KR20090046101A - 플루오렌 유도체 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지조성물 및 광학 시트 - Google Patents

플루오렌 유도체 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지조성물 및 광학 시트 Download PDF

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Abstract

본 발명은 LCD 백 라이트 유닛에 전반적으로 사용할 수 있는, 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 플루오렌 유도체 화합물, 이를 함유하는 감광성 수지 조성물 및 이로부터 얻어지는 광학시트를 제공한다.

Description

플루오렌 유도체 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 광학 시트{Fluorene-based derivatives, Photo-polymerizable resin composition comprising the same and optical film}
본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD)의 구성요소인 백 라이트 유니트(Back light uint) 장치에 사용되는 모든 광학 시트 일예로, 도광판, 확산필름, 프리즘 시트 및 보호필름 등의 제조에 전반적으로 사용될 수 있는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 조성물 중에 포함될 수 있는 광중합성 화합물로서의 플루오렌 유도체 화합물에 관한 것이다.
액정표시장치에는 광원과 이 광원으로부터 출사되는 광선을 액정표시장치의 화면에 집광시키기 위한 부재로 된 백라이트 유니트(banklight uint)가 조립되어 있다. 즉, 광원으로부터 출사된 광선을 광원에 인접 배치된 도광판과 기타 광학 시트에 의해 액정표시장치의 화면으로 안내하여 이 화면을 선명하게 표시할 수 있도록 되어 있다.
백라이트 유니트에 있어서, 램프로부터 도광판으로 입사된 광선은 적어도 하나의 확산 시트를 통과하여 프리즘 시트로 입사하게 된다. 그리고 프리즘 시트에 입사된 광선은 프리즘 시트의 상면을 출사하여 액정표시장치의 화면에 집광되어 그 화면이 조명되게 된다.
이러한 모든 광학 시트에는 각각의 적합한 굴절률이 요구되고 있다. 또한 이렇게 형성된 기기를 옥외와 같이 비교적 밝은 곳에서 사용하는 경우의 태양광, 형광등의 외부광이 디스플레이에 비치는 것을 방지하는 반사 방지에 대한 요구도 강해지고 있다. 이 요구들은 휴대 단말기에 한하지 않고, 소형으로부터 대형에 이르는 다양한 디스플레이에 퍼지고 있다.
종래의 광학 필름용 재료 기술은 플라스틱 소재를 사용 그 무게가 가볍고 가공이 용이하며 원하는 기능성과 작업성을 부여하기 쉬운 장점을 가지고 시작되어 내후성 및 내화학성이 미흡한 플라스특 소재의 특성을 보완하기 위하여 1970년대부터 본격적으로 플라스틱 표면에 하드코팅 방식이 도입되어 왔으며, 이는 플라스틱 적용범위와 한계를 극복하는 결과를 가져왔다. 특히 1980년대 이후 졸-겔 하이브리드 공정의 제어와 이를 이용한 제품의 상품화가 가능해지면서 규소산화물의 기본골격을 갖는 유-무기 복합 하드코팅이 광학용 플라스틱 소재로 사용되어 왔으며, 최근 이들 광학용 플라스틱 재료들은 점차 높은 기능성과 특성을 갖는 방향으로 발전하고 있으며, 광학용 플라스틱 소재의 굴절률은 초기 1.50으로 출발하여 현재 1.60, 1.64 또는 그 이상의 고굴절화 경향을 보이고 있다.
하지만 앞에서 언급한 백라이트 유니트용 광학 필름들은 더욱 높은 굴절률과 굴절률 조절 용이성이 요구되고 있는 실정이다.
광학시트 등의 제조에 있어서 굴절률을 높이기 위한 종래의 기술의 일예로, 철산화물, 티타늄산화물, 지르코늄산화물, 안티모니산화물, 아연산화물, 주석산화물 및 이들의 혼합물 등의 나노크기의 금속 산화물을 규소산화물로 이루어지는 하드코팅에 투입하여 이를 수화반응과 축합반응을 수반하는 졸겔 공정을 통하여 굴절률을 높이는 방법과, 유기화합물 중 중심 사슬에 -O-, CO-O-, S-S, -CO-S와 -CS-S-기의 결합을 이루고 있는 그 말단이 반응성을 갖는 -SH기나 -OH기를 갖고 있으며, 하나 이상의 불포화기를 갖는 물질을 에폭시 관능기를 갖는 규소화합물과 화학적으로 반응시켜 이를 졸겔 공정과정을 거쳐 경화시 높은 굴절률의 하드 코팅액을 제조하는 방법이 있다. 하지만 이러한 졸겔공정으로는 축합물이 발생하는 문제점이 있으며 졸겔 공정이 아닌 일반적인 투명한 열경화성수지, 열가소성수지, 방사선경화형수지 등에 고굴절의 초미립자를 첨가하는 방법이 제안되어 있다. 하지만 초미립자의 함유량에 의해 어느 정도 굴절률의 조절이 가능하지만 초미립자의 함유량의 증가에 따라 성막 과정에서 상기 초미립자가 서로 달라 붙어 조대입자가 되어 투명성이 현저히 저하되는 문제점을 갖는다.
따라서 이러한 경우에 충전물의 함유량을 감소시키기 위해, 바인더 수지로 높은 굴절율을 갖는 수지, 초미립자의 뛰어난 분산성을 갖는 바인더 수지, 가능한 굴절율이 높은 초미립자를 선택적으로 사용하는 것이 바람직하다.
고굴절율을 갖는 바인더 수지로는 F 이외의 할로겐 원자나 방향족환, 또는 S, N, P원자 등의 고굴절율 성분을 포함하는 수지가 사용될 수 있다. 그러나, 이러 한 성분을 포함하는 수지는 굴절율이 높은 반면에, 코팅 재료 중의 안정성 문제가 있고 쉽게 무르며, 내생체기성, 내광성, 착색 등에 있어서도 문제가 있다.
또한 굴절율이 높은 초미립자로는, 저비용의 안정성도 우수한 산화티탄이 일반적으로 사용되지만, 이 경우 산화티탄이 갖는 광촉매 효과에 의해, 시간이 경과함에 따라 막이 백탁화하여 내광성에 문제가 있다.
본 발명에서는 굴절율 조절성이 우수하고 자체적으로 고굴절율을 갖는 신규한 플루오렌 유도체를 제공하고자 한다.
또한 본 발명에서는 굴절율 조절성이 우수하고 고굴절율을 갖는 감광성 수지 조성물을 제공하고자 한다.
또한 본 발명에서는 백라이트 유니트에 사용되는 전반적인 광학필름의 투명 지지체 상에 효율적으로 사용할 수 있는 굴절율을 용이하게 조절할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공하고자 한다.
또한 본 발명에서는 백라이트 유니트에 사용되는 고굴절율의 광학시트를 제공하고자 한다.
본 발명의 한 구현예에서는 다음 화학식 1로 표시되는 플루오렌 유도체 화합 물을 제공한다.
Figure 112007079273975-PAT00001
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
본 발명의 다른 구현예에서는 다음 화학식 2로 표시되는 플루오렌 유도체 화합물을 제공한다.
Figure 112007079273975-PAT00002
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
본 발명 구현예들에 따른 플루오렌 유도체 화합물에 있어서, R2는
Figure 112007079273975-PAT00003
(여기서, X는 수소원자, 알킬기 또는 하이드록시기이고, R1은 수소원자 또는 메틸기이다.)일 수 있다.
본 발명의 제 1 구현예에 따른 플루오렌 유도체 화합물은 다음 화학식 3으로 표시되는 하이드록시기 함유 플루오렌 화합물을 출발물질로 하여 제조된 것일 수 있다.
Figure 112007079273975-PAT00004
상기 식에서, R, R' 및 n은 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
본 발명의 제 2 구현예에 따른 플루오렌 유도체 화합물은 다음 화학식 4로 표시되는 하이드록시기 함유 플루오렌 화합물을 출발물질로 하여 제조된 것일 수 있다.
Figure 112007079273975-PAT00005
상기 식에서, R, R" 및 n은 화학식 2에서 정의한 바와 같다.
본 발명의 다른 한 구현예에서는 다음 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
화학식 1
Figure 112007079273975-PAT00006
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
화학식 2
Figure 112007079273975-PAT00007
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 구현예에서는 다음 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물; 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물; 광중합 개시제; 및 초미립자 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
화학식 1
Figure 112007079273975-PAT00008
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합 을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
화학식 2
Figure 112007079273975-PAT00009
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
본 발명 구현예에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물 100중량부에 대하여, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 50 내지 140중량부를 포함하고, 초미립자 무기물을 0.1 내지 80중량부로 포함하며, 광중합 개시제를 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 100중량부에 대하여 0.1 내지 30중량부로 포함할 수 있다.
본 발명 구현예들에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, R2는
Figure 112007079273975-PAT00010
(여기서, X는 수소원자, 알킬기 또는 하이드록시기이고, R1은 수소 원자 또는 메틸기이다.)인 것일 수 있다.
본 발명의 예시적인 구현예에서는 상기한 감광성 수지 조성물로부터 제조된 광학시트를 제공한다.
본 발명의 예시적인 구현예에서는 상기한 감광성 수지 조성물의 수지경화층을 포함하는 광학시트를 제공한다.
본 발명에 따르면 자체적으로 높은 굴절율을 갖는 신규한 구조의 플루오렌 (메타)아크릴레이트를 제공할 수 있고, 이 유도체를 중합성 화합물로 사용하여 감광성 수지 조성물을 제조하여 고굴절율을 갖는 광학시트로 제조할 수 있으며, 또한 별도의 굴절율을 조절할수 있는 초미립자를 더 포함하여 굴절율을 효율적으로 조절하여 고굴절율의 감광성 수지 조성물을 제조하여 이로부터 고굴절율의 광학시트를 제공할 수 있다.
이와 같은 본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.
-[A] 플루오렌 유도체 화합물 -
본 발명에 따른 말단에 에틸렌성 불포화결합을 갖는 플루오렌 유도체 화합물은 다음 화학식 1 또는 2로 표시되는 것이다.
화학식 1
Figure 112007079273975-PAT00011
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
화학식 2
Figure 112007079273975-PAT00012
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 구현예에서는 다음 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물; 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물; 광중합 개시제; 및 초미립자 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광 성 수지 조성물을 제공한다.
화학식 1
Figure 112007079273975-PAT00013
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
화학식 2
Figure 112007079273975-PAT00014
상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
상기 화학식 1 또는 화학식 2에 있어서 n은 0 내지 4의 정수, 좋기로는 0 내 지 3, 더욱 좋기로는 0 내지 2, 가장 좋기로는 0 또는 1을 나타낸다. 이때 치환기 R의 종류는 치환기의 수를 나타내는 n에 따라 상이할 수 있다.
이와 같은 화학식 1로 표시되는 플루오렌 유도체 화합물은 출발물질로 다음 화학식 3으로 표시되는 하이드록시기 함유 플루오렌 화합물을 이용하여 제조될 수 있으며, 화학식 2로 표시되는 플루오렌 유도체 화합물은 출발물질로 다음 화학식 4로 표시되는 하이드록시기 함유 플루오렌 화합물을 이용하여 제조될 수 있다.
화학식 3
Figure 112007079273975-PAT00015
상기 식에서, R, R' 및 n은 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
화학식 4
Figure 112007079273975-PAT00016
상기 식에서, R, R" 및 n은 화학식 2에서 정의한 바와 같다.
상기 화학식 1 내지 4에 있어서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기일 수 있는데, 여기서 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, s-부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 들 수 있다.
시클로알킬기로서는 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 탄소수 4 내지 8, 바람직하기로는 탄소수 5 내지 6의 시클로알킬기를 들 수 있다.
알콕시기로는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기 등의 탄소수 1 내지 4의 알콕시기를 예시할 수 있다.
아릴기로는 페닐기, 2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기 등의 탄소수 1 내지 4의 알킬페닐기, 나프틸기 등을 예시할 수 있다.
R로서 가장 좋기로는 메틸기, 시클로헥실기, 페닐기인 것이다.
화학식 3 또는 4에 있어서 벤젠환에서 히드록시기와 치환기 R의 치환위치는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 히드록시기는 2-위, 3-위, 4-위, 어느 것이라도 좋고, 바람직하게는 4-위다. 화학식 3 또는 4의 히드록시기 위치에 결과적으로는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기가 치환되어 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있도록 하는 화학식 1 또는 2의 플루오렌 유도체 화합물을 얻을 수 있다.
한편 치환기 R의 치환위치는 n의 값에 따라 변동되는데, 예를 들면 2-위, 3-위, 4-위, 2,3-위, 2,4-위, 2,6-위, 3,4-위, 3,5-위 등을 예시할 수 있고, 바람직하게는 2-위, 3-위, 3,5-위, 더욱 바람직하게는 3-위이다.
화학식 1 내지 4에 있어서 R'과 R"는 에테르기(-O-)를 포함하는 것이 굴절율 향상 측면에서 유리할 수 있다.
상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 플루오렌 유도체 화합물의 보다 구체적인 예로는, 9,9-비스(3-시나믹 디에스테르)플루오렌(9,9-bis(3-cinnamic diester)fluorene), 9,9-비스(3-시나모일, 4-하이드록시페닐)플루오렌(9,9-bis(3-cinnamoil, 4-hydroxyphenyl)fluorene), 9,9-비스(글리시딜 메타크릴레이트 에테르)플루오렌(9,9-bis(glycidyl methacrylate ether)fluorene), 9,9-비스(3,4-디하이드록시페닐)플루오렌 디시나믹 에스테르(9,9-bis(3,4-dihydroxyphenyl)fluorene dicinnamic ester), 3,6-디글리시딜 메타크릴레이트 에테르 스피로(플루오렌-9,9-잔텐)(3,6-diglycidyl methacrylate ether spiro(fluorene-9,9-xantene)), 9,9-비스(3-알릴, 4-하이드록시페닐플루오렌)(9,9-bis(3-allyl, 4-hydroxyphenlylfluorene), 9,9-비스(4-알릴록시페닐)플루오렌(9,9-bis(4-allyloxyphenyl)fluorene), 9,9-비스(3,4-메타크릴릭 디에스테르)플루오렌(9,9-bis(3,4-methacrylic diester)fluorene), 9,9-비스(3,4-메타크릴릭 디에스테르)잔텐(9,9-bis(3,4-methacrylic diester)xanthene) 등을 들 수 있다.
이중 바람직하기로는, 상기 화학식 1 또는 2에 있어서 R2는
Figure 112007079273975-PAT00017
(여기서, X는 수소원자, 알킬기 또는 하이드록시기이고, R1은 수소원자 또는 메틸기이다.)인 것이며, 더욱 좋기로는 X가 -OH기인 것일 수 있다.
이와 같은 플루오렌 유도체를 포함하여 감광성 수지 조성물을 조성할 수 있으며, 이를 이용하여 광학시트를 제조할 수 있다.
좋기로는 감광성 수지 조성물 중 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 초미립자 무기물을 포함하는 것인바, 이하에서는 이들 각 조성에 대해 구체적으로 살핀다.
-[B] 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물-
에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물(이하, "중합성 화합물 [B]"라 함)로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메트)아트릴산 에스테르류가 중합성이 양호하고 얻어지는 박막의 강도가 향상된다는 점에서 바람직하다.
상기 단관능 (메트)아트릴산 에스테르류로는, 예를 들면 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르메타크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 이소보닐메타크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 3-메톡시부틸메타크릴레이트, 2-아크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필프탈레이트, 2-메타크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필프탈레이트 등을 들 수 있으며, 시판품으로서는 예를 들면 아로닉스 M-101, 동 M-111, 동 M-114(도아고오세이(주)제); KAYARAD TC-110S, 동 TC-1120S(닛뽄 가야꾸(주)제); 비스코트 158, 동 2311(오사까 유우끼 가가꾸 고교(주)제) 등을 들 수 있다.
또한, 2관능 (메트)아크릴산 에스테르류로는, 예를 들면, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 1,9-노난디올디메타크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌디아크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌디메타크릴레이트 등을 들 수 있으며, 시판품으로서 예를 들면 아로닉스 M-210, 동 M-240, 동 M-6200(도아 고오세이(주)제), KAYARAD HDDA, 동 HX-220, 동 R-604(닛뽄 가야꾸(주)제), 비스코트 260, 동 312, 동 335HP(오사까 유우끼 가가꾸 고교(주)제) 등을 들 수 있다.
또한 상기 3관능 이상의 (메트)아크릴산 에스테르류로는, 예를 들면 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 텐타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트, 트리(2-아크릴로일옥시에틸)포스페이트, 트리(2-메타크릴로일옥시에틸)포스페이트 등을 들 수 있다. 특히, 9관능 이상의 (메트)아크릴레이트는 알킬렌 직쇄 및 지환 구조를 갖고, 2개 이상의 이소시아네이트를 포함하는 화합물과 분자내에 1개 이상의 수산기를 함유하는 3관능, 4관능 및 5관능의 (메트)아크릴레이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 우레탄아크릴레이 트 화합물을 들 수 있다. 이러한 화합물들의 시판품으로서, 예를 들면 아로닉스 M-309, 동 M-400, 동 M-405, 동 M-450, 동 M-7100, 동 M-8030, 동 M-8060, 동 TO-1450(도아 고오세이(주)제, KAYARAD TMPTA, 동 DPHA, 동DPCA-20, 동 DPCA-30, 동 DPCA-60 동 DPCA-120(닛뽄 가야꾸(주)제), 비스코트 295, 동 300,동 360, 동 GPT, 동 3PA, 동 400(오사까 유우끼 가가꾸 고교(주)제) 등을 들 수 있다. 9관능 이상의 다관능 우레탄아크릴레이트 시판품은, 예를 들어 뉴프론티어 R-1150(이상, 다이이치 고교 세이야꾸(주)제), KAYARAD DPHA-40H(이상, 닛뽄 가야꾸(주)제) 등을 들 수 있다.
이들 다관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메트)아크릴산, 에스테르류 중, 3관능 이상의 (메트)아크릴산 에스테르류가 보다 바람직하고, 특히 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트가 바람직하다. 상기 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메트)아크릴산 에스테르류는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
감광성 수지 조성물 중에서 중합성 화합물 [B]의 사용량은 플루오렌 유도체 100중량부에 대하여 5 내지60 중량부, 바람직하게는 10 내지 50 중량부인 것이 박막의 경도 측면에서 유리할 수 있다.
- [C] 광중합 개시제 -
본 발명에서 말하는 광중합 개시제란, 가시광선, 자외선, 원자외선, 하전 입 자선, X선 등에 의한 노광에 의해 상기한 플루오렌 유도체 등 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생하는 성분을 의미한다.
광중합 개시제로는 예를 들면, 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 알파-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 포스핀계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 아세토페논계 화합물이 바람직하다.
아세토페논계 화합물로는, 예를 들면, 알파-히드록시케톤계 화합물, 알파-아미노케톤계 화합물, 이들 이외의 화합물을 들 수 있다.
상기 알파-히드록시케톤계 화합물의 구체예로는 1-페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등을 들 수 있고, 상기 알파-아미노케톤계 화합물의 구체예로는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-로르폴리노페닐)-부타논-1 등을 들 수 있으며, 이들 이외의 화합물의 구체예로는 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 등을 들 수 있다.
이들 아세토페논계 화합물을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 아세토페논계 화합물을 사용함으로써, 박막의 강도를 더욱 양호하게 하는 것이 가능하다.
또한 비이미다졸계 화합물의 구체예로는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)- 4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.
상기 이미다졸 화합물 중, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디틀로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등이 바람직하고, 특히 바람직하게는 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이다.
상기 비이미다졸계 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
- [D] 초미립자 무기물 -
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물 중에는 고굴절율의 충전물을 포함시킴으로써 굴절율을 조정할 수 있다.
이때 해당 충전물의 굴절율은, 수지성분의 굴절율보다 상대적으로 높고, 1.6~2.7의 범위가 바람직하다. 충전물의 예로는, ZnO(굴절율 n=1.9), TiO2 (n=2.3~2.7), CeO2 (n=1.95), Sb2O5 (n=1.71), SnO2 (n=1.95), ITO (n=1.95), Y2O3 (n=1.87), La2O3 (n=1.95), ZrO2 (n=2.05), Al2O3 (n=1.63), HfO2 (n=2.0), TaO5 등이 사용될 수 있다. 이 충전물들을 단독 또는 혼합하여, 유기용매 또는 점도 조절제에 분산된 콜로이드형으로 사용할 수 있다. 특히, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산 등과 같은 유기용매에 분산된 오르가노졸이, 사용되는 수지에 대하여 분산성이 양호한 측면에서 유리할 수 있다. 충전물의 입경으로는 1~100nm이 바람직하고, 코팅필름의 투명성을 고려한다면, 5~20nm인 것이 바람직하다.
감광성 수지 조성물 중 초미립자 무기물의 함유량은 70중량% 이하인 것이 바람직할 수 있는데, 충전물의 함유량 증가에 따라, 필름의 내마모성, 내약품성 등의 내구성이 저하된다. 따라서 함유량은 가능한 적은 것이 바람직하다.
- [E] 용매 또는 점도 조절제 -
감광성 수지 조성물 중 포함될 수 있는 용매의 예를 들면 메탄올, 에탄올, n-프로판올, iso-프로판올 등의 알코올류; 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르류; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 에틸렌클리콜 모노-n-부틸에테르 등의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜 모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테 이트, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르프로피오네이트 등의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르프로피오네이트류; 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르 등의 디에틸렌글리콜 알킬에테르류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜 모노메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜 모노알킬에테르프로피오네이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 2-펜타논, 3-펜타논, 시클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 등의 케톤류; 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산 n-프로필, 2-메톡시프로피온산 n-부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산 n-프로필, 2-에톡시프로피온산 n-부틸, 2-n-프로폭시프로피온산메틸, 2-n-프로폭시프로피온산에틸, 2-n-프로폭시프로피온산 n-프로필, 2-n-프로폭시프로피온산 n-부틸, 2-n-부톡시프로피온산메틸, 2-n-부톡시프로피온산에틸, 2-n-부톡시프로피온산 n-프로필, 2-n-부톡시프로피온산 n-부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산 n-프로필, 3-메톡시프로피온산 n-부틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산 n-프로필, 3-에톡시프로피온산 n-부틸, 3-n-프로폭시프로피온산메틸, 3-n-프로폭시프로피온산에틸, 3-n-프로폭시프로피온산 n-프로필, 3-n-프로폭시프로피온산 n-부틸, 3-n-부톡시프로피온산메틸, 3-n-부톡시프로피온산에틸, 3-n-부톡시프로피온산 n-프로필, 2-n-부톡시프로피온산 n-부틸 등의 알톡시프로피온산알킬류나, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 n-부틸, 히드록시아세트산메틸, 히드록시아세트산에틸, 히드록시아세트산 n-프로필, 히드록시아세트산 n-부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산 n-프로필, 락트산 n-부틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산메틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산 n-프로필, 3-히드록시프로피온산 n-부틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산 n-프로필, 메톡시아세트산 n-부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 에톡시아세트산 n-프로필, 에톡시아세트산 n-부틸, n-프로폭시아세트산메틸, n-프로폭시아세트산에틸, n-프로폭시아세트산 n-프로필, n-프로폭시아세트산 n-부틸, n-부톡시아세트산메틸, n-부톡시아세트산에틸, n-부톡시아세트산 n-프로필, n-부톡시아세트산 n-부틸 등의 다른 에스테르류 등을 들 수 있다.
상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 점도조절용으로 에틸렌성 불포화 화합물을 용매 그대로 사용할 수 있는데, 예를 들면 아크릴산메틸, 아크릴산 iso-프로필 등의 아크릴산 알킬에스테류; 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산 n-부틸, 메타크릴산 sec-부틸, 메타 크릴산 t-부틸 등의 메타크릴산 알킬에스테르류; 아크릴산시클로헥실, 아크릴산 2-메틸시클로헥실, 아크릴산트리시클로[5,2,1,02,6]데칸-8-일, 아크릴산 2-(트리시클로[5,2,1,02,6]데칸-8-일옥시)에틸, 아크릴산이소보닐 들의 아크릴산 지환식 에스테르류; 메타크릴산시클로헥실, 메타크릴산 2-메틸시클로헥실, 메타크릴산트리시클로 [5,2,1,02,6]데칸-8-일, 메타크릴산 2-(트리시클로[5,2,1,02,6]데칸-8-일옥시)에틸, 메타크릴산이소보로닐 들의 메타크릴산 지환식 에스테르류; 아크릴산페닐, 아크릴산벤질 등의 아크릴산의 아릴에스테르 또는 아랄킬에스테르류; 메타크릴산페닐, 메타크릴산벤질 등의 메타크릴산의 아릴에스테르 또는 아랄킬에스테르류; 말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디알킬에스테르류; 메타크릴산 2-히드록시에틸, 메타크릴산 2-히드록시프로필 등의 메타크릴산히드록시알킬에스테르류; 테트라히드로퍼푸릴메타크릴레이트, 테트라히드로푸릴메타크릴레이트, 테트라히드로푸피란-2-메닐메타크릴레이트 등의 산소 1원자를 포함하는 불포화 복소 오원환 및 육원환 메타크릴산 에스테르류; 스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 등의 비닐 방향족 화합물; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3부타디엔 등의 공액 디엔계 화합물 이외에, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아세트산비닐 등을 들 수 있다.
상기와 같은 조성물을 이용하여 감광성 수지 조성물을 제조함에 있어서는, 플루오렌 유도체 화합물, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 광중합성 화합물, 광중합개 시제, 초미립자 무기물 등의 성분을 적당한 용매 또는 점도 조절제에 혼합하여 조성물 용액을 제조할 수 있다.
감광성 수지 조성물은 LCD 백 라이트 유니트용 광학시트를 구성하는 각 유닛에 적합한 굴절율 조절이 필요하며, 이러한 굴절율 조절은 일반적으로 초미립자 무기물의 종류와 함량으로서 조절이 가능하다.
상술한 감광성 수지 조성물들 중 바람직한 일 구현예를 예시하면, 화학식 1로 표시되는 플루오렌 화합물 중 선택된 단독 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하며, 이들 성분의 용해능, 각 성분과의 반응성 및 도막 형성의 용이성의 관점에서, 에틸렌글리콜 모노알킬에테르류, 에틸렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류, 디에틸렌글리콜알킬에테르류, 및 프로필렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류, 알콕시프로피온산알킬류 등의 용매를 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용 한 용액 100중량부(고형분 함량 기준)에 대하여, [B] 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 50 내지 140중량부, 좋기로는 60 내지 120중량부를 포함하고, [C] 광중합 개시제를 중합성 화합물 [B] 100중량부에 대하여 0.1 내지 30중량부, 좋기로는 1 내지 25중량부로 포함하며, [D] 굴절율 조절용 초미립자 무기물을 0.1 내지 80중량부, 좋기로는 1 내지 70중량부로 포함하는 조성물일 수 있다.
굴절율이 조절된 광학시트를 제공하는 방법의 일예로는, 상기 감광성 수지 조성물 중에 필요에 따라 충전물이나 유기용매를 혼합하여, 이것을 페인트 쉐이커(paint shaker), 샌드밀(sand mill), 필밀(peal mill), 볼밀(ball mill), 애트리 더(attritor), 롤밀(roll mill), 고속 임팰러(impeller) 분산기, 제트밀(jet mill), 고속충격 밀, 초음파분산기 등에 의해서 분산하여 코팅 재료 또는 잉크를 제조하고, 이것을 플랙소 인쇄법(flexographic printing)과 같은 활판 인쇄, 다이렉트 그라비아 인쇄법(direct gravure printing), 오프셋(offset) 그라비아 인쇄법 등과 같은 요각 인쇄, 오프셋 인쇄법 등과 같은 평면 인쇄, 스크린 공정 인쇄법 등과 같은 스텐실 인쇄나, 에어 독터 코팅(air doctor coating), 블레이드 코팅(blade coating), 나이프 코팅, 리버스 코팅, 트랜스퍼 롤 코팅(transfer roll coating), 그라비아 롤 코팅, 키스(kiss) 코팅, 캐스트(cast)코팅, 스프레이(spray) 코팅, 슬롯 오리피스(slot orifice)코팅, 캘린더(calendar)코팅, 전착(electrodeposition)코팅, 딥(dip)코팅, 다이(die)코팅 등의 인쇄 방법을 통하여 투명지지체의 한 면 또는 양면 상에 단층 또는 다층으로 나누어 제공하고, 용매를 포함하고 있는 경우는, 열건조공정을 지나서, 열 또는 방사선 등에 의해 코팅 또는 인쇄층을 경화시켜 얻는 방법을 들 수 있다. 또, 방사선이 전자선인 경우는, Cockroft-Walton's방치, Van de Graff장치, 공진 변압 장치, 절연코어변압 장치, 직선형 장치, 다이나미트론(dynamitron)형 장치, 고주파형 장치 등의 각종전자선가속기로부터 방출되는 50~1000KeV의 에너지를 갖는 전자선 등을 사용할 수 있다. 자외선의 경우는, 초고압수은등, 고압수은등, 저압수은등, 카본 아크(carbon arc)등, 크세논 아크(xenon arc)등, 금속 할로겐등 등과 같은 것이 사용된다.
코팅 재료 및 잉크의 코팅력 또는 인새성을 향상시키기 위해서, 실리콘 오일 등의 레벨링(leveling)제, 폴리에틸렌왁스 카나우바왁스, 고급 알코올, 비스아미 드, 고급 지방산 등의 지방과 오일, 이소시아네이트 등의 경화제, 칼슘카보네이트, 실리카졸, 합성 운모 등의 0.1㎛이하의 초미립자 등의 첨가제를 필요에 따라 사용할 수 있다. 또한, 디스플레이 표면에 정전적으로 부착하는 먼지 등의 오염을 방지하기 위해서 대전방지제를 첨가하여도 좋다.
이하에, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
합성예 : 플루오렌 유도체의 합성
3000ml 삼구 라운드 플라스크에 3,6-디하이드록시스피로(플루오렌-9,9-잔텐)(3,6-dihydroxyspiro(fluorene-9,9-xantene) 364.4g과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.4159g을 혼합하고, 에피클로로히드린 2359g을 넣고 90℃로 가열하여 반응시켰다. 액체크로마토그래피로 분석하여 3,6-디하이드록시스피로(플루오렌-9,9-잔텐)이 완전히 소진되면 30℃로 냉각하여 50% NaOH 수용액(3당량)을 천천히 첨가하였다. 액체 크로마토그래피로 분석하여 에피클로로히드린이 완전히 소진되었으면, 디클로로메탄으로 추출한 후 3회 수세한 후 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후 디클로로메탄을 감압 증류하고 디클로로메탄과 메탄올 혼합비 50:50을 사용하여 재결정하였다.
이렇게 합성된 에폭시 화합물 1당량과 t-부틸암모늄 브로마이드 0.004당량, 2,6-디이소부틸페놀 0.001당량, 아크릴산 2.2당량을 혼합한 후 용매 프로피렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 24.89g을 넣어 혼합하였다. 이 반응 용액에 공기를 25ml/min으로 불어넣으면서 온도를 90~100℃로 가열 용해하였다. 반응 용액이 백탁한 상태에서 온도를 120℃까지 가열하여 완전히 용해시켰다. 용액이 투명해지고 점도가 높아지면 산가를 측정하여 산가가 1.0mgKOH/g미만이 될 때까지 교반하였다. 산가가 목표(0.8)에 이를 때까지 11시간이 필요했다. 반응 종결 후 반응기의 온도를 실온으로 내려 무색 투명의 고체를 얻었다.
<실시예 1 내지 2>
상기 합성예 1로 부터 얻어지는 플루오렌 유도체 등 중합성 화합물 [A]와 용매의 혼합 용액 100 중량부(고형분 함량 기준), 중합성 화합물 [B]로서 KAYARAD DPHA(닛뽄 가야꾸(주)제) 80 중량부, 광중합 개시제 [C]로서 1-[9-에틸-(2-티오페닐)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-은옥심-O-아세테이트 7 중량부에, 굴절율 조절용 초미립자 무기물[D]로서 티타니아졸 1중량부를 고형분 농도가 45중량%가 되도록 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트에 용해 혼합하여 조성물 용액을 제조하였다. 조성물 중의 고형분 농도는 45중량%이었다.
실시예 1에서는 화학식 1 화합물(R'= -O-, R2은
Figure 112007079273975-PAT00018
(여기서, X는 하이드록시기이고, R1은 수소원자 또는 메틸기이다.)을, 그리고 실시예 2에서는 화학식 2 화합물(R"= -O-, R2은
Figure 112007079273975-PAT00019
(여기서, X는 하이드록시기이고, R1 은 수소원자 또는 메틸기이다.)을 사용하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
<비교예 1 내지 2>
상기 실시예 1 내지 2와 동일한 조성으로 감광성 수지 조성물을 제조하되, 다만 다음 표 1에 나타낸 것과 같은 플루오렌 유도체 화합물을 사용하였다.
Figure 112007079273975-PAT00020
상기 표 1 기재에 있어서, R2는
Figure 112007079273975-PAT00021
(여기서, X는 하이드록시기이고, R1은 수소원자 또는 메틸기이다.)이다.
필름의 형성
무알칼리 유리 기판상에 롤코터를 사용하여 상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2로부터 얻어진 감광성 수지 조성물 용액을 도포한 후, 90℃에서 3분간 핫 플레이트상에서 예비 베이킹하여 막 두께 5.0um의 필름을 형성하였다. 얻어진 필름에 조사거리 400um로 하고, 파장 365nm에서의 노광 강도가 15mW/cm2인 자외선에 의한 노광을 행하여 코팅막을 경화시켰다. 얻어진 필름의 굴절율은 프리즘 커플러 아날라이저를 사용하여 632.8nm의 파장에서 측정하였고 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.
박막 두께 (㎛) 굴절률
실시예 1 4.96 1.68
실시예 2 4.97 1.67
비교예 1 4.95 1.60
비교예 2 4.98 1.64
상기 표 1의 결과로부터, 본 발명에 따라 얻어진 플루오렌 유도체를 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용하여 경화층을 형성하는 경우 박막 형성이 가능하고, 또한 고굴절율을 발현할 수 있음을 알 수 있다.

Claims (13)

  1. 다음 화학식 1로 표시되는 플루오렌 유도체 화합물.
    화학식 1
    Figure 112007079273975-PAT00022
    상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
  2. 다음 화학식 2로 표시되는 플루오렌 유도체 화합물.
    화학식 2
    Figure 112007079273975-PAT00023
    상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, R2는
    Figure 112007079273975-PAT00024
    (여기서, X는 수소원자, 알킬기 또는 하이드록시기이고, R1은 수소원자 또는 메틸기이다.)인 것을 특징으로 하는 플루오렌 유도체 화합물.
  4. 제 1 항에 있어서, 다음 화학식 3으로 표시되는 하이드록시기 함유 플루오렌 화합물을 출발물질로 하여 제조된 것임을 특징으로 하는 플루오렌 유도체 화합물.
    화학식 3
    Figure 112007079273975-PAT00025
    상기 식에서, R, R' 및 n은 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
  5. 제 2 항에 있어서, 다음 화학식 4로 표시되는 하이드록시기 함유 플루오렌 화합물을 출발물질로 하여 제조된 것임을 특징으로 하는 플루오렌 유도체 화합물.
    화학식 4
    Figure 112007079273975-PAT00026
    상기 식에서, R, R" 및 n은 화학식 2에서 정의한 바와 같다.
  6. 다음 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물.
    화학식 1
    Figure 112007079273975-PAT00027
    상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
    화학식 2
    Figure 112007079273975-PAT00028
    상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
  7. 다음 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물;
    에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물;
    광중합 개시제; 및
    초미립자 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
    화학식 1
    Figure 112007079273975-PAT00029
    상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기를 나타내고, R'은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
    화학식 2
    Figure 112007079273975-PAT00030
    상기 식에서, R은 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 시클로알킬기이고, R"은 -O-이고, R2는 광에 의해 라디칼 반응을 수행할 수 있는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트기이고, n은 0 내지 4의 정수를 나타낸다.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 화학식 1 내지 2로 표시되는 플루오렌 유도체 중에서 선택된 적어도 하나의 화합물 100중량부에 대하여, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 50 내지 140중량부를 포함하고, 초미립자 무기물을 0.1 내지 80중량부로 포함하며,
    광중합 개시제를 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 100중량부에 대하여 0.1 내지 30중량부로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  9. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, R2는
    Figure 112007079273975-PAT00031
    (여기서, X는 수소원자, 알킬기 또는 하이드록시기이고, R1은 수소원자 또는 메틸기이다.)인 것을 특징으로 하는 플루오렌 유도체 화합물.
  10. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물로부터 제조된 광학시트.
  11. 제 9항의 감광성 수지 조성물로부터 제조된 광학시트.
  12. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물의 수지경화층을 포함하는 광학시트.
  13. 제 9 항의 감광성 수지 조성물의 수지경화층을 포함하는 광학시트.
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