KR20150026963A - Exposure apparatus - Google Patents

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KR20150026963A
KR20150026963A KR20140114000A KR20140114000A KR20150026963A KR 20150026963 A KR20150026963 A KR 20150026963A KR 20140114000 A KR20140114000 A KR 20140114000A KR 20140114000 A KR20140114000 A KR 20140114000A KR 20150026963 A KR20150026963 A KR 20150026963A
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신이치 하뉴
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베아크 가부시끼가이샤
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Abstract

The present invention relates to an exposure apparatus of a roll to roll method which allows dust elimination of a pattern surface of a mask plate to be automatically performed without affecting exposure movement. The exposure apparatus comprises: an exposure stage (240) capable of being elevated with a substrate (W) along an z axis while having an exposure table (241) maintaining the substrate (W); a mask dust elimination part (230) which performs dust elimination movement on a pattern surface M of a mask plate (210) while being performed in a working range by setting a gap between a fist position x1 separated along an x axis from an end (210a) of a rear of the mask plate (210) at a constant distance and a second position x4 separated from an end (210b) of a front of the mask plate (210) along the x axis at a constant distance as the working range in reciprocating movement; a mask dust elimination control device (400) which controls the reciprocating movement of the mask dust elimination part (230); and an exposure stage control device (500) which controls the elevation of the exposure stage (240).

Description

노광 장치 {EXPOSURE APPARATUS}[0001] EXPOSURE APPARATUS [0002]

본 발명은 기판의 감광면과 마스크판의 패턴면을 대면시켜, 기판의 감광면을 노광함으로써 기판에 패턴을 전사하는 노광 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus for transferring a pattern onto a substrate by exposing a photosensitive surface of the substrate so that the photosensitive surface of the substrate faces the pattern surface of the mask plate.

기판의 감광면과 마스크판의 패턴면을 대면시켜, 기판의 감광면을 노광함으로써 기판에 패턴을 전사하는 노광 장치는 종래부터 다양하게 알려져 있다. 이러한 종류의 노광 장치에 있어서는, 기판의 감광면을 제진할 뿐만 아니라, 마스크판에 있어서의 기판과의 대향면(마스크판의 패턴면이라고 함)을 제진하는 것이 중요하다. 이는, 마스크판의 패턴면에 진애가 존재하고 있으면, 노광했을 때에 마스크에 형성되어 있는 패턴과 함께 진애까지 전사되어 버려, 당해 기판이 불량품으로 되어 버리는 등의 문제가 발생하기 때문이다.Exposure apparatuses that transfer a pattern onto a substrate by facing the photosensitive surface of the substrate and the pattern surface of the mask plate by exposing the photosensitive surface of the substrate have been known variously. In this type of exposure apparatus, it is important not only to damp the photosensitive surface of the substrate but also to damp the surface of the mask plate facing the substrate (referred to as the pattern surface of the mask plate). This is because, if dust is present on the pattern surface of the mask plate, it is transferred to the dust together with the pattern formed on the mask when exposed, resulting in the problem that the substrate becomes defective.

그런데, 이와 같은 노광 장치에는 1매 1매가 단척 시트 형상으로 되어 있는 기판의 노광 대상으로 하는 노광 장치뿐만 아니라, 장척 시트 형상의 기판을 노광 대상으로 하는 노광 장치도 있다.In such an exposure apparatus, not only an exposure apparatus to be an exposure target for a substrate having a single sheet shape but also an exposure apparatus to expose a long sheet-like substrate is used.

장척 시트 형상의 기판을 노광 대상으로 하는 노광 장치는 송출부와 권취부 사이에 걸쳐져 있는 장척 시트 형상의 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 과정에서, 기판의 감광면과 마스크판의 패턴면을 대면시켜, 기판의 감광면을 노광하는 것으로, 소위 롤 투 롤(Roll to Roll) 방식의 노광 장치로서 종래부터 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).In the exposure apparatus for exposing a long sheet-shaped substrate to an exposure target, a long-sheet-shaped substrate extending between a delivery portion and a take-up portion is intermittently transported by a predetermined amount, And is conventionally known as a so-called roll-to-roll type exposure apparatus for exposing a photosensitive surface of a substrate to a substrate (see, for example, Patent Document 1).

도 8은 특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)를 설명하기 위해 도시하는 도면이다. 특허문헌 1에 개시되어 있는 노광 장치(900)는 도 8에 도시한 바와 같이, 장척 시트 형상의 기판(910)을 송출하는 송출부(920)와 노광 완료된 기판을 권취하는 권취부(930) 사이에 노광부(940)를 배치하여, 기판(910)을 반송시켜 가는 과정에서, 기판(910)의 감광면과 마스크판(950)의 패턴면을 대면시켜 기판(910)의 감광면을 노광하는 「롤 투 롤 방식의 노광 장치」이다.Fig. 8 is a view for explaining the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1. Fig. As shown in FIG. 8, the exposure apparatus 900 disclosed in Patent Document 1 has a structure in which between a delivery portion 920 for delivering a long sheet-like substrate 910 and a winding portion 930 for winding the exposed substrate The exposure surface of the substrate 910 is exposed by exposing the photosensitive surface of the substrate 910 while facing the pattern surface of the mask plate 950 and the photosensitive surface of the substrate 910 in the process of transporting the substrate 910 Roll-to-roll exposure apparatus ".

또한, 특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)는 기판(910)의 양면이 감광면으로 되어 있고, 기판(910)의 양면을 동시에 노광 가능하게 하는 것이므로, 마스크판(950)은 기판(910)을 사이에 두도록 상하에 각각 설치되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 상측의 마스크판(950)을 상측 마스크판(951)으로 하고, 하측의 마스크판(950)을 하측 마스크판(952)으로 하여 설명한다.In the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1, since both surfaces of the substrate 910 are photosensitive surfaces and both surfaces of the substrate 910 can be simultaneously exposed, the mask plate 950 is provided on the substrate 910, respectively. In the following description, the upper mask plate 950 is referred to as an upper mask plate 951, and the lower mask plate 950 is referred to as a lower mask plate 952. [

이와 같은 롤 투 롤 방식의 노광 장치에 있어서도, 마스크판(950)[상측 마스크판(951) 및 하측 마스크판(952)]의 각 패턴면을 제진하는 것이 중요하다. 특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)에 있어서는, 상측 마스크판(951) 및 하측 마스크판(952)에 있어서의 각 패턴면의 제진은 다음과 같이 하여 행한다.Even in such a roll-to-roll exposure apparatus, it is important to damp each pattern surface of the mask plate 950 (the upper mask plate 951 and the lower mask plate 952). In the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1, the respective pattern surfaces of the upper mask plate 951 and the lower mask plate 952 are damped in the following manner.

특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)에 있어서는, 상측 마스크판(951)의 제진을 행할 때에는, 기판(910)을 z축을 따라서 승강 가능한 높이 조절 롤러(960)에 의해, 기판(910)을 z축을 따라서 상승시킴으로써, 기판(910)을 하측 마스크판(952)으로부터 이격시킴과 함께, 상측 마스크판(951)을 z축을 따라서 상승시킴으로써, 상측 마스크판(951)을 기판(910)으로부터 이격시킨 상태로 하여, 상측 마스크판(951)의 패턴면을 제진한다.In the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1, when vibration of the upper mask plate 951 is performed, the height of the substrate 910 is adjusted by the height adjustment roller 960 that can move up and down along the z- The upper mask plate 951 is moved away from the substrate 910 by raising the upper mask plate 951 along the z axis while raising the substrate 910 along the z axis so as to separate the substrate 910 from the lower mask plate 952, And the pattern surface of the upper mask plate 951 is damped.

한편, 하측 마스크판(952)의 제진을 행할 때에는, 상측의 마스크판(951)을 z축을 따라서 상승시켜 하측 마스크판(952)과의 사이에 넓은 간격이 형성되도록 함과 함께, 높이 조절 롤러(960)에 의해 기판(910)을 하측의 마스크판(952)으로부터 이격시킨 상태로 하여, 하측 마스크판(952)을 제진한다.On the other hand, when vibration of the lower mask plate 952 is performed, the upper mask plate 951 is raised along the z-axis so that a large gap is formed between the upper mask plate 951 and the lower mask plate 952, 960 so that the substrate 910 is separated from the lower mask plate 952 and the lower mask plate 952 is vibration damped.

일본 특허 출원 공개 제2001-125274호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-125274

상기한 바와 같이, 특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)에 있어서 마스크판(950)[상측 마스크판(951) 및 하측 마스크판(952)]의 각 패턴면을 제진할 때에는, 상측 마스크판의 패턴면 및 하측 마스크판의 패턴면의 제진을 하기 쉽도록, 각 패턴면과 기판의 간격을 벌리도록, 기판 및 상측의 마스크판을 이동시키는 조작을 행한 후, 상측 마스크판의 패턴면 및 하측 마스크판의 패턴면의 제진을 행한다. 또한, 특허문헌 1에 기재된 노광 장치(900)에 있어서는, 마스크판의 패턴면을 제진하기 위한 제진 장치는 특별히 설치되어 있지 않으므로, 마스크판의 패턴면의 제진은 작업자가 수작업으로 행하는 것으로 생각된다. 이로 인해, 마스크판에 있어서의 패턴면의 제진을 행할 때에 수고가 많이 든다.As described above, when the mask plate 950 (the upper mask plate 951 and the lower mask plate 952) in the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1 is damped, The substrate and the upper mask plate are moved so as to spread the distance between the respective pattern surfaces and the substrate so that the pattern surface of the plate and the pattern surface of the lower mask plate can be easily damped. The vibration of the pattern surface of the lower mask plate is performed. Further, in the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1, since a vibration suppression device for suppressing the pattern surface of the mask plate is not particularly provided, it is considered that the vibration of the pattern surface of the mask plate is manually performed by the operator. This results in a lot of labor in performing vibration suppression of the pattern surface in the mask plate.

또한, 특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)에 있어서는, 마스크판에 있어서의 패턴면의 제진을 행할 때에는, 노광 동작을 정지시킬 필요가 있다. 이로 인해, 본래, 고속으로 효율적인 노광이 가능해질 롤 투 롤 방식의 노광 장치에 있어서, 마스크의 제진으로 인해, 고속화 및 효율화가 크게 손상되게 된다. 특히, 보다 고품질의 노광을 행하고자 하는 경우에는, 마스크의 제진은 빈번히 행하는 것이 요구되므로, 마스크의 제진을 행할 때마다, 상기한 바와 같은 공정을 그때마다 행할 필요가 있어, 고속화 및 효율화가 보다 크게 손상되게 된다.Further, in the exposure apparatus 900 described in Patent Document 1, when the pattern surface of the mask plate is subjected to vibration suppression, it is necessary to stop the exposure operation. As a result, in a roll-to-roll type exposure apparatus in which high-speed and efficient exposure can be performed, the speed reduction and efficiency are largely damaged due to the vibration of the mask. Particularly, in order to perform higher-quality exposure, it is required to frequently perform the vibration suppression of the mask, so that it is necessary to perform the above-described processes every time the vibration of the mask is performed, It becomes damaged.

또한, 이 명세서에 있어서, 「노광 동작」이라는 것은, 「장척 시트 형상의 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 과정에서, 기판의 감광면과 마스크판의 패턴면을 대면시켜, 기판의 감광면을 노광하는 동작」을 말한다.In this specification, the term " exposure operation " means that the photosensitive surface of the substrate faces the pattern surface of the mask plate in the process of intermittently conveying the long sheet-like substrate by a predetermined amount, Quot; exposure "

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 롤 투 롤 방식의 노광 장치에 있어서, 마스크판의 패턴면의 제진을 자동적으로 행할 수 있고, 또한 당해 롤 투 롤 방식의 노광 장치가 행하는 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 마스크판의 패턴면의 제진을 행할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a roll-to-roll exposure apparatus capable of automatically performing patterning of a pattern surface of a mask plate, And an object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of performing vibration suppression of a pattern surface of a mask plate.

[1] 본 발명의 노광 장치는 송출부와 권취부 사이에 걸쳐져 있는 장척 시트 형상의 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 과정에서, 상기 기판의 감광면과 마스크판의 패턴면을 대면시켜, 상기 기판의 감광면을 노광하는 노광 장치이며, 상기 기판이 x축 및 y축에 의해 형성되는 xy 평면에 있어서의 x축을 따라서 상기 권취부를 향하는 측을 전방측으로 하고, 당해 전방측과는 반대측을 후방측으로 했을 때, 상기 기판을 사이에 두고 상기 마스크판과 대향하는 위치에 배치되어, xy 평면에 직교하는 z축을 따라서 상기 기판과 함께 승강 가능한 노광 스테이지와, x축을 따른 왕복 이동이 가능하고 상기 노광 스테이지와 함께 z축을 따라서 승강 가능하고, 또한 상기 기판의 감광면으로부터 z축을 따라서 이격된 상태에서 상기 마스크판의 측에 위치하도록 상기 노광 스테이지에 설치되고, 적어도, 상기 마스크판의 상기 후방측의 단부로부터 x축을 따라서 더욱 후방측으로 소정 간격 이격된 제1 위치와 상기 마스크판의 상기 전방측의 단부로부터 x축을 따라서 더욱 전방측으로 소정 간격 이격된 제2 위치 사이의 범위를, 상기 왕복 이동할 때의 가동 범위로 하여, 당해 가동 범위 내를 진행하면서 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하는 마스크 제진부와, 상기 마스크 제진부를 상기 왕복 이동시키기 위한 마스크 제진부 구동 기구부와, 상기 마스크 제진부 구동 기구부를 제어함으로써 상기 마스크 제진부의 상기 왕복 이동을 제어하는 마스크 제진부 제어 장치와, 상기 노광 스테이지를 z축을 따라서 승강 가능하게 하기 위한 노광 스테이지 구동 기구부와, 상기 노광 스테이지 구동 기구부를 제어함으로써 상기 노광 스테이지의 승강을 제어하는 노광 스테이지 제어 장치를 갖고, 상기 마스크 제진부는 적어도 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고 있고, 상기 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 상기 마스크판의 패턴면에 접촉한 상태로 회전해 가는 동작이고, 상기 마스크 제진부가 상기 마스크판에 대해 x축 및 z축을 따라서 각각 이격되어 있는 위치로부터 상기 마스크 제진부를 상기 마스크판의 패턴면에 접촉시킬 때에 있어서는, 상기 마스크 제진부 제어 장치는, 상기 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 대향하는 위치에 도달하도록 상기 마스크 제진부 구동 기구부를 제어하고, 상기 노광 스테이지 제어 장치는, 상기 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 대향하는 위치에 도달하면, 상기 마스크 제진부를 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 접촉시키도록 상기 노광 스테이지 구동 기구부를 제어하고, 상기 기판의 감광면을 노광할 때에는, 상기 마스크 제진부 제어 장치는 상기 마스크 제진부가, 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치에 도달한 상태로 되도록 상기 마스크 제진부 구동 기구부를 제어하고, 상기 노광 스테이지 제어 장치는 상기 마스크 제진부가, 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치에 도달한 상태에 있어서, 상기 노광 스테이지를 z축을 따라서 이동시켜 상기 기판의 감광면과 상기 마스크판의 패턴면이 접촉 또는 근접한 상태로 되도록 상기 노광 스테이지 구동 기구부를 제어하는 것을 특징으로 한다.[1] In the exposure apparatus of the present invention, the photosensitive surface of the substrate and the pattern surface of the mask plate face each other in a process of intermittently conveying a long sheet-like substrate which is placed between the dispensing section and the take- Wherein the side of the substrate facing the winding section along the x-axis in the xy plane formed by the x-axis and the y-axis is the front side and the side opposite to the front side is the rear side An exposure stage which is disposed at a position opposite to the mask plate with the substrate interposed therebetween and is capable of ascending and descending together with the substrate along a z axis orthogonal to the xy plane, And is located on the side of the mask plate in a state of being spaced apart along the z-axis from the photosensitive surface of the substrate The mask plate is provided with a first position that is spaced apart from the rear end of the mask plate by a predetermined distance from the rear end side of the mask plate to a further rear side along the x axis and a second position that is further toward the front side along the x- A mask damping portion for performing a damping operation of the pattern surface of the mask plate while moving within the movable range while the range between the second positions spaced apart from each other is defined as the movable range for reciprocating movement, A mask damping section control device for controlling the reciprocating movement of the mask damping section by controlling the mask damping section drive mechanism section; An exposure stage driving mechanism section for controlling the exposure stage driving mechanism section, Wherein the mask damping portion has a roll shape having an adhesive force at least on the surface thereof, and the operation of damping the pattern surface of the mask plate by the mask damping portion is an operation of moving the mask stage And the mask damping portion is brought into contact with the pattern surface of the mask plate from a position where the mask damping portion is spaced apart from the mask plate along the x axis and the z axis The mask damping portion control device controls the mask damping portion drive mechanism so that the mask damping portion reaches a position opposite to an end portion in the pattern surface of the mask plate along the x axis, The apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the mask vibration suppression unit , The exposure stage driving mechanism is controlled so that the mask damping portion is brought into contact with the vicinity of the end portion along the x axis on the pattern surface of the mask plate, The mask damping section control device controls the mask damping section drive mechanism section so that the mask damping section reaches the first position or the second position when the exposure is performed, The exposure stage is moved along the z-axis so that the photosensitive surface of the substrate and the pattern surface of the mask plate are brought into contact with or close to each other in a state in which the exposure stage has reached the first position or the second position, And controls the mechanism section.

본 발명의 노광 장치는, 마스크 제진부는 x축을 따른 방향에 있어서 마스크판보다도 넓은 범위(제1 위치와 제2 위치 사이의 범위)를 가동 범위로 하여, 당해 가동 범위를 진행함으로써 마스크판의 패턴면을 제진하는 구성으로 하고 있다. 그리고, 기판의 감광면을 노광할 때에는 마스크 제진부가, 제1 위치 또는 상기 제2 위치에 도달한 상태에 있어서, 노광 스테이지를 z축을 따라서 이동시켜 기판의 감광면과 마스크판의 패턴면이 접촉 또는 근접한 상태로 되도록 하여 노광을 행하도록 하고 있다. 이에 의해, 본 발명의 노광 장치에 따르면, 롤 투 롤 방식의 노광 장치에 있어서도, 마스크판의 패턴면의 제진을 자동으로 행할 수 있고, 또한 당해 롤 투 롤 방식의 노광 장치가 행하는 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 마스크판의 패턴면의 제진을 행할 수 있다.In the exposure apparatus according to the present invention, the mask damping portion has a movable range in a range wider than the mask plate (a range between the first position and the second position) in the direction along the x axis, And the surface is damped. When the photosensitive surface of the substrate is exposed, the mask vibration suppression unit moves the exposure stage along the z-axis in a state where it reaches the first position or the second position so that the photosensitive surface of the substrate and the pattern surface of the mask plate are in contact with each other The exposure is performed so as to be in a close state. Thus, according to the exposure apparatus of the present invention, even in the roll-to-roll type exposure apparatus, the pattern surface of the mask plate can be automatically damped and the influence of the exposure operation performed by the roll- It is possible to perform vibration suppression of the pattern surface of the mask plate.

또한, 본 발명의 노광 장치에 따르면, 마스크 제진부가, 적어도 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고 있고, 마스크 제진부가 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 마스크판의 패턴면에 접촉한 상태로 회전해 가는 동작이므로, 마스크판의 패턴면을 효율적이고, 또한 확실하게 제진할 수 있다.According to the exposure apparatus of the present invention, the mask vibration damping portion has a roll shape having at least a surface adhesive force, and the operation of damping the pattern surface of the mask vibration damping portion is in a state of being rotated Thus, the pattern surface of the mask plate can be damped efficiently and reliably.

또한, 본 발명의 노광 장치에 따르면, 마스크 제진부 제어 장치 및 노광 스테이지 제어 장치는 마스크 제진부가 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 대향하는 위치에 도달했을 때에, 마스크 제진부를 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 접촉시키도록 마스크 제진부 구동 기구부 및 노광 스테이지 구동 기구부를 각각 제어하도록 하고 있다. 이로 인해, 마스크 제진부가 x축을 따라서 진행할 때에, 마스크 제진부가 마스크판의 단부를 x축을 따른 마스크 제진부의 진행 방향으로 눌러 버린다는 동작이 발생하지 않는다. 이에 의해, 마스크판의 위치 어긋남을 방지할 수 있고, 또한 마스크판의 단부에 있어서의 코너부 등이 파손되어 버리는 것도 방지할 수 있다.According to the exposure apparatus of the present invention, the mask damping portion control device and the exposure stage control device are configured such that when the mask damping portion reaches a position facing the end portion along the x-axis on the pattern surface of the mask plate, The masking mechanism driving section and the exposure stage driving mechanism section are controlled so as to be brought into contact with the vicinity of the end along the x axis on the pattern surface of the mask plate. As a result, when the mask vibration suppression portion moves along the x axis, the operation of pressing the end portion of the mask vibration suppression portion in the advancing direction of the mask vibration portion along the x axis does not occur. As a result, it is possible to prevent the positional deviation of the mask plate and to prevent the corners and the like at the end of the mask plate from being damaged.

[2] 본 발명의 노광 장치에 있어서는, 상기 마스크 제진부는 상기 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시키고 있는 동안에 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하는 것이 바람직하다.[2] In the exposure apparatus of the present invention, it is preferable that the mask damping section performs an operation of damping the pattern surface of the mask plate while the substrate is intermittently conveyed by a predetermined amount.

이와 같이, 기판을 반송시키고 있는 동안에 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하기 위해, 롤 투 롤 방식의 노광 장치가 행하는 원래의 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 마스크판의 패턴면을 제진할 수 있다. 이에 의해, 롤 투 롤 방식의 노광 장치가 원래 갖고 있는 노광 동작 속도를 유지할 수 있다.As described above, in order to perform the operation of damping the pattern surface of the mask plate while the substrate is being transported, the pattern surface of the mask plate is damped without affecting the original exposure operation performed by the roll- can do. Thereby, the exposure operation speed originally possessed by the roll-to-roll type exposure apparatus can be maintained.

[3] 본 발명의 노광 장치에 있어서는, 상기 마스크 제진부가 상기 가동 범위 내를 상기 전방측으로 진행하는 동작을 전방 진행 동작으로 하고, 상기 마스크 제진부가 상기 가동 범위 내를 상기 후방측으로 진행하는 동작을 후방 진행 동작으로 했을 때, 상기 마스크 제진부는 상기 전방 진행 동작 및 상기 후방 진행 동작 각각에 있어서 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하고, 상기 전방 진행 동작 및 상기 후방 진행 동작 각각에 있어서 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 상기 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 동안에 교대로 행하는 것이 바람직하다.[3] In the exposure apparatus of the present invention, it is preferable that the mask vibration suppression unit moves forward the forward movement within the movable range, and the mask vibration suppression unit moves backward in the movable range backward The mask damping portion performs an operation of damping the pattern surface of the mask plate in each of the forward movement operation and the backward movement operation, and when the mask is moved in the forward movement operation and the backward movement operation, It is preferable that the operation of damping the pattern surface of the plate is performed alternately while the substrate is transported intermittently by a predetermined amount.

이와 같이, 마스크 제진부는 당해 마스크 제진부의 가동 범위를 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작할 때에, 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작 각각에 있어서 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행한다. 또한, 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작 각각에 있어서 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 기판이 간헐적으로 소정량씩 반송되어 가는 동작 사이에 교대로 행하고 있다. 이로 인해, 기판의 반송 동작과, 마스크 제진부의 제진 동작을 낭비 없이 효율적으로 행할 수 있다. 또한, 노광 동작을 간헐적으로 행할 때에, 노광 동작과 노광 동작 사이에는 반드시 마스크판의 패턴면이 제진되게 되므로, 항상, 마스크판의 패턴면이 제진된 상태에서 노광할 수 있다.As described above, the mask damping section performs an operation of damping the pattern surface of the mask plate in each of the forward and backward movement operations when the movable range of the mask damping section is moved forward and backward. Further, in each of the forward advancing operation and the backward advancing operation, the operation of damping the pattern surface of the mask plate alternates between operations in which the substrate is transported intermittently by a predetermined amount. As a result, it is possible to efficiently carry out the conveying operation of the substrate and the vibration damping operation of the mask damping portion without waste. Further, when the exposure operation is intermittently performed, the pattern surface of the mask plate is necessarily demagnetized between the exposure operation and the exposure operation, so that the exposure can be always performed in a state in which the pattern surface of the mask plate is in a demagnetized state.

[4] 본 발명의 노광 장치에 있어서는, 상기 마스크 제진부는 상기 마스크판의 패턴면에 접촉한 상태로 되면, 스프링의 신장력에 의해 상기 패턴면을 가압하는 힘이 작용하도록 상기 노광 스테이지에 설치되어 있는 것이 바람직하다.[4] In the exposure apparatus of the present invention, the mask damping portion is provided in the exposure stage so that a force for pressing the pattern surface is applied by the extension of the spring when the mask damping portion comes into contact with the pattern surface of the mask plate .

이로 인해, 마스크 제진부를 패턴면에 적절한 가압력으로 접촉시킬 수 있어, 접촉시킬 때의 가압력의 제어 등을 고정밀도로 행할 필요가 없다. 또한, 마스크 제진부와 패턴면의 간격(z축을 따른 간격)도 고정밀도로 조정할 필요가 없어, 마스크 제진부와 패턴면의 간격(z축을 따른 간격)의 조정 작업을 경감시킬 수 있다.As a result, the mask damping portion can be brought into contact with the pattern surface with an appropriate pressing force, and it is not necessary to control the pressing force at the time of contact with high precision. Further, it is not necessary to adjust the interval between the mask damping portion and the pattern surface (the interval along the z-axis) with high precision, and it is possible to alleviate the adjustment work of the interval between the mask damping portion and the pattern surface (interval along the z axis).

[5] 본 발명의 노광 장치에 있어서는, 상기 마스크 제진부는 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 y축 방향을 따른 흡인구를 갖고, 흡인에 의해 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 흡인식 마스크 제진부이며, 상기 흡인식 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 상기 마스크판의 패턴면과의 사이에 소정의 공극을 가진 상태에서 흡인력을 발휘하면서 상기 마스크판의 패턴면을 따라서 x축 방향을 따라서 진행해 가는 동작인 것이 바람직하다.[5] In the exposure apparatus of the present invention, the mask damping portion has a suction port along the y-axis direction on the pattern surface of the mask plate, and the suction face of the mask plate Wherein the operation of damping the pattern surface of the mask plate with the suction and mask vibration damping section is performed along the pattern surface of the mask plate while exerting a suction force in a state of having a predetermined gap between the pattern surface of the mask plate and the pattern surface it is preferable that the operation is to move along the x-axis direction.

마스크 제진부로서, 이와 같은 흡인식 마스크의 제진부를 사용함으로써도, 상기 [1] 내지 [3]의 발명에 의해 얻어지는 효과와 동일한 효과를 얻을 수 있다.The same effects as those obtained by the inventions of [1] to [3] can be obtained by using the vibration damping portion of the suction / absorption mask as the mask damping portion.

[6] 본 발명의 노광 장치에 있어서는, 상기 기판의 적어도 상기 감광면을 제진하는 기판 제진부를 갖는 것이 바람직하다.[6] In the exposure apparatus of the present invention, it is preferable that at least the substrate dicing portion for damping the photosensitive surface of the substrate is provided.

이에 의해, 마스크판의 패턴면의 제진 뿐만 아니라, 기판의 적어도 감광면의 제진도 행할 수 있다.As a result, not only the pattern surface of the mask plate but also at least the photosensitive surface of the substrate can be damped.

[7] 본 발명의 노광 장치에 있어서는, 상기 기판 제진부는 적어도 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고, 상기 기판의 적어도 감광면에 접촉한 상태로 설치되어 있고, 상기 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시킬 때의 상기 기판의 반송에 수반하여 회전하는 것이 바람직하다.[7] In the exposure apparatus of the present invention, it is preferable that the substrate vibration portion is formed in a roll shape having an adhesive force on at least a surface thereof and is provided in contact with at least a photosensitive surface of the substrate, It is preferable that the substrate is rotated as the substrate is transported.

이에 의해, 마스크판의 패턴면을 효율적이고, 또한 확실하게 제진할 수 있다. 또한, 기판을 반송시키고 있는 동안에 기판의 적어도 감광면을 제진하는 동작을 행하기 위해, 롤 투 롤 방식의 노광 장치가 행하는 원래의 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 기판의 적어도 감광면을 제진할 수 있다. 이에 의해, 롤 투 롤 방식의 노광 장치가 원래 갖고 있는 노광 동작 속도를 유지할 수 있다. 또한, 제진 기능을 갖는 2개의 롤에 의해 기판을 끼워 넣는 구성으로 해도 되고, 이와 같은 구성으로 함으로써, 기판의 양면을 동시에 제진할 수 있다.As a result, the pattern surface of the mask plate can be damped efficiently and reliably. Further, in order to perform at least the operation of damping the photosensitive surface of the substrate while the substrate is being conveyed, at least the photosensitive surface of the substrate is damped without affecting the original exposure operation performed by the exposure apparatus of the roll- . Thereby, the exposure operation speed originally possessed by the roll-to-roll type exposure apparatus can be maintained. Further, the substrate may be sandwiched between two rolls having a vibration damping function. By adopting such a structure, both sides of the substrate can be simultaneously damped.

도 1은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)를 설명하기 위해 도시하는 전체적인 구성도.
도 2는 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서의 노광부(200)의 구성을 설명하기 위해 도시하는 도면.
도 3은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서의 마스크 제진부 제어 장치(400) 및 노광 스테이지 제어 장치(500)의 구성을 도시하는 도면.
도 4는 실시 형태에 관한 노광 장치(10)의 동작을 설명하기 위해 도시하는 도면.
도 5는 실시 형태에 관한 노광 장치(10)의 동작을 설명하기 위해 도시하는 도면.
도 6은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)의 동작을 설명하기 위해 도시하는 도면.
도 7은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)의 동작을 설명하기 위해 도시하는 도면.
도 8은 특허문헌 1에 기재되어 있는 노광 장치(900)를 설명하기 위해 도시하는 도면.Fig. 1 is an overall schematic view for explaining an exposure apparatus 10 according to an embodiment. Fig.
Fig. 2 is a view for explaining the configuration of the exposure unit 200 in the exposure apparatus 10 according to the embodiment. Fig.
3 is a view showing the structures of a mask dicing section control device 400 and an exposure stage control device 500 in the exposure apparatus 10 according to the embodiment.
Fig. 4 is a view for explaining the operation of the exposure apparatus 10 according to the embodiment; Fig.
5 is a view for explaining the operation of the exposure apparatus 10 according to the embodiment;
Fig. 6 is a view for explaining the operation of the exposure apparatus 10 according to the embodiment; Fig.
Fig. 7 is a view for explaining the operation of the exposure apparatus 10 according to the embodiment; Fig.
FIG. 8 is a view for explaining an exposure apparatus 900 described in Patent Document 1. FIG.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

[실시 형태 1][Embodiment 1]

도 1은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)를 설명하기 위해 도시하는 전체적인 구성도이다. 또한, 도 1은 실시 형태 1에 관한 노광 장치(10)를 모식적으로 도시하는 것으로, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)를 설명하는 데 있어서 특별히 필요로 하지 않는 구성 요소에 대해서는 도시가 생략되어 있다. 또한, 도 1은 모식도이므로, 실제의 구성 요소의 치수를 동일 비율로 축소한 것으로는 되어 있지 않고, 구성 요소가 과장되어 그려져 있거나, 보다 축소되어 그려져 있다.Fig. 1 is an overall configuration diagram showing the exposure apparatus 10 according to the embodiment. 1 schematically shows an exposure apparatus 10 according to Embodiment 1. Elements not specifically required for explaining the exposure apparatus 10 according to the embodiment are not shown have. Fig. 1 is a schematic diagram. Therefore, the dimensions of the actual components are not necessarily reduced to the same ratio, and the components are exaggeratedly drawn or drawn in a smaller size.

실시 형태에 관한 노광 장치(10)는, 도 1에 도시한 바와 같이 장척 시트 형상의 기판(W)을 x축 및 y축에 의해 형성되는 xy 평면에 있어서의 x축을 따라서 간헐적으로 소정량씩 반송하는 반송 기구부(100)와, 반송 기구부(100)에 의해 간헐적으로 소정량씩 반송되는 기판(W)의 감광면(A)을 노광하는 노광부(200)와, 이들 반송 기구부(100) 및 노광부(200)를 수납하고 있는 노광 장치 하우징(300)과, 노광부(200)에 있어서의 마스크 제진부(230)(후술함)를 제어하는 마스크 제진부 제어 장치(400)와, 노광부(200)에 있어서의 노광 스테이지(240)(후술함)를 제어하는 노광 스테이지 제어 장치(500)를 갖고 있다. 실시 형태에 관한 노광 장치(10)는 이들 구성 요소 외에, 도시는 생략하지만, 마스크판(210) 및 기판(W) 등에 대전하고 있는 정전기를 제전하는 제전부 등도 설치되어 있다.As shown in Fig. 1, the exposure apparatus 10 according to the embodiment intermittently conveys a substrate W in the form of a sheet in a predetermined amount along the x-axis in the xy plane formed by the x- and y-axes An exposure unit 200 for exposing the photosensitive surface A of the substrate W transported by a predetermined amount intermittently by the transport mechanism unit 100 and an exposure unit 200 for exposing the photosensitive surface A of the substrate W, A mask control unit 400 for controlling the mask damping unit 230 (to be described later) in the exposure unit 200, an exposure unit housing 300 for housing the light unit 200, And an exposure stage control device 500 for controlling the exposure stage 240 (to be described later) In addition to these components, the exposure apparatus 10 according to the embodiment is provided with a discharger for discharging static electricity charged on the mask plate 210 and the substrate W, though not shown.

반송 기구부(100)는 장척 시트 형상의 기판(W)을 송출하는 송출부(110)와, 노광부(200)에 의해 노광된 노광 완료된 기판(W)을 권취하는 권취부(120)와, 기판(W)을 x축을 따라서 간헐적으로 소정량씩 반송시키는 간헐 이송 기구부(130)와, 노광부(200)보다도 송출부(110)의 측에 배치되어, 기판(W)의 감광면(A)을 제진하는 기판 제진부(140)와, 반송로 상에 설치되는 이송 롤러(151, 152)를 갖고 있다. 또한, 송출부(110) 및 권취부(120)는 각각이 롤 형상을 이루고 있으므로, 이하, 송출 롤러(110), 권취 롤러(120)라고 한다.The transport mechanism part 100 includes a delivery part 110 for delivering a long sheet-like substrate W, a winding part 120 for winding the exposed substrate W exposed by the exposure part 200, And an intermittent feeding mechanism part 130 intermittently feeding a predetermined number of wafers W in a predetermined amount along the x axis and an intermittent feeding mechanism 130 arranged on the side of the feeding part 110 rather than the exposure part 200, A substrate damping portion 140 for vibration damping, and conveying rollers 151 and 152 provided on the conveying path. The delivery portion 110 and the winding portion 120 each have a roll shape and are hereinafter referred to as a delivery roller 110 and a winding roller 120. [

이와 같이, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)는 송출 롤러(110)에 권취되어 있는 기판(W)을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 과정에서, 노광부(200)에 의해 기판(W)의 감광면(A)을 노광시킨 후, 노광 완료된 기판(W)을 권취 롤러로 권취하는 「롤 투 롤(Roll to Roll)」 방식의 노광 장치이다. 또한, 이 명세서에 있어서는, 기판(W)이 x축을 따라서 권취부(120)로 반송되어 가는 측을 전방측으로 하고, 당해 전방측과는 반대측을 후방측으로 하여 설명한다.As described above, in the exposure apparatus 10 according to the embodiment, the substrate W wound on the feed roller 110 is conveyed intermittently by a predetermined amount, and the exposed portion of the substrate W Roll-to-roll " system in which a photosensitive surface A is exposed and then the exposed substrate W is taken up by a take-up roller. In this specification, the side where the substrate W is conveyed to the winding portion 120 along the x-axis is referred to as the front side, and the side opposite to the front side is referred to as the rear side.

반송 기구부(100)에 있어서의 간헐 이송 기구부(130)는, 예를 들어 고정 클램퍼(131)를 개방하고, 이송 클램퍼(132)에 의해 기판(W)을 클램프하여 소정량만큼 보내고, 소정량만큼 보낸 후에는 고정 클램퍼로 기판(W)을 클램프하고, 그 후, 다시, 고정 클램퍼(131)를 개방하고, 이송 클램퍼(132)에 의해 기판(W)을 클램프하여 소정량만큼 반송하고, 소정량만큼 반송한 후에는 고정 클램퍼로 기판(W)을 클램프한다는 동작을 순차 반복한다. 이에 의해, 기판(W)을 간헐적으로 소정량씩 보낼 수 있다. 또한, 간헐 이송 기구부(130)의 구성은 이와 같은 구성의 것으로 한정되는 것은 아니고, 다양한 구성의 간헐 이송 기구부를 채용할 수 있다.The intermittent feed mechanism unit 130 in the feed mechanism unit 100 is configured to open the fixed clamper 131 and clamp the substrate W by the feed clamper 132 to feed the substrate W by a predetermined amount, The substrate W is clamped by the fixed clamper and then the stationary clamper 131 is again opened and the substrate W is clamped by the transport clamper 132 and transported by a predetermined amount, , The operation of clamping the substrate W with the stationary clamper is sequentially repeated. Thereby, the substrate W can be sent intermittently by a predetermined amount. The configuration of the intermittent conveyance mechanism unit 130 is not limited to this configuration, and intermittent conveyance mechanism units having various configurations can be employed.

또한, 기판 제진부(140)는 송출 롤러(110)로부터 송출된 기판(W)을 제진하는 것이고, 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고 있고, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서는 점착력을 갖는 부재(예를 들어, 점착력을 갖는 고무 등)를 롤 형상으로 형성한 것을 사용하고 있다.The substrate damping portion 140 is to remove the substrate W fed from the feed roller 110 and has a roll shape having an adhesive force on the surface thereof. In the exposure apparatus 10 according to the embodiment, (For example, rubber having an adhesive force) formed in a roll shape is used.

이와 같이, 기판 제진부(140)가 롤 형상을 이루고 있으므로, 기판 제진부(140)를 「기판 제진 롤러(140)」라고도 한다. 또한, 기판 제진 롤러(140)는 점착력을 갖는 것이지만, 그 점착력은 기판(W)의 감광면(A)에 존재하는 진애를 들러붙게 하여 제거할 수 있을 정도이고, 기판(W)의 감광면(A)에 악영향을 미치는 일이 없을 정도의 점착력인 것으로 한다. 또한, 기판(W)의 감광면(A)이라는 것은, 기판(W)에 포토레지스트 등이 도포되어 있는 면이고, 포토레지스트는 이미 건조된 상태에 있는 것으로 한다.Since the substrate dicing portion 140 has a roll shape, the substrate dicing portion 140 is also referred to as a " substrate vibration damping roller 140 ". The adhesion force of the substrate vibration damping roller 140 is sufficient to adhere and remove the dust existing on the photosensitive surface A of the substrate W. The adhesion strength of the substrate vibration damping roller 140 is set to a value A) is not adversely affected. The photosensitive surface A of the substrate W is a surface on which a photoresist or the like is coated on the substrate W and the photoresist is already in a dried state.

기판 제진 롤러(140)는 기판(W)을 사이에 두도록 2개의 롤러(141, 142)에 의해 구성되어 있다. 또한, 기판(W)의 감광면(A)의 제진을 행하는 것을 주로 하여 생각하면, 감광면측의 롤러(141)만이 기판 제진 기능을 갖는 것이어도 되지만, 2개의 롤러(141, 142)에 기판 제진 기능을 갖게 함으로써, 기판(W)의 감광면(A)뿐만 아니라, 감광면(A)과는 반대측의 면의 제진도 가능해진다. 이로 인해, 기판(W)의 감광면(A)과 반대측의 면에 위치하는 롤러(142)에도 기판 제진 기능을 갖는 것이 바람직하다.The substrate vibration damping roller 140 is constituted by two rollers 141 and 142 so as to sandwich the substrate W therebetween. Although only the roller 141 on the photosensitive surface side may have a substrate vibration damping function in the case of mainly damping the photosensitive surface A of the substrate W, It is possible to vibrate not only the photosensitive surface A of the substrate W but also the surface opposite to the photosensitive surface A as well. Therefore, it is preferable that the roller 142 located on the side opposite to the photosensitive surface A of the substrate W also has a substrate vibration damping function.

도 2는 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서의 노광부(200)의 구성을 설명하기 위해 도시하는 도면이다. 도 2의 (a)는 도 1에 있어서의 노광부(200)를 송출 롤러(110)의 측으로부터 x축을 따라서 본 경우의 측면도이고, 도 2의 (b)는 도 2의 (a)에 있어서의 a-a 화살표 방향으로 보아 평면도이다. 도 2를 참조하여 노광부(200)에 대해 설명한다.2 is a view for explaining the structure of the exposure unit 200 in the exposure apparatus 10 according to the embodiment. 2 (a) is a side view of the exposure unit 200 in FIG. 1 taken along the x-axis from the side of the delivery roller 110, and FIG. 2 (b) In the direction of aa arrow in Fig. The exposure unit 200 will be described with reference to FIG.

노광부(200)는 도시하지 않은 광원과, 투명 유리 등의 투광성 부재로 되어 소정의 두께를 갖는 마스크판(210)과, 패턴면 M을 하향으로 한 상태에서 마스크판(210)을 유지하는 마스크판 유지부(220)와, 패턴면 M을 제진하는 동작을 행하는 마스크 제진부(230)와, 기판(W)을 사이에 두고 마스크판(210)과 대향하는 위치에 배치되어, xy 평면에 직교하는 z축을 따라서 승강 가능한 노광 스테이지(240)와, 마스크 제진부(230)를 x축을 따라서 왕복 이동시키기 위한 마스크 제진부 구동 기구부(250)와, 노광 스테이지(240)를 z축을 따라서 승강시키기 위한 노광 스테이지 구동 기구부(260)를 갖고 있다.The exposure unit 200 includes a mask plate 210 made of a light source (not shown) and a transparent member such as transparent glass and having a predetermined thickness, a mask 210 holding the mask plate 210 with the pattern surface M facing downward, A mask holding part 230 for performing a vibration damping operation on the pattern surface M and a mask holding part 230 for holding the pattern surface M at a position opposed to the mask plate 210 with the substrate W therebetween, An exposure stage 240 for lifting the exposure stage 240 along the z axis, a masking mechanism driving mechanism 250 for reciprocating the masking mechanism 230 along the x axis, And a stage driving mechanism unit 260.

또한, 실시 형태 1에 관한 노광 장치(10)에 있어서는, 마스크판(210)의 x축을 따른 길이와 마스크판 유지부(220)의 x축을 따른 길이는 동일한 길이 L1(도 1 참조)인 것으로 한다. 또한, 마스크판 유지부(220)는 z축을 따라서 소정의 두께를 갖고 있는 것으로 한다.In the exposure apparatus 10 according to Embodiment 1, the length along the x axis of the mask plate 210 and the length along the x axis of the mask plate holding portion 220 are the same length L1 (see Fig. 1) . It is assumed that the mask plate holding portion 220 has a predetermined thickness along the z-axis.

마스크 제진부(230)는 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고 있다. 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서는 점착력을 갖는 부재(예를 들어, 점착력을 갖는 고무 등)를 롤 형상으로 형성한 것을 사용하고 있다.The mask damping portion 230 has a roll shape having an adhesive force on the surface. In the exposure apparatus 10 according to the embodiment, a member having an adhesive force (for example, rubber having adhesive force) is formed in a roll shape.

이와 같이, 마스크 제진부(230)가 롤 형상을 이루고 있으므로, 마스크 제진부(230)를 「마스크 제진 롤러(230)」라고도 한다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)는 점착력을 갖는 것이지만, 그 점착력은 마스크판(210)의 패턴면 M에 존재하는 진애를 들러붙게 하여 제거할 수 있을 정도이고, 마스크판(210)의 패턴면 M에 악영향을 미치는 일이 없을 정도의 점착력인 것으로 한다.Since the mask damping portion 230 has a roll shape, the mask damping portion 230 is also referred to as a " mask vibration damping roller 230 ". Although the masking roller 230 has an adhesive force, its adhesive force is such that it can be removed by sticking dust existing on the pattern surface M of the mask plate 210, The adhesive strength is such that it does not adversely affect the adhesive strength.

노광 스테이지(240)는 노광 테이블(241)을 갖고 있다. 노광 테이블(241)은 마스크판(210)의 패턴면 M에 기판(W)을 개재하여 대향하도록 배치되어 있고, 기판(W)을 하측으로부터 유지하는 역할을 이루고 있다.The exposure stage 240 has an exposure table 241. The exposure table 241 is arranged to face the pattern surface M of the mask plate 210 with the substrate W interposed therebetween and serves to hold the substrate W from below.

또한, 노광 스테이지(240)에는 y축을 따른 방향으로 돌출되어 있는 선반부(242L, 242R)가 x축을 따라서 좌우 양측에 형성되어 있다. 선반부(242L, 242R)에는 마스크 제진 롤러(230)를 x축을 따라서 왕복 이동시키기 위한 마스크 제진부 구동 기구부(250)가 설치되어 있다.Further, in the exposure stage 240, shelf portions 242L and 242R protruding in the direction along the y-axis are formed on the left and right sides along the x-axis. The mask part driving mechanism part 250 for reciprocating the mask vibration reduction roller 230 along the x axis is provided on the shelf parts 242L and 242R.

마스크 제진부 구동 기구부(250)는 선반부(242L, 242R)에 각각 부설되어 있는 가이드 레일(251L, 251R)과, 이들 가이드 레일(251L, 251R) 위를 슬라이드 가능한 슬라이더(252L, 252R)와, 슬라이더(252L, 252R)를 x축을 따라서 왕복 이동시키기 위한 볼 나사(253L, 253R)와, 슬라이더(252L, 252R)에 고정되어, 마스크 제진 롤러(230)의 회전축(231)을 좌우 양측에 있어서 회전 가능하게 지지하는 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)와, 볼 나사(253L, 253R)를 회전 구동하기 위한 모터(도시하지 않음)를 갖고 있다. 또한, 모터는 서보 모터를 사용할 수 있다.The mask damping mechanism drive mechanism unit 250 includes guide rails 251L and 251R attached to the shelf units 242L and 242R and sliders 252L and 252R slidable on the guide rails 251L and 251R, Ball screws 253L and 253R for reciprocally moving the sliders 252L and 252R along the x axis and a pair of pinions 253L and 253R fixed to the sliders 252L and 252R to rotate the rotary shaft 231 of the mask vibration- (Not shown) for rotationally driving the ball screws 253L and 253R, and a motor (not shown) for rotating the ball screws 253L and 253R. Further, the motor can use a servo motor.

마스크 제진부 구동 기구부(250)가 이와 같은 구조로 되어 있으므로, 볼 나사(253L, 253R)가, 각각 동기한 상태에서 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전함으로써, 슬라이더(252L, 252R)는 x축을 따라서 왕복 이동하고, 그것에 의해, 마스크 제진 롤러(230)도 x축을 따라서 왕복 이동한다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크 제진부 구동 기구부(250)에 의해, 노광 스테이지(240)의 x축을 따른 일단부(240a)와 타단부(240b) 사이 중 소정 범위를 가동 범위(후술함)로 하여, 당해 가동 범위 내를 왕복 이동한다.The slider 252L and the slider 252R rotate in the clockwise or counterclockwise direction with the ball screws 253L and 253R in synchronism with each other so that the sliders 252L and 252R are moved along the x- Thereby reciprocating the mask vibration reduction roller 230 along the x axis. The mask damping roller 230 is movable by a mask damping mechanism 250 in a predetermined range between one end 240a and the other end 240b along the x axis of the exposure stage 240 ), And reciprocates within the movable range.

예를 들어, 볼 나사(253L, 253R)가 반시계 방향(전방측을 보았을 때의 반시계 방향)으로 회전함으로써, 슬라이더(252L, 252R)는 x축을 따라서 전방측으로 진행하고, 그것에 의해, 마스크 제진 롤러(230)도 x축을 따라서 전방측으로 진행한다.For example, when the ball screws 253L and 253R are rotated in the counterclockwise direction (counterclockwise direction when the front side is viewed), the sliders 252L and 252R advance forward along the x-axis, The roller 230 also advances forward along the x-axis.

또한, 볼 나사(253L, 253R)가 시계 방향(전방측을 보았을 때의 시계 방향)으로 회전함으로써, 슬라이더(252L, 252R)는 x축을 따라서 후방측으로 진행하고, 그것에 의해, 마스크 제진 롤러(230)도 x축을 따라서 후방측으로 진행한다.The sliders 252L and 252R move rearward along the x axis so that the mask vibration suppressing roller 230 and the mask vibration suppressing roller 230 are rotated in the clockwise direction (clockwise direction when the front side is viewed) by the ball screws 253L and 253R, And also proceeds to the rear side along the x-axis.

이와 같이 구성되어 있는 마스크 제진부 구동 기구부(250)는 마스크 제진부 제어 장치(400)에 의해 제어되고, 그것에 의해, 마스크 제진 롤러(230)가 제어된다.The mask damping portion drive mechanism 250 thus constructed is controlled by the mask damping portion control device 400, and thereby the mask damping roller 230 is controlled.

그런데, 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)에는 마스크 제진 롤러(230)를 회전 가능하게 지지하기 위한 U자 형상의 베어링 홈(255)(도 1 참조)이 각각 형성되어 있다. 당해 베어링 홈(255)은 상단부측이 개구로 되어 있고, 마스크 제진 롤러(230)는 회전축(231)을 베어링 홈(255)의 개구로부터 끼워 넣어짐으로써, 베어링 홈(255)에서 회전 가능하게 지지된 상태로 된다.The U-shaped bearing grooves 255 (see FIG. 1) for rotatably supporting the mask vibration suppressing roller 230 are formed in the mask vibration suppressing roller supporting portions 254L and 254R, respectively. The masking damping roller 230 is rotatably supported in the bearing groove 255 by sandwiching the rotation shaft 231 from the opening of the bearing groove 255. [ .

이와 같은 구조이므로, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)에 용이하게 착탈 가능해져, 마스크 제진 롤러(230)의 청소나 교환 등의 메인터넌스를 용이하게 행할 수 있다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)는 동력에 의해 회전하는 것이 아니라, 공회전하도록 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)에 지지되어 있다.With this structure, the mask vibration suppressing roller 230 can be easily attached to and detached from the mask vibration suppressing roller support portions 254L and 254R, and maintenance such as cleaning and replacement of the mask vibration suppressing roller 230 can be easily performed. Further, the mask vibration reduction roller 230 is not rotated by the power, but is supported on the mask vibration reduction roller support portions 254L and 254R so as to idle.

또한, 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)는 슬라이더(252L, 252R)에 가이드 핀(256)과 스프링(257)에 의해 지지되어 있고, 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)에 z축을 따라서 하방향으로 가압력을 부여하면, 당해 가압력에 대해서는 스프링(257)의 신장력에 의한 항력이 작용하도록 되어 있다. 이로 인해, 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)에 지지되어 있는 마스크 제진 롤러(230)를 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉시키면, 마스크 제진 롤러(230)는 스프링(257)의 신장력에 의해 소정의 가압력으로 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉하게 된다.The mask vibration damping roller support portions 254L and 254R are supported by the guide pins 256 and the springs 257 on the sliders 252L and 252R and supported by the mask vibration damping roller support portions 254L and 254R in the downward direction The drag force due to the extension force of the spring 257 acts on the pressing force. Therefore, when the mask vibration suppressing roller 230 supported on the mask vibration suppressing roller supporting portions 254L and 254R is brought into contact with the pattern surface M of the mask plate 210, the mask vibration suppressing roller 230 is pressed against the stretching force of the spring 257 And comes into contact with the pattern surface M of the mask plate 210 with a predetermined pressing force.

한편, 노광 스테이지(240)는 노광 스테이지 구동 기구부(260)에 의해, z축을 따라서 승강 가능하도록 되어 있다. 노광 스테이지 구동 기구부(260)는 노광 스테이지(240)에 고정되어 있는 승강대(261)와, 승강대(261)를 z축을 따라서 승강시키기 위한 노광 스테이지용 볼 나사(263)와, 볼 나사(263)를 회전 구동하기 위한 모터(도시하지 않음)를 갖고 있다. 또한, 모터는 서보 모터를 사용할 수 있다.On the other hand, the exposure stage 240 is movable up and down along the z-axis by the exposure stage drive mechanism unit 260. The exposure stage driving mechanism unit 260 includes a platform 261 fixed to the exposure stage 240, a ball screw 263 for an exposure stage for lifting and lowering the platform 261 along the z axis, a ball screw 263 And a motor (not shown) for rotational driving. Further, the motor can use a servo motor.

이와 같이 구성되어 있는 노광 스테이지 구동 기구부(260)는 볼 나사(263)를 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전시킴으로써, 노광 스테이지(240)를 z축을 따라서 승강시킬 수 있다. 또한, 노광 스테이지 구동 기구부(260)에 의해 노광 스테이지(240)를 승강시키면, 노광 스테이지(240)뿐만 아니라, 반송 기구부(100) 전체도 승강하도록 되어 있다.The exposure stage driving mechanism unit 260 configured in this way can raise and lower the exposure stage 240 along the z-axis by rotating the ball screw 263 clockwise or counterclockwise. When the exposure stage 240 is lifted and lowered by the exposure stage driving mechanism unit 260, not only the exposure stage 240 but also the entire transport mechanism 100 is raised and lowered.

이에 의해, 예를 들어 볼 나사(263)를 반시계 방향(z축을 따라서 상방을 보았을 때의 반시계 방향)으로 회전시키면, 노광 스테이지(240)가 z축을 따라서 상승함과 함께, 반송 기구부(100)도 노광 스테이지(240)와 함께 상승한다. 또한, 「반송 기구부(100)도 노광 스테이지(240)와 함께 상승한다」라는 것은, 송출 롤러(110), 권취 롤러(120), 간헐 이송 기구부(130), 기판 제진 롤러(140) 및 기판(W)이 노광 스테이지(240)와 함께 상승한다는 것이다.Thus, for example, when the ball screw 263 is rotated in the counterclockwise direction (counterclockwise direction when viewed from above along the z axis), the exposure stage 240 is moved up along the z axis and the transport mechanism 100 Also rise together with the exposure stage 240. [ It is to be noted that the "conveying mechanism unit 100 also rises together with the exposure stage 240" means that the conveying mechanism unit 100 is moved up with the exposure stage 240 as well as the conveying roller 110, the winding roller 120, the intermittent conveying mechanism unit 130, W rise together with the exposure stage 240.

한편, 볼 나사(263)를 시계 방향(z축을 따라서 상방을 보았을 때의 시계 방향)으로 회전시키면, 노광 스테이지(240)가 z축을 따라서 하강함과 함께 반송 기구부(100)도 노광 스테이지(240)와 함께 하강한다. 또한, 「반송 기구부(100)도 노광 스테이지(240)와 함께 하강한다」라는 것은, 송출 롤러(110), 권취 롤러(120), 간헐 이송 기구부(130), 기판 제진 롤러(140) 및 기판(W)이 노광 스테이지(240)와 함께 하강한다는 것이다.On the other hand, when the ball screw 263 is rotated in the clockwise direction (clockwise direction when looking upward along the z axis), the exposure stage 240 descends along the z axis and the transport mechanism 100 is also moved to the exposure stage 240, . It is to be noted that the "conveying mechanism unit 100 also descends with the exposure stage 240" means that the conveying mechanism unit 100 is lowered along with the exposure stage 240 when the conveying roller 110, the winding roller 120, the intermittent conveying mechanism unit 130, W are lowered together with the exposure stage 240.

이와 같이 구성되어 있는 노광 스테이지 구동 기구부(260)는 노광 스테이지 제어 장치(500)에 의해 구동 제어된다.The exposure stage drive mechanism unit 260 thus configured is driven and controlled by the exposure stage controller 500. [

또한, 마스크 제진부 구동 기구부(250)에 설치되어 있는 볼 나사(253L, 253R)는 마스크 제진부(230)[마스크 제진 롤러(230)]를 구동하기 위한 볼 나사이므로, 마스크 제진부용 볼 나사(253L, 253R)라고 하는 경우도 있다. 또한, 노광 스테이지 구동 기구부(260)에 설치되어 있는 볼 나사(263)는 노광 스테이지(240)를 구동하기 위한 볼 나사이므로, 노광 스테이지용 볼 나사(263)라고 하는 경우도 있다.Since the ball screws 253L and 253R provided in the mask damping portion drive mechanism 250 are ball screws for driving the mask damping portion 230 (mask damping roller 230), the ball screw for the mask damping portion 253L, 253R). Since the ball screw 263 provided in the exposure stage driving mechanism unit 260 is a ball screw for driving the exposure stage 240, the ball screw 263 may be referred to as an exposure stage ball screw 263.

도 3은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서의 마스크 제진부 제어 장치(400) 및 노광 스테이지 제어 장치(500)의 구성을 도시하는 도면이다. 도 3의 (a)는 마스크 제진부 제어 장치(400)의 구성을 도시하고, 도 3의 (b)는 노광 스테이지 제어 장치(500)의 구성을 도시하고 있다.3 is a diagram showing the configurations of the mask damping portion control device 400 and the exposure stage control device 500 in the exposure apparatus 10 according to the embodiment. 3 (a) shows the structure of the mask damping unit control apparatus 400, and Fig. 3 (b) shows the structure of the exposure stage control apparatus 500. As shown in Fig.

마스크 제진부 제어 장치(400)는, 도 3의 (a)에 도시한 바와 같이 마스크 제진부용 볼 나사(253L, 253R)를 각각 구동하는 마스크 제진부용 볼 나사 구동부(서보 모터 등)(410)와, 마스크 제진 롤러(230)의 진행을 제어하기 위한 제어 프로그램 및 유저의 설정 정보 등을 기억하고 있는 기억부(420)와, 기억부(420)의 기억 내용에 기초하여 마스크 제진부용 볼 나사 구동부(410)를 제어함으로써, 마스크 제진 롤러(230)의 전방측 또는 후방측으로의 진행을 제어하는 진행 제어부(430)를 갖고 있다.As shown in FIG. 3A, the mask damping unit control apparatus 400 includes a ball screw drive unit (servo motor or the like) 410 for a mask damping unit for driving the ball screws 253L and 253R for a mask damping unit, A storage section 420 for storing control programs for controlling the progress of the masking roller 230 and setting information of the user, and a ball screw driving section (not shown) for the mask damping section 410 to control the advancement of the mask vibration reduction roller 230 toward the front side or the rear side.

노광 스테이지 제어 장치(500)는, 도 3의 (b)에 도시한 바와 같이 노광 스테이지용 볼 나사(263)를 구동하는 노광 스테이지용 볼 나사 구동부(서보 모터 등)(510)와, 노광 스테이지(240)의 승강을 제어하기 위한 제어 프로그램 및 유저의 설정 정보 등을 기억하고 있는 기억부(520)와, 기억부(520)의 기억 내용에 기초하여 노광 스테이지용 볼 나사 구동부(510)를 제어함으로써, 노광 스테이지(240)의 상승 또는 하강을 제어하는 승강 제어부(530)를 갖고 있다.The exposure stage control apparatus 500 includes a ball screw driving section (servo motor or the like) 510 for an exposure stage for driving the ball screw 263 for an exposure stage as shown in FIG. 3 (b) 240) for controlling the lifting and lowering of the exposure stage, and a control section for controlling the ball screw driving section (510) for the exposure stage based on the stored contents of the storage section (520) And an elevation control unit 530 for controlling the rising and falling of the exposure stage 240.

또한, 도 3에 있어서는, 마스크 제진부 제어 장치(400) 및 노광 스테이지 제어 장치(500) 각각에 기억부[기억부(420) 및 기억부(520)]를 설치하도록 하였지만, 하나의 기억부를 공용하도록 해도 된다.3, a storage section (storage section 420 and storage section 520) is provided in each of the mask damping section control device 400 and the exposure stage control device 500. However, .

도 4 내지 도 7은 실시 형태에 관한 노광 장치(10)의 동작을 설명하기 위해 도시하는 도면이다. 도 4의 (a) 내지 도 4의 (d), 도 5의 (a) 내지 (c), 도 6의 (a) 내지 도 6의 (d) 및 도 7의 (a) 내지 도 7의 (c)는 각각의 공정을 도시하는 도면이다. 또한, 도 4 내지 도 7은 노광부(200)에 있어서의 마스크 제진 롤러(230)의 동작을 주로 설명하기 위해 도시하는 도면이다. 이로 인해, 도 1에 도시하는 구성 요소 중, 반송 기구부(100)는 도시가 생략되어 있고, 또한 노광부(200)에 있어서도, 노광 스테이지 구동 기구부(260) 등은 도시가 생략되어 있다. 또한, 노광부(200)에 있어서 도 1 및 도 2에 있어서 부여되어 있는 부호 중 생략되어 있는 부호도 있다.Figs. 4 to 7 are diagrams for explaining the operation of the exposure apparatus 10 according to the embodiment. Fig. Figs. 4A to 4D, Figs. 5A to 5C, Figs. 6A to 6D and Figs. 7A to 7 c) are diagrams showing respective steps. 4 to 7 are diagrams for explaining the operation of the mask vibration suppressing roller 230 in the exposure unit 200. FIG. 1, the illustration of the transport mechanism part 100 is omitted, and the exposure stage drive mechanism part 260 and the like are not shown in the exposure part 200 as well. In the exposure unit 200, there are also omitted symbols in the symbols given in Figs. 1 and 2.

또한, 도 4 내지 도 7에 있어서, 마스크 제진 롤러(230)를 진행시키기 위한 제어는 도 3의 (a)에 도시한 마스크 제진부 제어 장치(400)에 의해 행해지고, 노광 스테이지(240)를 승강시키기 위한 제어는 도 3의 (b)에 도시한 노광 스테이지 제어 장치(500)에 의해 행해진다.4 to 7, the control for advancing the mask vibration suppressing roller 230 is performed by the mask damping portion control device 400 shown in Fig. 3 (a), and the exposure stage 240 is moved up and down Is controlled by the exposure stage control device 500 shown in Fig. 3 (b).

실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서는, 기판(W)은 반송 기구부(100)에 의해 간헐적으로 소정량씩 반송되어 있고, 1회분의 반송이 이루어지면, 기판(W)의 감광면(A)에 있어서 노광 대상이 되는 복수의 감광 영역(이를 A1, A2, …로 나타냄) 중 어느 하나의 감광 영역[예를 들어, 감광 영역(A1)으로 함]이, 노광 테이블(241) 상에 있어서 마스크판(210)의 패턴면 M과 대면하는 위치로 된다. 그리고, 감광 영역(A1)이 마스크판(210)의 패턴면 M과 대면하는 위치에서 기판(W)의 반송이 일단 정지한 상태로 되고, 이 상태에서 노광을 행함으로써, 감광 영역(A1)에 패턴이 전사된다.In the exposure apparatus 10 according to the embodiment, the substrate W is transported by the transport mechanism unit 100 intermittently by a predetermined amount, and once the transport is performed, the substrate W is transported to the photosensitive surface A (For example, the light-sensitive area A1) among a plurality of light-sensitive areas (represented by A1, A2, ...) to be exposed on the exposure table 241 And faces the pattern surface M of the mask plate 210. The transfer of the substrate W is stopped once at the position where the photosensitive area A1 faces the pattern surface M of the mask plate 210 and the exposure is performed in this state, The pattern is transferred.

그리고, 감광 영역(A1)의 노광이 종료되면, 기판(W)이 다시 소정량만큼 반송되어, 기판(W)의 감광면(A)에 있어서 다음의 감광 영역[예를 들어, 감광 영역(A2)으로 함]이, 노광 테이블(241) 상에 있어서 마스크판(210)의 패턴면 M과 대면하는 위치로 된다. 그리고, 감광 영역(A2)이 마스크판(210)의 패턴면 M과 대면하는 위치에서 기판(W)의 반송이 일단 정지한 상태로 되고, 이 상태에서 노광을 행함으로써, 감광 영역(A2)에 패턴이 전사된다. 이와 같은 동작을 반복해서 행한다.When the exposure of the light-sensitive area A1 is completed, the substrate W is again conveyed by a predetermined amount, and the next light-sensitive area (for example, the light-sensitive area A2 ) Is located at a position facing the pattern surface M of the mask plate 210 on the exposure table 241. The transfer of the substrate W is stopped once at the position where the photosensitive area A2 faces the pattern surface M of the mask plate 210 and the exposure is performed in this state, The pattern is transferred. This operation is repeated.

이와 같은 동작을 행하는 과정에서, 기판(W)은 기판 제진 롤러(140)에 의해 제진되고, 마스크판(210)의 패턴면 M은 마스크 제진 롤러(230)에 의해 제진된다. 기판 제진 롤러(140)에 의한 기판(W)의 제진 및 마스크 제진 롤러(230)에 의한 마스크판(210)의 패턴면 M의 제진은 기판(W)이 반송되고 있는 동안에 행해진다. 또한, 기판 제진 롤러(140)에 의한 기판(W)의 제진은 기판(W)이 반송될 때마다 기판 제진 롤러(140)가 회전함으로써 행할 수 있으므로, 여기서는, 마스크 제진 롤러(230)에 의한 제진 동작에 대해 설명한다.In the course of performing such an operation, the substrate W is demagnetized by the substrate dust-removing roller 140, and the pattern surface M of the mask plate 210 is demagnetized by the mask dust-removing roller 230. The vibration of the substrate W by the substrate vibration damping roller 140 and the vibration of the pattern surface M of the mask plate 210 by the mask vibration damping roller 230 are performed while the substrate W is being conveyed. The vibration of the substrate W by the substrate vibration damping roller 140 can be performed by rotating the substrate vibration damping roller 140 every time the substrate W is conveyed. The operation will be described.

도 4의 (a)는 마스크 제진 롤러(230)가 제진 동작을 개시하기 전의 상태이고, 이와 같은 상태로 되어 있을 때의 마스크 제진 롤러(230)의 위치를 초기 위치라고 한다. 이때, 기판(W)은 이미 반송 동작을 개시하고 있는 것으로 한다.4 (a) shows a state before the mask vibration suppressing roller 230 starts vibration suppression operation, and the position of the mask vibration suppression roller 230 when the mask vibration suppression roller 230 is in such a state is referred to as an initial position. At this time, it is assumed that the substrate W has already started the carrying operation.

마스크 제진 롤러(230)가 도 4의 (a)에 도시하는 초기 위치에 있을 때에 있어서는, 당해 마스크 제진 롤러(230)의 x축을 따른 위치[회전축(231)의 x축을 따른 위치] x1은 마스크판(210)의 후방측의 단부(후방측 단부라고 함)(210a)로부터 x축을 따라서 더욱 후방측으로 소정 간격만큼 이격된 위치(제1 위치 x1이라고도 함)로 되어 있다.When the mask vibration suppressing roller 230 is at the initial position shown in FIG. 4A, the position of the mask vibration suppressing roller 230 along the x axis (position along the x axis of the rotation axis 231) (Also referred to as a first position x1) at a predetermined distance from the rear end (hereinafter referred to as the rear end) 210a of the first housing 210 to the rear side further along the x-axis.

또한, 마스크 제진 롤러(230)의 z축을 따른 위치[마스크 제진 롤러(230)에 있어서의 원주 상의 상방측 정점 P1의 z축을 따른 위치] z2는 마스크판(210)의 패턴면 M의 위치 z1보다도 하방측으로 소정 간격만큼 이격된 위치로 되어 있는 것으로 한다.The position z2 of the mask vibration suppressing roller 230 along the z axis (the position along the z axis of the upper side vertex P1 of the circumferential surface of the mask damper roller 230) z2 is smaller than the position z1 of the pattern surface M of the mask plate 210 And are spaced apart from each other by a predetermined distance in the downward direction.

마스크 제진 롤러(230)가 이와 같은 초기 위치에 있을 때에는, 당해 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210)의 패턴면 M에 비접촉으로 되어 있다.When the mask vibration damping roller 230 is at such an initial position, the mask vibration damping roller 230 is not in contact with the pattern surface M of the mask plate 210.

마스크 제진 롤러(230)가 도 4의 (a)에 도시하는 초기 위치에 있는 상태로부터, x축을 따라서 전방측으로 소정량만큼 진행하여, 마스크판(210)의 후방측 단부(210a) 부근의 평면부, 즉 패턴면 M에 있어서의 후방측 단부 e1 부근에 대향하는 위치 x2에 도달하면[도 4의 (b) 참조], 노광 스테이지(240)가 z축을 따라서 소정량 상승하고, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 후방측 단부 e1 부근에 접촉한다[도 4의 (c) 참조]. 그 후, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태로 x축을 따라서 전방(화살표 x방향)으로 진행해 간다.The mask vibration reduction roller 230 moves forward by a predetermined amount along the x-axis from the initial position shown in Fig. 4 (a) so that the surface of the planar portion near the rear side end portion 210a of the mask plate 210 (See FIG. 4B), the exposure stage 240 is raised by a predetermined amount along the z-axis, and the mask vibration reduction roller 230 Contact with the vicinity of the rear end portion e1 of the mask plate 210 on the pattern surface M (see Fig. 4 (c)). Thereafter, the mask vibration suppressing roller 230 moves forward (arrow x direction) along the x axis in contact with the pattern surface M of the mask plate 210.

이때, 마스크 제진 롤러(230)는 스프링(257)의 신장력이 작용한 상태에서, 도 4의 (c)에 도시한 바와 같이, 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태로 회전하면서 진행해 간다. 이에 의해, 마스크판(210)의 패턴면 M에 존재하는 진애를, 마스크 제진 롤러(230)의 측에 부착시킬 수 있고, 그것에 의해, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진할 수 있다.4 (c), in a state in which the extension force of the spring 257 is applied, the mask vibration damper 230 advances while rotating in contact with the pattern surface M of the mask plate 210 Goes. As a result, the dust present on the pattern surface M of the mask plate 210 can be attached to the side of the mask vibration damper 230, whereby the pattern surface M of the mask plate 210 can be damped.

이와 같이, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태에 있어서는, 당해 마스크 제진 롤러(230)는 스프링(257)의 신장력으로 마스크판(210)의 패턴면 M을 가압한 상태로 되어 있다. 이로 인해, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉할 때의 마스크판(210)에 대한 가압력 등의 제어는 특별히 행할 필요는 없다.In this state, when the mask vibration damper 230 is in contact with the pattern surface M of the mask plate 210, the mask vibration damper 230 is pressed against the pattern surface M of the mask plate 210 by the extension force of the spring 257 As shown in Fig. Therefore, it is not necessary to particularly control the pressing force or the like with respect to the mask plate 210 when the mask vibration suppressing roller 230 contacts the pattern surface M of the mask plate 210.

또한, 마스크 제진 롤러(230)는 점착력을 갖는 것이지만, 그 점착력은 마스크판(210)의 패턴면 M에 존재하는 진애를 들러붙게 하여 제거할 정도의 것이므로, 마스크판(210)의 패턴면 M에 형성되어 있는 패턴 등에 악영향을 미치는 일은 없다.Although the masking roller 230 has an adhesive force, the adhesive force is such that the adhesive force is adhered to and removed from the pattern surface M of the mask plate 210. Therefore, There is no adverse effect on the formed pattern or the like.

이와 같이 하여, 마스크 제진 롤러(230)가, 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태로 회전하면서 전방측으로 진행하여, 마스크판(210)의 전방측의 단부(전방측 단부라고 함)(210b), 즉 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 전방측 단부 e2 부근에 도달하면[도 4의 (d) 참조], 노광 스테이지(240)는 도 4의 (d)의 상태로부터 z축을 따라서 하강한다[도 5의 (a) 참조]. 이때의 마스크 제진 롤러(230)의 z축을 따른 위치(원주상의 상방측 정점 P1의 z축을 따른 위치)는 도 4의 (a)와 동일한 위치 z2이다. 또한, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 하강하면, 당해 노광 스테이지(240)의 하강과 함께 반송 기구부(100) 전체도 소정량만큼 하강한다.In this way, the mask vibration reduction roller 230 advances toward the front side while rotating in contact with the pattern surface M of the mask plate 210 so that the front end (referred to as the front end) of the mask plate 210, (D) of Fig. 4), the exposure stage 240 is moved from the state shown in Fig. 4 (d) to the state shown in Fig. 4 and descends along the z-axis (see Fig. 5 (a)). The position of the mask vibration suppressing roller 230 along the z axis (the position along the z axis of the upper side apex P1 of the circumference) at this time is the same position z2 as in Fig. 4 (a). When the exposure stage 240 is lowered by a predetermined amount, the entire transporting mechanism 100 is lowered by a predetermined amount along with the lowering of the exposure stage 240.

그리고, 마스크 제진 롤러(230)는 더욱 전방으로 진행하여, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)(패턴면 M의 전방측 단부 e2)로부터 x축을 따라서 전방측으로 소정 간격 이격된 위치 x4(제2 위치 x4라고도 함)에 도달한다[도 5의 (b) 참조].The mask vibration reduction roller 230 further advances forward and moves to a position x4 (see FIG. 3) spaced from the front side end portion 210b (front side end portion e2 of the pattern surface M) Quot; second position x4 ") (see Fig. 5 (b)).

마스크 제진 롤러(230)가 x축을 따라서 도 4의 (a)에 도시하는 제1 위치 x1로부터 도 5의 (b)에 도시하는 제2 위치 x4로 진행할 때까지의 동작은 기판(W)이 반송되고 있는 동안에 행해진다. 이로 인해, 장척 시트 형상의 기판(W)을 소정량씩 간헐적으로 소정량씩 반송하여 노광을 행하는 등의 노광 장치(10)가 행하는 원래의 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진할 수 있다. 또한, 기판 제진 롤러(140)에 의한 기판(W)의 제진도 기판(W)의 반송 중에 행할 수 있으므로, 기판(W) 및 마스크판(210)의 패턴면 M의 제진을 행하는 것에 의한 시간의 손실은 발생하지 않는다.The operation from the first position x1 shown in Fig. 4 (a) to the second position x4 shown in Fig. 5 (b) along the x-axis of the mask vibration suppressing roller 230 is performed by the substrate W Is being performed. The mask plate 210 can be moved without affecting the original exposure operation performed by the exposure apparatus 10 such as carrying the substrate W in the elongated sheet shape by a predetermined amount intermittently by a predetermined amount, The patterned surface M of the pattern can be damped. Since the vibration of the substrate W by the substrate vibration damping roller 140 can also be performed during the transportation of the substrate W, the vibration of the pattern surface M of the substrate W and the mask plate 210 can be suppressed, No loss occurs.

이와 같이, 마스크 제진 롤러(230)가, 도 5의 (b)에 도시하는 위치 x4(제2 위치 x4)에 도달하면, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 상승한다[도 5의 (c) 참조]. 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 상승하면, 당해 노광 스테이지(240)의 상승과 함께 반송 기구부(100) 전체도 소정량만큼 상승한다.5 (b)), the exposure stage 240 is lifted by a predetermined amount (Fig. 5 (c)). As a result, Reference]. When the exposure stage 240 is lifted by a predetermined amount, the entire transport mechanism part 100 is lifted by a predetermined amount with the rise of the exposure stage 240. [

또한, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 상승할 때, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)(패턴면 M의 전방측 단부 e2)로부터 x축을 따라서 전방측으로 소정 간격 이격된 위치 x4(제2 위치 x4)에 도달하고 있으므로, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210) 및 마스크판 유지부(220)에 접촉해 버리는 일이 없다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)는 도시하고 있지 않은 다른 구성 요소에도 접촉하지 않도록 되어 있는 것으로 한다. 이에 의해, 노광 스테이지(240)는 도 5의 (c)에 도시한 바와 같이 상승할 수 있다.When the exposure stage 240 is lifted by a predetermined amount, the mask vibration suppressing roller 230 is moved from the front side end portion 210b of the mask plate 210 (the front side end portion e2 of the pattern surface M) toward the front side along the x- The mask vibration reduction roller 230 does not come in contact with the mask plate 210 and the mask plate holding portion 220 since the mask vibration reduction roller 230 reaches the position x4 (second position x4) spaced apart by a predetermined distance. Further, it is assumed that the mask vibration damping roller 230 is not brought into contact with other components not shown. Thereby, the exposure stage 240 can be raised as shown in Fig. 5 (c).

노광 스테이지(240)의 상승량은 기판의 감광면(A)[이 시점에 있어서는 감광 영역(A1)으로 함]이 마스크판(210)의 패턴면 M에 근접 또는 접촉하게 될 정도의 상승량이다. 도 5의 (c)에 도시한 바와 같이, 기판(W)의 감광 영역(A1)이 마스크판(210)의 패턴면 M에 근접 또는 접촉하는 상태로 되면, 이 상태에서 노광을 행한다. 이에 의해, 기판(W)의 감광 영역(A1)에 패턴이 전사된다.The amount of rise of the exposure stage 240 is an amount of rise so that the photosensitive surface A of the substrate (referred to as the photosensitive region A1 at this point) comes close to or comes into contact with the pattern surface M of the mask plate 210. As shown in FIG. 5C, when the photosensitive area A1 of the substrate W comes into a state of being in proximity to or in contact with the pattern surface M of the mask plate 210, exposure is performed in this state. Thereby, the pattern is transferred to the light-sensitive area A1 of the substrate W.

또한, 노광을 행할 때에 있어서의 기판(W)의 감광면과 마스크판(210)의 패턴면 M 사이는 밀착시키도록 해도 되지만, 약간의 공극(예를 들어, 1/100㎜ 내지 4/100㎜ 정도)이 존재할 정도의 간격을 설정하도록 해도 된다.The photosensitive surface of the substrate W and the pattern surface M of the mask plate 210 may be brought into close contact with each other at the time of performing exposure. However, a slight gap (for example, 1/100 to 4/100 mm May be set so that there is a certain amount of time.

이와 같이, 기판(W)의 감광면과 마스크판(210)의 패턴면 M 사이에, 약간의 공극(예를 들어, 1/100㎜ 내지 4/100㎜ 정도)을 형성함으로써, 기판(W)측에 약간의 진애가 잔존하고 있었다고 해도, 잔존하고 있는 진애가 마스크판(210)의 패턴면 M에 부착되어 버리는 등의 것을 방지할 수 있다.By forming a slight gap (for example, about 1/100 to 4/100 mm) between the photosensitive surface of the substrate W and the pattern surface M of the mask plate 210 as described above, It is possible to prevent the remaining dust from adhering to the pattern surface M of the mask plate 210 and the like.

그리고, 노광이 종료된 후, 기판(W)의 간헐적인 반송 동작이 재개되어, 기판(W)은 소정량만큼 반송된다. 이와 같이, 기판(W)의 간헐적인 반송 동작이 재개되면, 노광 스테이지(240)는, 도 5의 (c)의 상태로부터 도 6의 (a)에 도시한 바와 같이 z축을 따라서 하강한다. 또한, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 하강하면, 당해 노광 스테이지(240)의 하강과 함께 반송 기구부(100) 전체도 소정량만큼 하강한다. 또한, 이때의 마스크 제진 롤러(230)의 x축을 따른 위치는, 도 5의 (b)와 동일한 위치(제2 위치 x2)이다.After the exposure is completed, the intermittent transport operation of the substrate W is resumed, and the substrate W is transported by a predetermined amount. As described above, when the intermittent transport operation of the substrate W is resumed, the exposure stage 240 descends along the z-axis from the state of FIG. 5 (c) to the state shown in FIG. 6 (a). When the exposure stage 240 is lowered by a predetermined amount, the entire transporting mechanism 100 is lowered by a predetermined amount along with the lowering of the exposure stage 240. The position along the x axis of the mask vibration suppressing roller 230 at this time is the same position (second position x2) as in Fig. 5 (b).

그 후, 도 6의 (a)에 도시하는 위치로부터, 마스크 제진 롤러(230)는 x축을 따라서 후방측으로 소정량만큼 진행하고, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b) 부근의 평면부, 즉 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 전방측 단부 e2 부근에 대향하는 위치 x2에 도달하면[도 6의 (b) 참조], 노광 스테이지(240)가 z축을 따라서 소정량 상승하고, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 전방측 단부 e2 부근에 접촉한다[도 6의 (c) 참조]. 그 후, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태로 x축을 따라서 후방측(화살표 x' 방향)으로 진행해 간다.6 (a), the mask vibration suppressing roller 230 advances backward along the x axis by a predetermined amount, and the plane portion near the front side end portion 210b of the mask plate 210, that is, (See FIG. 6 (b)) opposite to the vicinity of the front end portion e2 on the pattern surface M of the mask plate 210, the exposure stage 240 is raised by a predetermined amount along the z axis, The mask vibration reduction roller 230 is brought into contact with the vicinity of the front end portion e2 on the pattern surface M of the mask plate 210 (see Fig. 6 (c)). Thereafter, the mask vibration reduction roller 230 advances along the x-axis in the rear side (in the direction of arrow x ') in contact with the pattern surface M of the mask plate 210.

이때, 마스크 제진 롤러(230)는 스프링(257)의 신장력이 작용한 상태에서 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태로 회전하면서 진행해 간다. 이에 의해, 마스크판(210)의 패턴면 M에 존재하는 진애를, 마스크 제진 롤러(230)의 측에 부착시킬 수 있고, 그것에 의해, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진할 수 있다.At this time, the mask vibration suppressing roller 230 advances while being in contact with the pattern surface M of the mask plate 210 in a state in which the extension force of the spring 257 is applied. As a result, the dust present on the pattern surface M of the mask plate 210 can be attached to the side of the mask vibration damper 230, whereby the pattern surface M of the mask plate 210 can be damped.

이와 같이 하여, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태로 회전하면서 후방측으로 진행하여, 곧, 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 후방측 단부 e1 부근에 도달한다[도 6의 (d) 참조]. 그러면, 노광 스테이지(240)는 도 6의 (d)의 상태로부터 하강한다[도 7의 (a) 참조]. 이때의 마스크 제진 롤러(230)의 z축을 따른 위치(원주 상의 상방측 정점 P1의 z축을 따른 위치)는 도 4의 (a)와 동일한 위치 z2이다. 또한, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 하강하면, 당해 노광 스테이지(240)의 하강과 함께 반송 기구부(100) 전체도 소정량만큼 하강한다.In this way, the mask vibration reduction roller 230 advances toward the rear side while rotating in contact with the pattern surface M of the mask plate 210, and the mask rearward end portion e1 (See Fig. 6 (d)). Then, the exposure stage 240 descends from the state of FIG. 6 (d) (see FIG. 7 (a)). At this time, the position along the z axis of the mask vibration-damping roller 230 (the position along the z axis of the upper vertex P1 of the circumferential phase) is the same position z2 as in Fig. 4 (a). When the exposure stage 240 is lowered by a predetermined amount, the entire transporting mechanism 100 is lowered by a predetermined amount along with the lowering of the exposure stage 240.

그리고, 마스크 제진 롤러(230)는 더욱 후방측으로 진행하여, 마스크판(210)에 있어서의 후방측 단부(210a)(패턴면 M의 후방측 단부 e1)로부터 x축을 따라서 후방측으로 소정 간격 이격된 위치 x1(제1 위치 x1)에 도달한다[도 7의 (b) 참조].The mask vibration reduction roller 230 further advances rearward to a position spaced from the rear side end portion 210a (rear side end portion e1 of the pattern surface M) of the mask plate 210 by a predetermined distance toward the rear side along the x axis x1 (first position x1) (see Fig. 7 (b)).

마스크 제진 롤러(230)가 도 5의 (b)에 도시하는 제2 위치 x4로부터 도 7의 (b)에 도시하는 제1 위치 x1로 진행할 때까지의 동작은 기판(W)이 반송되고 있는 동안에 행해진다. 이로 인해, 장척 시트 형상의 기판(W)을 소정량씩 간헐적으로 소정량씩 반송하여 노광을 행하는 등의 노광 장치(10)가 행하는 원래의 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진할 수 있다.The operation from the second position x4 shown in Fig. 5 (b) to the first position x1 shown in Fig. 7 (b) is performed during the conveyance of the substrate W Is done. The mask plate 210 can be moved without affecting the original exposure operation performed by the exposure apparatus 10 such as carrying the substrate W in the elongated sheet shape by a predetermined amount intermittently by a predetermined amount, The patterned surface M of the pattern can be damped.

이와 같이, 마스크 제진 롤러(230)가, 도 7의 (b)에 도시한 바와 같이, 위치 x1(제1 위치 x1)에 도달하면, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 상승한다[도 7의 (c) 참조]. 이는, 도 5의 (c)와 동일한 동작이다. 이때, 노광 스테이지(240)의 상승에 수반하여 반송 기구부(100) 전체도 소정량만큼 상승한다. 도 7의 (c)에 도시한 바와 같이, 기판(W)의 감광면[감광 영역(A2)으로 함]이 마스크판(210)의 패턴면 M에 근접 또는 접촉하는 상태로 되면, 이 상태에서 노광을 행한다. 이에 의해, 기판(W)의 감광 영역(A2)에 패턴이 전사된다.7 (b), when the mask vibration reduction roller 230 reaches the position x1 (first position x1), the exposure stage 240 is lifted by a predetermined amount (Fig. 7 (c)]. This is the same operation as in (c) of Fig. At this time, as the exposure stage 240 rises, the entire transport mechanism part 100 also rises by a predetermined amount. As shown in Fig. 7C, when the photosensitive surface of the substrate W (referred to as the light-sensitive area A2) comes into a state of being in proximity to or in contact with the pattern surface M of the mask plate 210, Exposure is performed. As a result, the pattern is transferred to the light-sensitive area A2 of the substrate W.

이 경우도, 노광 스테이지(240)가 소정량만큼 상승할 때에는, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)(패턴면 M의 후방측 단부 e1)로부터 x축을 따라서 후방측으로 소정 간격 이격된 위치 x1(제1 위치 x1)에 도달하고 있으므로, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크판(210) 및 마스크판 유지부(220)에 접촉해 버리는 일이 없다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)는, 도시하고 있지 않은 다른 구성 요소에도 접촉하지 않도록 되어 있는 것으로 한다. 이에 의해, 노광 스테이지(240)는 도 7의 (c)에 도시한 바와 같이 상승할 수 있다.In this case as well, when the exposure stage 240 is lifted by a predetermined amount, the mask vibration suppressing roller 230 is moved along the x-axis from the rear side end portion 210a (rear side end portion e1 of the pattern surface M) of the mask plate 210 The mask vibration reduction roller 230 does not come in contact with the mask plate 210 and the mask plate holding portion 220 because it reaches the position x1 (first position x1) spaced rearward by a predetermined distance. Further, it is assumed that the mask vibration damping roller 230 is not brought into contact with other components not shown. Thereby, the exposure stage 240 can rise as shown in Fig. 7 (c).

그리고, 노광이 종료된 후, 노광 스테이지(240)는, 도 7의 (c)의 상태로부터 하강한다. 이때, 기판(W)의 간헐적인 반송 동작도 재개되어 있고, 기판(W)은 소정량만큼 반송된다. 또한, 노광이 종료된 후, 노광 스테이지(240)가, 도 7의 (c)의 상태로부터 하강했을 때의 상태는, 도 4의 (a)와 동일한 상태로 된다. 이 상태로부터, 다시, 도 4의 (b) 내지 도 4의 (d), 도 5의 (a) 내지 도 5의 (c), 도 6의 (a) 내지 도 6의 (d) 및 도 7의 (a) 내지 도 7의 (c)를 순차 진행하여 도 4의 (a)로 복귀되는 등의 동작을 반복해서 행한다.After the exposure is completed, the exposure stage 240 descends from the state of FIG. 7 (c). At this time, the intermittent transport operation of the substrate W is resumed, and the substrate W is transported by a predetermined amount. Further, after the exposure is completed, the state when the exposure stage 240 is lowered from the state shown in Fig. 7 (c) is the same as that shown in Fig. 4 (a). From this state, as shown in Figs. 4B to 4D, Figs. 5A to 5C, Figs. 6A to 6D, (A) to Fig. 7 (c) sequentially to return to Fig. 4 (a).

이와 같이, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서는, 마스크 제진 롤러(230)는 제1 위치 x1과 제2 위치 x4 사이를, 왕복 이동할 때의 가동 범위로 하여, 당해 가동 범위 내를 진행하면서 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 동작을 행한다. 그리고, 마스크 제진 롤러(230)가 가동 범위 내를 전방측으로 진행하는 동작을 전방 진행 동작으로 하고, 마스크 제진 롤러(230)가 가동 범위 내를 후방측으로 진행하는 동작을 후방 진행 동작으로 했을 때, 마스크 제진 롤러(230)는 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작 각각에 있어서 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 동작을 행한다. 또한, 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작 각각에 있어서 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 동작은 기판(W)이 간헐적으로 소정량씩 반송되어 가는 동작 사이에 교대로 행해진다. 이로 인해, 마스크 제진 동작을 효율적으로 행할 수 있다.As described above, in the exposure apparatus 10 according to the embodiment, the mask vibration suppressing roller 230 moves between the first position x1 and the second position x4 as the movable range when reciprocally moving, advances within the movable range The pattern surface M of the mask plate 210 is damped. When the operation of advancing the mask vibration reduction roller 230 forward in the movable range is the forward advancing operation and the operation of advancing the mask vibration suppressing roller 230 in the movable range backward is the rearward advancing operation, The vibration suppression roller 230 performs an operation of suppressing the pattern surface M of the mask plate 210 in each of the forward movement operation and the backward movement operation. The operation of damping the pattern surface M of the mask plate 210 in each of the forward advancing operation and the backward advancing operation is alternately performed between the operations in which the substrate W is transported by a predetermined amount intermittently. As a result, the mask vibration reduction operation can be performed efficiently.

그런데, 마스크 제진 롤러(230)가, 마스크판(210)에 대해 x축 및 z축을 따라서 각각 이격되어 있는 위치로 되어 있는 상태[도 4의 (a) 참조]로부터, 마스크 제진 롤러(230)가, 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한 상태[도 4의 (c) 참조]로 될 때에는, 도 4의 (a)로부터 도 4의 (c)에 도시한 바와 같이, 마스크 제진 롤러(230)는 직접 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한다.4 (a)), the mask vibration suppressing roller 230 is moved from the position where the mask vibration suppressing roller 230 is spaced apart from the mask plate 210 along the x axis and the z axis (See Fig. 4 (c)) of the mask plate 210, as shown in Figs. 4 (a) to 4 (c) 230 contact the pattern surface M of the mask plate 210 directly.

이로 인해, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)를 전방측으로 눌러 버리는 일이 없어져, 마스크판(210)의 위치 어긋남을 방지할 수 있음과 함께, 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)에 있어서의 코너부 등의 파손을 방지할 수 있다.This prevents the mask damper roller 230 from pressing the rear side end portion 210a of the mask plate 210 to the front side so that the mask plate 210 can be prevented from being displaced, It is possible to prevent breakage of the corner portion or the like at the rear side end portion 210a of the front end portion 210a.

또한, 도 4의 (c)에 있어서는, 마스크 제진 롤러(230)가 패턴면 M에 접촉했을 때의 x축을 따른 위치 x2는 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)(패턴면 M의 후방측 단부 e1)에 일치한 위치로 되어 있지만, 반드시 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)(패턴면 M의 후방측 단부 e1)에 일치한 위치로 할 필요는 없고, 마스크판(210)의 후방측 단부(210a) 부근의 평면부, 즉 패턴면 M의 후방측 단부 e1 부근(예를 들어, 패턴면 M에 있어서 실제로 패턴이 형성되어 있는 패턴 형성 영역의 후방측 단부)으로 해도 된다. 요컨대, 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)를 전방측으로 눌러 버리거나, 마스크판(210)의 후방측 단부(210a)에 있어서의 코너부 등을 파손시키는 일이 없는 위치이고, 또한 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 패턴 형성 영역을 확실하게 제진할 수 있는 위치이면 된다.4C, a position x2 along the x-axis when the mask vibration damper 230 contacts the pattern surface M corresponds to the rear side end portion 210a of the mask plate 210 It is not always necessary to set the position corresponding to the rear side end portion 210a of the mask plate 210 (the rear side end portion e1 of the pattern surface M) (For example, a rear end portion of the pattern formation region in which a pattern is actually formed on the pattern surface M) of the planar portion in the vicinity of the rear-side end portion 210a of the pattern surface M. That is, it is a position where the rear side end portion 210a of the mask plate 210 is pressed forward, or the corner portion or the like at the rear side end portion 210a of the mask plate 210 is not broken, It is only required that the pattern forming region on the pattern surface M of the semiconductor substrate 210 can be surely damped.

또한, 마스크 제진 롤러(230)가, 제2 위치 x4로부터 후방측으로 진행하는 경우에 있어서도, 마스크 제진 롤러(230)가, 마스크판(210)에 대해 x축 및 z축을 따라서 각각 이격된 위치로 되어 있는 상태[도 6의 (a) 참조]로부터, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)에 접촉한 상태[도 6의 (c) 참조]로 될 때에는, 도 6의 (a)로부터 도 6의 (c)에 도시한 바와 같이, 마스크 제진 롤러(230)가 직접 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉한다.Further, even when the mask vibration damper 230 advances from the second position x4 to the rear side, the mask vibration reduction roller 230 is positioned at a position spaced apart from the mask plate 210 along the x axis and the z axis (See Fig. 6 (c)) from the mask damper roller 230 (see Fig. 6 (a) 6 (c), the mask vibration suppressing roller 230 directly contacts the pattern surface M of the mask plate 210. As shown in Fig.

이로 인해, 마스크 제진 롤러(230)가 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)를 후방측으로 눌러 버리는 일이 없어져, 마스크판(210)의 위치 어긋남을 방지할 수 있음과 함께, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)에 있어서의 코너부 등의 파손을 방지할 수 있다.This prevents the mask vibration suppressing roller 230 from pressing the front side end portion 210b of the mask plate 210 to the rear side so as to prevent displacement of the mask plate 210, It is possible to prevent breakage of the corner portion or the like at the front side end portion 210b.

또한, 도 6의 (c)에 있어서는, 마스크 제진 롤러(230)가 패턴면 M에 접촉했을 때의 x축을 따른 위치 x3은 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)(패턴면 M의 전방측 단부 e2)에 일치한 위치로 되어 있지만, 이 경우도, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)(패턴면 M의 전방측 단부 e2)에 일치한 위치로 할 필요는 없고, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b) 부근의 평면부, 즉 패턴면 M의 전방측 단부 e2 부근(예를 들어, 패턴면 M에 있어서 실제로 패턴이 형성되어 있는 패턴 형성 영역의 전방측 단부)으로 해도 된다. 요컨대, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)를 후방측으로 눌러 버리거나, 마스크판(210)의 전방측 단부(210b)에 있어서의 코너부 등을 파손시키는 일이 없는 위치이고, 또한 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 패턴 형성 영역을 확실하게 제진할 수 있는 위치이면 된다.6C, a position x3 along the x-axis when the mask damper roller 230 contacts the pattern surface M is the front side end 210b of the mask plate 210 In this case, it is not necessary to be in a position coinciding with the front side end portion 210b (the front side end portion e2 of the pattern surface M) of the mask plate 210, (For example, a front side end of a pattern forming region in which a pattern is actually formed on the pattern side M) of the flat surface portion near the front side end 210b of the pattern surface 210, that is, the front side edge e2 of the pattern surface M You can. In other words, it is a position where the front side end portion 210b of the mask plate 210 is pushed to the rear side or the corner portion or the like at the front side end portion 210b of the mask plate 210 is not broken, It is only required that the pattern forming region on the pattern surface M of the semiconductor substrate 210 can be surely damped.

이상 설명한 바와 같이, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 따르면, 마스크 제진 롤러(230)에 의해, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 동작은 기판(W)이 반송되고 있는 동안에 자동으로 행해진다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)에 의한 마스크판(210)의 패턴면 M의 제진뿐만 아니라, 기판 제진 롤러(140)에 의해 기판(W)의 제진을 행할 수 있다. 또한, 기판 제진 롤러(140)가 기판(W)을 제진하는 동작도, 기판(W)이 반송되고 있는 동안에 자동적으로 행해진다. 이로 인해, 롤 투 롤 방식의 노광 장치에 있어서 원래 행해지고 있는 노광 동작에 영향을 미치는 일 없이, 마스크판(210)의 패턴면 M 및 기판(W)의 제진을 행할 수 있다. 이에 의해, 원래의 노광 동작 속도를 유지할 수 있다.As described above, according to the exposure apparatus 10 according to the embodiment, the operation of damping the pattern surface M of the mask plate 210 by the mask vibration damping roller 230 can be automatically performed while the substrate W is being conveyed . The vibration of the substrate W can be performed by the substrate vibration damping roller 140 as well as the vibration of the pattern surface M of the mask plate 210 by the mask vibration damping roller 230. The operation of the substrate vibration damping roller 140 to damp the substrate W is also automatically performed while the substrate W is being conveyed. Thus, the pattern surface M of the mask plate 210 and the substrate W can be vibrated without affecting the exposure operation originally performed in the roll-to-roll type exposure apparatus. Thus, the original exposure operation speed can be maintained.

또한, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 있어서는, 마스크 제진 롤러(230)는 스프링(257)의 신장력에 의해 마스크판(210)의 패턴면 M에 소정의 가압력을 부여한 상태로 접촉하는 구조로 되어 있다. 이로 인해, 마스크 제진 롤러(230)를 패턴면 M에 적절한 가압력으로 접촉시킬 수 있어, 접촉시킬 때의 가압력의 제어 등을 고정밀도로 행할 필요가 없다. 또한, 마스크 제진 롤러(230)와 패턴면 M의 간격(z축을 따른 간격)도 고정밀도로 조정할 필요가 없어, 마스크 제진 롤러(230)와 패턴면 M의 간격(z축을 따른 간격)의 조정 작업을 경감시킬 수 있다. 그것에 의해, 실시 형태에 관한 노광 장치(10)에 따르면, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하기 위한 기구 전체를 간단화할 수 있다.In the exposure apparatus 10 according to the embodiment, the mask vibration suppressing roller 230 has a structure in which the pattern surface M of the mask plate 210 is contacted with a predetermined pressing force by the extension force of the spring 257 . Therefore, the mask vibration reduction roller 230 can be brought into contact with the pattern surface M with an appropriate pressing force, and it is not necessary to control the pressing force at the time of contact with high precision. Further, it is not necessary to adjust the interval between the mask vibration damping roller 230 and the pattern surface M (the interval along the z axis) with high precision, and the adjustment operation of the interval between the mask vibration damping roller 230 and the pattern surface M Can be reduced. Thereby, according to the exposure apparatus 10 relating to the embodiment, the entire mechanism for damping the pattern surface M of the mask plate 210 can be simplified.

또한, 본 발명은 상기한 실시 형태로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변형 실시가 가능해지는 것이다. 예를 들어, 하기에 나타내는 바와 같은 변형 실시도 가능하다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the following modifications are possible.

(1) 상기 실시 형태에 있어서는, 볼 나사(253L, 253R)를 좌우 양측의 슬라이더(252L, 252R)에 설치하여, 양자를 동기시킨 상태로 회전시킴으로써, 마스크 제진 롤러(230)를 x축을 따라서 왕복 이동시키도록 하였지만, 볼 나사는 좌우 중 어느 하나만으로 해도 된다. 예를 들어, 도 2의 (a)에 있어서의 우측의 슬라이더(252R)에만 볼 나사(253R)를 설치하는 경우에는, 좌측의 슬라이더(252L)는 우측의 슬라이더(252R)의 진행에 연동하여 가이드 레일(251L) 상을 진행하게 된다. 이와 같은 구조로 해도, 마스크 제진 롤러(230)를 x축을 따라서 왕복 이동시키는 것이 가능해진다.(1) In the above embodiment, the ball screws 253L and 253R are provided on the left and right sliders 252L and 252R, and the two are rotated in synchronism with each other, whereby the mask vibration reduction roller 230 is reciprocated along the x- However, the ball screw may be made of only one of the right and left sides. For example, when a ball screw 253R is provided only on the right side slider 252R in Fig. 2A, the left side slider 252L is linked with the guide of the right side slider 252R, And proceeds on the rail 251L. With this structure, it becomes possible to reciprocate the mask vibration reduction roller 230 along the x axis.

또한, 하나의 볼 나사로 좌우 양측의 슬라이더(252L, 252R)를 구동하는 경우, 하나의 볼 나사는 좌측의 슬라이더(252L)와 우측의 슬라이더(252R)의 중간 위치에 x축을 따라서 배치하도록 해도 된다. 이와 같이 함으로써, 하나의 볼 나사로 좌우 양측의 슬라이더(252L, 252R)를 밸런스 좋게 구동시킬 수 있다.When one of the sliders 252L and 252R is driven by one ball screw, one ball screw may be disposed along the x axis at an intermediate position between the left slider 252L and the right slider 252R. By doing so, the sliders 252L and 252R on both the left and right sides can be driven in balance with a single ball screw.

(2) 상기 실시 형태에 있어서는, 마스크 제진부 구동 기구부(250)는 볼 나사를 사용하여 마스크 제진 롤러(230)를 x축을 따라서 왕복 이동시키는 기구로 하였지만, 마스크 제진 롤러를 x축을 따라서 왕복 이동시키는 기구는 다양한 기구를 채용할 수 있다. 또한, 노광 스테이지 구동 기구부(260)도, 마찬가지로, 볼 나사를 사용하여 노광 스테이지(240)를 승강시키는 기구로 하였지만, 노광 스테이지(240)를 z축을 따라서 승강 이동시키는 기구는 다양한 기구를 채용할 수 있다.(2) In the above embodiment, the mask damping mechanism driving mechanism 250 is a mechanism for reciprocally moving the mask damping roller 230 along the x-axis using a ball screw, but it is also possible to reciprocate the mask damping roller along the x- The instrument may employ various instruments. The exposure stage driving mechanism unit 260 is also a mechanism for lifting and lowering the exposure stage 240 using a ball screw in the same manner but it is also possible to employ various mechanisms for lifting and moving the exposure stage 240 along the z- have.

(3) 상기 실시 형태에 있어서는, 마스크 제진 롤러(230)는 마스크 제진 롤러(230) 전체가 점착력을 갖는 부재인 것으로 하여 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 마스크 제진 롤러(230)의 표면만이 점착력을 갖는 것이어도 된다. 예를 들어, 합성 수지 등으로부터 원통체의 표면에 점착력을 갖는 부재를 권취한 것이어도 되고, 또한 원통체의 표면에 점착층이 형성되어 있는 것이어도 된다. 기판 제진 롤러(140)도 마찬가지이다.(3) In the above embodiment, the mask damper roller 230 is a member having the adhesive force as a whole, but the present invention is not limited to this. Only the surface of the mask damper roller 230 It may be one having an adhesive force. For example, a member having an adhesive force may be wound around the surface of the cylindrical body from a synthetic resin or the like, or an adhesive layer may be formed on the surface of the cylindrical body. The same applies to the substrate vibration damping roller 140.

(4) 상기 실시 형태에 있어서는, 기판(W)의 감광면(A)이 상향으로 배치되고, 마스크판(210)의 패턴면 M이 하향으로 배치되어 있는 노광 장치를 예시하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 그 반대의 배치여도 된다. 즉, 기판(W)의 감광면(A)이 하향으로 배치되고, 마스크판(210)의 패턴면 M이 상향으로 배치되어 있는 노광 장치여도 된다.(4) In the above embodiment, the exposure apparatus in which the photosensitive surface A of the substrate W is arranged upward and the pattern surface M of the mask plate 210 is arranged downward is exemplified. However, Otherwise, the opposite order. That is, the exposure apparatus may be an exposure apparatus in which the photosensitive surface A of the substrate W is arranged downward and the pattern surface M of the mask plate 210 is arranged upward.

(5) 상기 실시 형태에 있어서는, 노광부(200)에 있어서 기판(W)의 감광면(A)을 노광시킬 때, 기판(W)의 감광면(A)과 마스크판(210)의 패턴면 M 사이에 약간의 공극을 형성한 상태에서 노광시키도록 한 경우를 예시하였지만, 반드시 기판(W)의 감광면(A)과 마스크판(210)의 패턴면 M 사이에 약간의 공극을 형성할 필요는 없고, 기판(W)의 감광면(A)과 마스크판(210)의 패턴면 M을 밀착시킨 상태에서 노광시키도록 해도 된다.(5) In the above embodiment, when the photosensitive surface A of the substrate W is exposed in the exposure unit 200, the photosensitive surface A of the substrate W and the pattern surface of the mask plate 210 It is necessary to form a slight gap between the photosensitive surface A of the substrate W and the pattern surface M of the mask plate 210 The photosensitive surface A of the substrate W and the pattern surface M of the mask plate 210 may be exposed in close contact with each other.

(6) 상기 실시 형태에 있어서는, 마스크 제진부는 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작 각각에 있어서 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 동작을 행하도록 하였지만, 전방 진행 동작 및 후방 진행 동작 중 어느 한쪽에만 있어서 제진을 행하도록 해도 된다.(6) In the above-described embodiment, the mask damping section performs the operation of damping the pattern surface M of the mask plate 210 in each of the forward movement and the backward movement. However, It is also possible to perform vibration suppression only on one side.

(7) 상기 실시 형태에 있어서는, 마스크 제진부로서는, 점착력을 갖는 부재인 롤러[마스크 제진 롤러(230)]를 사용하여, 마스크판(210)의 패턴면 M에 존재하는 진애를, 마스크 제진 롤러(230)의 점착력에 의해 제진하는 경우를 예시하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 마스크 제진부는 진공 흡인에 의해 제진하는 것이어도 된다. 이와 같이, 마스크 제진부는 진공 흡인에 의해 제진하는 것으로 한 경우의 노광 장치를 본 발명의 노광 장치의 변형예로서 설명한다.(7) In the embodiment described above, as the mask damping portion, the dust present on the pattern surface M of the mask plate 210 is pressed by a roller (mask vibration damper roller 230) The case of vibration damping by the adhesive force of the elastic member 230 is exemplified, but the present invention is not limited thereto. For example, the mask damping portion may be damped by vacuum suction. As described above, an exposure apparatus in the case where the mask damping unit is subjected to vibration damping by vacuum suction is described as a modification of the exposure apparatus of the present invention.

본 발명의 노광 장치의 변형예는, 마스크 제진부(230)는 마스크판(210)의 패턴면 M에 있어서의 y축 방향을 따른 흡인구를 갖고, 흡인에 의해 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 흡인식 마스크 제진부이며, 흡인식 마스크 제진부가 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진하는 동작은 마스크판(210)의 패턴면 M과의 사이에 소정의 공극을 가진 상태로 흡인력을 발휘하면서 마스크판(210)의 패턴면 M을 따라서 x축 방향을 따라서 진행해 가는 동작을 행하는 것이다.A modification of the exposure apparatus of the present invention is characterized in that the mask damping section 230 has a suction port along the y-axis direction on the pattern surface M of the mask plate 210, The operation of damping the pattern surface M of the mask plate 210 is performed in a state of having a predetermined gap between the mask plate 210 and the pattern surface M of the mask plate 210 And moves along the x-axis direction along the pattern surface M of the mask plate 210 while exerting a suction force.

또한, 마스크 제진부가 진공 흡인에 의해 제진하는 것이어도, 노광 장치의 전체적인 구성은 상기한 실시 형태에 있어서 설명한 노광 장치와 동일한 구성으로 할 수 있다. 또한, 진공 흡인에 의해 제진하는 마스크 제진부를, 다음의 설명에 있어서는, 흡인식 마스크 제진부로 한다.Further, even if the mask vibration suppression section is subjected to vibration damping by vacuum suction, the overall configuration of the exposure apparatus can be the same as that of the exposure apparatus described in the above embodiment. In addition, in the following description, the mask damping portion for vibration damping by vacuum suction is referred to as a suction / reception mask damping portion.

이와 같은 흡인식 마스크 제진부를, 예를 들어 도 1에 도시하는 노광 장치에 적용한 경우에 있어서 간단하게 설명한다. 흡인식 마스크 제진부는 마스크판(210)의 폭 방향(도 1에 있어서 y축을 따른 방향)으로 가늘고 긴 흡인구를 갖고 있다. 이와 같은 흡인식 마스크 제진부는 마스크 제진 롤러(230)와 마찬가지로 마스크 제진 롤러 지지부(254L, 254R)에 설치할 수 있다. 이때, 흡인식 마스크 제진부의 흡인 구멍은 마스크판(210)의 패턴면 M에 대향 가능해지도록 상향으로 한다.A description will be made briefly in the case where such a suction / suction masking portion is applied to, for example, the exposure apparatus shown in Fig. The suction / mask blocking portion has an elongated suction portion in the width direction of the mask plate 210 (in the direction along the y-axis in Fig. 1). Such a suction / suction mask damping portion may be provided on the mask vibration damping roller support portions 254L and 254R, like the mask vibration damping roller 230. [ At this time, the suction hole of the suction / suction mask fixing portion is made upward so as to face the pattern surface M of the mask plate 210.

그리고, 제진을 행할 때에 있어서는, 도 4 내지 도 7과 대략 동일한 동작을 행하면 된다. 단, 흡인식 마스크 제진부 및 흡인식 기판 제진부는 마스크판(210)의 패턴면 M에 대해 각각 비접촉의 상태로 제진하므로, 흡인식 마스크 제진부를 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉시킬 필요는 없다. 따라서, 도 4의 (a)에 도시하는 초기 위치에 있어서, 흡인식 마스크 제진부의 흡인구와 마스크판(210)의 패턴면 M의 z축을 따른 간격을 적절하게 설정해 두면, z축을 따른 위치는 그대로인 상태에서, 흡인식 마스크 제진 롤러를 x축을 따라서 왕복 이동시키면 된다.When performing vibration suppression, substantially the same operation as in Figs. 4 to 7 may be performed. However, since the suction and suction mask decompression portions and the suction recognition substrate decomposition portions are damped in a non-contact state with respect to the pattern surface M of the mask plate 210, the suction and mask decompression portions are contacted with the pattern surface M of the mask plate 210 . 4 (a), if the interval between the suction port of the suction / suction mask fixing portion and the z-axis of the pattern surface M of the mask plate 210 is appropriately set, the position along the z-axis is maintained , It is sufficient to reciprocate the suction-suction mask vibration damping roller along the x-axis.

또한, 흡인식 마스크 제진부는 마스크판(210)의 패턴면 M에 대해 비접촉의 상태로 제진하는 것이므로, 마스크 제진 롤러(230)와 같이, 스프링(257)에 의한 신장력으로 마스크판(210)의 패턴면 M에 접촉시키는 구조는 불필요하다.Since the suction-and-reception mask collapse portion is to be damped in a non-contact state with respect to the pattern surface M of the mask plate 210, the force exerted by the spring 257 on the mask plate 210 A structure for making contact with the pattern surface M is unnecessary.

이와 같은 흡인식 마스크 제진부를 사용함으로써도, 상기 실시 형태와 마찬가지로, 기판(W)을 간헐적으로 소정량씩 반송시키는 동안에, 마스크판(210)의 패턴면 M을 제진할 수 있다. 또한, 기판 제진부(140)에 있어서도, 마찬가지로 흡인식 기판 제진부를 사용할 수 있다.Even when such a suction / suction masking portion is used, the pattern surface M of the mask plate 210 can be damped while the substrate W is transported intermittently by a predetermined amount as in the above embodiment. Also in the substrate damping portion 140, a suction-absorbing substrate dicing portion can be used as well.

(8) 상기 실시 형태에 있어서는, 도 1에 도시한 바와 같이 마스크 제진부 제어 장치(400) 및 노광 스테이지 제어 장치(500)는 노광 장치 하우징(300)의 내부에 수납되어 있는 예가 도시되어 있지만, 노광 장치 하우징(300)의 외부에 설치되어 있어도 된다.(8) In the above embodiment, as shown in Fig. 1, an example is shown in which the mask damping portion control device 400 and the exposure stage control device 500 are accommodated in the exposure apparatus housing 300, Or may be provided outside the exposure apparatus housing 300.

(9) 상기 실시 형태에 있어서는, 도 1에 도시한 바와 같이 마스크판(210)의 x축을 따른 길이와 마스크판 유지부(220)의 x축을 따른 길이는 동일한 길이 L1로 하고 있지만, 반드시 동일한 길이일 필요는 없고, 노광 스테이지(240)의 상승에 수반하여 마스크 제진 롤러(230)가 상승할 때, 마스크 제진 롤러(230)의 상승을 방해하지 않는 것이면, 마스크판 유지부(220)의 x축을 따른 길이는 마스크판(210)보다도 길어도 된다.(9) In the above embodiment, the length along the x-axis of the mask plate 210 and the length along the x-axis of the mask plate holding portion 220 are the same length L1 as shown in Fig. 1, And the masking roller 230 is not raised when the masking roller 230 rises with the rise of the exposure stage 240, the x-axis of the masking plate holder 220 May be longer than the mask plate 210.

10 : 노광 장치
100 : 반송 기구
130 : 간헐 이송 기구부
140 : 기판 제진 롤러(기판 제진부)
200 : 노광부
210 : 마스크판
220 : 마스크판 유지부
230 : 마스크 제진 롤러(마스크 제진부)
240 : 노광 스테이지
241 : 노광 테이블
250 : 마스크 제진부 구동 기구부
251L, 251R : 가이드 레일
252L, 252R : 슬라이더
253L, 253R : 마스크 제진부용 볼 나사
257 : 스프링
260 : 노광 스테이지 구동 기구부
261 : 승강대
263 : 노광 스테이지용 볼 나사
300 : 노광 장치 하우징
400 : 마스크 제진부 제어 장치
500 : 노광 스테이지 제어 장치
A : 감광면
A1, A2 : 감광 영역10: Exposure device
100:
130: Intermittent feeding mechanism
140: substrate vibration damping roller (substrate vibration damping portion)
200: Exposure part
210: mask plate
220: mask plate holding part
230: mask vibration damping roller (mask damping portion)
240: exposure stage
241: Exposure table
250: mask control section driving mechanism section
251L, 251R: guide rail
252L, 252R: Slider
253L, 253R: Ball screw for mask damper
257: spring
260: Exposure stage driving mechanism
261:
263: Ball Screw for exposure stage
300: Exposure device housing
400: mask control unit
500: Exposure stage control device
A: Photosensitive surface
A1, A2: Photosensitive area

Claims (7)

송출부와 권취부 사이에 걸쳐져 있는 장척 시트 형상의 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 과정에서, 상기 기판의 감광면과 마스크판의 패턴면을 대면시켜, 상기 기판의 감광면을 노광하는 노광 장치이며,
상기 기판이 x축 및 y축에 의해 형성되는 xy 평면에 있어서의 x축을 따라서 상기 권취부를 향하는 측을 전방측으로 하고, 당해 전방측과는 반대측을 후방측으로 했을 때,
상기 기판을 사이에 두고 상기 마스크판과 대향하는 위치에 배치되어, xy 평면에 직교하는 z축을 따라서 상기 기판과 함께 승강 가능한 노광 스테이지와,
x축을 따른 왕복 이동이 가능하고 상기 노광 스테이지와 함께 z축을 따라서 승강 가능하고, 또한 상기 기판의 감광면으로부터 z축을 따라서 이격된 상태에서 상기 마스크판의 측에 위치하도록 상기 노광 스테이지에 설치되고, 적어도, 상기 마스크판의 상기 후방측의 단부로부터 x축을 따라서 더욱 후방측으로 소정 간격 이격된 제1 위치와 상기 마스크판의 상기 전방측의 단부로부터 x축을 따라서 더욱 전방측으로 소정 간격 이격된 제2 위치 사이의 범위를, 상기 왕복 이동할 때의 가동 범위로 하여, 당해 가동 범위 내를 진행하면서 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하는 마스크 제진부와,
상기 마스크 제진부를 상기 왕복 이동시키기 위한 마스크 제진부 구동 기구부와,
상기 마스크 제진부 구동 기구부를 제어함으로써 상기 마스크 제진부의 상기 왕복 이동을 제어하는 마스크 제진부 제어 장치와,
상기 노광 스테이지를 z축을 따라서 승강 가능하게 하기 위한 노광 스테이지 구동 기구부와,
상기 노광 스테이지 구동 기구부를 제어함으로써 상기 노광 스테이지의 승강을 제어하는 노광 스테이지 제어 장치를 갖고,
상기 마스크 제진부는 적어도 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고 있고,
상기 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 상기 마스크판의 패턴면에 접촉한 상태로 회전해 가는 동작이고,
상기 마스크 제진부가 상기 마스크판에 대해 x축 및 z축을 따라서 각각 이격되어 있는 위치로부터 상기 마스크 제진부를 상기 마스크판의 패턴면에 접촉시킬 때에 있어서는,
상기 마스크 제진부 제어 장치는,
상기 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 대향하는 위치에 도달하도록 상기 마스크 제진부 구동 기구부를 제어하고,
상기 노광 스테이지 제어 장치는,
상기 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 대향하는 위치에 도달하면, 상기 마스크 제진부를 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 x축을 따른 단부 부근에 접촉시키도록 상기 노광 스테이지 구동 기구부를 제어하고,
상기 기판의 감광면을 노광할 때에는,
상기 마스크 제진부 제어 장치는 상기 마스크 제진부가, 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치에 도달한 상태로 되도록 상기 마스크 제진부 구동 기구부를 제어하고,
상기 노광 스테이지 제어 장치는 상기 마스크 제진부가, 상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치에 도달한 상태에 있어서, 상기 노광 스테이지를 z축을 따라서 이동시켜 상기 기판의 감광면과 상기 마스크판의 패턴면이 접촉 또는 근접한 상태로 되도록 상기 노광 스테이지 구동 기구부를 제어하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.In the course of intermittently conveying a long sheet-like substrate which is stretched between the feeding portion and the take-up portion, the photosensitive surface of the substrate and the pattern surface of the mask plate are opposed to each other to expose the photosensitive surface of the substrate Device,
When the side of the substrate facing the winding section along the x-axis in the xy plane formed by the x-axis and the y-axis is the front side and the side opposite to the front side is the rear side,
An exposure stage disposed at a position opposite to the mask plate with the substrate interposed therebetween and capable of moving up and down together with the substrate along a z axis orthogonal to the xy plane,
and is provided on the exposure stage so as to be reciprocally movable along the x-axis, movable along the z-axis together with the exposure stage, and spaced from the photosensitive surface of the substrate along the z-axis, A first position spaced apart from the rear end of the mask plate by a predetermined distance further along the x axis and a second position spaced apart from the front end of the mask plate by a predetermined distance further along the x axis A masking portion for moving the pattern surface of the mask plate while moving in the movable range, the masking portion being a movable range of the reciprocating movement;
A mask damping portion drive mechanism for reciprocating the mask damping portion,
A mask damping portion control device for controlling the reciprocating movement of the mask damping portion by controlling the mask damping portion drive mechanism portion,
An exposure stage drive mechanism for moving the exposure stage along the z axis,
And an exposure stage control device for controlling the lifting and lowering of the exposure stage by controlling the exposure stage drive mechanism,
Wherein the mask damping portion has a roll shape having an adhesive force at least on its surface,
Wherein the operation of the mask damping unit for damping the pattern surface of the mask plate is an operation of rotating in a state of being in contact with the pattern surface of the mask plate,
When the mask damping portion is brought into contact with the pattern surface of the mask plate from a position where the mask damping portion is spaced apart from the mask plate along the x axis and the z axis,
Wherein the mask damping portion control device comprises:
The mask damping section control means controls the mask damping section drive mechanism section so that the mask damping section reaches a position opposite to an end portion in the pattern surface of the mask plate along the x axis,
The exposure stage control device includes:
The mask damping portion is brought into contact with the vicinity of the end portion along the x-axis on the pattern surface of the mask plate when the mask damping portion reaches a position opposite to the vicinity of the end portion along the x- Controls the exposure stage drive mechanism section,
When the photosensitive surface of the substrate is exposed,
The mask damping portion control device controls the mask damping portion drive mechanism portion so that the mask damping portion reaches the first position or the second position,
Wherein the exposure stage control device moves the exposure stage along the z axis to bring the pattern surface of the mask plate into contact with the photosensitive surface of the substrate in a state in which the mask damping section has reached the first position or the second position, Or the exposure stage driving mechanism is controlled so as to be in a state close to the exposure stage. 제1항에 있어서, 상기 마스크 제진부는 상기 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시키고 있는 동안에 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.The exposure apparatus according to claim 1, wherein the mask damping section performs an operation of damping a pattern surface of the mask plate while the substrate is being transported intermittently by a predetermined amount. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 마스크 제진부가 상기 가동 범위 내를 상기 전방측으로 진행하는 동작을 전방 진행 동작으로 하고, 상기 마스크 제진부가 상기 가동 범위 내를 상기 후방측으로 진행하는 동작을 후방 진행 동작으로 했을 때,
상기 마스크 제진부는 상기 전방 진행 동작 및 상기 후방 진행 동작 각각에 있어서 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작을 행하고,
상기 전방 진행 동작 및 상기 후방 진행 동작 각각에 있어서 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 상기 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시켜 가는 동안에 교대로 행하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.3. The method according to claim 1 or 2, wherein the mask vibration suppression unit moves the operation of advancing the inside of the movable range to the front side as a forward advancing operation, and the operation of advancing the inside of the movable range to the rear side as a forward advancing operation In operation,
The mask damping portion performs an operation of damping the pattern surface of the mask plate in each of the forward movement operation and the backward movement operation,
Wherein the operation of damping the pattern surface of the mask plate in each of the forward movement operation and the backward movement operation is performed alternately while the substrate is transported by a predetermined amount intermittently. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마스크 제진부는 상기 마스크판의 패턴면에 접촉한 상태로 되면, 스프링의 신장력에 의해 상기 패턴면을 가압하는 힘이 작용하도록 상기 노광 스테이지에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein when the mask damping portion is in contact with the pattern surface of the mask plate, a force for pressing the pattern surface is applied by the extension of the spring, Is provided in the exposure apparatus. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마스크 제진부는 상기 마스크판의 패턴면에 있어서의 y축 방향을 따른 흡인구를 갖고, 흡인에 의해 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 흡인식 마스크 제진부이며,
상기 흡인식 마스크 제진부가 상기 마스크판의 패턴면을 제진하는 동작은 상기 마스크판의 패턴면과의 사이에 소정의 공극을 가진 상태에서 흡인력을 발휘하면서 상기 마스크판의 패턴면을 따라서 x축 방향을 따라서 진행해 가는 동작인 것을 특징으로 하는, 노광 장치.The mask cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the mask damping portion has a suction port along the y-axis direction on the pattern surface of the mask plate, and the pattern surface of the mask plate is vibrated by suction A suction /
Wherein the operation of damping the pattern surface of the mask plate with the suction and mask vibration damping portion is performed in the direction of the x-axis along the pattern surface of the mask plate while exerting a suction force in a state having a predetermined gap between the mask plate and the pattern surface of the mask plate And therefore, it is an operation to proceed. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판의 적어도 상기 감광면을 제진하는 기판 제진부를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5, further comprising a substrate dicing section for damping at least the photosensitive surface of the substrate. 제6항에 있어서, 상기 기판 제진부는, 적어도 표면에 점착력을 갖는 롤 형상을 이루고, 상기 기판의 적어도 감광면에 접촉한 상태로 설치되어 있고, 상기 기판을 간헐적으로 소정량씩 반송시킬 때의 상기 기판의 반송에 수반하여 회전하는 것을 특징으로 하는, 노광 장치. The image forming apparatus according to claim 6, wherein the substrate dicing portion is provided in a roll shape having an adhesive force on at least a surface thereof and is provided in contact with at least a photosensitive surface of the substrate, And rotates with the conveyance of the substrate.
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