KR20090083281A - 액처리장치 - Google Patents

Abstract

기판의 위쪽으로 이동이 가능하도록 구성된 도포액 노즐(10)을 반송하는 노즐반송기구에 배치된 도포액 공급부로부터 공급되는 도포액의 유로(105)를 형성한 대략 투명한 부재로 형성되는 통형상체의 도포액 노즐(10)을 설치한다. 이 도포액 노즐(10)의 통형상체의 바깥둘레의 일부에 조명광을 입광시키는 부분으로서의 평탄형상으로 형성된 입광면(D컷면)(101a)을 설치하고, 이 입광면에 조명광을 입사시켜 도포액의 유로를 비추는 것에 의해, 도포액 노즐(10) 내부의 도포액 상태의 확인 조정을 행하기 쉽게 한다.

Description

액처리장치{LIQUID PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 예를 들면 반도체 웨이퍼나 액정 디스플레이용 유리 기판(LCD 기판)과 같은 기판에 대해서, 도포액 노즐로부터 레지스트액이나 현상액 등의 도포액을 도포하는 액처리장치에 관한 것이다.

반도체 디바이스나 LCD 기판의 제조 프로세스의 하나인 기판상에 레지스트 패턴을 형성하는 공정은, 기판 예를 들면 반도체 웨이퍼(이하, 웨이퍼라고 한다.)에 레지스트막을 형성하고, 포트마스크를 이용하여 이 레지스트막을 노광한 후, 현상 처리를 행하는 것에 의해 원하는 패턴을 얻는 일련의 공정에 의해 이루어지며, 이들 일련의 공정은 종래로부터 도포, 현상장치에 의해서 이루어지고 있다.

이 도포, 현상장치는, 레지스트액의 도포를 행하는 도포 유닛, 노광후의 웨이퍼에 현상액을 도포하는 현상 유닛 등의 액처리장치를 구비하고 있으며, 높은 스루풋(throughput)을 확보하기 위해서, 이들 도포 유닛이나 현상 유닛 등을 각각 복수 구비한 구성으로 되어 있다.

예를 들면 도포액으로서 레지스트액을 도포하는 도포 유닛에서는, 기판 유지 부인 스핀척의 주위를 둘러싸도록 컵체가 설치되어 있으며, 이 스핀척에 유지된 웨 이퍼의 대략 중앙에 레지스트액을 공급하여 스핀척을 회전시키는 것에 의해 레지스트액의 스핀 코팅이나 스핀내기 건조, 사이드 린스 등의 처리가 더 이루어지도록 되어 있다.

웨이퍼에의 레지스트액의 공급은, 공급 유닛으로부터 공급된 레지스트액을 노즐(도포액 노즐)로부터 토출되는 것에 의해서 이루어진다. 그리고 이 노즐은, 웨이퍼의 반출입동작에 방해가 되지 않도록 통상적으로는 웨이퍼의 반출입경로에서 떨어진 위치에 대기시키고, 레지스트액을 토출할 때에만 스핀척에 유지된 웨이퍼 중앙까지 반송하는 구성으로 되어 있는 경우가 많다.

노즐을 웨이퍼상으로 반송하고 나서 바로 레지스트액의 토출을 개시하기 위해서는, 노즐의 선단 근방까지 레지스트액을 채워 둘 필요가 있다. 그런데, 이러한 상태에서 노즐을 반송하면, 반송 도중의 목적 외의 위치에서 레지스트액이 적하해 버리는 경우가 있다. 그 결과, 예를 들면 웨이퍼의 둘레가장자리부에 레지스트액이 적하하고, 이것을 알지 못한 채로 웨이퍼 중앙부에서 레지스트액을 토출하여 스핀 코팅을 행하면 불균일한 막두께의 레지스트막이 형성되어 버려 노광 불량 등의 원인이 된다. 또한, 스핀척상에 레지스트액이 적하하면, 스핀척의 흡착력이 저하해 버리는 경우도 있다.

이러한 문제점에 대해서는, 노즐에의 레지스트액의 공급 경로의 도중에, 흡인실을 가진 흡인 밸브를 설치하여, 레지스트액을 토출하지 않을 때에는 진공압 등에 의해서 이 흡인실을 확장시켜 부압을 일으켜, 레지스트액의 선단면을 노즐의 선단부로부터 밀어 넣는 것에 의해 적하를 방지하고 있다.

그러나, 레지스트액속의 용존기체로부터 기포가 형성되거나, 클린룸내의 온도 변화에 의해서 기포나 레지스트액이 팽창하거나 함으로써, 밀어 넣은 레지스트액의 선단면이 다시 밀려 나와 버리는 경우도 있어, 목적외의 위치에서의 레지스트액의 적하를 완전하게 방지하는 것은 곤란하다.

또한 최근, 부품 종류의 삭감이나 경량화를 목적으로 하여, 도포, 현상장치에 복수 조립되어 있는 동종의 액처리장치의 부품의 공통화가 검토되고 있다. 이러한 취합의 일례로서 예를 들면 1개의 틀체내에 복수조의 스핀척이나 컵체(이하, 액처리부라고 한다)를 직렬로 배치하고, 이들에 공통되는 노즐 아암을 사용하여 공통 노즐을 이동시키고, 각 스핀척상의 웨이퍼에 레지스트액을 공급하는 타입의 도포 유닛이 검토되고 있다. 그런데 이러한 구성의 도포 유닛은, 공통 노즐의 이동거리(이동 시간)가 길고, 그 만큼, 이동중에 레지스트액을 적하해 버릴 확률도 높고, 공통으로 이동하기 때문에 미사용의 노즐이 건조하여 레지스트의 고착을 일으킬 가능성도 있다. 진동에 의해 레지스트액이 자연 적하를 일으킬 가능성도 또한 부정할 수 없다.

이러한 경우를 상정하여 특허문헌 1, 특허문헌 2에는, 카메라를 사용하여 노즐의 선단부의 상태를 감시하는 기술이 게재되어 있다. 이들 특허문헌 1, 2에 기재되어 있는 카메라는, 모두 웨이퍼에 레지스트액을 공급하고 있는 동안에, 혹은 그 직전 직후의 노즐 선단부의 화상 정보를 취득하여, 화상 정보를 해석하도록 하는 기술이지만, 화상 정보를 취득할 때에, 보다 정확하게 읽어내기 위한 수단으로서 조명수단에 대해서는 기재가 없다.

[특허문헌 1] 일본특허공개공보 평성11-176734호:(도 1)

[특허문헌 2] 일본특허공개공보2003-136015호:(도 6)

그런데, 근래의 레지스트액의 토출량은 적고, 그에 따라 레지스트액이 토출하기 위한 노즐도 소경화되는 경향이 있지만, 노즐 자체는 유지보수시의 다소의 물리적 접촉이 있어도 손상하지 않는 강도를 유지하도록 형성되어 있다. 이러한 경우의 레지스트 유로를 형성하는 부분에서 노즐 선단 이외는 두꺼운 노즐 형상이 된다. 이 두껍게 구성된 부분이 있기 때문에 유지보수할 때에는 레지스트 유로내의 레지스트액 상태나 레지스트 토출 완료후의 흡인의 위치 및 상태의 정확한 시각적인 확인에 의해 최적의 조정을 해야 하는데, 하기가 어렵다. 또한, 근래의 장치는 공간을 절약하는 구조를 채택하여 세로 방향에의 적층화가 진행되고 유지보수를 위한 공간도 좁아 시각적인 확인을 하기가 어렵다. 그 때문에 촬상수단을 구비하는 것도 필요하며, 단순히 노즐을 향해서 조명을 비추는 것만으로는 노즐 내부의 레지스트액의 위치를 정확하게 읽기가 어려워지고 있다.

본 발명의 목적은, 시각적인 조정을 행하는 경우에도 보다 정확한 레지스트 상태를 조정하는 경우의 수단을 제공하는 것이며, 기판상에 도포액을 공급하는 도포액 노즐 선단 내부의 흡인량의 상태나 토출후의 선단 상태 및 오염 정도 등의 상태를 정확하게 파악하기 위한 수단을 제공한다. 또한, 이 목적은, 촬상수단을 사용한 경우에도 도포액 노즐 내부 상태를 정확하게 파악할 수 있는 수단을 제공한다.

본 발명의 어느 시점에 의하면, 기판유지부에 대략 수평으로 유지된 기판의 표면에, 도포액 공급부로부터 도포액을 공급하여 상기 기판의 표면을 향하여 토출시켜 도포막을 형성하는 액처리를 하는 액처리장치에 있어서, 상기 도포액 공급부로부터 공급되는 도포액의 유로를 형성한 대략 투명한 부재로 형성되는 통형상체의 도포액 노즐과, 상기 기판유지부에 유지된 기판의 위쪽으로 이동이 가능하도록 구성된 상기 도포액 노즐을 반송하는 노즐반송기구와, 상기 노즐반송기구에 설치되어 대략 투명한 부재로 도포액의 유로를 구성한 통형상체의 도포액 노즐과, 상기 도포액 노즐의 내부에 조명광을 입사시키기 위한 광원을 구비하고, 상기 도포액 노즐은, 통형상체의 바깥둘레의 일부에 상기 조명광을 입광시키는 부분으로서의 평탄형상으로 형성된 입광면을 가지고 있다.

이 경우, 상기 노즐반송기구에 상기 도포액 노즐을 복수 설치해도 좋다. 한편, 이 경우, 상기 복수의 도포액 노즐의 각각에 설치되는 상기 입광면에는, 각각에 상기 광원이 접속되도록 해도 좋다.

이렇게 구성하는 것에 의해서, 도포액 노즐 내부의 유로를 도포액 노즐 내부로부터 비출 수 있으므로, 도포액 노즐의 내부의 처리액 유로의 예를 들면, 레지스트액의 흡인 위치나 흡인량 상태나 도포액 노즐 선단의 레지스트액의 상태 등을 정확하게 확인할 수 있다.

상기 도포액 노즐의 일부의 표면 바깥쪽에서 상기 입광면과 연결되는 통형상 부분은, 상기 입광면으로부터 입사되는 빛을 상기 도포액 노즐의 내부에서 하향으 로 변환하여 도포액 노즐의 선단으로 출사시키기 때문에 내부를 향하여 반사하기 위한 반사 피막이 입혀져 있어도 좋다.

이렇게 구성하는 것에 의해서, 도포 노즐에 입광한 빛을 확실하게 도포액 노즐의 내부를 통과하는 아래를 향하는 빛으로 편향할 수 있다.

상기 도포액 노즐은, 상기 광원으로부터 상기 도포액 노즐을 향해서 상기 조명광을 도광하기 위한 도광부재를 구비하고, 이 도광부재를 상기 입광면과 접속해도 좋다. 복수의 도포액 노즐을 구비하는 경우는, 복수의 도포액 노즐과 상기 광원의 사이에, 하나의 도광부재를 갖거나, 혹은, 각각 광원으로부터의 조명광을 도광하는 복수의 도광부재를 가지는 구성으로 해도 좋다.

이와 같이 도광부재를 구성하는 것에 의해, 복수의 도포액 노즐에 대해서 하나의 광원에 의해서도 조명광을 각각의 도포액 노즐에 입사시킬 수 있다. 또한, 도광부재를 복수로 하는 것에 의해, 비출 필요가 없는 도포액 노즐의 광원을 점등시키지 않아도 되므로, 선택적으로 광원을 사용할 수 있다.

상기 노즐반송기구는, 도포액 노즐 내외의 도포액의 상태와 도포액 노즐로부터 토출되는 도포액의 상태를 촬상하는 촬상수단을 구비하고, 상기 촬상수단으로 촬상을 행할 때에는, 상기 복수의 도포액 노즐중에서 상기 기판에 도포액을 토출할 때에 사용하는 상기 도포액 노즐에 입광시키는 광원을 포함한 어느 하나의 광원을 점등시켜도 좋다.

이러한 구조로 촬상수단을 조합하는 것에 의해, 촬상수단에 의해서 얻어지는 화상 데이터의 명암이 세밀하게 되어 결과적으로 화상 데이터의 정확성이 향상하게 된다. 이로부터, 시각적인 점검뿐만 아니라 촬상수단에 의한 정확한 도포액 노즐 상태를 파악함으로써 자동화를 하기 위한 화상 처리 데이터로서 이용하기 쉬워진다.

상기 노즐반송기구에 의해서 이동된 상기 도포액 노즐로부터 도포액을 더미 디스펜스(dummy dispense)하기 위한 노즐 배스(nozzle bath)를 구비하고, 상기 촬상수단에 의한 촬상은, 상기 노즐 배스로 행하기로 하여도 좋다.

이렇게 구성함으로써, 더미 디스펜스를 행하는 위치에서 차례로 조명을 점등시켜 토출전, 토출중, 토출후의 도포액 노즐의 상태나 도포액 노즐 내부에서의 처리액의 토출 전후의 상태나 액선단 위치 등을 확인할 수 있다.

본 발명에 의하면, 좁고 어슴푸레한 공간에 설치된 도포 처리의 처리액 노즐 선단부의 둘레의 상태를 정확하게 파악할 수 있어 소정의 대응을 행함으로써, 처리액의 상태에 기인한 도포 막두께의 균일성에 관련된 장애를 미연에 해소하는 것이 가능하다. 또한, 처리중에 발생할 가능성이 있는 액 흘림에 대한 문제를 정확하게 파악하는 것에 의해 조기에 처치하는 것이 가능해진다. 또한, 기판에 도포되는 처리액의 상태를 확인할 수 있다.

본 발명의 실시형태와 관련된 액처리장치를, 웨이퍼에 레지스트액을 도포하는 도포 유닛에 적용한 실시형태에 대하여 설명한다. 먼저 실시형태와 관련된 도포 유닛의 구성의 개요를 설명한다. 도 1A는 도포 유닛(1)의 개략 평면도이고, 도 1B 는 그 종단면도이다. 또한 도 2는, 도포 유닛(1)내의 액처리부(2)와, 이 액처리부 (2)에 도포액을 공급하는 공급 유닛(7)의 관계를 도시한 구성도이다.

도 1A, 1B에 도시한 바와 같이, 본 실시형태와 관련된 도포 유닛(1)은, 편평한 상자모양의 틀체(30)내에, 가로 방향(도면중의 Y방향)에 일렬로 배열된 3개의 액처리부(2a,2b,2c)와, 이들 액처리부(2a,2b,2c)에 레지스트액이나 시너 등의 도포액을 공급하는 복수개의 노즐(10)과, 이 노즐(10)을 반송하기 위한 노즐반송기구 (10a)와, 노즐(10)을 대기시키는 노즐 배스(14)와, 웨이퍼(W)에 도포된 레지스트막의 둘레가장자리부를 제거하기 위한 엣지·비드·리무버(Edge Bead Remover:EBR) 기구(6)를 구비하고 있다.

액처리부(2)(2a,2b,2c)는, 공통의 구성을 구비하고 있으며, 기판유지부로서의 스핀척(41)과, 이 스핀척(41)에 유지되어 웨이퍼(W)를 둘러싸도록 설치된 컵체 (5)를 구비하고 있다. 이하, 액처리부(2)의 구성에 대하여 설명한다.

스핀척(41)은, 웨이퍼(W)의 이면측 중앙부를 흡인 흡착하여 수평으로 유지하기 위한 기판유지부로서의 역할을 완수한다. 도 2에 도시한 바와 같이 스핀척(41)은 축부(42)를 개재하여 구동기구(스핀척 모터)(43)에 연결되어 있으며, 웨이퍼(W)를 유지한 상태로 회전 및 승강이 자유롭도록 구성되어 있다. 스핀척(41)의 측방에는, 승강기구(44a)에 연결된 승강 핀(44)이 웨이퍼(W)의 이면을 지지하여 승강이 가능하도록 설치되어 있으며, 후술하는 반송수단(반송아암(A3))과의 협동 작용에 의해서 틀체(30)의 외부로부터 반입되어 온 웨이퍼(W)의 받아넘김을 행할 수 있도록 되어 있다. 한편 도 1A에 도시한 30a는, 반송수단을 향하는 틀체(30) 벽면에 형 성된 웨이퍼(W)의 반출입구이다.

컵체(5)는, 스핀 코팅 등을 할 때에 웨이퍼(W)를 회전시키는 것에 의해서 비산한 미스트가 틀체(30)내에 흩날리는 것을 억제하여 도포 유닛(1) 외부로 배출하는 역할을 완수한다. 컵체(5)는, 도너츠 형상의 외관을 구비하고 있으며, 그 내부는 도 2에 도시한 바와 같은 구조가 되어 있다.

컵체(5)의 내부 구조를 설명하면, 도너츠 형상의 컵 본체(50)의 내부에는, 도 2에 도시한 바와 같이 경사진 링형상의 제1 링 부재(51)와 제2 링 부재(52)가 설치되어 있으며, 이들 링 부재(51,52) 사이의 틈에는, 웨이퍼(W)로부터 비산한 미스트를 포함한 기체가 통류(通流)하는 기체유로(51a)가 되어 있다. 또한 제2 링 부재(52)는, 스핀척(41)에 유지된 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부 하방에 위치하도록 부착되어 있으며, 그 상면이 「∧자」형상으로 굴곡되어 있다. 이 제2 링 부재(52)의 외단면에는, 컵 본체(50) 저부의 액받이부(54)에 진입하도록 아래쪽으로 뻗는 단판 (53)이 설치되어 있다. 이에 따라 웨이퍼(W)로부터 비산한 레지스트액의 일부는 드레인으로서 제2 링 부재(52) 및 단판(53)의 표면을 따라 액받이부(54)로 안내되도록 되어 있다.

컵 본체(50)의 하부측은 액받이부(54)로 되어 있으며, 그 저부에는 컵체(5)내를 통류한 기류를 배기하기 위한, 예를 들면 2개의 배기 포트(55)와, 액받이부 (54)에 고인 레지스트액의 드레인을 배출하기 위한 드레인 포트(56)가 설치되어 있다. 배기 포트(55)는 도시하지 않은 배기 덕트에 접속되어 있으며, 또한 각 액처리부(2a,2b,2c)의 배기 포트(55)와 접속된 배기 덕트는 틀체(30) 밖에서 배기용력 설 비에 접속되어 있다.

여기서 배기 포트(55)는, 도 2에 도시한 바와 같이 액받이부(54)내의 위쪽으로 연신되고 있으며, 액받이부(54)로부터 배기 포트(55)에의 드레인의 넘처흐름을 방지하기 위한 넘처흐름 방지벽(54a)을 구성하고 있다. 또한 드레인 포트(56)나 도시하지 않은 드레인관에 접속되어 있으며, 드레인을 도포 유닛(1) 외부로 배출할 수 있도록 되어 있다.

또한 도 1B에 도시한 바와 같이, 컵체(5)와 대향하는 틀체(30)의 천정부에는 필터 유닛(31)이 부착되어 있으며, 필터 유닛(31)으로부터 예를 들면 청정 공기를 소정 유량으로 공급함으로써, 틀체(30)내에 청정 공기의 하강류가 형성되도록 되어 있다. 청정 공기의 일부는, 틀체(30)내에 설치된 도시하지 않은 배기부로부터 배기되지만, 나머지 청정 공기는 컵체(5)내에 받아들여져 도 2의 컵체(5) 단면도내에 화살표로 도시한 바와 같은 기류를 형성하여 배기 포트(55)로부터 배출되도록 되어 있다.

다음에, 도포액 노즐(10)(이하, 노즐(10)이라고 한다) 및 그 반송기구의 구성에 대하여 설명한다. 노즐(10)은, 스핀척(41)에 유지된 웨이퍼(W) 표면에 레지스트액을 공급하는 역할을 완수한다. 도 3A는, 노즐(10)과 이 노즐(10)을 유지하는 노즐 아암(11)의 상세한 구성을 도시한 사시도이다. 본 실시형태와 관련된 도포 유닛(1)은, 예를 들면 농도나 성분이 다른 10종류의 레지스트액과 웨이퍼(W)상에서, 레지스트액을 퍼지기 쉽게 하기 위한 시너(이하, 이들을 총칭하여 도포액이라고 한다)를 공급할 수 있도록, 11개의 노즐(10)을 구비하고 있다. 도 3A에 도시한 바와 같이, 대략 투명한 부재이면 좋고 각 노즐(10)(도 3A-3C에 있어서, 부호 1∼11을 부여하여 설명한다)은 석영이나 투명 혹은 반투명인 수지로 형성된, 예를 들면, 펜 끝과 같은 형상을 한 통형상체로서, 그 기부를 노즐 아암(11)의 노즐 헤드부(11a)에 부착할 수 있도록 되어 있다. 각 노즐(10)의 내부에는 유로가 형성되어 있고, 노즐 아암(11)측으로부터 공급된 도포액을 노즐(10)의 선단부로부터 웨이퍼(W)를 향하여 토출할 수 있도록 되어 있다. 한편 도 1A 및 도 2에서는 도시의 편의상 노즐(10)의 갯수를 생략하여 도시하고 있다.

도 1A에 도시한 바와 같이, 노즐반송기구(10a)는 노즐(10)을 유지하는 노즐 아암(11)과, 이 노즐 아암(11)을 지지하는 기대(12)와, 기대(12)의 주행 궤도를 이루는 레일(13)과, 레일(13)상에서 기대(12)를 이동시키는 기구로 구성되어 있다.

도 3A-3C에 도시한 바와 같이 노즐 아암(11)은, 11개의 노즐(10)을 유지 하는 노즐 헤드부(11a)와, 이 노즐 헤드부(11a)를 지지하는 아암부(11b)로 구성되어 있다. 노즐 헤드부(11a)의 선단부 하면에는, 상술한 노즐(10)의 기부를 끼워 넣을 수 있는 형상으로 되어 있으며, 노즐(10)의 기부를 꽂아 넣는 것만으로 각각의 노즐(10)을 유지할 수 있도록 되어 있다. 이 결과, 11개의 노즐(10)은 선단부를 하향으로 한 상태로 일렬로 나열하고, 또한 그들 배열 방향이 도 1A에 도시한 노즐(10)의 반송 방향과 일치하도록 배치된다. 한편, 노즐 헤드부(11a)의 기부측에는 후술하는 공급 유닛(7)의 공급관(71)이 접속되어 있으며, 노즐 헤드부(11a) 내부를 통하여 노즐(10)에 도포액을 공급할 수 있도록 되어 있다.

아암부(11b)는, 스핀척(41)에 유지된 웨이퍼(W)의 대략 중앙부의 위쪽에서 노즐(10)을 반송할 수 있도록, 노즐 헤드부(11a)와 기대(12)의 사이에 설치된 지지 부재이다. 기대(12)는, 노즐 아암(11)을 이동시키는 슬라이더로서의 역할을 완수한다. 기대(12)는 도시하지 않은 승강기구를 구비하고 있으며, 아암부(11b)의 기부는 이 승강기구에 부착되어 있다. 이에 따라 노즐 아암(11)은, 도 1B에 도시한 Z방향을 자유로이 승강할 수 있도록 되어 있다. 또한 레일(13)은, 액처리부(2)의 측방에, 액처리부(2a,2b,2c)의 배열 방향과 평행하게 부설되어 있다. 여기서, 도포 유닛(1)은, 도포액의 공급을 행하지 않을 때에 노즐(10)을 얹어 놓고 대기시키기 위한 노즐 배스(14)를 구비하고 있으며, 레일(13)은, 이 노즐 배스(14)와 그로부터 가장 먼 액처리부(2a)에 유지된 웨이퍼(W)에 도포액을 공급할 수 있는 위치 사이에 기대(12)를 이동시키는 것이 가능한 길이를 가지고 있다. 한편, 노즐 배스(14)는 노즐(10)의 대기중에 레지스트액이 건조하지 않도록 시너 분위기로 되어 있다.

또한 기대(12)를 이동시키는 기구는 예를 들면, 레일(13)을 따라서 배치한 감아 거는 축(도시하지 않음)에 기대(12)를 고정한 도시하지 않은 반송 벨트를 감아붙이고, 이 감아 거는 축의 하나에, 예를 들면 모터 등의 구동기구(15)(도 4 참조)를 접속한 구조로 되어 있으며, 감아 거는 축의 회전 방향과 회전수를 조정함으로써 원하는 위치로 기대(12)를 이동시킬 수 있도록 되어 있다. 한편, 기대(12)를 이동시키는 기구를 볼나사 기구로 구성해도 좋다.

이상의 구성에 의해, 레일(13)상에서 기대(12)를 이동시키는 것에 의해서, 일렬로 나열되어 유지된 노즐(10)을, 노즐 배스(14)와 액처리부(2a,2b,2c)의 대략 중앙부를 연결한 직선상에서 반송할 수 있다. 이에 따라, 어떤 액처리부(2a,2b,2c) 에 웨이퍼(W)가 유지되어 있는 경우에도, 기대(12)의 정지 위치를 조정하는 것에 의해서, 원하는 도포액을 공급하는 노즐(10)을 웨이퍼(W)의 대략 중앙부 위쪽까지 이동시키고, 그 위치로부터 웨이퍼(W)에 도포액을 공급할 수 있다.

다음에 EBR 기구(6)를 설명한다. EBR 기구(6)는, 웨이퍼(W)에 도포된 레지스트막의 둘레가장자리부의 박리 등을 등을 방지하기 위해서 레지스트막을 제거하는 린스액을 웨이퍼(W) 둘레가장자리부에 공급하는 역할을 완수한다. 각각의 액처리부(2)에 설치된 EBR 기구(6)는 각각 대략 공통의 구성을 가지고 있으며, 도 1A에 도시한 바와 같이, 린스액을 토출하는 노즐을 유지하는 EBR 아암(61)과, 이 EBR 아암(61)을 이동시키는 기대(62)와, 기대(62)의 주행 궤도를 이루는 레일(63)과, 린스액의 공급을 행하지 않을 때에 노즐(10)을 얹어 놓고 대기시키는 EBR 노즐 배스 (64)를 구비하고 있다.

다음에 노즐(10)에 도포액을 공급하는 공급 유닛(7)의 구성에 대하여 도 2를 참조하면서 설명한다. 공급 유닛(7)은, 예를 들면 도포액이 고인 도시하지 않은 공급 탱크와, 이 공급 탱크에 가스를 공급하여 그 내부를 가압함으로써 공급 탱크내의 도포액을 도포 유닛(1)을 향하여 송액하기 위한 도시하지 않은 가압부를 포함한 도포액 공급기구(70)(도포액 공급부)을 도포액의 종류에 대응하는 수만큼 구비하고 있다.

각각의 도포액 공급기구(70)는, 도포액의 공급 중단을 전환하기 위한 에어 오퍼레이티드 밸브(72)와, 도포액을 공급하고 있지 않을 때에 노즐(10)의 선단부로부터 도포액을 밀어 넣기 위한 흡인 밸브(73)를 개재하여 공급관(71)에 의해 각 노 즐(10)에 접속되어 있으며, 10종류의 레지스트액과 시너를 전환하여 공급할 수 있도록 되어 있다. 한편 도 2에서는 도시의 편의상, 시너를 공급하는 도포액 공급기구(70)를 도면을 향하여 왼쪽으로부터 2번째의 노즐(10)에 접속하고 있지만, 실제로는 도 3A에 도시한 바와 같이 도면을 향하여 왼쪽으로부터 6번째의 부호 6이 붙은 노즐(10)에 접속되어 있다. 이것은 레지스트액의 도포전에 매회 공급되는 시너와, 시너의 공급후에 공급되는 레지스트액을 각각 공급하는 노즐(10)을 이 순서대로 웨이퍼(W)의 중심으로 이동시킬 때에, 기대(12)의 평균의 이동거리를 최단으로 하기 위해서이다.

또한 도 2에 도시한 바와 같이, 도포 유닛(1)이나 공급 유닛(7)은 각 기기의 동작을 통괄 제어하는 제어부(9)와 접속되어 있다. 한편 제어부(9)는, 본 실시형태와 관련된 도포 유닛(1)을 구비한 도포, 현상장치 전체의 동작을 통괄 제어하는 기능도 겸비하고 있다.

이상의 구성에 기초하여 도포 유닛(1)에 의해 웨이퍼(W)에 레지스트액을 도포하는 동작에 대하여 간단하게 설명한다. 외부의 반송수단에 의해서 3개의 반출입구(30a)의 어느 하나로부터 틀체(30)내에 반입된 웨이퍼(W)는, 승강 핀(44)에 의해 이면측이 지지되고, 반송수단을 틀체(30) 바깥으로 퇴피시키고 승강 핀(44)을 하강시키는 것에 의해, 반입된 반출입구(30a)에 대응하는 액처리부(2)의 스핀척(41)에 받아넘겨진다.

그리고 노즐반송기구(10a)를 작동시켜, 노즐 배스(14)상에서 대기시킨 노즐 아암(11)을 들어 올려, 도 1A, 1B의 Y방향으로 반송한다. 그 다음에 시너를 공급하 는 노즐(10)이 웨이퍼(W)의 대략 중앙 위쪽의 위치에 도달하면 노즐 아암(11)의 이동을 정지하고, 그 위치에서 노즐 아암(11)을 강하시킨다. 그 후 정지하고 있는 웨이퍼(W)상에 노즐(10)로부터 시너를 공급한 후, 상기 처리에서 도포하는 레지스트액의 공급 노즐(10)이 웨이퍼(W)의 대략 중앙 위쪽에 위치하도록, 노즐 아암(11)을 이동시킨다. 이 이동 동작과 병행하여, 스핀척(41)을 예를 들면 고속 회전시켜, 그 회전중의 웨이퍼(W)상에 레지스트액을 공급, 정지하여 웨이퍼(W)의 지름 방향으로 넓히는 스핀 코팅을 행한다.

계속해서 스핀척(41)을 저속으로 회전시켜, 스핀 코팅한 레지스트막의 막압(膜壓)을 균일하게 하고, 그 다음에 다시 고속 회전시키는 것에 의해 코팅한 레지스트액의 스핀 건조(spin-drying)를 행한다. 이 동안에, 노즐반송기구(10a)는 상술한 경로와는 반대의 경로로 노즐 아암(11)을 이동시켜, 도포액의 공급이 완료한 노즐(10)을 노즐 배스(14)에 대기시킨다.

한편, 스핀 건조가 완료한 웨이퍼(W)에 대해서는 대응하는 EBR 기구(6)를 가동시켜, 린스액 노즐을 EBR 노즐 배스(64)로부터 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부까지 반송하고, 여기에 린스액을 도포하여, 스핀척(41)을 회전시키는 것에 의해 웨이퍼(W) 둘레가장자리부에 도포한 레지스트막을 제거한 후, 레지스트막의 경우와 같이 린스액의 스핀 건조를 행하여 일련의 액처리를 완료한다.

린스액 노즐을 EBR 노즐 배스(64)까지 퇴피시킨 후, 레지스트막이 형성된 웨이퍼(W)는, 반입시와는 역의 순서로 반송수단에 받아넘겨져 도포 유닛(1)으로부터 반출된다. 이렇게 해서 각 액처리부(2)에는, 도포, 현상장치에 결정된 웨이퍼(W)의 반송 사이클을 따라서 웨이퍼(W)가, 예를 들면 24초 간격으로 차례로 반송되어, 동일한 처리가 이루어진다. 한편 노즐(10)은 하나의 액처리부(2)로 웨이퍼(W)상에 도포액(시너 및 레지스트액)의 토출을 끝낸 후, 예를 들면 도포 유닛(1)의 일단에 위치하는 노즐 배스(14)로 퇴피되어, 레지스트액의 건조를 억제하고 있다.

이상에서 설명한 구성에 더하여 본 실시형태와 관련된 도포 유닛(1)은, 예를 들면 노즐 배스(14)로부터 도포액을 공급하는 위치까지의 반송중에, 노즐(10)의 선단부로부터 도포액의 액 흘림 또는 적하 및 노즐(10) 선단부의 오염을 일으킨 경우에는 이것을 광학적으로 촬상하여, 각각의 사상(事象)에 따른 대처 동작을 실행하는 기능을 구비하고 있다. 아래에, 이들 기능의 상세한 내용에 대하여 설명한다.

여기서 본 실시형태에 있어서 '액 흘림'이란 노즐(10)의 선단면으로부터 아래쪽에 도포액이 노출한 상태를 의미하고, '적하'란 이 액 흘림이 성장한 결과, 상기 선단면으로부터 도포액이 분리된 상태를 의미하고, 노즐 선단부의 오염이란 노즐(10)의 선단부에 부착한 이물질이나 처리액의 고착물을 의미하고 있다. 그 예를 도 13A-13E에 도시한다. 도 13A는 적정한 토출된 후의 상태를 도시하고, 토출된 레지스트액(R)은 적정한 흡인량, 일례를 들면, 1.5mm 정도 도포액 노즐(10) 내부로 밀어넣어진다. 도 13B는 액 흘림의 상태나 흡인 불량 상태를 도시하고, 노즐 선단부에 액의 고임이 생긴다. 도 13C, 13D는 노즐 선단부에 부착한 레지스트액(R)을 도시하고, 처리시의 액의 토출 스피드가 빠른 경우의 되튐이나 흡인을 행하는 스피드가 빠른 경우 등에 발생하는 문제이다. 도 13E는 레지스트액(R)의 적하시에 토출을 행하는 액적(DP)이 일단 중도에서 끊어져 토출되어 버리는 현상을 도시하고 있 다.

노즐(10) 선단부의 내외의 도포액의 액 흘림이나 적하 및 노즐(10) 선단부의 오염을 광학적으로 촬상하는 기능에 관한 것이며, 노즐반송기구(10a)의 노즐 아암 (11)에는, 도 3A에 도시한 바와 같이 노즐 헤드부(11a)에 유지된 노즐(10)의 화상을 이미지 센서로 측방으로부터 촬상하기 위한 촬상수단인, 예를 들면 CCD 카메라 등의 카메라(17)가 고정 부재(18)를 개재하여 고정되어 있다. 이 카메라(17)는, 서로의 그림자가 지지 않고 각 노즐(10)의 선단부를 촬상할 수 있도록, 도 3A에 도시한 바와 같이 노즐 헤드부(11a)에 유지된 노즐(10)의 배열 방향과 대략 직교하는 방각으로부터 노즐(10)을 촬상하는 구성으로 되어 있다. 또한 카메라(17)는 예를 들면 광각(廣角)렌즈를 구비하고 있으며, 일렬로 배열된 모든 노즐(10)의 선단부를 촬상 영역에 넣고, 또한 각각의 선단부에 초점이 맞도록 설정되어 있다. 또한 촬상수단은, 이미지 센서이면 좋고, CCD 이외의 C-MOS 타입의 것이어도 물론 좋다.

도 7에 본 발명의 실시형태와 관련된 복수의 노즐(10)의 하나에 대한 구조를 설명한다. 노즐(10)은, 관통하는 유로(105)를 가지는 일체 성형이지만, 2개 역할을 가진 광원 도입부(101)와 유로 조명부(102) 부분으로 기능하는 부위를 나누어 볼 수 있다. 광원 도입부(101)에 입사 도입되는 조명광은, 도 3B에 도시된 도광부재 (104)에 의해 야기된다. 이 도광부재(104)를 향하여 조사되는 광원인, 예를 들면 노란색이나 오렌지색, 빨간색까지의 비교적 파장이 긴 가시광을 조사하는 LED 램프 등에 의해 구성된 노즐의 조명 광원(103)은, 조사한 빛이 도광부재(104)를 지나 광원 도입부(101)의 평탄형상으로 형성된 입광면(101a)(이하에, D컷면(101a)이라고 한다)으로부터 노즐(10)에 입사된다. 광원 도입부(101)의 한측부는 D컷된 D컷면 (101a)이고 투명한 면 혹은 반투명인 면을 가지고 있으며, 도광부재(104)의 도광부단과 노즐(10)이 접촉한 면에서 빛의 전달을 하기 쉬운 구조로 하고 있다. 또한, 광원 도입부(101)의 평면인 D컷면 이외의 통형상 부분의 표면은, 반사 피막(101b)이 입혀져 있다. 이것은 투명 부재로부터 빛이 입사 방향과 평행하게 노즐(10)의 바깥쪽으로 빛을 확산시키지 않도록 안쪽으로 반사하는 외피, 예를 들면 경면인 금속에 의해서 덮거나, 또는 안쪽으로 반사할 수 있는 금속막코팅이나 금속막 증착이 입혀져 있다. 한편, 노즐(10)을 노즐 아암(11)에 부착하는 상면측에도 금속막 코팅이 입혀져 있어도 좋다. 한편, 도 7에 도시한 노즐(10)은, 광원 도입부(101)가 큰지름의 통형상으로 형성되고, 유로 조명부(102)가 광원 도입부(101)보다 작은 지름의 통형상으로 형성되어 있지만, 유로 조명부(102)를 광원 도입부(101)와 동일 지름으로 형성해도 좋다.

도광부재(104)는, 석영이나 글래스 파이버 묶음이나 투명 혹은 반투명한 수지 등의 빛을 통과시키기 쉬운 투명 부재로 이루어지고, 투명 부재를 빛이 새지 않도록 안쪽 반사하는 외피, 예를 들면 경면인 금속에 의해서 덮거나, 또는 안쪽으로 반사할 수 있는 금속막 코팅이나 금속막 증착 등의 반사 피막(104a)이 입혀져 있다. 도 3C에 복수의 노즐(10)에 접속된 도광부재(104)를 도시한다. 이 경우, 조명 광원(103)도 복수 설치하여 복수의 노즐(10)에 대해서 하나의 도광부재(104)로 접속시켜도 좋고, 각각의 노즐(10)에 대해서 한 쌍이라도 좋고, 도 14와 같이 복수의 노즐(10)에 대해서 복수로 나누어 도광부(104)를 설치해도 좋다.

다음에 도 8A에 광원 도입부(101)의 D컷면(101a)으로부터 입사한 빛의 거동을 도시한다. 입사광은 광원 도입부(101)의 표면 바깥쪽에 입혀진 반사 피막(101b)에 의해서 노즐 내부를 난반사한 빛은, 노즐(10)의 내부에서 하향 변환되어 선단측을 향하여 통과한 후에 노즐의 도포액 토출구로부터 빛이 출사한다.(빛의 움직임을 화살표로 도시한다.) 이에 따라, 노즐 내부가 빛에 의해 비추어져 노즐 내부에 있어서의 도포액단의 위치나 노즐 선단의 도포액의 액 흘림의 유무나 도포액 토출구의 오염 상태를 선명히 할 수 있다. 이 상태를 카메라(17)에 의해 촬상하는 것으로, 노즐(10) 내부 상태나 노즐 선단부의 오염 상태를 정확하게 검출할 수 있다. 또한, 웨이퍼(W)의 처리중에 조명광을 점등시키는 것에 의해 도포액 토출 위치에의 웨이퍼 방향에의 스폿광을 비출 수 있다. 또한, 도 8B와 같이 빛의 입광을 비스듬하게 하는 구조로 하여 빛이 방사상으로 도광되는 형상을 한 방사상 도광부재 (104A)로부터의 출광면을 사면으로 형성해 두어도 좋다.

다음에, 광원의 설치에 대하여 다른 실시형태를 설명한다. 노즐(10)의 구성에 대해서는 상술한 기재와 동일하므로 생략한다. 도 9A, 9B에 도시한 바와 같이 복수의 노즐(10)의 개개의 D컷면(101a)에 대향하는 위치에 광원(103A)인, 예를 들면 LED를 직접 설치해도 좋다. 이렇게 노즐(10)에 대해서 한 쌍의 광원(도광부재 (104)를 포함한 경우도 있다)을 배치하는 경우는, 특정의 노즐(10)만의 조명광을 점등할 수 있다. 또한, 조명광을 차례로 전환하여 점등시키는 것도 가능하게 되어, 노즐을 식별하기 쉬워지는 이점이 있다. 변경에 대한 상세한 내용은 후술한다. 이 경우에는 빛이 새지 않도록 광원(103A)의 주위를 둘러싸도록 반사 부재를 설치해도 좋다.

이와 같이 노즐(10)에 조명수단을 설치하는 것에 의해, 도포장치의 정기적인 유지보수에 의한 도포액의 토출 위치의 조정이나 노즐부품의 교환후 조정을 실시하는 경우에 이용하는 것이 가능해진다. 또한, 도포 현상장치의 액처리부인 DEV층 (B1)로부터 TCT층(B4)과 같이 적층화가 진행되면 높이를 억제하기 때문에, 각각의 액처리부의 높이를 억제하는 구조가 되고, 또한 안길이도 있는 기계적인 밀도가 높은 구조이기 때문에 어둡고 노즐이 보이기 어렵다. 그 때문에 도포 균일성에도 영향을 미치는 토출 위치나, 노즐 상태의 정확한 확인이 요구된다. 이러한 때에 이 실시형태의 경우의 조명수단을 이용하면 보다 정확한 노즐 상태를 확인할 수 있다.

다음에, 상태를 확인하는 순서에 대하여 설명한다. 이 조명수단은, 먼저 기술하고 있는, 조명 광원(103)(103A)과 도광부재(104)를 함께 의미하는 것이다.

먼저 유지보수시에 있어서의 노즐 상태를 확인하는 경우에 대하여 설명한다. 도 2의 처리부(2)에 유지보수에 사용하는 유리제 기판을 반입하여 저회전으로 기판을 회전시킨다. 다음에 이 때에 조명수단을 기능시킨 상태에서 노즐 아암(11)을 이동시켜 복수의 노즐(10) 중의 어느 하나를 기판의 중심에 대한 기준 위치로 하기 위해서 중심 위치로 이동시킨다. 여기서, 조명수단을 기능시킨 상태란, 조명 광원 (103)(103A)을 점등시킨 상태이며 입사광이 노즐(10)의 선단으로부터 출사하고 있는 상태를 나타낸다. 중심 위치로 이동한 노즐(10)로부터 처리액을 토출하여 기판의 중심 위치에서 토출되고 있는지를 시각적으로 확인한다. 또한, 노즐선단의 상태로서는 토출시의 토출 상태, 토출후의 액의 끊어짐 상태 및 흡인 상태를 용이하게 확인할 수 있다. 중심 위치가 어긋나 있는 경우는, 복수의 노즐간의 거리는 정해져 있으므로 설계치로부터 다른 노즐의 위치 데이터에 피드백하여 각각의 위치 데이터를 보정시킨다.

노즐 선단의 상태에 대해서는, 각각의 노즐(10) 상태를 처리액의 토출 지정(指定)으로 전환하여 토출 전후의 상태를 확인할 수 있다. 처리액의 노즐 선단에 있어서의 액의 끊어짐이 나쁜 상태이면, 에어 오퍼레이티드 밸브(72)의 조정을 행하거나, 혹은 액의 밀어넣는 양이 적은 경우는 흡인 밸브(73)를 조정하게 된다. 이러한 경우에도 도포장치내의 환경에 의존하지 않고 노즐 상태를 선명하게 직접 확인할 수 있다.

다음에 통상의 기판 처리 상태에 있어서의 노즐(10) 상태를 촬상하는 촬상수단인, 예를 들면 CCD식의 카메라(17)를 설치한 경우에 대하여 설명한다. 도 2에 도시한 바와 같이 카메라(17)는, 도시하지 않은 A/D변환기를 개재하여 이미 설명한 제어부(9)와 접속되어 있다. 제어부(9)는 카메라(17)로부터 취득한 촬상 결과에 기초하여 각 노즐(10) 선단부로부터의 도포액의 액 흘림이나 적하가 발생한 것을 판단하고, 그 판단 결과에 기초하여 노즐반송기구(10a)등에 소정의 처치 동작을 실행시키는 기능을 더 구비하고 있다. 이하에, 이들 기능의 상세한 내용에 대하여 설명한다.

도 4는, 도포 유닛(1), 공급 유닛(7)의 각 기기와 제어부(9)의 관계를 설명하기 위한 블록도이다. 예를 들면 제어부(9)는, 본 실시형태와 관련된 도포 유닛 (1)을 포함한 도포·현상장치 전체를 통괄 제어하는 주제어부(9a)와, 도포액의 액 흘림이나 적하 발생의 판단에 필요한 화상 처리나, 그 처리 결과에 기초하여 이들 사상이 발생한 것을 판단하는 액 흘림 판단부(9b)를 구비하고 있다.

주제어부(9a)는, 중앙연산 처리장치(CPU)(90)와, 프로그램 격납부(91)를 구비한 컴퓨터로서 구성되어 있다. 프로그램 격납부(91)는, 액 흘림 판단부(9b)로 독립하여 판단된 도포액의 액 흘림이나 적하 발생의 정보에 기초하여, 도포 유닛(1), 공급 유닛(7)내의 각 기기를 작동시켜, 이들 사상에 대한 대처 동작이나 유지보수 관리를 실행하기 위한 스텝군을 구비한 컴퓨터 프로그램('대처 동작용 프로그램', '유지보수 관리용 프로그램'으로 나타나 있다)을 격납하는 역할을 완수한다. 프로그램 격납부(91)는, 예를 들면 하드 디스크, 콤팩트 디스크, 마그넷 옵티칼 디스크, 메모리 카드 등의 기억수단에 의해 구성되어 있다.

주제어부(9a)는 또한, 유지보수 관리용의 정보로서 각 노즐(10)에서 액 흘림이 발생한 횟수를 계수하기 위한 카운터(92)와, 이 카운터(92)로 계수된 액 흘림의 발생 횟수에 기초하여 유지보수의 필요여부를 판단하기 위한 기준치가 되는 역치('유지보수 관리용 역치'로 나타내고 있다)를 기억한 설정치 기억부(93)를 구비하고 있다. 카운터(92)는 예를 들면 고쳐쓰기가 가능한 플래시 메모리 등에 의해 구성되고, 설정치 기억부(93)는 예를 들면 상술한 프로그램 격납부(91)를 구성하는 하드 디스크 등의 일부로서 구성되어 있다.

액 흘림 판단부(9b)는, 예를 들면 도시하지 않은 CPU와, 프로그램 격납부 (94)를 구비한 마이크로 컨트롤러로서 구성되어 있다. 프로그램 격납부(94)는 예를 들면 ROM, RAM 등에 의해 구성되고, 카메라(17)로부터 취득한 화상 정보에 화상 처 리를 실시하여 액 흘림 등의 발생을 판단하기 위한 촬상 결과를 얻거나, 이 촬상 결과에 기초하여 액 흘림 등의 발생을 판단하거나 하기 위한 스텝군을 구비한 컴퓨터 프로그램('화상 처리용 프로그램', '액 흘림 판단용 프로그램'으로 나타내고 있다)을 격납하는 역할을 완수한다.

액 흘림 판단부(9b)는 또한, 도포액의 적하 발생을 판단하기 위해서 과거의 촬상 결과를 일시적으로 기억하기 위한 일시 메모리(95)와, 액 흘림 발생의 기준이 되는 역치를 기억하는 설정치 기억부(96)를 구비하고 있다. 일시 메모리(95)는, 예를 들면 고쳐 쓰기가 가능한 플래시 메모리 등에 의해 구성되고, 설정치 기억부 (96)는, 예를 들면 상술의 프로그램 격납부(94)를 구성하는 ROM 등의 일부로서 구성된다.

또한 주제어부(9a)는, 카메라(17), 노즐반송기구(10a)의 구동기구(15)나 도포액 공급기구(70), 에어 오퍼레이티드 밸브(72), 흡인 밸브(73)와 접속되어 있으며, 액 흘림 등의 발생을 판단한 결과에 기초하여 이들 기기를 작동시키고, 소정의 대처 동작을 실행할 수 있도록 되어 있다. 또한, 노즐(10) 조명용의 광원(103)에 대해서도, 도시하지 않은 전원부를 개재하여 주제어부(9a)와 접속되어 있으며, 예를 들면 카메라(17)에 의해 촬상을 실행하는 타이밍과 동기하여 간헐적으로 노즐 (10)을 조명하도록 구성되어 있다.

이 경우 예를 들면, 복수의 노즐(10)의 조명의 점등을 차례로 행하고, 그 때에 점등된 노즐(10)로부터 도포액을 토출시켜 토출 개시부터 종료까지의 촬상을 행한다. 이로써, 근방의 다른 노즐이 조명되었을 때의 난광을 없앨 수 있으므로, 특 정의 노즐 상태만을 정확하게 촬상하여 해석할 수 있다. 유지보수를 실시하는 모드인 경우의 촬상은, 미리 더미 디스펜스를 실시하는 포지션인 도 1A에 기재된 노즐 배스(14)에서 도포액을 노즐(10)로부터 차례로 토출한다. 후술하는 상세한 설명을 이루는 프로세스 처리중의 촬상시에는, 사용 노즐 상태를 최우선으로 판단할 필요가 있기 때문에, 조명 점등은 도포에 사용되는 노즐을 최초로 촬상하고, 다음에 차례로 다른 노즐(10)에 조명 광원(103)의 점등을 전환하여 개개의 노즐(10) 상태를 촬상한다. 이렇게 함으로써, 조명 광원(103)을 상시 점등시키지 않음으로써 조명 광원(103)으로부터의 발열이 축열되는 것을 억제하여 프로세스에의 영향을 작게 하도록 해도 좋다.

제어부(9)에는 표시조작부(8)가 더 접속되어 있으며, 표시조작부(8)는 주제어부(9a)의 지시에 기초하여 유저에게 각종 안내 표시를 하는 역할을 완수한다.

다음에 도포 처리 가동중에 발생하는 노즐(10)의 선단으로부터의 액 흘림에 대하여 설명한다. 액 흘림 판단부(9b)로 실행되는 화상 처리나 촬상 결과에 기초한 판단의 내용에 대하여 설명한다. 도 5A-5C는, 액 흘림이 발생한 노즐(10)의 선단부의 모습을 도시한 모식도이다. 도면내의 DP는, 상기 액 흘림과 관련된 도포액의 액적을 나타내고 있다. 도 5B는 액 흘림의 정도가 작은 상태, 도 5C는 액 흘림의 정도가 큰 상태를 도시하고 있다.

액 흘림 판단부(9b)는, 예를 들면 200ms의 간격으로 카메라(17)로부터 화상 정보를 취득한다. 이 화상 정보는, 카메라(17)로 촬상된 아날로그 화상을, 예를 들면 256계조(階調) 표시가 가능한 소정 해상도인 8비트의 디지탈 신호로 변환되고 있다. 그리고, 취득한 화상 정보에 대해서, 예를 들면 계조차 등에 기초하여 액적 (DP)과 그 주변의 공간과의 경계를 특정함으로써 촬상면에의 액적(DP)의 투영 형상을 특정한다. 표면장력에 의해 액적(DP)은 구체(球體)의 일부를 잘라낸 것과 같은 형상이 되기 때문에, 상술한 투영 형상은 도 5B, 도 5C에 도시한 바와 같은 원호가 된다.

따라서 액 흘림 판단부(9b)는, 상기 도면중에 도시한 액적(DP)의 하단(P)에 있어서의 곡률(C)을 촬상 결과로서 산출하고, 이 곡률의 크기에 의해서 액 흘림의 정도를 판단하도록 되어 있다. 즉, 산출한 곡률(C)의 값이 작은 경우는 도 5B에 도시한 바와 같이 액 흘림의 정도가 작고, 큰 경우는 도 5C에 도시한 바와 같이 액 흘림의 정도가 크다고 판단된다. 설정치 기억부(96)에는, 액 흘림의 정도를 판단하는 기준 정보가 역치로서 미리 기억되어 있으며, 액 흘림 판단부(9b)는 이 역치(기준 정보)와 화상 정보로부터 산출한 곡률(C)(촬상 결과)을 비교한 결과에 기초하여 액 흘림 발생의 유무나 발생한 액 흘림의 크기를 판단한다.

본 실시형태와 관련된 설정치 기억부(96)에는, 제1 곡률(C1)과 제2 곡률(C2) (C1<C2)이 역치로서 기억되어 있으며, 촬상 결과의 곡률(C)과 이들 역치를 비교한 결과가, 'C<C1'의 경우에는 액 흘림의 발생이 없고, 'C1<C<C2'의 경우에는 작은 액 흘림(이하, 액 흘림 작음이라고 한다) 발생, 'C2<C'의 경우에는 큰 액 흘림(이하, 액 흘림 큼이라고 한다)발생한다고 판단하도록 되어 있다.

한편, 이미 설명한 바와 같이 광각렌즈를 이용하여 노즐(10)을 촬상한 결과, 촬상된 화상에 일그러짐이 발생하는 경우에는, 액 흘림 판단부(9b)에서 이 일그러 짐을 보정하는 화상 처리를 실시하고 나서 곡률(C)을 산출해도 좋고, 역치로서의 제1의 곡률(C1), 제2 곡률(C2)에 미리 이 일그러짐을 반영한 값을 기억시켜 두어도 좋다. 또한, 곡률(C) 대신에 곡률 반경(=1/C)을 산출히여, 이것을 촬상 결과로서 상술한 판단을 행하여도 좋다. 이 경우에는 산출된 곡률 반경이 작아질수록 액 흘림의 정도는 커진다.

또한, 액 흘림의 크기를 특정하는 수법은 상술의 것에 한정되지 않고, 예를 들면 카메라(17)로부터 취득한 화상의 계조차 등에 기초하여, 액적(DP)과 그 주변 공간 및 노즐(10)과의 경계를 확정하고, 그 경계내에 포함되는 화소수 등으로부터 결정되는 액적(DP) 투영 화상의 면적을 촬상 결과로 하고, 이 촬상 결과와 설정치 기억부(96)에 미리 기억시켜 둔 역치(기준 정보)와 비교하여 액 흘림 발생의 유무나 그 대소를 판단하도록 구성해도 좋다.

여기서 본 실시형태와 관련된 노즐반송기구(10a)의 노즐 아암(11)에는 복수 개의 노즐(10)을 유지하고 있으므로, 광원이 노즐과 한 쌍인 경우에는, 제어부(9) 로부터의 지령에 의해 노즐(10)의 조명을 차례로 전환하여 점등시키면서 촬상을 하는 것에 의해, 어느 노즐(10)에서 액 흘림을 일으키고 있는지를 식별한다. 혹은, 도 9A, 9B에 도시한 바와 같이 복수의 노즐(10)에 대해서 광원(103A)이 하나의 구조이면, 액 흘림이 발생한 노즐(10)을 식별하는 수법은, 예를 들면 취득한 화상 정보를 X-Y 좌표상에 전개하여, 액 흘림이 확인된 위치에 기초하여 그 노즐(10)을 식별한다. 또한, 도 3A-3C에 도시한 바와 같이 각 노즐(10)에 숫자 등의 식별 정보를 미리 부여해 두고, 촬상된 식별 정보의 화상과, 상술한 각 식별 정보에 대응하는 화상 정보(예를 들면 설정치 기억부(96) 등에 미리 등록되어 있다)와의 매칭에 의해서 액 흘림이 생긴 노즐(10)을 식별하도록 해도 좋다.

이상의 순서에 기초하여 액 흘림이 발생했다고 판단한 경우에는, 액 흘림 판단부(9b)는 액 흘림의 정도(액 흘림 작음, 액 흘림 큼)를 식별하는 정보와, 액 흘림이 발생한 노즐(10)을 식별하는 정보를 주제어부(9a)에 대해서 출력하도록 되어 있다.

주제어부(9a)는, 액 흘림 판단부(9b)로부터 취득한 액 흘림이나 적하의 발생을 나타낸 정보에 기초하여, 소정의 대처 동작이나 유지보수 관리와 관련된 동작을 실행하도록 되어 있다. 이 동작은, 노즐 아암(11)의 이동중에도 각 노즐(10)의 선단부를 감시하는 것이지만, 그 상세한 내용에 대하여는 후술한다.

이상의 구성에 기초하여, 노즐(10) 선단부로부터의 도포액의 액 흘림이나 적하의 발생의 판단 및 그 대처 동작 등에 관한 도포 유닛(1)의 작용에 대하여 설명한다. 한편 이하에 도시한 플로우차트의 설명에서는, 액 흘림과 적하를 편의상 일괄하여 '액 흘림'이라고 표현하고, '액 흘림 작음', '액 흘림 큼', '적하'의 3레벨로 구분된 것으로 하여 설명을 한다.

먼저 액 흘림 판단부(9b)로 액 흘림의 발생을 판단하는 동작에 대하여 설명한다.

도 6은, 상기 동작의 순서를 설명하기 위한 플로우차트이다. 도포, 현상장치가 가동을 개시하면(스타트), 액 흘림 판단부(9b)는, 예를 들면 더미 디스펜스를 행하는 타이밍이나, 프로세스 처리를 실행하고 있는 타이밍 등의 미리 결정된 기간 중에 노즐(10) 선단부의 화상 정보를 취득하고(스텝 S101), 이미 설명한 판단 수법에 기초하여 액 흘림이 발생하고 있는지의 여부를 판단한다(스텝 S102). 액 흘림이 발생하지 않은 경우에는(스텝 S102; NO), 예를 들면 200ms의 소정 시간 대기하고(스텝 S106) 화상 정보의 취득과 액 흘림의 판단의 동작을 반복한다(스텝 S101∼S102).

액 흘림이 발생하고 있는 경우에는(스텝 S102; YES), 액 흘림이 발생한 노즐 (10)을 특정하고(스텝 S103), '액 흘림 작음', '액 흘림 큼', '적하'의 3 레벨중에서 발생한 사상에 따른 레벨을 특정한다(스텝 S104). 그리고, 액 흘림이 발생한 노즐(10)과 액 흘림의 레벨에 관한 액 흘림 정보를 출력하고(스텝 S105), 다시 노즐 (10) 선단부의 화상 정보를 취득하는 동작으로 돌아온다(스텝 S101).

본 실시형태에 의하면, 이하와 같은 효과가 있다. 노즐반송기구(10a)에 의해서 이동하는 노즐(10)의 움직임에 맞추어, 카메라(17)가 이 노즐(10)의 선단부 상태를 광학적으로 촬상하므로, 이동중의 노즐(10)에서 도포액의 액 흘림이나 적하가 발생한 경우에 이것을 촬상할 수 있다. 그리고, 발생한 사상에 따라서, 예를 들면 액 흘림이 생긴 경우에는 노즐(10)을 노즐 배스(14), 중간 배스(16)로 퇴피시키고, 이 중에 도포액을 토출하는 더미 디스펜스를 행하거나, 도포액이 적하해 버린 경우에는 그 액처리를 정지시키거나 하는 적절한 대처 동작을 실행할 수 있다. 이 결과, 목적외의 위치에서의 도포액의 적하를 미연에 방지할 수 있는 경우에는, 불량품의 발생이 방지되어 생산수율 향상에 공헌할 수 있다. 또한 미연에 방지되지 않은 경우에도, 도포, 현상장치를 자동적으로 정지하면, 적하한 도포액을 닦아내는 등, 바로 적절한 조치를 취할 수 있으므로 피해의 확대를 억제하여 손실을 최소한으로 멈출 수 있다.

특히 본 실시형태에 있어서는, 노즐반송기구(10a)의 노즐 아암(11)에 복수개, 예를 들면 10개의 노즐(10)을 유지하고, 이들 노즐(10)을 동시에 이동시켜, 복수의, 예를 들면 3개의 액처리부(2)에 대해서 노즐(10) 및 노즐반송기구(10a)가 더 공통화되고 있다. 이 때문에 노즐(10)의 이동중에 도포액의 액 흘림이나 적하가 발생할 확률은, 노즐(10)이 1개인 경우나 각 액처리부(2)의 노즐(10)이 공통화되어 있지 않은 경우에 비해 높아지고 있으므로, 본 실시형태의 조명수단에 의해서, 노즐(10)내의 처리액 및 노즐(10) 선단부의 처리액 상태를 촬상하는 촬상 정도가 향상하여 정확하게 상태를 검출할 수 있다. 노즐(10)의 처리액 상태의 검출 정도가 향상하는 것에 의해 상기의 대처 동작에 의해 얻어지는 생산수율 향상이나 손실 저감의 효과는 한층 높아진다.

또한, 카메라(17)가 노즐반송기구(10a)에 부착되어 있는 것에 의해, 예를 들면 카메라(17)를 독립하여 이동시키는 기구를 필요로 하지 않아서 장치 비용을 저감할 수 있다. 다만, 노즐반송기구(10a)와는 독립한 이동 기구에 카메라(17)를 부착하여, 이들 이동 기구의 움직임을 동기시키는 것에 의해, 반송되고 있는 노즐 (10)의 움직임에 맞추어 그 선단부 상태를 촬상해도 좋은 것은 물론이다.

또한 광학적인 촬상수단으로서 카메라(17)를 이용함으로써, 촬상한 화상 정보로부터 액 흘림의 크기를 도시한 액적(DP)의 곡률 등의 촬상 결과를 얻는 것이 가능해진다. 이 결과, 액 흘림 발생의 유무뿐만 아니라 그 크기도 파악하는 것이 가능해져, 더미 디스펜스를 행하는 타이밍을 액 흘림이 작은 경우에는 도포액의 도포 후로 하고, 큰 경우에는 도포 전으로 하는 등, 발생한 사상의 긴급도에 따른 대처 동작을 실행할 수 있다. 이에 따라 더미 디스펜스를 실행하고 있는 동안의 대기 시간의 발생 등, 프로세스 처리의 효율 저하를 극력 억제할 수 있다.

또한, 예를 들면 3개의 액처리부(2)끼리의 사이에, 다른 스핀척(41)상을 횡단하지 않고 노즐(10)을 퇴피시켜 더미 디스펜스를 실행하기 위한 중간 배스(16)를 구비하고 있는 것에 의해, 퇴피처가 노즐 배스(14) 밖에 없는 경우에 비해 이동거리를 짧게 할 수 있어 액 흘림이 성장하여 적하해 버릴 위험성을 작게 할 수 있다.

또한, 큰 액 흘림이나 적하가 발생한 것을 표시조작부(8)에 표시하거나 발생한 액 흘림이 작은 경우에도, 그 발생 횟수를 카운트하여 그 수가 소정 횟수를 넘으면 유지보수가 필요한 취지를 표시조작부(8)에 표시하거나 함으로써, 오퍼레이터나 보전 담당자는 즉시 필요한 조치를 채택할 수 있다.

한편 노즐(10)의 선단부 상태를 광학적으로 촬상하는 수법은, 카메라(17)에 의해 가시광을 촬상하는 경우에 한정되지 않는다. 예를 들면 노즐(10) 선단부의 열이미지를 적외선 카메라에 의해 화상 정보로 변환하여, 액 흘림이나 적하의 유무를 촬상하도록 구성해도 좋다. 이 경우에는, LED 램프에 대신하여, 예를 들면 적외선이나 근적외선을 조사하는 광원에 의해서 노즐(10) 선단부를 조명해도 좋다. 노즐 (10)을 촬상하는 카메라(17)의 용도는, 실시형태중에 나타낸 액 흘림의 감시에만 사용하는 것에 한정되지 않는다.

또한 본 실시형태에서는, 노즐반송기구(10a)로 10개의 노즐(10)을 이동시키 는 경우에 대하여 설명했지만, 노즐(10)의 수는 복수개에 한정되지 않고, 예를 들면 1개여도 좋다. 또한 액처리부(2)의 수도 실시형태중에 예시한 것에 한정되지 않고, 1개의 틀체(30)내에 1개씩 노즐(10)과 노즐반송기구(10a)를 구비하는 경우에 대해서도 본 발명은 적용할 수 있다.

또한, 도포, 현상장치의 가동 개시전에 웨이퍼(W) 반송 위치의 조정 등을 목적으로 하여, 실제의 프로세스 처리는 행하지 않는 더미 기판을 장치내에서 반송하는 경우가 있다. 이러한 더미 기판의 사용시에, 예를 들면 노즐 위치의 확인, 조정용으로 본 실시형태에 관한 조명수단과 카메라(17)를 사용해도 좋다. 이러한 목적으로 조명수단과 카메라(17)를 사용하는 경우에는, 오퍼레이터에 의한 시각적인 확인을 하기 쉽고, 광원(19)으로부터 조사되는 빛을 백색광으로 전환할 수 있도록 구성해도 좋다.

다음에 도포, 현상장치에 상술한 도포 유닛(1)을 적용한 일례에 대하여 간단하게 설명한다. 도 10은 도포, 현상장치에 노광장치가 접속된 시스템의 평면도이고, 도 11은 그 시스템의 사시도이다. 또한 도 12는 그 시스템의 종단면도이다. 이 장치에는 캐리어 블록(S1)이 설치되어 있으며, 그 얹어놓음대(100a) 상에 놓여진 밀폐형의 캐리어(100)로부터 받아넘김 아암(C)이 웨이퍼(W)를 꺼내어 처리 블록 (S2)으로 받아넘기고, 처리 블록(S2)으로부터 받아넘김 아암(C)이 처리가 끝난 웨이퍼(W)를 받아 캐리어(100)로 되돌리도록 구성되어 있다.

상기 처리 블록(S2)은, 도 11에 도시한 바와 같이, 이 예에서는 현상 처리를 행하기 위한 제1 블록(DEV층)(B1), 레지스트막의 하층측에 형성되는 반사 방지막의 형성 처리를 행하기 위한 제2 블록(BCT층)(B2), 레지스트막의 도포를 행하기 위한 제3 블록(COT층)(B3), 레지스트막의 상층측에 형성되는 반사 방지막의 형성을 행하기 위한 제4 블록(TCT층)(B4)을, 아래로부터 순서대로 적층하여 구성되어 있다.

제2 블록(BCT층)(B2)과 제4 블록(TCT층)(B4)은, 각각 반사 방지막을 형성하기 위한 약액을 스핀 코팅에 의해 도포하는 본 형태와 관련된 도포 유닛(1)과, 이 도포 유닛(1)에서 이루어지는 처리의 전처리 및 후처리를 행하기 위한 가열·냉각계의 처리 유닛군과, 상기 도포 유닛(1)과 처리 유닛군의 사이에 설치되고, 이들 사이에서 웨이퍼(W)의 받아넘김을 행하는 반송 아암(A2,A4)으로 구성되어 있다. 제3 블록(COT층)(B3)에 대해서도 상기 약액이 레지스트액인 것을 제외하면 동일한 구성이다.

한편, 제1 블록(DEV)(B1)에 대해서는, 도 12에 도시한 바와 같이 하나의 DEV층(B1)내에 현상 유닛이 2단으로 적층되어 있다. 그리고 상기 DEV층(B1)내에는, 이들 2단의 현상 유닛에 웨이퍼(W)를 반송하기 위한 반송 아암(A1)이 설치되어 있다. 즉 2단의 현상 유닛에 대해서 반송 아암(A1)이 공통화되어 있는 구성으로 되어 있다.

또한 처리 블록(S2)에는, 도 10 및 도 12에 도시한 바와 같이 선반 유닛(U5)이 설치되고, 캐리어 블록(S1)으로부터의 웨이퍼(W)는 상기 선반 유닛(U5) 중 하나의 받아넘김 유닛, 예를 들면 제2 블록(BCT층)(B2)이 대응하는 받아넘김 유닛 (CPL2)에, 상기 선반 유닛(U5)의 근방에 설치된 승강이 자유로운 제1 받아넘김 아암(D1)에 의해서 차례로 반송된다. 제2 블록(BCT층)(B2)내의 반송 아암(A2)은, 이 받아넘김 유닛(CPL2)으로부터 웨이퍼(W)를 받아들여 각 유닛(반사 방지막 유닛 및 가열·냉각계의 처리 유닛군)으로 반송하고, 이들 유닛으로 웨이퍼(W)에는 반사 방지막이 형성된다.

그 후, 웨이퍼(W)는 선반 유닛(U5)의 받아넘김 유닛(BF2), 받아넘김 아암 (D1), 선반 유닛(U5)의 받아넘김 유닛(CPL3) 및 반송 아암(A3)을 개재하여 제3 블록(COT층)(B3)에 반입되어 레지스트막이 형성된다. 또한 웨이퍼(W)는, 반송 아암 (A3)→선반 유닛(U5)의 받아넘김 유닛(BF3)→받아넘김 아암(D1)을 거쳐 선반 유닛 (U5)에 있어서의 받아넘김 유닛(BF3)에 받아넘겨진다. 한편 레지스트막이 형성된 웨이퍼(W)는, 제4 블록(TCT층)(B4)에서 반사 방지막이 더 형성되는 경우도 있다. 이 경우는, 웨이퍼(W)는 받아넘김 유닛(CPL4)을 개재하여 반송 아암(A4)에 받아넘겨져, 반사 방지막이 형성된 후 반송 아암(A4)에 의해 받아넘김 유닛(TRS4)에 받아넘겨진다.

한편 DEV층(B1) 내의 상부에는, 선반 유닛(U5)에 설치된 받아넘김 유닛 (CPL11)으로부터 선반 유닛(U6)에 설치된 받아넘김 유닛(CPL12)에 웨이퍼(W)를 직접 반송하기 위한 전용 반송수단인 셔틀 아암(E)이 설치되어 있다. 레지스트막이나 반사 방지막이 더 형성된 웨이퍼(W)는, 받아넘김 아암(D1)을 개재하여 받아넘김 유닛(BF3,TRS4)으로부터 받아들이고 받아넘김 유닛(CPL11)으로 받아넘겨져, 이로부터 셔틀 아암(E)에 의해 선반 유닛(U6)의 받아넘김 유닛(CPL12)에 직접 반송되어, 인터페이스 블록(S3)으로 거두어들이게 된다. 한편 도 12중의 CPL이 붙어 있는 받아넘김 유닛은 온도 조절용의 냉각 유닛을 겸하고 있으며, BF가 붙어 있는 받아넘김 유닛은 복수매의 웨이퍼(W)를 얹어 놓을 수 있는 버퍼 유닛을 겸하고 있다.

그 다음에, 웨이퍼(W)는 인터페이스 아암(B)에 의해 노광 장치(S4)로 반송되고, 여기서 소정의 노광 처리가 이루어진 후, 선반 유닛(U6)의 받아넘김 유닛 (TRS6)에 놓여져 처리 블록(S2)으로 되돌아간다. 되돌아간 웨이퍼(W)는, 제1 블록 (DEV층)(B1)에서 현상 처리가 이루어지고, 반송 아암(A1)에 의해 선반 유닛(U5)의 받아넘김대(TRS1)에 받아넘겨진다. 그 후, 제1 받아넘김 아암(D1)에 의해 선반 유닛(U5)에 있어서의 받아넘김 아암(C)의 액세스 범위의 받아넘김대로 반송되고, 받아넘김 아암(C)을 개재하여 캐리어(100)로 되돌아간다. 한편 도 10에 있어서 U1∼U4는 각각 가열부와 냉각부를 적층한 열계(熱系) 유닛군이다.

도 1A, 1B는, 본 발명의 실시형태와 관련된 도포 유닛을 도시한 평면도 및 종단면도이다.

도 2는, 상기 도포 유닛내의 액처리부와 도포액을 공급하는 공급 유닛을 도시한 구성도이다.

도 3A-3C는, 도포액을 공급하는 도포액 노즐을 노즐 아암에 부착한 상태를 도시한 사시도, 그 단면도 및 도포액 노즐부의 저면도이다.

도 4는, 상기 도포 유닛의 전기적 구성을 도시한 블록도이다.

도 5A-5C는, 상기 도포 노즐 선단부의 액 흘림의 모습을 설명하기 위한 모식도이고, 도 5A는 도포액 노즐의 선단부의 측면도, 도 5B, 도 5C는 각각 도 5A의 I부 확대도로서, 액 흘림이 작은 상태, 액 흘림 중인 상태를 도시한 측면도이다.

도 6은, 액 흘림의 발생을 판단하는 동작 순서를 설명하기 위한 플로우차트이다.

도 7은, 상기 도포액 노즐의 일부를 단면으로 도시한 사시도이다.

도 8A, 8B는, 입광한 빛이 노즐 선단을 향하는 방향을 도시한 다른 상태의 단면도이다.

도 9A, 9B는, 복수의 노즐부의 각각 광원이 접속되어 있는 상태를 도시한 개략 저면도 및 그 Ⅱ-Ⅱ선에 따른 확대 단면도이다.

도 10은, 상기 도포 유닛을 적용한 도포 현상장치의 실시형태를 도시한 평면도이다.

도 11은, 상기 도포현상장치의 사시도이다.

도 12는, 상기 도포현상장치의 종단면도이다.

도 13A-13E는, 상기 도포액 노즐 선단의 다른 상태를 도시한 개략 단면도이다.

도 14는, 본 발명의 실시형태에 있어서의 도광부재를 복수 설치하는 경우의 저면도이다.

[도면의 주요부분에 대한 부호의 설명]

1 : 도포 유닛 2a,2b,2c : 액처리부

5 : 컵체 7 : 공급 유닛

10 : 노즐 10a : 노즐반송기구

17 : 카메라 30 : 틀체

41 : 스핀척

101 : 광원 도입부

101a : 입광면(D컷면) 101b : 반사 피막

102 : 유로 조명부 103, 103A : 조명 광원

104 : 도광부재 105 : 유로

Claims (10)

1. 액처리장치로서,

   기판을 대략 수평으로 유지하는 기판유지부와,

   상기 기판의 표면에 도포막을 형성하기 위한 도포액을 공급하는 도포액 공급부와,

   상기 도포액 공급부로부터 공급되는 상기 도포액의 유로를 형성하여, 상기 기판유지부에 유지된 상기 기판의 표면을 향해서 상기 도포액을 토출하는 도포액 노즐과,

   상기 기판유지부에 유지된 상기 기판의 위쪽으로 이동이 가능하도록 구성된 상기 도포액 노즐을 반송하는 노즐반송기구를 구비하고,

   상기 장치는, 상기 도포액 노즐의 내부에 조명광을 입사시키기 위한 광원을 더 구비하고, 상기 도포액 노즐은 대략 투명한 부재로 형성되는 통형상체로 이루어지며, 상기 통형상체의 바깥둘레의 일부에 상기 조명광을 입광시키는 부분으로서의 평탄형상으로 형성된 입광면을 가지고 있는 액처리장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐반송기구에 복수의 도포액 노즐이 설치되고, 상기 복수의 도포액 노즐의 각각은, 대략 투명한 부재로 형성됨과 함께 평탄형상으로 형성된 입광면을 가진 통형상체로 이루어진 액처리장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 도포액 노즐은, 상기 입광면과 대향하는 위치의 표면 바깥쪽에 형성된 반사 피막을 가지며, 상기 반사 피막은, 상기 입광면으로부터 입사되는 빛을 상기 도포액 노즐의 내부에서 하향으로 변환하여 도포액 노즐의 선단으로 출사시키도록 반사하는 액처리장치.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐반송기구에, 상기 광원으로부터 상기 도포액 노즐을 향해서 상기 조명광을 도광하기 위한 도광부재가 설치되고, 상기 도광부재는 상기 입광면과 접속되는 액처리장치.
5. 제 2 항에 있어서,

   상기 광원은 상기 복수의 도포액 노즐에 대응하여 복수의 광원을 가지며, 상기 복수의 도포액 노즐의 상기 입광면에 상기 복수의 광원이 각각 접속되는 액처리장치.
6. 제 2 항에 있어서,

   상기 복수의 도포액 노즐과 상기 광원은, 상기 조명광을 도광하기 위한 단일의 도광부재에 의해서 접속되는 액처리장치.
7. 제 2 항에 있어서,

   상기 복수의 도포액 노즐과 상기 광원은, 상기 조명광을 도광하기 위한 복수의 도광부재에 의해서 각각 접속되는 액처리장치.
8. 제 1 항에 있어서,

   상기 노즐반송기구에, 상기 도포액 노즐 내외의 상기 도포액 상태와 상기 도포액 노즐로부터 토출되는 상기 도포액의 상태를 촬상하는 촬상수단이 설치되는 액처리장치.
9. 제 2 항에 있어서,

   상기 노즐반송기구에, 상기 도포액 노즐 내외의 상기 도포액의 상태와 상기 도포액 노즐로부터 토출되는 상기 도포액의 상태를 촬상하는 촬상수단이 설치되고,

   상기 광원은 상기 복수의 도포액 노즐에 대응하여 복수의 광원을 가지며,

   상기 촬상수단으로 촬상을 행할 때에는, 상기 복수의 광원중에서 상기 기판에 도포액을 토출할 때에 사용하는 상기 도포액 노즐에 입광시키는 광원을 적어도 점등시키는 액처리장치.
10. 제 8 항에 있어서,

    상기 노즐반송기구에 의해서 이동된 상기 도포액 노즐로부터 도포액을 더미 디스펜스하기 위한 노즐 배스를 구비하고, 상기 촬상수단에 의한 촬상은, 상기 노즐 배스로 행하는 액처리장치.

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