KR20090056878A - 로드 포트 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 과제는 특히 뱃치 처리에 의한 반도체 제조 공정에 적용하는 데 적합한 로드 포트를 제공하는 것이다.
로드 포트(1)는, 웨이퍼가 저장된 FOUP(4)를 적재하는 주 테이블(27)과, FOUP 내의 웨이퍼에 대한 매핑 수단(24) 등을 구비한 로드 포트 본체(2)와, FOUP(4)를 주 테이블(27) 상과 로드 포트 본체(2)로부터 떨어진 소정 위치의 사이에서 이동시키는 이동 기구(3)를 구비하는 것으로서, 이동 기구(3)에, 상기 소정 위치에 있어서 로드 포트 본체(2)에 인접하는 다른 장치(C)와의 사이에서 웨이퍼를 저장한 상태의 FOUP(4)를 전달 가능하게 하는 공간(34)을 마련하였다.
로드 포트, 웨이퍼, FOUP, 매핑 수단, 이동 기구

Description

로드 포트{LOAD PORT}
본 발명은 반도체의 제조 공정에 있어서, 미니인바이론먼트(minienvironment) 방식에서 이용되는 로드 포트에 관한 것이다.
반도체의 제조 공정에 있어서는, 수율이나 품질의 향상을 위해 클린룸 내에서의 웨이퍼의 처리가 이루어지고 있다. 그러나 소자의 고집적화나 회로의 미세화, 웨이퍼의 대형화가 진행되고 있는 오늘날에는, 작은 먼지를 관리하는 클린룸의 실현은 비용적으로도 기술적으로도 곤란해지고 있다. 이로 인해, 최근에는 클린룸의 청정도 향상을 대신하는 방법으로서, 웨이퍼의 주위의 국소적인 공간만 청정도를 향상시키는「미니인바이론먼트 방식」을 도입하여, 웨이퍼의 반송, 그 밖의 처리를 행하는 수단이 채용되어 있다. 미니인바이론먼트 방식에서는, 웨이퍼를 청정한 환경에서 반송·보관하기 위한 FOUP(Front-Opening Unified Pod)라 불리는 저장용 용기와, FOUP 내의 웨이퍼를 반도체 제조 장치와의 사이에서 출납하는 동시에 반송 장치와의 사이에서 FOUP의 전달을 행하는 인터페이스부의 장치인 로드 포트(Load Port)가 중요한 장치로서 이용되고 있다. 즉, FOUP 내부와 반도체 제조 장치 내부는 높은 청정도를 유지하면서, 로드 포트의 임의의 외측을 낮은 청정도로 함으로써 클린룸 건설·가동 비용을 억제하도록 되어 있다.
로드 포트의 주된 기능은 통상, FOUP측의 도어를 밀착시켜 개폐하고, 반도체 제조 장치 내에 설치된 웨이퍼의 출납 장치와의 중개를 행한다(예를 들어, 특허 문헌 1 참조)고 하는 것이므로,「FOUP 오프너」라 불리는 경우도 있지만, FOUP 내에 저장된 웨이퍼의 매수나 위치를 매핑하는 기능을 갖춘 로드 포트도 개발되어 있다(예를 들어, 특허 문헌 2 참조).
[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 제2004-140011호 공보
[특허 문헌 2] 일본 특허 출원 공개 제2006-173510호 공보
종전에는 로드 포트를 통해 FOUP로부터 1매씩 반도체 제조 장치로 웨이퍼를 취입하여 매엽마다 반도체가 제조되고 있었지만, 최근에는 FOUP 내의 다수매의 웨이퍼를 로드 포트를 통해 한번에 반도체 제조 장치 내에 취입하여 반도체 제조를 행한다고 하는, 뱃치(batch) 처리에 의한 반도체 제조가 이루어지고 있다. 이러한 뱃치 처리의 경우, 클린룸 내에 있어서 반도체 제조 장치와 그 외측의 사이에 스토커라 불리는 FOUP의 보관고를 설치하여 스토커 내에 복수의 FOUP를 저장해 두고, 스토커 내에 배치된 로드 포트를 통해 차례로 FOUP로부터 웨이퍼를 정리하여 반도체 제조 장치 내에 취입하여 반도체의 제조를 행하고, 제조 후의 웨이퍼를 정리하여 본래의 FOUP로 로드 포트를 통해 복귀시킨다고 하는 공정이 채용된다. 이러한 뱃치 처리에 의한 반도체 제조의 경우, FOUP마다의 식별 관리에 부가하여 각 FOUP 내의 웨이퍼의 매핑 관리에 대해서도 가일층의 효율화와 비용 절감이 요구된다.
본 발명은, 이상과 같은 과제와, 로드 포트에 FOUP 내의 웨이퍼에 대한 매핑 기능을 갖출 수 있는 것을 고려하여, 특히 뱃치 처리에 의한 반도체 제조 공정에 있어서, 클린룸 내에 있어서의 스토커와 그 외부의 FOUP의 전달을 효율적으로 행할 수 있는 로드 포트의 제공을 주된 목적으로 하여 이루어진 것이다.
즉, 본 발명에 관한 로드 포트는 반도체의 제조 공정에 있어서 이용되는 것이며, 웨이퍼가 저장된 FOUP를 적재하는 주 테이블 및 FOUP 내의 웨이퍼에 대한 매 핑 수단을 구비한 로드 포트 본체와, FOUP를 주 테이블 상과 로드 포트 본체로부터 떨어진 소정 위치의 사이에서 이동시키는 이동 기구를 구비하고, 이 이동 기구에, 상기 소정 위치에 있어서 로드 포트 본체에 인접하는 다른 장치와의 사이에서, 웨이퍼를 저장한 상태의 FOUP를 전달 가능하게 하는 공간을 마련하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.
여기서, FOUP라 함은 상술한 바와 같이 웨이퍼를 청정한 환경에서 반송·보관하기 위한 FOUP(Front-Opening Unified Pod)라 불리는 저장용 용기를 말하며, 로드 포트 본체라 함은, 반도체 제조에 있어서의 클린룸 내에 있어서 반도체 제조 장치와 그 외측 사이에서 직접 간접을 막론하고 웨이퍼의 출납의 인터페이스부로서 기능하는 장치이다. 이러한 로드 포트 본체에 구비되는 매핑 수단은, 예를 들어 FOUP에 저장되어 있는 웨이퍼의 매수(존재 여부도 포함함)나 위치 등을 검출·기억 등을 행하는 장치로 구성되는 수단이다. 통상, FOUP 내에는 웨이퍼를 복수매 수납하기 위한 다단식 카세트가 내장되어 있어, 매핑 수단에 의해 카세트의 각 단마다의 웨이퍼의 매수(존재 여부도 포함함)나 위치 등을 검출·기억이 행해진다. 또한,「로드 포트 본체로부터 떨어진 소정 위치」라 함은, 주 테이블의 상방, 측방, 경사 방향 등, 어구대로 로드 포트 본체가 존재하지 않는 위치, 환언하면 로드 포트 본체와 접하는 위치나 로드 포트 본체의 내부를 제외한 위치를 의미한다. 또한, 이동 기구에 마련되는 상기 공간에는 이동 기구의 구성 부재 사이에 FOUP를 통과시킬 수 있는 간극을 마련한 구성의 공간이나, 혹은 이동 기구의 구성 부재를 피하여 FOUP를 통과시킬 수 있는 공간, 이동 기구의 구성 부재를 굳이 존재시키지 않 는 공간을 채용할 수 있다.
이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 로드 포트에서는, 우선 적절한 반송 수단에 의해 운반되어 온 FOUP를 주 테이블에 적재하고, 웨이퍼에 대해 매핑 수단에 의해 매핑을 행할 수 있고, 다음에 이동 수단에 의해 FOUP를 로드 포트 본체로부터 떨어진 소정 위치까지 이동시켜, 상기 공간을 통과하여 이 로드 포트 본체에 인접하는 다른 장치에 웨이퍼를 저장한 상태의 FOUP를 전달할 수 있다. 또한, 당해 다른 장치로부터 당해 공간을 통과하여 상기 소정 위치에서 웨이퍼가 저장된 FOUP를 수취하여 이동 수단에 의해 FOUP를 주 테이블 상으로 복귀시키고, 적절한 반송 수단에 의해 FOUP를 다른 위치로 반출시킬 수 있다.
예를 들어, 뱃치 처리가 가능한 반도체 제조 장치에 인접하여 FOUP를 다수 수용 가능한 스토커를 상기 다른 장치로서 배치하고, 이 스토커에 본 발명에 관한 로드 포트를 배치하는 경우를 고려하면, 이 로드 포트를 개재시킴으로써, 매핑 수단에 의해 매핑된 웨이퍼를 저장한 FOUP, 및 반도체 제조 장치에서 반도체로 제조된 웨이퍼를 저장한 FOUP(물론, 웨이퍼에 대한 매핑은 먼저 이루어져 있음)를 스토커로 직접 출납하는 것이 가능해진다. 또한, 스토커와 반도체 제조 장치 사이에서의 웨이퍼의 출납은, 적절한 로드 포트(본 발명과는 다른 종래와 같은 로드 포트라도 상관없음)를 통해 밀폐 상태에서 행하면 좋다. 즉, 스토커 내부는 반도체 제조 장치 내부와 비교하여 낮은 청정도로 하면서, 본 발명의 로드 포트에 의해 스토커 내외에 웨이퍼를 FOUP에 저장한 상태로 출납할 수 있고, 게다가 스토커 내에 수용된 FOUP 내의 웨이퍼는 본 발명의 로드 포트에 의해 미리 매핑 처리를 실시해 둘 수 있으므로, 뱃치 처리에 의한 반도체 제조 공정에 있어서의 시간 단축이나 비용 절감을 효율적으로 도모할 수 있다. 따라서 본 발명의 로드 포트는, 미니인바이론먼트 방식에 있어서 뱃치 처리에 의한 반도체 제조에 적합한 로드 포트라고 할 수 있다.
또한, 종래의 로드 포트에서는 반도체 제조 장치와 접하도록 2대 인접하여 나열하여, 한쪽의 로드 포트 상의 FOUP로부터 웨이퍼를 반도체 제조 장치로 송입하고, 다른 쪽의 로드 포트 상의 FOUP로 반도체 제조 장치로부터 반도체 제조된 웨이퍼를 복귀시킨다고 하는 웨이퍼에의 출납 각각에 전용의 로드 포트를 이용하는 것이 많이 보여진다. 이러한 반도체 제조 공정의 상황을 근거로 하여, 뱃치 처리의 경우에도 스토커의 외측(반도체 제조 장치와는 반대측)에 본 발명의 로드 포트로서 FOUP의 출납 각각에 전용의 것을 2대 인접시킨 사용 형태를 상정한 경우, 각 로드 포트의 횡방향으로는 넓은 공간을 확보하는 것은 곤란할 것이라 생각된다. 그래서, 본 발명에 있어서는 로드 포트에 구비하는 이동 기구를, 주 테이블과 상기 소정 위치로서 설정된 상기 주 테이블의 상방 위치의 사이에서 FOUP를 이동시키는 승강 기구로서 로드 포트 본체의 상방 위치에 있어서 스토커에 대해 FOUP를 출납할 수 있도록 함으로써 공간적인 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 전술한 승강 기구의 경우도 포함하여 이동 기구에는 상기 소정 위치를 포함하는 로드 포트 본체로부터 떨어진 위치에 있어서 FOUP를 적재하는 부 테이블을 구비하는 것으로 함으로써, 주 테이블로부터 떨어진 위치에 있어서도 FOUP를 안정적으로 이동시킬 수 있다.
특히 이러한 부 테이블을 이동 기구에 설치하는 경우, FOUP가 주 테이블에 적재되어 있을 때에 주 테이블과 부 테이블이 간섭하지 않도록 하기 위해서는 부 테이블에 주 테이블과의 간섭을 피하는 오목부를 형성하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 기존의 로드 포트에 있어서의 주 테이블의 구성에 변경을 가할 필요성을 없애거나 적어도 저감시킬 수 있다.
본 발명의 로드 포트이면, 매핑 처리가 실시된 웨이퍼가 저장된 FOUP를, 로드 포트 본체로부터 떨어진 위치에 있어서 인접하는 장치, 예를 들어 뱃치 처리에 의한 반도체 제조 공정에 있어서 반도체 제조 장치에 인접 배치되는 장치인 스토커에 대해 직접 출납하는 것이 가능해지므로, 스토커 등의 반도체 제조 장치에 대해 웨이퍼를 출납하는 장치 내에서 매번 매핑을 행할 필요가 없고, 또한 스토커 등의 내부를 낮은 청정도로 할 수 있으므로, 반도체 제조의 비용 삭감이나 시간 단축 등의 효과를 효율적으로 얻을 수 있다. 그로 인해, 본 발명에 따르면 뱃치 처리에 의한 반도체 제조에 이용하는 데 매우 적합한 로드 포트를 제공하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명의 일 실시 형태를 도면을 참조하여 설명한다. 도1은 본 실시 형태에 관한 로드 포트(1)를 적용하여 행해지는 뱃치 처리에 의한 반도체 제조를 위한 클린룸(A) 내의 일부를 측방으로부터 개략적으로 본 도면이고, 도2는 상기 클린룸(A) 내의 일부를 상방으로부터 개략적으로 본 도면이다. 이들 각 도면에 도시 하는 바와 같이, 이 클린룸(A) 내에는 반도체 제조 장치(B)와 스토커(C)를 밀접하게 배치하고 있고, 스토커(C)의 반도체 제조 장치(B)와는 반대측에는 본 실시 형태의 로드 포트(1)를 2대 인접 배치하고 있다. 한쪽의 로드 포트(1)는 웨이퍼(도시 생략)를 저장한 용기인 FOUP(4)를 스토커(C)에 설치된 셔터(Ca)를 통해 스토커(C) 내에 수용할 때에 이용되는 것이며, 다른 쪽의 로드 포트(1)는 스토커(C) 내로부터 셔터(Ca)를 통해 반도체로서 제조된 웨이퍼가 저장된 FOUP(4)를 취출할 때에 이용되는 것이다. 이들 2대의 로드 포트(1)의 구성은 동등하다. 또한, 스토커(C) 내에는 다수의 F0UP(4)를 동시에 수용하고 있지만, 각 FOUP(4)로부터 차례로 웨이퍼를 카세트(상상선으로 나타냄)(41)마다 취출하거나, 또는 각 FOUP(4)로 반도체로서 제조된 웨이퍼를 카세트(41)마다 되돌려 넣기 위해 종래부터 이용되고 있는 일반적인 로드 포트(10)를 2대, 반도체 제조 장치(A)와 밀접시켜 배치하고 있다. 또한, 여기서 이용되는 FOUP(4)로서는 이미 알려진 적절한 것을 이용할 수 있다. 또한, 반도체 제조 장치(B)나 스토커(C)에 대해서도 뱃치 처리에 의한 반도체 제조에 대응한 것이면 적절한 것을 이용할 수 있다. 또한, 반도체 제조 장치(B) 내부와 FOUP(4) 내부는 높은 청정도로 유지되어 있지만, 그 이외의 스토커(C) 내를 포함하는 클린룸(A) 전체는 비교적 낮은 청정도로 하고 있다. 이하, 본 실시 형태의 로드 포트(1)의 구성에 대해 설명한다.
이 로드 포트(1)는, 도3 및 도4에 도시하는 바와 같이 주로 로드 포트 본체(2)와, 로드 포트 본체(2)에 적재되는 FOUP(4)를 이동시키는 이동 기구의 일 형태인 승강 기구(3)로 구성된다. 로드 포트 본체(2)는 종래의 일반적인 로드 포 트(10)와 동일한 구성을 갖는 것이며, 직사각형 판 형상을 이루고 대략 연직 자세로 배치되는 로드 포트 프레임(21)과, 이 로드 포트 프레임(21)의 높이 방향 중앙부로부터 약간 상방으로 치우친 위치에 브래킷(23) 등의 부재에 의해 대략 수평 자세로 설치되는 지지판(22)과, 로드 포트 프레임(21)의 배면측 등에 설치된 매핑 장치(24)(도1 및 도2에 모식적으로 도시함)를 주로 구비하고 있다. 로드 포트 프레임(21)은 그 하단부에 대차(25)를 장착함으로써 기립 자세가 유지되고, 또한 클린룸(A) 내를 이동 가능하게 되어 있고, 통상은 배면을 스토커(C)의 전방면에 밀착한 상태에서 사용된다. 또한, 도3 및 도4에는 로드 포트 프레임(21)과 지지판(22)과 대차(25)에 의해 포위되는 로드 포트 본체(2)의 내부를 알 수 있도록 도시하고 있지만, 통상은 이 내부 공간을 커버(28)(2점 쇄선으로 도시함)로 덮고 있다.
또한, 로드 포트 프레임(21)에는 도3, 도4, 도5, 도6에 도시하는 바와 같이, 지지판(22) 상의 FOUP(4)의 배면에 설치되는 도어(도시 생략)를 밀착시킨 상태에서 그 도어를 개방하는 동시에, 통상은 인접하는 반도체 제조 장치(B) 내부와 FOUP(4) 내부를 외기를 차단하여 연통시키는 개폐 가능한 도어(26)가 형성되어 있지만, 본 실시 형태에서는 이 도어(26)는 사용되지 않는다. 또한, 지지판(22)의 바로 위에는 반송 장치 등으로부터 운반되어 온 FOUP(4)를 직접 적재하기 위한 주 테이블(27)이 설치되어 있다. 이 주 테이블(27)에는, 도시예에서는 평면에서 볼 때 대략 삼각 형상을 이루는 판 형상의 부재이며, 상향으로 돌출시킨 3개의 돌기(27a)를 형성하고 있고, 이들 돌기(27a)를 FOUP(4)의 저면에 형성된 구멍(도시 생략)에 결합시킴으로써 주 테이블(27) 상에 있어서의 FOUP(4)의 위치 결정을 도모하고 있다. 또한, 이 주 테이블(27)에는 적재되어 있는 FOUP(4)를 도어(26)에 접리(接離)하도록 이동시키는 기능이나, 반송 장치로부터 임의의 방향에서 적재된 FOUP(4)의 방향을 정확한 방향으로 변경하는 기능을 설치할 수 있지만, 본 실시 형태에서는 이들 기능은 사용되지 않는다. 또한, 각 FOUP(4) 내의 웨이퍼에 대해 매핑 처리를 행하는 매핑 수단은, 상술한 매핑 장치(24)나 매핑 장치(24)의 주로 높이 방향의 위치 결정을 위한 승강 장치(도시 생략) 등으로 구성된다. 여기서, 웨이퍼의 매핑을 행할 때에는 FOUP(4)의 배면측의 덮개(도시 생략)를 일단 개방하게 된다. 그때, FOUP(4) 내의 청정도가 저하되지 않도록 하기 위해, 로드 포트 본체(2)에 있어서 N2 퍼지 가스를 채운 기밀 구조를 설치해 두고, 이 기밀 구조와 덮개가 개방된 FOUP(4)를 연통시킨 상태에서 매핑을 행함으로써 FOUP(4) 내부를 매우 높게 청정한 상태를 유지할 수 있도록 하고 있다.
승강 기구(3)는 로드 포트 본체(2)의 주 테이블(27) 대신에 FOUP(4)를 적재할 수 있는 부 테이블(31)과, 이 부 테이블(31)을 주 테이블(27)의 근방에 설정되는 강하 위치와 그 상방이고 로드 포트 프레임(21)의 상단부보다도 높은 위치에 설정되는 소정의 상승 위치 사이에서 승강 동작시키는 이동 장치의 일 형태인 승강 장치(32)와, 이 승강 장치(32)에 의한 부 테이블(31)의 동작을 안정시키는 가이드부(33)를 구비하고 있다. 부 테이블(31)은, 도3 및 도5에 도시하는 강하 위치에 있어서는 지지판(22)의 상면측에 겹쳐 있고, 그 강하 위치에 있어서 주 테이블(27) 및 주 테이블(27)의 상술한 동작과 간섭하지 않는 오목부(31a)를 형성한 개략 판 형상을 이루는 부재이다. 이 부 테이블(31)에는 주 테이블(27)의 돌기(27a)와는 위치를 다르게 하여 상향으로 돌출시킨 3개의 돌기(31b)를 형성하고 있고, 이들 돌기(31b)를 FOUP(4)의 저면에 형성된 전술한 바와는 상이한 구멍(도시 생략)에 결합시킴으로써 부 테이블(31) 상에 있어서의 FOUP(4)의 위치 결정을 도모하고 있다. 즉, FOUP(4)의 저면에는 6개의 위치 결정용 구멍이 형성되어 있고, 그 중 3개를 주 테이블(27)의 돌기(27a)와, 나머지 3개를 부 테이블(31)의 돌기(31b)와 각각 결합시킬 수 있도록 하고 있다.
승강 장치(32)는, 본 실시 형태에서는 복수(도시예에서는 2개)의 액압식 또는 가스압식 실린더(320)로 구성된다. 구체적으로 이 실린더(320)는, 로드 포트 본체(2)의 대차(25)와 지지판(22) 사이에 연직 자세로 개재시킨 원통 형상의 실린더 본체(321)와, 이 실린더 본체(321)로부터 상방으로 돌출하도록 지지판(22)을 관통하여 상단부를 부 테이블(31)에 고정한 로드(322)를 갖는 것이다. 실린더 본체(321)는 로드 포트 본체(2)에 있어서의 지지판(22)에 대한 지지 부재로서의 기능도 갖고 있다. 그리고 액압 또는 가스압에 의해 로드(322)를 실린더 본체(321)로부터 상하로 돌출 몰입시킴으로써, 부 테이블(31)을 지지판(22)에 겹친 강하 위치(도3, 도5)와, 소정의 상승 위치(도4, 도6) 사이에서 상하 동작하도록 하고 있다. 또한, 소정의 상승 위치라 함은 스토커(C)에 FOUP(4)를 넣거나, 또는 스토커(C)로부터 FOUP(4)를 취출하기 위해 스토커(C)에 설치된 셔터(Ca)(도1, 도2 참조)의 전방 위치(정면)를 의미한다. 또한, 가이드부(33)는 지지판(22)을 상하로 관통하여 상단부를 부 테이블(31)에 고정하여 연직 자세로 된 복수(도시예에서는 3개)의 가 이드 막대(331)와, 이들 가이드 막대(331)를 지지판(22)을 관통하는 위치에서 각각 미끄럼 이동 가능하게 지지하는 가이드 링(332)으로 구성된다. 즉, 승강 장치(32)에 의해 부 테이블(31)이 상하 동작하는 것에 따라서 가이드 막대(331)가 가이드 링(332)을 따라 상하 동작함으로써, 2개의 실린더(320)에 의한 FOUP(4)를 적재한 부 테이블(31)의 움직임의 안정성을 향상시키고 있다.
또한, 도4 및 도6에 도시하는 상승 위치에서는, FOUP(4)의 셔터(Ca)를 통과한 스토커(C)에의 출입이 원활하게 행해지도록, 부 테이블(31)에 적재된 FOUP(4)의 배후로부터 스토커(C)의 셔터(Ca)의 전방면까지의 사이에 있어서는, 승강 기구(3)를 구성하는 부재를 존재시키지 않는 공간(34)으로 하고 있다. 즉, 이 공간(34)을 통해 장해물 없이 로드 포트(1)와 스토커(C) 사이에서 FOUP(4)를 교대로 전달할 수 있도록 하고 있다. 물론, 상승 위치에서는 FOUP(4)와 스토커(C)의 셔터(Ca)의 사이에 로드 포트 본체(2)의 구성 부재가 존재하는 일은 없다.
그리고 FOUP(4)의 스토커(C)에의 출납은 다음과 같은 순서로 행해진다. 우선, 반송 장치에 의해 전공정으로부터 반입되어 로드 포트 본체(2)의 주 테이블(27)에 적재된 FOUP(4)에 대해서는, 상술한 바와 같이 기밀 상태하에서 매핑 수단에 의해 내부의 웨이퍼에 대한 매핑이 행해진다. 다음에 승강 기구(3)에 의해 FOUP(4)가 부 테이블(31)에 적재되어 상승 위치까지 도달하면(도1 및 도2, 상상선을 참조), 셔터(Ca)가 자동적으로 개방되어 이송 장치(Cb)가 스토커(C)로부터 연장 돌출되고, 부 테이블(31)로부터 FOUP(4)를 들어올려 돌기(31b)와 FOUP(4) 저면의 구멍의 결합을 해제하여 스토커(C) 내로 반입한다. 스토커(C) 내에서는 저장되어 있는 다수의 FOUP(4)가 차례로 로드 포트(10)에 적재되고, 이 로드 포트(10)를 통해 밀폐 상태에서 FOUP(4)의 내부로부터 웨이퍼가 카세트(41)에 저장된 상태에서 반도체 제조 장치(B) 내로 운반된다. 또한, FOUP(4)로부터 취출되는 웨이퍼는 이미 로드 포트(1)에 의해 매핑 처리가 이루어져 있으므로, 스토커(C) 내의 로드 포트(10)에는 매핑 수단을 반드시 설치할 필요는 없으며, 이 점에서 비용 삭감이 도모된다. 또한, 빈 FOUP(4)는 적절한 수단에 의해 자동적으로 인접한 취출용으로서 설치된 로드 포트(10) 상으로 이설된다. 한편, 반도체 제조 장치(B)에 의해 반도체로서 제조가 종료된 웨이퍼는 카세트(41)에 저장된 상태에서, 스토커(C) 내의 이미 서술한 취출용 로드 포트(10)를 통해 FOUP(4) 내에 밀폐 상태로 저장된다. FOUP(4)의 도어가 폐쇄되면, 당해 FOUP(4)는 스토커(C) 내를 차례로 이송 장치(Cb)까지 운반되고, 셔터(Ca)가 폐쇄되면 조금 전의 로드 포트(1)의 인접한 로드 포트(1)에 있어서 상승 위치에서 대기하고 있는 부 테이블(31)에 FOUP(4)가 이동된다. 그 후, 승강 기구(3)가 작동하여 강하 위치까지 부 테이블(31) 및 FOUP(4)가 내려지면, FOUP(4)는 주 테이블(27)로 적재된 후, 반송 장치에 의해 다음 공정으로 반출된다.
이상에 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 로드 포트(1)를 이용하면 종래부터 있는 로드 포트로서의 기능을 저해하지 않고, 일단 주 테이블(27)에 적재한 FOUP(4)를 승강 기구(이동 기구)(3)에 의해 부 테이블(31)에 적재한 상태에서 로드 포트 본체(2)로부터 떨어진 위치까지 이동시키고, 그 위치로부터 매핑 처리가 완료된 웨이퍼를 FOUP(4)마다 인접하는 스토커(C)에 반입할 수 있게 되고, 또한 반도체 로서 제조된 웨이퍼가 저장된 FOUP(4)를 스토커(C)로부터 그대로 반출할 수 있게 되므로, 미니인바이론먼트 방식을 적용한 뱃치 처리에 의한 반도체 제조의 효율화와 비용 삭감에 크게 기여하는 것이 가능하다.
또한, 본 발명은 상술한 각 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 이동 기구는 상술한 실시 형태와 같은 승강 기구(3)에 한정되지 않고, FOUP(4)를 적재한 부 테이블(31)을 좌우나 경사 방향으로 이동시키는 것으로 해도 상관없다. 그 밖에, 로드 포트 본체나 이동 기구를 구성하는 각 부의 구체적 구성에 대해서도 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다양하게 변형이 가능하다.
도1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 로드 포트가 적용되는 클린룸의 일부를 모식적으로 도시하는 측면도.
도2는 상기 클린룸의 일부를 모식적으로 도시하는 평면도.
도3은 로드 포트의 부 테이블이 강하 위치에 있는 상태를 도시하는 사시도.
도4는 상기 로드 포트의 부 테이블이 상승 위치에 있는 상태를 도시하는 사시도.
도5는 상기 로드 포트의 부 테이블이 강하 위치에 있는 상태를 일부를 확대하여 도시하는 사시도.
도6은 상기 로드 포트의 부 테이블이 상승 위치에 있는 상태를 일부를 확대하여 도시하는 사시도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 로드 포트
2 : 로드 포트 본체
3 : 이동 기구(승강 기구)
4 : FOUP
24 : 매핑 장치
27 : 주 테이블
31 : 부 테이블
31a : 오목부
32 : 승강 장치
34 : 공간
A : 클린룸
B : 반도체 제조 장치
C : 스토커

Claims (4)

  1. 반도체의 제조 공정에 있어서 이용되는 로드 포트이며,
    웨이퍼가 저장된 FOUP를 적재하는 주 테이블과, 상기 FOUP 내의 웨이퍼에 대한 매핑 수단을 구비한 로드 포트 본체와,
    상기 FOUP를 상기 주 테이블 상과 상기 로드 포트 본체로부터 떨어진 소정 위치의 사이에서 이동시키는 이동 기구를 구비하고,
    당해 이동 기구에, 상기 소정 위치에 있어서 상기 로드 포트 본체에 인접하는 다른 장치와의 사이에서, 상기 웨이퍼를 저장한 상태의 상기 FOUP를 전달 가능하게 하는 공간을 마련하고 있는 것을 특징으로 하는 로드 포트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 이동 기구는, 상기 FOUP를 상기 주 테이블과 상기 소정 위치로서 설정된 상기 주 테이블의 상방 위치와의 사이에서 이동시키는 승강 기구인 로드 포트.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 이동 기구는 상기 소정 위치를 포함하는 상기 로드 포트 본체로부터 떨어진 위치에 있어서 상기 FOUP를 적재하는 부 테이블을 구비하고 있는 로드 포트.
  4. 제3항에 있어서, 상기 부 테이블에, 상기 FOUP가 상기 주 테이블에 적재되어 있을 때에, 당해 주 테이블과의 간섭을 피하는 오목부를 형성하고 있는 로드 포트.
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