KR20130073134A - 기판 건조 장치 및 그의 제어 방법 - Google Patents

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KR20130073134A KR1020110140828A KR20110140828A KR20130073134A KR 20130073134 A KR20130073134 A KR 20130073134A KR 1020110140828 A KR1020110140828 A KR 1020110140828A KR 20110140828 A KR20110140828 A KR 20110140828A KR 20130073134 A KR20130073134 A KR 20130073134A
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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 건조 대상물인 기판으로 초순수(DIW, de-ionized water) 및 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol) 및 질소 가스(N2)를 공급하는 기판 건조 장치로서, 기판의 건조 공간을 형성하며, 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되는 건조 챔버; 및 스핀척의 상부에서 기판의 중앙으로부터 테두리 방향으로 스윙(swing) 동작 가능하게 장착되며, 초순수를 분사하는 초순수 분사홀, 이스프로필 알코올을 분사하는 IPA 분사홀 및 질소 가스를 분사하는 N2 분사홀이 일체형의 분사몸체에 구비되는 노즐 유닛;을 포함하며, N2 분사홀은 복수 개 구비되어 분사몸체에서 곡선의 경로로 배치될 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 기판에 대한 건조 공정 시 질소 가스의 전달 효율을 향상시킴으로써 초순수 또는 이소프로필 알코올과 같은 약액의 비산을 신뢰성 있게 수행할 수 있다

Description

기판 건조 장치 및 그의 제어 방법{Apparatus to dry substrate and method thereof}
기판 건조 장치 및 그의 제어 방법이 개시된다. 보다 상세하게는, 기판 건조 공정 시 질소 가스의 전달 효율을 향상시킴으로써 기판 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 기판 건조 장치 및 그의 제어 방법이 개시된다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는, 리소그래피(lithography), 증착 및 에칭(etching) 등의 여러 공정을 반복적으로 수행한다. 이러한 공정들을 거치는 동안 기판, 예를 들면 실리콘 재질의 웨이퍼 상에는 파티클(particle), 금속 불순물, 유기물 등이 잔존하게 된다.
종래 알려진 건조 방식으로는 스핀 건조 방식, 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)에 의한 마란고니 효과(Marangoni effect)을 이용한 건조 방식 등이 있다.
그 중 이소프로필 알코올을 이용한 건조 방식은 기판을 순수(DIW, de-ionized water) 안에서 수직 방향으로 끌어올림과 동시에 이소프로필 알코올 및 질소 가스(N2)를 기판 표면의 기액 계면 부근에 불어 놓는 것에 의해 마란고니 효과를 발생시켜 기판을 건조시키는 방식을 말한다. 이러한 건조 방식은 기판 건조 장치에 의해서 실행된다.
여기서 기판 건조 장치란, 반도체 웨이퍼 공정 중 케미컬을 초순수로 세정한 웨이퍼를 디펙트(defect) 또는 액체 등의 이물질이 없는 상태로 만들기 위한 장치이다.
일반적으로 기판 건조 장치는, 건조 공간을 형성하는 건조 챔버와, 기판이 로딩되며 회전 가능한 스핀척과, 회전하는 기판으로 초순수(DIW), 이소프로필 알코올(IPA) 및 질소 가스(N2)를 공급하는 공급부를 구비할 수 있다. 이러한 구성에 의해서, 기판 상의 디펙트 또는 이물질 등을 제거할 수 있다.
그런데, 이러한 종래의 기판 건조 장치에 있어서는, 질소 가스의 분사로 인해 미리 분사된 초순수 및 이스프로필 알코올을 외측으로 비산시킬 수 있는데, 질소 가스가 회전하는 기판 상에서 직선 방향으로 분사됨으로써 순수 및 이소프로필 알코올을 기판으로부터 신뢰성 있게 제거하지 못하는 단점이 있다.
또한, 전술한 공급부가 기판의 중심으로부터 외측으로 스윙하면서 각 물질을 기판 상으로 공급할 수 있는데, 이러한 공급부의 스윙 동작이 단지 기판의 중심으로루터 외측으로 이루어지는 단순 동작이기 때문에 기판의 영역에 따른 건조 공정을 적절하게 조절할 수 없다는 한계도 있다.
이에, 기판 건조 시 기판에 대한 질소 가스의 전달 효율을 향상시킬 수 있으면서도 공급부의 스윙 동작 등을 적절하게 제어함으로써 기판 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 새로운 구조의 기판 건조 장치의 개발이 시급한 실정이다.
본 발명의 실시예에 따른 목적은, 기판에 대한 건조 공정 시 질소 가스의 전달 효율을 향상시킴으로써 초순수 또는 이소프로필 알코올과 같은 약액의 비산을 신뢰성 있게 수행할 수 있는 기판 건조 장치 및 그의 제어 방법을 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 실시예에 따른 다른 목적은, 노즐 유닛의 스윙 속도 및 약액 및 질소 가스의 분사 속도 그리고 스핀척의 회전 속도 등을 정밀하게 제어할 수 있어 기판 건조 효과를 향상시킬 수 있는 기판 건조 장치 및 그의 제어 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 건조 대상물인 기판으로 초순수(DIW, de-ionized water) 및 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol) 및 질소 가스(N2)를 공급하는 기판 건조 장치로서, 상기 기판의 건조 공간을 형성하며, 상기 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되는 건조 챔버; 및 상기 스핀척의 상부에서 상기 기판의 중앙으로부터 테두리 방향으로 스윙(swing) 동작 가능하게 장착되며, 상기 초순수를 분사하는 초순수 분사홀, 상기 이스프로필 알코올을 분사하는 IPA 분사홀 및 상기 질소 가스를 분사하는 N2 분사홀이 일체형의 분사몸체에 구비되는 노즐 유닛;을 포함하며, 상기 N2 분사홀은 복수 개 구비되어 상기 분사몸체에서 곡선의 경로로 배치될 수 있으며, 이러한 구성에 의해서, 기판에 대한 건조 공정 시 질소 가스의 전달 효율을 향상시킴으로써 초순수 또는 이소프로필 알코올과 같은 약액의 비산을 신뢰성 있게 수행할 수 있다
상기 분사몸체에서 상기 기판의 중심을 향하는 일측에 복수 개의 상기 N2 분사홀이 곡선의 경로로 구비되며, 상기 분사몸체에는 상기 N2 분사홀들로부터 이격되되 상기 N2분사홀들의 곡선 경로에 대응되는 곡면측벽이 구비될 수 있다.
상기 분사몸체에는 상기 N2 분사홀들 사이에 배치되도록 상기 곡면측벽으로부터 연장되는 연장측벽이 구비될 수 있다.
상기 분사몸체에서 상기 기판의 테두리 영역을 향하는 타측에 상기 초순수 분사홀이 구비되고, 상기 초순수 분사홀 및 상기 N2 분사홀들의 사이에 상기 IPA 분사홀이 구비될 수 있다.
상기 기판 건조 장치는, 상기 노즐 유닛 또는 상기 스핀척의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하며, 상기 제어부는 상기 기판에 대한 상기 분사몸체의 위치에 따라 상기 분사몸체의 스윙 속도 또는 상기 스핀척의 회전 속도를 제어할 수 있다.
상기 제어부는 상기 노즐 유닛으로부터 분사되는 초순수, 이소프로필 알코올 또는 질소 가스의 분사 속도를 제어할 수 있다.
상기 제어부는 상기 기판에 대한 상기 분사몸체의 위치에 따라 상기 N2 분사홀들의 온/오프(on/off)를 선택적으로 제어할 수 있다.
상기 제어부는 상기 분사몸체를 일방향으로 스윙 동작시키는 1스캔(1 scan) 공정 또는 상기 분사몸체를 왕복으로 스윙 동작시키는 멀티 스캔(multi scan) 공정을 선택적으로 수행할 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치의 제어 방법은, 상기 기판에 대한 상기 분사몸체의 위치에 따라 상기 노즐 유닛의 스윙 속도, 상기 스핀척의 회전 속도를 선택적으로 제어할 수 있으며, 이에 따라 노즐 유닛의 스윙 속도 및 약액 및 질소 가스의 분사 속도 그리고 스핀척의 회전 속도 등을 정밀하게 제어할 수 있어 기판 건조 효과를 향상시킬 수 있다.
상기 노즐 유닛에는 상기 질소 가스를 분사하는 N2 분사홀이 곡선의 경로를 따라 복수 개 구비되며, 상기 기판에 대한 상기 N2 분사홀의 위치에 따라 상기 N2 분사홀이 선택적으로 제어될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판에 대한 건조 공정 시 질소 가스의 전달 효율을 향상시킴으로써 초순수 또는 이소프로필 알코올과 같은 약액의 비산을 신뢰성 있게 수행할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 따르면, 노즐 유닛의 스윙 속도 및 약액 및 질소 가스의 분사 속도 그리고 스핀척의 회전 속도 등을 정밀하게 제어할 수 있어 기판 건조 효과를 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 개략적인 구성을 표현한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 노즐 유닛의 분사몸체의 사시도이다.
도 3은 도 2의 분사몸체를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 4는 도 1에 도시된 노즐 유닛의 스윙 동작에 따른 스핀척의 속도 제어 및 분사 속도의 제어를 표현한 도면이다.
도 5는 도 1에 도시된 노즐 유닛의 스윙 동작에 따른 N2 분사홀의 선택적인 구동을 표현한 도면이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
이하에서 상술되는 기판은, 웨이퍼(Wafer), 엘씨디(LCD, Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel)와 같은 다른 평판디스플레이(Flat Panel Display) 중 어느 하나일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 개략적인 구성을 표현한 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 노즐 유닛의 분사몸체의 사시도이며, 도 3은 도 2의 분사몸체를 개념적으로 도시한 도면이고, 도 4는 도 1에 도시된 노즐 유닛의 스윙 동작에 따른 스핀척의 속도 제어 및 분사 속도의 제어를 표현한 도면이며, 도 5는 도 1에 도시된 노즐 유닛의 스윙 동작에 따른 N2 분사홀의 선택적인 구동을 표현한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치(100)는, 건조 대상물인 기판(W)이 안착되는 스핀척(120)이 장착되며 기판(W)에 대한 건조 작업이 진행되는 건조 챔버(110)와, 스핀척(120)의 상부에서 기판(W)의 중앙으로부터 테두리 방향으로 스윙(swing) 동작 가능하게 장착되며 초순수(DIW), 이소프로필 알코올(IPA) 및 질소 가스(N2)를 분사하는 노즐 유닛(150)을 포함할 수 있다.
각각의 구성에 대해 설명하면, 먼저 본 실시예의 건조 챔버(110)는 원통의 내부 공간을 형성할 수 있다. 다만, 건조 챔버(110)의 형상은 이에 한정되는 것은 아니며 기판(W)의 종류에 따라 다른 형상으로 마련될 수 있음은 당연하다.
도 1을 참조하면, 건조 챔버(110) 내의 하부 영역에는 기판(W)이 안착되는 스핀척(120)이 회전 가능하게 장착된다. 스핀척(120)은 상면에 기판(W)을 로딩한 상태로 회전 가능하며, 이에 따라 후술할 초순수, 이소프로필 알코올 및 질소 가스가 기판(W)의 전면으로 공급될 수 있다.
또한, 건조 챔버(110)의 내부 공간에는 스핀척(120)을 감싸도록 마련되는 회수부(130)가 구비될 수 있다. 이러한 회수부(130)는 기판(W)의 건조 공정 시 공급되는 초순수, 이소프로필 알코올 등과 같은 약액이 개별적으로 회수되는 복수 개의 회수컵(131)을 구비할 수 있다. 복수 개의 회수컵(131)은 높이 방향으로 형성되며, 복수 개의 회수컵(131)에 대한 스핀척(120)의 상대적인 높이를 조절함으로써 기판(W) 공정 시 발생되는 약액을 각각의 회수컵(131)으로 보낼 수 있다.
한편, 본 실시예의 노즐 유닛(150)은, 기판(W)의 건조를 위한 물질, 즉 초순수, 이소프로필 알코올 및 질소 가스를 기판(W)으로 직접 공급하는 부분으로서, 구동원(141)에 의해 스윙 동작하는 스윙암(151)과, 스윙암의 단부에 마련되어 전술한 물질의 분사를 위한 분사홀(161, 162, 165)들이 구비되는 분사몸체(160)를 구비할 수 있다.
여기서 스윙암(151)은 외부의 구동원(141)에 의해 회동축을 중심으로 스윙 동작할 수 있으며, 이러한 구동 원리에 의해 스윙암(151)의 단부에 장착된 분사몸체(160)는 기판(W)의 중앙 영역으로부터 테두리 영역으로 이동할 수 있다.
한편, 본 실시예의 분사몸체(160)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 스윙암(151)의 단부에 장착되어 기판(W)으로 직접 건조를 위한 물질을 분사하는 부분이다. 이러한 분사몸체(160)는, 일체형으로 마련되어 초순수, 이소프로필 알코올 및 질소 가스를 동시에 분사할 수 있고 또한 선택된 것만을 분사할 수 있다.
즉, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 분사몸체(160)에는 초순수 분사를 위한 초순수 분사홀(161), 이소프로필 알코올 분사를 위한 IPA 분사홀(162), 질소가스 분사를 위한 N2 분사홀(165)이 마련되며, 초순수 분사홀(161)은 DIW 공급부(145)와, IPA 분사홀(162)은 IPA 공급부(146)와, N2 분사홀(165)은 N2 공급부(147)와 연결되기 때문에, 분사몸체(160)로부터 초순수, 이소프로필 알코올 및 질소 가스를 동시에 분사할 수도 있고 또한 선택된 것만을 분사할 수 있는 것이다.
보다 자세히 설명하면, 도 2 및 도 3에 도시된 것처럼, 기판(W)의 중심을 향하는 분사몸체(160)의 일측에는 복수 개의 N2 분사홀(165)이 관통 형성되고, 그 후단에는 이소프로필 알코올을 분사하는 IPA 분사홀(162)이 관통 형성되며, 기판(W)의 테두리 방향을 향하는 타측에는 초순수 분사홀(161)이 관통 형성된다.
따라서, 분사몸체(160)가 기판(W)의 중앙 영역으로부터 기판(W)의 테두리 영역으로 스윙 동작하며 초순수, 이소프로필 알코올을 분사할 때, 기판(W)의 중앙 부분에 가장 인접하게 마련된 N2 분사홀(165)로부터 질소 가스가 분사되어 기판(W)에 잔존하는 초순수 또는 이소프로필 알코올을 신뢰성 있게 제거할 수 있다.
다만, 이 때 질소 가스가 기판(W) 방향에 잔존하는 초순수 또는 이소프로필 알코올을 더욱 신뢰성 있게 제거하기 위해서는 질소 가스가 직선 방향으로 분사되는 것이 아니라 퍼지면서 분사되어야 한다.
이를 위해, 본 실시예의 분사몸체(160)에는, 도 2 및 도 3에 도시된 것처럼, 복수 개의 N2 분사홀(165: 165a, 165b, 165c)들이 직선 방향으로 배치되는 것이 아니라 곡선의 경로를 따라 배치된다. 따라서 N2 분사홀(165)들로부터 분사된 질소 가스는 분사몸체(160)의 스윙 동작 시 넓게 퍼지면서 기판(W)으로 공급될 수 있고 따라서 기판(W)에 잔존하는 물질을 깨끗하게 제거할 수 있다.
한편, 분사몸체(160)에는 N2 분사홀(165)들로부터 분사된 질소 가스의 전달 효율을 보다 향상시키기 위해 N2 분사홀(165)들의 곡선 경로를 따라 곡면측벽(166)이 구비될 수 있다. 이러한 곡면측벽(166)은 전체적으로 반원 형상을 가짐으로써 N2 분사홀(165)로부터 분사된 질소 가스가 곡면측벽(166)을 통과하면서 보다 확산될 수 있으며, 따라서 기판(W)으로의 질소 가스 전달 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 분사몸체(160)에는 N2 분사홀(165)들 사이에 배치되도록 곡면측벽(166)으로부터 연장되는 연장측벽(167)이 구비될 수 있으며, 따라서 각각의 N2 분사홀(165)들은 독립된 분사 경로를 가질 수 있어 확산되지만 또한 집중적으로 기판(W)에 질소 가스를 공급할 수 있다.
이와 같이, 본 실시예에 따르면, 질소 가스를 분사하는 N2 분사홀(165)들이 복수 개 구비되고 또한 이러한 N2 분사홀(165)들이 곡선형으로 분사몸체(160)에 구비됨으로써 분사몸체(160)의 스윙 동작 시 종래에 비해 기판(W)으로 질소 가스의 전달 효율을 향상시킬 수 있으며, 따라서 기판(W)의 건조 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 유닛(150)은 스윙 동작이 다양하게 구현될 수 있다. 즉, 분사몸체(160)가 스윙 동작함으로써 기판(W)의 중앙 영역으로부터 테두리 영역까지 이동할 수도 있지만, 이 때 분사몸체(160)의 스윙 속도, 각 분사홀(161, 162, 165)들로부터 분사되는 물질의 분사 속도 또는 스핀척(120)의 회전 속도가 제어될 수 있는 것이다.
이를 위해, 본 실시예의 기판 건조 장치(100)는 노즐 유닛(150) 및 스핀척(120)의 동작을 제어하는 제어부(미도시)를 더 포함한다.
본 실시예의 제어부는, 도 4를 참조하면, 분사몸체(160)의 스윙 동작에 의해 기판(W)의 중앙 영역으로부터 테두리 영역으로 이동할 때 스핀척(120)의 속도를 점진적으로 줄임으로써 기판(W) 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 아울러, 제어부는 기판(W)의 구간에 따라 분사몸체(160)의 속도를 제어할 수도 있다. 예를 들면, 도 4의 하단 그래프를 통해 알 수 있듯이, 기판(W)의 중심과 인접한 영역에서는 분사몸체(160)를 빠른 속도로 스윙 동작시키고, 이후 다음 영역에서는 그보다는 작은 속도로 분사몸체(160)를 스윙 동작시키고, 또 그 다음 영역에서는 그보다 상대적으로 작은 속도로 분사몸체(160)를 스윙 동작시킬 수 있다.
즉, 기판(W)의 중심과 가까운 부분에서는 분사몸체(160)의 스윙 속도 및 스핀척(120)의 회전속도를 빠르게 제어하는 것이며, 기판(W)의 테두리로 갈수록 분사몸체(160)의 스윙 속도 및 스핀척(120)의 회전속도를 점진적으로 또는 단계적으로 제어할 수 있는 것이다.
또한, 본 실시예의 제어부는, 각 분사홀(161, 162, 165)로부터 분사된 물질의 분사 속도 역시 조절할 수 있다. 따라서, 상대적으로 건조 작업이 많이 필요한 부분에는 상대적으로 많은 물질을 분사할 수 있고, 반대로 상대적으로 건조 작업이 적게 필요한 부분에는 상대적으로 적은 물질을 분사할 수 있다.
아울러, 본 실시예의 제어부는 도 5에 도시된 것처럼, 기판(W)에 대한 분사몸체(160)의 위치에 따라 N2 분사홀(165)의 온/오프(on/off)를 제어할 수 있다. 도 5의 (a)에 도시된 것처럼, 가령 분사몸체(160)가 기판(W)의 중앙에 있는 경우 N2 분사홀(165) 중 가운데 N2 분사홀(165a)만을 작동시킬 수 있고, 도 5의 (b) 및 (c)에 도시된 바와 같이, 기판(W)의 중앙으로부터 어느 정도 벗어난 영역에서는 N2 분사홀(165: 165a, 165b, 165c) 모두를 작동시킬 수 있다.
한편, 본 실시예의 제어부의 제어에 의해 분사몸체(160)는 동일 구간을 반복적으로 스캐닝(multi scan)할 수 있다. 즉, 전술한 것처럼 분사몸체(160)가 기판(W)의 중앙 영역으로부터 테두리 영역으로 일방향 이동할 수도 있지만 가령 기판(W)의 건조 작업이 더 필요하다고 여겨지는 경우 같은 구간에 대해 분사몸체(160)는 왕복으로 스윙 동작할 수 있으며, 따라서 기판(W)에 대한 건조 신뢰성을 향상시킬 수도 있다.
이와 같이, 본 실시예의 경우, 건조 물질을 분사하는 노즐 유닛(150)의 스윙 동작의 속도 및 방향 그리고 건조 물질의 분사 속도 그리고 스핀척(120)의 회전속도 등을 정밀하게 제어할 수 있어 기판(W) 건조 효과를 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
100 : 기판 건조 장치 110 : 건조 챔버
120 : 스핀척 130 : 회수부
150 : 노즐 유닛 151 : 스윙암
160 : 분사몸체 161 : 초순수 분사홀
162 : IPA 분사홀 165 : N2 분사홀

Claims (10)

  1. 건조 대상물인 기판으로 초순수(DIW, de-ionized water) 및 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol) 및 질소 가스(N2)를 공급하는 기판 건조 장치에 있어서,
    상기 기판의 건조 공간을 형성하며, 상기 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되는 건조 챔버; 및
    상기 스핀척의 상부에서 상기 기판의 중앙으로부터 테두리 방향으로 스윙(swing) 동작 가능하게 장착되며, 상기 초순수를 분사하는 초순수 분사홀, 상기 이스프로필 알코올을 분사하는 IPA 분사홀 및 상기 질소 가스를 분사하는 N2 분사홀이 일체형의 분사몸체에 구비되는 노즐 유닛;
    을 포함하며,
    상기 N2 분사홀은 복수 개 구비되어 상기 분사몸체에서 곡선의 경로로 배치되는 기판 건조 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 분사몸체에서 상기 기판의 중심을 향하는 일측에 복수 개의 상기 N2 분사홀이 곡선의 경로로 구비되며,
    상기 분사몸체에는 상기 N2 분사홀들로부터 이격되되 상기 N2분사홀들의 곡선 경로에 대응되는 곡면측벽이 구비되는 기판 건조 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 분사몸체에는 상기 N2 분사홀들 사이에 배치되도록 상기 곡면측벽으로부터 연장되는 연장측벽이 구비되는 기판 건조 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 분사몸체에서 상기 기판의 테두리 영역을 향하는 타측에 상기 초순수 분사홀이 구비되고, 상기 초순수 분사홀 및 상기 N2 분사홀들의 사이에 상기 IPA 분사홀이 구비되는 기판 건조 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 노즐 유닛 또는 상기 스핀척의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하며,
    상기 제어부는 상기 기판에 대한 상기 분사몸체의 위치에 따라 상기 분사몸체의 스윙 속도 또는 상기 스핀척의 회전 속도를 제어하는 기판 건조 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 노즐 유닛으로부터 분사되는 초순수, 이소프로필 알코올 또는 질소 가스의 분사 속도를 제어하는 기판 건조 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 기판에 대한 상기 분사몸체의 위치에 따라 상기 N2 분사홀들의 온/오프(on/off)를 선택적으로 제어하는 기판 건조 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 분사몸체를 일방향으로 스윙 동작시키는 1스캔(1 scan) 공정 또는 상기 분사몸체를 왕복으로 스윙 동작시키는 멀티 스캔(multi scan) 공정을 선택적으로 수행하는 기판 건조 장치.
  9. 기판의 건조 공간을 형성하며 상기 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되는 건조 챔버와, 상기 스핀척의 상부에서 상기 기판의 중앙으로부터 테두리 방향으로 스윙(swing) 동작 가능하게 장착되어 상기 기판의 건조를 위한 초순수, 이소프로필 알코올 및 질소 가스 중 선택된 물질을 분사하는 노즐 유닛을 포함하는 기판 건조 장치의 제어 방법에 있어서,
    상기 기판에 대한 상기 분사몸체의 위치에 따라 상기 노즐 유닛의 스윙 속도, 상기 스핀척의 회전 속도를 선택적으로 제어하는 기판 건조 장치의 제어 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 노즐 유닛에는 상기 질소 가스를 분사하는 N2 분사홀이 곡선의 경로를 따라 복수 개 구비되며, 상기 기판에 대한 상기 N2 분사홀의 위치에 따라 상기 N2 분사홀이 선택적으로 제어되는 기판 건조 장치의 제어 방법.
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