KR20120074642A - 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치 - Google Patents

가스 와이핑 설비용 클리닝 장치 Download PDF

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Abstract

가스 와이핑 설비의 노즐 출구의 간격이 변경되더라도 노즐 출구의 간격에 맞게 클리닝팁부의 각도를 조절하여 가스 와이핑 설비의 선단을 클리닝할 수 있는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치가 개시된다.
상기한 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치는 가스 와이핑 설비의 내부에 이동 가능하게 설치되는 베이스부와, 상기 베이스부의 이동시 상기 가스 와이핑 설비에 구비되는 노즐 선단을 클리닝 하도록 상기 베이스부에 제공되되, 선형적으로 유동 가능한 적어도 두 개 이상의 클리닝팁부를 구비하는 클리닝부재 및 상기 베이스부에 연결되도록 상기 가스 와이핑 설비에 설치되어 상기 베이스부를 이동시키는 구동부를 포함한다.
이러한 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치에 의하면, 각도조정수단을 통해 클리닝부재에 구비되는 클리닝팁부의 각도를 조정하여 가스 와이핑 설비의 노즐 출구의 간격이 변경되더라도 노즐 출구의 간격에 맞게 클리닝팁부의 각도를 조절할 수 있으므로 조업성을 향상시킬 수 있다.

Description

가스 와이핑 설비용 클리닝 장치{Apparatus for cleaning air-knife}
본 발명은 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가스 와이핑 설비에 구비되는 노즐의 선단부를 클리닝하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 강판도금설비는 강판의 표면에 적정 압력의 기체를 분사하여 강판의 표면에 부착된 도금용액의 두께를 조절하기 위한 가스 와이핑 장치(10)를 갖는다.
즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 강판(S)은 아연 등의 도금용액(L)으로 채워진 도금욕조(20)를 통과한 후 수직방향으로 상승하여 이송되며, 가스 와이핑 장치(10)는 도금욕조(20)를 통과한 강판의 양쪽 표면에 기체를 분사하도록 배치된다.
한편, 도 2에 도시된 바와 같이 가스 와이핑 장치(10)의 노즐(12)로부터 분사되는 고압가스가 강판(S)의 용융 아연 도금층에 충돌되면, 고압가스의 충돌에 의해 도금층 표면의 아연입자(Z)들이 주변으로 비산하게 된다.
그리고, 도금층 표면으로부터 이탈하여 비산되는 아연입자(Z)는 가스 와이핑 장치(10)의 노즐(12) 선단에 부착되어 고착된다. 이에 따라 가스 와이핑 장치(10)에 구비되는 노즐(12)의 노출 출구(12a)가 고착된 아연입자(Z)에 의해 막혀서 고압가스의 분사압력을 불균일하게 하는 문제가 있다.
또한, 고착되지 않고 노즐(12)의 선단에 부착된 아연입자가 강판(S)의 표면에 부착되어 도금강판의 품질불량을 야기하는 문제가 있다.
이와 같이 노즐(12)의 선단에 부착된 아연입자는 클리닝부재(미도시)에 의해 제거되는데, 클리닝부재는 노즐(12)의 선단에 밀착될 수 있도록 조업자에 의해 노즐의 선단에 밀착 설치된다.
즉, 조업자가 직접 클리닝부재의 끝단부를 노즐(12)의 선단에 밀착시킨다.
그런데, 노즐 출구(12a)의 간격이 진동 또는 마모 등을 이유로 변경되는 경우 클리닝부재가 노즐(12)의 선단에 밀착되지 않아 부착된 아연입자를 제거하지 못하는 문제가 있다.
더하여, 노즐 출구(12a)의 간격이 변경되는 경우 조업자가 직접 클리닝부재의 끝단부를 노즐(12)의 선단에 재밀착시켜야 하므로, 조업성이 현저히 떨어지는 문제가 있다.
본 발명은 가스 와이핑 설비의 노즐 출구의 간격이 변경되더라도 노즐 출구의 간격에 맞게 클리닝팁부의 각도를 조절하여 가스 와이핑 설비의 선단을 클리닝할 수 있는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치는 가스 와이핑 설비의 내부에 이동 가능하게 설치되는 베이스부와, 상기 베이스부의 이동시 상기 가스 와이핑 설비에 구비되는 노즐 선단을 클리닝 하도록 상기 베이스부에 제공되되, 선형적으로 유동 가능한 적어도 두 개 이상의 클리닝팁부를 구비하는 클리닝부재 및 상기 베이스부에 연결되도록 상기 가스 와이핑 설비에 설치되어 상기 베이스부를 이동시키는 구동부를 포함한다.
상기한 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치는 상기 가스 와이핑 설비의 노즐 출구 간격에 맞춰 상기 클리닝팁부의 각도를 조정하는 각도조정수단을 더 포함할 수 있다.
상기 각도조정수단은 상기 클리닝팁부에 대향 배치되도록 상기 베이스부에 설치되는 고정부재와, 상기 고정부재에 설치되어 공급되는 전류에 의해 자기장을 형성하는 전자석 및 상기 전자석에 대향 배치되며, 상기 적어도 두 개 이상의 클리닝팁부에 교번적으로 설치되는 영구자석을 구비할 수 있다.
상기 전자석은 전류가 공급되는 경우 상기 영구자석과 척력을 작용하도록 자기장을 형성할 수 있다.
상기 클리닝팁부는 상기 전자석에 의해 형성되는 자기장에 의해 상기 전자석 측으로 휘어질 수 있도록 자성체로 이루어질 수 있다.
상기 클리닝부재는 상기 베이스부에 설치되는 바디부를 구비하며, 상기 클리닝팁부는 상기 바디부로부터 연장 형성되며, 소정 간격 이격 배치되는 제1,2 클리닝팁부로 구성될 수 있다.
상기 제1,2 클리닝팁부는 서로 반대방향을 향하도록 절곡되는 절곡팁을 구비할 수 있다.
상기 구동부는 구동력을 발생시키는 구동모터와, 상기 구동모터에 장착되는 구동풀리에 권취되어 이동하는 구동 와이어를 구비할 수 있다.
본 발명에 따르면, 각도조정수단을 통해 클리닝부재에 구비되는 클리닝팁부의 각도를 조정하여 가스 와이핑 설비의 노즐 출구의 간격이 변경되더라도 노즐 출구의 간격에 맞게 클리닝팁부의 각도를 조절할 수 있으므로 조업성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 강판도금설비를 나타내는 개략 구성도이다.
도 2는 종래기술에 따른 가스 와이핑 장치로부터 고압가스가 분사되는 상태를 설명하기 위한 설명도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치가 설치되는 가스 와이필 설비를 나타내는 개략 구성도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 나타내는 개략 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 나타내는 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 나타내는 측면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 후방에서 바라본 구성도이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치의 작동을 설명하기 위한 설명도이다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. 다만, 본 발명의 사상은 제시되는 실시예에 제한되지 아니하고, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서 다른 구성요소를 추가, 변경, 삭제 등을 통하여, 퇴보적인 다른 발명이나 본 발명 사상의 범위 내에 포함되는 다른 실시예를 용이하게 제안한 수 있을 것이나, 이 또한 본원 발명 사상 범위 내에 포함된다고 할 것이다.
또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치가 설치되는 가스 와이핑 설비를 나타내는 개략 구성도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 나타내는 개략 사시도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 나타내는 평면도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 나타내는 측면도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치를 후방에서 바라본 구성도이다.
도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치(100)는 베이스부(120), 클리닝부재(140), 각도조정수단(160) 및 구동부(180)를 포함하여 구성될 수 있다.
베이스부(120)는 가스 와이핑 설비(10)의 내부에 이동 가능하게 설치된다. 또한, 베이스부(120)는 클리닝부재(140)와 각도조정수단(160)이 설치되는 베이스부 바디(122)와, 상기 베이스부 바디(122)으로부터 연장 형성되며 상기 구동부(180)에 연결되는 연결체(124)를 구비할 수 있다.
베이스부 바디(122)에는 클리닝부재(140)가 고정 설치되며, 각도조정수단(160)이 설치되는 고정대(122a)를 구비할 수 있다. 그리고, 베이스부 바디(122)의 양측에는 이동시 가스 와이핑 설비(10)의 바닥면을 따라 용이하게 이동될 수 있도록 제1 회전휠(122b)이 구비될 수 있다.
회전휠(122b)은 베이스부 바디(122)의 보다 안정적인 이동을 위하여 베이스부 바디(122)의 양측면에 복수개가 구비될 수 있다.
또한, 연결체(124)는 베이스부 바디(122)의 후방으로부터 연장 형성되며, 가스 와이핑 설비(10)에 형성된 가이드홈(20)에 삽입 배치될 수 있다.
그리고, 연결체(124)는 구동부(180)에 연결될 수 있도록 연결구(124a)를 구비할 수 있다. 즉, 연결체(124)는 가이드홈(20)과 대응되는 방향으로 형성되는 관통홀로 이루어지는 연결구(124a)를 구비할 수 있다.
더하여, 연결체(124)의 저면에는 가이드홈(20)의 측벽에 지지되어 회전되는 제2 회전휠(124b)이 구비될 수 있다.
즉, 구동부(180)에 연결된 연결체(124)가 구동부(180)에 의해 가이드홈(20)을 따라 이동되며, 이에 따라 연결체(124)로부터 연장 형성되는 베이스부 바디(122)가 연결체(124)와 함께 가스 와이핑 설비(10)의 가이드홈(20) 형성방향으로 이동될 수 있다.
한편, 베이스부 바디(122)와 연결체(124)는 제1,2 회전휠(122b,124b)을 구비하고 있으므로, 이동시 보다 용이하게 이동될 수 있다.
그리고, 베이스부(120)는 가스 와이핑 설비(10)로부터 고압가스가 분사되는 경우 고압가스와의 간섭을 감소시키기 위해 가스 와이핑 설비(10)의 측면에 위치하는 베이스위치(미도시)로 이동된다.
클리닝부재(140)는 베이스부(120)의 이동시 가스 와이핑 설비(10)의 선단을 클리닝 하도록 베이스부(120)에 제공되며, 선형적으로 유동 가능한 적어도 두 개 이상의 클리닝팁부(142)를 구비한다.
한편, 클리닝부재(140)는 베이스부(120)에 설치되는 바디부(144)를 구비하며, 클리닝팁부(142)는 바디부(144)로부터 연장 형성되며, 소정 간격 이격 배치되는 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)로 구성될 수 있다.
즉, 바디부(144)가 베이스부 바디(122)에 구비되는 고정대(122a)에 의해 베이스부 바디(122)에 고정 설치되며, 바디부(144)로부터 연장 형성되는 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)는 가스 와이핑 설비(10)의 노즐 출구(12a)를 관통하여 가스 와이핑 설비(10)의 외부로 돌출된다.
한편, 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)는 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착될 수 있도록 서로 반대방향을 향하도록 절곡되는 절곡팁(142c,142d)을 구비할 수 있다. 즉, 예를 들어 제1 클리닝팁부(142a)의 끝단에 형성되는 절곡팁(142c)은 상부측으로 절곡되며 제2 클리닝팁부(142b)의 끝단에 형성되는 절곡팁(142d)은 하부측으로 절곡된다. 이에 따라, 클리닝부재(140)는 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착될 수 있다.
이와 같이, 클리닝부재(140)의 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)가 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착된 상태에서 베이스부(120)가 가스 와이핑 설비(10)의 폭방향으로 이동되므로, 클리닝부재(140)에 의해 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 부착된 아연입자가 제거될 수 있다.
한편, 클리닝팁부(142)는 각도조정수단(160)에 의해 휘어질 수 있도록 자성체로 이루어질 수 있다. 이에 대한 자세한 설명은 후술하기로 한다.
각도조정수단(160)는 가스 와이핑 설비(10)의 노즐 출구(12a) 간격에 맞춰 클링닝팁부(142)의 각도를 조정한다. 또한, 각도조정수단(160)은 고정부재(162)와, 전자석(164) 및 영구자석(166)을 포함하여 구성될 수 있다.
고정부재(162)는 클리닝팁부(142)에 대향 배치되도록 베이스부(120)에 설치된다. 즉, 고정부재(162)는 베이스부 바디(122)에 구비되는 고정대(122a) 상부에 고정 설치되어 클리닝팁부(142)에 대향 배치된다.
한편, 클리닝팁부(142)가 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)로 구성되는 경우 고정부재(162)는 제1,2 고정부재(162a,162b)로 구성될 수 있다.
전자석(164)는 고정부재(162)에 설치되어 공급되는 전류에 의해 자기장을 형성한다. 즉, 전자석(164)은 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)의 상부에 배치되도록 제1,2 고정부재(162a,162b)에 각각 설치된다. 그리고, 전류가 공급되는 경우 자기장을 형성한다.
영구자석(166)은 전자석(164)에 대향 배치되며, 적어도 두개 이상의 클리닝팁부(162)에 교번적으로 설치된다. 즉, 클리닝팁부(162)가 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)로 구성되는 경우 영구자석(166)은 제1,2 클리닝팁부(142a,142b) 중 어느 하나에 설치되며, 전자석(164)에 대향 배치된다.
예를 들어 제1 클링닝팁부(142a)에 영구자석(166)이 설치되는 경우 제2 클리닝팁부(142b)에는 영구자석(166)이 설치되지 않을 수 있다.
그리고, 영구자석(166)은 전자석(164)으로부터 자기장이 발생되는 경우 전자석(164)과 척력이 발생될 수 있도록 N극과 S극이 위치될 수 있다. 즉, 영구자석(166)과 전자석(164)은 동일한 극이 대향 배치되어 전자석(164)으로부터 자기장이 발생되는 경우 척력이 발생될 수 있다.
여기서, 각도조정수단(160)의 작동에 대하여 보다 자세하게 살펴보면, 먼저 제1,2 고정부재(162a,162b)에 설치된 전자석(164)에 전원공급부(미도시)로부터 전류가 공급되면 전자석(164)으로부터 자기장이 형성된다.
이에 따라, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이 영구자석(166)이 설치되지 않은 제2 클리닝팁부(142b)는 전자석(164) 측으로 휘어진다. 즉, 자성체로 이루어지는 제2 클리닝팁부(142b)는 전자석(164)으로부터 발생되는 자기장에 의해 상부측으로 휘어진다.
또한, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이 영구자석(166)이 설치된 제1 클리닝팁부(142a)는 전자석(164)으로부터 자기장이 형성되면 영구자석(166)과 전자석(164)의 척력에 의해 전자석(164)의 반대방향으로 휘어진다. 다시 말해, 제1 클리닝팁부(142a)는 전자석(164)으로부터 발생되는 자기장에 의해 하부측으로 휘어진다.
한편, 전자석(164)에 전류공급이 중단되면 전자석(164)으로부터 자기장이 형성되지 않으며, 이에 따라 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)는 원위치로 복귀된다.
즉, 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)는 수평한 상태로 복귀하게 된다.
더하여, 전자석(164)에 전류를 공급하는 전원공급부는 제어부(미도시)에 연결될 수 있다. 제어부는 전자석(164)으로 공급되는 전류량을 조절하여 전자석(164)으로부터 발생되는 자기장의 세기를 조절할 수 있다.
이에 따라, 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)의 휘어지는 각도를 조절할 수 있다.
구동부(180)는 도 5에 도시된 바와 같이 베이스부(120)에 연결되도록 가스 와이핑 설비(10)에 설치되어 베이스부(120)를 이동시킨다. 그리고, 구동부(180)는 구동력을 발생시키는 구동모터(182)와, 구동모터(182)에 장착되는 구동풀리(184)에 권취되어 이동하는 구동 와이어(186)를 구비한다.
구동모터(182)는 구동풀리(184)에 연결되며, 구동풀링(184)를 회전시키는 기능을 수행한다. 한편, 구동 와이어(186)는 구동풀리(184)와 종동풀리(188)에 권취되어 구동풀리(184)의 회전 구동시 가스 와이핑 설비(10)의 폭방향으로 이동된다.
그리고, 구동 와이어(186)는 연결체(124)에 구비되는 연결구(124a)에 설치되어 구동풀리(184)가 회전함에 따라 베이스부(120)를 가스 와이핑 설비(10)의 폭방향으로 이동시킨다.
이에 따라, 베이스부(120)에 고정 설치된 클리닝부재(140)가 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 부착된 아연입자를 제거할 수 있다.
한편, 본 실시예에서는 구동부(180)가 구동모터(182)와 구동 와이어(186)으로 이루어지는 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않으며 구동부(180)는 구동모터와 볼 스크류로 구성될 수 있다. 즉, 구동부(180)는 베이스부(120)에 연결되어 베이스부(120)를 가스 와이핑 설비(10)의 폭 방향으로 왕복 이동시킬 수 있는 어떠한 구성도 채용 가능할 것이다.
상기한 바와 같이, 각도조정수단(160)을 통해 노즐 출구(12a)의 간격이 변경되더라도 클리닝팁부(142)의 각도를 조절하여 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 클리닝팁부(142)를 밀착시킬 수 있으므로, 가스 와이핑 설비(10)의 선단으로부터 아연입자를 제거할 수 있는 효과가 있다.
그리고, 조업자가 직접 클리닝부재의 클리닝팁부(142)가 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착되도록 조절하지 않을 수 있어 조업성이 향상될 수 있다.
이하에서는 상기한 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치에 대하여 설명하기로 한다.
먼저, 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치(100)는 분사되는 고압가스와의 간섭을 방지하기 위하여 베이스 위치에 배치된다. 이후, 구동부(180)의 구동모터(182)가 구동되면 구동 와이어(186)가 이동되고, 이에 따라 구동 와이어(186)에 연결된 베이스부(120)가 가스 와이핑 설비(10)의 폭방향으로 이동된다.
베이스부(120)가 이동됨에 따라 베이스부(120)에 설치된 클리닝부재(140)가 이동되며, 클리닝부재(140)가 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착된 상태에서 이동하여 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 부착된 아연입자를 제거한다.
한편, 가스 와이핑 설비(10)의 노즐 출구(12a)의 간격이 변경되는 경우 클리닝부재(140)의 클리닝팁부(142)가 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착되지 못하게 된다.
이러한 경우, 전원공급부로부터 간격조정수단(160)의 전자석(164)에 전류가 공급된다.
이에 따라, 전자석(164)으로부터 자기장에 발생되며, 클리닝팁부(142)의 제1,2 클리닝팁부(142a,142b)는 상,하부측으로 휘어지게 된다. 이때, 제1 클리닝팁부(142a)는 전자석(164)과 영구자석(166)의 사이에 발생되는 척력에 의해 하부측으로 휘어지게 된다. 그리고, 제2 클리닝팁부(142b)는 전자석으로부터 발생되는 자기력에 의해 상부측으로 휘어지게 된다.
결국, 클리닝팁부(142)는 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착될 수 있다. 이후 구동부(180)에 의해 베이스부(120)가 이동되면, 클리닝부재(140)에 의해 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 부착된 아연입자가 보다 용이하게 제거될 수 있다.
더하여, 조업자에 의해 클리닝팁부(142)가 가스 와이핑 설비(10)의 선단에 밀착되지 않을 수 있어 조업성이 향상될 수 있다.
100 : 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치 120 : 베이스부
140 : 클리닝부재 160 : 각도조정수단
180 : 구동부

Claims (8)

  1. 가스 와이핑 설비의 내부에 이동 가능하게 설치되는 베이스부;
    상기 베이스부의 이동시 상기 가스 와이핑 설비에 구비되는 노즐 선단을 클리닝 하도록 상기 베이스부에 제공되되, 선형적으로 유동 가능한 적어도 두 개 이상의 클리닝팁부를 구비하는 클리닝부재; 및
    상기 베이스부에 연결되도록 상기 가스 와이핑 설비에 설치되어 상기 베이스부를 이동시키는 구동부;
    를 포함하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가스 와이핑 설비의 노즐 출구 간격에 맞춰 상기 클리닝팁부의 각도를 조정하는 각도조정수단을 더 포함하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 각도조정수단은
    상기 클리닝팁부에 대향 배치되도록 상기 베이스부에 설치되는 고정부재;
    상기 고정부재에 설치되어 공급되는 전류에 의해 자기장을 형성하는 전자석; 및
    상기 전자석에 대향 배치되며, 상기 적어도 두 개 이상의 클리닝팁부에 교번적으로 설치되는 영구자석;
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 전자석은 전류가 공급되는 경우 상기 영구자석과 척력을 작용하도록 자기장을 형성하는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 클리닝팁부는 상기 전자석에 의해 형성되는 자기장에 의해 상기 전자석 측으로 휘어질 수 있도록 자성체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 클리닝부재는 상기 베이스부에 설치되는 바디부를 구비하며,
    상기 클리닝팁부는 상기 바디부로부터 연장 형성되며, 소정 간격 이격 배치되는 제1,2 클리닝팁부로 구성되는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1,2 클리닝팁부는 서로 반대방향을 향하도록 절곡되는 절곡팁을 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 구동부는
    구동력을 발생시키는 구동모터와, 상기 구동모터에 장착되는 구동풀리에 권취되어 이동하는 구동 와이어를 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 클리닝 장치.
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