JP6014982B2 - サイド用ロードポート、efem - Google Patents
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さらに、本発明のサイド用ロードポートが、旋回機構によってFOUPの向きを変える旋回処理時の載置テーブルの高さ位置を、FOUP受渡位置においてFOUP搬送装置との間でFOUPを受け渡す時点及びウェーハ出入位置においてウェーハの出し入れ処理を行う時点の載置テーブルの高さ位置よりも高くする昇降機構を備えたものであれば、旋回処理時に載置テーブル及び載置テーブル上のFOUPが他の部材と不意に干渉することを防止することができ、スムーズな旋回処理を実現することができる。
Transfer)などのFOUP搬送装置によって把持可能なフランジ部x1を上面に設け、両側面にはハンドルx2を設けた既知のものであり、詳細な説明は省略する。なお、後出の図5乃至図8ではFOUPxの外観を模式的に示すとともに、FOUPxの向きを直感的に把握できるようにハンドルx2を簡略化して示している。
6…移動機構
7…旋回機構
8…昇降機構
B…ウェーハ搬送室
C…ロードポート
D…ウェーハ処理装置
L…搬送ライン
x…FOUP
Claims (4)
- 前面にロードポートが配置されるウェーハ搬送室の少なくとも一方の側面に配置され、これらウェーハ搬送室及びロードポートとともにEFEMを構成するサイド用ロードポートであり、
内部にウェーハを収容可能なFOUPを載置可能な載置テーブルと、
前記載置テーブルを、前記各ロードポートがFOUP搬送装置との間でFOUPを受け渡す位置と同一直線上に設定したFOUP受渡位置と、前記ウェーハ搬送室の側面に前記FOUPを密着させ得る位置に設定したウェーハ出入位置との間で、前記ウェーハ搬送室の側面に平行な移動経路に沿って前記FOUP搬送装置の搬送ラインの延伸方向と略直交する方向に移動させる移動機構とを備え、
前記載置テーブルを前記FOUP受渡位置に配置した状態で前記FOUP搬送装置との間でFOUPを受け渡すことが可能であるとともに、前記載置テーブルを前記ウェーハ出入位置に配置した状態でFOUP内に格納されているウェーハを前記ウェーハ搬送室内との間で出し入れ可能なものであり、
さらに、前記FOUP受渡位置において前記FOUP搬送装置との間でFOUPを受け渡す時点におけるFOUPの向きと、前記ウェーハ出入位置においてウェーハの出し入れ処理を行う時点におけるFOUPの向きとを異ならせる旋回機構を備え、
当該旋回機構は、前記移動経路内において前記載置テーブルを鉛直軸回りに旋回させ、当該載置テーブル上に載置したFOUPの向きを変更させるものであり、
前記載置テーブルを前記ウェーハ出入位置に配置した状態において、FOUPのウェーハ搬出入用開口部が前記ウェーハ搬送室の側面を向くように設定していることを特徴とするサイド用ロードポート。 - 前記移動機構は、長手方向を前記ウェーハ搬送室の側面と平行な方向に一致させたレールと、当該レールに沿って移動可能な台車とを備えたものであり、
前記台車上に前記旋回機構及び前記載置テーブルを配置している請求項1に記載のサイド用ロードポート。 - 前記旋回機構によって前記FOUPの向きを変える旋回処理時の前記載置テーブルの高さ位置を、前記FOUP受渡位置において前記FOUP搬送装置との間でFOUPを受け渡す時点及び前記ウェーハ出入位置においてウェーハの出し入れ処理を行う時点の前記載置テーブルの高さ位置よりも高くする昇降機構を備えている請求項1又は2に記載のサイド用ロードポート。
- 請求項1乃至3の何れかに記載の1台以上のサイド用ロードポートと、当該サイド用ロードポートを側面に隣接して設けたウェーハ搬送室と、当該ウェーハ搬送室の前面に隣接して設けたロードポートとによって構成したことを特徴とするEFEM。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011213025A JP6014982B2 (ja) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | サイド用ロードポート、efem |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011213025A JP6014982B2 (ja) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | サイド用ロードポート、efem |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013074183A JP2013074183A (ja) | 2013-04-22 |
JP6014982B2 true JP6014982B2 (ja) | 2016-10-26 |
Family
ID=48478405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011213025A Active JP6014982B2 (ja) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | サイド用ロードポート、efem |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6014982B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6235294B2 (ja) * | 2013-10-07 | 2017-11-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送室及び容器接続機構 |
JP6166143B2 (ja) * | 2013-10-09 | 2017-07-19 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス | 搬送システム |
WO2016098930A1 (ko) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 주식회사 썬닉스 | 다방향 웨이퍼 이송 시스템 |
KR101534667B1 (ko) * | 2015-01-29 | 2015-07-08 | 주식회사 썬닉스 | 다방향 웨이퍼 이송 시스템 |
KR101541836B1 (ko) * | 2015-03-20 | 2015-08-04 | 주식회사 썬닉스 | 다방향 웨이퍼 이송 시스템 |
KR101619243B1 (ko) | 2015-10-05 | 2016-05-18 | 주식회사 썬닉스 | 다방향 웨이퍼 이송 시스템 |
JP6882656B2 (ja) * | 2016-07-08 | 2021-06-02 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ロードポート及びロードポートを備える基板搬送システム |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0685032A (ja) * | 1992-07-14 | 1994-03-25 | Kokusai Electric Co Ltd | 基板搬送装置 |
JP3416796B2 (ja) * | 1993-02-26 | 2003-06-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
JPH10256346A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Tokyo Electron Ltd | カセット搬出入機構及び半導体製造装置 |
JP2000091405A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理システム及び基板のカウンタ |
JP4369159B2 (ja) * | 2003-05-26 | 2009-11-18 | 株式会社日立製作所 | 真空処理装置 |
US7578650B2 (en) * | 2004-07-29 | 2009-08-25 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Quick swap load port |
US7604449B1 (en) * | 2005-06-27 | 2009-10-20 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Equipment front end module |
US7585142B2 (en) * | 2007-03-16 | 2009-09-08 | Asm America, Inc. | Substrate handling chamber with movable substrate carrier loading platform |
-
2011
- 2011-09-28 JP JP2011213025A patent/JP6014982B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013074183A (ja) | 2013-04-22 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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