KR20100103884A

KR20100103884A - 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템 및 처리 방법

Info

Publication number: KR20100103884A
Application number: KR1020107019004A
Authority: KR
Inventors: 랄프 얀코프스키
Original assignee: 폭스바겐 악티엔 게젤샤프트
Priority date: 2008-01-29
Filing date: 2009-01-14
Publication date: 2010-09-28
Also published as: KR101456739B1; EP2238058B1; MX2010007691A; RU2489338C2; CN101932518A; US8469042B2; RU2010136279A; EP2238058A1; ZA201005567B; BRPI0906621B1; BRPI0906621A2; US20110011336A1; WO2009095152A1; CN101932518B; DE102008006466A1; ATE526262T1

Abstract

본 발명은 적어도 하나의 처리 대상 물품이 각각 부착될 수 있는 다수의 운반 장치들(2), 운반 장치들(2)을 처리 시스템(1)을 통해 이송할 수 있는 이송 장치, 처리 시스템(1)의 제1 이송 평면(100)에 배치되고, 그 위에 물품들이 배치된 운반 장치들(2)이 도입될 수 있는 적어도 하나의 처리 욕(3), 및 물품의 표면 처리 후에 운반 장치들(2)을 세척하는데 적합하게 세팅된 적어도 하나의 세척 장치를 포함하는 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템(1)에 관한 것으로, 적어도 하나의 세척 장치는 제1 이송 평면(100)에 대해 수직 방향으로 떨어져 있는 처리 시스템(1)의 제2 이송 평면(101)에 배치된다.

Description

물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템{TREATMENT SYSTEM FOR THE SURFACE TREATMENT OF ITEMS, PARTICULARLY VEHICLE BODIES}

본 발명은 적어도 하나의 처리 대상 물품이 각각 분리 가능하게 부착될 수 있는 다수의 운반 장치들, 운반 장치들을 처리 시스템을 통해 이송할 수 있는 이송 장치, 처리 시스템의 제1 이송 평면에 배치되고, 그 위에 물품들이 배치된 운반 장치들이 도입될 수 있는 적어도 하나의 처리 욕(treatment bath), 및 물품들의 표면 처리 후에 운반 장치들을 세척하는데 적합하게 세팅된 적어도 하나의 세척 장치를 포함하는, 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템에 관한 것이다.

물품의 표면을 예컨대 래커로 도장한다든지 또는 다른 방식으로 처리할 수 있는, 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템들이 이미 선행 기술로부터 여러 실시 형태들로 공지되어 있다.

예컨대, DE 196 41 048 A1은 이송 방향으로 연이어 배치된 다수의 처리 욕들을 구비하고, 운반 장치들 상에 분리 가능하게 배치된 처리 대상 물품들(예컨대 차체들)이 그 처리 욕들 내로 도입될 수 있는, 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템을 개시하고 있다. 그러한 처리 시스템에서, 처리 대상 물품들은 처리 욕의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 회전 침지(rotational dipping) 방법으로 각각의 처리 욕 중에 담가지고, 처리 욕의 끝 부분에서 다시 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 처리 욕으로부터 이송된다. 그와 관련하여, 운반 장치들(센터 피벗 플레이트; center pivot plate)이 자신의 축을 중심으로 한 회전 이동을 가능하게 한다. 물품들의 표면 처리 후에는, 운반 장치들을 상대적으로 복잡한 공정으로 수동 세척하여야 한다.

물품들의 표면 처리 후의 운반 장치들의 세척을 자동화함으로써 그러한 세척을 단순화하기 위한 방안들이 이미 선행 기술로부터 공지되어 있다. 서두에 언급된 타입의 처리 시스템은 미국 특허 공보 US 5,110,440으로부터 공지되어 있다. 차체를 음극 침지 도장 처리할 수 있는 그러한 처리 시스템에서는, 아직 도장되지 않은 차체가 운반 장치(센터 피벗 플레이트) 상에 올려 놓일 수 있는 로딩 스테이션이 마련된다. 운반 장치는 이송 장치에 의해 다수의 공정 구역들을 갖는 침지 도장 라인을 따라 이동하면서 소위 회전 침지 방법(Rodip-방법)으로 도장된다. 본 처리 시스템은 도장된 차체들이 건조되는 건조 스테이션을 구비하는데, 차체들은 건조되고 난 후에 침지 도장 라인과 평행하게 배치된 후속 처리 스테이션들로 넘겨진다. 건조 스테이션의 하류에는 2개의 또 다른 공정 스테이션들이 위치하는데, 그 공정 스테이션들에서는 먼저 언로딩된 운반 장치가 회전 침지 공정을 통해 세척 욕 중에서 세척되고, 이어서 그 하류에 위치한 헹굼 욕 중에서 헹궈진다. 그와 같이 침지 도장 공정의 종료 후에 세척된 운반 장치들은 침지 도장 라인의 위에 연장되어 있는 복귀 라인으로 다시 로딩 스테이션까지로 이송되고, 로딩 스테이션에서는 도장되지 않은 차체가 다시 운반 장치들에 로딩될 수 있다. 전술된 간행물로부터 공지된 방안은 비교적 많은 공간을 필요로 한다는 단점이 있다.

여기에서 본 발명이 출발하게 된 것이다.

본 발명의 과제는 선행 기술로부터 공지된 방안들보다 더 콤팩트하게 구성되고, 운반 장치들의 효과적인 세척을 가능하게 하는, 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 서두에 언급된 타입의 처리 시스템을 제공하는 것이다.

그러한 과제는 청구항 1의 특징들을 갖는, 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 서두에 언급된 타입의 처리 시스템에 의해 해결된다. 종속 청구항들은 본 발명의 바람직한 부가의 구성들에 관한 것이다.

청구항 1에 따르면, 물품, 특히 차체를 처리하기 위한 본 발명에 따른 처리 시스템은 적어도 하나의 세척 장치가 제1 이송 평면에 대해 수직 방향으로 떨어져 있는 제2 이송 평면에 배치되는 것을 그 특징으로 한다. 그러한 조치를 통해, 세척 장치가 처리 시스템의 제2 이송 평면에, 그에 따라 복귀 라인에 상대적으로 절감된 공간으로 배치될 수 있게 된다. 그럼으로써, 바람직하게도 전체의 처리 시스템을 선행 기술, 특히 미국 특허 공보 US 5,110,440으로부터 공지된 방안보다 매우 더 콤팩트하게 구성하는 것이 가능하게 된다. 본 발명에서 제안되는 방안의 또 다른 장점은 물품의 표면 처리가 운반 장치의 세척 공정과는 다른 처리 시스템 이송 평면에서 수행된다는데 있다.

매우 바람직한 실시 형태에서는, 제2 이송 평면이 제1 이송 평면의 아래에 배치된다. 즉, 환언하면, 본 실시 형태에서는 물품들의 표면이 처리 욕 중에서 처리되는 제1 이송 평면이 빈 운반 장치들의 세척이 이뤄지는 제2 이송 평면의 위에 배치된다. 대안적인 실시 형태에서는, 제1 이송 평면이 제1 이송 평면의 위에 배치되도록 조치할 수도 있다. 즉, 본 실시 형태에서는 물품들이 처리되는 제1 이송 평면이 빈 운반 장치들의 세척이 이뤄지는 제2 이송 평면의 아래에 배치된다.

바람직한 실시 형태에서는, 운반 장치가 도입될 수 있는 적어도 하나의 세척 욕을 세척 장치가 포함하도록 조치한다. 빈 운반 장치들은 처리 욕들 중에서 운반 장치들에 달라붙은 공정 액체의 잔재들을 운반 장치로부터 제거하기 위해 적어도 하나의 세척 욕 내로 순차적으로 도입될 수 있다. 그를 위해, 운반 장치들은 미리 설정된 또는 미리 설정될 수 있는 일정 체류 시간 동안 세척 욕 중에 체류할 수 있다. 처리 시스템이 복귀 라인에 이송 방향으로 연이어 배치된 다수의 세척 욕들을 구비하도록 조치할 수도 있다. 세척 장치의 세척 작용을 더욱 개선하기 위해, 매우 바람직한 실시 형태에서는 세척 장치가 적어도 하나의 헹굼 장치를 포함하고, 그 헹굼 장치 내에서 헹굼 유체가 운반 장치들에 추진될 수 있도록 조치한다. 헹굼 장치는 이송 방향으로 적어도 하나의 세척 욕의 하류에 배치되는 것이 바람직하다. 바람직한 실시 형태에서는, 예컨대 헹굼 장치가 운반 장치들을 분사와 헹굼이 조합된 공정으로 씻어낼 수 있는 분사 헹굼 탱크를 포함하도록 조치할 수 있다.

매우 바람직한 실시 형태에서는, 그 위에 물품들이 배치된 운반 장치들이 각각의 처리 욕의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 처리 욕 중에 담가지고, 처리 욕의 끝 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 다시 각각의 처리 욕으로부터 이송될 수 있도록 운반 장치들과 이송 장치가 구성되는 조치를 취한다. 그러한 회전 침지 방법에 의해, 각각의 공정 단계에서 물품들의 효과적인 표면 처리가 달성될 수 있다. 운반 장치들은 그 자신의 축을 중심으로 한 회전을 가능하게 하는 센터 피벗 플레이트로서 구성되는 것이 바람직하다.

매우 바람직한 실시 형태에서는, 적어도 하나의 세척 욕의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 세척 욕 중에 담가지고, 세척 욕의 끝 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 다시 세척 욕으로부터 이송될 수 있도록 운반 장치들과 이송 장치가 구성되는 조치를 취한다. 그러한 회전 침지 방법에 의해, 운반 장치들의 효과적인 세척이 달성될 수 있다. 운반 장치들은 특히 전향 롤러들로서 형성될 수 있는 전향 수단에 의해 제1 이송 평면으로부터 제2 이송 평면으로 그 이송 이동을 전향한 직후에 세척 욕 중에 담가질 수 있고, 그런 연후에 세척 욕 중에서 세척 유체가 운반 장치들에 추진될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.

또 다른 바람직한 실시 형태에서는, 운반 장치들이 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 헹굼 장치로 이송되도록 운반 장치들과 이송 장치가 구성되는 것이 가능하다.

본 발명은 종래보다 더욱 콤팩트하게 구성되고, 운반 장치들의 효과적인 세척을 가능하게 하는, 물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템을 제공한다. 구체적으로, 적어도 하나의 세척 장치가 제1 이송 평면에 대해 수직 방향으로 떨어져 있는 제2 이송 평면에 배치되도록 함으로써, 세척 장치가 처리 시스템의 제2 이송 평면에, 그에 따라 복귀 라인에 상대적으로 절감된 공간으로 배치될 수 있게 된다. 그럼으로써, 전체의 처리 시스템을 종래보다 매우 더 콤팩트하게 구성할 수 있고, 물품의 표면 처리를 운반 장치의 세척 공정과는 다른 처리 시스템 이송 평면에서 수행하게 된다는 또 다른 장점이 제공된다.

본 발명의 또 다른 특징들 및 장점들은 첨부 도면의 참조 하에 이뤄지는 이후의 바람직한 실시예들의 설명에 의거하여 명백해질 것이다.
단일의 첨부 도면인 도 1은 물품, 특히 차체를 처리하기 위한 처리 시스템(1)의 일부를 측면도로 나타낸 도면이다.

처리 시스템(1)은 2개의 이송 평면들(100, 101)을 규정하는 지지 구조물(10)을 구비한다. 제1 이송 평면(100)과 제2 이송 평면(101)은 대략 서로 평행으로 연장되는데, 제2 이송 평면(101)이 제1 이송 평면(100)의 아래에서 연장되고, 그에 따라 제1 이송 평면(100)에 대해 수직 방향으로 떨어져 배치된다. 제1 이송 평면(100)에는, 도 1에 화살표로 지시된 이송 방향으로 연이어 배치된 다수의 처리 욕들(3)이 마련된다. 특히 차체들일 수 있는 물품들의 표면이 그 내부에서 처리될 수 있는 처리 욕들(3)은 공정 액체로 각각 채워진다. 물품들을 처리하기 위한 그러한 처리 시스템(1)은 여기에 도시된 실시예에서는 물품들을 음극 침지 도장하는데 적합하다. 음극 침지 도장 방법은 도장하려는 물품들을 처리 욕(3) 중에서 또는 다수의 처리 욕들(3) 중에서(여기에 도시된 실시예에서와 같이) 코팅하는 전기 화학적 방법이다. 음극 침지 도장 방법은 선행 기술로부터 이미 충분히 공지된 것이기 때문에, 여기서 그러한 처리 방법의 상세를 더 자세히 설명하지는 않기로 한다.

처리 시스템(1)은 그 처리 시스템(1)에서 처리하려는 적어도 하나의 물품, 특히 차체가 그 위에 분리 가능하게 배치될 수 있는 다수의 운반 장치들(2)을 포함한다. 그를 위해, 처리 시스템(1)은 물품들이 해당 운반 장치(2) 상에 로딩될 수 있는 여기에 명시적으로 도시되지는 않은 로딩 스테이션을 제1 이송 평면(100)의 시작 부분에 구비하는 것이 바람직하다. 운반 장치들(2)은 운반 장치들(2)과 연동하는 이송 장치(도면 부호를 갖고 있지 않음)에 의해 처리 시스템(1)의 이송 방향으로 제1 이송 평면(100)과 제2 이송 평면(101)을 따라 연속 순환 공정으로 이송된다.

그와 관련하여, 운반 장치들(2)과 이송 장치는 제1 이송 평면(100)에서 그 위에 물품들이 배치된 운반 장치들(2)이 각각의 처리 욕(3)의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 회전 침지 방법으로 처리 욕(3) 중에 담가질 수 있고, 처리 욕(3)의 끝 부분에서 새로이 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 각각의 처리 욕으로부터 이송될 수 있도록 구성된다. 그러한 회전 침지 방법은 물품들의 표면이 매우 꼼꼼하고도 효과적으로 도장되거나 처리되는 것을 가능하게 한다. 운반 장치들(2)은 그 자신의 축을 중심으로 한 회전을 가능하게 하는 센터 피벗 플레이트로서 구성되는 것이 바람직하다.

처리 시스템(1)은 물품들과 각각의 운반 장치(2)의 분리 가능한 결합을 바람직하게는 자동으로 해제할 수 있는 해제 장치(4)를 제1 이송 평면의 끝 부분에 구비한다. 표면 처리(도장) 후의 물품들을 각각의 운반 장치(2)로부터 꺼내어 처리 시스템(1)으로부터 반출할 수 있는 방출 장치(5)가 해제 장치(4)에 연이어진다. 이어서, 도장된 물품들은 예컨대 그 물품들이 건조될 수 있는 여기에 명시적으로 도시되지는 않은 건조 스테이션에 공급될 수 있다. 또한, 물품들의 표면이 후처리될 수 있는 또 다른 후속 처리 스테이션들이 마련될 수도 있다.

물품들의 표면 처리 후에 빈 운반 장치들(2)을 세척함으로써 처리 욕들(3) 중에서의 처리 동안 인가된 공정 액체의 잔재를 운반 장치들(2)로부터 제거할 수 있도록 하기 위해, 운반 장치들(2)은 제1 전향 수단(6) 및 제2 전향 수단(7)을 통해 제1 이송 평면(100)의 아래에 연장된 제2 이송 평면(101)으로 전향되고, 거기에서 세척 장치에 공급된다. 양 전향 수단들(6, 7)은 본 실시예에서는 전향 롤러로서 구성된다.

세척 장치는 본 실시예에서는 제2 이송 평면(101)의 시작 부분에 배치되고 세척 유체로 채워진 세척 욕(8) 및 이송 방향으로 세척 욕(8)의 하류에 배치된 헹굼 장치(9)를 포함한다. 단일의 세척 욕(8)과 단일의 헹굼 장치(9) 대신에, 제2 이송 평면에 연이어 배치된 다수의 세척 욕들(8) 및/또는 헹굼 장치들(9)이 마련될 수도 있다.

운반 장치들(2)은 본 실시예에서는 전향 수단들(6, 7)에 의한 전향 후에 바로 세척 욕(8)의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 세척 욕(8) 중에 담가지고, 세척 욕(8)의 끝 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 다시 세척 욕(8)으로부터 이송된다. 즉, 환언하면, 운반 장치들(2)은 전향 후에 바로 세척 욕(8) 중에 담가져서 그 속에서 세척 유체에 의해 세척되게 된다.

미리 설정된 또는 미리 설정될 수 있는 일정 체류 시간 동안 세척 욕(8) 중에 체류한 후에(예컨대 약 60초), 운반 장치들(2)은 조합된 병진 이동과 회전 이동에 의해 세척 욕(8) 밖으로 이동하고, 이어서 그들이 헹굼 유체에 의해 헹궈지는 헹굼 장치(9)에 공급된다. 헹굼 장치(9)는 본 실시예에서는 운반 장치들(2)이 분사 방식으로 헹궈지는 분사 헹굼 탱크를 포함한다. 또다시 운반 장치들(2)이 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 헹굼 장치(9)로 이송되는 것을 알 수 있을 것이다. 헹굼 장치(9)에서의 헹굼 공정 후에, 운반 장치들(2)은 제2 이송 평면(101)에서 순전히 병진 이동으로 계속해서 이송 방향으로 더 이동하고, 전향 롤러로서 구성될 수도 있는 역시 여기에 명시적으로 도시되지는 않은 전향 수단에 의해 다시 처리 시스템(1)의 제2 이송 평면(101)으로부터 제1 이송 평면(100)으로 이동한다. 그런 연후에, 제1 이송 평면(100)의 시작 부분에 있는 로딩 스테이션에서, 처리하려는 물품들이 빈 운반 장치들(2) 상에 새로이 올려 놓일 수 있고, 처리 시스템(1)의 처리 욕(3)에서 전술된 바와 같이 처리될 수 있다.

1: 처리 시스템 2: 운반 장치 3: 처리 욕
4: 해제 장치 5: 방출 장치 6: 제1 전향 장치
7: 제2 전향 장치 8: 세척 욕 9: 헹굼 장치
10: 지지 구조물 100: 제1 이송 평면 101: 제2 이송 평면

Claims

물품, 특히 차체를 표면 처리하기 위한 처리 시스템(1)으로서,
적어도 하나의 처리 대상 물품이 각각 부착될 수 있는 다수의 운반 장치들(2),
운반 장치들(2)을 처리 시스템(1)을 통해 이송할 수 있는 이송 장치,
처리 시스템(1)의 제1 이송 평면(100)에 배치되고, 그 위에 물품들이 배치된 운반 장치들(2)이 도입될 수 있는 적어도 하나의 처리 욕(3), 및
물품의 표면 처리 후에 운반 장치들(2)을 세척하는데 적합하게 세팅된 적어도 하나의 세척 장치
를 포함하고, 적어도 하나의 세척 장치는 제1 이송 평면(100)에 대해 수직 방향으로 떨어져 있는 처리 시스템(1)의 제2 이송 평면(101)에 배치되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제1항에 있어서, 제2 이송 평면(101)은 제1 이송 평면(100)의 아래에 배치되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제1항에 있어서, 제2 이송 평면(101)은 제1 이송 평면(100)의 위에 배치되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 세척 장치는 운반 장치들(2)이 도입될 수 있는 적어도 하나의 세척 욕(8)을 포함하는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 세척 장치는 내부에서 운반 장치들(2)에 헹굼 유체가 추진될 수 있는 적어도 하나의 헹굼 장치(9)를 포함하는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제5항에 있어서, 헹굼 장치(9)는 이송 방향으로 적어도 하나의 세척 욕의 하류에 배치되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제5항 또는 제6항에 있어서, 헹굼 장치(9)는 분사 헹굼 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 운반 장치들(2)과 이송 장치는 그 위에 물품들이 배치된 운반 장치들(2)이 각각의 처리 욕(3)의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 처리 욕(3) 중에 담가질 수 있고, 처리 욕(3)의 끝 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 다시 각각의 처리 욕(3)으로부터 이송될 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제4항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 운반 장치들(2)과 이송 장치는 운반 장치들(2)이 적어도 하나의 세척 욕(8)의 시작 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 세척 욕(8) 중에 담가질 수 있고, 세척 욕(8)의 끝 부분에서 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 세척 욕(8)으로부터 다시 이송될 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).
제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 운반 장치들(2)과 이송 장치는 운반 장치들(2)이 중첩된 병진 이동과 회전 이동에 의해 헹굼 장치(9)로 이송되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 물품 표면 처리용 처리 시스템(1).