KR20100089899A - 중합성 조성물용 첨가제, 이것을 포함하는 중합성 조성물 및 그 용도 - Google Patents

중합성 조성물용 첨가제, 이것을 포함하는 중합성 조성물 및 그 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 중합성 조성물용 첨가제는, 일반식(a)로 표시되는 화합물을 포함한다. 일반식(a) 중, R은 탄소수 1~3의 포화 탄화수소기를 나타낸다. M은 Sn, Sb, Bi 또는 Ge를 나타낸다. m은 0 또는 1을 나타낸다. m이 0일 때 R과 M은 직접 결합하지 않는다. n은 1~3의 정수를 나타낸다. X는 1가의 결합기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 각각 동일하더라도 다르더라도 된다. 금속 원자 M에 2 이상의 결합기 X가 결합하고 있는 경우는, 결합기 X끼리가 공동하여 환을 형성하고 있어도 된다.

Description

중합성 조성물용 첨가제, 이것을 포함하는 중합성 조성물 및 그 용도{ADDITIVE FOR POLYMERIZABLE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND USE OF THE POLYMERIZABLE COMPOSITION}
본 발명은, 중합성 조성물용 첨가제, 이것을 포함하는 중합성 조성물 및 그 용도에 관한 것이다.
최근, 무기 유리에 대신하는 투명성 재료로서, 투명성 유기 고분자 재료가 사용되고, 예를 들면 광학 부품 등에 이용되고 있다. 광학 부품에 있어서는, 예를 들면 투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등의 일반적으로 요구되는 특성을 가지면서, 또한 고굴절률로 하는 것이 요구된다.
이러한 수지에 관한 종래의 기술로서, 특허문헌 1에 기재된 것이 있다. 동문헌에는, 금속 함유 티에탄 화합물이 기재되어 있다. 또한, 굴절률 1.7을 넘는 고굴절률의 광학용 수지가 기재되어 있다.
특허문헌 2에는, 2개의 헤테로환에 공통의 환원 원자로서 Sn을 포함하는 화합물과, 폴리티올을 포함하는 중합성 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 1:국제공개 제2005-095490호 팜플렛
특허문헌 2:일본 특허공개공보 2006-143782호
특허문헌 3:영국 특허공보 712828호
특허문헌 4:일본 특허공개공보 2003-327583호
특허문헌 5:일본 특허공개공보 2007-269648호
특허문헌 6:일본 특허공개공보 2007-269649호
특허문헌 7:일본 특허공개공보 2007-271744호
비특허문헌 1:Journal of the Chemical Society(1965), 7098-7102
특허문헌 1에 기재된 기술에 있어서도, 중합성 조성물로부터 얻어지는 투명 부재의 굴절률을 향상시키는 점에서, 더욱 개선의 여지가 있었다.
본 발명은, 이하에 나타낸다.
[1] 하기 일반식(a)로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 조성물용 첨가제.
[화1]
Figure pct00001
(일반식(a) 중, R은 탄소수 1~3의 포화 탄화수소기를 나타낸다. M은 Sn, Sb, Bi 또는 Ge를 나타낸다. m은 0 또는 1을 나타낸다. m이 0일 때 R과 M은 직접 결합하지 않는다. n은 1~3의 정수를 나타낸다. X는 1가의 결합기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 각각 동일하더라도 다르더라도 된다. 금속 원자 M에 2 이상의 결합기 X가 결합하고 있는 경우는, 결합기 X끼리가 공동하여 환을 형성하고 있어도 된다.)
[2] 상기 일반식(a)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(1)로 표시되는 [1]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화2]
Figure pct00002
(일반식(1) 중, M은 Sn, Sb 또는 Bi를 나타낸다. R은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. n, X는 상기 일반식(a)와 동일하다.)
[3] 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(2) 또는 (3)으로 표시되는, [2]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화3]
Figure pct00003
(일반식(2) 또는 (3) 중, R 및 X는 일반식(1)과 동일하다. 일반식(2) 중, 2개의 결합기 X에 의해 환을 형성하고 있어도 된다. 일반식(3) 중, M'는 Sb 또는 Bi를 나타낸다.)
[4] R은 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기인, [2] 또는 [3]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[5] 상기 일반식(2)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(4) 또는 (5)로 표시되는, [4]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화4]
Figure pct00004
(일반식(4) 중, R2 및 R3은, 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. 일반식(5) 중, A는 환구조를 나타낸다.)
[6] 상기 일반식(5)의 화합물은, 하기 일반식(5a) 또는 (5b)로 표시되는, [5]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화5]
Figure pct00005
(일반식(5a) 및 (5b) 중, R은 일반식(1)과 동일하다. 일반식(5b) 중, R4 및 R5는 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.)
[7] 상기 일반식(5a)로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, [6]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화6]
Figure pct00006
[8] 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(6)으로 표시되는, [4]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화7]
Figure pct00007
(일반식(6) 중, M'는 Sb 또는 Bi를 나타내고, R1은, 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다.)
[9] M'가 Sb인, [8]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[10] 상기 일반식(6)으로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, [9]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화8]
Figure pct00008
[11] 상기 일반식(a)로 표시되는 화합물이 이하의 일반식(9)로 표시되는, [1]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화9]
Figure pct00009
(일반식(9) 중, R은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. X는 일반식(a)와 동일하다.)
[12] 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(10) 또는 (11)로 표시되는, [11]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화10]
Figure pct00010
(일반식(10) 중, R6 및 R7은, 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. 일반식(11) 중, B는 환구조를 나타낸다.)
[13] 상기 일반식(11)의 화합물은, 하기 일반식(11a) 또는 (11b)로 표시되는, [12]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화11]
Figure pct00011
(일반식(11a) 및 (11b) 중, R은 일반식(9)와 동일하다. 일반식(11b) 중, R8 및 R9는 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.)
[14] 상기 일반식(11a)로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, [13]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화12]
Figure pct00012
[15] 상기 일반식(a)로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, [1]에 기재된 중합성 조성물용 첨가제.
[화13]
Figure pct00013
[16] [1] 내지 [15]의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물용 첨가제가 배합된, 중합성 조성물.
[17] 티올 화합물이 더 배합된, [16]에 기재된 중합성 조성물.
[18] 상기 티올 화합물은, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는, [17]에 기재된 중합성 조성물.
[19] 중합성 화합물이 더 배합된, [18]에 기재된 중합성 조성물.
[20] 상기 중합성 화합물이, 이소시아네이트 화합물, 에피설피드 화합물, 에폭시 화합물 및 티에탄 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는, [19]에 기재된 중합성 조성물.
[21] [16] 내지 [20]의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
[22] [21]에 기재된 수지를 포함하는 투명 부재.
[23] [22]의 투명 부재로 이루어지는 광학 부품.
본 발명에 의하면, 중합성 조성물로부터 얻어지는 투명 부재의 굴절률을 보다 향상시킬 수 있는 중합성 조성물용 첨가제(굴절률 향상제), 그 첨가제가 배합된 중합성 조성물, 그 중합성 조성물로부터 얻어지는 투명 부재 및 광학 부품이 제공된다.
이하, 본 발명에 관하여, 구체예를 이용하여 설명하지만, 본 발명은, 이것에 한정되는 것은 아니다.
[중합성 조성물용 첨가제]
본 발명의 중합성 조성물용 첨가제(이하, 「첨가제」라고도 한다.)는, 하기 일반식(a)로 표시되는 화합물을 포함한다.
[화14]
Figure pct00014
일반식(a) 중, R은 탄소수 1~3의 포화 탄화수소기를 나타낸다. M은 Sn, Sb, Bi 또는 Ge를 나타낸다. m은 0 또는 1을 나타낸다. m이 0일 때 R과 M은 직접 결합하지 않는다. n은 1~3의 정수를 나타낸다. X는 1가의 결합기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 각각 동일하더라도 다르더라도 된다. 금속 원자 M에 2 이상의 결합기 X가 결합하고 있는 경우는, 결합기 X끼리가 공동하여 환을 형성하고 있어도 된다.
이와 같이 본 발명의 첨가제는, 분자 중에 중합성 관능기(예를 들면 수산기(OH기), 메르캅토기(SH기))를 가지지 않은 것이다.
이와 같은 구조를 가지는 본 발명의 중합성 조성물용 첨가제를 이용하는 것에 의해, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정할 수 있다.
금속 원자 M으로서는, 4가의 Sn, 3가 또는 5가의 Sb, 3가 또는 5가의 Bi, 4가의 Ge를 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물용 첨가제는, 일반식(a)로 표시되는 화합물로서 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
[화15]
Figure pct00015
일반식(1) 중, M은 Sn, Sb 또는 Bi를 나타낸다. R은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. n, X는 일반식(a)와 동일하다. 일반식(1)로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 조성물용 첨가제를 이용하는 것에 의해, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정할 수 있다.
금속 원자 M으로서는, 4가의 Sn, 3가 또는 5가의 Sb, 또는 3가 또는 5가의 Bi를 들 수 있다.
일반식(1)로 표시되는 화합물로서는, 하기 일반식(2) 또는 (3)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
[화16]
Figure pct00016
일반식(2) 또는 (3) 중, R 및 X는 일반식(1)과 동일하다. 일반식(2) 중, 2개의 결합기 X에 의해 환을 형성하고 있어도 된다. 일반식(3) 중, M'는 Sb 또는 Bi를 나타낸다.
수지 및 투명 부재의 굴절률을 향상시키는 관점에서, 일반식(2) 또는 (3)에 있어서, R은 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소수 2의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하다. 모노머 취급성 등의 관점에서는, 일반식(3)에 있어서는, M'가 Sb인 것이 바람직하다.
일반식(1)~(3)에 있어서, 1가의 결합기 X로서는, 탄소수 1~3의 알킬기, 탄소수 1~3의 알킬설파닐기, 하기 일반식(1a)로 표시되는 기 등을 들 수 있다.
[화17]
Figure pct00017
일반식(1a) 중, R 및 M은 일반식(1)과 동일하다. 일반식(1)의 화합물에 있어서, R 및 M이 각각 복수 존재하는R 및 M이 각각 복수 존재하는라도 된다. R1은, 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, R1이 복수 존재하는 경우는 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.
일반식(2)로 표시되는 화합물로서는, 하기 일반식(4) 또는 (5)로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다.
[화18]
Figure pct00018
일반식(4) 중, R2 및 R3은, 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. 일반식(5) 중, A는 환구조를 나타낸다.
일반식(5)의 화합물로서는, 하기 일반식(5a) 또는 (5b)로 표시되는 구조를 들 수 있다.
[화19]
Figure pct00019
일반식(5a) 및 (5b) 중, R은 일반식(1)과 동일하다.
일반식(5b) 중, R4 및 R5는 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.
본 발명에 있어서는, 일반식(2)로 표시되는 화합물로서 하기 화학식으로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다. 이 화합물에 의하면, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정하여, 굴절률의 향상을 도모할 수 있다.
[화20]
Figure pct00020
또한, 일반식(3)으로 표시되는 화합물로서는, 하기 일반식(6)으로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다.
[화21]
Figure pct00021
일반식(6) 중, M'는 Sb 또는 Bi를 나타내고, R1은, 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다.
본 발명에 있어서는, 일반식(3)으로 표시되는 화합물로서 하기 화학식으로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다. 이 화합물에 의하면, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정하여, 굴절률의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 하기의 화합물은 이성체를 포함하고 있어도 된다.
[화22]
Figure pct00022
이와 같은 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 특별히 한정되지 않고 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물용 첨가제는, 일반식(a)로 표시되는 화합물로서 하기 일반식(9)로 표시되는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다.
[화23]
Figure pct00023
일반식(9) 중, R은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. X는 1가의 결합기를 나타내고, 2개의 X는 각각 동일하더라도 다르더라도 된다. 결합기 X끼리가 공동하여 환을 형성하고 있어도 된다. 이와 같은, 금속 원자로서 Ge를 가지는 중합성 조성물용 첨가제를 이용하는 것에 의해, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정할 수 있다.
수지 및 투명 부재의 굴절률을 향상시키는 관점에서, 일반식(9)에 있어서, R은 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소수 2의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하다.
일반식(9)로 표시되는 화합물로서는, 하기 일반식(10) 또는 (11)로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다.
[화24]
Figure pct00024
일반식(10) 중, R6 및 R7은, 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. 일반식(11) 중, B는 환구조를 나타낸다.
일반식(11)의 화합물로서는, 하기 일반식(11a) 또는 (11b)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
R 및 M이 각각 복수 존재하는
Figure pct00025
일반식(11a) 및 (11b) 중, R은 일반식(9)와 동일하다. 일반식(11b) 중, R8 및 R9는 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.
본 발명에 있어서는, 일반식(9)로 표시되는 화합물로서 하기 화학식으로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다. 이 화합물에 의하면, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정하여, 굴절률의 향상을 도모할 수 있다.
[화26]
Figure pct00026
이와 같은 일반식(9)로 표시되는 화합물은, 특별히 한정되지 않고 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물은, 일반식(a)로 표시되는 화합물로서 이하의 화학식으로 표시되는 화합물을 포함하는 것도 바람직하다. 이 화합물을 첨가제로서 이용하는 것에 의해, 수지 및 투명 부재의 굴절률을 조정하여, 굴절률의 향상을 도모할 수 있다.
[화27]
Figure pct00027
[중합성 조성물]
본 발명의 중합성 조성물은, 본 발명의 첨가제가 배합되어 이루어지는 것이다. 이 중합성 조성물은, 예를 들면 광학 부품 등의 투명 부재를 얻을 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물은, 상기 첨가제에 더하여, 티올 화합물을 함유할 수 있다. 본 발명의 첨가제는, 티올 화합물과의 상용성이 높고, 티올 화합물과 조합하여 이용하는 것에 의해 투명성이 뛰어나고, 굴절률이 향상한 투명 부재를 얻을 수 있다.
또한, 티올 화합물과 반응성을 가지는, 티올 화합물 이외의 중합성 화합물을 더 포함하고 있어도 된다.
이하에, 본 발명의 중합성 조성물에 포함되는 티올 화합물, 중합성 화합물에 관하여 설명한다.
(티올 화합물)
티올 화합물은, 분자내에 1개 이상 티올기(SH기)를 함유하는 화합물이다. 티올 화합물로서, 상기 첨가제와 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있다.
티올 화합물로서, 구체적으로는, 1가의 티올 화합물로서는, 메틸메르캅탄, 에틸메르캅탄, 프로필메르캅탄, 부틸메르캅탄, 옥틸메르캅탄, 도데실메르캅탄, tert-도데실메르캅탄, 헥사데실메르캅탄, 옥타데실메르캅탄, 시클로헥실메르캅탄, 벤질메르캅탄, 에틸페닐메르캅탄, 2-메르캅토메틸-1,3-디티오란, 2-메르캅토메틸-1,4-디티안, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 3-메르캅토티에탄, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄 등의 지방족 메르캅탄 화합물, 티오페놀, 메르캅토톨루엔 등의 방향족 메르캅탄 화합물, 및 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물을 들 수 있다.
또한, 다가 티올(폴리티올) 화합물로서는, 1,1-메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,1-프로판디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 2,2-프로판디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,1-시클로헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 2,2-디메틸프로판-1,3-디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 1,1-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 티오말산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(2-메르캅토아세테이트), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(3-메르캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,3-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)에테르, 에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메티롤프로판비스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤프로판비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물；
1,2-디메르캅토벤젠, 1,3-디메르캅토벤젠, 1,4-디메르캅토벤젠, 1,2-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3-트리메르캅토벤젠, 1,2,4-트리메르캅토벤젠, 1,3,5-트리메르캅토벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,3-디(p-메톡시페닐)프로판-2,2-디티올, 1,3-디페닐프로판-2,2-디티올, 페닐메탄-1,1-디티올, 2,4-디(p-메르캅토페닐)펜탄 등의 방향족 폴리티올 화합물；
1,2-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠 등, 및 이들의 핵(core) 알킬화물 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 방향족 폴리티올 화합물；
비스(메르캅토메틸)설피드, 비스(메르캅토메틸)디설피드, 비스(메르캅토에틸)설피드, 비스(메르캅토에틸)디설피드, 비스(메르캅토프로필)설피드, 비스(메르캅토메틸티오)메탄, 비스(2-메르캅토에틸티오)메탄, 비스(3-메르캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-메르캅토프로필)에탄, 1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,3-비스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(메르캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)설피드, 비스(1,3-디메르캅토프로필)설피드, 2,5-디메르캅토-1,4-디티안, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 비스(메르캅토메틸)디설피드, 비스(메르캅토에틸)디설피드, 비스(메르캅토프로필)디설피드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 지방족 폴리티올 화합물, 및 이들의 티오글리콜산 및 메르캅토프로피온산의 에스테르；
히드록시메틸설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 2-메르캅토에틸에테르비스(2-메르캅토아세테이트), 2-메르캅토에틸에테르비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-디티안-2,5-디올비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-디티안-2,5-디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-디티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르),티오디글리콜산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 티오디프로피온산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오글리콜산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오디프로피온산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르) 등의 메르캅토기 이외에 황 원자와 에스테르 결합을 함유하는 지방족 폴리티올 화합물；
3,4-티오펜디티올, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 복소환 화합물；
글리세린디(메르캅토아세테이트), 1-히드록시-4-메르캅토시클로헥산, 2,4-디메르캅토페놀, 2-메르캅토하이드로퀴논, 4-메르캅토페놀, 3,4-디메르캅토-2-프로판올, 1,3-디메르캅토-2-프로판올, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 1,2-디메르캅토-1,3-부탄디올, 펜타에리스리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨모노(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨트리스(티오글리코레이트), 디펜타에리스리톨펜타키스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸트리스(메르캅토에틸티오메틸)메탄, 1-히드록시에틸티오-3-메르캅토에틸티오벤젠 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물；
1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로헥산, 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-3-티아펜탄, 1,1,6,6-테트라키스(메르캅토메틸티오)-3,4-디티아헥산, 2,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄티올, 2-(4,5-디메르캅토-2-티아펜틸)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,5-비스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)-1,4-디티안, 2,2-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-프로판디티올, 3-메르캅토메틸티오-1,7-디메르캅토-2,6-디티아헵탄, 3,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,9-디메르캅토-2,5,8-트리티아노난, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,9-디메르캅토-2,5,8-트리티아노난, 3-메르캅토메틸티오-1,6-디메르캅토-2,5-디티아헥산, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 1,1,9, 9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-5-(3,3-비스(메르캅토메틸티오)-1-티아프로필)-3,7-디티아노난, 트리스(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)메탄, 트리스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)메탄, 테트라키스(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)메탄, 테트라키스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)메탄, 3,5,9,11-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,13-디메르캅토-2,6,8,12-테트라티아트리데칸, 3,5,9,11,15,17-헥사키스(메르캅토메틸티오)-1,19-디메르캅토-2,6,8,12,14,18-헥사티아노나데칸, 9-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-3,5,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,11-디메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데칸, 3,4,8,9,13,14-헥사키스(메르캅토메틸티오)-1,16-디메르캅토-2,5,7,10,12,15-헥사티아헥사데칸, 8-{비스(메르캅토메틸티오)메틸}-3,4,12,13-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,15-디메르캅토-2,5,7,9,11,14-헥사티아펜타데칸, 4,6-비스{3,5-비스(메르캅토메틸티오)-7-메르캅토-2,6-디티아헵틸티오}-1,3-디티안, 4-{3,5-비스(메르캅토메틸티오)-7-메르캅토-2,6-디티아헵틸티오}-6-메르캅토메틸티오-1,3-디티안, 1,1-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-3,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-3-{2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸}-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1,5-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-2,4-디티아펜탄, 4,6-비스[3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-5-메르캅토-2,4-디티아펜틸티오]-1,3-디티안, 4,6-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-1,3-디티안, 4-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-6-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티어닐티오}-1,3-디티안, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-1,11-디메르캅토-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 9-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-3,5,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,4,6,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,7-비스{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-1,9-디메르캅토-2,4,6,8-테트라티아노난, 4-{3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-11-메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데실}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 4,5-비스{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}-1,3-디티오란, 4-{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 4-{3-비스(메르캅토메틸티오)메틸-5,6-비스(메르캅토메틸티오)-8-메르캅토-2,4,7-트리티아옥틸}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 2-[비스{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}메틸]-1,3-디티에탄, 2-{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 2-{3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-11-메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데실티오}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 2-{3-비스(메르캅토메틸티오)메틸-5,6-비스(메르캅토메틸티오)-8-메르캅토-2,4,7-트리티아옥틸}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 4,5-비스[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티오란, 4-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-5-{1,2-비스(메르캅토메틸티오)-4-메르캅토-3-티아부틸티오}-1,3-디티오란, 2-[비스{4-(5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오라닐)티오}]메틸-1,3-디티에탄, 4-{4-(5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오라닐)티오}-5-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티오란, 또한 이들의 올리고머 등의 디티오아세타르 혹은 디티오케타르 골격을 가지는 화합물；
트리스(메르캅토메틸티오)메탄, 트리스(메르캅토에틸티오)메탄, 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2,4-디티아펜탄, 비스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸](메르캅토메틸티오)메탄, 트리스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸]메탄, 2,4,6-트리스(메르캅토메틸티오)-1,3,5-트리티아시클로헥산, 2,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3,5-트리티아시클로헥산, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로판, 비스(메르캅토메틸)메틸티오-1,3,5-트리티아시클로헥산, 트리스[(4-메르캅토메틸-2,5-디티아시클로헥실-1-일)메틸티오]메탄, 2,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 2-메르캅토에틸티오-4-메르캅토메틸-1,3-디티아시클로펜탄, 2-(2,3-디메르캅토프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 4-메르캅토메틸-2-(2,3-디메르캅토프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 4-메르캅토메틸-2-(1,3-디메르캅토-2-프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 트리스[2,2-비스(메르캅토메틸티오)-1-티아에틸]메탄, 트리스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]메탄, 트리스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-3-티아부틸]메탄, 2,4,6-트리스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]-1,3,5-트리티아시클로헥산, 테트라키스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]메탄 등, 또한 이들의 올리고머 등의 오르토트리티오포름산에스테르 골격을 가지는 화합물；및
3,3'-디(메르캅토메틸티오)-1,5-디메르캅토-2,4-디티아펜탄, 2,2'-디(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,7-디(메르캅토메틸)-1,4,5,9-테트라티아스피로[4,4]노난, 3,9-디메르캅토-1,5,7,11-테트라티아스피로[5,5]운데칸, 또한 이들의 올리고머 등의 오르토테트라티오탄산에스테르 골격을 가지는 화합물 등을 들 수 있지만, 이들의 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다. 이들 예시 화합물은, 단독으로도 2종류 이상 혼합하여 사용해도 된다.
이들 티올 화합물 중, 얻어지는 수지의 광학 물성, 특히 아베수를 고려하면, 방향족계보다도 지방족계의 티올 화합물을 선택하는 것이 바람직하다. 또한, 광학 물성, 특히 굴절률의 요구를 고려하면, 설피드 결합 및/또는 디설피드 결합 등의 티올기 이외에 황 원자를 가지는 화합물을 선택하면, 보다 한층 바람직하다. 얻어지는 수지의 내열성을 고려하여 3차원 가교성을 높이는 관점에서는, 에피티오기나 티에타닐기 등의 중합성기를 가지는 티올 화합물이나, 티올기를 3개 이상 가지는 화합물을 1종 이상 선택하면 특히 바람직하다.
이상의 관점에서 바람직한 티올로서는, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다.
더욱 바람직하게는, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다. 또한, 2가의 티올 화합물을 선택하는 경우는, 중합성기를 가지는 티올 화합물 및/또는 3가 이상의 티올 화합물과 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
티올 화합물은, 더욱 구체적으로는, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함한다.
본 발명의 중합성 조성물용 첨가제는, 이들의 티올 화합물과 조합하여 이용하는 것에 의해, 굴절률이 높고, 투명성 및 내열성이 뛰어난 수지를 얻을 수 있다.
티올 화합물의 첨가량은, 첨가제를 용해하는 범위내라면 특별히 제한은 없고, 소망하는 물성(굴절률)에 따른 양을 첨가하면 된다. 또한, 본 발명의 첨가제를 티올 화합물에 용해시킬 때, N,N-디시클로헥실메틸아민이나 트리에틸아민 등의 아민류를 가함으로써 용해성을 향상시킬 수도 있다.
본 발명의 첨가제는, 티올 화합물과의 상용성이 뛰어나기 때문에, 티올 화합물에 용이하게 용해한다. 이 때문에, 본 발명의 첨가제는, 상기의 양으로 막두께가 두꺼운 렌즈 등에 포함되어 있어도 뛰어난 투명성을 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 첨가제와 티올 화합물을 상기의 범위에서 이용하는 것에 의해 뛰어난 투명성과 굴절률의 향상을 동시에 달성할 수 있다.
또한, 본 발명의 첨가제는, 후술하는 중합성 화합물에 대한 용해도의 상한까지 첨가할 수 있지만, 중합성 화합물에 대한 본 발명의 첨가제의 용해도, 얻어지는 수지의 바람직한 굴절률이나, 그 외 물성을 감안하여, 그 첨가량을 적절히 조정할 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물 중에 있어서의 첨가제의 함유량은, 예를 들면, 고굴절률 수지를 얻는 관점에서는, 1중량% 이상 50중량% 이하이며, 바람직하게는 10중량% 이상 40중량% 이하이다.
(중합성 화합물)
중합성 화합물은, 이소시아네이트 화합물, 에피설피드 화합물, 에폭시 화합물 및 티에탄 화합물로 이루어지는 군으로부터 1종 이상이 선택된다.
이소시아네이트 화합물로서는, 분자내에 1개 이상의 이소(티오)시아네이트기(NCO기 및/또는 NCS기)를 함유하는 화합물을 들 수 있다.
이소시아네이트 화합물의 구체예로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아나토-4-이소시아나토메틸옥탄, 비스(이소시아나토에틸)카보네이트, 비스(이소시아나토에틸)에테르, 리신디이소시아나토메틸에스테르, 리신트리이소시아네이트, m-크시릴렌디이소시아네이트, p-크시릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토에틸)벤젠, 비스(이소시아나토프로필)벤젠, α,α,α',α'-테트라메틸크시릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토부틸)벤젠, 비스(이소시아나토메틸) 나프탈린, 비스(이소시아나토메틸)디페닐에테르, 비스(이소시아나토에틸)프탈레이트, 메시티릴렌트리이소시아네이트, 2,6-디(이소시아나토메틸)푸란 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물；
이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄디이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 1,1'-메틸렌비스(4-이소시아나토시클로헥산) 등의 지환족 폴리이소시아네이트 화합물；
페닐렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아나토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 페닐이소시아나토에틸이소시아네이트, 헥사 히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 화합물；
비스(이소시아나토메틸)설피드, 비스(이소시아나토에틸)설피드, 비스(이소시아나토프로필)설피드, 비스(이소시아나토헥실)설피드, 비스(이소시아나토메틸)설폰, 비스(이소시아나토메틸)디설피드, 비스(이소시아나토에틸)디설피드, 비스(이소시아나토프로필)디설피드, 비스(이소시아나토메틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)에탄, 비스(이소시아나토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아나토-2-이소시아나토메틸-3-티아펜탄 등의 함황 지방족 폴리이소시아네이트 화합물；
디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아나토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아나토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트 등의 방향족 설피드계 폴리이소시아네이트 화합물；
디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드- 3,3-디이소시아네이트 등의 방향족 디설피드계 이소시아네이트 화합물, 2,5-디이소시아나토티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)티오펜 등의 함황 복소환 폴리이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.
이소시아네이트 화합물로서, 그 외에도, 2,5-디이소시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아나토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아나토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아나토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.
또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가 알코올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 혹은 트리머화 반응 생성물등도 사용할 수 있다.
또한, 이소티오시아네이트 화합물의 구체예로서는, 메틸이소티오시아네이트, 에틸이소티오시아네이트, n-프로필티오이소시아네이트, 이소프로필이소티오시아네이트, n-부틸이소티오시아네이트, sec-부틸이소티오시아네이트, tert-부틸이소티오시아네이트, 펜틸이소티오시아네이트, 헥실이소티오시아네이트, 헵틸이소티오시아네이트, 옥틸이소티오시아네이트, 데실이소티오시아네이트, 라우릴이소티오시아네이트, 미리스틸이소티오시아네이트, 옥타데실이소티오시아네이트, 3-펜틸이소티오시아네이트, 2-에틸헥실이소티오시아네이트, 2,3-디메틸시클로헥실이소티오시아네이트, 2-메톡시페닐이소티오시아네이트, 4-메톡시페닐이소티오시아네이트, α-메틸벤질이소티오시아네이트, 페닐에틸이소티오시아네이트, 페닐이소티오시아네이트, o-, m-, 혹은 p-톨릴이소티오시아네이트, 시클로헥실이소티오시아네이트, 벤질이소티오시아네이트, 이소티오시아네이트메틸비시클로헵탄 등의 단관능 이소티오시아네이트 화합물(이소티오시아네이트기를 1개 가지는 화합물)；
1,6-디이소티오시아나토헥산, p-페닐렌이소프로필리덴디이소티오시아네이트 등의 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물；
시클로헥산디이소티오시아네이트, 디이소티오시아나토메틸비시클로헵탄 등의 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물；
1,2-디이소티오시아나토벤젠, 1,3-디이소티오시아나토벤젠, 1,4-디이소티오시아나토벤젠, 2,4-디이소티오시아나토톨루엔, 2,5-디이소티오시아나토-m-크시릴렌, 4,4-디이소티오시아나토-1,1-비페닐, 1,1-메틸렌비스(4-이소티오시아나토벤젠), 1,1-메틸렌비스(4-이소티오시아나토-2-메틸벤젠), 1,1-메틸렌비스(4-이소티오시아나토-3-메틸벤젠), 1,1-(1,2-에탄디일)비스(이소티오시아나토벤젠), 4,4-디이소티오시아나토벤조페논, 4,4-디이소티오시아나토-3,3-디메틸벤조페논, 디페닐에테르-4,4-디이소티오시아네이트, 디페닐아민-4,4-디이소티오시아네이트 등의 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물；또한,
1,3-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, 1,4-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, (2,2-피리딘)-4,4-디카르보닐디이소티오시아네이트 등의 카르보닐폴리이소티오시아네이트 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.
또한, 이소티오시아나토기 외에 1개 이상의 황 원자를 함유하는 이소티오시아네이트 화합물의 구체예로서는, 티오비스(3-이소티오시아나토프로판), 티오비스(2-이소티오시아나토에탄), 디티오비스(2-이소티오시아나토에탄) 등의 함황 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물；
1-이소티오시아나토-4-[(2-이소티오시아나토)설포닐]벤젠, 티오비스(4-이소티오시아나토벤젠), 설포닐비스(4-이소티오시아나토벤젠), 디티오비스(4-이소티오시아나토벤젠) 등의 함황 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물；
2,5-디이소티오시아나토티오펜, 2,5-디이소티오시아나토-1,4-디티안 등의 함황 복소환 폴리이소티오시아네이트 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.
또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가 알코올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 혹은 트리머화 반응 생성물등도 사용할 수 있다.
또한, 이소시아나토기를 가지는 이소티오시아네이트 화합물도 들 수 있다. 구체적으로는, 1-이소시아나토-6-이소티오시아나토헥산, 1-이소시아나토-4-이소티오시아나토시클로헥산 등의 지방족 혹은 지환족 화합물；
1-이소시아나토-4-이소티오시아나토벤젠, 4-메틸-3-이소시아나토-1-이소티오시아나토벤젠 등의 방향족 화합물；
2-이소시아나토-4,6-디이소티오시아나토-1,3,5-트리아진 등의 복소환식 화합물；또한,
4-이소시아나토-4'-이소티오시아나토디페닐설피드, 2-이소시아나토-2'-이소티오시아나토디에틸디설피드 등의 이소티오시아나토기 이외에도 황 원자를 함유하는 화합물 등이지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.
또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가 알코올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 혹은 트리머화 반응 생성물등도 사용할 수 있다.
이들 화합물 중, 가장 바람직한 화합물로서는, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 시클로헥산디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,1'-메틸렌비스(4-이소시아나토시클로헥산), m-크시릴렌디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 화합물군으로부터 적어도 1종 선택된 화합물이며, 보다 한층 바람직한 화합물은, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄이다.
에피설피드 화합물(에피티오 화합물)로서는, 구체적으로는, 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(에피티오에틸티오)메탄, 비스(에피티오에틸티오)벤젠, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]설피드, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]메탄 등의 에피티오에틸티오화합물；
비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1-(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필티오)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오화합물；
1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오화합물；
1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필티오화합물；
에틸렌설피드, 프로필렌설피드, 메르캅토프로필렌설피드, 메르캅토부텐설피드, 에피티오클로르히드린 등의 단관능 에피설피드 화합물(에피설피드기를 1개 가지는 화합물)；
비스(2,3-에피티오프로필)에테르, 비스(2,3-에피티오프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1-(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물；
1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물；및,
1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필옥시)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다.
이들 예시 화합물 중 바람직한 화합물로서는, 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이며, 보다 바람직한 화합물로서는 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이다. 또한, 보다 한층 바람직한 화합물은, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이다.
에폭시 화합물로서는, 비스페놀A글리시딜에테르, 비스페놀F글리시딜에테르 등의 다가 페놀 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합 반응에 의해 얻어지는 페놀계 에폭시 화합물；
수첨비스페놀A글리시딜에테르, 수첨비스페놀F글리시딜에테르, 시클로헥산디메탄올 등의 다가 알코올 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 알코올계 에폭시 화합물；
3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 다가 유기산 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물；
1급 및 2급 아민 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 아민계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭시드 등의 비닐시클로헥센디에폭시드 등 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.
설피드기 함유 에폭시 화합물과 에테르기 함유 에폭시 화합물의 구체적 화합물예로서는, 비스(2,3-에폭시프로필)설피드, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 비스(2,3-에폭시프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1-(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필티오)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오화합물；
1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오화합물；
1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에폭시프로필티오화합물；
에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드, 글리시돌, 에피클로르히드린 등의 단관능 에폭시 화합물(에폭시기를 1개 가지는 화합물)；
비스(2,3-에폭시프로필)에테르, 비스(2,3-에폭시프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1-(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물；
1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물；및,
1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필옥시)비페닐 등의 방향족 2,3-에폭시프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다.
이들 예시한 에폭시 화합물 중, 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭시드, 비스페놀Aㆍ비스페놀F글리시딜에테르 등의 다가 페놀 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합 반응에 의해 얻어지는 페놀계 에폭시 화합물；
수첨비스페놀Aㆍ비스페놀F글리시딜에테르 등의 다가 알코올 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 알코올계 에폭시 화합물；
3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 다가 유기산 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물；
1급 및 2급 디아민 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 아민계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 비닐시클로헥센디에폭시드 등 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 비스페놀A글리시딜에테르, 비스페놀F글리시딜에테르이다. 더욱 바람직하게는, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 및 비스페놀F글리시딜에테르이다.
티에탄 화합물로서는, 금속 함유 티에탄 화합물 또는 비금속 티에탄 화합물을 이용할 수 있다. 우선, 금속 함유 티에탄 화합물에 관하여 설명한다.
금속 함유 티에탄 화합물은, 하기 일반식(7)로 표시된다.
[화28]
Figure pct00028
(상기 일반식(7) 중, M은, 금속 원자를 나타내고, X1 및 X2는 각각 독립하여 황 원자 또는 산소 원자를 나타내고, R1은 2가의 유기기를 나타내고, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속 원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상의 경우, Y는 서로 결합하여, 금속 원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.)
처음에, 상기 일반식(7)에 있어서의 M에 관하여 설명한다. 상기 일반식(7)에 있어서, M은, 금속 원자를 나타낸다. M으로서, 예를 들면 Cu원자, Au원자, Ag원자 등의 장주기형 주기표(이하, 같다.)의 11족 원소；
Zn원자 등의 12족의 원소；
Al원자 등의 13족의 원소；
Zr원자, Ti원자 등의 4족의 원소；
Sn원자, Si원자, Ge원자, Pb원자 등의 14족의 원소；
Bi원자 등의 15족의 원소；및
Fe원자, Pt원자 등의 8 또는 10족의 원소를 들 수 있다.
M은, 바람직하게는,
Sn원자, Si원자, Ge원자, Pb원자 등의 14족의 원소；
Zr원자, Ti원자 등의 4족의 원소；
Al원자 등의 13족의 원소；또는
Zn원자 등의 12족의 원소이며, 더욱 바람직하게는 Sn원자, Si원자, Ge원자 등의 14족의 원소 또는 Zr원자, Ti원자 등의 4족의 원소이며, 보다 한층 바람직하게는 Sn원자이다.
다음에, 상기 일반식(7) 중의, 티에타닐기를 포함하고 M에 결합하는 기에 관하여 설명한다. 상기 일반식(7)에 있어서, X1 및 X2는, 각각 독립하여 황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. 본 발명의 소망하는 효과인 고굴절률인 것을 감안하면, X1 및 X2로서 황 원자가 보다 바람직하다.
상기 일반식(7)에 있어서, R1은 2가의 유기기를 나타낸다.
이러한 2가의 유기기로서는, 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 및 방향족-지방족기를 들 수 있고, 바람직하게는, 탄소수 1 이상 20 이하의 쇄상 지방족기, 탄소수 3 이상 20 이하의 환상 지방족기, 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기, 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.
R1은, 보다 구체적으로는, 이러한 2가의 유기기가 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 또는 방향족-지방족기이며, 바람직하게는,
메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기；
페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기；또는
-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.
R1은, 보다 바람직하게는 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기 등의 탄소수 1 이상 6 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기；
페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 15 이하의 방향족기；또는
-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 15 이하의 방향족-지방족기이다.
이러한 2가의 유기기는, 기 중에 탄소 원자, 수소 원자 이외의 헤테로 원자를 함유하고 있어도 된다. 이러한 헤테로 원자로서는, 산소 원자 또는 황 원자를 들 수 있지만, 본 발명의 소망하는 효과를 고려하면, 황 원자인 것이 바람직하다.
상기 일반식(7)에 있어서, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타낸다. 이러한 m은, 바람직하게는, 0 이상 4 이하의 정수이며, 보다 바람직하게는, 0 이상 2 이하의 정수이며, 더욱, 바람직하게는, 정수 0 또는 1이다.
또한, 상기 일반식(7) 중의, 티에타닐기를 포함하는 M에 결합하는 기에 있어서, 보다 한층 바람직하게는, m=0이며, 또한 X1이 황 원자이다. 이 때, 상기 일반식(7)은, 하기 일반식(8)로 표시된다.
[화29]
Figure pct00029
(상기 일반식(8) 중, M, Y, p 및 n은, 각각, 상기 일반식(7)에 있어서의 M, Y, p 및 n과 동일하다.)
또한, 상기 일반식(8)에 있어서, 바람직하게는 n=p이며, 더욱 바람직하게는 n=p 또한 M이 Sn이다.
다음에, 상기 일반식(7) 또는 (8) 중, M에 결합하는 -(Y)n-p기에 관하여 설명한다.
상기 일반식(7) 또는 (8)에 있어서, n은 금속 원자 M의 가수를 나타낸다.
또한, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타낸다. 이러한 p는, 바람직하게는, n,n-1 또는 n-2이며, 보다 바람직하게는, n 또는 n-1이다.
상기 일반식(7) 또는 (8)에 있어서, Y는, 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타낸다.
상기 일반식(7) 또는 (8)으로 표시되는 화합물이 복수의 Y를 포함할 때, 복수의 Y는, 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타낸다. 즉, 복수의 Y는 동일한 기이어도 되고, 다른 기이어도 된다. 더욱 구체적으로는, 복수의 Y가 각각 모두 다르더라도 되고, 복수의 Y 중 일부가 공통의 기이어도 되고, 복수의 Y의 모두가 동일한 기이어도 된다.
Y를 구성하는 무기 또는 유기 잔기로서는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 티올기, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기가 표시된다.
이들 중, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시(알킬옥시)기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기에 관하여 이하 설명한다.
할로겐 원자의 구체예로서 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬기의 구체예로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 등의 총 탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 알킬기；
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, 1-메틸헥실기, 2-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 1-에틸펜틸기, 2-에틸펜틸기, 3-에틸펜틸기, 1-n-프로필부틸기, 1-iso-프로필부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸프로필기, 1-메틸헵틸기, 2-메틸헵틸기, 3-메틸헵틸기, 4-메틸헵틸기, 5-메틸헵틸기, 6-메틸헵틸기, 1-에틸헥실기, 2-에틸헥실기, 3-에틸헥실기, 4-에틸헥실기, 1-n-프로필펜틸기, 2-n-프로필펜틸기, 1-iso-프로필펜틸기, 2-iso-프로필펜틸기, 1-n-부틸부틸기, 1-iso-부틸부틸기, 1-sec-부틸부틸기, 1-tert-부틸부틸기, 2-tert-부틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸프로필기, 1,1-디메틸펜틸기, 1,2-디메틸펜틸기, 1,3-디메틸펜틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2,2-디메틸펜틸기, 2,3-디메틸펜틸기, 2,4-디메틸펜틸기, 3,3-디메틸펜틸기, 3,4-디메틸펜틸기, 1-에틸-1-메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸부틸기, 1-에틸-3-메틸부틸기, 2-에틸-1-메틸부틸기, 2-에틸-3-메틸부틸기, 1,1-디메틸헥실기, 1,2-디메틸헥실기, 1,3-디메틸헥실기, 1,4-디메틸헥실기, 1,5-디메틸헥실기, 2,2-디메틸헥실기, 2,3-디메틸헥실기, 2,4-디메틸헥실기, 2,5-디메틸헥실기, 3,3-디메틸헥실기, 3,4-디메틸헥실기, 3,5-디메틸헥실기, 4,4-디메틸헥실기, 4,5-디메틸헥실기, 1-에틸-2-메틸펜틸기, 1-에틸-3-메틸펜틸기, 1-에틸-4-메틸펜틸기, 2-에틸-1-메틸펜틸기, 2-에틸-2-메틸펜틸기, 2-에틸-3-메틸펜틸기, 2-에틸-4-메틸펜틸기, 3-에틸-1-메틸펜틸기, 3-에틸-2-메틸펜틸기, 3-에틸-3-메틸펜틸기, 3-에틸-4-메틸펜틸기, 1-n-프로필-1-메틸부틸기, 1-n-프로필-2-메틸부틸기, 1-n-프로필-3-메틸부틸기, 1-iso-프로필-1-메틸부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸부틸기, 1-iso-프로필-3-메틸부틸기, 1,1-디에틸부틸기, 1,2-디에틸부틸기, 1,1,2-트리메틸프로필기, 1,2,2-트리메틸프로필기, 1,1,2-트리메틸부틸기, 1,1,3-트리메틸부틸기, 1,2,3-트리메틸부틸기, 1,2,2-트리메틸부틸기, 1,3,3-트리메틸부틸기, 2,3,3-트리메틸부틸기, 1,1,2-트리메틸펜틸기, 1,1,3-트리메틸펜틸기, 1,1,4-트리메틸펜틸기, 1,2,2-트리메틸펜틸기, 1,2,3-트리메틸펜틸기, 1,2,4-트리메틸펜틸기, 1,3,4-트리메틸펜틸기, 2,2,3-트리메틸펜틸기, 2,2,4-트리메틸펜틸기, 2,3,4-트리메틸펜틸기, 1,3,3-트리메틸펜틸기, 2,3,3-트리메틸펜틸기, 3,3,4-트리메틸펜틸기, 1,4,4-트리메틸펜틸기, 2,4,4-트리메틸펜틸기, 3,4,4-트리메틸펜틸기, 1-에틸-1,2-디메틸부틸기, 1-에틸-1,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2,3-디메틸부틸기, 2-에틸-1,1-디메틸부틸기, 2-에틸-1,2-디메틸부틸기, 2-에틸-1,3-디메틸부틸기, 2-에틸-2,3-디메틸부틸기 등의 총 탄소수 3 이상 10 이하의 분기 알킬기；및 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로펜틸기, 메톡시시클로펜틸기, 메톡시시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 1,2-디메틸시클로헥실기, 1,3-디메틸시클로헥실기, 1,4-디메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기 등의 총 탄소수 5 이상 10 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로서 페닐기, 나프틸기, 안트라닐기, 시클로펜타디에닐기 등의 총 탄소수 20 이하의 방향족 탄화수소；
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 헥실페닐기, 시클로헥실페닐기, 옥틸페닐기, 2-메틸-1-나프틸기, 3-메틸-1-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 5-메틸-1-나프틸기, 6-메틸-1-나프틸기, 7-메틸-1-나프틸기, 8-메틸-1-나프틸기, 1-메틸-2-나프틸기, 3-메틸-2-나프틸기, 4-메틸-2-나프틸기, 5-메틸-2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 7-메틸-2-나프틸기, 8-메틸-2-나프틸기, 2-에틸-1-나프틸기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총 탄소수 20 이하의 알킬 치환 아릴기；
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 헥실옥시페닐기, 시클로헥실옥시페닐기, 옥틸옥시페닐기, 2-메톡시-1-나프틸기, 3-메톡시-1-나프틸기, 4-메톡시-1-나프틸기, 5-메톡시-1-나프틸기, 6-메톡시-1-나프틸기, 7-메톡시-1-나프틸기, 8-메톡시-1-나프틸기, 1-메톡시-2-나프틸기, 3-메톡시-2-나프틸기, 4-메톡시-2-나프틸기, 5-메톡시-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-메톡시-2-나프틸기, 8-메톡시-2-나프틸기, 2-에톡시-1-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴기；
2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기, 4,5-디메톡시-1-나프틸기, 4,7-디메톡시-1-나프틸기, 4,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-2-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 디알콕시아릴기；
2,3,4-트리메톡시페닐기, 2,3,5-트리메톡시페닐기, 2,3,6-트리메톡시페닐기, 2,4,5-트리메톡시페닐기, 2,4,6-트리메톡시페닐기, 3,4,5-트리메톡시페닐기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴기；및
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오도페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 20 이하의 아릴기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아랄킬기의 구체예로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸에틸기, 또한, 치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로 든 아릴기를 측쇄에 갖는 메틸기, 에틸기, 프로필기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬옥시기의 구체예로서, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 3,5,5-트리메틸헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기 등의 총 탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기；
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총 탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알콕시기；
메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기, n-펜틸옥시에톡시기, iso-펜틸옥시에톡시기, n-헥실옥시에톡시기, iso-헥실옥시에톡시기, n-헵틸옥시에톡시기 등의 총 탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시알콕시기；및
벤질옥시기 등의 아랄킬옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬티오기의 구체예로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기, 2-에틸헥실티오기, 3,5,5-트리메틸헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기, n-노닐티오기 등의 총 탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기；
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총 탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알킬티오기；
메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기, n-펜틸옥시에틸티오기, iso-펜틸옥시에틸티오기, n-헥실옥시에틸티오기, iso-헥실옥시에틸티오기, n-헵틸옥시에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시알킬티오기；
벤질티오기 등의 아랄킬티오기；및
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기, n-펜틸티오에틸티오기, iso-펜틸티오에틸티오기, n-헥실티오에틸티오기, iso-헥실티오에틸티오기, n-헵틸티오에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 10 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴옥시기의 구체예로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 안트라닐옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 옥틸페닐옥시기, 2-메틸-1-나프틸옥시기, 3-메틸-1-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 5-메틸-1-나프틸옥시기, 6-메틸-1-나프틸옥시기, 7-메틸-1-나프틸옥시기, 8-메틸-1-나프틸옥시기, 1-메틸-2-나프틸옥시기, 3-메틸-2-나프틸옥시기, 4-메틸-2-나프틸옥시기, 5-메틸-2-나프틸옥시기, 6-메틸-2-나프틸옥시기, 7-메틸-2-나프틸옥시기, 8-메틸-2-나프틸옥시기, 2-에틸-1-나프틸옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총 탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기；
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기, 옥틸옥시페닐옥시기, 2-메톡시-1-나프틸옥시기, 3-메톡시-1-나프틸옥시기, 4-메톡시-1-나프틸옥시기, 5-메톡시-1-나프틸옥시기, 6-메톡시-1-나프틸옥시기, 7-메톡시-1-나프틸옥시기, 8-메톡시-1-나프틸옥시기, 1-메톡시-2-나프틸옥시기, 3-메톡시-2-나프틸옥시기, 4-메톡시-2-나프틸옥시기, 5-메톡시-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-메톡시-2-나프틸옥시기, 8-메톡시-2-나프틸옥시기, 2-에톡시-1-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴옥시기；
2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기, 4,5-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,7-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-2-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 디알콕시아릴옥시기；
2,3,4-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,6-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,6-트리메톡시페닐옥시기, 3,4,5-트리메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴옥시기；및
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오도페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 20 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴티오기의 구체예로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 안트라닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 옥틸페닐티오기, 2-메틸-1-나프틸티오기, 3-메틸-1-나프틸티오기, 4-메틸-1-나프틸티오기, 5-메틸-1-나프틸티오기, 6-메틸-1-나프틸티오기, 7-메틸-1-나프틸티오기, 8-메틸-1-나프틸티오기, 1-메틸-2-나프틸티오기, 3-메틸-2-나프틸티오기, 4-메틸-2-나프틸티오기, 5-메틸-2-나프틸티오기, 6-메틸-2-나프틸티오기, 7-메틸-2-나프틸티오기, 8-메틸-2-나프틸티오기, 2-에틸-1-나프틸티오기, 2,3-디메틸페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총 탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기；
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기, 옥틸옥시페닐티오기, 2-메톡시-1-나프틸티오기, 3-메톡시-1-나프틸티오기, 4-메톡시-1-나프틸티오기, 5-메톡시-1-나프틸티오기, 6-메톡시-1-나프틸티오기, 7-메톡시-1-나프틸티오기, 8-메톡시-1-나프틸티오기, 1-메톡시-2-나프틸티오기, 3-메톡시-2-나프틸티오기, 4-메톡시-2-나프틸티오기, 5-메톡시-2-나프틸티오기, 6-메톡시-2-나프틸티오기, 7-메톡시-2-나프틸티오기, 8-메톡시-2-나프틸티오기, 2-에톡시-1-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴티오기；
2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 디알콕시아릴티오기；
2,3,4-트리메톡시페닐티오기, 2,3,5-트리메톡시페닐티오기, 2,3,6-트리메톡시페닐티오기, 2,4,5-트리메톡시페닐티오기, 2,4,6-트리메톡시페닐티오기, 3,4,5-트리메톡시페닐티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴티오기；및
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오도페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 20 이하의 아릴티오기 등을 들 수 있다. Y는 이들에 한정되는 것은 아니다.
이러한 Y에 있어서, 바람직한 예를 이하에 나타낸다.
바람직한 예로서, 예를 들면 수소 원자를 들 수 있다.
또한, Y의 바람직한 예 중, 할로겐 원자로서 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬기로서, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 등의 총 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 알킬기；
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 등의 총 탄소수 3 이상 6 이하의 분기 알킬기；및 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 등의 총 탄소수 5 이상 6 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴기로서, 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총 탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소；
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총 탄소수 12 이하의 알킬 치환 아릴기；
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴기；
2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 디알콕시아릴기；및
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오도페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아랄킬기로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총 탄소수 12 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기 등의 총 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기；
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기；및
메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알콕시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기 등의 총 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기；
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기；
메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알킬티오기；및
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총 탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기；
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴옥시기；
2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 디알콕시아릴옥시기；및
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오도페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총 탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기；
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴티오기；
2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 12 이하의 디알콕시아릴티오기；
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오도페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.
Y의 보다 바람직한 예를 이하에 나타낸다.
Y의 보다 바람직한 예로서, 예를 들면 수소 원자를 들 수 있다.
또한, 할로겐 원자로서, 염소 원자 및 브롬 원자를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬기로서, 메틸기, 에틸기, iso-프로필기 등의 총 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기 알킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴기로서, 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총 탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소；
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기 등의 총 탄소수 9 이하의 알킬 치환 아릴기；
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴기；및
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아랄킬기로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총 탄소수 9 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서, 메톡시기, 에톡시기, iso-프로폭시기 등의 총 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기；및
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기 등의 총 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기；
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기；및
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기 등의 총 탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기；
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴옥시기；및
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.
치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기 등의 총 탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기；
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총 탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴티오기；및
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총 탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.
또한, n-p가 2 이상의 정수의 경우, Y는 서로 결합하여, 금속 원자 M을 개재하여 환상 구조가 되어도 상관 없다. 즉, 복수의 Y가 결합하여 금속 원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다.
상술한 성분을 포함하는 본 발명의 중합성 조성물에 있어서, 굴절률, 기계 물성 및 색상의 밸런스를 보다 한층 향상시키는 관점에서는, 중합성 조성물 중의 티올기의 몰비가, 중합성 조성물 중의 이소(티오)시아네이트기, 에폭시기, 에피설피드기, 탄소-탄소 이중 결합 및 금속 원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물 중의 티에타닐기의 합계에 대해서, 1 이상이어도 된다. 즉, SH기/(NCO기 및/또는 NCS기+에폭시기+에피설피드기+탄소-탄소 이중 결합+티에타닐기)로 표시되는 몰비가 1 이상이어도 된다.
다음에, 비금속 티에탄 화합물에 관하여 설명한다.
비금속 티에탄 화합물은, 분자내에 1개 이상의 티에타닐기를 함유한다. 또한, 비금속 티에탄 화합물은, 본 발명의 첨가제와 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 티에타닐기를 합계 2 이상 함유하는 화합물이다.
구체적으로는, 비금속 티에탄 화합물로서, 비스티에타닐설피드, 비스(3-티에타닐티오)메탄, 3-(((3'-티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄 등의 설피드계 티에탄 화합물：
비스(3-티에타닐)디설피드, 비스(3-티에타닐)트리설피드, 비스(3-티에타닐)테트라설피드, 비스(3-티에타닐)펜타설피드 등의 폴리설피드계 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.
이들 예시 화합물 중, 비스(3-티에타닐)디설피드, 비스(3-티에타닐)테트라설피드, 비스(3-티에타닐티오)메탄, 3'-(((3-티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄, 테트라키스(3-티에타닐티오)주석, 트리스(3-티에타닐티오)비스무스, 비스(3-티에타닐티오)디티아스탄노란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 선택하는 것이 바람직하다.
또한, 이들 예시 화합물 중 바람직한 화합물로서는, 비스(3-티에타닐)설피드, 비스(3-티에타닐티오)메탄, 비스(3-티에타닐)디설피드, 비스(3-티에타닐)테트라설피드, 비스(3-티에타닐티오)디티아스탄노란 및 테트라키스(3-티에타닐티오)주석이며, 보다 바람직한 화합물로서는 비스(3-티에타닐)디설피드, 비스(3-티에타닐티오)디티아스탄노란 및 테트라키스(3-티에타닐티오)주석이다.
본 발명의 중합성 조성물은, 필요에 따라서, 후술하는 중합 촉매를 함유하여 이루어진다.
본 발명에 있어서 필요에 따라서 이용되는 중합 촉매의 종류나 양, 단량체의 종류나 비율은, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 따라 다르고, 일률적으로 한정할 수 없지만, 중합 촉매의 종류로서는 아민류, 포스핀류, 유기산 및 그 염, 에스테르, 무수물류, 무기산, 4급 암모늄염류, 4급 포스포늄염류, 3급 설포늄염류, 2급 요오드늄염류, 루이스산류, 라디칼 중합 촉매류, 양이온 중합 촉매류 등이 통상 이용된다.
상기 중합 촉매는 단독으로도 2종 이상을 혼합하여 이용해도 되고, 이들 중합 촉매 중, 반응성이 다른 2종 이상의 것을 병용하면, 모노머의 핸들링성, 얻어지는 수지의 광학 물성, 색상, 투명성, 광학 변형(맥리)이 향상하는 경우가 있기 때문에, 바람직한 경우가 있다.
중합 촉매로서 예시한 상기 화합물 중, 바람직한 것은, 디메틸주석디클로라이드, 디부틸주석디클로라이드, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세테이트, 테트라클로로주석, 디부틸주석옥사이드, 디아세톡시테트라부틸디스타녹산 등의 유기주석 화합물, 트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로아세트산무수물, 트리플루오로아세트산에틸, 트리플루오로아세트산소다, 트리할로게노아세트산 및 그 에스테르, 무수물 및 염；
p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산무수물, 트리플루오로메탄설폰산에틸, 트리플루오로메탄설폰산소다 등의 트리할로게노메탄설폰산 및 그 에스테르, 무수물 및 염；
삼불화붕소, 삼불화붕소디에틸에테르 착체, 삼불화붕소피페리딘 착체, 삼불화붕소에틸아민 착체, 삼불화붕소아세트산 착체, 삼불화붕소인산 착체, 삼불화붕소 t-부틸메틸에테르 착체, 삼불화붕소디부틸에테르 착체, 삼불화붕소 THF 착체, 삼불화붕소메틸설피드 착체, 삼불화붕소페놀 착체 등의 삼불화붕소의 각종 착체 및 삼염화붕소의 각종 착체 등의 트리할로겐화 붕소 화합물 및 그 컴플렉스 등의 루이스산이며, 보다 바람직한 것은, 디메틸주석디클로라이드, 트리플루오로메탄설폰산 및 그 무수물, 에스테르, 염 및 삼불화붕소의 각종 착체；및
2,2'-아조비스(2-시클로프로필프로피오니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, n-부틸-4,4'-비스(t-부틸퍼옥시)발리레이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트 등의 라디칼 중합 촉매이다.
본 발명에 있어서의 중합성 조성물의 중합 촉매의 첨가량은, 중합성 조성물의 총 중량에 대해서 0.0001중량% 이상 10중량% 이하의 범위에서 이용되고, 바람직하게는 0.001중량% 이상 10중량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01중량% 이상 5중량% 이하, 가장 바람직하게는 0.01중량% 이상 1중량% 이하의 범위에서 사용된다.
중합 촉매의 첨가량을 상기 범위로 하는 것에 의해, 더 양호하게 경화한 수지의 제조가 가능하고, 포토 라이프가 더욱 확실히 유지되고, 또한, 얻어지는 수지의 투명성, 광학 물성이 더 양호한 것이 얻어지는 경우가 있다.
중합 촉매는, 중합성 조성물 또는 그 일부의 화합물에 직접 첨가해도 되고, 다른 화합물에 용해 또는 분산시키고 나서 첨가해도 되지만, 다른 화합물에 용해 또는 분산시키고 나서 첨가한 쪽이 바람직한 결과를 제공하는 경우가 있다. 또한, 중합 촉매를 첨가하는 경우, 질소 분위기하 또는 건조 가스 분위기하에서 행하면 바람직한 결과를 제공하는 경우가 있다. 또한, 얻어지는 수지의 성능을 보다 인출하기 위해서는, 수지 중에 잔존하는 미반응 관능기의 양을, 수지 총 중량에 대해서 0.5중량% 이하로 하면 바람직한 결과가 얻어지는 경우가 있고, 보다 바람직하게는, 0.4중량% 이하이다.
본 발명의 중합성 조성물은, 본 발명의 소망하는 효과를 손상하지 않는 범위에 있어서, 티올 화합물 및 상기의 중합성 화합물 이외에, 필요에 따라서 다른 중합성 화합물을 함유해도 된다.
필요에 따라서 이용되는 다른 중합성 화합물로서는, 공지의 각종 중합성 모노머 또는 중합성 올리고머를 들 수 있고, 예를 들면, (메타)아크릴산에스테르 화합물, 비닐 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는, 티올 화합물을 포함하는 중합성을 가지는 화합물의 총 중량에 차지하는, 이들 중합성 화합물(이소시아네이트 화합물, 에피설피드 화합물, 에폭시 화합물 및 티에탄 화합물로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택된다)의 함유량은, 이들의 중합성 화합물이 통상의 경우에는 첨가량을 늘리면 중합성 조성물의 굴절률을 저하시키는 것을 감안하면, 고굴절률 재료를 얻는 관점에서는, 통상, 90중량% 이하이며, 바람직하게는, 70중량% 이하이며, 보다 바람직하게는, 60중량% 이하이다. 한편, 굴절률 이외의 물성(내열성이나 기계 강도 등)과의 밸런스를 맞추어 소망하는 굴절률로 조정하는 관점에서 감안하면, 본 발명의 첨가제가 중합성 조성물에 용해하는 범위내이면, 소망하는 물성으로 조정하기 위한 임의의 혼합 비율로 이들의 중합성 화합물과 혼합할 수 있다. 또한, 본 발명의 중합성 조성물 중에 중합성 화합물이 포함되는 경우, 중합성 화합물의 함유량의 하한에 관해서는 특별히 제한은 없다.
본 발명의 중합성 조성물을 경화하여 이루어지는 수지의 굴절률, 아베수 등의 광학 물성의 새로운 조정이나, 색상, 내광성이나 내후성, 내열성, 내충격성, 경도, 비중, 선팽창 계수, 중합 수축율, 흡수성, 흡습성, 내약품성, 점탄성 등의 제 물성의 조정, 투과율이나 투명성의 조정, 중합성 조성물의 점도, 그 외 보존이나 수송 방법의 취급성을 조정하기 위한 등, 수지의 개량이나 취급성을 개량하는 목적으로, 본 발명의 중합성 조성물에 정제나 세정, 보온, 보냉, 여과, 감압 처리 등의 유기 화합물을 합성할 때에 일반적으로 이용되는 수법, 조작을 실시하거나 또한, 공지의 화합물 등을 안정제나 수지 개질제로서 가하거나 하는 것은 양호한 수지를 얻는 목적에서 바람직한 경우가 있다. 장기의 보존 안정성이나, 중합 안정성, 열안정성 등의 안정성 향상을 위해서 가하여지는 것으로서는, 중합 지연제나 중합 금지제, 탈산소제, 산화 방지제 등의 화합물을 들 수 있다.
중합성 조성물을 정제하는 것은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하기 위해서나 순도를 올리기 위해서 이용되는 수법이다. 본 발명에 있어서의 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물을 함유하는 중합성 조성물을 정제하는 방법은, 공지의 방법, 예를 들면, 재결정, 컬럼크로마토법(실리카겔법이나 활성탄법, 이온교환 수지법 등), 추출 등의 어떠한 수법을 어떠한 타이밍에서 행해도 되고, 일반적으로 정제하여 얻어지는 조성물을 경화시켜 얻어지는 수지의 투명성이나 색상이 개량되어 있으면 된다.
중합성 조성물을 세정하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나 색상을 개량하는데 이용되는 수법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 꺼낼때 또는 합성 후의 꺼낸 후 등의 타이밍에 극성 및/또는 비극성 용매로 세정하고, 수지의 투명성을 저해하는 물질, 예를 들면, 중합성 조성물을 합성할 때에 사용되는 또는, 부생하는 무기염, 예를 들면, 암모늄염 등을 제거하는 또는 감량하는 방법을 들 수 있다. 이용하는 용매는, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액의 극성 등에 의해 일률적으로 한정은 할 수 없지만, 제거하고 싶은 성분을 용해 가능하고, 또한, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액과 상용하기 어려운 것이 바람직하고, 1종류 뿐만 아니라, 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 여기에서 제거하는 성분은 목적이나 용도에 따라서 다르지만, 가능한 한 적게 하여 두는 것이 바람직하고, 통상 5000ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000ppm 이하로 하면 좋은 결과가 얻어지는 경우가 있다.
중합성 조성물을 보온ㆍ보냉ㆍ여과하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하는데 이용되는 수법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 꺼낼때 또는 합성 후의 꺼낸 후 등의 타이밍에서 행하는 것이 일반적이다. 보온 방법으로서는, 예를 들면, 중합성 조성물이 보관 중에 결정화하고, 핸들링이 나빠졌을 경우에, 중합성 조성물 및 중합성 조성물을 경화시켜서 이루어지는 수지의 성능이 저하하지 않는 범위에서 가열 용해하는 방법을 들 수 있다. 가열하는 온도 범위나 가열 용해하는 방법은, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 의해 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상, 응고점+50℃ 이내의 온도에서 행해지고, 바람직하게는 +20℃ 이내이며, 교반 가능한 장치로 기계적으로 교반하거나, 조성물에 불활성인 가스로 버블링함으로써 내액을 움직여서 용해하는 방법 등을 들 수 있다. 보냉은 중합성 조성물의 보존 안정성을 높이는 목적으로 통상 행해지지만, 예를 들면 중합성 조성물의 융점이 높은 경우에는, 결정화 후의 취급성을 향상시키기 위해, 보관 온도를 고려하면 된다. 보냉 온도는 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 보존 안정성에 의해 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물을 함유하는 중합성 조성물의 안정성을 유지할 수 있는 온도 이하로 보존할 필요가 있다.
또한, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물이, 광학 용도에 이용하는 중합성 조성물의 경우, 그 매우 높은 투명성이 요구되기 때문에, 통상 중합성 조성물을 공경이 작은 필터로 여과하면 된다. 여기에서 이용하는 필터의 공경은 통상 0.05㎛ 이상 10㎛ 이하에서 행해지지만, 조작성이나 성능을 고려하면, 바람직하게는, 0.05㎛ 이상 5㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상 5㎛ 이하이다. 본 발명의 중합성 조성물도 예외없이 여과하면 좋은 결과를 얻어지는 경우가 많다. 여과하는 온도에 관해서는, 응고점 부근의 저온에서 행하면 더욱 바람직한 결과가 얻어지는 경우가 있지만, 여과 중에 응고가 진행하는 경우는, 여과 작업에 지장을 초래하지 않는 온도에서 행하면 좋은 경우가 있다.
감압 처리는, 일반적으로 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지의 성능을 저하시키는 용매나 용존가스, 악취를 제거하는데 행해지는 수법이다. 용존용매는 일반적으로 얻어지는 수지의 굴절률 저하나 내열성 저하를 초래하는 경우가 있기 때문에, 가능한 한 제거하면 된다. 용존용매의 허용치는, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 용매의 구조에 의해 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상 1% 이하로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 5000ppm 이하이다. 용존가스는 중합의 저해를 억제하는 관점 및 얻어지는 수지에 기포가 혼입하는 것을 억제하는 관점에서, 제거하는 것이 바람직하다. 특히, 수증기 등의 수분을 의미하는 가스에 관해서는, 특히 건조 가스로 버블링하는 등 하여 제거하는 쪽이 바람직하다. 용존량에 관해서는, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 가스의 물성 및 구조, 종류에 따라 설정할 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물의 제조 방법으로서, 대표적으로는, 본 발명의 첨가제와 티올 화합물과, 적절한 다른 성분을 이용하여, 더욱 소망에 의해 상기의 각종 중합성 화합물을 병용하고, 더 필요에 따라서 상기 중합 촉매를 첨가한 후, 혼합, 용해시키는 방법 등을 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물을 경화하여 성형할 때에는, 목적에 따라서, 공지의 성형법과 동일하게, 안정제, 수지 개질제, 쇄연장제, 가교제, HALS계를 대표로 하는 광안정제, 벤조트리아졸계를 대표로 하는 자외선 흡수제, 힌더드페놀계를 대표로 하는 산화 방지제, 착색 방지제, 안트라퀴논계 분산 염료를 대표로 하는 염료나 블루잉제, 충전제, 실리콘계를 대표로 하는 외부 이형제 또는 산성 인산에스테르, 4급 암모늄염 혹은 4급 포스포늄염 등의 계면활성제를 대표로 하는 내부 이형제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 물질을 첨가해도 된다. 여기에서, 내부 이형제는, 전술한 각종 촉매 중 이형 효과를 나타내는 것도 포함한다.
상기의 첨가 가능한 각종 첨가제의 첨가량은, 각각의 첨가제의 종류, 구조, 효과에 따라 달라 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상, 중합성 조성물의 총 중량에 대해서 0.001중량% 이상 10중량% 이하의 범위에서 이용되고, 바람직하게는 0.01중량% 이상 5중량% 이하의 범위에서 사용된다. 염료에 관해서는, 1ppb 이상 100ppm 이하의 범위에서 사용하면 바람직하다. 이들의 범위내이면, 더욱 양호하게 경화한 수지의 제조가 가능하고, 얻어지는 수지의 투명성, 광학 물성이 더욱 양호한 것으로 되는 경우가 있다.
다음에, 본 발명에 있어서의 수지에 관하여 설명한다.
본 발명에 있어서의 수지 및 당해 수지로 이루어지는 투명 부재는, 상기 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 것이다.
또한, 본 발명에 있어서의 수지(및 투명 부재)의 제조 방법은, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함한다. 이러한 방법으로서, 플라스틱 렌즈를 제조할 때에 이용되는 공지의 각종 방법을 들 수 있지만, 대표적으로는, 주형 중합을 들 수 있다.
즉, 전술한 방법에 의해 제조된 본 발명의 중합성 조성물을, 필요에 따라서, 감압하에서의 탈포처리나 필터 여과를 행한 후, 얻어진 중합성 조성물을 성형용 몰드에 주입하고, 필요에 따라서 가열하여 중합을 행한다. 이 경우, 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합하는 것이 바람직하다.
상술한 성형용 몰드는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 가스켓을 개재한 경면 연마한 2매의 주형에 의해 구성된다. 주형은, 대표적으로는, 유리와 유리의 조합이며, 그 밖에 유리와 플라스틱판, 유리와 금속판 등의 조합의 주형을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 성형용 몰드는 2매의 주형을 폴리에스테르 점착 테이프 등의 테이프 등으로 고정한 것이어도 된다. 필요에 따라서, 주형에 대해서 이형처리 등 공지의 처리 방법을 행해도 된다.
주형 중합을 행하는 경우, 중합 온도는 중합 개시제의 종류 등 중합 조건에 의해서 영향을 받으므로, 한정되는 것은 아니지만, 통상, -50℃ 이상 200℃ 이하이며, 바람직하게는, -20℃ 이상 170℃ 이하이며, 보다 바람직하게는, 0℃ 이상 150℃ 이하이다.
중합 시간은, 중합 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 0.01시간 이상 200시간 이하이며, 바람직하게는, 0.05시간 이상 100시간 이하이다. 또한 필요에 따라서, 일정한 온도나 승온, 강온 등의 몇가지의 온도를 조합하여 중합을 행하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 전자선, 자외선이나 가시광선 등의 활성 에너지선을 조사하는 것에 의해서도 중합을 행할 수 있다. 이 때에는, 필요에 따라서, 활성 에너지선에 의해서 중합 개시하는 라디칼 중합 촉매나 양이온 중합 촉매가 이용된다.
여기에서, Tg는, TMA(Thermal Mechanical Analysis：열기계 측정) 투과법(penetration method)에 의해 측정하여, TMA 곡선의 교점으로부터 구한 온도이며, 열변형 개시 온도에 상당한다.
얻어진 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학 렌즈는, 경화 후, 필요에 따라서, 어닐 처리를 행해도 된다. 더욱 더 필요에 따라서, 반사 방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 방담성 부여 혹은 패션성 부여의 목적으로, 표면 연마, 대전 방지 처리, 하드 코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색 처리, 조광 처리(예를 들면, 포토크로믹렌즈화 처리 등) 등 공지의 각종 물리적 또는 화학적 처리를 행해도 된다.
또한, 얻어진 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학 렌즈는, 필요에 따라서, 편면 또는 양면에 코팅층을 실시하여 이용해도 된다. 이하, 광학 렌즈를 예로 들어 설명한다. 코팅층으로서는, 프라이머층, 하드 코트층, 반사 방지막층, 방담코트막층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들의 코팅층은 각각 단독으로 이용해도 되고, 복수의 코팅층을 다층화하여 사용해도 된다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 행해도, 다른 코팅층을 행해도 된다.
이들의 코팅층에는, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지의 첨가제를 병용해도 된다. 첨가제로서, 구체적으로는, 자외선으로부터 렌즈나 눈을 지키는 목적으로 자외선 흡수제；
적외선으로부터 눈을 지키는 목적으로 적외선 흡수제；
렌즈의 내후성의 향상을 목적으로 광안정제나 산화 방지제；
렌즈의 패션성을 높이는 목적으로 염료나 안료등을 이용해도 되고, 더욱이 포토크로믹 염료나 포토크로믹 안료, 대전 방지제, 그 외의 각종 첨가제를 이용해도 된다. 또한, 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 관해서는, 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 된다.
프라이머층은, 통상, 후술하는 하드 코트층과 광학 렌즈와의 사이에 형성된다. 프라이머층은, 그 위에 형성하는 하드 코트층과 렌즈와의 밀착성을 향상시키는 것을 목적으로 하는 코팅층이며, 경우에 따라 내충격성을 향상시키는 것도 가능하다.
프라이머층에는, 얻어진 광학 렌즈에 대한 밀착성이 높은 것이면 어떠한 소재라도 사용할 수 있지만, 통상, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리에스테르계 수지, 멜라닌계 수지, 폴리비닐아세탈을 주성분으로 하는 프라이머 조성물 등이 사용된다. 프라이머 조성물에는 조성물의 점도를 조정하는 목적으로 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 이용해도 된다. 물론, 무용제로 사용해도 된다.
프라이머 조성물은 도포법, 건식법의 어느 방법에 의해서도 형성할 수 있다. 도포법을 이용하는 경우, 렌즈에 스핀 코트, 딥 코트 등 공지의 도포 방법으로 도포된 후, 고화시키는 것에 의해 프라이머층이 형성된다. 건식법으로 행하는 경우는, CVD법이나 진공 증착법 등의 공지의 건식법으로 형성된다. 프라이머층을 형성 할 때에, 밀착성의 향상을 목적으로 하여, 필요에 따라서 렌즈의 표면에, 알칼리 처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 전처리를 행해 두어도 된다.
하드 코트층은, 렌즈 표면에 내찰상성, 내마모성, 내습성, 내온수성, 내열성, 내후성 등 기능을 제공하는 것을 목적으로 한 코팅층이다.
하드 코트층에는, 일반적으로는, 경화성을 가지는 유기 규소 화합물과 Si, Al, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In 및 Ti의 원소군으로부터 선택되는 1종의 원소를 포함하는 산화물 미립자 및/또는 이들 원소군으로부터 선택된 2종 이상의 원소의 복합 산화물로 구성되는 미립자를 포함하는 하드 코트 조성물이 사용된다. 산화물 미립자 및/또는 복합 산화물로 구성되는 미립자는, 하드 코트 조성물 중에 1종 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 하드 코트 조성물에는, 상기 성분 이외에 아민류, 아미노산류, 금속 아세틸아세토네이트 착체, 유기산 금속염, 과염소산류, 과염소산류의 염, 산류, 금속 염화물 및 다관능성 에폭시 화합물의 적어도 어느 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 하드 코트 조성물에는 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 이용해도 된다. 물론, 무용제로 사용해도 된다.
하드 코트층은, 통상, 하드 코트 조성물을 스핀 코트, 딥 코트 등 공지의 도포방법으로 도포한 후, 경화하여 형성된다. 경화방법으로서는, 열경화, 자외선이나 가시광선 등의 에너지선 조사에 의한 경화방법 등을 들 수 있다. 간섭호의 발생을 억제하기 위하여, 하드 코트층의 굴절률은, 렌즈와의 굴절률의 차이가 ±(플러스마이너스) 0.1의 범위에 있는 것이 바람직하다.
반사 방지층은, 통상, 필요에 따라서 상기 하드 코트층의 위에 형성된다. 반사 방지층에는 무기계 및 유기계가 있고, 무기계의 경우, SiO2, TiO2 등의 무기산화물을 이용하고, 진공증착법, 스패터링법, 이온플레이팅법, 이온빔어시스트법, CVD법 등의 건식법에 의해 형성된다. 유기계의 경우, 유기규소 화합물과, 내부 공동을 가지는 실리카계 미립자를 포함하는 조성물을 이용하여, 습식에 의해 형성된다.
반사 방지층에는, 단층의 것 및 다층의 것이 있고, 단층으로 이용하는 경우에는 하드 코트층의 굴절률보다도 굴절률이 적어도 0.1 이상 낮게 되는 것이 바람직하다. 더욱 효과적으로 반사 방지기능을 발현하는 데에는, 다층막 반사 방지막으로 하는 것이 바람직하고, 그 경우, 저굴절률막과 고굴절률막을 서로 번갈아 적층한다. 이 경우에도, 저굴절률막과 고굴절률막과의 굴절률 차이는, 0.1 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률막으로서는, ZnO, TiO2, CeO2, Sb2O5, SnO2, ZrO2, Ta2O5 등의 막이 있고, 저굴률막으로서는, SiO2막 등을 들 수 있다.
반사 방지막층의 위에는, 필요에 따라서 방담 코트막층, 방오염층, 발수층을 형성시켜도 된다. 방담 코트층, 방오염층, 발수층을 형성하는 방법으로서는, 반사 방지기능에 악영향을 초래하는 것이 아니라면, 그 처리방법, 처리재료 등에 관해서는 특별히 한정되지 않고, 공지의 방담 코트 처리방법, 방오염 처리방법, 발수 처리방법, 재료를 사용할 수 있다.
예를 들면, 방담 코트, 방오염 처리방법에서는, 표면을 계면활성제로 덮는 방법, 표면에 친수성의 막을 부가하여 흡수성으로 하는 방법, 표면을 미세한 요철로 덮어 흡수성을 높이는 방법, 광촉매 활성을 이용하여 흡수성으로 하는 방법, 초발수성 처리를 실시하여 물방울의 부착을 방지하는 방법 등을 들 수 있다.
또한, 발수 처리방법에서는, 불소 함유 실란 화합물 등을 증착이나 스패터에 의해 발수 처리층을 형성하는 방법이나, 불소 함유 실란 화합물을 용매에 용해한 후, 코팅하여 발수처리층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
또한, 얻어진 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학 렌즈는, 패션성이나 포토크로믹성의 부여 등을 목적으로 하여, 목적에 따른 색소를 이용하고, 염색하여 사용하여도 된다. 이하, 광학렌즈의 염색을 예로 설명한다.
광학렌즈의 발색은 공지의 염색방법으로 실시가능하지만, 통상, 이하에 나타내는 어느 하나의 방법으로 실시된다.
(a) 렌즈를 염색액에 침지하는 방법,
(b) 색소를 함유하는 코팅제를 이용하여 코팅하는 방법, 또는 염색 가능한 코팅층을 설치하고, 그 코팅층을 염색하는 방법,
(c) 원료 모노머에 염색 가능한 재료를 함유시켜 중합하는 방법, 및
(d) 승화성 색소를 가열하여 승화시키는 방법.
(a)의 방법은, 일반적으로는, 사용하는 색소를 용해 또는 균일하게 분산시킨 염색액 중에, 소정의 광학면으로 마무리된 렌즈 생지를 침지(염색공정)한 후, 필요에 따라서 렌즈를 가열하여 색소를 고정화(염색 후 어닐공정)하는 방법이다.
염색공정에 이용되는 색소는, 예를 들면 공지의 색소이고 특별히 한정되지 않지만, 통상은, 유용염료 혹은 분산염료가 사용된다. 염색공정에서 사용되는 용제는, 이용하는 색소가 용해 가능 혹은 균일하게 분산 가능한 것이면 특별히 한정되지 않는다.
이 염색공정에서는, 필요에 따라서 염색액에 색소를 분산시키기 위한 계면활성제나, 염착을 촉진하는 캐리어를 첨가해도 된다.
염색공정은, 색소 및 필요에 따라서 첨가되는 계면활성제를 물 또는 물과 유기용매와의 혼합물 중에 분산시켜 염색욕을 조제하고, 이 염색욕 중에 광학렌즈를 침지하고, 소정 온도에서 소정 시간 염색을 행한다. 염색온도 및 시간은, 소망한 착색 온도에 따라 변동하지만, 통상, 120℃ 이하에서 수분~수시간 정도가 되고, 염색욕의 염료 농도는 0.01~10중량% 정도에서 실시된다. 또한, 염색이 곤란한 경우는 가압하에서 행해도 된다. 필요에 따라서 실시되는 염색 후 어닐공정은, 염색된 렌즈 생지에 가열처리를 행하는 공정이다. 가열처리는, 염색공정에서 염색된 렌즈 생지의 표면에 남은 물을 용제 등으로 제거하거나, 용매를 건조하거나 한 후에, 예를 들면 대기분위기의 적외선 가열로, 혹은 저항 가열로 등의 로 중에 소정 시간 체류시킨다. 염료 후 어닐 공정은, 염색된 렌즈 생지의 색빠짐을 방지함과(색빠짐 방지처리) 동시에, 염색시에 렌즈 생지의 내부에 침지한 수분의 제거가 행해진다.
(b)의 방법은, 플라스틱 렌즈 소재에 직접 염색하는 것은 아니고, 색소를 분산 또는 용해한 유기 코팅액을 플라스틱 렌즈에 도포한 후, 경화처리하는 것에 의해, 염색된 코팅층을 렌즈 표면에 형성하는 방법, 혹은 플라스틱 렌즈 표면에 염색 가능한 코팅층을 형성한 후 (a)의 방법을 채용한다. 즉, 염색액 중에 플라스틱 렌즈를 침지하고, 가열하는 것에 의해 염색하는 방법이다.
(c)의 방법은, 플라스틱 렌즈의 원료 모노머에 미리 염료를 용해하고 나서 중합하는 방법이다. 사용하는 색소는 원료 모노머에 균일하게 용해 또는 광학적 성질을 손상하지 않을 정도로 분산할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다.
(d)의 방법의 예로서는, 이하의 (d1)~(d3)을 들 수 있다.
(d1) 고형 승화성 색소를 승화시켜 플라스틱 렌즈를 염색하는 방법,
(d2) 승화성 색소를 포함하는 용액을 도포하여 이루어지는 기체(基體)를 플라스틱 렌즈에 비접촉 상태에서 대향시켜, 기체 및 렌즈를 가열하는 것에 의해 염색하는 방법, 및
(d3) 승화성 색소를 함유하는 착색층과, 점착층으로 이루어지는 전사층을 플라스틱 렌즈에 전사한 후, 가열하는 것에 의해 염색하는 방법.
본 발명의 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학 렌즈에 관해서는, 어느 방법으로 염색하여도 된다. 사용하는 색소는 승화성을 가지고 있는 색소이면 특별히 한정되지 않는다.
또한 본 발명의 첨가제를 첨가하는 것에 의해, 수지 및 투명 부재의 굴절률의 향상을 도모할 수 있고, 이 첨가제를 포함하는 중합성 조성물로부터 얻어지는 수지 경화물 및 광학부재는, 굴절률 1.6 내지 1.8의 고굴절률로 할 수 있다.
본 발명에 있어서의 광학부품으로서는, 예를 들면, 시력 교정용 안경렌즈, 촬상기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프라넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 콘택트 렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈;
광학 다이오드(LED)용 봉지재;
광도파로;
광학렌즈나 광도파로의 접합에 이용되는 광학용 접착제;
광학렌즈 등에 이용되는 반사방지막;
기판, 도광판, 필름, 시트 등의 액정표시장치 부재에 이용되는 투명성 코팅 또는 투명성 기판 등을 들 수 있다.
실시예
이하, 제조예 및 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
(참조 제조예 1)
3-메르캅토티에탄의 합성(특허문헌 4(일본 특허공개공보 2003-327583호)에 기재된 방법)
교반장치와 온도계를 구비한 반응기 중에, 티오요소 190g(2.50몰), 35중량% 염산수 253g 및 물 250g을 장입하여 교반하여 반응액으로 했다. 반응액을 교반하면서, 반응액에 3-티에탄올 156g(1.73몰)을 1시간 걸려 적하했다. 적하 종료 후, 30℃에서 24시간, 교반하여 반응을 행한 후, 24중량% 암모니아수 177g을 1시간 걸려 적하했다. 또한, 30℃에서 15시간 반응을 행한 후, 정치하여 유기층(하층)을 꺼내어, 조생성물 134g을 얻었다. 얻어진 조생성물을 감압하에 증류하여, 비점 40℃/106Pa의 유분(留分)을 모아서, 무색 투명 액체의 목적물인 3-메르캅토티에탄을 얻었다.
(참조 제조예 2)
테트라키스(3-티에타닐티오)주석의 합성
참조 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 11.15g(0.105몰)을 순수 50g 중에 장입하고, 뒤이어, 10% NaOH 수용액 41.2g(0.103몰)을 실온하, 40분 걸려 적하 장입했다. 뒤이어, 반응액을 300℃까지 승온하고, 10% 사염화주석의 수용액 65.2(사염화주석 0.025몰에 상당)를 동 온도에서 4시간 걸려 적하 삽입했다. 적하 종료후, 동 온도에서 2시간 더 교반했다. 이 반응 혼합물에 클로로포름 100ml를 가하고, 유기층과 수층으로 분액했다. 유기층을 100ml의 순수로 2회 세정한 후, 무수 황산나트륨을 이용하여 건조했다. 이 추출물로부터 용매를 증류제거하여, 하기 화학식으로 표시되는 테트라키스(3-티에타닐티오)주석(13.4g)을 얻었다.
[화30]
Figure pct00030
(참조 제조예 3)
트리스(3-티에타닐티오)안티몬(III)의 합성
참조 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 71.3g(0.66몰)을 순수 106.9g 중에 장입하고, 15℃까지 냉각했다. 뒤이어, 30중량% NaOH 수용액 87.7g(0.66몰)을 1시간 걸려 적하 장입했다. 뒤이어, 20.0중량% 삼염화안티몬의 에탄올 용액 250.Og(삼염화안티몬 0.22몰에 상당)을 동 온도에서 2시간 걸려 적하 장입했다. 적하 종료후, 동 온도에서 2시간 더 교반했다.
이 반응에서 생성한 고형물을 취하여, 물 세정을 반복하여 부생한 염을 제거했다. 메탄올로 더 세정 후, 감압 건조했다.
건조 후의 반응 혼합물을 클로로포름 500g에 용해하고, 불용물을 여과하여 제거했다. 여액을 농축 후, 헥산을 더 장입하고, 석출물을 여과하여 취하고 더 감압 건조하여, 하기 화학식으로 표시되는 목적물 트리스(3-티에타닐티오)안티몬(III)(87.6g；수율 91%)을 얻었다.
[화 31]
Figure pct00031
(제조예 1)
[화32]
Figure pct00032
반응기에 1,2-에탄디티올(54g, 시판품), 탈기수(182g)를 장입 후, 냉각(8℃)하에 31% 수산화나트륨 수용액(148g), 탈기수(100g)를 적하했다. 또한, 동 온도에서, 24% 염화주석(IV) 수용액(313g)을 2시간 걸려 적하 장입했다. 생성한 석출물을 여과하여 수집하고, 수세 및 메탄올 세정을 행하여 조체(213g)를 얻었다. 조체에 10중량배의 클로로포름을 가하여 가열 용해 후, 불용물을 여과로 제거했다.
얻어진 여액을 농축 후, 헥산을 장입하여 석출물을 여과하여 취한 후에, 감압 건조하여 목적물 83g(수율 95%)을 얻었다.
Figure pct00033
(제조예 2)
[화33]
Figure pct00034
반응기에 1,2-에탄디티올(10g, 시판품), 삼산화안티몬(5g)을 장입 후, 아세트산(0.5g)을 더 장입했다. 400℃로 승온하여 4시간 더욱 더 700℃에서 2시간 반응을 행했다. 반응 혼합물을 냉각 후, 클로로포름을 가하여 정석을 행하여, 석출물을 여과하여 수집, 감압 건조하여 목적물 8.6g(수율 96%)을 얻었다.
Figure pct00035
(제조예 3)
[화34]
Figure pct00036
반응기에 1,2-에탄디티올(20.5g；시판품), 에탄올(100ml)을 장입 후, 냉각(5~10℃)하에 28% 나트륨메톡시드메탄올 용액(79.5g)을 적하했다. 또한 동일한 온도에서, 4염화게르만(IV)(21g)-에탄올 용액을 적하 장입했다. 생성한 석출물을 여과하여 수집, 수세 후, 클로로포름에 용해하여 불용물을 여과로 제거했다. 얻어진 여액을 농축 후, 헥산을 장입하여 석출물을 여과하여 취하고, 감압 건조하여 목적물 20g(수율 77%)을 얻었다.
Figure pct00037
(제조예 4)
[화35]
Figure pct00038
반응기에 1,2,3-프로판트리티올(16.2g), 클로로포름(200g)을 장입 후, 트리스(3-티에타닐티오)안티몬(III)(50g)의 클로로포름(200g) 용액을 20℃에서 적하했다. 석출물을 여과하여 수집, 감압 건조하여 목적물 28.8g(수율 93%)을 얻었다.
Figure pct00039
(제조예 5)
[화36]
Figure pct00040
반응기에 1,2,3-프로판트리티올(10.2g), 3산화안티몬(5g), 또한 아세트산(1g)을 장입했다. 서서히 승온하여 70℃에서 2시간 반응을 행했다. 또한, 3산화안티몬(5g)을 추가하여, 70℃에서 2시간 반응을 행했다. 반응 혼합물을 냉각 후, 메탄올을 가하여 현탁 후, 여과하여 수집, 감압 건조하여 목적물 16.4g(수율 92%)을 얻었다.
Figure pct00041
이하의 실시예에서 얻어진 성형체(광학 렌즈)의 물성 평가는, 하기의 방법에 의해 행했다.
투명성：슬라이드 프로젝터를 이용하여 육안에 의해 투명성을 확인했다.
굴절률：프루프리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.
내열성：TMA 투과법
(실시예 1-A1)
제조예 1에서 얻어진 화합물(0.5g)을, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(2.0g)에 20℃에서 용해 후, 더욱 더 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과의 혼합물(2.3g)를 혼합하여, 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 감압하에서 10분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~120℃까지 24시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 1에 나타낸다.
(실시예 1-A2~1-A6)
표 1의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 1-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 1에 나타낸다.
(실시예 1-B1)
4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(2.0g)과 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과의 혼합물(2.3g)에, 20℃에서, 제조예 2에서 얻어진 화합물(0.25g)을 첨가, 용해하여 균일한 용액(중합성 조성물)을 얻었다. 이 용액을 감압하에서 10분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~120℃까지 24시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 1에 나타낸다.
(실시예 1-B2~1-B3)
표 1의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 1-B1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 1에 나타낸다.
(비교예 1)
제조예 1 또는 2에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고, 중합 촉매로서 디부틸주석디클로라이드를 이소시아네이트 화합물에 대해서 230ppm으로 되도록 첨가한 것 이외는, 실시예 1-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00042
(실시예 2-A1)
5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 및 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물(0.4g)과 비스(2,3-에피티오프로필)디설판(5.0g)의 혼합물에, 제조예 1의 화합물(0.5g)를 첨가, 용해했다. 이것에, N,N-디시클로헥실아민(에피티오 화합물에 대해서 1000ppm)을 용해시킨 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 및 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물(0.1g)을 혼합하여 균일한 용액을 얻었다. 이 용액을 400Pa로 10분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 30℃~80℃까지 24시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 2에 나타낸다.
(실시예 2-A2~2-A3)
표 2의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 2-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 2에 나타낸다.
(실시예 2-B1~2-B6)
제조예 1의 화합물을 제조예 2의 화합물로 변경하여, 표 2의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 2-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 2에 나타낸다.
(비교예 2)
제조예 1 또는 2에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고, 표 2의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 2-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00043
(실시예 3-A1)
N,N-디시클로헥실아민(13mg), 3-메르캅토티에탄(0.7g), 비스(3-티에타닐)디설피드(1.04g), 제조예 1의 화합물(1.0g)을 혼합하여 70℃로 가열 용해하여, 균일 용액을 얻었다. 이 용액을 400Pa로 10분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 80℃~120℃까지 32시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 3에 나타낸다.
(실시예 3-A2~3-A7)
표 3의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 3-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 3에 나타낸다.
(비교예 3-1~3-4)
제조예 1의 화합물을 이용하지 않고, 표 3의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 3-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 3에 나타낸다.
Figure pct00044
(실시예 4-A1)
제조예 1의 화합물(0.1g)을 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(1.0g)에 20℃에서 용해 후, 또한 세록사이드2021P[(다이셀화학사제)：(3',4'-에폭시시클로헥산)메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트](1.5g)를 혼합하여, 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 400Pa로 10분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 40℃~120℃까지 20시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 4에 나타낸다.
(실시예 4-A2~4-A4)
표 4의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 4-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 4에 나타낸다.
(실시예 4-B1~4-B2)
제조예 1의 화합물을 제조예 2의 화합물로 변경하여, 표 4의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 4-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 4에 나타낸다.
(비교예 4)
제조예 1 또는 2에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고, 표 4의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 4-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 4에 나타낸다.
Figure pct00045
(실시예 5-A1)
3-메르캅토티에탄(1.0g), 테트라키스(3-티에타닐티오)주석(3.0g), 제조예 1의 화합물(1.7g)를 혼합하여 70℃로 가열 용해하여, 균일 용액을 얻었다. 이 용액을 400Pa로 10분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 80℃~120℃까지 12시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 5에 나타낸다.
(실시예 5-B1)
제조예 1의 화합물을 제조예 2의 화합물로 변경하여, 표 5의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 5-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 5에 나타낸다.
(비교예 5-1~5-2)
제조예 1 또는 2에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고, 표 5의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 5-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 5에 나타낸다.
Figure pct00046
(실시예 6-A1)
표 6에 기재된 조성비로 되도록 제조예 1의 화합물을, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄에 20℃에서 용해하여, 굴절률(nD)을 측정했다. 얻어진 물성치를 표 6에 나타낸다.
(실시예 6-A2)
표 6의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 6-A1과 동일하게 혼합 용액을 제조하여, 굴절률(nD)을 측정했다. 얻어진 물성치를 표 6에 나타낸다.
(실시예 6-B1~6-B2)
제조예 1의 화합물을 제조예 2의 화합물로 변경하여, 표 6의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 6-A1과 동일하게 혼합 용액을 제조하여, 굴절률(nD)을 측정했다. 얻어진 물성치를 표 6에 나타낸다.
(비교예 6)
제조예 1의 화합물을 이용하지 않고, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄만으로 한 것 이외는, 실시예 6-A1과 동일하게 용액을 제조하여, 굴절률(nD))을 측정했다. 얻어진 물성치를 표 6에 나타낸다.
Figure pct00047
(실시예 7-A1)
제조예 3에서 얻어진 화합물(3중량부)을, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(48.5중량부)에 용해 후, 더욱 더 중합 촉매로서 디부틸주석디클로라이드(70ppm), m-크시릴렌디이소시아네이트(48.5중량부)를 혼합하여, 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 감압하에서 5분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~120℃까지 20시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 7에 나타낸다.
(실시예 7-A2~7-A3)
표 7의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 7-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 7에 나타낸다.
(비교예 7)
제조예 3에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고 표 7의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 7-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 7에 나타낸다.
Figure pct00048
(실시예 8-A1)
제조예 1에서 얻어진 화합물(5중량부)을, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 및 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물(47중량부)에 용해 후, m-크시릴렌디이소시아네이트(48중량부)를 혼합하여, 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 감압하에서 5분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃~120℃까지 20시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 8에 나타낸다.
(비교예 8)
제조예 1에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고 중합 촉매로서 디부틸주석디클로라이드를 50ppm으로 되도록 첨가하여, 표 8의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 8-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 8에 나타낸다.
Figure pct00049
(실시예 9-A1)
제조예 1에서 얻어진 화합물(5중량부)을, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판 및 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄의 혼합물(53중량부)에 20℃에서 용해 후, 더욱 더 m-크시릴렌디이소시아네이트(42중량부)를 혼합하여, 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 감압하에서 5분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 35℃~100℃까지 34시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 9에 나타낸다.
(실시예 9-B1)
제조예 3에서 얻어진 화합물(4중량부)을, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판 및 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 및 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄의 혼합물(54중량부)에 용해 후, 더욱 더 중합 촉매로서 디부틸주석디클로라이드(60ppm)를 포함하는 m-크시릴렌디이소시아네이트(42중량부)를 혼합하여, 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 감압하에서 5분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 35℃~100℃까지 34시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 9에 나타낸다.
(실시예 9-B2~9-B4)
표 9의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 9-B1와 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 9에 나타낸다.
(비교예 9)
제조예 1 또는 3에서 얻어진 화합물을 이용하지 않았던 이외는, 실시예 9-B1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 9에 나타낸다.
Figure pct00050
(실시예 10-A1)
N,N-디메틸시클로헥실아민(에피티오 화합물에 대해서 80ppm) 및 N,N-디시클로헥실메틸아민(에피티오 화합물에 대해서 400ppm)을 용해시킨 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 및 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물(9중량부)과 비스(2,3-에피티오프로필)디설판(85중량부)의 혼합물에, 제조예 3의 화합물(6중량부)을 첨가, 용해하여 균일한 용액을 얻었다. 이 용액을 400Pa로 5분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 30℃~80℃까지 33시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 10에 나타낸다.
(실시예 10-A2)
표 10의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 10-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 10에 나타낸다.
(비교예 10)
제조예 3에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고, 표 10의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 10-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 10에 나타낸다.
Figure pct00051
(실시예 11-A1)
3-메르캅토티에탄(18중량부), 테트라키스(3-티에타닐티오)주석(73중량부), 제조예 3의 화합물(9중량부)을 혼합하여 70℃로 가열 용해하여, 균일 용액을 얻었다. 이 용액을 400Pa로 5분간 탈포를 행한 후, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 70℃~130℃까지 68시간 걸려 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료후, 오븐으로부터 몰드형을 꺼내어, 이형하여 성형체를 얻었다.
얻어진 성형체의 물성치를 표 11에 나타낸다.
(실시예 11-A2~11-A3)
표 11의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 11-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 11에 나타낸다.
(실시예 11-B1~11-B3)
제조예 3의 화합물을 제조예 4의 화합물로 변경하여, 표 11의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 11-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 11에 나타낸다.
(비교예 11)
제조예 3 또는 4에서 얻어진 화합물을 이용하지 않고, 표 11의 조성으로 한 것 이외는, 실시예 11-A1과 동일하게 혼합 용액 및 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 물성치를 표 11에 나타낸다.
Figure pct00052

Claims (23)

  1. 하기 일반식(a)로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 조성물용 첨가제.
    [화1]
    Figure pct00053

    (일반식(a) 중, R은 탄소수 1~3의 포화 탄화수소기를 나타낸다. M은 Sn, Sb, Bi 또는 Ge를 나타낸다. m은 0 또는 1을 나타낸다. m이 0일 때 R과 M은 직접 결합하지 않는다. n은 1~3의 정수를 나타낸다. X는 1가의 결합기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 각각 동일하더라도 다르더라도 된다. 금속 원자 M에 2 이상의 결합기 X가 결합하고 있는 경우는, 결합기 X끼리가 공동하여 환을 형성하고 있어도 된다.)
  2. 제 1항에 있어서, 상기 일반식(a)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(1)로 표시되는 중합성 조성물용 첨가제.
    [화2]
    Figure pct00054

    (일반식(1) 중, M은 Sn, Sb 또는 Bi를 나타낸다. R은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. n, X는 상기 일반식(a)와 동일하다.)
  3. 제 2항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(2) 또는 (3)으로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화3]
    Figure pct00055

    (일반식(2) 또는 (3) 중, R 및 X는 일반식(1)과 동일하다. 일반식(2) 중, 2개의 결합기 X에 의해 환을 형성하고 있어도 된다. 일반식(3) 중, M'는 Sb 또는 Bi를 나타낸다.)
  4. 제 2항 또는 제 3항에 있어서, R은 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기인, 중합성 조성물용 첨가제.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 일반식(2)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(4) 또는 (5)로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화4]
    Figure pct00056

    (일반식(4) 중, R2 및 R3은, 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. 일반식(5) 중, A는 환구조를 나타낸다.)
  6. 제 5항에 있어서, 상기 일반식(5)의 화합물은, 하기 일반식(5a) 또는 (5b)로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화5]
    Figure pct00057

    (일반식(5a) 및 (5b) 중, R은 일반식(1)과 동일하다. 일반식(5b) 중, R4 및 R5는 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.)
  7. 제 6항에 있어서, 상기 일반식(5a)로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화6]
    Figure pct00058
  8. 제 4항에 있어서, 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(6)으로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화7]
    Figure pct00059

    (일반식(6) 중, M'는 Sb 또는 Bi를 나타내고, R1은, 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다.)
  9. 제 8항에 있어서, M'가 Sb인, 중합성 조성물용 첨가제.
  10. 제 9항에 있어서, 상기 일반식(6)으로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화8]
    Figure pct00060
  11. 제 1항에 있어서, 상기 일반식(a)로 표시되는 화합물이 이하의 일반식(9)로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화9]
    Figure pct00061

    (일반식(9) 중, R은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. X는 일반식(a)와 동일하다.)
  12. 제 11항에 있어서, 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물이, 이하의 일반식(10) 또는 (11)로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화10]
    Figure pct00062

    (일반식(10) 중, R6 및 R7은, 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기를 나타낸다. 일반식(11) 중, B는 환구조를 나타낸다.)
  13. 제 12항에 있어서, 상기 일반식(11)의 화합물은, 하기 일반식(11a) 또는 (11b)로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화11]
    Figure pct00063

    (일반식(11a) 및 (11b) 중, R은 일반식(9)와 동일하다. 일반식(11b) 중, R8 및 R9는 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, 각각 동일하더라도 다르더라도 된다.)
  14. 제 13항에 있어서, 상기 일반식(11a)로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화12]
    Figure pct00064
  15. 제 1항에 있어서, 상기 일반식(a)로 표시되는 화합물이 하기 화학식으로 표시되는, 중합성 조성물용 첨가제.
    [화13]
    Figure pct00065
  16. 제 1항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물용 첨가제가 배합된, 중합성 조성물.
  17. 제 16항에 있어서, 티올 화합물이 더 배합된, 중합성 조성물.
  18. 제 17항에 있어서, 상기 티올 화합물은, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는, 중합성 조성물.
  19. 제 18항에 있어서, 중합성 화합물이 더 배합된, 중합성 조성물.
  20. 제 19항에 있어서, 상기 중합성 화합물이, 이소시아네이트 화합물, 에피설피드 화합물, 에폭시 화합물 및 티에탄 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는, 중합성 조성물.
  21. 제 16항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
  22. 제 21항에 기재된 수지를 포함하는 투명 부재.
  23. 제 22항의 투명 부재로 이루어지는 광학 부품.
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