generally, in conductive particles having protrusions on the outer surface of the conductive portion, the larger the protrusions, the lower the insulation reliability tends to be. In the insulating particle-attached conductive particle according to the present invention, since the first and second insulating particles are provided, even if the projection is large, the insulation reliability can be sufficiently secured.

도통 신뢰성, 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제1 절연성 입자의 가교도가 5중량% 이상인 것이 바람직하다. 상기 가교도는, 중합성 단량체의 전체 중량에 대한 가교 성분의 중량 비율을 의미한다.From the viewpoint of further improving conduction reliability, insulation reliability and insulation reliability against impact, the degree of crosslinking of the first insulating particles is preferably 5 wt% or more. The degree of crosslinking means the weight ratio of the crosslinking component to the total weight of the polymerizable monomer.

이하, 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 도전성 입자, 제1 절연성 입자 및 제2 절연성 입자의 상세를 설명한다.Hereinafter, the details of the conductive particles, the first insulating particles and the second insulating particles in the insulating particle-attached conductive particles will be described.

[도전성 입자][Conductive particle]

상기 도전성 입자는 적어도 표면에 도전부를 갖고 있으면 된다. 상기 도전부는 도전층인 것이 바람직하다. 도전성 입자는 기재 입자와, 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전층을 갖는 도전성 입자이어도 되고, 전체가 도전부인 금속 입자이어도 된다. 그 중에서도, 비용을 저감하거나 도전성 입자의 유연성을 높게 하고, 전극간의 도통 신뢰성을 높이거나 하는 관점에서는, 기재 입자와, 기재 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 갖는 도전성 입자가 바람직하다.The conductive particles may have conductive parts at least on their surfaces. The conductive portion is preferably a conductive layer. The conductive particles may be base particles and conductive particles having a conductive layer disposed on the surface of the base particles, and may be metal particles whose entirety is a conductive portion. Among them, conductive particles having a base particle and a conductive portion disposed on the surface of the base particle are preferable from the viewpoint of reducing the cost, increasing the flexibility of the conductive particle, and enhancing the reliability of conduction between the electrodes.

상기 기재 입자로서는, 수지 입자, 금속 입자를 제외한 무기 입자, 유기 무기 하이브리드 입자 및 금속 입자 등을 들 수 있다. 상기 기재 입자는 코어 셸 입자이어도 된다. 그 중에서도, 상기 기재 입자는, 금속 입자를 제외한 기재 입자인 것이 바람직하고, 수지 입자, 금속 입자를 제외한 무기 입자 또는 유기 무기 하이브리드 입자인 것이 보다 바람직하다.Examples of the base particles include resin particles, inorganic particles other than metal particles, organic-inorganic hybrid particles and metal particles. The base particles may be core shell particles. Among them, the base particles are preferably base particles excluding metal particles, more preferably resin particles, inorganic particles other than metal particles, or organic-inorganic hybrid particles.

상기 기재 입자는 수지에 의해 형성된 수지 입자인 것이 바람직하다. 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 전극간을 접속할 때에는, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 전극간에 배치한 후, 압착함으로써 절연성 입자 부착 도전성 입자를 압축시킨다. 기재 입자가 수지 입자이면, 상기 압착 시에 도전성 입자가 변형되기 쉽고, 도전성 입자와 전극과의 접촉 면적이 커진다. 이로 인해, 전극간의 도통 신뢰성이 한층 더 높아진다.The base particles are preferably resin particles formed by a resin. When the electrodes are connected using the insulating particle-attached conductive particles, the insulating particle-attached conductive particles are disposed between the electrodes, and then pressed to compress the insulating particle-attached conductive particles. When the base particles are resin particles, the conductive particles tend to be deformed at the time of pressing, and the contact area between the conductive particles and the electrode becomes large. As a result, the reliability of conduction between the electrodes is further enhanced.

상기 수지 입자를 형성하기 위한 수지로서, 다양한 유기물이 적절하게 사용된다. 상기 수지 입자를 형성하기 위한 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔 등의 폴리올레핀 수지; 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸아크릴레이트 등의 아크릴 수지; 폴리알킬렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리아미드, 페놀 포름알데히드 수지, 멜라민 포름알데히드 수지, 벤조구아나민 포름알데히드 수지, 요소 포름알데히드 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 요소 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 폴리술폰, 폴리페닐렌옥시드, 폴리아세탈, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 다양한 중합성 단량체를 1종 또는 2종 이상 중합시켜 얻어지는 중합체 등을 들 수 있다. 기재 입자의 경도를 적합한 범위로 용이하게 제어할 수 있으므로, 상기 수지 입자를 형성하기 위한 수지는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 단량체를 1종 또는 2종 이상 중합시킨 중합체인 것이 바람직하다.As the resin for forming the resin particles, various organic materials are suitably used. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; Acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; But are not limited to, polyalkylene terephthalate, polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, Various polymerizable monomers having an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a saturated polyester resin, a polysulfone, a polyphenylene oxide, a polyacetal, a polyimide, a polyamideimide, a polyetheretherketone, a polyether sulfone and an ethylenic unsaturated group And polymers obtained by polymerization of one kind or two or more kinds. It is preferable that the resin for forming the resin particles is a polymer obtained by polymerizing at least one polymerizable monomer having an ethylenic unsaturated group.

상기 수지 입자를 에틸렌성 불포화기를 갖는 단량체를 중합시켜서 얻는 경우에는, 상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 단량체로서는, 비가교성의 단량체와 가교성의 단량체를 들 수 있다.When the resin particle is obtained by polymerizing a monomer having an ethylenic unsaturated group, examples of the monomer having an ethylenic unsaturated group include a monomer that is incompatible with the monomer and a monomer that is crosslinkable.

상기 비가교성의 단량체로서는, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체; (메트)아크릴산, 말레산, 무수 말레산 등의 카르복실기 함유 단량체; 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트류; 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 폴리옥시에틸렌(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 산소 원자 함유(메트)아크릴레이트류; (메트)아크릴로니트릴 등의 니트릴 함유 단량체; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르 등의 비닐에테르류; 아세트산 비닐, 부티르산 비닐, 라우르산 비닐, 스테아르산 비닐 등의 산 비닐에스테르류; 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔 등의 불포화 탄화수소; 트리플루오로메틸(메트)아크릴레이트, 펜타플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 염화비닐, 불화비닐, 클로로스티렌 등의 할로겐 함유 단량체 등을 들 수 있다.Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene-based monomers such as styrene and? -Methylstyrene; Carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl Alkyl (meth) acrylates such as acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; (Meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate; Nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; Vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether and propyl vinyl ether; Acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate and vinyl stearate; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene.

상기 가교성의 단량체로서는, 예를 들어 테트라메틸올메탄테트라(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메트)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 글리세롤트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)테트라메틸렌디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트 등의 다관능(메트)아크릴레이트류; 트리알릴(이소)시아누레이트, 트리알릴트리멜리테이트, 디비닐벤젠, 디알릴프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 디알릴에테르, γ-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 트리메톡시실릴스티렌, 비닐트리메톡시실란 등의 실란 함유 단량체 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylol methane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di Polyfunctional (meth) acrylates such as (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, (poly) tetramethylene di (meth) acrylate and 1,4-butanediol di (meth) acrylate; (Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, trimethylolpropane trimethoxysilane, triallyl trimellitate, divinyl benzene, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, diallyl ether, , Silane-containing monomers such as vinyltrimethoxysilane, and the like.

상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 단량체를, 공지된 방법에 의해 중합시킴으로써, 상기 수지 입자를 얻을 수 있다. 이 방법으로서는, 예를 들어 라디칼 중합 개시제의 존재 하에서 현탁 중합하는 방법, 및 비가교의 종 입자를 사용하여 라디칼 중합 개시제와 함께 단량체를 팽윤시켜서 중합하는 방법 등을 들 수 있다.The above-mentioned resin particles can be obtained by polymerizing the above-mentioned polymerizable monomer having an ethylenic unsaturated group by a known method. Examples of the method include suspension polymerization in the presence of, for example, a radical polymerization initiator, and polymerization by swelling the monomer together with the radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.

상기 기재 입자가 금속을 제외한 무기 입자 또는 유기 무기 하이브리드 입자일 경우에는, 기재 입자를 형성하기 위한 무기물로서는 실리카 및 카본 블랙 등을 들 수 있다. 상기 실리카에 의해 형성된 입자로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 가수분해성의 알콕시실릴기를 2개 이상 갖는 규소 화합물을 가수분해하여 가교중합체 입자를 형성한 후에, 필요에 따라 소성을 행함으로써 얻어지는 입자를 들 수 있다. 상기 유기 무기 하이브리드 입자로서는, 예를 들어 가교한 알콕시실릴 중합체와 아크릴 수지에 의해 형성된 유기 무기 하이브리드 입자 등을 들 수 있다.When the base particles are inorganic particles other than metals or organic-inorganic hybrid particles, examples of inorganic substances for forming the base particles include silica and carbon black. The particles formed by the silica are not particularly limited. For example, particles obtained by hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups to form crosslinked polymer particles, and then firing if necessary, . Examples of the organic-inorganic hybrid particles include organic-inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

상기 기재 입자가 금속 입자일 경우에, 이 금속 입자를 형성하기 위한 금속으로서는 은, 구리, 니켈, 규소, 금 및 티타늄 등을 들 수 있다. 단, 상기 기재 입자는 금속 입자가 아닌 것이 바람직하다.When the base particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium. However, it is preferable that the base particles are not metal particles.

상기 도전부를 형성하기 위한 금속은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 도전성 입자가, 전체가 도전부인 금속 입자일 경우, 그 금속 입자를 형성하기 위한 금속은 특별히 한정되지 않는다. 그 금속으로서는, 예를 들어 금, 은, 팔라듐, 구리, 백금, 아연, 철, 주석, 납, 알루미늄, 코발트, 인듐, 니켈, 크롬, 티타늄, 안티몬, 비스무트, 탈륨, 게르마늄, 카드뮴, 규소 및 이들의 합금 등을 들 수 있다. 또한, 상기 금속으로서는 주석 도프 산화인듐(ITO) 및 땜납 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 전극간의 접속 저항이 한층 더 낮아지므로, 주석을 포함하는 합금, 니켈, 팔라듐, 구리 또는 금이 바람직하고, 니켈 또는 팔라듐이 바람직하다. 상기 도전부의 융점은, 바람직하게는 300℃ 이상, 보다 바람직하게는 450℃ 이상이다. 상기 도전부는 땜납이 아닌 도전부이어도 된다.The metal for forming the conductive part is not particularly limited. When the conductive particles are metal particles as a whole, the metal for forming the metal particles is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, And the like. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Among them, an alloy including tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable because the connection resistance between the electrodes becomes further lower. The melting point of the conductive portion is preferably 300 占 폚 or higher, and more preferably 450 占 폚 or higher. The conductive portion may be a conductive portion instead of solder.

또한, 도전부의 표면에는 산화에 의해 수산기가 존재하는 경우가 많다. 일반적으로, 니켈에 의해 형성된 도전부의 표면에는, 산화에 의해 수산기가 존재한다. 이러한 수산기를 갖는 도전부의 표면(도전성 입자의 표면)에, 화학 결합을 통해, 제1 절연성 입자를 부착시킬 수 있다. 또한, 이러한 수산기를 갖는 도전부의 표면(도전성 입자의 표면)에, 화학 결합을 통해, 제2 절연성 입자를 부착시킬 수도 있다.In many cases, hydroxyl groups are present on the surface of the conductive part by oxidation. Generally, on the surface of the conductive part formed by nickel, a hydroxyl group is present due to oxidation. The first insulating particles can be attached to the surface of the conductive portion having the hydroxyl group (the surface of the conductive particle) through chemical bonding. In addition, the second insulating particles may be attached to the surface of the conductive part having the hydroxyl group (the surface of the conductive particle) through chemical bonding.

상기 도전층은 하나의 층에 의해 형성되어 있어도 된다. 도전층은 복수의 층에 의해 형성되어 있어도 된다. 즉, 도전층은 2층 이상의 적층 구조를 가져도 된다. 도전층이 복수의 층에 의해 형성되어 있는 경우에는, 최외층은 금층, 니켈층, 팔라듐층, 구리층 또는 주석과 은을 포함하는 합금층인 것이 바람직하고, 금층인 것이 보다 바람직하다. 최외층이 이들 바람직한 도전층일 경우에는, 전극간의 접속 저항이 한층 더 낮아진다. 또한, 최외층이 금층인 경우에는, 내부식성이 한층 더 높아진다.The conductive layer may be formed by one layer. The conductive layer may be formed by a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a laminated structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, it is preferable that the outermost layer is a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, more preferably a gold layer. When the outermost layer is the preferable conductive layer, the connection resistance between the electrodes is further lowered. Further, when the outermost layer is a gold layer, corrosion resistance is further increased.

상기 기재 입자의 표면에 도전층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 도전층을 형성하는 방법으로서는, 예를 들어 무전해 도금에 의한 방법, 전기 도금에 의한 방법, 물리적 증착에 의한 방법, 및 금속 분말 또는 금속 분말과 바인더를 포함하는 페이스트를 기재 입자의 표면에 코팅하는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 도전층의 형성이 간편하므로, 무전해 도금에 의한 방법이 바람직하다. 상기 물리적 증착에 의한 방법으로서는, 진공 증착, 이온 플레이팅 및 이온 스퍼터링 등의 방법을 들 수 있다.The method of forming the conductive layer on the surface of the base particles is not particularly limited. Examples of the method of forming the conductive layer include a method of electroless plating, a method of electroplating, a method of physical vapor deposition, and a method of coating a surface of base particles with a paste containing metal powder or metal powder and a binder And the like. Among them, the electroless plating method is preferable because the formation of the conductive layer is simple. Examples of the physical deposition method include vacuum deposition, ion plating and ion sputtering.

상기 도전성 입자의 평균 입자 직경은, 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상, 바람직하게는 500㎛ 이하, 보다 바람직하게는 100㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 50㎛ 이하, 특히 바람직하게는 20㎛ 이하이다. 도전성 입자의 평균 입자 직경이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 전극간을 접속한 경우에, 도전성 입자와 전극과의 접촉 면적이 충분히 커지며, 도전층을 형성할 때에 응집한 도전성 입자가 형성되기 어려워진다. 또한, 도전성 입자를 통해 접속된 전극간의 간격이 지나치게 커지지 않으며, 도전층이 기재 입자의 표면으로부터 박리되기 어려워진다.The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 占 퐉 or more, more preferably 1 占 퐉 or more, preferably 500 占 퐉 or less, more preferably 100 占 퐉 or less, further preferably 50 占 퐉 or less, Mu] m or less. When the average particle diameter of the conductive particles is equal to or more than the lower limit and the upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrode becomes sufficiently large when the electrodes are connected using the insulating particle-adhering conductive particles, The coagulated conductive particles are hardly formed. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become excessively large, and the conductive layer becomes difficult to peel off from the surface of the substrate particles.

상기 도전성 입자의 「평균 입자 직경」은, 수 평균 입자 직경을 나타낸다. 도전성 입자의 평균 입자 직경은, 임의의 도전성 입자 50개를 전자 현미경 또는 광학 현미경으로 관찰하고, 평균값을 산출함으로써 구해진다.The " average particle diameter " of the conductive particles indicates the number average particle diameter. The average particle diameter of the conductive particles is obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

상기 도전층의 두께는, 바람직하게는 0.005㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.3㎛ 이하이다. 도전층의 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 충분한 도전성이 얻어지며, 도전성 입자가 지나치게 단단해지지 않아, 전극간의 접속 시에 도전성 입자가 충분히 변형된다.The thickness of the conductive layer is preferably at least 0.005 탆, more preferably at least 0.01 탆, preferably at most 10 탆, more preferably at most 1 탆, further preferably at most 0.3 탆. When the thickness of the conductive layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, sufficient conductivity is obtained and the conductive particles are not excessively hardened and the conductive particles are sufficiently deformed at the time of connection between the electrodes.

상기 도전층이 복수의 층에 의해 형성되어 있는 경우에, 최외층의 도전층 두께는, 특히 최외층이 금층인 경우의 금층의 두께는, 바람직하게는 0.001㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎛ 이상, 바람직하게는 0.5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이하이다. 상기 최외층의 도전층 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 최외층의 도전층에 의한 피복이 균일해지고, 내부식성이 충분히 높아지며, 전극간의 접속 저항이 충분히 낮아진다. 또한, 상기 최외층이 금층인 경우의 금층의 두께가 얇을수록, 비용이 낮아진다.In the case where the conductive layer is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost layer of the conductive layer is preferably 0.001 mu m or more, more preferably 0.01 mu m or more , Preferably not more than 0.5 mu m, and more preferably not more than 0.1 mu m. If the thickness of the conductive layer in the outermost layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the coating of the outermost conductive layer becomes uniform, the corrosion resistance becomes sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes becomes sufficiently low. Further, the thinner the thickness of the gold layer when the outermost layer is a gold layer, the lower the cost.

상기 도전층의 두께는, 예를 들어 투과형 전자 현미경(TEM)을 사용하여, 도전성 입자 또는 절연성 입자 부착 도전성 입자의 단면을 관찰함으로써 측정할 수 있다.The thickness of the conductive layer can be measured by observing the cross section of the conductive particles or the insulating particle-attached conductive particles using, for example, a transmission electron microscope (TEM).

도전성 입자는, 도전부의 외표면에 돌기를 갖는 것이 바람직하고, 그 돌기는 복수인 것이 바람직하다. 절연성 입자 부착 도전성 입자에 의해 접속되는 전극의 표면에는, 산화피막이 형성되어 있는 경우가 많다. 도전부의 표면에 돌기를 갖는 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 경우에는, 전극간에 절연성 입자 부착 도전성 입자를 배치하여 압착시킴으로써, 돌기에 의해 상기 산화피막을 효과적으로 배제할 수 있다. 이로 인해, 전극과 도전부가 한층 더 확실하게 접촉하여, 전극간의 접속 저항이 한층 더 낮아진다. 또한, 전극간의 접속 시에, 도전성 입자의 돌기에 의해, 도전성 입자와 전극 사이의 절연성 입자를 효과적으로 배제할 수 있다. 이로 인해, 전극간의 도통 신뢰성이 한층 더 높아진다.It is preferable that the conductive particles have protrusions on the outer surface of the conductive portion, and it is preferable that the protrusions have a plurality of protrusions. In many cases, an oxide film is formed on the surface of the electrode connected by the insulating particle-attached conductive particles. In the case of using the insulating particle-adhering conductive particles having protrusions on the surface of the conductive portion, the oxide particles can be effectively removed by projections by disposing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and pressing them. As a result, the electrode and the conductive portion come into more reliable contact with each other, and the connection resistance between the electrodes is further lowered. Further, at the time of connection between the electrodes, the protrusions of the conductive particles can effectively remove the insulating particles between the conductive particles and the electrodes. As a result, the reliability of conduction between the electrodes is further enhanced.

도전성 입자의 표면에 돌기를 형성하는 방법으로서는, 기재 입자의 표면에 코어 물질을 부착시킨 후, 무전해 도금에 의해 도전층을 형성하는 방법, 기재 입자의 표면 상에 무전해 도금 등에 의해 제1 도전층을 형성한 후, 이 제1 도전층 상에 코어 물질을 배치하고, 다음으로 무전해 도금 등에 의해 제2 도전층을 형성하는 방법, 및 기재 입자의 표면 상에 도전층을 형성하는 도중 단계에서 코어 물질을 첨가하는 방법 등을 들 수 있다.Examples of the method for forming protrusions on the surface of the conductive particles include a method in which a core material is attached to the surface of base particles and then a conductive layer is formed by electroless plating; A method in which a core material is disposed on the first conductive layer after the layer is formed and then a second conductive layer is formed by electroless plating or the like and a method in which a conductive layer is formed on the surface of the base particle And a method of adding a core material.

기재 입자의 표면에 코어 물질을 부착시키는 방법으로서는, 예를 들어 기재 입자의 분산액 내에 코어 물질을 첨가하고, 기재 입자의 표면에 코어 물질을, 예를 들어 반데르발스 힘에 의해 집적시켜 부착시키는 방법, 및 기재 입자를 넣은 용기에 코어 물질을 첨가하고, 용기의 회전 등에 의한 기계적인 작용에 의해 기재 입자의 표면에 코어 물질을 부착시키는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 부착시키는 코어 물질의 양을 제어하기 쉽기 때문에, 분산액 내의 기재 입자의 표면에 코어 물질을 집적시켜 부착시키는 방법이 바람직하다.As a method for attaching the core material to the surface of the base particles, for example, a method in which a core material is added to a dispersion of the base particles and the core material is accumulated on the surface of the base particles, for example, by Van der Waals force And a method in which a core material is added to a container containing base particles and the core material is adhered to the surface of the base particles by mechanical action by rotation of the container or the like. Among them, a method of integrating and adhering the core material on the surface of the base particles in the dispersion is preferable because it is easy to control the amount of the core material to be adhered.

상기 도전성 입자는, 기재 입자의 표면 상에 제1 도전층을 가지며, 이 제1 도전층 상에 제2 도전층을 가져도 된다. 이 경우에, 제1 도전층의 표면에 코어 물질을 부착시켜도 된다. 코어 물질은 제2 도전층에 의해 피복되어 있는 것이 바람직하다. 상기 제1 도전층의 두께는, 바람직하게는 0.05㎛ 이상, 바람직하게는 0.5㎛ 이하이다. 도전성 입자는 기재 입자의 표면 상에 제1 도전층을 형성하고, 다음으로 이 제1 도전층의 표면 상에 코어 물질을 부착시킨 후, 제1 도전층 및 코어 물질의 표면 상에 제2 도전층을 형성함으로써 얻어지고 있는 것이 바람직하다.The conductive particles may have a first conductive layer on the surface of the base particle and a second conductive layer on the first conductive layer. In this case, the core material may be attached to the surface of the first conductive layer. The core material is preferably covered by the second conductive layer. The thickness of the first conductive layer is preferably 0.05 占 퐉 or more, and preferably 0.5 占 퐉 or less. The conductive particles are formed by forming a first conductive layer on the surface of the base particle and then adhering the core material on the surface of the first conductive layer and then forming a second conductive layer on the surface of the first conductive layer and the core material, Is preferably formed.

상기 코어 물질을 구성하는 물질로서는, 도전성 물질 및 비도전성 물질을 들 수 있다. 상기 도전성 물질로서는, 예를 들어 금속, 금속의 산화물, 흑연 등의 도전성 비금속 및 도전성 중합체 등을 들 수 있다. 상기 도전성 중합체로서는 폴리아세틸렌 등을 들 수 있다. 상기 비도전성 물질로서는 실리카, 알루미나 및 지르코니아 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 도전성이 높아지므로, 금속이 바람직하다.Examples of the material constituting the core material include a conductive material and a non-conductive material. Examples of the conductive material include metals, oxides of metals, conductive base metals such as graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the non-conductive material include silica, alumina, and zirconia. Among them, a metal is preferable because the conductivity is high.

상기 금속으로서는, 예를 들어 금, 은, 구리, 백금, 아연, 철, 납, 주석, 알루미늄, 코발트, 인듐, 니켈, 크롬, 티타늄, 안티몬, 비스무트, 게르마늄 및 카드뮴 등의 금속, 및 주석-납 합금, 주석-구리 합금, 주석-은 합금, 주석-납-은 합금 및 탄화텅스텐 등의 2종류 이상의 금속으로 구성된 합금 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 니켈, 구리, 은 또는 금이 바람직하다. 상기 코어 물질을 구성하는 금속은 상기 도전부(도전층)를 구성하는 금속과 동일해도 되고, 상이해도 된다.Examples of the metal include metals such as gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, Alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, tin-lead-silver alloys, and alloys composed of two or more metals such as tungsten carbide. Among them, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core material may be the same as or different from the metal constituting the conductive portion (conductive layer).

상기 코어 물질의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 코어 물질의 형상은 괴상인 것이 바람직하다. 코어 물질로서는, 예를 들어 입자상의 덩어리, 복수의 미소 입자가 응집된 응집 덩어리 및 부정형의 덩어리 등을 들 수 있다.The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core material is preferably massive. As the core material, for example, a lump of particles, an agglomerated mass aggregating a plurality of minute particles, and a lump of an amorphous substance can be given.

상기 코어 물질의 평균 직경(평균 입자 직경)은, 바람직하게는 0.001㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.05㎛ 이상, 바람직하게는 0.9㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.2㎛ 이하이다. 상기 코어 물질의 평균 직경이 상기 하한 이상 및 상한 이하이면, 전극간의 접속 저항이 효과적으로 낮아진다.The average diameter (average particle diameter) of the core material is preferably 0.001 탆 or more, more preferably 0.05 탆 or more, preferably 0.9 탆 or less, and more preferably 0.2 탆 or less. If the average diameter of the core material is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the connection resistance between the electrodes is effectively lowered.

상기 코어 물질의 「평균 직경(평균 입자 직경)」은, 수 평균 직경(수 평균 입자 직경)을 나타낸다. 코어 물질의 평균 직경은, 임의의 코어 물질 50개를 전자 현미경 또는 광학 현미경으로 관찰하고, 평균값을 산출함으로써 구해진다.The " average diameter (average particle diameter) " of the core material indicates a number average diameter (number average particle diameter). The average diameter of the core material is obtained by observing 50 pieces of any core material with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

상기 도전성 입자 1개당의 상기의 돌기는, 바람직하게는 3개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상이다. 상기 돌기 수의 상한은 특별히 한정되지 않는다. 돌기 수의 상한은 도전성 입자의 입자 직경 등을 고려하여 적절히 선택할 수 있다.The number of the protrusions per one conductive particle is preferably 3 or more, and more preferably 5 or more. The upper limit of the number of projections is not particularly limited. The upper limit of the number of protrusions can be appropriately selected in consideration of the particle diameter of the conductive particles and the like.

절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경은, 상기 돌기의 평균 높이의 바람직하게는 0.7배 이상, 보다 바람직하게는 1배 이상, 바람직하게는 5배 이하, 보다 바람직하게는 3배 이하이다.From the viewpoint of further improving insulation reliability and insulation reliability against impact, the average particle diameter of the second insulating particles is preferably 0.7 times or more, more preferably 1 time or more, 5 times or less, and more preferably 3 times or less.

상기 돌기의 평균 높이는, 복수의 돌기 높이의 평균값을 나타내고, 돌기 높이는, 도전성 입자의 중심과 돌기의 선단을 연결하는 선(도 2에 도시하는 파선(L1)) 상에 있어서의, 돌기가 없다고 상정한 경우의 도전층 가상선(도 2에 도시하는 파선(L2)) 상(돌기가 없다고 상정한 경우의 구상 도전성 입자의 외표면상)으로부터 돌기의 선단까지의 거리를 나타낸다. 즉, 도 2에 있어서는, 파선(L1)과 파선(L2)의 교점으로부터 돌기의 선단까지의 거리를 나타낸다.The average height of the protrusions represents an average value of the plurality of protrusions, and the height of the protrusions is determined by assuming that there is no protrusions on the line connecting the center of the conductive particles and the tip of the protrusions (broken line L1 shown in Fig. 2) (The broken line L2 shown in Fig. 2) (on the outer surface of the spherical conductive particles when it is assumed that there is no projection) to the tip of the projection. 2, the distance from the intersection of the broken line L1 to the broken line L2 to the tip of the projection is shown.

(제1, 제2 절연성 입자)(First and second insulating particles)

상기 제1, 제2 절연성 입자는 절연성을 갖는 입자이다. 상기 제1, 제2 절연성 입자는 각각 도전성 입자보다도 작다. 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하여 전극간을 접속하면, 상기 제1, 제2 절연성 입자에 의해 인접하는 전극간의 단락을 방지할 수 있다. 구체적으로는, 복수의 절연성 입자 부착 도전성 입자가 접촉되었을 때에, 복수의 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 도전성 입자간에는 상기 제1, 제2 절연성 입자가 존재하므로, 상하의 전극간이 아니고, 가로 방향으로 인접하는 전극간의 단락을 방지할 수 있다. 또한, 전극간의 접속 시에, 2개의 전극으로 절연성 입자 부착 도전성 입자를 가압함으로써, 도전부와 전극 사이의 상기 제1, 제2 절연성 입자를 용이하게 배제할 수 있다. 도전성 입자의 표면에 돌기가 형성되어 있는 경우에는, 도전부와 전극 사이의 상기 제1, 제2 절연성 입자를 한층 더 용이하게 배제할 수 있다.The first and second insulating particles are insulating particles. The first and second insulating particles are each smaller than the conductive particles. When the electrodes are connected to each other by using the insulating particle-attached conductive particles, shorting between adjacent electrodes can be prevented by the first and second insulating particles. Specifically, when a plurality of insulating particle-adhering conductive particles are brought into contact with each other, since the first and second insulating particles are present between the conductive particles in the plurality of insulating particle-attached conductive particles, the insulating particles are not located between the upper and lower electrodes, It is possible to prevent a short circuit between the electrodes. Further, when connecting the electrodes, the first and second insulating particles between the conductive portion and the electrode can be easily removed by pressing the insulating particle-adhering conductive particles with the two electrodes. When the projections are formed on the surface of the conductive particles, the first and second insulating particles between the conductive portion and the electrode can be more easily excluded.

상기 제1, 제2 절연성 입자를 구성하는 재료로서는, 절연성의 수지 및 절연성의 무기물 등을 들 수 있다. 상기 절연성의 수지로서는, 기재 입자로서 사용하는 것이 가능한 수지 입자를 형성하기 위한 수지로서 예로 든 상기 수지를 들 수 있다. 상기 절연성의 무기물로서는, 기재 입자로서 사용하는 것이 가능한 무기 입자를 형성하기 위한 무기물로서 예로 든 상기 무기물을 들 수 있다.Examples of the material constituting the first and second insulating particles include an insulating resin and an insulating inorganic material. Examples of the insulating resin include the resins exemplified as the resin for forming the resin particles which can be used as the base particles. Examples of the insulating inorganic material include the inorganic materials exemplified as the inorganic material for forming the inorganic particles usable as the base particles.

상기 제1, 제2 절연성 입자의 재료인 절연성 수지의 구체예로서는, 폴리올레핀류, (메트)아크릴레이트 중합체, (메트)아크릴레이트 공중합체, 블록 중합체, 열가소성 수지, 열가소성 수지의 가교물, 열경화성 수지 및 수용성 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the insulating resin that is the material of the first and second insulating particles include a polyolefin, a (meth) acrylate polymer, a (meth) acrylate copolymer, a block polymer, a thermoplastic resin, a crosslinked product of a thermoplastic resin, And water-soluble resins.

상기 폴리올레핀류로서는, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 및 에틸렌-아크릴산에스테르 공중합체 등을 들 수 있다. 상기 (메트)아크릴레이트 중합체로서는, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리에틸(메트)아크릴레이트 및 폴리부틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 블록 중합체로서는, 폴리스티렌, 스티렌-아크릴산에스테르 공중합체, SB형 스티렌-부타디엔 블록 공중합체 및 SBS형 스티렌-부타디엔 블록 공중합체, 및 이들의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지로서는, 비닐 중합체 및 비닐 공중합체 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 수지로서는, 에폭시 수지, 페놀 수지 및 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 상기 수용성 수지로서는, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리아크릴아미드, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌옥시드 및 메틸셀룰로오스 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 수용성 수지가 바람직하고, 폴리비닐알코올이 보다 바람직하다.Examples of the polyolefins include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB-type styrene-butadiene block copolymer and SBS-type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include a vinyl polymer and a vinyl copolymer. Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a phenol resin, and a melamine resin. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, methylcellulose and the like. Among them, a water-soluble resin is preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable.

압착 시의 상기 제1, 제2 절연성 입자의 탈리성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제1, 제2 절연성 입자는 각각 무기 입자인 것이 바람직하고, 실리카 입자인 것이 바람직하다.From the viewpoint of further increasing the releasability of the first and second insulating particles at the time of compression, the first and second insulating particles are preferably inorganic particles, and are preferably silica particles.

상기 무기 입자로서는, 시라스 입자, 히드록시아파타이트 입자, 마그네시아 입자, 산화지르코늄 입자 및 실리카 입자 등을 들 수 있다. 상기 실리카 입자로서는, 분쇄 실리카, 구상 실리카를 들 수 있다. 구상 실리카를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 실리카 입자는 표면에, 예를 들어 카르복실기, 수산기 등의 화학 결합 가능한 관능기를 갖는 것이 바람직하고, 수산기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 무기 입자는 비교적 단단하고, 특히 실리카 입자는 비교적 단단하다. 이러한 단단한 절연성 입자를 구비하는 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 경우에는, 절연성 입자 부착 도전성 입자와 바인더 수지를 혼련할 때에 도전성 입자의 표면으로부터 단단한 절연성 입자가 탈리되기 쉬운 경향이 있다. 이에 비해, 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 경우에는, 단단한 제1 절연성 입자를 사용했다고 해도, 상기 혼련 시에, 제2 절연성 입자에 의해 제1 절연성 입자가 탈리되는 것을 억제할 수 있다. 상기 제2 절연성 입자는, 예를 들어 쿠션성을 부여하는 역할을 한다. 또한, 상기 혼련 시에, 제1 절연성 입자가 탈리되어도, 제2 절연성 입자가 잔존하는 결과, 절연 신뢰성을 확보할 수 있다.Examples of the inorganic particles include Siras particles, hydroxyapatite particles, magnesia particles, zirconium oxide particles and silica particles. Examples of the silica particles include pulverized silica and spherical silica. It is preferable to use spherical silica. The silica particles preferably have a functional group capable of chemically bonding to the surface, for example, a carboxyl group or a hydroxyl group, and more preferably a hydroxyl group. The inorganic particles are relatively hard, and in particular, the silica particles are relatively hard. In the case of using the insulating particle-adhering conductive particles having such hard insulating particles, when the insulating particle-attached conductive particles and the binder resin are kneaded, the hard insulating particles tends to separate from the surface of the conductive particles. In contrast, in the case of using the insulating particle-adhering conductive particles according to the present invention, it is possible to prevent the first insulating particles from being desorbed by the second insulating particles at the time of kneading even if hard first insulating particles are used . The second insulating particles serve to impart cushioning, for example. In addition, even if the first insulating particles are removed during the kneading, the second insulating particles remain, so that the insulation reliability can be secured.

상기 제1 절연성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제2 절연성 입자가 부착되어 있는 것이 바람직하다. 상기 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제1 절연성 입자가 부착되어 있는 것이 바람직하다. 이 화학 결합에는, 공유 결합, 수소 결합, 이온 결합 및 배위 결합 등이 포함된다. 그 중에서도, 공유 결합이 바람직하고, 반응성 관능기를 사용한 화학적 결합이 바람직하다.It is preferable that the second insulating particles are attached to the surface of the first insulating particles through chemical bonding. It is preferable that the first insulating particles are attached to the surfaces of the conductive particles through chemical bonding. These chemical bonds include covalent bonds, hydrogen bonds, ionic bonds, coordination bonds, and the like. Among them, covalent bonding is preferable, and chemical bonding using a reactive functional group is preferable.

상기 화학 결합을 형성하는 반응성 관능기로서는, 예를 들어 비닐기, (메트)아크릴로일기, 실란기, 실라놀기, 카르복실기, 아미노기, 암모늄기, 니트로기, 수산기, 카르보닐기, 티올기, 술폰산기, 술포늄기, 붕산기, 옥사졸린기, 피롤리돈기, 인산기 및 니트릴기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 비닐기, (메트)아크릴로일기가 바람직하다.Examples of the reactive functional group forming the chemical bond include a vinyl group, (meth) acryloyl group, silane group, silanol group, carboxyl group, amino group, ammonium group, nitro group, hydroxyl group, carbonyl group, thiol group, sulfonic acid group, , A boric acid group, an oxazoline group, a pyrrolidone group, a phosphoric acid group and a nitrile group. Among them, a vinyl group and a (meth) acryloyl group are preferable.

제1 절연성 입자의 탈리를 한층 더 억제하고, 접속 구조체에 있어서의 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제1 절연성 입자로서, 반응성 관능기를 표면에 갖는 절연성 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 절연성 입자의 탈리를 한층 더 억제하고, 접속 구조체에 있어서의 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제1 절연성 입자로서, 반응성 관능기를 갖는 화합물을 사용하여 표면 처리된 제1 절연성 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제2 절연성 입자로서, 반응성 관능기를 표면에 갖는 절연성 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 절연 신뢰성을 한층 더 높이는 관점에서는, 상기 제2 절연성 입자로서, 반응성 관능기를 갖는 화합물을 사용하여 표면 처리된 제2 절연성 입자를 사용하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of further suppressing the desorption of the first insulating particles and further enhancing the insulation reliability in the connecting structure, it is preferable to use insulating particles having a reactive functional group on the surface thereof as the first insulating particles. From the viewpoint of further suppressing the desorption of the insulating particles and further enhancing the insulation reliability in the connecting structure, it is preferable to use the first insulating particles surface-treated with the compound having a reactive functional group as the first insulating particles desirable. From the viewpoint of further enhancing insulation reliability, it is preferable to use insulating particles having a reactive functional group on the surface thereof as the second insulating particles. From the viewpoint of further improving the insulation reliability, it is preferable to use the second insulating particles surface-treated with the compound having a reactive functional group as the second insulating particles.

상기 제1, 제2 절연성 입자의 표면에 도입 가능한 상기 반응성 관능기로서는, (메트)아크릴로일기, 글리시딜기, 수산기, 비닐기 및 아미노기 등을 들 수 있다. 상기 제1, 제2 절연성 입자가 표면에 갖는 상기 반응성 관능기는, (메트)아크릴로일기, 글리시딜기, 수산기, 비닐기 및 아미노기로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 반응성 관능기인 것이 바람직하다.Examples of the reactive functional group that can be introduced into the surface of the first and second insulating particles include a (meth) acryloyl group, a glycidyl group, a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. The reactive functional group of the first and second insulating particles on the surface is preferably at least one reactive functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a glycidyl group, a hydroxyl group, a vinyl group and an amino group.

상기 반응성 관능기를 도입하기 위한 화합물(표면 처리 물질)로서는, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 에폭시기를 갖는 화합물 및 비닐기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the compound (surface treatment substance) for introducing the reactive functional group include a compound having a (meth) acryloyl group, a compound having an epoxy group, and a compound having a vinyl group.

비닐기를 도입하기 위한 화합물(표면 처리 물질)로서는, 비닐기를 갖는 실란 화합물, 비닐기를 갖는 티타늄 화합물 및 비닐기를 갖는 인산 화합물 등을 들 수 있다. 상기 표면 처리 물질은, 비닐기를 갖는 실란 화합물인 것이 바람직하다. 상기 비닐기를 갖는 실란 화합물로서는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리아세톡시실란 및 비닐트리이소프로폭시실란 등을 들 수 있다.Examples of the compound (surface treatment substance) for introducing a vinyl group include a silane compound having a vinyl group, a titanium compound having a vinyl group, and a phosphoric acid compound having a vinyl group. The surface treatment material is preferably a silane compound having a vinyl group. Examples of the silane compound having a vinyl group include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and vinyltriisopropoxysilane.

(메트)아크릴로일기를 도입하기 위한 화합물(표면 처리 물질)로서는, (메트)아크릴로일기를 갖는 실란 화합물 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 티타늄 화합물 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 인산 화합물 등을 들 수 있다. 상기 표면 처리 물질은, (메트)아크릴로일기를 갖는 실란 화합물인 것도 바람직하다. 상기 (메트)아크릴로일기를 갖는 실란 화합물로서는, (메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, (메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란 및 (메트)아크릴옥시프로필트리디메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the compound (surface treatment substance) for introducing a (meth) acryloyl group include a silane compound having a (meth) acryloyl group, a titanium compound having a (meth) acryloyl group, and a phosphate compound having a (meth) acryloyl group And the like. It is also preferable that the surface treatment substance is a silane compound having a (meth) acryloyl group. Examples of the silane compound having a (meth) acryloyl group include (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane .

상기 도전성 입자 및 상기 도전부의 표면에 제1, 제2 절연성 입자를 부착시키는 방법으로서는, 화학적 방법 및 물리적 또는 기계적 방법 등을 들 수 있다. 상기 화학적 방법으로서는, 예를 들어 계면 중합법, 입자 존재 하에서의 현탁 중합법 및 유화 중합법 등을 들 수 있다. 상기 물리적 또는 기계적 방법으로서는, 스프레이 드라이, 하이브리다이제이션법, 정전 부착법, 분무법, 딥핑 및 진공 증착에 의한 방법 등을 들 수 있다. 단, 하이브리다이제이션법에서는, 제1, 제2 절연성 입자의 탈리가 발생하기 쉬워지는 경향이 있으므로, 상기 제1, 제2 절연성 입자를 배치하는 방법은 하이브리다이제이션법 이외의 방법인 것이 바람직하다. 제1 절연성 입자는, 도전성 입자의 표면 상에, 하이브리다이제이션법에 의해 배치되어 있지 않은 것이 바람직하다. 제2 절연성 입자는, 도전성 입자의 표면 상에, 하이브리다이제이션법에 의해 배치되어 있지 않은 것이 바람직하다. 제1 절연성 입자가 한층 더 탈리되기 어려워지기 때문에, 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해 제1 절연성 입자를 배치하는 방법이 바람직하다. 제2 절연성 입자가 한층 더 탈리되기 어려워지기 때문에, 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해 제2 절연성 입자를 배치하는 방법이 바람직하다.Examples of a method for attaching the first and second insulating particles to the surfaces of the conductive particles and the conductive portion include a chemical method and a physical or mechanical method. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, and an emulsion polymerization method. Examples of the physical or mechanical method include spray drying, hybridization, electrostatic deposition, spraying, dipping and vacuum deposition. However, in the hybridization method, since the first and second insulating particles tend to be easily removed, the method of disposing the first and second insulating particles is preferably a method other than the hybridization method . It is preferable that the first insulating particles are not disposed on the surface of the conductive particles by a hybridization method. It is preferable that the second insulating particles are not disposed on the surface of the conductive particles by the hybridization method. A method of disposing the first insulating particles through chemical bonding on the surface of the conductive particles is preferable because the first insulating particles become more difficult to be desorbed. A method of disposing the second insulating particles on the surface of the conductive particles through chemical bonding is preferable because the second insulating particles are more difficult to be desorbed.

상기 도전성 입자의 표면 및 상기 도전부의 표면에 제1, 제2 절연성 입자를 부착시키는 방법의 일례로서는, 이하의 방법을 들 수 있다.Examples of a method for attaching the first and second insulating particles to the surfaces of the conductive particles and the surface of the conductive portion include the following methods.

우선, 물 등의 용매 3L 중에, 도전성 입자를 넣고, 교반하면서, 제1, 제2 절연성 입자를 서서히 첨가한다. 충분히 교반한 후, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 분리하고, 진공 건조기 등에 의해 건조시켜, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 얻는다.First, conductive particles are put into 3 L of a solvent such as water, and the first and second insulating particles are gradually added while stirring. After sufficiently stirring, the insulating particle-adhering conductive particles are separated and dried by a vacuum drier or the like to obtain conductive particles with insulating particles.

상기 도전부는 표면에, 상기 제1 절연성 입자와 반응 가능한 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 제1 절연성 입자는 표면에, 도전부와 반응 가능한 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 이 반응성 관능기에 의해 화학 결합을 도입함으로써, 도전성 입자의 표면으로부터 제1 절연성 입자가 의도치 않게 탈리되기 어려워진다. 또한, 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성이 한층 더 높아진다. 상기 도전부는 표면에, 상기 제2 절연성 입자와 반응 가능한 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 제2 절연성 입자는 표면에, 도전부와 반응 가능한 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 이 반응성 관능기에 의해 화학 결합을 도입함으로써, 도전성 입자의 표면으로부터 제2 절연성 입자가 의도치 않게 탈리되기 어려워진다. 또한, 절연 신뢰성 및 충격에 대한 절연 신뢰성이 한층 더 높아진다.It is preferable that the conductive part has a reactive functional group capable of reacting with the first insulating particles on the surface. It is preferable that the first insulating particles have a reactive functional group capable of reacting with the conductive portion on the surface. By introducing the chemical bond by the reactive functional group, the first insulating particles are unlikely to be desorbed from the surfaces of the conductive particles unintentionally. In addition, insulation reliability and insulation reliability against impact are further increased. It is preferable that the conductive portion has a reactive functional group capable of reacting with the second insulating particles on the surface. It is preferable that the second insulating particles have a reactive functional group capable of reacting with the conductive portion on the surface. By introducing the chemical bond by this reactive functional group, the second insulating particles are unlikely to be desorbed from the surface of the conductive particles unintentionally. In addition, insulation reliability and insulation reliability against impact are further increased.

상기 반응성 관능기로서, 반응성을 고려하여 적당한 기가 선택된다. 상기 반응성 관능기로서는, 수산기, 비닐기 및 아미노기 등을 들 수 있다. 반응성이 우수하므로, 상기 반응성 관능기는 수산기인 것이 바람직하다. 상기 도전성 입자는 표면에 수산기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 도전부는 표면에 수산기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 절연성 입자는 표면에 수산기를 갖는 것이 바람직하다.As the reactive functional group, a suitable group is selected in consideration of reactivity. Examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. Since the reactivity is excellent, the reactive functional group is preferably a hydroxyl group. The conductive particles preferably have a hydroxyl group on their surface. The conductive portion preferably has a hydroxyl group on its surface. It is preferable that the insulating particles have a hydroxyl group on their surface.

절연성 입자의 표면과 도전성 입자의 표면에 수산기가 있는 경우에는, 탈수 반응에 의해 제1, 제2 절연성 입자와 도전성 입자와의 부착력이 적절하게 높아진다.When there is a hydroxyl group on the surface of the insulating particles and on the surface of the conductive particles, the adhesion between the first and second insulating particles and the conductive particles is suitably increased by the dehydration reaction.

상기 수산기를 갖는 화합물로서는, P-OH기 함유 화합물 및 Si-OH기 함유 화합물 등을 들 수 있다. 절연성 입자의 표면에 수산기를 도입하기 위한 수산기를 갖는 화합물로서는, P-OH기 함유 화합물 및 Si-OH기 함유 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the compound having a hydroxyl group include a P-OH group-containing compound and a Si-OH group-containing compound. Examples of the compound having a hydroxyl group for introducing a hydroxyl group to the surface of the insulating particles include a P-OH group-containing compound and a Si-OH group-containing compound.

상기 P-OH기 함유 화합물의 구체예로서는, 애시드포스포옥시에틸메타크릴레이트, 애시드포스포옥시프로필메타크릴레이트, 애시드포스포옥시폴리옥시에틸렌글리콜 모노메타크릴레이트 및 애시드포스포옥시폴리옥시프로필렌글리콜 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 P-OH기 함유 화합물은 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.Specific examples of the P-OH group-containing compound include acid phosphoxyethyl methacrylate, acid phosphoxypropyl methacrylate, acid phosphoxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, and acid phosphoxypolyoxypropylene glycol Monomethacrylate, and the like. The P-OH group-containing compound may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

상기 Si-OH기 함유 화합물의 구체예로서는, 비닐트리히드록시실란 및 3-메타크릴옥시프로필트리히드록시실란 등을 들 수 있다. 상기 Si-OH기 함유 화합물은 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.Specific examples of the Si-OH group-containing compound include vinyl trihydroxysilane and 3-methacryloxypropyl trihydroxysilane. The Si-OH group-containing compound may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

예를 들어, 수산기를 표면에 갖는 절연성 입자는, 실란 커플링제를 사용한 처리에 의해 얻을 수 있다. 상기 실란 커플링제로서는, 예를 들어 히드록시트리메톡시실란 등을 들 수 있다.For example, the insulating particles having a hydroxyl group on the surface can be obtained by a treatment using a silane coupling agent. As the silane coupling agent, for example, hydroxytrimethoxysilane and the like can be given.

(도전 재료)(Conductive material)

본 발명에 따른 도전 재료는, 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자와, 바인더 수지를 포함한다. 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자를 바인더 수지 중에 분산시킬 때는, 도전성 입자의 표면으로부터 제1, 제2 절연성 입자가 탈리되기 어렵다. 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자는, 바인더 수지 중에 분산되고, 도전 재료로서 사용할 수 있는 것이 바람직하다. 상기 도전 재료는, 이방성 도전 재료인 것이 바람직하다.The conductive material according to the present invention includes the insulating particle-adhering conductive particles according to the present invention and a binder resin. When dispersing the conductive particle with insulating particles according to the present invention in the binder resin, it is difficult for the first and second insulating particles to separate from the surface of the conductive particle. The conductive particle with insulating particle according to the present invention is preferably dispersed in a binder resin and can be used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material.

상기 바인더 수지는 특별히 한정되지 않는다. 상기 바인더 수지로서는, 일반적으로는 절연성의 수지가 사용된다. 상기 바인더 수지로서는, 예를 들어 비닐 수지, 열가소성 수지, 경화성 수지, 열가소성 블록 공중합체 및 엘라스토머 등을 들 수 있다. 상기 바인더 수지는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.The binder resin is not particularly limited. As the binder resin, an insulating resin is generally used. Examples of the binder resin include a vinyl resin, a thermoplastic resin, a curable resin, a thermoplastic block copolymer and an elastomer. The binder resin may be used alone or in combination of two or more.

상기 비닐 수지로서는, 예를 들어 아세트산비닐 수지, 아크릴 수지 및 스티렌 수지 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지로서는, 예를 들어 폴리올레핀 수지, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체 및 폴리아미드 수지 등을 들 수 있다. 상기 경화성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리이미드 수지 및 불포화 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다. 또한, 상기 경화성 수지는, 상온 경화형 수지, 열경화형 수지, 광경화형 수지 또는 습기 경화형 수지이어도 된다. 상기 경화성 수지는 경화제와 병용되어도 된다. 상기 열가소성 블록 공중합체로서는, 예를 들어 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물 및 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 상기 엘라스토머로서는, 예를 들어 스티렌-부타디엔 공중합 고무 및 아크릴로니트릴-스티렌 블록 공중합 고무 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include a polyolefin resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer and a polyamide resin. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photo-curable resin or a moisture-curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer and a hydrogenated product of a styrene- Additives and the like. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

상기 도전 재료는, 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자 및 상기 바인더 수지 이외에, 예를 들어 충전제, 증량제, 연화제, 가소제, 중합 촉매, 경화 촉매, 착색제, 산화 방지제, 열 안정제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 활제, 대전 방지제 및 난연제 등의 각종 첨가제를 포함하고 있어도 된다.The conductive material may contain, in addition to the insulating particle-containing conductive particles and the binder resin, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, An antistatic agent and a flame retardant.

상기 바인더 수지 중에 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자를 분산시키는 방법은, 종래 공지된 분산 방법을 사용할 수 있고 특별히 한정되지 않는다. 바인더 수지 중에 절연성 입자 부착 도전성 입자를 분산시키는 방법으로서는, 예를 들어 바인더 수지 중에 절연성 입자 부착 도전성 입자를 첨가한 후, 플라너터리 믹서 등으로 혼련하여 분산시키는 방법, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 물 또는 유기 용제 중에 호모게나이저 등을 사용하여 균일하게 분산시킨 후, 바인더 수지 중에 첨가하고, 플라너터리 믹서 등으로 혼련하여 분산시키는 방법, 및 바인더 수지를 물 또는 유기 용제 등으로 희석한 후, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 첨가하고, 플라너터리 믹서 등으로 혼련하여 분산시키는 방법 등을 들 수 있다.As a method for dispersing the insulating particle-adhering conductive particles in the binder resin, conventionally known dispersion methods can be used, and there is no particular limitation. Examples of the method for dispersing the insulating particle-adhering conductive particles in the binder resin include a method of adding the insulating particle-adhered conductive particles to the binder resin and then kneading and dispersing the mixture with a planer mixer or the like; A method of homogeneously dispersing in an organic solvent using a homogenizer or the like and then adding it to the binder resin and kneading the mixture with a planer mixer or the like and a method of diluting the binder resin with water or an organic solvent, A method in which the conductive particles are added and kneaded by a planetary mixer or the like to disperse the particles.

본 발명에 따른 도전 재료는, 도전 페이스트 및 도전 필름 등으로서 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 도전 재료가 도전 필름인 경우에는, 도전성 입자를 포함하는 도전 필름에 도전성 입자를 포함하지 않는 필름이 적층되어 있어도 된다. 상기 도전 페이스트는 이방성 도전 페이스트인 것이 바람직하다. 상기 도전 필름은 이방성 도전 필름인 것이 바람직하다.The conductive material according to the present invention can be used as a conductive paste and a conductive film. When the conductive material according to the present invention is a conductive film, a film not containing conductive particles may be laminated on the conductive film containing conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

본 발명에 따른 도전 재료는 도전 페이스트인 것이 바람직하다. 도전 페이스트는 취급성 및 회로 충전성이 우수하다. 도전 페이스트를 얻을 때에는 절연성 입자 부착 도전성 입자에 비교적 큰 힘이 부여되지만, 상기 제2 절연성 입자의 존재에 의해 도전성 입자의 표면으로부터 절연성 입자가 탈리되는 것을 억제할 수 있다.The conductive material according to the present invention is preferably a conductive paste. The conductive paste is excellent in handling property and circuit filling property. When a conductive paste is obtained, a relatively large force is applied to the conductive particles with insulating particles, but it is possible to prevent the insulating particles from being separated from the surface of the conductive particles by the presence of the second insulating particles.

상기 도전 재료 100중량% 중, 상기 바인더 수지의 함유량은 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 30중량% 이상, 더욱 바람직하게는 50중량% 이상, 특히 바람직하게는 70중량% 이상, 바람직하게는 99.99중량% 이하, 보다 바람직하게는 99.9중량% 이하이다. 바인더 수지의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전극간에 절연성 입자 부착 도전성 입자가 효율적으로 배치되고, 도전 재료에 의해 접속된 접속 대상 부재의 도통 신뢰성이 한층 더 높아진다.The content of the binder resin in 100 wt% of the conductive material is preferably 10 wt% or more, more preferably 30 wt% or more, still more preferably 50 wt% or more, particularly preferably 70 wt% Is 99.99% by weight or less, and more preferably 99.9% by weight or less. When the content of the binder resin is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the insulating particle-adhering conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the conduction reliability of the member to be connected connected by the conductive material is further enhanced.

상기 도전 재료 100중량% 중, 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자의 함유량은 바람직하게는 0.01중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1중량% 이상, 바람직하게는 40중량% 이하, 보다 바람직하게는 20중량% 이하, 더욱 바람직하게는 15중량% 이하이다. 절연성 입자 부착 도전성 입자의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전극간의 도통 신뢰성이 한층 더 높아진다.The content of the insulating particle-adhering conductive particles in 100 wt% of the conductive material is preferably at least 0.01 wt%, more preferably at least 0.1 wt%, preferably at most 40 wt%, more preferably at most 20 wt% By weight, more preferably not more than 15% by weight. When the content of the insulating particle-adhering conductive particles is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the reliability of the conduction between the electrodes is further increased.

(접속 구조체)(Connection structure)

상술한 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용하거나, 또는 그 절연성 입자 부착 도전성 입자와 바인더 수지를 포함하는 도전 재료를 사용하여, 접속 대상 부재를 접속함으로써, 접속 구조체를 얻을 수 있다.The connecting structure can be obtained by using the above-mentioned insulating particle-attached conductive particles or by connecting a member to be connected by using a conductive material containing the insulating particle-attached conductive particles and a binder resin.

상기 접속 구조체는, 제1 접속 대상 부재와, 제2 접속 대상 부재와, 제1 접속 대상 부재와 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비하고, 그 접속부가 상술한 절연성 입자 부착 도전성 입자에 의해 형성되어 있거나, 또는 그 절연성 입자 부착 도전성 입자와 바인더 수지를 포함하는 도전 재료(이방성 도전 재료 등)에 의해 형성되어 있는 접속 구조체인 것이 바람직하다. 상기 제1 접속 대상 부재는 표면에 제1 전극을 갖는 것이 바람직하다. 상기 제2 접속 대상 부재는 표면에 제2 전극을 갖는 것이 바람직하다. 상기 제1 전극과 상기 제2 전극이, 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 상기 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되어 있는 것이 바람직하다. 상술한 절연성 입자 부착 도전성 입자를 사용한 경우에는, 접속부 자체가 절연성 입자 부착 도전성 입자에 의해 형성된다. 즉, 제1, 제2 접속 대상 부재가 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속된다.The connection structure includes a first connection object member, a second connection object member, and a connection portion connecting the first connection object member and the second connection object member, and the connection portion is connected to the above- , Or a connection structure formed by a conductive material (anisotropic conductive material or the like) including the insulating particle-attached conductive particles and a binder resin. The first connection target member preferably has a first electrode on its surface. The second connection target member preferably has a second electrode on its surface. It is preferable that the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the insulating particle-attached conductive particle. In the case of using the above-described insulating particle-adhering conductive particles, the connection itself is formed by the insulating particle-attached conductive particles. That is, the first and second connection target members are electrically connected by the conductive particles in the insulating particle-attached conductive particles.

도 4는, 도 1에 도시하는 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)를 사용한 접속 구조체를 모식적으로 도시하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically showing a connection structure using the insulating particle-adhering conductive particles 1 shown in Fig.

도 4에 도시하는 접속 구조체(81)는, 제1 접속 대상 부재(82)와, 제2 접속 대상 부재(83)와, 제1 접속 대상 부재(82)와 제2 접속 대상 부재(83)를 접속하고 있는 접속부(84)를 구비한다. 접속부(84)는, 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)와 바인더 수지를 포함하는 도전 재료에 의해 형성되어 있다. 도 4에서는, 도시의 편의상, 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)는 개략적으로 도시되어 있다. 절연성 입자 부착 도전성 입자(1) 대신에, 절연성 입자 부착 도전성 입자(21, 31)를 사용해도 된다.The connection structure 81 shown in Fig. 4 has the first connection target member 82, the second connection target member 83, the first connection target member 82 and the second connection target member 83 And a connecting portion 84 connected thereto. The connecting portion 84 is formed of a conductive material including the insulating particle-attached conductive particles 1 and a binder resin. In Fig. 4, for convenience of illustration, the insulating particle-adhering conductive particles 1 are schematically shown. Instead of the insulating particle-attached conductive particles 1, the insulating particle-attached conductive particles 21 and 31 may be used.

제1 접속 대상 부재(82)는 표면(상면)에 복수의 제1 전극(82a)을 갖는다. 제2 접속 대상 부재(83)는 표면(하면)에 복수의 제2 전극(83a)을 갖는다. 제1 전극(82a)과 제2 전극(83a)이 하나 또는 복수의 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)에 있어서의 도전성 입자(2)에 의해 전기적으로 접속되어 있다. 따라서, 제1, 제2 접속 대상 부재(82, 83)가 절연성 입자 부착 도전성 입자(1)에 있어서의 도전성 입자(2)에 의해 전기적으로 접속되어 있다.The first connection target member 82 has a plurality of first electrodes 82a on its surface (upper surface). The second connection target member 83 has a plurality of second electrodes 83a on its front surface (lower surface). The first electrode 82a and the second electrode 83a are electrically connected to each other by the conductive particles 2 in one or a plurality of the insulating particle attachment conductive particles 1. [ Therefore, the first and second connection target members 82 and 83 are electrically connected by the conductive particles 2 in the insulating particle-adhering conductive particles 1.

상기 접속 구조체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 접속 구조체의 제조 방법의 일례로서, 제1 접속 대상 부재와 제2 접속 대상 부재 사이에 상기 도전 재료를 배치하고, 적층체를 얻은 후, 그 적층체를 가열 및 가압하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 가압 압력은 9.8×104 내지 4.9×106Pa 정도이다. 상기 가열 온도는 120 내지 220℃ 정도이다.The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of the manufacturing method of the connection structure, there can be mentioned a method of arranging the conductive material between the first connection target member and the second connection target member, obtaining a laminate, heating and pressing the laminate, and the like. The pressing pressure is about 9.8 × 10 4 to 4.9 × 10 6 Pa. The heating temperature is about 120 to 220 占 폚.

상기 적층체를 가열 및 가압할 때에 도전성 입자(2)와 제1, 제2 전극(82a, 83a) 사이에 존재하고 있던 제1, 제2 절연성 입자(3, 4)를 배제할 수 있다. 예를 들어, 상기 가열 및 가압 시에는, 도전성 입자(2)와 제1, 제2 전극(82a, 83a) 사이에 존재하고 있던 제1, 제2 절연성 입자(3, 4)가 용융되거나, 변형되거나 해서, 도전성 입자(2)의 표면이 부분적으로 노출된다. 또한, 상기 가열 및 가압 시에는 큰 힘이 부여되므로, 도전성 입자(2)의 표면으로부터 일부의 제1, 제2 절연성 입자(3, 4)가 탈리되고, 도전성 입자(2)의 표면이 부분적으로 노출되기도 한다. 도전성 입자(2)의 표면이 노출된 부분이 제1, 제2 전극(82a, 83a)에 접촉함으로써, 도전성 입자(2)를 통해 제1, 제2 전극(82a, 83a)을 전기적으로 접속할 수 있다.The first and second insulating particles 3 and 4 existing between the conductive particles 2 and the first and second electrodes 82a and 83a can be excluded when heating and pressing the laminate. The first and second insulating particles 3 and 4 existing between the conductive particles 2 and the first and second electrodes 82a and 83a are melted or deformed when heated and pressed, The surface of the conductive particles 2 is partially exposed. Part of the first and second insulating particles 3 and 4 are desorbed from the surface of the conductive particles 2 and the surface of the conductive particles 2 is partially removed from the surface of the conductive particles 2. [ It is also exposed. The first and second electrodes 82a and 83a can be electrically connected to each other through the conductive particles 2 by contacting the exposed portions of the surfaces of the conductive particles 2 with the first and second electrodes 82a and 83a have.

상기 접속 대상 부재로서는, 구체적으로는 반도체 칩, 콘덴서 및 다이오드 등의 전자 부품, 및 프린트 기판, 플렉시블 프린트 기판, 유리에폭시 기판 및 유리 기판 등의 회로 기판 등의 전자 부품 등을 들 수 있다. 상기 도전 재료는 페이스트상이며, 페이스트 상태에서 접속 대상 부재 상에 도포되는 것이 바람직하다. 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자 및 도전 재료는, 전자 부품인 접속 대상 부재의 접속에 사용되는 것이 바람직하다. 상기 접속 대상 부재는 전자 부품인 것이 바람직하다. 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자는, 전자 부품에 있어서의 전극의 전기적인 접속에 사용되는 것이 바람직하다.Specifically, examples of the member to be connected include electronic parts such as a semiconductor chip, a capacitor and a diode, and electronic parts such as a printed circuit board, a flexible printed circuit board, a glass epoxy substrate and a circuit board such as a glass substrate. It is preferable that the conductive material is a paste and is applied on the member to be connected in a paste state. It is preferable that the insulating particle-adhering conductive particles and the conductive material are used for connection of the member to be connected which is an electronic part. The connection target member is preferably an electronic component. The insulating particle-adhering conductive particles are preferably used for electrical connection of electrodes in an electronic component.

본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자는, 특히 유리 기판과 반도체 칩을 접속 대상 부재로 하는 COG, 또는 유리 기판과 플렉시블 프린트 기판(FPC)을 접속 대상 부재로 하는 FOG에 적절하게 사용된다. 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자는, COG에 사용되어도 되고, FOG에 사용되어도 된다. 본 발명에 따른 접속 구조체에서는, 상기 제1, 제2 접속 대상 부재가, 유리 기판과 반도체 칩이거나, 또는 유리 기판과 플렉시블 프린트 기판인 것이 바람직하다. 상기 제1, 제2 접속 대상 부재는 유리 기판과 반도체 칩이어도 되고, 유리 기판과 플렉시블 프린트 기판이어도 된다.The conductive particle with insulating particles according to the present invention is suitably used for FOG, in particular, a COG using a glass substrate and a semiconductor chip as members to be connected, or a FOG using a glass substrate and a flexible printed substrate (FPC) as members to be connected. The conductive particle with insulating particle according to the present invention may be used for COG or FOG. In the connection structure according to the present invention, it is preferable that the first and second connection target members are a glass substrate and a semiconductor chip, or a glass substrate and a flexible printed substrate. The first and second connection target members may be a glass substrate and a semiconductor chip, or may be a glass substrate and a flexible printed substrate.

유리 기판과 반도체 칩을 접속 대상 부재로 하는 COG에서 사용되는 반도체 칩에는, 범프가 설치되어 있는 것이 바람직하다. 그 범프 사이즈는 1000㎛2 이상 10000㎛2 이하의 전극 면적인 것이 바람직하다. 그 범프(전극)가 설치된 반도체 칩에 있어서의 전극 스페이스는 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 이러한 COG 용도로, 본 발명에 따른 절연성 입자 부착 도전성 입자는 적절하게 사용된다. 유리 기판과 플렉시블 프린트 기판을 접속 대상 부재로 하는 FOG에서 사용되는 FPC에서는, 전극 스페이스는 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이하이다.It is preferable that the semiconductor chip used in the COG having the glass substrate and the semiconductor chip as members to be connected be provided with bumps. The bump size is preferably in the electrode area of less than 2 1000㎛ 10000㎛ 2. The electrode space in the semiconductor chip provided with the bumps (electrodes) is preferably 30 占 퐉 or less, more preferably 20 占 퐉 or less, and further preferably 10 占 퐉 or less. For such COG applications, the conductive particles with insulating particles according to the present invention are suitably used. In an FPC used in a FOG in which a glass substrate and a flexible printed circuit board are members to be connected, the electrode space is preferably 30 mu m or less, more preferably 20 mu m or less.

상기 접속 대상 부재에 설치되어 있는 전극으로서는, 금 전극, 니켈 전극, 주석 전극, 알루미늄 전극, 구리 전극, 몰리브덴 전극 및 텅스텐 전극 등의 금속 전극을 들 수 있다. 상기 접속 대상 부재가 플렉시블 프린트 기판일 경우에는, 상기 전극은 금 전극, 니켈 전극, 주석 전극 또는 구리 전극인 것이 바람직하다. 상기 접속 대상 부재가 유리 기판일 경우에는, 상기 전극은 알루미늄 전극, 구리 전극, 몰리브덴 전극 또는 텅스텐 전극인 것이 바람직하다. 또한, 상기 전극이 알루미늄 전극일 경우에는, 알루미늄만으로 형성된 전극이어도 되고, 금속 산화물층의 표면에 알루미늄층이 적층된 전극이어도 된다. 상기 금속 산화물층의 재료로서는, 3가의 금속 원소가 도핑된 산화인듐 및 3가의 금속 원소가 도핑된 산화아연 등을 들 수 있다. 상기 3가의 금속 원소로서는 Sn, Al 및 Ga 등을 들 수 있다.Examples of the electrode provided on the member to be connected include a metal electrode such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection target member is a flexible printed circuit board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. When the electrode is an aluminum electrode, it may be an electrode formed only of aluminum, or an electrode in which an aluminum layer is laminated on the surface of the metal oxide layer. Examples of the material of the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al and Ga.

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예에만 한정되지는 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

(실시예 1)(Example 1)

(무전해 도금 전처리 공정)(Electroless plating pretreatment step)

테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트와 디비닐벤젠과의 공중합 수지에 의해 형성된 수지 입자(평균 입자 직경 3㎛) 10g에 대해서, 수산화나트륨 수용액에 의한 알칼리 탈지, 산 중화, 2염화주석 용액에 있어서의 센서타이징을 행하였다.10 g of the resin particles (average particle diameter 3 탆) formed by the copolymer resin of tetramethylolmethane tetraacrylate and divinylbenzene were subjected to alkali degreasing with an aqueous solution of sodium hydroxide, acid neutralization, a sensor in a tin dichloride solution Ting was performed.

상기 수지 입자를 이온 흡착제에 의해 5분간 처리하고, 다음으로 황산팔라듐 수용액에 첨가하였다. 그 후, 디메틸아민보란을 첨가하여 환원 처리하고, 여과하고, 세정함으로써, 팔라듐이 부착된 수지 입자를 얻었다.The resin particles were treated with an ion adsorbing agent for 5 minutes and then added to an aqueous palladium sulfate solution. Thereafter, dimethylamine borane was added, followed by reduction treatment, filtration, and washing, whereby resin particles having palladium attached thereto were obtained.

(코어 물질 복합화 공정)(Core material compounding process)

팔라듐 촉매가 부여된 수지 입자 10g을 이온 교환수 300mL에 분산시켜, 분산액을 제작하였다. 분산액에 금속 니켈 입자(평균 입자 직경 50㎚) 1g을 3분간에 걸쳐서 첨가하고, 금속 니켈 입자가 부착된 수지 입자를 제작하였다.10 g of the resin particles to which the palladium catalyst was added were dispersed in 300 ml of ion-exchanged water to prepare a dispersion. 1 g of metallic nickel particles (average particle diameter 50 nm) was added to the dispersion over 3 minutes to prepare resin particles having metallic nickel particles adhered thereto.

(무전해 니켈 도금 공정)(Electroless nickel plating process)

이어서, 이온 교환수 500mL에 숙신산나트륨을 용해시킨 숙신산나트륨 1중량% 용액을 제조하였다. 이 용액에 금속 니켈 입자와 팔라듐이 부착된 수지 입자 10g을 추가하고, 혼합하여, 슬러리를 제조하였다. 슬러리에 황산을 첨가하고, 슬러리의 pH를 5로 조정하였다.Subsequently, a 1 wt% solution of sodium succinate in which sodium succinate was dissolved in 500 mL of ion-exchanged water was prepared. To this solution, 10 g of metallic nickel particles and resin particles having palladium attached thereto were added and mixed to prepare a slurry. Sulfuric acid was added to the slurry and the pH of the slurry was adjusted to 5.

니켈 도금액으로서, 황산니켈 10중량%, 차아인산나트륨 10중량%, 수산화나트륨 4중량% 및 숙신산나트륨 20중량%를 포함하는 전기 니켈 도금 용액을 제조하였다. pH5로 조정된 상기 슬러리를 80℃로 가온한 후, 슬러리에 전기 니켈 도금 용액을 연속적으로 적하하고, 20분간 교반함으로써 도금 반응을 진행시켰다. 수소가 발생하지 않게 된 것을 확인하고, 도금 반응을 종료하였다.An electrolytic nickel plating solution containing 10% by weight of nickel sulfate, 10% by weight of sodium hypophosphite, 4% by weight of sodium hydroxide and 20% by weight of sodium succinate was prepared as a nickel plating solution. After the slurry adjusted to pH 5 was heated to 80 ° C, an electroplating solution was continuously dropped into the slurry and stirred for 20 minutes to proceed the plating reaction. It was confirmed that no hydrogen was generated, and the plating reaction was terminated.

이어서, 황산니켈 20중량%, 디메틸아민보란 5중량% 및 수산화나트륨 5중량%를 포함하는 후기 니켈 도금 용액을 제조하였다. 전기 니켈 도금 용액에 의한 도금 반응을 종료한 용액에, 후기 니켈 도금액을 연속적으로 적하하고, 1시간 교반함으로써 도금 반응을 진행시켰다. 이와 같이 하여, 수지 입자의 표면에 니켈층을 형성하고, 도전성 입자 A를 얻었다. 또한, 니켈층의 두께는 0.1㎛이었다.Subsequently, a late nickel plating solution containing 20% by weight of nickel sulfate, 5% by weight of dimethylamine borane and 5% by weight of sodium hydroxide was prepared. To the solution in which the plating reaction by the electric nickel plating solution was completed, the later nickel plating solution was continuously added dropwise and stirred for 1 hour to proceed the plating reaction. Thus, a nickel layer was formed on the surface of the resin particles to obtain conductive particles A. The thickness of the nickel layer was 0.1 mu m.

(절연성 입자의 제작 공정)(Manufacturing process of insulating particles)

4구 세퍼러블 커버, 교반 날개, 삼방 코크, 냉각관 및 온도 프로브를 설치한 1000mL 세퍼러블 플라스크에, 메타크릴산글리시딜 45mmol, 메타크릴산메틸 380mmol, 디메타크릴산에틸렌글리콜 13mmol, 애시드포스포옥시폴리옥시에틸렌글리콜메타크릴레이트 0.5mmol 및 2,2'-아조비스{2-[N-(2-카르복시에틸)아미디노]프로판} 1mmol을 포함하는 단량체 조성물을 넣었다. 그 단량체 조성물을 고형분이 10중량%로 되도록 증류수를 첨가한 후, 150rpm으로 교반하고, 질소 분위기 하 60℃에서 24시간 중합을 행하였다. 반응 종료 후, 동결 건조하고, 애시드포스포옥시폴리옥시에틸렌글리콜메타크릴레이트에서 유래되는 P-OH기를 표면에 갖는 제1 절연성 입자(평균 입자 직경 400㎚)를 얻었다.In a 1000 mL separable flask equipped with a four-neck separable cover, a stirring blade, a three-way cock, a cooling tube and a temperature probe, 45 mmol of glycidyl methacrylate, 380 mmol of methyl methacrylate, 13 mmol of dimethacrylic acid ethylene glycol, 0.5 mmol of polyoxyethylene glycol methacrylate, and 1 mmol of 2,2'-azobis {2- [N- (2-carboxyethyl) amidino] propane}. Distilled water was added to the monomer composition so that the solid content became 10% by weight, and the mixture was stirred at 150 rpm, and polymerization was carried out at 60 캜 for 24 hours under a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the resultant was lyophilized to obtain first insulating particles (average particle diameter: 400 nm) having a P-OH group derived from acid phosphoxypolyoxyethylene glycol methacrylate on its surface.

또한, 상기한 교반 속도를 300rpm, 중합 온도를 80℃로 변경한 것 이외는 마찬가지의 방법으로, 제2 절연성 입자(평균 입자 직경 180㎚)를 얻었다.Further, second insulating particles (average particle diameter 180 nm) were obtained in the same manner as above except that the stirring speed was changed to 300 rpm and the polymerization temperature was changed to 80 캜.

(절연성 입자 부착 도전성 입자의 제작 공정)(Manufacturing process of conductive particles with insulating particles)

상기에서 얻어진 절연성 입자를 각각 초음파 조사 하에서 증류수에 분산시키고, 절연성 입자의 10중량% 수분산액을 얻었다. 얻어진 도전성 입자 A 10g을 증류수 500mL에 분산시키고, 제1 절연성 입자의 수분산액 3g을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반하였다. 또한 제2 절연성 입자의 수분산액 2g을 첨가하고, 실온에서 6시간 교반하였다. 3㎛의 메쉬 필터로 여과한 후, 메탄올로 더 세정하고, 건조시켜, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 얻었다.The insulating particles obtained above were each dispersed in distilled water under ultrasonic irradiation to obtain a 10 wt% aqueous dispersion of insulating particles. 10 g of the obtained conductive particle A was dispersed in 500 mL of distilled water, 3 g of the aqueous dispersion of the first insulating particles was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Further, 2 g of the aqueous dispersion of the second insulating particles was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. The mixture was filtered with a 3 탆 mesh filter, and further washed with methanol, followed by drying to obtain conductive particles with insulating particles.

주사형 전자 현미경(SEM)에 의해 관찰한 바, 절연성 입자 부착 도전성 입자는, 돌기를 갖는 도전성 입자의 표면에 절연성 입자에 의한 피복층이 형성되어 있었다.As observed by a scanning electron microscope (SEM), the insulating particle-adhering conductive particles had a coating layer formed of insulating particles on the surface of the conductive particles having protrusions.

(실시예 2 내지 4 및 비교예 1 내지 4)(Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4)

제1, 제2 절연성 입자의 첨가량을 하기의 표 1에 나타내는 것으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 절연성 입자 부착 도전성 입자를 얻었다.The conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the first and second insulating particles were changed to those shown in Table 1 below.

(평가)(evaluation)

(1) 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 제1, 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률 Z(1) Coverage Z, which is the total area of the portion covered by the first and second insulating particles in the entire surface area of the conductive particle

SEM에 의한 관찰에 의해, 20개의 절연성 입자 부착 도전성 입자를 관찰하였다. 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 제1, 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 투영 면적인 피복률을 구하였다. 20개의 피복률의 평균값을 피복률 Z라고 하였다.By observing with SEM, 20 pieces of insulating particle attachment conductive particles were observed. The covering ratio which is the total projected area of the portions covered by the first and second insulating particles in the entire surface area of the conductive particles was determined. The average value of 20 coverage rates was called coverage rate Z.

(2) 제2 절연성 입자의 전체 개수 중, 제1 절연성 입자에 접촉하도록 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 도전성 입자의 개수 비율 X1(2) the total number of the second insulating particles, the number ratio of the second conductive particles arranged on the surface of the conductive particles so as to be in contact with the first insulating particles X1

얻어진 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서, 제2 절연성 입자의 전체 개수 중, 도전성 입자에 접촉하도록 제1 절연성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X1(%)을 구하였다. 그 개수의 비율 X1을 하기의 기준으로 판정하였다.In the obtained insulating-particle-adhering conductive particles, the number ratio X1 (%) of the second insulating particles disposed on the surface of the first insulating particles so as to be in contact with the conductive particles among the total number of the second insulating particles was determined. And the ratio X1 of the number was determined based on the following criteria.

[제2 절연성 입자의 전체 개수 중, 제1 절연성 입자에 접촉하도록 제1 절연성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X1의 판정 기준][Determination Criteria of Number Ratio X1 of Second Insulating Particles Arranged on the Surface of First Insulating Particle to Contact First Insulating Particle Among Total Number of Second Insulating Particles]

A: 개수의 비율 X1이 50% 이상A: The ratio X1 of the number is 50% or more

B: 개수의 비율 X1이 30% 이상 50% 미만B: The ratio X1 is more than 30% and less than 50%

C: 개수의 비율 X1이 20% 이상 30% 미만C: ratio of number X1 is 20% or more and less than 30%

D: 개수의 비율 X1이 20% 미만D: ratio of number X1 is less than 20%

(3) 제2 절연성 입자의 전체 개수 중, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 도전성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 도전성 입자의 개수 비율 X3(3) The total number of the second insulating particles is set so that the number ratio of the second conductive particles X3 arranged on the surface of the conductive particles to contact the conductive particles so as not to contact the first insulating particles

얻어진 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서, 제2 절연성 입자의 전체 개수 중, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 도전성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X3(%)을 구하였다. 그 개수의 비율 X3을 하기의 기준으로 판정하였다.In the obtained insulating-particle-adhering conductive particles, the total number of the second insulating particles is set so that the number ratio of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles X 3 (%). The ratio X3 of the number was determined based on the following criteria.

[제2 절연성 입자의 전체 개수 중, 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 도전성 입자에 접촉하도록, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 개수 비율 X3의 판정 기준][Judgment Criteria of Number Ratio X3 of Second Insulating Particles Arranged on the Surface of Electrically Conductive Particles so as not to Contact the First Insulating Particles and to Contact Conductive Particles] Among the total number of the second insulating particles,

A: 개수의 비율 X3이 20% 이상 50% 미만A: The ratio X3 is 20% or more and less than 50%

B: 개수의 비율 X3이 10% 이상 20% 미만B: ratio of number X3 is 10% or more and less than 20%

C: 개수의 비율 X3이 10% 미만C: the ratio X3 is less than 10%

(4) 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1(4) The average number of the first insulating particles arranged on the surface of the conductive particles per one conductive particle Y1

얻어진 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서, 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1을 구하였다. 그 평균 개수 Y1을 하기의 기준으로 판정하였다.The average number Y1 of the first insulating particles disposed on the surface of the conductive particles per one conductive particle in the obtained insulating particle-adhered conductive particle was determined. The average number Y1 was determined based on the following criteria.

[도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1의 판정 기준][Judgment Criteria of Average Number Y1 of First Insulating Particles Arranged on the Surface of Conductive Particles per Conductive Particle]

A: 평균 개수 Y1이 10개 이상 100개 이하A: The average number Y1 is 10 or more and 100 or less

B: 평균 개수 Y1이 3개 이상 10개 미만B: Average number Y1 is 3 or more and less than 10

C: 평균 개수 Y1이 3개 미만C: Average number Y1 is less than 3

(5) 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2(5) The average number of the second insulating particles arranged on the surface of the conductive particles per one conductive particle Y2

얻어진 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서, 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2를 구하였다. 그 평균 개수 Y2를 하기의 기준으로 판정하였다.The average number Y2 of the second insulating particles arranged on the surface of the conductive particles per one conductive particle in the obtained insulating particle-attached conductive particle was determined. And the average number Y2 thereof was judged based on the following criteria.

[도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2의 판정 기준][Judgment standard for the average number Y2 of the second insulating particles arranged on the surface of the conductive particles per one conductive particle]

A: 평균 개수 Y2가 20개 이상 1000개 이하A: The average number Y2 is 20 or more and 1000 or less

B: 평균 개수 Y2가 6개 이상 20개 미만B: Average number Y2 is 6 or more and less than 20

C: 평균 개수 Y2가 6개 미만C: Average number Y2 is less than 6

(6) 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1의, 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2에 대한 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)(6) The average number Y1 of the first insulating particles disposed on the surface of the conductive particles per one conductive particle, the average number of the second insulating particles disposed on the surface of the conductive particle per one conductive particle The ratio (average number Y1 / average number Y2) to Y2

얻어진 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서, 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제1 절연성 입자의 평균 개수 Y1의, 도전성 입자 1개당의, 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는 제2 절연성 입자의 평균 개수 Y2에 대한 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)를 구하였다. 상기 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)를 하기의 기준으로 판정하였다.In the obtained insulating particle-adhering conductive particles, the average number Y1 of the first insulating particles disposed on the surface of the conductive particles per one conductive particle, 2 (the average number Y1 / the average number Y2) with respect to the average number Y2 of the insulating particles. The above ratio (average number Y1 / average number Y2) was determined based on the following criteria.

[비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)의 판정 기준][Judgment criteria of average number Y1 / average number Y2]

A: 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)의 비가 0.005 이상 0.5 이하A: The ratio of the ratio (average number Y1 / average number Y2) is 0.005 or more and 0.5 or less

B: 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)의 비가 0.5 초과 1 이하B: ratio (average number Y1 / average number Y2) of not less than 0.5 and not more than 1

C: 비(평균 개수 Y1/평균 개수 Y2)의 비가 1 초과C: ratio (average number Y1 / average number Y2) exceeds 1

(7) 도통성(상하의 전극간)(7) Conductivity (between upper and lower electrodes)

얻어진 절연성 입자 부착 도전성 입자를 함유량이 10중량%로 되도록, 미쯔이 가가꾸사제 「스트랙트 본드 XN-5A」에 첨가하고, 분산시켜, 이방성 도전 페이스트를 얻었다.The resulting insulating particle-adhering conductive particles were added to " Strast Bond XN-5A " made by Mitsui Chemicals Co., Ltd. so that the content became 10% by weight and dispersed to obtain an anisotropic conductive paste.

L/S가 30㎛/30㎛인 ITO 전극 패턴이 상면에 형성된 투명 유리 기판을 준비하였다. 또한, L/S가 30㎛/30㎛인 구리 전극 패턴이 하면에 형성된 반도체 칩을 준비하였다.A transparent glass substrate on which an ITO electrode pattern with L / S of 30 mu m / 30 mu m was formed on the upper surface was prepared. Further, a semiconductor chip in which a copper electrode pattern having L / S of 30 mu m / 30 mu m was formed on the bottom was prepared.

상기 투명 유리 기판 상에, 얻어진 이방성 도전 페이스트를 두께 30㎛가 되도록 도포 시공하고, 이방성 도전 페이스트층을 형성하였다. 이어서, 이방성 도전 페이스트층 상에 상기 반도체 칩을, 전극끼리 대향하도록 적층하였다. 그 후, 이방성 도전 페이스트층의 온도가 185℃가 되도록 헤드의 온도를 조정하면서, 반도체 칩의 상면에 가압 가열 헤드를 싣고, 1㎫의 압력을 가하여 이방성 도전 페이스트층을 185℃에서 경화시켜서, 접속 구조체를 얻었다.The resultant anisotropic conductive paste was coated on the transparent glass substrate so as to have a thickness of 30 mu m to form an anisotropic conductive paste layer. Subsequently, the semiconductor chips were stacked on the anisotropic conductive paste layer so that the electrodes were opposed to each other. Thereafter, while the temperature of the head was adjusted so that the temperature of the anisotropic conductive paste layer was 185 DEG C, a pressure heating head was placed on the upper surface of the semiconductor chip, and a pressure of 1 MPa was applied to harden the anisotropic conductive paste layer at 185 DEG C, Structure was obtained.

얻어진 20개의 접속 구조체의 상하 전극간의 접속 저항을 각각, 4단자법에 의해 측정하였다. 또한, 전압=전류×저항의 관계로부터, 일정한 전류를 흘렸을 때의 전압을 측정함으로써 접속 저항을 구할 수 있다. 도통성을 하기의 기준으로 판정하였다.The connection resistances between the upper and lower electrodes of the obtained 20 connecting structures were measured by the four-terminal method, respectively. From the relationship of voltage = current x resistance, the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed. The continuity was judged based on the following criteria.

[도통성의 판정 기준][Judgment criteria for continuity]

○○: 저항값이 5Ω 이하인 접속 구조체의 개수 비율이 90% 이상○○: The ratio of the number of connection structures having a resistance value of 5 or less is 90% or more

○: 저항값이 5Ω 이하인 접속 구조체의 개수 비율이 80% 이상 90% 미만?: The number of connection structures having a resistance value of 5? Or less is 80% or more and less than 90%

△: 저항값이 5Ω 이하인 접속 구조체의 개수 비율이 60% 이상 80% 미만?: Number of connection structures having a resistance value of 5? Or less is 60% or more and less than 80%

×: 저항값이 5Ω 이하인 접속 구조체의 개수 비율이 60% 미만X: The number of connection structures having a resistance value of 5 or less is less than 60%

(8) 절연성(가로 방향으로 인접하는 전극간)(8) Insulation (between adjacent electrodes in the transverse direction)

상기 (7) 도통성의 평가에서 얻어진 20개의 접속 구조체에 있어서, 인접하는 전극간의 누설 유무를, 테스터로 저항을 측정함으로써 평가하였다. 절연성을 하기의 기준으로 판정하였다.In the 20 connection structures obtained in the above (7) evaluation of continuity, the presence or absence of leakage between adjacent electrodes was evaluated by measuring the resistance with a tester. The insulation was judged based on the following criteria.

[절연성의 판정 기준][Judgment Criteria of Insulation]

○: 저항값이 108Ω 이상인 접속 구조체의 개수 비율이 80% 이상?: The number of connection structures having a resistance value of 10 8 ? Or more is 80% or more

△: 저항값이 108Ω 이상인 접속 구조체의 개수 비율이 60% 이상 80% 미만?: The number of connection structures having a resistance value of 10 8 ? Or more is 60% or more and less than 80%

×: 저항값이 108Ω 이상인 접속 구조체의 개수 비율이 60% 미만X: The number of connection structures having a resistance value of 10 8 Ω or more is less than 60%

결과를 하기의 표 1에 나타낸다. 또한, 실시예 1 내지 3에서는, 개수의 비율 X1은 50%를 초과하였다.The results are shown in Table 1 below. In Examples 1 to 3, the ratio X1 of the numbers exceeded 50%.

Figure pct00001
Figure pct00001

1 절연성 입자 부착 도전성 입자
2 도전성 입자
3 제1 절연성 입자
4 제2 절연성 입자
11 기재 입자
12 도전부
21 절연성 입자 부착 도전성 입자
22 도전성 입자
26 도전부
27 코어 물질
28 돌기
31 절연성 입자 부착 도전성 입자
32 도전성 입자
36 도전부
37 돌기
81 접속 구조체
82 제1 접속 대상 부재
82a 제1 전극
83 제2 접속 대상 부재
83a 제2 전극
84 접속부
1 Insulating particle attachment conductive particle
2 conductive particles
3 First insulating particles
4 Second insulating particles
11 Base particles
12 conductive parts
21 Insulating Particle-Attached Conductive Particles
22 conductive particles
26 conductive parts
27 core material
28 projection
31 Insulation Particle Attachment Conductive Particle
32 conductive particles
36 conductive parts
37 protrusion
81 connection structure
82 First object to be connected
82a first electrode
83 Second connected object member
83a second electrode
84 connection

Claims (9)

도전부를 적어도 표면에 갖는 도전성 입자와,
상기 도전성 입자의 표면 상에 배치된 복수의 제1 절연성 입자와,
상기 도전성 입자의 표면 상에 배치된 복수의 제2 절연성 입자를 구비하고,
상기 제2 절연성 입자의 평균 입자 직경이, 상기 제1 절연성 입자의 평균 입자 직경보다도 작고,
상기 도전성 입자의 표면적 전체에서 차지하는 상기 제1 절연성 입자와 상기 제2 절연성 입자에 의해 피복되어 있는 부분의 합계 면적인 피복률이 50%를 초과하는, 절연성 입자 부착 도전성 입자.
Conductive particles having at least a conductive portion on the surface,
A plurality of first insulating particles disposed on the surface of the conductive particles,
And a plurality of second insulating particles disposed on the surface of the conductive particles,
The average particle diameter of the second insulating particles is smaller than the average particle diameter of the first insulating particles,
Wherein the total coverage of the first insulating particles and the portion covered by the second insulating particles in the entire surface area of the conductive particles exceeds 50%.
제1항에 있어서, 상기 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 20% 이상이, 상기 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는, 절연성 입자 부착 도전성 입자.The insulating particle-adhering conductive particle according to claim 1, wherein 20% or more of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as to be in contact with the first insulating particles. 제1항에 있어서, 상기 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 50% 이상이, 상기 제1 절연성 입자에 접촉하도록, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는, 절연성 입자 부착 도전성 입자.The insulating particle-adhering conductive particle according to claim 1, wherein at least 50% of the total number of the second insulating particles is disposed on the surface of the conductive particles so as to contact the first insulating particles. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 절연성 입자의 전체 개수 중 10% 이상이, 상기 제1 절연성 입자에 접촉하지 않도록 또한 상기 도전성 입자에 접촉하도록, 상기 도전성 입자의 표면 상에 배치되어 있는, 절연성 입자 부착 도전성 입자.The conductive particle according to any one of claims 1 to 3, wherein at least 10% of the total number of the second insulating particles is in contact with the conductive particles so as not to contact the first insulating particles, And the conductive particle is an insulating particle. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전성 입자의 표면에, 화학 결합을 통해, 상기 제1 절연성 입자가 부착되어 있는, 절연성 입자 부착 도전성 입자.The insulating particle-adhering conductive particle according to any one of claims 1 to 4, wherein the first insulating particles are attached to the surface of the conductive particles through a chemical bond. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 절연성 입자 및 상기 제2 절연성 입자가 각각, 상기 도전성 입자의 표면 상에, 하이브리다이제이션(hybridization)법에 의해 배치되어 있지 않은, 절연성 입자 부착 도전성 입자.The conductive particles according to any one of claims 1 to 5, wherein the first insulating particles and the second insulating particles are respectively disposed on the surfaces of the conductive particles by a hybridization method, Conductive particles with insulating particles. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전성 입자가, 상기 도전부의 외표면에 돌기를 갖는, 절연성 입자 부착 도전성 입자. The insulating particle-attached conductive particle according to any one of claims 1 to 6, wherein the conductive particles have protrusions on the outer surface of the conductive portion. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 절연성 입자 부착 도전성 입자와, 바인더 수지를 포함하는, 도전 재료.A conductive material comprising the insulating particle-adhering conductive particles according to any one of claims 1 to 7 and a binder resin. 제1 전극을 표면에 갖는 제1 접속 대상 부재와,
제2 전극을 표면에 갖는 제2 접속 대상 부재와,
상기 제1 접속 대상 부재와, 상기 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비하고,
상기 접속부가, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 절연성 입자 부착 도전성 입자에 의해 형성되어 있거나, 또는 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자와 바인더 수지를 포함하는 도전 재료에 의해 형성되어 있고,
상기 제1 전극과 상기 제2 전극이, 상기 절연성 입자 부착 도전성 입자에 있어서의 상기 도전성 입자에 의해 전기적으로 접속되어 있는, 접속 구조체.
A first connection target member having a first electrode on its surface,
A second connection target member having a second electrode on its surface,
And a connecting portion connecting the first connection target member and the second connection target member,
Wherein the connection portion is formed by the conductive particles having the insulating particle according to any one of Claims 1 to 7 or formed of a conductive material including the conductive particle having the insulating particle and the binder resin,
Wherein the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the insulating particle-attached conductive particle.
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