KR101619243B1 - 다방향 웨이퍼 이송 시스템 - Google Patents

다방향 웨이퍼 이송 시스템 Download PDF

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김재민
이상신
박규성
김용기
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Abstract

마주 보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트 사이에 웨이퍼 카세트 이송 장치를 구성함으로써, 웨이퍼 이송 장치가 설치되는 장소에 대한 공간 활용도를 극대화할 수 있고, 장치 설치 비용도 절감할 수 있는 다방향 웨이퍼 이송 시스템이 소개된다. 이러한 다방향 웨이퍼 이송 시스템은 도어부가 마주 보도록 배치되는 적어도 한 쌍의 웨이퍼 이송 장치와, 상기 마주보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트와, 그 내부에 웨이퍼를 보관하도록 구성되는 웨이퍼 카세트와, 상기 마주보는 로드 포트 사이에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트를 회전 및 수평 이동 시키는 웨이퍼 카세트 이송 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

다방향 웨이퍼 이송 시스템{MULTI-DIRECTIONAL SYSTEM FOR TRANSFERRING WAFER}
본 발명은 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 이송 장치의 설치 공간을 줄일 수 있는 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 관한 것이다.
반도체의 제조 공정에 있어서, 일반적으로 웨이퍼의 제조 및 이송은 수율이나 품질의 향상을 위해 클린룸 내에서의 이루어져 왔다.
그러나 소자의 고집적화나 미세화, 웨이퍼의 대형화가 진행되고 있는 요즘에는 클린룸 전체에서 작은 먼지들을 관리하는 것이 비용적인 면이나 기술적인 면을 고려할 때, 바람직하지 않은 것으로 판단되어. 최근에는 클린룸 전체의 청정도 향상을 대신하는 방법으로서, 웨이퍼 주위의 국소적인 공간에 대해서만 청정도를 보다 향상시키는 미니 인바이런먼트 방식을 도입하고, 웨이퍼의 이송과 그 외의 처리를 행하는 수단이 채용되고 있다.
미니 인바이런먼트 방식에서는, 웨이퍼를 고청정한 상태로 이송 및 보관하기 위한 웨이퍼 카세트[FOUP(Front-Opening Unified Pod)]가 사용되고, 웨이퍼 이송실을 포함하는 웨이퍼 이송 장치[EFEM(Equipment Front End Module)]가 배치되며, 웨이퍼 카세트 내의 웨이퍼를 웨이퍼 이송 장치로 출입시킬 때, 인터페이스 역할을 하는 로드 포트(Load Port)가 웨이퍼 이송 장치에 설치된다.
한편, 위와 같이 구성된 미니 인바이런먼트 방식의 웨이퍼 이송 시스템에 있어서, 로드 포트에 웨이퍼 카세트가 적재되면 로드 포트에 설치한 도어부에 웨이퍼 카세트의 도어를 밀착시키고, 이들 도어부 및 도어를 동시에 개방한 뒤, 웨이퍼 이송실 내에 설치한 웨이퍼 이송 로봇에 의해 웨이퍼 카세트 내부의 웨이퍼를 웨이퍼 이송실로 취출하거나, 웨이퍼 이송실의 웨이퍼를 로드 포트를 통하여 웨이퍼 카세트 내부로 수납할 수 있도록 이루어져 있다.
그런데 종래에는 위와 같은 웨이퍼 이송 장치를 설치함에 있어서, 마주보는 웨이퍼 이송 장치들 사이의 간격이 최소 1.5m 정도 이격되어야 했기에 한정된 설치 공간 내에 적은 수의 웨이퍼 이송 장치만을 설치할 수 밖에 없는 문제점이 있었다.
대한민국 등록 특허 제10-0737226호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 마주 보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트 사이에 웨이퍼 카세트 이송 장치를 구성함으로써, 웨이퍼 이송 장치가 설치되는 장소에 대한 공간 활용도를 극대화할 수 있고, 장치 설치 비용도 절감할 수 있는 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템은, 도어부가 마주 보도록 배치되는 적어도 한 쌍의 웨이퍼 이송 장치와, 상기 마주보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트와, 그 내부에 웨이퍼를 보관하도록 구성되는 웨이퍼 카세트와, 상기 마주보는 로드 포트 사이에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트를 회전 및 수평 이동 시키는 웨이퍼 카세트 이송 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 웨이퍼 카세트 이송 장치는 바닥에 지지되어 일정 높이를 갖도록 형성되는 베이스 프레임과, 상기 베이스 프레임의 상측에 설치되어 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향으로 작동하도록 구성되는 제1 액추에이터와, 상기 제1 액추에이터의 상측에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트를 지지하고, 상기 제1 액추에이터에 의해 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향으로 슬라이딩 이동하며, 상기 웨이퍼 카세트를 목적하는 방향으로 회전시키는 이동형 회전 지지 기구를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 이동형 회전 지지 기구는 상기 제1 액추에이터의 상측에서 슬라이딩 이동 가능하게 설치되는 이동 플레이트와, 이 이동 플레이트의 상측에 설치되는 회전 모터와, 이 회전 모터의 상측에 회전 가능하게 설치되는 회전 플레이트를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 회전 플레이트의 하측에는 상기 회전 플레이트의 회전을 가이드하면서 회전시 상기 회전 플레이트의 기울어짐을 방지하는 구름 부재가 설치되는 것이 바람직하다.
상기 마주보는 로드 포트는 상기 웨이퍼 카세트를 지지할 수 있도록 수평 방향으로 돌출되어 형성되는 지지대를 각각 구비하고, 상기 웨이퍼 카세트 이송 장치는 바닥에 지지되어 일정 높이를 갖도록 형성되는 베이스 프레임과, 상기 베이스 프레임의 상측에 설치되고, 상기 지지대의 하측에 위치되며, 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향으로 작동하도록 구성되는 제2 액추에이터와, 상기 제2 액추에이터의 상측에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트를 지지하고, 상기 웨이퍼 카세트를 목적하는 방향으로 회전시키는 고정형 회전 지지 기구와, 상기 제2 액추에이터에 설치되어 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향으로 슬라이딩 이동하고, 상기 웨이퍼 카세트를 파지하여 상하 방향으로 이동시키는 웨이퍼 카세트 파지 기구를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 고정형 회전 지지 기구는 상기 제2 액추에이터의 중앙부 상측에 설치되는 고정 플레이트와, 이 고정 플레이트의 상측에 설치되는 회전 모터와, 이 회전 모터의 상측에 회전 가능하게 설치되는 회전 플레이트를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 회전 플레이트의 하측에는 상기 회전 플레이트의 회전을 가이드하면서 회전시 상기 회전 플레이트의 기울어짐을 방지하는 구름 부재가 설치되는 것이 바람직하다.
상기 웨이퍼 카세트 파지 기구는 상기 제2 액추에이터에 설치되어 슬라이딩 이동하는 슬라이딩 플레이트와, 이 슬라이딩 플레이트의 양 단에 형성되어 상기 웨이퍼 카세트를 파지하거나 파지를 해제하도록 작동하고, 상기 웨이퍼 카세트를 파지한 상태에서 상하 방향으로 이동시키는 한 쌍의 파지 유닛을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 파지 유닛은 상기 슬라이딩 플레이트로부터 상방향으로 돌출되도록 형성되는 하우징과, 이 하우징에 설치되어 상하 방향으로 작동하는 제3 액추에이터와, 이 제3 액추에이터에 설치되어 수평 방향으로 작동하는 제4 액추에이터와, 이 제4 액추에이터에 설치되는 파지 플레이트를 포함하는 것이 바람직하다.
상술한 바와 같은 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 따르면, 마주 보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트 사이에 웨이퍼 카세트 이송 장치를 구성함으로써, 웨이퍼 이송 장치가 설치되는 장소에 대한 공간 활용도가 극대화될 수 있게 되고, 장치 설치 비용이 절감될 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 개략적으로 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 측면도.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 작동 상태를 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 작동 상태를 나타낸 다른 도면.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 사시도.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 측면도.
도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 좌측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제1 단계를 나타낸 도면.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 좌측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제2 단계를 나타낸 도면.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 좌측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제3 단계를 나타낸 도면.
도 11은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 우측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제1 단계를 나타낸 도면.
도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 우측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제2 단계를 나타낸 도면.
도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 우측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제3 단계를 나타낸 도면.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 사시도이며, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 측면도이고, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 작동 상태를 나타낸 도면이며, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 작동 상태를 나타낸 다른 도면이다.
도 1 내지 도 5를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 웨이퍼 이송 시스템은 도어부(100a)가 마주 보도록 배치되는 적어도 한 쌍의 웨이퍼 이송 장치(100)와, 상기 마주보는 웨이퍼 이송 장치(100)에 각각 설치되는 로드 포트(200)와, 그 내부에 웨이퍼를 보관하도록 구성되는 웨이퍼 카세트(300)와, 상기 마주보는 로드 포트(200) 사이에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트(300)를 회전 및 수평 이동 시키는 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)를 포함한다.
상기 로드 포트(200)는 상기 웨이퍼 이송 장치(100)의 전면부에 설치되는 몸체(210)를 포함하며, 종래의 경우, 상기 웨이퍼 카세트(300)를 지지할 수 있도록 상기 몸체(210)에 지지대가 돌출 형성되었으나, 본 발명의 제1 실시예의 경우, 상기 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)가 지지대로서의 기능을 행한다.
상기 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)는 바닥에 지지되어 일정 높이를 갖도록 형성되는 베이스 프레임(410)과, 상기 베이스 프레임(410)의 상측에 설치되어 상기 마주보는 로드 포트(200)를 향하는 방향으로 작동하도록 구성되는 제1 액추에이터(420)와, 상기 제1 액추에이터(420)의 상측에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트(300)를 지지하고, 상기 제1 액추에이터(420)에 의해 상기 마주보는 로드 포트(200)를 향하는 방향으로 슬라이딩 이동하며, 상기 웨이퍼 카세트(300)를 목적하는 방향으로 회전시키는 이동형 회전 지지 기구(430)를 포함한다.
상기 제1 액추에이터(420)는 리니어 모터이거나 슬라이딩 이동되는 구조로 이루어지는 로봇 장치일 수 있다.
상기 베이스 프레임(410)에는 상기 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)의 작동을 제어하거나 모니터링하기 위한 디스플레이 설비(M)가 설치된다.
상기 이동형 회전 지지 기구(430)는 상기 제1 액추에이터(420)에 설치되어 상기 제1 액추에이터(420)의 상측에서 슬라이딩 이동하는 이동 플레이트(431)와, 이 이동 플레이트(431)의 상측에 설치되는 회전 모터(432)와, 이 회전 모터(432)의 상측에 회전 가능하게 설치되는 회전 플레이트(433)를 포함하며, 상기 회전 플레이트(433)의 하측에는 상기 회전 플레이트(433)의 회전을 가이드하면서 회전시 상기 회전 플레이트(433)의 기울어짐을 방지하는 구름 부재(433a)가 설치된다.
상기 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)의 설치로 인해 본 발명의 제1 실시예 및 후술할 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템은 도 1에 도시된 것처럼 여러 대의 웨이퍼 이송 장치를 공간 활용이 극대화될 수 있게 배치할 수 있다.
종래의 경우 웨이퍼 이송 장치(100)를 여러 대 설치할 경우 웨이퍼 이송 장치(100)의 길이(L) 만큼의 공간이 계속적으로 필요하였지만, 본 발명의 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 경우, 도 1에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 이송 장치(100)를 서로 최대한 밀착시켜 마주보도록 배치하여 시스템 전체의 길이(L2)와 폭(L1)을 축소할 수 있다.
한편, 위와 같이 구성된 본 발명의 제1 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 이동형 회전 지지 기구(430)에 웨이퍼 카세트(300)가 놓여지게 되면, 상기 웨이퍼 카세트(300)는 좌측의 웨이퍼 이송 장치(100)나 우측의 웨이퍼 이송 장 치(100) 중 한 곳으로 이송되며, 이를 위해 우선 상기 이동형 회전 지지 기구(430)의 회전 플레이트(433)는 목적하는 방향으로 회전하게 되고, 이후, 상기 이동형 회전 지지 기구(430)의 이동 플레이트(431)가 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향인 화살표(A) 방향을 따라 슬라이딩 이동하게 된다.
예컨대, 도 3에 도시된 것처럼, 상기 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)가 좌측의 웨이퍼 이송 장치(100)를 향하도록 상기 회전 플레이트(433)가 회전되는 경우, 상기 제1 액추에이터(420)를 작동시켜 상기 이동형 회전 지지 기구(430)의 이동 플레이트(431)를 화살표(B) 방향으로 이동시킴으로써, 상기 웨이퍼 카세트(300)가 좌측의 웨이퍼 이송 장치(100)까지 이동되도록 하고, 웨이퍼 이송 장치(100)의 도어부(100a)와 로드 포트(200)의 도어부(200a) 및 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)를 개방한 뒤, 웨이퍼 이송 로봇(미도시)을 이용하여 웨이퍼를 이송한다.
또한, 도 3에 도시된 것처럼, 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)가 왼쪽의 웨이퍼 이송 장치(100)를 향하지만 웨이퍼를 우측의 웨이퍼 이송 장치(100)로 이송해야 할 경우에는 상기 회전 모터(432)를 작동시켜 상기 회전 플레이트(433)를 회전시킴으로써, 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)가 우측의 웨이퍼 이송 장치(100)를 향하도록 한 뒤, 도 5에 도시된 것처럼, 제1 액추에이터(420)를 작동시켜 상기 이동형 회전 지지 기구(430)의 이동 플레이트(431)를 화살표(C) 방향으로 이동시킴으로써, 상기 웨이퍼 카세트(300)가 우측의 웨이퍼 이송 장치(100)까지 이동되도록 하고, 웨이퍼 이송 장치(100)의 도어부(100a)와 로드 포트(200)의 도어부(200a) 및 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)를 개방한 뒤, 웨이퍼 이송 로봇(미도시)을 이용하여 웨이퍼를 이송한다.
이하에서는 도 6 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 웨이퍼 이송 시스템을 설명한다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 사시도이고, 도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템을 나타낸 측면도이며, 도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 좌측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제1 단계를 나타낸 도면이고, 도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 좌측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제2 단계를 나타낸 도면이며, 도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 좌측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제3 단계를 나타낸 도면이고, 도 11은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 우측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제1 단계를 나타낸 도면이며, 도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 우측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제2 단계를 나타낸 도면이고, 도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 적용된 웨이퍼 카세트 이송 장치를 이용하여 우측의 웨이퍼 이송 장치로 웨이퍼 카세트를 이송시키는 제3 단계를 나타낸 도면이다.
도 6 내지 도 13을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 웨이퍼 이송 시스템은 도어부(100a)가 마주 보도록 배치되는 적어도 한 쌍의 웨이퍼 이송 장치(100)와, 상기 마주보는 웨이퍼 이송 장치(100)에 각각 설치되는 로드 포트(200)와, 그 내부에 웨이퍼를 보관하도록 구성되는 웨이퍼 카세트(300)와, 상기 마주보는 로드 포트(200) 사이에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트(300)를 회전 및 수평 이동 시키는 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)를 포함함은 앞서 설명한 본 발명의 제1 실시예와 동일하다. 다만, 본 발명의 제2 실시예에 따른 웨이퍼 이송 시스템은 후술하는 내용과 같이 로드 포트(200)의 구성과, 웨이퍼 카세트 이송 장치의 구성에 있어서 차이가 있다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 웨이퍼 이송 시스템의 마주보는 로드 포트(200)는 상기 웨이퍼 이송 장치(100)의 전면부에 설치되는 몸체(210)와, 상기 웨이퍼 카세트(300)를 지지할 수 있도록 수평 방향으로 돌출되어 형성되는 지지대(220)를 각각 구비한다.
또한, 상기 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)는 바닥에 지지되어 일정 높이를 갖도록 형성되는 베이스 프레임(410)과, 상기 베이스 프레임(410)의 상측에 설치되고, 상기 지지대(220)의 하측에 위치되며, 상기 마주보는 로드 포트(200)를 향하는 방향으로 작동하도록 구성되는 제2 액추에이터(440)와, 상기 제2 액추에이터(440)의 상측에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트(300)를 지지하고, 상기 웨이퍼 카세트(300)를 목적하는 방향으로 회전시키는 고정형 회전 지지 기구(460)와, 상기 제2 액추에이터(440)에 설치되어 상기 제2 액추에이터(440)의 슬라이딩 홈(441)을 따라 상기 마주보는 로드 포트(200)를 향하는 방향으로 슬라이딩 이동하고, 상기 웨이퍼 카세트(300)를 파지하여 상하 방향으로 이동시키는 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 포함한다.
상기 제2 액추에이터(440)는 리니어 모터이거나 슬라이딩 이동되는 구조로 이루어지는 로봇 장치일 수 있다.
상기 베이스 프레임(410)에는 상기 웨이퍼 카세트 이송 장치(400)의 작동을 제어하거나 모니터링하기 위한 디스플레이 설비(M)가 설치된다.
상기 고정형 회전 지지 기구(460)는 상기 제2 액추에이터(440)의 중앙부 상측에 설치되는 고정 플레이트(461)와, 이 고정 플레이트(461)의 상측에 설치되는 회전 모터(462)와, 이 회전 모터(462)의 상측에 회전 가능하게 설치되는 회전 플레이트(463)를 포함한다.
상기 회전 플레이트(463)의 하측에는 상기 회전 플레이트(463)의 회전을 가이드하면서 회전시 상기 회전 플레이트(463)의 기울어짐을 방지하는 구름 부재(463a)가 설치된다.
상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)는 상기 제2 액추에이터(440)에 설치되어 상기 마주보는 로드 포트(200)를 향하는 방향[화살표(X) 방향]으로 슬라이딩 이동하는 슬라이딩 플레이트(451)와, 이 슬라이딩 플레이트(451)의 양 단에 형성되어 상기 웨이퍼 카세트(300)를 파지하거나 파지를 해제하도록 작동하고, 상기 웨이퍼 카세트(300)를 파지한 상태에서 상하 방향으로 이동시키는 한 쌍의 파지 유닛을 포함한다.
상기 파지 유닛은 상기 슬라이딩 플레이트(451)로부터 상방향으로 돌출되도록 형성되는 하우징(452)과, 이 하우징(452)에 설치되어 상하 방향[화살표(Y) 방향]으로 작동하는 제3 액추에이터(453)와, 이 제3 액추에이터(453)에 설치되어 수평 방향[화살표(Z) 방향]으로 작동하는 제4 액추에이터(454)와, 이 제4 액추에이터(454)에 설치되는 파지 플레이트(455)를 포함한다.
한편, 위와 같이 구성된 본 발명의 제2 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템의 고정형 회전 지지 기구(460)에 웨이퍼 카세트(300)가 놓여지게 되면, 상기 웨이퍼 카세트(300)는 좌측의 웨이퍼 이송 장치(100)나 우측의 웨이퍼 이송 장 치(100) 중 한 곳으로 이송되며, 이를 위해 우선 상기 고정형 회전 지지 기구(460)의 회전 플레이트(463)는 목적하는 방향으로 회전하게 되고, 이후, 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)가 상기 웨이퍼 카세트(300)를 파지한 상태에서 상 방향으로 이동시킨 뒤, 상기 마주보는 로드 포트(200)를 향하는 방향인 화살표(D) 방향을 따라 슬라이딩 이동시키고, 다시금 파지한 웨이퍼 카세트(300)를 하 방향으로 이동시켜 로드 포트(200)의 지지대(220) 위에 내려놓게 된다.
예컨대, 도 7에 도시된 것처럼, 상기 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)가 좌측의 웨이퍼 이송 장치(100)를 향하도록 상기 회전 플레이트(463)가 회전되는 경우, 도 8에 도시된 것처럼, 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 이용하여 웨이퍼 카세트(300)를 파지하여 웨이퍼 카세트(300)를 상 방향으로 이동시킨 뒤, 도 9에 도시된 것처럼, 상기 제2 액추에이터(440)를 작동시켜 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 화살표(E) 방향으로 이동시킴으로써, 상기 웨이퍼 카세트(300)가 좌측의 웨이퍼 이송 장치(100)까지 이동되도록 하고, 이후, 도 10에 도시된 것처럼, 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 이용하여 웨이퍼 카세트(300)를 하 방향으로 이동시켜 지지대(220) 위에 내려 놓는다.
이후, 웨이퍼 이송 장치(100)의 도어부(100a)와 로드 포트(200)의 도어부(200a) 및 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)를 개방한 뒤, 웨이퍼 이송 로봇(미도시)을 이용하여 웨이퍼를 이송한다.
또한, 도 7에 도시된 것처럼, 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)가 왼쪽의 웨이퍼 이송 장치(100)를 향하지만 웨이퍼를 우측의 웨이퍼 이송 장치(100)로 이송해야 할 경우에는 상기 회전 모터(462)를 작동시켜 상기 회전 플레이트(463)를 회전시킴으로써, 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)가 우측의 웨이퍼 이송 장치(100)를 향하도록 한 뒤, 도 11에 도시된 것처럼, 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 이용하여 웨이퍼 카세트(300)를 파지하여 웨이퍼 카세트(300)를 상 방향으로 이동시킨 뒤, 도 12에 도시된 것처럼, 상기 제2 액추에이터(440)를 작동시켜 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 화살표(F) 방향으로 이동시킴으로써, 상기 웨이퍼 카세트(300)가 우측의 웨이퍼 이송 장치(100)까지 이동되도록 하고, 이후, 도 13에 도시된 것처럼, 상기 웨이퍼 카세트 파지 기구(450)를 이용하여 웨이퍼 카세트(300)를 하 방향으로 이동시켜 지지대(220) 위에 내려 놓는다.
이후, 웨이퍼 이송 장치(100)의 도어부(100a)와 로드 포트(200)의 도어부(200a) 및 웨이퍼 카세트(300)의 도어(310)를 개방한 뒤, 웨이퍼 이송 로봇(미도시)을 이용하여 웨이퍼를 이송한다.
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 다방향 웨이퍼 이송 시스템에 따르면, 마주 보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트 사이에 웨이퍼 카세트 이송 장치를 구성함으로써, 웨이퍼 이송 장치가 설치되는 장소에 대한 공간 활용도가 극대화될 수 있게 되고, 장치 설치 비용이 절감될 수 있게 된다.
이상, 본 발명의 특정 실시예에 관하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음이 이해될 필요가 있다.
100 : 웨이퍼 이송 장치
200 : 로드 포트
220 : 지지대
300 : 웨이퍼 카세트
400 : 웨이퍼 카세트 이송 장치
410 : 베이스 프레임
420 : 제1 액추에이터
430 : 이동형 회전 지지 기구
440 : 제2 액추에이터
450 : 웨이퍼 카세트 파지 기구
460 : 고정형 회전 지지 기구

Claims (9)

  1. 도어부가 마주 보도록 배치되는 적어도 한 쌍의 웨이퍼 이송 장치;
    상기 마주보는 웨이퍼 이송 장치에 각각 설치되는 로드 포트;
    그 내부에 웨이퍼를 보관하도록 구성되는 웨이퍼 카세트; 및
    상기 마주보는 로드 포트 사이에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트를 회전 및 수평 이동 시키는 웨이퍼 카세트 이송 장치;를 포함하되,
    상기 마주보는 로드 포트는 상기 웨이퍼 카세트를 지지할 수 있도록 수평 방향으로 돌출되어 형성되는 지지대를 각각 구비하고,
    상기 웨이퍼 카세트 이송 장치는,
    바닥에 지지되어 일정 높이를 갖도록 형성되는 베이스 프레임;
    상기 베이스 프레임의 상측에 설치되고, 상기 지지대의 하측에 위치되며, 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향으로 작동하도록 구성되는 제2 액추에이터;
    상기 제2 액추에이터의 상측에 설치되어 상기 웨이퍼 카세트를 지지하고, 상기 웨이퍼 카세트를 목적하는 방향으로 회전시키는 고정형 회전 지지 기구; 및
    상기 제2 액추에이터에 설치되어 상기 마주보는 로드 포트를 향하는 방향으로 슬라이딩 이동하고, 상기 웨이퍼 카세트를 파지하여 상하 방향으로 이동시키는 웨이퍼 카세트 파지 기구;를 포함하는 것을 특징으로 하는 다방향 웨이퍼 이송 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 고정형 회전 지지 기구는,
    상기 제2 액추에이터의 중앙부 상측에 설치되는 고정 플레이트와, 이 고정 플레이트의 상측에 설치되는 회전 모터와, 이 회전 모터의 상측에 회전 가능하게 설치되는 회전 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 다방향 웨이퍼 이송 시스템.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 회전 플레이트의 하측에는 상기 회전 플레이트의 회전을 가이드하면서 회전시 상기 회전 플레이트의 기울어짐을 방지하는 구름 부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 다방향 웨이퍼 이송 시스템.
  8. 청구항 1, 청구항 6 또는 청구항 7 중 어느 한 청구항에 있어서,
    상기 웨이퍼 카세트 파지 기구는 상기 제2 액추에이터에 설치되어 슬라이딩 이동하는 슬라이딩 플레이트와, 이 슬라이딩 플레이트의 양 단에 형성되어 상기 웨이퍼 카세트를 파지하거나 파지를 해제하도록 작동하고, 상기 웨이퍼 카세트를 파지한 상태에서 상하 방향으로 이동시키는 한 쌍의 파지 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 다방향 웨이퍼 이송 시스템.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 파지 유닛은 상기 슬라이딩 플레이트로부터 상방향으로 돌출되도록 형성되는 하우징과, 이 하우징에 설치되어 상하 방향으로 작동하는 제3 액추에이터와, 이 제3 액추에이터에 설치되어 수평 방향으로 작동하는 제4 액추에이터와, 이 제4 액추에이터에 설치되는 파지 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 다방향 웨이퍼 이송 시스템.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107068604A (zh) * 2017-03-14 2017-08-18 大族激光科技产业集团股份有限公司上海分公司 晶圆盒输送装载系统
KR102359522B1 (ko) * 2021-05-20 2022-02-08 김태민 풉고정장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013074183A (ja) 2011-09-28 2013-04-22 Sinfonia Technology Co Ltd サイド用ロードポート、ｅｆｅｍ
KR101534667B1 (ko) * 2015-01-29 2015-07-08 주식회사 썬닉스 다방향 웨이퍼 이송 시스템

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013074183A (ja) 2011-09-28 2013-04-22 Sinfonia Technology Co Ltd サイド用ロードポート、ｅｆｅｍ
KR101534667B1 (ko) * 2015-01-29 2015-07-08 주식회사 썬닉스 다방향 웨이퍼 이송 시스템

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107068604A (zh) * 2017-03-14 2017-08-18 大族激光科技产业集团股份有限公司上海分公司 晶圆盒输送装载系统
CN107068604B (zh) * 2017-03-14 2023-09-12 上海大族富创得科技股份有限公司 晶圆盒输送装载系统
KR102359522B1 (ko) * 2021-05-20 2022-02-08 김태민 풉고정장치

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