KR20100108326A - 수술후치수 조정가능한 척추임플란트 - Google Patents

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KR20100108326A
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Abstract

본발명의 척추임플란트(40)은 제1척추부(41)에 부착된 제1척추부착구(44) , 제2척추부(42)에 부착된 제2척추부착구(46) 그리고 상기 제1 척추부착구 및 제2척추부착구의 사이에 위치한 이식후치수조정장치 로 구성되어 있으며 상기 척추임플란트가 외과수술로 환자에 이식된후에도 제1 척추부착구와 제2척추부착구사이의 상대적인 운동을 야기시킬수 있도록 한 발명이다.

Description

수술후치수 조정가능한 척추임플란트{SPINAL IMPLANT HAVING A POST-OPERATIVE ADJUSTABLE DIMENSION}
본발명은 일반적으로 척추임플란트 및 척추보철에 관한 것으로, 특히 수술후에도 치수조정이 가능한 척추임플란트에 관한 것이다.
척추탈위증, 골관절염, 척추만곡 또는 척추측만증이나 다른 퇴행성의 척추질환과 같이 척추관협착증은 등뼈 통증의 원인으로 여겨지며 이통증의 원인은 결과적으로 신경근 및/또는 척수에 스트레스를 가하는 척수또는 추간의 협착에 의해 야기되는 것으로 알려져있다.
이러한 등뼈통증의 해결하는 한가지 방법에 속하는 것으로는 척추관감압술, 통증을 유발하는 골질의 제거, 두개 혹은 그이상의 추체의 융합이 있다. 불행하게도 추체융합은 심각한 단점을 가지고 있는데 인접한 추체로 이전시키는 문제점을 야기할수있다. 비융합방법으로는 디스크대체, 역동적 척추안정화수술 그리고 척추 극돌기간격 임플란트가 있다.
높이를 조정하는 능력을 갖춘 척추임플란트는 이미 알려져 있다. 예를 들면 호크슐러외등에게 허여된 발명인 미국 특허 6045579, 6080193 그리고 6576016(각각 2000.4.4., 2000.6.27. 그리고 2003.6.10.자 등록결정됨) 은 인접추체의 척추융합을 조장하기 위해 높이를 조절할 수 있는 융합장치를 게시하고 있다. 이 장치는 디스크공간의 추간에 위치시키는 것으로 두개의 지지플레이트가 구비시켜 추체를 지지하도록 한것이다. 이 척추임플란트를 환자에게 맞도록 하기 위해 지지플레이트 사이의 수직거리를 변경하기 위해서 정렬장치를 사용한다. 일실시예에서, 이 정렬장치는 소정의 높이를가진 지주한쌍을 가지고 있는것으로 이 지주는 장치의 전방단부에서 후방단부 사이의 지지플레이트 사이에서 확장 될 수 있다. 또다른 실시예에서 이 정렬장치는 회전가능한 연결자와 지지플레이트 사이의 거리를 조절할 수 있는 캠핀을 가지고 있다. 정렬장치는 바람직하게는 전방 단부에 가장 가까운 장치의 높이가 후방 단부에 가장 가까운 높이보다 크도록 되어 있어 지지플레이트 사이의 거리를 변경할 수 있도록 개조되어 있으며 이로써 장치가 이식된후 척추의 자연스런 만곡을 유지시킬수 있도록 하였다.
그러나 이러한 종래기술에 따른 장치는 설치중 또는 설치전에 그치수를 조정할수있으나 설치를 마친 후에는 그 치수를 조정할 수 없다는 단점이 있다.
본발명은 개선된 척추임플란트(또는 보철, 이 보철이란 용어는 임플란트와 서로 바꿔가면서 사용되었음)를 제공하고자 의도한 것으로 하기에 보다 상세하게 기술한바와 같이, 수술후에도 치수를 조정가능하도록 한 척추추체 극돌기사이의 척추 임플란트를 제공하려는 것이다. 좀 더 상세하게 발명의 내용을 설명하면 다음과 같다.
본발명의 하나의 실시예에서 척추임플란트의 여러개의 치수중 적어도 하나의 치수는 원격조작 또는 임플란트 조정부위에 연결된 기계적 구조체 이를 테면 연결조직에 형성한 작은 구멍을 통해서라든가 또는 이와 유사한 수단을 통해 척추임플란트를 이식한후 그 치수를 변경할 수 있다. 일예로 조정부위(이하 치수조정메카니즘 이라고 칭함)는 작은 압력튜브로 작동되는 수압 또는 공압의 피스톤 형상의 구조체를 가질 수 있다. 다른 기계적 장치 이를테면 축,케이블 또는 다른 기계적 구조체의 것이 사용될 수 있으나 이들 나열된 명칭의 것들만으로 그범위를 한정할 수는 없을 것이다. 다른 예로 조정부위는 전기모터같은 수단에 의해 전기적으로 구동시킬 수 도 있는데 (이를 테면 전기선, 밧테리 또는 원격유도 전기에 의해서도 구동됨) 이들은 원격으로 조정될 수 있다.
보철은 두개의 추체사이의 다리를 거는 것으로 이를 테면 인접한 추체에 다리를 걸도록 구성된 것으로 인접한 두개의 추체만으로 한정할 수 없다는 것은 두말할 필요가 없을 것이다. 보철은 여러가지 부착구(말단구조체)를 포함할 수 있는데 이를 테면 극돌기, 추간, 추체 등 다양한 뼈부착지점에 부착될 수 있지만 이들 뼈부착지점으로 한정할 수없다.
그러므로 구체적 실시예로서 본발명은 첫번째 추체위치에 부착하기 위한 제1척추부착구와 두번째 추체위치에 부착하기 위하 제2척추부착구 그리고 첫번째 및 두번째 척추부착구 사이에 위치한 이식후 치수조정장치를 구비한 척추임플란트를 제공하려는 것으로 이는 상기 척추임플란트를 환자에 이식하는 수술이 끝난후에도 조정할수있도록 하기 위해 첫번째 척추부착구와 두번째 척추부착구의 상대적인 운동을 야기시킬수 있도록 한것이다.
본발명의 일실시예에 따르면 첫번째 및 두번째 척추부착구는 척추경나사(pedicle screw)를 포함하고 있다.
본발명의 실시예에 따르면 본발명의 이식후 치수조정장치는 첫번째와 두번째 추체부착구사이의 거리를 변하게 한다.
본발명의 실시예에 따르면 본발명의 치수조정장치는 제1 및 제2 추체 부착을 수직적으로 그리고 시상적으로 위치를 변화시킨다.
본발명의 실시예에 따르면 제1 및 제2 추체부착구는 기아 트레인에 의해 회전하는 나사산이 형성된 축에 장착된 제1 및 제2 지지플레이트를 포함하고 있다. 이로써 기아트레인의 회전은 제1 및 제2 지지플레이트 사이의 거리를 변화시킨다.
본발명의 실시예에 따르면 제1 및 제2 추체부착구는 서로 에 대해 비스듬하게 기울여지는 제1 지지플레이트와 제2플레이트를 구비하고 있다
본발명의 실시예에 따르면, 이식후 치수조정장치는 수압또는 공압으로 동작한다.
본발명의 실시예에 따르면 이식후 치수조정장치는 원추식으로 연결되어 스크류 메커니즘방식으로 동작토록한 힌지암을 포함하고 있다.
본발명의 실시예에 따르면, 이식후 치수조정장치는 전기적으로 동작한다.
본발명의 실시예에 따르면 이식후 치수조정장치는 내부의 임플란트된 부위를 포함한다. 내부 부위는 최소한 전기적피스톤의 하나, 전기모터, 마이크로프로세서 그리고 RF 에미터/트랜스미터, LVDT, 스트레인센서, 전기코일,밧데리 그리고 축전기중 하나이상을 포함하고 있다.
본발명의 실시예에 따르면 이식후 치수조정장치는 외부 조절부를 포함한다. 외부 조절부는 조절패널, 프로세서 RF 트랜스미터/에미터, 자기파워소스, 전기코일 및 무선 통신장비중 하나 이상을 포함하고 있다. 외부 조절부와 임플란트된 부위사이의 통신은 내부장치의 오동작을 방지하기 위해 코드 또는 패스워드에 의해 통제된다.
본발명의 실시예에 따르면 이식후 치수조정장치는 부풀릴 수 있는 것이다.
본발명은 첨부된 도면과 함께 아래 기재한 상세한 설명으로 더욱 쉽게 이해가 될 수 있을 것이다.
도1은 본발명의 실시예의 따라 구성되어 동작하는 척추임플란트의 간략도로서 이식후 치수조정장치는 두개의 인접 극돌기 사이에 위치하고 있다.
도2는 본발명의 또 다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 척추임란트의 간략도로서 이식후 치수조정장치는 척추경나사에 연결되어 치수조정메카니즘에 따라 동작하여 스크류사이의 거리를 변화시킨다.
도3은 본발명의 또 다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 척추임란트의 간략도로서 이식후 치수조정장치는 두개의 인접 추체사이에 삽입되어 있다.
도4는 본발명의 또 다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 척추임란트의 간략도로서 이식후 치수조정장치는 두개의 인접 극돌기사이의 최적의 벌림위치를 만들기위해 사용된다.
도5는 본발명의 또 다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후 치수조정장치를 포함한 척추임플란트의 간략도로서 본발명의 이식후 치수조정장치는 인접추체의 위치를 변화시킨다.
도6은 수압또는공압으로 동작하는 이식후 치수조정장치의 간략도로서 발명의 구체적실시예에 의해 동작한다.
도7은 본발명의 실시예 따라 구성되어 동작하는 기계적으로 동작하는 이식후치수조정장치의 간략도이다.
도8은 본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 전기적으로 동작하는 이식후 치수조정장치의 간략도이다.
도9는 본발명에 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 부플려지는 이식후 치수조정장치의 간략도이다.
도10은 본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후 치수조정장치로서 좌우대칭의 동일한 나사산의 상승 스크류를 사용하여 두개의 인접 극돌기사이의 최적의 벌림을 만들수 있도록 사용된 이식후 치수조정장치의 간략도이다.
도11은 본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후치수조정장치를 포함한 척추임플란트의 간략도로서 이식후치수조정장치의 두개의 좌우대칭의 오른나사 및 왼나사의 상승 스크류를 사용하여 두개의 인접 극돌기 사이의 최적의 벌림을 만들수있다.
도12는 본발명의 또 다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후치수조정장치를 포함한 척추임플란트의 간략도로서 다수의 동축상승스크류를 사용하여 두개의 인접 극돌기 사이의 최적의 벌림을 만드는데 사용된다.
도13은 본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후치수조정장치를 포함한 척추임플란트의 간략도로서 전기모터와 기어트레인을 구비한 좌우대칭의 동일나사산을 가진 두개의 상승스크류를 사용하여 두개의 인접 극돌기 사이의 최적의 벌림을 만드는 데 사용된다.
도14는 본발명의 다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후 치수조정장치를 포함한 척추임플란트의 간략도이다.
제1도에서는 본발명의 실시예에 따라 동작하도록 형성한 척추임플란트(10)를 나타내었다.
척추임플란트(10)은 요추(이 실시예에서 척추임플란트(10) 극돌기 사이에 위치한 장치이다)의 두개의 인접한 극돌기사이에 임플란트되어 있다. 척추임플란트(10)은 제1 상부지지단부플레이트(척추부착구)(14) 와 제2하단지지단부플레이트(척추부착구)(16) 사이에 있는 이식후 치수조정장치(12)를 포함하고 있다. 이식후 치수조정장치(12)는 (도면에서 수직에서 약간 기울어진) 직선동작, 예들들어 원격으로 조정되는 미뉴어쳐 직선 액튜에이터에 의한 수직운동을 위해 마련된 지점을 포함하고 있다. 일반적으로 이식후 치수조정장치는 제6도에서 제9도를 참조하여 후술된 실시예의 어느 하나 형태의 구조를 띄고 있다.
본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 척추임플란트(20)을 나타내는 도2를 참고한다. 척추임플란트(20)은 이식후 치수조정장치(22)를 포함하고 있으며 척추경나사(24)(척추부착구(24))에 연결되어 있다. 치수조정장치(22)의 동작은 스크류(24)사이의 거리를 변화시킨다. 여기에서 이식후 치수조정장치(22)는 직선동작, 예를들어 원격으로 작동되는 미니어쳐 수직 액튜에이터에 의한 직선동작을 위해 마련된 지점을 포함한다. 일반적으로 수술후 치수조정장치(22)는 6도와 9도를 참조하여 후술된 실시예중 하나에 따라 형성될 수 있다.
본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후 치수조정장치(32)를 포함한 척추임플란트(30)로서 두개의 인접 추체(예를들면 L4와 L5)사이에 위치하고 있는 수술후 치수조정장치(32)를 포함하는 척추임플란트(30)을 나타내는 제3도를 참고한다. 척추임플란트(30)은 상부추체에 연결되어 이를 지지하는 제1지지플레이트(34)와 하부추체에 연결되어 이를 지지하는 제2지지플레이트를 포함하고 있다. 치수조정장치(32)는 제1 그리고 제2지지플레이트 하부사이인 척추부착구 (34)와 (36)사이에 위치하고 있다 . 치수조정장치(32)의 실행은 제1지지플레이트 (34)와 제2지지플레이트(36) 사이의 거리를 변화시킨다. 그리고 수직적으로 그리고 시상적으로 있는 두개의 추체 사이의 위치를 변화시킨다. 이식후 치수조정장치는 제5도를 참조하여 후술된 실시예에 따라 형성할 수 있다..
본발명에 따른 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후 치수조정장치를 포함한 척추임플란트(40)를 나타내고 있는 제4도를 참조한다. 임플란트 (40)은 두개의 인접 극돌기 사이의 최적의 벌림을 형성하기 위해 사용될 수 있는데 이를 테면 극돌기 (41) 와 내부 극돌기(43) 사이의 벌림을 위해 사용될 수 있다.
척추임플란트(40)은 상부 극돌기(41)와 내부극돌기(43)을 각각 지지하는 제 1 지지플레이트(척추부착구)(44)와 제2지지플레이트(척추부착구)(46)를 포함하고 있다. 제1지지플레이트(44)와 제2지지플레이트(46)는 각각 나사산이 형성된 축 45L 과 45R 그리고 47L과 47R 을 수납하기 위해 나사산의 구멍을 가지도록 탭처리되어 있다. 나사산이 형성된 축 45L 과 47L 은 왼쪽 나사산을 가지고 있는 반면에 나사산이 형성된 축 45R 과 47R 은 오른쪽 나사산을 가지고 있다.
기어풀리 (48A 및 48B) 는 나사산이 형성된 축 45L 과 45R 47L 그리고 47R 에 연결되어 있으며 웜기어(49)에 의해 구동된다. 웜기어(49)의 회전은 제1지지플레이트(44) 및 제2지지플레이트(46)와 지지된 극돌기들의 거리를 변화시킨다.
본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식수술후 치수조정장치(52)를 포함하는 척추임플란트(50)을 포함하는 제5도를 참고한다.
척추임플란트(50)은 인접 추체(51)과 (53) 사이의 위치를 변화시킨다. 척추임플란트(50)은 나사산이 형성된 스크류(55)가 나사산 형태로 수납되는 나사산이 형성된 슬롯을 가지는 제1 상단 지지플레이트(54)를 포함하고 있다. 척추임플란트(50)는 전기모터(또는 구동자)(57)이 장착되는 홈을 구비하고 있는 제2하단지지플레이트(56)을 포함하고 있다. 전기모터(57)(보통의 경우 원격으로 제어되는)는 스크류(55)를 회전시키는데 이는 제2지지플레이트 (56)과 관련하여 상대적으로 제1지지플레이트(54)의 미끄러짐을 야기시킨다. 제1지지플레이트(54)와 제2지지플레이트(56) 사이의 경사진결합은 두개의 추체 사이의 인접위치의 변화 즉 수직적 그리고 시상적으로의 위치 변화를 야기시킨다.
본발명의 또다른 실시예에 따라 구성되어 동작하는 수압 또는 공압으로 동작하는 이식수술후 치수조정장치(60)를 나타내고 있는 제6도를 참고한다. 치수조정장치(60)은 두개의 단부플레이트(척추부착구)(61)과 (62)를 포함하고 있는데, 이 두개의 요소는 피스톤에 연결되어 있다. 피스톤(63)은 유체로 동작하는데 (즉, 수압또는 공압), 이를 테면 압축된 유체(물) 또는 가스(공기)에 의에 동작한다. 압축된 유체는 유체주입구(65)에 연결된 튜브(64)에 의해 피스톤으로 유입된다.
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 기계적으로 동작하는 이식수술후 치수조정장치(70)을 나타내는 제7도를 참고한다. 치수조정장치(70)은 힌지암(72)를 포함하고 있는데 이는 턴핸들(76)에 의해 동작하는 암/수스크류메카니즘(74)에 연결되어 이에 의해 움직이도록 하였다..
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 전기적으로 동작하는 이식후 치수조정장치(80)을 나타내고 있는 제8도를 참고한다. 변수조절장치(80)은 유도코일(86)에 의해 외부에서 구동될 수 있는 전기 액튜에이터 또는 솔레노이드와 같은 전기피스톤(84)에 연결되어 이에 의해 동작하도록 한 힌지암(82)를 구비하고 있다.
전기적으로 동작하는 이식후 치수조정장치(80)은 내부 임플란트부 및/또는 외부 조절부를 가질 수 있다. 내부임플란트부는 전기피스톤(84) 전기모터, 마이크로프로세서, RF 에미터/트랜스미터, LVDT(직선 치수 변환기), 스트레인센서, 외부코일으로부터 모터로 에너지를 전달하기 위한 전기 코일, 밧데리, 에너지를 축척하기 위한 축전기 또는 이들의 조합을 포함하고 있지만 본발명은 이에 한정되지는 않는다.
외부조절부는 조절패널,프로세서,RF 트랜스미터/에미터, 자기 파워소스, 에너지를 내부 유닛으로 옮기기 위한 전기 코일 또는 이들의 조합을 포함하고 있지만 본발명은 이에 한정되지 않는다. 또한 외부조절부는 의사들로하여금 원격조절이 가능하도록 하는 무선통신장비를 구비하고 있다. 코드나 패스워드는 오동작을 방지하기 위해 조절시스템에 통합될 수 있다.
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식수술후 치수조정장치(90)을 나타내고 있는 제9도를 참고한다 치수조정장치(90)은 작은 튜브(94)를 통해 부풀려질 수 있는 베게 또는 쿠션(92)를 포함하고 있다.
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 두개의 인접 극돌기사이에 위치할 수 있는 이식수술후 치수조정장치(90)을 나타내고 있는 제10도를 참고한다. 치수조정장치(90)은 제1지지요소(95)와 제2지지요소(96)을 포함하고 있다. 두개의 좌우대칭형으로 동일한 나사산이 형성된(동일한 회전방향) 스크류(97) 및 (98) 는 지지요소(95) 및 (97) 사이의 거리를 조절하는데 사용한다.
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 두개의 인접 극돌기 사이에 위치할 수 있는 이식후 치수조정장치(90)을 나타내고 있는 제11도를 참고한다. 이 치수조정장치는 제1 지지요소(99) 및 제2지지요소(100)을 포함하고 있다. 두개의 좌우대칭형의 서로 다른 나사산이 형성된 (예를들면 오른 및 왼쪽으로 나사산이 형성된) 스크류(101) 및 (102)는 지지요소(99)와 지지요소(100) 사이의 서리를 조절하는데 사용된다. 스크류는 웜기어(103)에 의해 구동된다. 이 서로 다른 나사산은 주어진 장소에서 상기메카니즘은 더욱 더 잘 꼬이기 위해 사용될 수 있다.
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 두개의 인점 극돌기 사이에 위치할 수 있는 이식수술후 치수조정장치(90)을 나타내고 있는 제12도를 참고한다. 치수조정장치(90)은 제1지지요소(104) 와 제2지지요소(105)를 포함하고 있다. 두개의 동심축의 스크류(106)는 지지요소(104) 및 (105) 사이의 거리를 조절하는 데 사용된다. 여러 개의 동심축스크류를 사용하여 메커니즘은 단일 중심 스크류를 가질때 보다도 더 큰 거리로 회전할 수 있다.
본발명의 실시예에 따라 구성되어 동작하는 두개의 인접 극돌기 사이에 위치할 수 있는 이식후 치수조정장치(90)을 나타내고 있는 제13도를 참고한다. 이 치수조정장치(90)은 제1지지요소(107)와 제2지지요소(108)를 구비하고 잇다. 두개의 좌우대칭의 동일하게 나사산이 형성된 스크류(110)은 지지요소(107) 및 (108) 사이의 거리를 조절하는 데 사용된다. 상승 스크류는 전기모터(109)에 의해 동작하는 기어 트레인(111)에 의해 구동된다.
그러므로 제10도에서부터 제13도에 나타낸 실시예에 따라 척추임플란트는 두개의 인접극돌기 사이에 위치하여 전방 극돌기가 임플란트의 제1요소에 의해 지지되고 상부극돌기가 임플란트의 두번째 요소에 의해 지지된다. 두개의 지지요소는 일반적인 수평면을 따라 서로 분리되어 있다. 그리고 기계적 또는 전기기계적 메커니즘을 통해 두개의 지지요소 사이의 거리를 조절할 수 있도록 하였다.
본발명의 또 다른 실시예 중 다른 대안은 제13도에 나타나 있다. 척추임플란트는 프로세서(120)과 센서(122)를 구비하고 있다. 여기서 상기 센서(122)는 제1 및 제2 척추부착구에 가해지는 부하의 함수, 또는 제1 척추부착구와 제2 척추부착구 사이의 거리의 함수로서 이식후치수조정장치를 조절한다. 이식수술후 치수조정장치는 임의의 목적하는 부하 또는 이동 한계 구간에 대해 임의의 시간 간격으로 작동하도록 프로그램될 수 있다. 전력을 보존하기 위해 이식후치수조정장치는 잠자는 모드에 동작하도록 회로(124)를 구비할 수 있다. 이식후치수조정장치는 원격에너지 전달방식으로 충전할 수 있는 재충전밧데리(126)에 의해서도 구동될 수도 있다.
본발명은 반복된 외과수술 또는 척추융합의 필요없는 계속된 교정을 비롯한척추측만교정에도 사용될 수 있다.
예를들면 본발명의 또다른 구체 적실시예에 따라 구성되어 동작하는 이식후치수조정장치를 보여주고 있는 제14도를 참고한다.
이 장치는 하우징(211)의 일부로서, 또는 하우징(211)에 견고하게 부착되어 있는 부분으로서 커브질 수 있는 뼈스크류(210)를 포함하고 있다. 케이블(218)은 롤러(216)위에 장착되어 있다. 롤러(216)는 스크류(215)와 맞물리는 기어(214)를 회전시킴으로서 직선으로 움직일 수 있는 스크류(215)에 연결되어 있다. 전기모터(212)는 기어트레인(213)을 구동시켜서 기어(214)의 회전을 통제하고 그렇게 하여 스크류(215)의 직선동작 및 케이블(219)을 제어한다.
이 디자인은 이식후에 임의의 목적하는 시간에 각각 다른 방향으로 전기 모터 (212)를 구동시키는 방법으로 케이블(218)을 당기거나 또는 풀리도록 해준다.
제14도의 장치는 척추의 추궁에 삽입될 수도 있고 또 대안적으로 척추의 측면부위에 삽입될 수도 있다. 임플란트의 측면에서 돌출된 케이블 또는 와이어 (218)는 다양한 여러가지 방법을 통해서 인접한 임플란트 또는 다른 척추에 삽입된 또 다른 고정장치에 연결될 수 있다. 케이블 또는 와이어(218)가 상기 메커니즘에 의해 당겨지면 두개의 척추는 서로에 대해 힘을 가하게 될 것이다.
본발명은 위에 특히 상술하고 도시된 부분만으로 한정되지 않는다는 것을 동업계에 종사하는 기술자라면 충분히 알수 있을 것이다. 나아가 본발명의 범위는 종래기술에 있지 아니하나 동업계에 종사하는 자로서 위 기술을 읽고 쉽게 생각할수 있는 변형의 경우는 물론이려니와 본발명의 일부분을 조합한 기술내용 역시도 그 범위에 속하고 있음을 자명한 사실이라 할 것이다.

Claims (24)

  1. 제1척추부에 부착하는 제1척추부착구와 제2척추부에 부착하는 제2척추부착구 및 상기 제1척추부착구와 제2척추부착구 사이에 위치한 이식후 치수조정장치로 구성된 것으로 상기 척추임플란트를 환자에게 시술후에 상기 제1척추부착구 및 제2척추부착구사이에 상대적인 운동을 야기하도록 한것을 특징으로 하는 수술후 치수조정가능한 척추임플란트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1척추부착구와 제1척추부착구는 척추경나사로 이루어진 척추임플란트.
  3. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 제1척추부착구와 제2척추부착구사이의 거리를 변화시키는 척추임플란트.
  4. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 상기 제1 및 제2척추부착구의 위치를 수직적으로 그리고 시상평면으로 변화시키는 척추임플란트.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1척추부착구와 제2척추부착구는 기어트레인에 의해 회전되는 나사산이 형성된 축에 장착된 제1지지플레이트와 제2플레이트로 구성된 것으로 기어트레인의 회전이 상기 제1지지플레이트와 제2지지플레이트 사이의 거리를 변화시키도록 한 척추임플란트.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1척추부착구와 제1척추부착구가 서로 접근하도록한 제1지지플레이트와 제2플레이트로 구성되어 있는 척추임플란트.
  7. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 수압으로 작동하는 척추임플란트.
  8. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 공압으로 작동하는 척추임플란트.
  9. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 축중심식으로 연결되어 있어 스크류메카니즘으로 동작하는 힌지를 구성요소로 한 척추임플란트.
  10. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 전기적으로 동작하는 척추임플란트.
  11. 제10항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 내부 임플란트된 부위를 구성요소로한 척추임플란트.
  12. 제11항에 있어서 상기 이식후 치수조정장치는 전기피스톤,전기모터, 마이크로프로세서, RF에미터/트랜스미터, LVDT,스트레인센서, 전기코일,밧데리 와 축전기중 하나 이상으로 구성된 척추임플란트.
  13. 제10항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 외부조절부를 구성요소로 한 척추임플란트.
  14. 제13항에 있어서, 상기 외부조절부는 조절패드,프로세서,RF 트랜스미터/에미터, 자기 파워소스, 전기코일 및 무선통신장치중의 하나 이상으로 구성된 척추임플란트.
  15. 제13항에 있어서, 상기 외부조절부는 코드와 패스워드로 동작하는 척추임플란트.
  16. 제10항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 부풀려지는 척추임플란트
  17. 제1항에 있어서, 상기 제1척추부착구와 제2척추부착구는 스크류메커니즘에 의해 서로에 대해 상대적으로 이동하도록 한 척추임플란트.
  18. 제17항에 있어서, 상기 스크류메카니즘은 2개이상의 동일하게 나사산이 형성된 스크류로 구성된 척추임플란트.
  19. 제17항에 있어서, 상기 스크류메카니즘은 두개이상의 서로 다르게 나사산이 형성된 스크류로 구성된 척추임플란트.
  20. 제17항에 있어서, 상기 스크류메카니즘은 다수의 동심축 스크류로 구성된 척추임플란트.
  21. 제1항에 있어서, 상기 제1척추부착구 및 상기 제2척추부착구 상에 가해지는
    부하량의 함수로서, 또는 상기 제1척추부착구와 상기 제2척추부착구 사이의 거리의 함수로서 상기 이식후 치수조정장치를 조절하는 프로세서와 센서로 구성된 척추임플란드.
  22. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 어떤 임의의 목적하는 부하량 및 이동한계구간에 대해 임의의 목적하는 시간 간격에 따라 동작하도록 프로그램된 척추임플란트.
  23. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 잠자는 모드에 동작하도록 한 전기회로망으로 구성된 척추임플란트.
  24. 제1항에 있어서, 상기 이식후 치수조정장치는 원격에너지전달장치를 사용해서 축전가능한 재사용밧데리에 의해 구동되는 척추임플란트.



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