KR20110008339A - 결정질막의 제조 방법 및 제조 장치 - Google Patents

결정질막의 제조 방법 및 제조 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 비정질막을 결정화할 때에 균일하게 미세한 결정을 효과적으로 제작하는 것을 가능하게 한다. 기판(6)의 상층에 있는 비정질막(어모퍼스 실리콘막(6a))에 510~540nm의 가시 파장 영역의 연속 발진 레이저광(1a)을 조사해서 상기 비정질막을 융점을 초과하지 않는 온도로 가열하여 상기 비정질막을 결정화시킨다. 연속 발진 레이저광은 파워 밀도를 55~290kW/㎠, 단축 폭을 100㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 또한 연속 발진 레이저광을 상대적으로 주사 속도 50~1000mm/초로 주사하는 것이 바람직하다. 결정 입경의 불균일이 적은 미세한 결정질막을 기판에 손상을 부여하지 않고 비정질막으로부터 효과적으로 제작할 수 있다.

Description

결정질막의 제조 방법 및 제조 장치{PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCING CRYSTALLINE FILM}
본 발명은 비정질막에 레이저광을 조사해서 미세 결정화시켜 결정질막을 제작하는 결정질막의 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치 등의 박형 표시기, 플랫 패널 디스플레이에 사용되는 박막 트랜지스터(TFT)의 결정화 실리콘의 제조에는 기판 상층에 설치된 어모퍼스 실리콘막에 펄스 레이저광을 조사해서 상기 어모퍼스 실리콘막을 용융, 재결정화시키는 방법(레이저 어닐법)이나 어모퍼스 실리콘막을 상층에 갖는 상기 기판을 예비 가열로에서 가열해서 상기 실리콘막을 용융하지 않고 고체 그대로 결정 성장시키는 고상 성장법(SPC: Solid Phase Crystallization)의 2개의 방법이 일반적으로 사용되고 있다.
또한, 본 발명자들은 기판 온도를 가열 상태로 유지한 상태에서 비정질막에 펄스 레이저광을 조사함으로써 고상 성장에 의해 미세한 다결정막이 얻어진다는 것을 확인하고, 이것을 제안하고 있다(특허문헌 1 참조).
일본 특허 공개 2008-147487호 공보
최근에서는 대형 TV용 OLED(Organic light-emitting diode) 패널이나 LCD(Liquid Crystal Display) 패널을 제조함에 있어서, 균일하게 대면적의 미세한 다결정 실리콘막을 저렴하게 제조하는 방법이 요구되고 있다.
또한, 최근 액정 디스플레이 대신에 차세대 디스플레이로서 유력시되고 있는 유기 EL 디스플레이에서는 유기 EL 자체가 발광함으로써 스크린의 휘도를 높이고 있다. 유기 EL의 발광 재료는 LCD와 같은 전압 구동이 아니라 전류 구동이기 때문에 TFT에의 요구가 다르다. 어모퍼스 실리콘에 의한 TFT에서는 경년 변화의 억제가 어렵고, 역치 전압(Vth)의 대폭적인 드리프트가 발생하여 디바이스의 수명이 제한된다. 한편, 폴리실리콘은 안정한 재료이므로 장수명이다. 그러나, 폴리실리콘에 의한 TFT에서는 TFT의 특성 불균일은 크다. 이 TFT 특성의 불균일은 결정 입경이 불균일하거나, 결정질 실리콘의 결정 입자의 계면(결정 입계)이 TFT의 채널 형성 영역에 존재함으로써 보다 발생하기 쉬워진다. TFT의 특성 불균일은 주로 채널 간에 존재하는 결정 입경과 결정 입계의 수에 좌우되기 쉽다. 또한, 결정 입경이 크면 일반적으로 전자 이동도가 커진다. 유기 EL 디스플레이 용도의 TFT는 전계 전자 이동도가 높은 것은 오히려 TFT의 채널 길이를 길게 하지 않으면 안되고, RGB(적ㆍ녹ㆍ청) 각각의 1화소의 크기가 TFT의 채널 길이에 의존해버려 고해상도가 얻어지지 않는다. 이 때문에, 결정 입경의 불균일이 적은 미세한 결정막에의 요구 정도는 점점 높아지고 있다.
그러나, 종래의 결정화 방법으로는 이들의 문제를 해결하는 것은 곤란하다.
왜냐하면, 그 중 하나인 레이저 어닐법은 어모퍼스 실리콘을 일단 용융시켜 재결정화시키는 프로세스이고, 일반적으로 형성되는 결정 입경이 크다. 이 때문에, 앞서 설명한 바와 같이 전계 전자 이동도가 높고, 복수의 TFT의 채널 영역 내의 결정 입경의 수에 불균일이 발생하는 것이나, 임의적인 형상, 이웃하는 결정의 결정 배향성의 차이가 결과 TFT의 특성 불균일에 크게 영향을 준다. 특히, 레이저 겹침부에 결정성의 차이가 나타나기 쉽고, 이 결정성의 차이가 TFT의 특성 불균형에 크게 영향을 준다. 또한, 표면의 오염(불순물)에 의해 결정에 결함이 생긴다고 하는 문제도 있다.
또한, 고상 성장법(SPC법)에 의해 얻어지는 결정은 입경이 작고, TFT 불균일은 적어서 상기 과제를 해결하는 가장 유효한 결정화 방법이다. 그러나, 결정화 시간이 길어 양산 용도로서는 채용되기 어렵다. 고상 성장법(SPC)을 가능하게 하는 열처리 공정에서는 복수매의 기판을 동시에 처리하는 배치 타입의 열처리 장치가 사용된다. 대량의 기판을 동시에 가열하기 때문에 승온 및 강온에 장시간을 요함과 아울러 기판 내의 온도가 불균일해지기 쉽다. 또한, 고상 성장법은 유리 기판의 왜곡점 온도보다 높은 온도에서 장시간 가열하면, 유리 기판 자체의 수축, 팽창을 야기하여 유리에 손상을 부여한다. SPC의 결정화 온도는 유리 전이점보다 높으므로, 약간의 온도 분포에 의해 유리 기판의 휨이나 수축 분포가 발생한다. 그 결과, 결정화가 가능하여도 노광 공정 등의 프로세스에 지장이 생겨서 디바이스의 제작이 곤란해진다. 처리 온도가 높을수록 온도 균일성이 요구된다. 일반적으로 결정화 속도는 가열 온도에 의존하고, 600℃에서 10~15시간, 650℃에서 2~3시간, 700℃에서 수십분의 처리 시간이 필요하게 된다. 유리 기판에 손상을 부여하지 않고 처리하기 위해서는 장시간의 처리 시간이 필요해져 이 방법은 양산 용도로서 채용하기 어렵다.
본 발명은 상기 사정을 배경으로서 이루어진 것이고, 결정 입경의 불균일이 적은 미세한 결정질막을 기판에 손상을 주지 않고 비정질막으로부터 효율적으로 제작할 수 있는 결정질막의 제조 방법 및 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
즉, 본 발명의 결정질막의 제조 방법은 기판의 상층에 있는 비정질막에 510~540nm의 가시 파장 영역의 연속 발진 레이저광을 조사하여 상기 비정질막을 융점을 초과하지 않는 온도로 가열하여 상기 비정질막을 결정화시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 결정질막의 제조 장치는 510~540nm의 가시 파장 영역의 연속 발진 레이저광을 출력하는 레이저 발진기, 상기 레이저 발진기로부터 출력되는 레이저광을 정형해서 비정질막에 도입하는 광학계, 상기 비정질막을 상기 비정질막의 면 방향을 따라 상기 레이저광에 대하여 상대적으로 이동시키는 주사 장치, 상기 레이저광이 상기 주사 장치에 의해 주사되면서 상기 비정질막에 조사될 때에 상기 비정질막이 융점을 초과하지 않는 온도로 가열되어서 결정화되도록 상기 레이저광의 파워 밀도를 조정하는 어테뉴에이터를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 가시 광선 영역의 연속 발진 레이저광을 비정질막에 조사함으로써 상기 레이저광이 비정질막에 효과적으로 흡수되어서 비정질막이 급속하게 또한 융점을 초과하지 않는 온도로 가열되어 종래의 용융ㆍ재결정화법과 다른 방법으로 입경의 불균일이 작은 균일한 미세 결정, 예를 들면 크기가 50nm 이하인 미세 결정을 얻을 수 있다. 종래 방식의 용융 결정화법이나 예비 가열로에 의한 SPC(고상 성장법)에서는 결정 입자의 불균일은 커진다. 본 발명에서는 상기 비정질막을 연속 발진 레이저광 이외에 예비 가열할 필요가 없고, 비정질막이 형성된 기판의 승온을 억제해서 비정질막을 효율적으로 처리할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 레이저광의 겹침 개소도 동일한 결정성이 얻어져 균일성이 향상된다. 종래 방식의 레이저 어닐법에서는 비정질막에서의 레이저광의 겹침 개소가 다른 형태의 결정으로 되어 결정의 균일성이 손상된다.
또한, 비정질막, 특히 어모퍼스 실리콘에서의 연속 발진 레이저광을 단축 폭을 100㎛ 이하로 해서 단축 폭 방향을 따라 주사하여 단시간에 가열함으로써 하지의 기판은 손상을 받는 온도로 되기 어렵다. 특히, 레이저광을 고속으로 상대적으로 주사해서 조사 시간을 짧게 함으로써 기판에의 손상 회피는 확실한 것이 된다. 또한, 본 발명에 있어서는 기판의 예비 가열은 불필요하지만, 본 발명은 기판의 가열을 행하는 것을 배제하는 것은 아니다.
또한, 비정질막, 특히 어모퍼스 실리콘은 흡수가 좋은 레이저광에 의해 직접 가열되기 때문에 비정질막의 상층에 간접적으로 레이저 흡수층을 형성할 필요성이 없다.
비정질막으로서는 50~200nm의 두께를 갖는 어모퍼스 실리콘막이 바람직하다. 상기 파장 영역은 어모퍼스 실리콘막에서의 흡수율이 특히 좋고, 미세 결정화를 양호하게 행할 수 있다. 어모퍼스 실리콘막의 두께는 50nm 미만이면 기판에 가열의 영향이 미치기 쉬워지고, 200nm를 초과하면 막 전체의 결정화가 충분하게 되기 어려워지므로, 상기 두께가 바람직하다.
그러나, 가시광의 어모퍼스 실리콘에 대한 흡수율은 어모퍼스 실리콘의 막 두께에 의해 변화되기 때문에, 흡수가 좋은 막 두께를 선정하는 것이 좋다.
또한, 상기 파장 영역의 연속 발진 레이저광을 비정질막에 조사할 때에 상기 레이저광의 파워 밀도는 조사면에서 55~290kW/㎠의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 파워 밀도가 낮으면 비정질막을 충분하게 가열할 수 없어 결정화가 곤란해진다. 한편, 파워 밀도가 지나치게 높으면 비정질막이 융점을 초과하는 온도까지 가열되는 등 해서 미세한 결정 입자를 얻기 어려워진다. 이 때문에, 레이저광의 파워 밀도는 상기 범위가 바람직하다.
또한, 레이저광의 조사에 있어서는 레이저광의 단축 폭을 100㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 비정질막의 일부 영역에 조사함으로써 기판에 열의 영향을 주지 않고 비정질막을 부분적으로 급속하게 가열할 수 있다. 상기 단축 폭 방향으로 레이저광을 상대적으로 이동시킴으로써 비정질막의 넓은 영역에서 결정화 처리를 행할 수 있다. 단, 단축 폭이 지나치게 크면 효율적으로 결정화하기 위해서 주사 속도를 크게 하지 않으면 안되어 장치 비용이 증대해 버린다.
상기 레이저광을 비정질막에 대하여 상대적으로 주사함으로써 상기 비정질막을 면 방향을 따라 결정화시키는 것이 가능해진다. 상기 주사는 레이저광측을 이동시켜도 좋고, 비정질막측을 이동시켜도 좋으며, 양쪽을 이동시켜도 좋다. 이 주사 속도는 50~1000mm/초로 하는 것이 바람직하다.
주사 속도가 작으면, 조사 시간이 증대하여 융점을 초과하는 온도까지 가열되어, 용융 또는 어브레이션하는 경우가 있다. 또한, 주사 속도가 크면, 조사 시간이 감소하여 고상 결정화시키는 온도까지 가열할 수 없는 경우가 있다.
<발명의 효과>
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 결정질막의 제조 방법에 의하면 기판의 상층에 있는 비정질막에 510~540nm의 가시 파장 영역의 연속 발진 레이저광을 조사하여 상기 비정질막을 융점을 초과하지 않는 온도로 가열하여 상기 비정질막을 결정화시킴으로써 기판의 전이점을 초과하지 않거나 또는 전이점을 초과했다고 해도 저온에서 처리할 수 있어 비정질막만을 레이저로 고온으로 가열시켜 결정화시킬 수 있다. 동시에, 단시간에 50nm 이하의 미세 결정을 생성할 수 있다고 하는 효과가 있다. 동시에, 겹침부도 동일한 50nm 이하의 미세 결정을 생성할 수 있다고 하는 효과가 있다(대면적의 결정화에 유효). 동시에, 조사 시간을 짧게 함으로써 기판의 변위(휨ㆍ변형ㆍ내부 응력)를 최소한으로 억제하는 효과가 있다. 동시에, 유리 기판을 다소 가열하므로 어모퍼스 실리콘막 내에 내재하는 불순물이나 표면에 부착되어 있는 오염을 제거하는 효과가 있다. 또한, 본 발명에 의하면 장치의 저비용화 및 유지 비용의 저감화가 가능해서 가동률이 높은 처리가 가능하고, 따라서 생산성을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태 및 일 실시형태의 제조 방법에 사용하는 연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치를 나타내는 종단면도이다.
도 2는 마찬가지로 실시예에 있어서의 레이저 조사 후의 박막을 나타내는 SEM 사진이다.
도 3은 마찬가지로 실시예에 있어서의 레이저 조사 후의 박막을 나타내는 SEM 사진이다.
이하에, 본 발명의 일 실시형태를 도 1에 의거하여 설명한다.
이 실시형태의 결정질막의 제조 방법에서는 플랫 패널 디스플레이의 TFT 디바이스에 사용되는 기판(6)을 대상으로 하고, 상기 기판(6) 상에는 비정질막으로서 어모퍼스 실리콘 박막(6a)이 형성되어 있는 것으로 한다. 단, 본 발명으로서는 대상이 되는 기판 및 이것에 형성된 비정질막의 종별이 이것에 한정되는 것은 아니다. 어모퍼스 실리콘 박막(6a)은 상법에 의해 기판(6)의 상층에 형성되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태의 결정질막의 제조 방법에 사용되는 연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치(10)를 나타내는 것이고, 상기 연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치(10)는 본 발명의 결정질막 제조 장치에 상당한다.
연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치(10)에서는 510~540nm 파장의 연속 발진 레이저광을 출력하는 연속 발진 고체 레이저인 가시광 CW 레이저 발진기(1)가 제진대(8)에 설치되어 있다.
가시광 CW 레이저 발진기(1)의 출력측에는 레이저광(1a)의 통과와 차단을 스위칭하는 레이저 셔터(2)가 배치되어 있고, 상기 레이저 셔터(2)의 통과처에 어테뉴에이터(감쇠기)(3)가 배치되어 있다. 또한, 어테뉴에이터(3)는 레이저광을 소정의 감쇠율로 감쇠하는 것이면 좋고, 본 발명으로서는 특정한 것에 한정되지 않는다.
어테뉴에이터(3)의 출력측에는 전반사 미러(40a, 40b, 40c)가 배치되고, 전반사 미러(40c)의 편향처에는 집광 렌즈(41a, 41b)가 배치되어 있어, 이들 전반사 미러(40a~40c), 집광 렌즈(41a, 41b)는 광학계(4)를 구성하고 있고, 상기 광학계(4)에는 그 이외에 도시하지 않은 빔 호모게나이저 등을 구비하여 레이저광(1a)을 장방형 또는 라인 빔 형상 등의 소정의 형상으로 단축 폭이 5~100㎛가 되도록 빔 정형 가능하게 되어 있다.
광학계(4)의 출사 방향으로는 기판(6)을 적재하는 기판 재치대(7)가 설치되어 있다. 기판 재치대(7)는 상기 재치대의 면 방향(XY 방향)을 따라 이동 가능하게 되어 있고, 상기 기판 재치대(7)를 상기 면 방향을 따라 고속 이동시키는 주사 장치(도시하지 않음)가 구비되어 있다.
다음에, 상기 연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치(10)를 사용한 어모퍼스 실리콘 박막의 결정화 방법에 관하여 설명한다.
우선, 기판 재치대(7) 상에 어모퍼스 실리콘 박막(6a)이 상층에 형성된 기판(6)을 적재한다. 이 실시형태에서는 상기 기판(6)은 히터 등에 의한 가열이 행하여지지 않는다.
가시광 CW 레이저 발진기(1)로부터 510~540nm 파장의 연속 발진 레이저광이 출력됨과 동시에, 레이저 셔터(2)가 열려서 레이저광(1a)의 통과가 가능해진다.
가시광 CW 레이저 발진기(1)로부터 출력된 연속 발진 레이저광(1a)은 레이저 셔터(2)를 통과한 후 어테뉴에이터(3)에 도달하고, 이것을 통과함으로써 소정의 감쇠율로 감쇠된다. 상기 감쇠율은 가공면에서 레이저광이 본 발명 규정 파워 밀도가 되도록 설정된다. 어테뉴에이터(3)는 감쇠율을 가변해서 파워 밀도를 변경 가능하게 해도 좋다. 또한, 본 발명으로서는 어테뉴에이터를 사용하지 않고, 레이저 광원에 있어서 출력 조정이 행해져서 파워 밀도를 조정하는 것이어도 좋다.
파워 밀도가 조정된 연속 발진 레이저광(1a)은 광학계(4)에 있어서 전반사 미러(40a, 40b, 40c)에 의해 반사되면서 편향되어 집광렌즈(41a, 41b)에 의해 집광된다. 이 때에는 도시하지 않은 빔 호모게나이저 등을 통과한다. 상기 광학계(4)에 있어서, 발진 레이저광(1a)은 단축 폭이 100㎛ 이하인 장방형 또는 라인 빔 형상으로 정형되고, 기판(6)을 향해서 조사면에서 55~290kW/㎠의 파워 밀도로 조사된다.
상기 기판 재치대(7)는 주사 장치에 의해 어모퍼스 실리콘 박막(6a)면을 따라 레이저광 빔의 단축 폭 방향으로 주사되고, 그 결과 상기 어모퍼스 실리콘 박막(6a)면의 넓은 영역에 상기 연속 발진 레이저광이 상대적으로 주사되면서 조사된다. 또한, 이 때에 연속 발진 레이저광의 주사 속도를 50~1000mm/초로 해서 어모퍼스 실리콘 박막(6a) 상에서 연속 발진 레이저광이 고속으로 이동하면서 조사되도록 한다.
상기 연속 발진 레이저광(1a)의 조사에 의해 기판(6) 상의 어모퍼스 실리콘 박막(6a)만이 가열되어서 단시간에 다결정화된다. 이 때에 어모퍼스 실리콘 박막(6a)의 가열 온도는 그 융점을 초과하지 않는 온도가 된다(예를 들면, 1000~1200℃ 정도). 상기 조사에 의해 얻어진 결정질 박막은 결정 입경이 50nm 이하이고, 종래의 고상 결정 성장법에서 나타난 바와 같은 돌기도 없으며, 균일하고 또한 미세한 양질의 결정성을 갖고 있다.
이 결정질 박막은 유기 EL 디스플레이에 바람직하게 사용할 수 있다. 단, 본 발명으로서는 사용 용도가 이것에 한정되는 것은 아니고, 그 이외의 액정 디스플레이나 전자 재료로서 이용하는 것이 가능하다.
또한, 상기 실시형태에서는 기판 재치대를 이동시킴으로써 펄스 레이저광을 상대적으로 주사하는 것으로 했지만, 펄스 레이저광이 유도되는 광학계를 고속으로 이동시킴으로써 펄스 레이저광을 상대적으로 주사하는 것으로 해도 좋다.
실시예 1
이어서, 본 발명의 실시예를 설명한다.
상기 실시형태의 연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치(10)를 이용하여 유리제의 기판 표면에 상법에 의해 형성된 50nm 두께의 어모퍼스 실리콘 박막에 연속 발진 레이저광을 조사하는 실험을 행했다.
상기 실험에서는 연속 발진 레이저광의 파장을 532nm의 가시광으로 해서 광학계에 의해 단면 장방형상으로 가공면에서 7㎛×2mm 또는 65㎛×2mm가 되도록 빔을 정형했다. 또한, 레이저광은 가공면에서의 파워 밀도가 표 1에 나타내는 값이 되도록 어테뉴에이터(3)에 의해 조정했다.
레이저광은 기판 재치대를 표 1에 나타내는 주사 속도(스테이지 스피드)로 이동시킴으로써 연속 발진 레이저광을 상기 어모퍼스 실리콘막에 대하여 상대적으로 주사하면서 상기 어모퍼스 실리콘막에 조사했다.
각 조건에서 레이저광이 조사된 박막(No. a~j)의 SEM 사진을 도 2, 도 3에 나타낸다.
박막 중 공시재 No. b, c, d, f, g, h, i는 결정 입경의 불균일이 적고, 면 전체에서 균질하게 다결정화되어 있으며, 또한 양질의 다결정 실리콘 박막을 얻을 수 있었다. 결정 입자는 50nm 이하로 작고 돌기도 생기지 않았다. 또한, 겹침부도 균일한 미세 결정이 생성되어 있었다. 또한, 미리 어모퍼스 실리콘이 완전하게 용해되는 조건이 되는 Secco 용액에 의한 에칭(21초간)에 있어서 변화가 없었던 점에서도 얻어진 각 실리콘막은 결정성을 갖고 있는 것을 확인할 수 있다.
한편, 공시재 No. a는 파워 밀도가 증대했기 때문에 융점을 초과하는 온도까지 가열되어 용융되었다. 시공재 No. e, j는 파워 밀도가 감소하여 조사 영역 전역에 고상 결정화가 얻어지지 않는 상황이 발생했다.
즉, 본 발명법에 의하면 결정질 실리콘막이 균일하게 얻어져서 TFT 특성의 불균일이 적은 실리콘막을 제공할 수 있는 것이 판명되었다.
Figure pct00001
이상, 본 발명에 대해서 상기 실시형태 및 실시예에 의거하여 설명을 행했지만, 본 발명은 상기 설명의 범위에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한은 당연히 적당한 변경이 가능하다.
1: 레이저 발진기 2: 레이저 셔터
3: 어테뉴에이터 4: 광학계
40a: 전반사 미러 40b: 전반사 미러
40c: 전반사 미러 41a: 집광 렌즈
41b: 집광 렌즈 6: 기판
6a: 어모퍼스 실리콘 박막 7: 기판 재치대
8: 제진대 10: 연속 발진 고체 레이저 어닐링 처리 장치

Claims (12)

  1. 기판의 상층에 있는 비정질막에 510~540nm의 가시 파장 영역의 연속 발진 레이저광을 조사하여 상기 비정질막을 융점을 초과하지 않는 온도로 가열하여 상기 비정질막을 결정화시키는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 비정질막은 50~200nm의 두께를 갖는 어모퍼스 실리콘막인 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 레이저광의 파워 밀도는 상기 비정질막 조사면에 있어서 55~290kW/㎠인 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비정질막에 조사되는 레이저광의 단축 폭은 100㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저광을 상기 비정질막에 대하여 상대적으로 주사하면서 상기 조사를 행하고, 상기 주사 속도를 50~1000mm/초로 하는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 레이저광을 광학계에서 장방형 또는 라인 빔 형상으로 빔 정형하고, 상기 기판측을 고속으로 이동시킴으로써 상기 주사를 행하는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 결정화에 의해 크기가 50nm 이하인 미세 결정을 얻는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 방법.
  8. 510~540nm의 가시 파장 영역의 연속 발진 레이저광을 출력하는 레이저 발진기, 상기 레이저 발진기로부터 출력되는 레이저광을 정형해서 비정질막에 도입하는 광학계, 상기 비정질막을 상기 비정질막의 면 방향을 따라 상기 레이저광에 대하여 상대적으로 이동시키는 주사 장치, 및 상기 레이저광이 상기 주사 장치에 의해 주사되면서 상기 비정질막에 조사될 때에 상기 비정질막이 융점을 초과하지 않는 온도로 가열되어서 결정화되도록 상기 레이저광의 파워 밀도를 조정하는 어테뉴에이터를 구비하는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 광학계는 정형 후의 상기 레이저광이 주사 방향으로 단축 폭을 갖고, 상기 단축 폭이 5~100㎛가 되도록 레이저광의 정형을 행하는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 장치.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 주사 장치는 50~1000mm/초의 속도로 상기 비정질막을 상기 레이저광에 대하여 상대적으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 장치.
  11. 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 어테뉴에이터는 상기 레이저광의 파워 밀도를 상기 비정질막으로의 조사면에 있어서 55~290kW/㎠로 조정하는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 장치.
  12. 제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저광은 상기 비정질막으로의 조사에 의해 상기 비정질막을 1000~1200℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 결정질막의 제조 장치.
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