KR20120032087A - 웨이퍼 공급 시스템 - Google Patents

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KR20120032087A
KR20120032087A KR1020100093522A KR20100093522A KR20120032087A KR 20120032087 A KR20120032087 A KR 20120032087A KR 1020100093522 A KR1020100093522 A KR 1020100093522A KR 20100093522 A KR20100093522 A KR 20100093522A KR 20120032087 A KR20120032087 A KR 20120032087A
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강대희
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Abstract

본 발명은 웨이퍼가 적층된 상태로 공급되는 웨이퍼 매거진에서 후속 공정을 위하여 각각의 웨이퍼를 순차적으로 인출하여 후속 공정을 위한 설비로 공급하는 웨이퍼 공급 시스템에 관한 것이다.

Description

웨이퍼 공급 시스템{WAFER SUPPLYING SYSTEM}
본 발명은 웨이퍼 공급 시스템에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은 웨이퍼가 적층된 상태로 공급되는 웨이퍼 매거진에서 후속 공정을 위하여 각각의 웨이퍼를 순차적으로 인출하여 후속 공정을 위한 설비로 공급하는 웨이퍼 공급 시스템에 관한 것이다.
태양전지 공정 또는 반도체 공정에 웨이퍼가 공급되는 경우, 각각의 공정들에 웨이퍼가 투입되기 전에 웨이퍼는 소정의 검사를 통과해야 한다. 예를 들어, 웨이퍼가 규격 크기인지 여부 또는 웨이퍼에 크랙 또는 오염물질 등의 하자가 없는지 여부 등이 검사될 수 있다. 이러한 검사과정은 동일하고 규칙적인 조건에 의하여 웨이퍼를 각종 센서 또는 카메라에 의하여 일정한 주기를 갖으며 감지하거나 촬영하는 방법으로 수행될 수 있다.
각각의 검사공정, 태양전지 공정 또는 반도체 공정 등에 공급되는 웨이퍼의 이송 간격 또는 거치 방향 등은 각각의 공정에 맞게 정렬되어야 한다.
일반적으로 웨이퍼는 이를 적층시켜 공급하는 웨이퍼 매거진을 통해 공급한다. 그리고, 전술한 검사공정, 태양전지 공정 또는 반도체 공정은 컨베이어 등에 의하여 이송되는 웨이퍼를 대상으로 진행된다. 따라서, 각각의 공정을 위하여, 웨이퍼 매거진에 적층되어 거치된 각각의 웨이퍼를 컨베이어 등에 순차적으로 로딩하는 방법으로 공급해야 한다.
이러한 웨이퍼 공급과정은 수작업에 의하여 수행될 수도 있으나, 자동화된 공정에 의하여 수행될 수 있다. 단지 웨이퍼 매거진에서 단순히 이송을 위한 컨베이어 벨트에 웨이퍼를 안착시키는 것 이외에도 특정 거치 방향 또는 이송 간격이 요구될 수 있으므로, 이송되는 웨이퍼의 거치 방향 또는 이송간격을 공정의 조건에 맞게 정밀하고 신속하게 제어될 필요가 있다.
본 발명은 웨이퍼가 적층된 상태로 공급되는 웨이퍼 매거진에서 후속 공정을 위하여 각각의 웨이퍼를 순차적으로 인출하여 이송 간격을 일정하게 하며, 웨이퍼의 틀어짐 등을 최소화할 수 있는 웨이퍼 공급 시스템을 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 웨이퍼가 적층된 상태로 제공되는 웨이퍼 공급부, 상기 웨이퍼 공급부에 적층된 웨이퍼를 순차적으로 인출하는 웨이퍼 인출부, 상기 웨이퍼 인출부에서 인출된 웨이퍼를 미리 결정된 이송방향으로 이송하는 웨이퍼 이송부 및, 상기 웨이퍼 이송부에서 이송되는 웨이퍼의 간격 또는 방향을 정렬하는 웨이퍼 정렬부, 상기 웨이퍼 공급부, 상기 웨이퍼 인출부, 상기 웨이퍼 이송부 및 상기 웨이퍼 정렬부를 제어하는 제어부를 포함하는 웨이퍼 공급 시스템을 제공한다.
이 경우, 상기 웨이퍼 공급부는 웨이퍼가 이격된 상태로 적층되어 거치되는 웨이퍼 매거진을 포함하며, 상기 웨이퍼 인출부는 상기 웨이퍼 공급부의 웨이퍼 매거진에서 최하부에 위치한 웨이퍼를 인출할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 공급부는 최하부에 위치한 웨이퍼가 상기 웨이퍼 인출부에 의하여 인출되면, 상기 웨이퍼 매거진의 높이가 미리 결정된 높이 만큼 하강할 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 인출부에 의한 웨이퍼 인출방향과 상기 웨이퍼 이송부에 의한 웨이퍼 이송방향은 수직할 수 있다.
여기서, 상기 웨이퍼 공급부는 상기 웨이퍼 이송부를 사이에 두고 웨이퍼 출입구가 마주보도록 쌍을 이루며 구비될 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 공급부는 미리 결정된 간격으로 복수 쌍을 이루며 형성될 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 인출부에서 인출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 이송부에 로딩하는 웨이퍼 로딩부를 더 포함할 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 로딩부는 미리 결정된 제1 높이에서 상기 웨이퍼 인출부에서 인출된 웨이퍼를 전달받고, 상기 제1 높이보다 낮은 미리 결정된 제2 높이에서 상기 웨이퍼 이송부의 상부에 로딩시킬 수 있다.
이 경우, 상기 웨이퍼 로딩부는 상기 웨이퍼 로딩부 상기 웨이퍼 인출부로부터 상기 웨이퍼 로딩부로 웨이퍼가 전달되는 동안은 상기 제1 높이를 유지하며, 상기 웨이퍼 인출부에서 상기 웨이퍼 로딩부로 웨이퍼의 전달이 완료되면, 상기 웨이퍼 로딩부의 상단의 높이가 상기 제2 높이가 되도록 하강할 수 있다.
이 경우, 상기 웨이퍼 로딩부는 상기 웨이퍼 이송부의 상부에 웨이퍼를 로딩한 후 상기 제2 높이보다 낮은 제3 높이로 하강할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 로딩부는 복수 개의 풀리 및 로딩 컨베이어 벨트를 포함하며, 복수 개의 상기 풀리는 상기 웨이퍼 로딩부를 구성하는 로딩 컨베이어 벨트의 상단의 높이가 증가와 감소를 반복하도록 상기 컨베이어 벨트의 상면의 외측면과 내측면의 서로 다른 높이에 각각 배치될 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 이송부는 상기 웨이퍼 로딩부의 로딩 컨베이어 벨트와 수직한 방향으로 배치되는 한쌍의 이송 컨베이어 벨트를 구비하고, 상기 이송 컨베이어 벨트는 상기 로딩 컨베이어 벨트의 상면 중 높이가 낮아지는 영역 상부에 배치될 수 있다.
여기서, 상기 제2 높이는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트의 상면의 높이에 대응될 수 있다.
그리고, 상기 수평 이동장치는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트와 평행하게 배치된 볼스크류 및 상기 웨이퍼 회전장치 측에 고정되며 상기 볼스크류에 장착되는 볼스크류 너트를 구비할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부를 구성하는 한 쌍의 이송 컨베이어 벨트 하부에 구비되며, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 이송 컨베이어 벨트 사이로 상승 또는 하강이 가능하도록 구성되며, 상기 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼 하면을 지지한 상태로 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 회전장치를 구비할 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 회전장치는 상승한 상태에서 웨이퍼의 하면을 흡착하여 회전시키는 흡착 플레이트를 포함할 수 있다.
이 경우, 상기 흡착 플레이트는 그 상면으로 노출되는 복수 개의 흡입홀이 구비될 수 있다.
이 경우, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송방향으로 상기 웨이퍼 회전장치를 이동시키는 수평 이동장치를 포함할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 회전장치 하부에 웨이퍼 회전장치의 수평 이동을 안내하기 위한 슬라이드 가이드가 구비될 수 있다.
그리고, 상기 수평 이동장치에 의한 상기 웨이퍼 회전장치의 수평 이동속도는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트의 이송속도보다 빠르거나 느릴 수 있다.
여기서, 상기 웨이퍼 회전장치는 상승한 상태에서 웨이퍼의 하면을 흡착하여 회전시키는 흡착 플레이트를 포함하며, 상기 웨이퍼 회전장치는 상기 흡착 플레이트에 의한 웨이퍼의 흡착이 완료된 뒤 회전될 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부에 의하여 이송되는 웨이퍼의 위치 또는 방향을 감지하기 위한 적어도 1개 이상의 센서를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 이송 컨베이어 벨트 사이로 상승 또는 하강이 가능하도록 구성되며, 상기 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼 하면을 지지한 상태로 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 회전장치를 구비하며, 상기 센서에서 감지된 웨이퍼의 방향에 따라 상기 제어부는 상기 웨이퍼 회전장치의 회전각도를 제어할 수 있다.
이 경우, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송방향으로 상기 웨이퍼 회전장치를 이동시키는 수평 이동장치를 포함하며, 상기 센서에서 감지된 웨이퍼의 이송 간격에 따라 상기 제어부는 상기 수평 이동장치의 이동속도를 제어할 수 있다.
이 경우, 상기 제어부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼의 이송 간격이 일정해지도록 상기 수평 이동장치의 이동 속도를 제어할 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 웨이퍼 이송부에 의하여 연속적으로 이송되는 웨이퍼의 이송 간격에 반비례하여 상기 수평 이동장치의 이동 속도를 제어할 수 있다.
그리고, 상기 이송 간격은 상기 센서를 통과하는 웨이퍼의 통과 시점과 이송 컨베이어 벨트의 이송 속도를 기준으로 계산될 수 있다.
여기서, 상기 센서는 상기 웨이퍼 정렬부로 진입하는 웨이퍼의 이송위치 또는 방향을 감지하기 위한 전방센서를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 전방센서는 웨이퍼 이송부를 구성하는 이송 컨베이어 벨트의 이송방향과 수직한 방향으로 이격되어 배치될 수 있다.
또한, 상기 센서는 상기 웨이퍼 정렬부를 통과하는 웨이퍼의 통과 시점을 감지하기 위한 후방센서를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 정렬부에서 정렬된 웨이퍼의 양측 단부를 가이드하는 웨이퍼 가이드부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 웨이퍼가 적층된 상태로 거치되는 웨이퍼 매거진;
상기 웨이퍼 매거진에 적층된 웨이퍼를 순차적으로 인출하는 인출 컨베이어 벨트, 상기 인출 컨베이어 벨트에 의해 인출된 웨이퍼를 미리 결정된 이송방향으로 이송하는 이송 컨베이어 벨트 및,
상기 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼를 흡착하여 회전시키거나, 상기 이송 컨베이어 벨트의 이송방향으로 가속 또는 감속하여 수평 이동시키는 흡착 플레이트를 포함하는 웨이퍼 공급 시스템을 제공한다.
그리고, 상기 인출 컨베이어 벨트 및 상기 인출 컨베이어 벨트 중 적어도 하나는 밸트상에 복수 개의 흡입홀이 형성되고, 상기 흡입홀로 흡입력이 인가될 수 있다.
이 경우, 상기 인출 컨베이어 벨트 및 상기 이송 컨베이어 벨트는 수직하게 배치되며, 상기 인출 컨베이어 밸트에서 웨이퍼를 전달받아 상기 이송 컨베이어 벨트에 로딩하는 로딩 컨베이어 벨트를 더 포함할 수 있다.
그리고, 상기 로딩 컨베이어 벨트는 상기 인출 컨베이어 벨트와 평행하게 배치되며, 상기 인출 컨베이어 벨트의 상면은 돌출부와 함몰부가 반복적으로 구비되고, 상기 함몰부 상부에 상기 이송 컨베이어 벨트가 배치되며, 상기 로딩 컨베이어 벨트는 웨이퍼의 전달과정 또는 로딩과정에서 승강될 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하면, 컨베이어 밸트 등에 의하여 이송되는 웨이퍼의 방향 또는 이송간격이 정밀하고 신속하게 정렬될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하면, 웨이퍼 매거진 등에서 웨이퍼를 인출하여, 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송하는 과정에서 이송 컨베이어 벨트의 구동을 중단하지 않고 웨이퍼의 방향 또는 이송 간격을 정렬할 수 있으므로, 웨이퍼 공급 효율이 향상될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하면, 웨이퍼 매거진 등에서 웨이퍼를 인출하여, 컨베이어 벨트 등에 로딩하는 과정에서 발생되는 오류를 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하면, 이송을 위한 컨베이어 벨트의 진행방향과 수직한 방향으로 웨이퍼를 공급하므로, 반도체 설비의 공간 활용성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하면, 컨베이어 밸트 등에 의하여 이송되는 웨이퍼의 방향 또는 이송간격이 정밀하고 신속하게 정렬되고, 웨이퍼 매거진 등에서 웨이퍼를 인출하여, 컨베이어 벨트 등에 로딩하는 과정에서 발생되는 오류를 최소화하여, 웨이퍼 공급과정에서 발생될 수 있는 오류에 의한 공정 중단 등을 최소화할 수 있으므로, 반도체 공정의 생산성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템의 평면도를 도시한다.
도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템을 구성하는 웨이퍼 인출부에서 웨이퍼 이송부로 웨이퍼가 이송되는 과정을 도시한다.
도 3은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템을 구성하는 웨이퍼 정렬부의 평면도를 도시한다.
도 4는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템을 구성하는 웨이퍼 정렬부의 작동상태의 측면도를 도시한다.
도 5는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템의 웨이퍼 인출부에 의하여 웨이퍼 공급부에 적층되어 있던 웨이퍼의 인출과정을 도시한다.
도 6은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템의 웨이퍼 이송부에 웨이퍼가 안착된 상태를 도시한다.
도 7은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템의 웨이퍼 정렬부에서 웨이퍼가 정렬되는 과정을 도시한다.
도 8은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템의 웨이퍼 정렬부가 웨이퍼 이송부에 의하여 이송되는 웨이퍼의 방향 또는 위치를 정렬하기 전 상태를 도시한다.
도 9는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템의 웨이퍼 정렬부가 웨이퍼 이송부에 의하여 이송되던 웨이퍼의 방향 또는 위치를 정렬하는 과정을 도시한다.
도 10은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템의 웨이퍼 정렬부가 웨이퍼의 방향 또는 위치를 정렬한 후 다시 웨이퍼 이송부에 웨이퍼를 안착시킨 상태를 도시한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명된 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록, 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 평면도를 도시한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 웨이퍼(w)가 적층된 상태로 제공되는 웨이퍼 공급부(1000), 상기 웨이퍼 공급부(1000)에 적층된 웨이퍼를 순차적으로 인출하는 웨이퍼 인출부(2000), 상기 웨이퍼 인출부(2000)에서 인출된 웨이퍼를 미리 결정된 이송방향으로 이송하는 웨이퍼 이송부(4000) 및, 상기 웨이퍼 이송부(4000)에서 이송되는 웨이퍼의 간격 또는 방향을 정렬하는 웨이퍼 정렬부(5000), 상기 웨이퍼 공급부(1000), 상기 웨이퍼 인출부(2000), 상기 웨이퍼 이송부(4000) 및 상기 웨이퍼 정렬부(5000)를 제어하는 제어부(미도시)를 포함한다.
상기 웨이퍼 공급부(1000)는 웨이퍼가 이격된 상태로 적층되는 웨이퍼 매거진(1100)을 포함할 수 있다. 상기 웨이퍼 매거진(1100)은 각각의 웨이퍼를 이격된 상태로 지지하기 위하여 웨이퍼의 테두리를 지지하는 지지슬롯(1110)이 내측 테두리에 구비되고, 웨이퍼 매거진(1100)의 내부를 폭방향으로 연결하기 위한 연결부(1120)가 웨이퍼 매거진(1100)의 상부와 하부에 구비될 수 있다.
따라서, 상기 웨이퍼 매거진(1100)에 적층된 웨이퍼(w)는 각각의 테두리가 각각의 지지슬롯(1110)에 지지된 상태로 상면과 하면이 각각 노출되는 구조를 갖을 수 있다. 상기 연결부(1120) 역시 웨이퍼 매거진(1100)의 상부와 하부에 폭방향으로 구비되므로, 최하부에 구비된 웨이퍼의 하면 중 상기 연결부(1120)에 의하여 차단되지 않는 부분은 하부로 노출될 수 있다.
그리고, 각각의 웨이퍼 공급부(1000)를 구성하는 웨이퍼 매거진(1100)은 별도로 구비되는 높이조절장치(미도시)에 거치된 상태로 구성될 수 있다.
따라서, 상기 웨이퍼 공급부(1000)는 최하부에 위치한 웨이퍼가 후술하는 웨이퍼 인출부(2000)에 의하여 인출되면, 상기 제어부는 상기 높이조절장치 등의 높이를 하강시켜 상기 웨이퍼 매거진(1100)의 높이가 하강되도록 제어할 수 있다.
상기 웨이퍼 매거진(1100)에 적층되어 장착되는 웨이퍼(w)는 웨이퍼 매거진(1100)에 대하여 특정한 방향으로 거치되어 공급될 수 있다. 따라서, 웨이퍼 매거진(1100)의 수평방향 출입구를 기준으로 웨이퍼 매거진(1100) 내부에 거치되는 웨이퍼의 거치방향은 일정하다. 이와 같은 특성은 후술하는 웨이퍼 정렬부(5000)의 정렬과정과 관련이 있으며, 이에 대한 설명은 후술한다.
도 1에 도시된 실시예에서, 상기 웨이퍼 공급부(1000)는 총 4개가 구비됨이 도시된다. 웨이퍼 공급부(1000)의 개수는 웨이퍼의 공급속도 등을 고려하여 결정될 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b, 1000c, 1000d)는 상기 웨이퍼 이송부(4000)를 사이에 두고 대향하여 쌍을 이루며 구비될 수 있으며, 이 경우 상기 웨이퍼 공급부(1000)는 미리 결정된 간격으로 복수 쌍을 구성될 수 있다.
상기 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b, 1000c, 1000d)는 후술하는 웨이퍼 이송부(4000)를 사이에 두고 한 쌍이 마주보고 구비될 수 있으며, 이는 후술하는 웨이퍼 로딩부(3000a, 3000b)를 공유하도록 시스템을 구성하기 위함이다.
또한, 도 1에 도시된 실시예에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 공급부 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b, 1000c, 1000d)는 2쌍이 각각 웨이퍼 이송부(4000)를 사이에 두고 서로 웨이퍼 매거진(1100a, 1100b, 1100c, 1100d)의 웨이퍼 출입구가 마주보도록 배치될 수 있다.
제1 웨이퍼 공급부(1000a)와 제3 웨이퍼 공급부(1000c)가 좌측에 서로 마주보고 설치되고, 제2 웨이퍼 공급부(1000b)와 제4 웨이퍼 공급부(1000d)가 서로 마주보고 배치되며, 마주보는 각각의 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b, 1000c, 1000d) 사이로 웨이퍼 이송부(4000)를 구성하는 이송 컨베이어 밸트(4100)가 배치될 수 있다.
상기 이송 컨베이어 밸트는 이송 수단의 한가지 예로 설명되는 것으로 밸트 형태가 아니라도 웨이퍼를 거치한 상태로 이송할 수 있는 형태라면 대체가 가능하며, 후술하는 인출 컨베이어 밸트 또는 로딩 컨베이어 밸트 등도 마찬가지이다.
상기 웨이퍼 공급부(1000)에 거치된 각각의 웨이퍼(w)는 각각의 웨이퍼 공급부(1000)를 구성하는 웨이퍼 매거진(1100)의 출입구 측과 후술하는 웨이퍼 정렬부(5000) 측을 연결하는 웨이퍼 인출부(2000)에 의하여 웨이퍼 매거진(1100) 외측으로 인출된다.
상기 웨이퍼 인출부(2000)는 인출 컨베이어 밸트(2100), 이를 구동하는 구동축, 종동축 및 각각의 축에 장착된 풀리(미도시)로 포함할 수 있다. 각각의 웨이퍼 인출부(2000)는 복수 개의 평행한 인출 컨베이어 밸트(2100x, 2100y)를 구비할 수 있으며, 도 1에 도시된 실시예의 인출 컨베이어 밸트(2100x, 2100y)는 각각 한 쌍이 구비됨이 도시된다.
상기 웨이퍼 인출부(2000)는 상기 웨이퍼 공급부(1000)의 웨이퍼 매거진(1100)에서 최하부에 위치한 웨이퍼를 인출한 뒤 웨이퍼 매거진(1100)의 높이가 하강하면 차순위로 최하부에 거치된 웨이퍼를 인출할 수 있다.
상기 웨이퍼 인출부(2000)의 인출 컨베이어 밸트(2100)는 상기 웨이퍼 매거진(1100)의 최하부에 거치된 웨이퍼의 하면 측에 배치되며, 최하부에 거치된 웨이퍼의 하면과 마찰력 또는 흡착력 등에 의하여 웨이퍼를 인출할 수 있다. 그러므로, 상기 웨이퍼 공급부(1000)는 상기 웨이퍼 매거진(1100)의 최하부에 거치된 웨이퍼의 하면이 상기 웨이퍼 인출부(2000)의 인출 컨베이어 밸트(2100)의 단부 상면에 접촉되도록 높이조절 될 수 있다. 최하부에 구비된 웨이퍼가 인출되면, 차순위 웨이퍼 하면의 높이가 상기 인출 컨베이어 밸트(2100)의 단부 상면에 도달되어야 하므로, 상기 제어부는 상기 웨이퍼 공급부(1000)를 구성하는 웨이퍼 매거진(1100)의 높이를 단계별로 하강시킬 수 있다.
상기 웨이퍼 인출부(2000)는 각각의 웨이퍼 공급부(1000)에 독립적으로 구비된다. 도 1에 도시된 실시예에서, 상기 웨이퍼 인출부는 제1 내지 제4 웨이퍼 인출부(2000a, 2000b, 2000c, 2000d) 를 구비함이 도시된다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 상기 웨이퍼 인출부(2000)에서 인출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 이송부(4000)에 로딩하는 웨이퍼 로딩부(3000)를 더 포함할 수 있다.
상기 웨이퍼 로딩부(3000)는 상기 웨이퍼 인출부(2000)에 의하여 인출된 웨이퍼를 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100) 상부에 안착시키는 역할을 수행한다.
전술한 제1 웨이퍼 공급부(1000a)와 제3 웨이퍼 공급부(1000c)가 좌측에 서로 마주보고 설치되고, 제2 웨이퍼 공급부(1000b)와 제4 웨이퍼 공급부(1000d)가 서로 마주보고 배치되며, 마주보는 각각의 웨이퍼 공급부(1000) 사이로 웨이퍼 이송부(4000)를 구성하는 이송 컨베이어 밸트(4100)가 배치되고, 각각의 제1 내지 제4 웨이퍼 인출부(2000a, 2000b, 2000c, 2000d)는 각각의 제1 내지 제4 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b, 1000c, 1000d)의 출입구와 웨이퍼 이송부(4000)를 연결하는 위치에 배치된다.
그리고, 제1 및 제3 웨이퍼 인출부(2000a, 2000c)는 제1 웨이퍼 로딩부(3000a)를 공유하며, 제2 및 제4 웨이퍼 인출부(2000b, 2000d)는 제2 웨이퍼 로딩부(3000b)를 공유할 수 있다.
그러나, 웨이퍼 이송부(4000)의 웨이퍼 이송방향과 웨이퍼 인출부(2000)의 웨이퍼 인출방향은 도 1에 도시된 바와 같이 수직하므로, 웨이퍼 이송부(4000)를 구성하는 인출방향과 수직한 방향으로 이송되는 이송 컨베이어 밸트(4100)의 상면에 웨이퍼를 로딩시키는 방법이 필요하다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하면, 웨이퍼의 이송을 위한 이송 컨베이어 벨트의 이송 방향과 수직한 방향으로 웨이퍼가 공급되므로, 반도체 설비의 공간 활용성을 향상시킬 수 있다. 즉, 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송방향으로 웨이퍼를 공급하기 위해서는 이송 컨베이어 밸트(4100)의 길이방향 일측에서만 웨이퍼를 공급해야 하므로 동시에 공급 가능한 웨이퍼의 개수가 제한될 수 있으며, 설비의 길이도 길어지므로 공간 활용성이 떨어질 수 있다.
웨이퍼를 안착시키는 과정에서 웨이퍼의 위치가 틀어지는 것을 최소해야 한다. 각각의 웨이퍼 로딩부(3000)에 의하여 웨이퍼를 로딩하기 위한 구체적인 방법은 도 2를 참조하여 후술하도록 한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 상기 웨이퍼 인출부(2000)에서 인출된 웨이퍼를 미리 결정된 이송방향으로 이송하는 웨이퍼 이송부(4000)를 포함할 수 있다.
상기 웨이퍼 이송부(4000) 역시 이송 컨베이어 밸트(4100), 구동축, 종동축, 구동모터(4400) 및 각각의 축에 장착된 풀리(미도시)로 포함할 수 있다. 상기 웨이퍼 인출부(2000)는 복수 개의 평행한 이송 컨베이어 밸트(4100)를 구비할 수 있으며, 도 1에 도시된 실시예의 이송 컨베이어 밸트(4100)는 한 쌍이 구비됨이 도시된다.
상기 이송 컨베이어 밸트(4100)에 의하여 웨이퍼를 이송하는 과정에서 웨이퍼의 방향 또는 간격이 후술하느 웨이퍼 정렬부(5000)에 의하여 정렬되어야 하므로, 상기 이송 컨베이어 밸트(4100)는 중심부가 하부로 노출되록 한 쌍의 컨베이어 밸트가 이격 및 평행하게 장착될 수 있다.
상기 웨이퍼 공급부(1000)는 전술한 바와 같이, 웨이퍼 출입구가 서로 마주보도록 장착되므로, 상기 웨이퍼 인출부(2000) 및 웨이퍼 로딩부(3000)에 의하여 상기 웨이퍼 이송부(4000)에 안착된 경우, 웨이퍼의 방향은 서로 180도의 방향차를 갖게 된다. 그러나, 반도체 공정 설비는 일정한 방향으로 공급되는 웨이퍼를 검사 또는 처리하도록 설치될 수 있으므로, 웨이퍼 공급 시스템(10000)에 의한 웨이퍼의 공급방향을 일정하게 정렬해야 한다.
또한, 반도체 공정에서 웨이퍼의 처리 공정속도는 웨이퍼의 공급 속도 또는 이송 속도에 대응하여 설정될 수 있으므로, 웨이퍼의 공급속도 역시 일정하게 제어될 필요가 있다.
웨이퍼 공급 시스템(10000)에 의한 웨이퍼 공급 속도는 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100) 상부에 안착되어 이송되는 웨이퍼의 간격으로 조절될 수 있다.
이송되는 웨이퍼 간의 이송 간격이 일정하도록 웨이퍼 인출부(2000) 및 웨이퍼 로딩부(3000) 등의 컨베이어 밸트의 속도를 조절하여도 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100) 상부에 안착된 웨이퍼 간의 이송 간격에 오차가 발생될 수 있다.
따라서, 상기 이송 컨베이어 밸트(4100) 상부에 안착되어 이송되는 웨이퍼 간의 이송 간격을 조절할 필요가 있다.
따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 상기 웨이퍼 이송부(4000)에서 이송되는 웨이퍼의 간격 또는 방향을 정렬하는 웨이퍼 정렬부(5000)를 더 포함한다.
상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 이송되는 웨이퍼의 방향 또는 이송 간격을 조절하기 위하여, 상기 웨이퍼 이송부(4000)를 구성하는 한 쌍의 이송 컨베이어 밸트(4100) 하부에 구비되며, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 상기 이송 컨베이어 밸트(4100) 사이로 승강하여, 웨이퍼 하면을 지지한 상태로 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 회전장치를 구비할 수 있다. 그리고, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 이송되는 웨이퍼 간의 이송 간격을 조절하기 위하여 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송방향과 평행한 방향으로 상기 웨이퍼 회전장치를 이동시키는 수평 이동장치를 포함할 수 있다. 상기 수평 이동장치는 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)와 평행하게 배치된 볼스크류(5400) 및 상기 웨이퍼 회전장치 측에 고정되며 상기 볼스크류(5400)에 장착되는 볼스크류 너트(5300)를 구비할 수 있다.
뒤에서 다시 기술하겠으나, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 제어부는 이송 컨베이어 밸트(4100)에 의하여 이송되는 웨이퍼의 방향 또는 간격에 따라 웨이퍼 회전장치 또는 수평 이동장치의 회전각도 또는 속도 등을 제어할 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 제어부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼의 이송 간격이 일정해지도록 상기 수평 이동장치의 이동 속도를 제어할 수 있다. 즉, 상기 제어부는 상기 수평 이동장치를 구성하는 볼스크류(5400) 등의 회전속도를 상기 이송 간격에 따라 가변시킬 수 있다.
상기 이송 컨베이어 밸트(4100)에 의하여 이송되는 2개의 웨이퍼 간의 이송 간격이 요구되는 간격(이하 “기준 간격”이라 함)보다 작은 경우, 2개의 웨이퍼 중 뒤에 이송되는 웨이퍼를 들어올려 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도보다 작은 속도로 수평 이동장치에 의하여 이송방향으로 이동시킨 뒤 이송 컨베이어 밸트(4100)에 안착시켜, 웨이퍼 간의 이송 간격을 기준 간격과 일치시킬 수 있다.
반대로, 상기 이송 컨베이어 밸트(4100)에 의하여 이송되는 2개의 웨이퍼 간의 이송 간격이 기준 간격보다 작은 경우, 2개의 웨이퍼 중 뒤에 이송되는 웨이퍼를 들어올려 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도보다 빠른 속도로 수평 이동장치에 의하여 이송방향으로 이동시킨 뒤 이송 컨베이어 밸트(4100)에 안착시켜, 웨이퍼 간의 이송 간격을 기준 간격과 일치시킬 수 있다. 즉, 상기 수평 이동장치에 의한 상기 웨이퍼 회전장치의 수평 이동속도는 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도보다 빠르거나 느릴 수 있다.
그리고, 도면으로 도시하지 않았으나, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템에 의하여 공급된 웨이퍼를 검사하는 검사장치(미도시) 등이 상기 웨이퍼 가이드부(7000) 후방에 배치될 수 있으며, 각각의 검사장치 역시 적어도 1개 이상의 컨베이어 벨트를 포함하게 된다.
여기서, 상기 이송 간격을 각각의 검사장치를 구성하는 컨베이어 벨트의 전체 길이에 대응되도록 제어하면, 검사장치의 컨베이어 벨트의 위치에 따른 두께 편차에 의하여 발생되는 고정 오차를 검사대상 웨이퍼의 검사과정에서 규칙적이고 균등하게 반영되도록 할 수 있으므로, 검사결과의 신뢰성이 향상될 수 있다.
상기 웨이퍼 정렬부(5000)를 통한 웨이퍼 정렬과정과 관련된 자세한 설명은 도 3 및 도 4를 참조하여 후술한다.
그리고, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 상기 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되는 웨이퍼의 이송 위치 또는 방향을 감지하기 위한 적어도 1개 이상의 센서를 포함할 수 있다.
도 1에 도시된 실시예에서, 상기 센서는 상기 웨이퍼 정렬부(5000)로 진입하는 웨이퍼의 이송위치 또는 방향을 감지하기 위한 전방센서(5100)를 포함할 수 있다.
상기 전방센서(5100)는 제1 전방센서(5100x)와 제2 전방센서(5100y)를 포함할 수 있다. 상기 제1 전방센서(5100x)와 상기 제2 전방센서(5100y)는 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송방향과 수직한 방향으로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 전방센서(5100)는 웨이퍼의 영상을 촬영하는 카메라 등일 수도 있고, 레이져 센서와 같이 물체의 투과를 단순히 감지하는 방식일 수도 있다.
상기 전방센서(5100)는 2개가 이격되어 이송되는 웨이퍼의 상부 또는 하부에서 이를 감지할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 정렬부(5000)는 웨이퍼 정렬부(5000)를 통과하는 웨이퍼의 위치를 감지하기 위한 후방센서(5600)를 더 포함할 수 있다.
상기 전방센서(5100)와 상기 후방센서(5600)에 대한 자세한 설명은 뒤에서 다시 설명한다.
상기 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송된 웨이퍼(w)는 상이 웨이퍼 정렬부(5000)에 의하여 방향 또는 간격이 정렬될 수 있으나, 이와 같은 정렬과정에도 불구하고 웨이퍼의 방향 등이 크게 틀어진 경우, 이를 물리적으로 수정할 수 있는 웨이퍼 가이드부(6000)를 더 포함할 수 있다.
상기 웨이퍼 가이드부(6000)는 가이드 컨베이어 밸트(6100), 구동축, 종동축, 각각의 축에 장착된 풀리(미도시)및 한 쌍의 가이드 부재(6500)를 포함할 수 있다.
상기 가이드 부재(6500)는 웨이퍼 이송부(4000)의 이송방향과 대략 평행하게 구비될 수 있으며, 가이드 부재(6500)에 의하여 정렬과정 또는 이송과정에서 그 방향이 크게 어긋난 웨이퍼의 방향을 물리적으로 정렬하는 역할을 수행할 수 있다.
자동화된 이송과정에서 정렬되지 못한 웨이퍼를 즉시 반출하는 것이 어렵다면 정렬되지 못한 웨이퍼 뒤를 따르는 정렬된 웨이퍼의 후속공정을 방해하지 않기 위해서라도 정렬되지 못한 웨이퍼를 원래의 이송경로를 따라 이송시킬 필요가 있다.
만일 크게 방향이 틀어진 웨이퍼가 후속 공정을 위한 검사장치 또는 설비의 출입구 등을 차단하게 되면 뒤따르는 웨이퍼들이 파손되는 등의 문제가 발생될 수 있으므로, 상기 웨이퍼 가이드부(6000)는 상기 웨이퍼 정렬부(5000)에서 정렬되지 못한 웨이퍼들을 가이드 부재(6500)에 의하여 웨이퍼의 이송경로 이탈 등을 방지할 수 있다.
상기 가이드 부재(6500) 사이의 간격은 이송방향을 따라 좁아지는 구간을 포함할 수 있다. 상기 가이드 부재(6500)에 의하여 웨이퍼가 안내되는 과정에서의 물리적인 저항을 최소화하기 위함이다.
도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)을 구성하는 웨이퍼 인출부(2000)에서 웨이퍼 이송부(4000)로 웨이퍼가 이송되는 과정을 도시한다.
전술한 바와 같이, 상기 웨이퍼 인출부(2000)의 웨이퍼 인출방향과 웨이퍼 이송부(4000)에 의한 웨이퍼 이송방향은 수직하므로, 상기 웨이퍼 인출부(2000)의 인출 컨베이어 밸트(2100)에 의하여 상기 이송 컨베이어 밸트(4100) 상면으로 웨이퍼를 단순히 로딩하면, 각각의 밸트에 의한 이송방향의 차이에 의하여 웨이퍼 로딩 과정에서 웨이퍼의 방향이 크게 틀어지거나, 로딩 자체가 실패할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 웨이퍼 공급부(1000)에서 거치된 웨이퍼를 웨이퍼 인출부(2000)에서 인출한 뒤 웨이퍼 이송부(4000)에 안정적으로 로딩시키기 위한 웨이퍼 로딩부(3000)를 더 포함할 수 있다. 상기 웨이퍼 로딩부(3000)는 로딩 컨베이어 밸트(3100), 이를 구동하는 구동축, 종동축 및 각각의 축에 장착된 풀리(3200)를 포함할 수 있다.
도 2에 도시된 실시예에서, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)는 로딩 컨베이어 밸트(3100)를 구동하는 풀리가 총 8개가 구비되는 경우를 도시한다.
복수 개의 상기 풀리(3200-1 내지 3200-8)는 상기 웨이퍼 로딩부(3000)를 구성하는 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 상면 높이가 증가와 감소를 반복하도록 상기 컨베이어 밸트의 상면의 외측면과 내측면에 각각 배치될 수 있다. 따라서, 제1, 제3, 제4 및 제6 풀리(3200-1, 3200-3, 3200-4, 3200-6)는 제2 및 제4 풀리(3200-2, 3200-4)에 비해 높은 위치에 설치되며, 제1, 제3, 제4 및 제6 풀리(3200-1, 3200-3, 3200-4, 3200-6)는 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 내측면에 장착되고, 제2 및 제4 풀리(3200-2, 3200-4)는 상기 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 외측면에 장착된다.
이와 같은 풀리(3200)의 배치 및 장착에 의하여, 상기 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 상면의 높이는 증가와 감소가 반복되는 요철구조를 갖을 수 있다.
즉, 상기 로딩 컨베이어 벨트(3100)는 상기 인출 컨베이어 벨트와 평행하게 배치되며, 상기 인출 컨베이어 벨트의 상면은 돌출부와 함몰부가 반복적으로 구비될 수 있다. 그리고, 상기 함몰부 상부에 상기 이송 컨베이어 벨트가 배치되며, 상기 로딩 컨베이어 벨트는 웨이퍼의 전달과정 또는 로딩과정에서 승강될 수 있다
그리고, 상기 인출 컨베이어 밸트(2100)와 수직하게 배치되어 웨이퍼를 이송하는 이송 컨베이어 밸트(4100x, 4100y)는 상기 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 상면 중 높이가 낮아지는 영역 상부에 배치될 수 있다.
따라서, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 로딩 컨베이어 밸트(3100)는 웨이퍼 로딩부(3000)의 승강시 이송 컨베이어 밸트(4100x, 4100y)와 간섭이 발생되지 않을 수 있다.
상기 웨이퍼 로딩부(3000)는 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼를 전달받는 동안에는 미리 결정된 제1 높이(h1)를 유지할 수 있으며, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)가 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼를 전달받는 동안 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)의 상면 높이는 상기 제1 높이(h1)보다 낮은 제2 높이(h2)로 유지될 수 있다.
도 2(a)에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)가 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼를 전달받는 동안 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 상단의 높이(제1, 제3, 제4 및 제6 풀리의 상단 높이)는 웨이퍼 인출부(2000)의 인출 컨베이어 밸트(2100)의 상면 높이와 대응되는 높이인 미리 결정된 제1 높이(h1)로 유지되므로, 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼를 안정적으로 전달받을 수 있다. 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 제1 내지 제8 풀리 중 어느 하나는 모터에 의하여 구동되는 구동풀리일 수 있다.
그리고, 도 2(b)에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼 로딩부(3000)로 웨이퍼의 전달이 완료되면, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 구동은 정지될 수 있다.
이 경우, 상기 웨이퍼 인출부(2000)를 구성하는 인출 컨베이어 밸트(2100) 웨이퍼의 전달과정이 완료되면 구동이 중단될 수 있다. 웨이퍼 공급부(1000)를 서로 마주보게 구성하면, 상기 이송 컨베이어 밸트(4100)를 사이에 두고 교대로 웨이퍼를 공급하도록 설정될 수 있기 때문이다.
상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 상단은 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 상기 웨이퍼 로딩부(3000)로 웨이퍼가 전달되는 동안은 상기 제1 높이(h1)를 유지하며, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)로 웨이퍼의 전달이 완료되면, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 상단의 높이가 상기 제2 높이(h2)가 되도록 하강할 수 있다.
구체적으로, 상기 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼 로딩부(3000)로 웨이퍼의 전달이 완료되면, 도 2(c)에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)가 하강한다.
여기서, 상기 제2 높이(h2)는 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)의 상면의 높이에 대응될 수 있으며, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)는 미리 결정된 제1 높이(h1)에서 상기 웨이퍼 인출부(2000)에서 인출된 웨이퍼를 안착시켜 상기 제1 높이(h1)보다 낮은 미리 결정된 제2 높이(h2)에서 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 상부에 로딩시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)가 하강하는 과정에서 웨이퍼 로딩부(3000)의 상단의 높이가 이송 컨베이어 밸트(4100)의상면의 높이인 미리 결정된 제2 높이(h2)(h2<h1)로 하강하면, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 상부에 거치된 웨이퍼(w)는 상기 웨이퍼 이송 컨베이어 밸트(4100)에 로딩될 수 있다.
상기 이송 컨베이어 밸트(4100) 상면에 웨이퍼가 안착되는 동안 상기 이송 컨베이어 밸트(4100)는 이송방향으로 이송되거나, 감속되거나 또는 정지될 수도 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)가 상기 제2 높이(h2)보다 낮은 제3 높이(h3)(h3<h2)로 하강하게 되면 상기 웨이퍼 이송부(4000)로의 웨이퍼 로딩이 완료된다.
상기 웨이퍼 로딩부(3000)를 상기 제3 높이(h3)까지 추가하강 시키는 이유는 상기 이송 컨베이어 밸트(4100)에 의한 웨이퍼의 이송과정이 웨이퍼 로딩부(3000)의 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 표면과 마찰 등에 의한 간섭이 발생될 수 있으므로, 이를 방지하기 위함이다. 따라서, 상기 제3 높이(h3)는 상기 제2 높이(h2)보다 조금만 낮아도 된다.
도 2에 도시된 웨이퍼 로딩부(3000)는 상단의 구조가 요철구조를 갖도록 하여 이송 컨베이어 밸트(4100)와 간섭이 발생되지 않으며 승강이 가능한 구조라면 형태의 제한은 없다.
도 3은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)을 구성하는 웨이퍼 정렬부(5000)의 평면도를 도시하고, 도 4는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)을 구성하는 웨이퍼 정렬부(5000)의 작동상태의 측면도를 도시한다.
전술한 바와 같이, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 상기 웨이퍼 이송부(4000)를 구성하는 한 쌍의 이송 컨베이어 밸트(4100) 하부에 구비되며, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 상기 이송 컨베이어 밸트(4100) 사이로 승강하여, 웨이퍼 하면을 지지한 상태로 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 회전장치를 구비하고, 상기 웨이퍼 회전장치는 상승한 상태에서 웨이퍼의 하면을 흡착하여 회전시키는 흡착 플레이트(5200)를 포함할 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 흡착 플레이트(5200)는 원판 형태를 갖으며, 진공압 또는 음압을 인가하는 흡입장치와 연결될 수 있다. 상기 흡착 플레이트(5200)의 상면에는 복수 개의 흡입홀(5200h)이 형성될 수 있으며, 복수 개의 흡입홀(5200h)은 방사형으로 구성될 수 있다.
상기 웨이퍼 회전장치는 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되는 웨이퍼의 하면을 지지한 상태로 상승시키고, 상기 웨이퍼가 상기 이송 컨베이어 밸트(4100) 상부로 이격되면 웨이퍼를 회전시키는 역할을 수행한다.
도 1을 참조한 설명에서 웨이퍼 공급부(1000)의 웨이퍼 매거진(1100)에 거치된 웨이퍼의 방향은 웨이퍼 매거진(1100)의 출입구를 기준으로 일관된 방향을 갖고 있고, 웨이퍼 공급부(1000)가 이송 컨베이어 밸트(4100)를 사이에 두고 마주보고 배치되므로, 180도의 위상차를 갖게 되므로, 마주보는 웨이퍼 공급부(1000)에서 공급된 웨이퍼 중 어느 하나를 회전시키지 않도록 후속 공정을 설계하면, 나머지 웨이퍼(w)는 이송과정에서 180도 회전시킬 필요가 있으며, 어느 하나를 시계 방향으로 90도 회전시키도록 후속 공정을 설계하면, 나머지 웨이퍼(w)는 이송과정에서 반시계 방향으로 90도 회전시킬 필요가 있다. 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 후자의 경우를 가정하여 설명한다.
따라서, 상기 웨이퍼 회전장치의 흡착 플레이트(5200)는 이송 컨베이어 밸트(4100)를 기준으로 어떤 쪽에 구비된 웨이퍼 공급부(1000)에서 공급된 웨이퍼인지에 따라 웨이퍼를 시계방향 또는 반시계방향으로 90도 회전시킬 수 있다.
즉, 제1 및 제2 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b)에서 공급된 웨이퍼는 상기 웨이퍼 회전장치에 의하여 반시계방향으로 90도 회전시키고, 제3 및 제4 웨이퍼 공급부(1000c, 1000d)에서 공급되는 웨이퍼는 상기 웨이퍼 회전장치에 의하여 시계방향으로 90도 회전시킬 수 있다.
물론, 시계방향 또는 반시계방향으로 90도는 웨이퍼의 로딩과정 또는 이송과정에서 발생되는 웨이퍼의 틀어짐 등에 따라 가변될 수 있는 각도이다.
즉, 제1 및 제2 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b)에서 공급된 웨이퍼가 이미 반시계 방향으로 θ도 틀어진 경우, 상기 웨이퍼 회전장치는 반시계 방향으로 (90-θ)도 만큼만 회전시킬 수 있다. 이에 대한 자세한 설명은 후술한다.
상기 웨이퍼 정렬부(5000)는 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송방향과 평행한 방향으로 상기 웨이퍼 회전장치를 이동시키는 수평 이동장치를 포함할 수 있다.
상기 웨이퍼 회전장치는 웨이퍼 회전장치를 웨이퍼 이송방향으로 병진 운동시킬 수 있는 수평 이동장치와 연동되어 구동될 수 있다.
전술한 바와 같이, 상기 수평 이동장치는 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)와 평행하게 배치된 볼스크류(5400) 및 상기 웨이퍼 회전장치 측에 고정되며 상기 볼스크류(5400)에 장착되는 볼스크류 너트(5300)를 구비할 수 있다.
상기 볼스크류(5400)는 볼스크류를 회전시키는 볼스크류 구동모터(5500)에 의하여 구동된다. 상기 볼스크류 구동모터(5500)의 구동속도를 조절하여, 상기 웨이퍼 회전장치의 수평 이동속도를 조절할 수 있다. 이러한 볼스크류 구동모터(5500)의 회전속도의 조절에 의하여, 상기 수평 이동장치에 의한 상기 웨이퍼 회전장치의 수평 이동속도는 상기 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도보다 빠르거나 느리게 할 수 있음은 전술한 바와 같다.
상기 웨이퍼 회전장치 하부에 웨이퍼 회전장치의 수평 이동을 안내하기 위한 슬라이드 가이드(5700)가 구비될 수 있다.
상기 웨이퍼 회전장치는 상기 수평 이동장치에 의하여 수평방향 구동력이 제공될 수 있지만, 별도의 슬라이드 가이드(5700)를 구비하여 수평방향 슬라이드 이동이 가이드될 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)의 전방과 후방에 각각 전방센서(5100)와 후방센서(5600)를 구비할 수 있다. 전술한 바와 같이, 상기 전방센서(5100)는 제1 전방센서(5100x)와 제2 전방센서(5100y)를 포함하며, 상기 제1 전방센서(5100x)와 상기 제2 전방센서(5100y)는 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송방향과 수직한 방향으로 이격되어 장착되고, 상기 전방센서(5100)는 웨이퍼의 영상을 촬영하는 카메라 등일 수도 있고, 레이져 센서와 같이 물체의 투과를 단순히 감지하는 방식일 수도 있다.
단지 웨이퍼의 이송 위치만을 감지하기 위해서는 전방센서(5100)를 1개만 구비해도 이송되는 웨이퍼의 이송위치를 판단할 수 있으나, 웨이퍼가 로딩되는 과정에서 발생될 수 있는 웨이퍼의 틀어짐 등에 의하여 가변될 수 있는 웨이퍼의 방향을 감지하기 위해서는 이송방향과 수직한 방향으로 이격된 적어도 2개 이상의 센서가 필요하다. 상기 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되는 웨이퍼 등이 원형 웨이퍼가 아닌 다각형 태양광 웨이퍼 등인 경우에는 한 쌍의 전방센서(5100x, 5100y)를 통과하는 시간차에 의하여 웨이퍼의 틀어짐의 정도를 계산할 수 있다.
그리고, 상기 후방센서(5600)에 의하여 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되는 웨이퍼 중 웨이퍼 이송부(4000)를 빠져나가는 웨이퍼의 이송 위치를 판단하고, 상기 전방센서(5100)에 의하여 웨이퍼 정렬부(5000)로 진입하는 웨이퍼의 위치를 감지하여 이송되는 웨이퍼 간의 이송 간격을 판단할 수 있다. 감지된 웨이퍼 간의 이송 간격은 전술한 바와 같이 상기 제어부의 제어변수로 사용되어 상기 웨이퍼 정렬부(5000)에 의한 제어 데이터로 사용될 수 있다.
그리고, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 흡착 플레이트(5200)는 플레이트 회전축(5210)에 의하여 회전되고, 상기 플레이트 회전축(5210)은 플레이트 구동밸트(5240)에 의하여 구동되며, 상기 플레이트 구동밸트는 플레이트 구동모터(5250)에 연결된 플레이트 구동풀리(5260)에 의하여 구동될 수 있다.
그리고, 상기 흡착 플레이트(5200)의 상면에 구비된 흡입홀은 흡입관(5230)에 연결되어, 회전플레이트에 의한 웨이퍼 회전시 웨이퍼의 하면에 흡입력을 인가하여 흡착 플레이트(5200)의 웨이퍼 지지상태를 강화할 수 있다. 그리고, 상기 흡입관(5230)은 미리 결정된 거리를 승강할 수 있도록 구성될 수 있다. 상기 흡착 플레이트(5200)는 웨이퍼를 흡착 플레이트(5200) 상면에 지지하는 과정에서 발생될 수 있는 슬립현상을 방지하기 위하여 상승 구동 후 회전되도록 제어될 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 회전장치에 의한 웨이퍼 회전과정과 상기 수평 이동장치에 의한 수평 이동은 동시에 수행될 수도 있다. 전술한 바와 같이, 이송되는 웨이퍼의 틀어짐 또는 간격을 동시에 조절할 수 있다.
도 5는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 인출부(2000)에 의하여 웨이퍼 공급부(1000)에 적층되어 있던 웨이퍼의 인출과정을 도시한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)은 복수 개의 웨이퍼 공급부(1000)를 구비할 수 있으며, 도 5에 도시된 실시예에서, 상기 웨이퍼 공급부(1000)는 상기 웨이퍼 이송부(4000)를 사이에 두고 한 쌍이 마주보고 구비되고, 이는 웨이퍼 로딩부(3000)를 공유하는 것을 가능하게 한다.
또한, 도 5에 도시된 실시예에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 공급부(1000)는 2쌍이 각각 웨이퍼 이송부(4000)를 사이에 두고 서로 웨이퍼 매거진(1100)의 웨이퍼 출입구가 마주보도록 배치된다.
제1 웨이퍼 공급부(1000a)와 제3 웨이퍼 공급부(1000c)가 좌측에 서로 마주보고 설치되고, 제2 웨이퍼 공급부(1000b)와 제4 웨이퍼 공급부(1000d)가 서로 마주보고 배치되며, 마주보는 각각의 웨이퍼 공급부(1000) 사이로 웨이퍼 이송부(4000)를 구성하는 이송 컨베이어 밸트(4100x, 4100y)가 평행하게 배치되고, 제1 웨이퍼 공급부(1000a)와 제3 웨이퍼 공급부(1000c)는 제1 웨이퍼 로딩부(3000a)를 공유하고, 제2 웨이퍼 공급부(1000b)와 제4 웨이퍼 공급부(1000d)는 제2 웨이퍼 로딩부(3000b)를 공유하는 구조를 갖으므로, 마주보는 웨이퍼 공급부(1000)에서 동시에 웨이퍼가 공급될 수 없다.
따라서, 제1 내지 제4 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b, 1000c, 1000d) 중 이송 컨베이어 밸트(4100)를 기준으로 동일 방향에 배치된 웨이퍼 공급부(1000)만이 동시에 웨이퍼를 공급할 수 있다.
도 5에 도시된 실시예에서, 제1 및 제2 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b)로부터 제1 및 제2 웨이퍼 인출부(2000a, 2000b)에 의하여 웨이퍼가 인출되는 과정이 도시된다.
웨이퍼의 인출속도를 동일하게 설정하면, 이송 컨베이어 밸트(4100)로 로딩 후에도 웨이퍼 간의 이송 간격을 일정하게 할 수 있다.
즉, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)에 의하여 공급되는 웨이퍼의 이송 간격은 뒤따르는 반도체 공정 또는 검사 과정 등에서 일정하게 유지되는 것이 바람직하므로, 요구되는 웨이퍼의 이송간격에 맞춰 웨이퍼 공급부(1000)의 간격 역시 설정되고, 이를 인출하는 인출 컨베이어 밸트(2100)의 구동속도를 동일하게 하면, 웨이퍼의 이송 간격 역시 웨이퍼 공급부(1000)의 간격으로 유지할 수 있다.
도 6은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 이송부(4000)에 웨이퍼가 안착된 상태를 도시한다.
상기 웨이퍼 인출부(2000)에 의하여 인출된 웨이퍼(w)는 웨이퍼 로딩부(3000)에 의하여 이송 컨베이어 밸트(4100) 상면에 로딩될 수 있다.
전술한 바와 같이, 하나의 웨이퍼 로딩부(3000)는 마주보는 웨이퍼 공급부(1000)에서 각각 공급되는 웨이퍼를 이송 컨베이얼 밸트 상부에 로딩하는 과정에서 공유된다. 즉, 하나의 로딩부를 번갈아 웨이퍼 로딩과정에서 사용하게 된다.
따라서, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)의 로딩 컨베이어 밸트(3100)의 회전방향은 웨이퍼를 공급하는 웨이퍼 공급부(1000)가 어느 것인지에 따라 변화될 수 있다.
도 6에 도시된 실시예에서, 제1 및 제2 웨이퍼 공급부(1000a, 1000b)에서 웨이퍼가 공급되었으므로, 제1 및 제2 웨이퍼 로딩부(3000a, 3000b)의 로딩 컨베이어 밸트(3100a, 3100b)의 회전방향은 제1 및 제2 웨이퍼 인출부(2000a, 2000b)의 인출 컨베이어 밸트(2100)의 회전방향과 동일하게 제어될 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 로딩부(3000)는 도 2를 참조한 설명에서 설명된 바와 같이, 웨이퍼 로딩부(3000)의 상단의 높이가 미리 결정된 제1 높이(h1)로 유지된 상태에서 웨이퍼 인출부(2000)로부터 웨이퍼를 전달받고, 제1 높이(h1)보다 낮은 제2 높이(h2)에서 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)로 웨이퍼를 로딩하게 된다.
도 7은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 정렬부(5000)에서 웨이퍼가 정렬되는 과정을 도시한다.
상기 웨이퍼 공급부(1000)에서 공급된 웨이퍼(w)는 웨이퍼 이송부(4000)의 이송 컨베이어 밸트(4100)에 의하여 미리 결정된 방향으로 이송된다. 그러나, 웨이퍼의 인출과정, 로딩과정 또는 이송과정에서 웨이퍼의 틀어짐 등이 발생될 수 있다
도 7에 도시된 실시예에서, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)로 진입하는 제1 웨이퍼(w1)는 θ도 만큼 틀어진 상태임이 도시된다. 상기 제1 웨이퍼(w1)가 제1 웨이퍼 공급부(1000)에서 공급되는 경우, 전술한 바와 같이 웨이퍼의 이송방향을 반시계방향으로 90도 회전되어야 하는 것으로 가정하는 경우, 상기 제1 웨이퍼(w1)는 이미 θ도 만큼 반시계 방향으로 틀어진 상태이므로 상기 웨이퍼 정렬부(5000)의 웨이퍼 회전장치는 상기 제1 웨이퍼를 반시계 방향으로 (90- θ)도 만큼 회전시켜 웨이퍼의 방향을 정렬할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 제어부는 상기 웨이퍼 정렬부(5000)에 구비된 전방센서(5100)에 의하여 웨이퍼의 틀어짐 등을 감지하여, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)의 웨이퍼 회전장치의 흡착 플레이트(5200)의 회전각도를 정밀하게 제어할 수 있다.
그리고, 상기 웨이퍼 정렬부(5000)를 통과하는 제1 웨이퍼(w1)와 제2 웨이퍼(w2)의 통과시점을 웨이퍼 정렬부(5000)에 구비된 후방센서(5600) 등에 의하여 감지하고, 이송 컨베이어 밸트(4100)의 속도 등을 참고하여 웨이퍼 간의 이송 간격을 조절할 수 있다.
이송되는 웨이퍼 간의 이송 간격을 조절하는 방법은 이송되는 웨이퍼를 흡착 등의 방법으로 지지하는 흡착 플레이트(5200)의 수평 이동속도를 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도보다 빠르게 하거나 느리게 하는 방법으로 수행된다.
흡착 플레이트(5200)의 수평 이동속도는 웨이퍼 정렬부(5000)를 구성하는 수평 이동장치의 볼스크류 등의 회전속도를 조절하는 방법으로 제어 가능함은 전술한 바와 같다.
도 8은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 정렬부(5000)가 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되는 웨이퍼의 방향 또는 위치를 정렬하기 전 상태를 도시하고, 도 9는 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 정렬부(5000)가 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되던 웨이퍼의 방향 또는 위치를 정렬하는 과정을 도시하고, 도 10은 도 1에 도시된 웨이퍼 공급 시스템(10000)의 웨이퍼 정렬부(5000)가 웨이퍼의 방향 또는 위치를 정렬한 후 다시 웨이퍼 이송부(4000)에 웨이퍼를 안착시킨 상태를 도시한다.
웨이퍼 정렬부(5000)로 진입한 제1 웨이퍼(w1)는 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도(Vb)로 이송되며, 웨이퍼 정렬부(5000)에서 정렬되어 웨이퍼 정렬부(5000)를 통과하는 제2 웨이퍼(Vb) 역시 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도(Vb)로 이송된다.
도 8에 도시된 실시예에서, 제1 및 제2 웨이퍼의 이송 간격이 L' 인 경우가 도시된다.
만일, 웨이퍼 이송부(4000)에 의하여 이송되는 웨이퍼의 이송 간격이 L(L'>L)로 요구되는 경우, 양 웨이퍼 중 뒤따르는 웨이퍼인 제1 웨이퍼를 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도(Vb)보다 빠른 속도로 수평 이동시켜야 한다.
따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 정렬부(5000)의 수평 이동장치는 도 9에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 정렬부(5000)의 웨이퍼 회전장치를 구성하는 흡착 플레이트(5200)가 웨이퍼의 하면을 지지한 상태로 이송 컨베이어 밸트(4100) 위로 상승시킨 뒤 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도(Vb)보다 빠른 수평 이동속도(Vr)로 미리 결정된 거리를 이동시킨다.
이때, 상기 회전플레이트는 회전될 수 있으므로 웨이퍼 공급부(1000)에서 공급된 웨이퍼의 방향을 필요에 따라 정렬할 수 있다.
상기 이송 컨베이어 밸트(4100)의 이송속도(Vb)보다 빠른 수평 이동속도(Vr)로 웨이퍼를 이동시키면, 웨이퍼 간의 이송 간격은 L'' (L'>L''>L)이 되고, 웨이퍼 간의 이송 간격이 기준 간격인 L이 되는 순간 상기 흡착 플레이트(5200)에 의하여 흡착된 상태로 수평 이동되던 웨이퍼를 상기 이송 컨베이어 밸트(4100)에 내려 놓으면, 웨이퍼의 이송 간격을 일정하게 정렬할 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 웨이퍼 공급 시스템을 구성하는 각각의 밸트, 예를 들면, 이송 컨베이어 밸트, 인출 컨베이어 밸트, 로딩 컨베이어 밸트 또는 가이드 컨베이어 밸트 등은 밸트 상에 복수 개의 흡입홀이 구비되고, 흡입홀로 흡입력이 인가되어 웨이퍼의 이송, 인출, 로딩 또는 가이드 과정에서 발생될 수 있는 웨이퍼의 진동 또는 이탈을 방지하도록 구성될 수 있다.
본 명세서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 당업자는 이하에서 서술하는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경 실시할 수 있을 것이다. 그러므로 변형된 실시가 기본적으로 본 발명의 특허청구범위의 구성요소를 포함한다면 모두 본 발명의 기술적 범주에 포함된다고 보아야 한다.
10000 : 웨이퍼 공급 시스템
1000 : 웨이퍼 공급부
2000 : 웨이퍼 인출부
3000 : 웨이퍼 로딩부
4000 : 웨이퍼 이송부
5000 : 웨이퍼 로딩부
6000 : 웨이퍼 가이드부

Claims (33)

  1. 웨이퍼가 적층된 상태로 제공되는 웨이퍼 공급부;
    상기 웨이퍼 공급부에 적층된 웨이퍼를 순차적으로 인출하는 웨이퍼 인출부;
    상기 웨이퍼 인출부에서 인출된 웨이퍼를 미리 결정된 이송방향으로 이송하는 웨이퍼 이송부; 및,
    상기 웨이퍼 이송부에서 이송되는 웨이퍼의 간격 또는 방향을 정렬하는 웨이퍼 정렬부;
    상기 웨이퍼 공급부, 상기 웨이퍼 인출부, 상기 웨이퍼 이송부 및 상기 웨이퍼 정렬부를 제어하는 제어부를 포함하는 웨이퍼 공급 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 공급부는 웨이퍼가 이격된 상태로 적층되어 거치되는 웨이퍼 매거진을 포함하며, 상기 웨이퍼 인출부는 상기 웨이퍼 공급부의 웨이퍼 매거진에서 최하부에 위치한 웨이퍼를 인출하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 웨이퍼 공급부는 최하부에 위치한 웨이퍼가 상기 웨이퍼 인출부에 의하여 인출되면, 상기 웨이퍼 매거진의 높이가 미리 결정된 높이 만큼 하강하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 인출부에 의한 웨이퍼 인출방향과 상기 웨이퍼 이송부에 의한 웨이퍼 이송방향은 수직한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 공급부는 상기 웨이퍼 이송부를 사이에 두고 웨이퍼 출입구가 마주보도록 쌍을 이루며 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 웨이퍼 공급부는 미리 결정된 간격으로 복수 쌍을 이루며 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 인출부에서 인출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 이송부에 로딩하는 웨이퍼 로딩부를 더 포함되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 웨이퍼 로딩부는 미리 결정된 제1 높이에서 상기 웨이퍼 인출부에서 인출된 웨이퍼를 전달받고, 상기 제1 높이보다 낮은 미리 결정된 제2 높이에서 상기 웨이퍼 이송부의 상부에 로딩시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 웨이퍼 로딩부는 상기 웨이퍼 로딩부 상기 웨이퍼 인출부로부터 상기 웨이퍼 로딩부로 웨이퍼가 전달되는 동안은 상기 제1 높이를 유지하며, 상기 웨이퍼 인출부에서 상기 웨이퍼 로딩부로 웨이퍼의 전달이 완료되면, 상기 웨이퍼 로딩부의 상단의 높이가 상기 제2 높이가 되도록 하강하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 웨이퍼 로딩부는 상기 웨이퍼 이송부의 상부에 웨이퍼를 로딩한 후 상기 제2 높이보다 낮은 제3 높이로 하강하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 웨이퍼 로딩부는 복수 개의 풀리 및 로딩 컨베이어 벨트를 포함하며, 복수 개의 상기 풀리는 상기 웨이퍼 로딩부를 구성하는 로딩 컨베이어 벨트의 상단의 높이가 증가와 감소를 반복하도록 상기 컨베이어 벨트의 상면의 외측면과 내측면의 서로 다른 높이에 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 웨이퍼 이송부는 상기 웨이퍼 로딩부의 로딩 컨베이어 벨트와 수직한 방향으로 배치되는 한쌍의 이송 컨베이어 벨트를 구비하고, 상기 이송 컨베이어 벨트는 상기 로딩 컨베이어 벨트의 상면 중 높이가 낮아지는 영역 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 제2 높이는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트의 상면의 높이에 대응되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부를 구성하는 한 쌍의 이송 컨베이어 벨트 하부에 구비되며, 상기 웨이퍼 정렬부는 상기 이송 컨베이어 벨트 사이로 상승 또는 하강이 가능하도록 구성되며, 상기 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼 하면을 지지한 상태로 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 회전장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 웨이퍼 회전장치는 상승한 상태에서 웨이퍼의 하면을 흡착하여 회전시키는 흡착 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 흡착 플레이트는 그 상면으로 노출되는 복수 개의 흡입홀이 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송방향으로 상기 웨이퍼 회전장치를 이동시키는 수평 이동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 수평 이동장치에 의한 상기 웨이퍼 회전장치의 수평 이동속도는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트의 이송속도보다 빠르거나 느릴 수 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  19. 제17항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부에 의하여 정렬된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트에 안착시키기 직전의 상기 웨이퍼 정렬부를 구성하는 수평 이동장치의 수평 이동속도는 상기 이송 컨베이어 벨트의 이송 속도에 대응되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  20. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부에 의하여 이송되는 웨이퍼의 위치 또는 방향을 감지하기 위한 적어도 1개 이상의 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부는 상기 이송 컨베이어 벨트 사이로 상승 또는 하강이 가능하도록 구성되며, 상기 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼 하면을 지지한 상태로 웨이퍼를 회전시키는 웨이퍼 회전장치를 구비하며, 상기 센서에서 감지된 웨이퍼의 방향에 따라 상기 제어부는 상기 웨이퍼 회전장치의 회전각도를 제어하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송방향으로 상기 웨이퍼 회전장치를 이동시키는 수평 이동장치를 포함하며, 상기 센서에서 감지된 웨이퍼의 이송 간격에 따라 상기 제어부는 상기 수평 이동장치의 이동속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  23. 제20항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 웨이퍼 이송부의 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼의 이송 간격이 일정해지도록 상기 수평 이동장치의 이동 속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  24. 제23항에 있어서,
    상기 이송 간격은 웨이퍼 공급 시스템에 의하여 공급된 웨이퍼의 검사장치를 구성하는 각각의 컨베이어 벨트의 전체 길이에 대응되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  25. 제23항에 있어서,
    상기 이송 간격은 상기 센서를 통과하는 웨이퍼의 통과 시점과 이송 컨베이어 벨트의 이송 속도를 기준으로 계산되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  26. 제20항에 있어서,
    상기 센서는 상기 웨이퍼 정렬부로 진입하는 웨이퍼의 이송위치 또는 방향을 감지하기 위한 전방센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  27. 제26항에 있어서,
    상기 전방센서는 웨이퍼 이송부를 구성하는 이송 컨베이어 벨트의 이송방향과 수직한 방향으로 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  28. 제20항에 있어서,
    상기 센서는 상기 웨이퍼 정렬부를 통과하는 웨이퍼의 통과 시점을 감지하기 위한 후방센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  29. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 정렬부에서 정렬된 웨이퍼의 양측 단부를 가이드하는 웨이퍼 가이드부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  30. 웨이퍼가 적층된 상태로 거치되는 웨이퍼 매거진;
    상기 웨이퍼 매거진에 적층된 웨이퍼를 순차적으로 인출하는 인출 컨베이어 벨트;
    상기 인출 컨베이어 벨트에 의해 인출된 웨이퍼를 미리 결정된 이송방향으로 이송하는 이송 컨베이어 벨트; 및,
    상기 이송 컨베이어 벨트에 의하여 이송되는 웨이퍼를 흡착하여 회전시키거나, 상기 이송 컨베이어 벨트의 이송방향으로 가속 또는 감속하여 수평 이동시키는 흡착 플레이트;를 포함하는 웨이퍼 공급 시스템.
  31. 제30항에 있어서,
    상기 인출 컨베이어 벨트 및 상기 인출 컨베이어 벨트 중 적어도 하나는 밸트상에 복수 개의 흡입홀이 형성되고, 상기 흡입홀로 흡입력이 인가되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  32. 제30항에 있어서,
    상기 인출 컨베이어 벨트 및 상기 이송 컨베이어 벨트는 수직하게 배치되며, 상기 인출 컨베이어 밸트에서 웨이퍼를 전달받아 상기 이송 컨베이어 벨트에 로딩하는 로딩 컨베이어 벨트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
  33. 제30항에 있어서,
    상기 로딩 컨베이어 벨트는 상기 인출 컨베이어 벨트와 평행하게 배치되며, 상기 인출 컨베이어 벨트의 상면은 돌출부와 함몰부가 반복적으로 구비되고, 상기 함몰부 상부에 상기 이송 컨베이어 벨트가 배치되며, 상기 로딩 컨베이어 벨트는 웨이퍼의 전달과정 또는 로딩과정에서 승강되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 공급 시스템.
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