KR20080051132A - 태양전지용 광 투과 최적화 코팅 유리 물품 및 제조 방법 - Google Patents

태양전지용 광 투과 최적화 코팅 유리 물품 및 제조 방법 Download PDF

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Abstract

태양전지 부품으로서 특히 적합한 다층 박막 적층체가 투명 유전성 기판 상에 도포된다. 본 발명의 다층 막 적층체는 굴절율이 2.0 미만이고 유전성 기판 상에 도포된 투명 전기 전도성 금속 산화물 층, 굴절률이 2.3과 3.5 사이이고 전도성 금속 산화물 층 상에 도포된 광 투과 최적화 중간층, 및 굴절률이 4.5 이상이고 광 투과 최적화 중간층 상에 도포된 규소 층을 포함한다. 본 발명의 막 적층체는 임의의 적합한 방법에 의해 도포될 수 있지만, 대기 화학 증착에 의해 이들 층 각각을 도포하는 것이 바람직하다.
태양전지, 투명 유전성 기판, 광 투과 최적화 중간층, 굴절률, 대기 화학 증착

Description

태양전지용 광 투과 최적화 코팅 유리 물품 및 제조 방법 {LIGHT TRANSMITTANCE OPTIMIZING COATED GLASS ARTICLE FOR SOLAR CELL AND METHOD FOR MAKING}
무정형 규소 태양전지는 전자 계산기 및 시계와 같은 도시 생활용품에서 전력 공급기에 이르기까지 점점 다양한 적용분야에서 사용되고 있다. 일반적으로, 무정형 규소 태양전지는 기재 유리판/투명 전도성 막/무정형 규소 막/금속 전극 막을 포함하는 다층 구조를 갖는다. 그러한 태양전지 상의 입사 태양광은 기재 유리판 측으로부터 투명 전도성 막을 통해 통과하고, 무정형 규소 막으로 들어간다. 그러므로, 기재 유리판과 투명 전도성 막은 우수한 성능을 위해 높은 투과율을 가질 것이 요구된다.
그러한 태양전지가 전력 공급기에 사용되는 경우, 유입되는 태양 방사선에 노출되는 넓은 영역을 가질 필요가 있다. 결과적으로, 이들 태양전지는 흔히, 플로트 공정(float process)에 의해 제조된 저렴한 소다-석회 유리(알칼리 함유 유리)를 기재 유리판으로 사용한다. SiO2(산화규소) 박막이 종종 배리어 막으로 사용되어 알칼리 이온이 유리로부터 다층 구조의 막 적층체의 다른 부품으로 이동하는 것을 막는다. 이러한 태양전지가 전력 공급기에 사용되기 위한 것인 경우, CVD에 의해 도포된 SnO2 막 또한 흔히 사용되며, 이는 이러한 막이 비교적 저렴하고, 대량 생산에 매우 적합하며, 스퍼터링 또는 진공 증착에 의해 도포된 SnO2 막보다 높은 접착 강도를 갖기 때문이다.
따라서, 전력 공급기용 무정형 규소 태양전지에 있어서는, 상기 전지가 넓은 패널 면적을 갖기 때문에 투명 전도성 막이 감소된 전기 저항을 갖는 것이 중요하다. 특히, 비교적 저렴한 SnO2로 제조된 투명 전도성 막은, 적당한 불순도를 갖는 SnO2를 도핑하고 SnO2 코팅의 두께를 증가시킴으로써 전체적으로 감소된 전기 저항을 갖도록 제조된다.
소다-석회 유리판 및 SiO2의 연속 알칼리 배리어 막과 SnO2의 투명 전도성 막을 순서대로 연속적으로 도포함으로써 형성되는 2층 코팅으로 구성된 유리 기판은 고온 다습한 대기(예를 들어, 80℃, 100% RH) 중에서의 가속 시험에 적용된 바 있다. 그 시험의 결과로서, 두께가 6,000 Å 이상인 투명 전도성 막에 전류 흐름을 억제하는 실금(hair line fracture)이 발생하는 것이 관찰되었다.
<발명의 요약>
본 발명은 태양전지, 특히 무정형 규소 태양전지의 부품으로서 특히 적합한 것으로 밝혀진 코팅 유리 물품에 관한 것이다.
본 발명의 코팅 유리 물품은 투명 전기 전도성 금속 산화물 층이 그 위에 도포된 투명 유전성 기판을 포함한다. 전기 전도성 금속 산화물 층은 굴절률이 2.0 미만이다. 광 투과 최적화 중간층이 전도성 금속 산화물 층 위에 도포되고, 2.3과 3.5 사이의 굴절률을 갖는다. 그 후, 굴절률이 4.5 이상인 규소 층이 광 투과 최적화 중간층 위에 도포된다. 임의적으로, 하나 이상의 층들로 된 색 억제 막이 투명 전기 전도성 금속 산화물 층을 도포하기 전에 유전성 기판 상에 도포될 수 있다.
막 적층체의 다양한 층들은 임의의 적합한 방법에 의해, 바람직하게는 플로트 유리 제조 공정 중에 온라인으로, 가장 바람직하게는 그러한 공정 중에 대기 화학 증착에 의해 도포될 수 있다.
<발명의 상세한 설명>
태양전지의 효율을 개선시켜 태양 방사선을 전기 에너지로 변환시키고, 전력을 생산하는 통상적인 수단으로 비용 경쟁력있게 제조되는 전기 에너지를 생산할 수 있는 방식으로 변환시키는 것이 태양전지 분야의 당업자들의 목적이었다.
개선된 태양전지를 제조하기 위해 탐구함에 있어 맞닥뜨리는 문제들 중에는 높은 전기 전도성을 가지면서도 태양 방사선에 대해 투과성이 높은 구조를 만드는 것이 있었다. 이러한 목적은, 다른 특징들 중에서도, 비교적 두꺼운 전기 전도성 금속 산화물 층을 갖는 막 적층체를 형성함으로써 달성될 수 있다. 이러한 접근법의 문제점은, 앞에서도 언급한 바와 같이, 전류 흐름을 방해할 수 있는 전도성 금속 산화물 층의 균열 가능성이 높다는 것이다. 또한, 전도성 금속 산화물 층의 두께가 두꺼워지면(약 6,000-10,000 Å), 태양 방사선이 전도성 금속 산화물 층을 투과함으로써 전기 에너지로 변환되기 위해 사용될 수 있는 능력이 감소된다. 지금까지, 전도성 금속 층의 두께가 보다 두꺼우면, 높은 표면 조도와 우수한 전기 전도성을 보이기 때문에 바람직하다고 생각되어 왔다.
본 발명의 코팅 유리 물품은 다양한 광학 간섭 및 다른 박막 원리들을 이용하여, 태양 에너지 흡수와 반사 사이의 균형을 맞추고 동시에 보다 얇은 전도성 금속 산화물 층의 사용을 가능케 하는, 굴절률이 선택된 범위 내에 있는 광 투과 최적화 중간층을 제공한다. 이러한 방식으로, 보다 많은 태양 방사선이 태양전지를 투과하고, 그러한 침투시 보다 효율적으로 이용된다. 상당히 증가된 태양전지 효율은 본 발명의 코팅 유리 물품을 이용하여 계산될 수 있다.
본 발명에서는, 투명 유전성 기판, 예를 들어 석회-소다-실리카 유리가 이용되지만, 다른 투명 유리, 바람직하게는 플로트 공정에 의해 제조된 투명 유리 또한 마찬가지로 이용될 수 있다.
도핑제 첨가에 의해 전기적으로 전도성이 되는 적합한 금속 산화물 막은 기판 재료 상에 도포된다. 산화주석이 바람직한 금속 산화물이고, 바람직하게는 불소로 도핑된다. 산화주석이 이용된다면, 바람직한 막 두께는 약 3,000-7,500 Å이다. 전도성 금속 산화물이 전체 막 적층체의 맥락에서 적합하게 작동하기 위해서는 그 굴절률이 2.0 미만이어야 한다.
본 발명에서, 광 투과 최적화 중간층은 전기 전도성 금속 산화물 층 위에 도포된다. 투과 최적화 중간층에 적합한 재료에는 TiO2 및 다른 적합한 화학량론적 양보다 적은 양의 금속 산화물들이 포함된다. 투과 최적화 중간층 자체는 두께가 두꺼울 필요는 없으며, 약 300-600 Å이면 충분한 것으로 밝혀졌고, 450 Å 내지 500 Å의 두께이면 바람직하다. 역시, 바람직한 막 적층체 중의 다른 층들과 상용성이기 위해서, 광 투과 최적화 중간층은 2.3 내지 3.5의 굴절률을 갖는다. 특히 바람직한 실시태양에서, 광 투과 최적화 중간층의 굴절률은 2.5 내지 3.0이다.
본 코팅 유리 물품이 무정형 규소 태양전지의 부품으로서 이용되는 바람직한 실시태양에서는, 규소 층이 광 투과 최적화 층 위로 도포된다. 규소 층의 굴절률은 4.5 이상, 바람직하게는 5.0 이상이다.
일부 적용분야에서는, 빛이 막화된 유리 기판으로부터 반사되거나 그를 통해 투과되는 경우에 일어날 수 있는 진주광(iridescence) 효과를 추가적으로 억제하는 것이 바람직할 수 있다. 본 발명과 관련하여, 임의의 적합한 단일층 또는 다층 색 억제 막 적층체, 예를 들어 단일 금속 산화물 층, 금속 산화물 층과 실리카 층, 또는 구배 코팅 층이 이용될 수 있다.
바람직한 실시태양에서, 금속 산화물 층 및 실리카 층은 함께 탁월한 색 억제 막 적층체를 형성하며, 이는 예를 들어, 고돈(Gordon)의 미국 특허 No. 4,377,613 및 No. 4,419,386으로부터 공지되어 있고, 이들은 참고문헌으로 본원에 포함된다. 색 억제 막 적층체는 전기 전도성 금속 산화물 층을 도포하기 전에 기판 재료 상에 도포된다. 색 억제 막 적층체는 비교적 얇고, 주석 산화물 층은 두께가 250-600 Å이며, 실리카 층은 두께가 250-350 Å이다.
언급될 바와 같이, 본 코팅 유리 물품의 막 적층체 중 다양한 층들의 두께는 단 하나의 특정 두께로 한정되지 않기 보다는, 비교적 넓은 범위 내에 들 수 있다. 따라서, 막 두께는 막 적층체의 전체적인 특성 및 성능을 "조율"하기 위해 최적화될 수 있다.
본 발명의 코팅 유리 물품의 층들은 임의의 적합한 방법에 의해 유전성 기판 재료 상에 도포될 수 있지만, 바람직하게는 대기 화학 증착(APCVD)에 의해 도포된다.
화학 증착에 의해 금속 산화물을 도포하는 다른 방법들은, 예를 들어 미국 특허 No. 5,698,262; No. 5,773,086 및 6,238,738에 설명되어 있으며, 이들 각각은 참고문헌으로 본원에 포함된다.
바람직한 막 도포 방법을 수행하기 위해서는, 기체성 혼합물을 도포될 재료를 형성하기 이해 반응시키는 온도보다 낮은 온도에서 유지시키고, 코팅될 평면 유리 기판 근처 위치로 전달하며, 여기서 상기 기판의 온도는 반응물들의 반응 온도보다 높다. 전구 기체 혼합물은 그 후, 기판 위에서 직접 증기 공간 내로 도입된다. 기판으로부터의 열은 전구 기체의 온도를 전구 화합물의 열 분해 온도보다 높게 상승시킨다.
제조 공정 중에 기판을 코팅하는 경우, 높은 도포 속도는 실용적인 관점에서 중요하다. 이는 특히, 유리 리본이 특정 선속으로 이동하고 특정 코팅 두께가 요구되는 온라인 플로트 유리 공정에 있어 그러하다.
본 발명의 방법을 수행하기 위한 수단으로서 플로트 유리 설치물을 이용할 수 있다. 플로트 유리 설치의 한 가지 특정예를 이하에서 설명한다. 플로트 유리 장치는 보다 특정적으로는 캐널 구역을 포함하며, 용융 유리는 이 구역을 따라 용융로로부터, 공지된 플로트 공정에 따라 연속적인 유리 리본이 형성되는 플로트 배쓰 구역으로 전달된다. 유리 리본은 배쓰 구역으로부터 인접한 어닐링 레어(lehr) 및 냉각 구역을 통해 진행한다. 연속적인 유리 리본은 본 발명에 따라 원하는 코팅이 도포되는 기판으로서 작용한다.
플로트 구역은 내부에 용융 주석 배쓰가 함유된 바닥 구역, 루프, 반대 측벽, 및 말단 벽을 포함한다. 루프, 측벽, 및 말단 벽은 모두 함께, 용융 주석의 산화를 방지하도록 비산화성 대기가 유지되어 있는 봉입구조를 정의한다.
또한, 기체 분배 빔이 배쓰 구역 내에 위치한다. 배쓰 구역 내의 기체 분배 빔은 본 발명의 방법에 의해 금속 산화물 코팅을 도포하기 전에 기판 상에 추가의 코팅을 도포하기 위하여 사용될 수 있다. 추가의 코팅은 규소 및 실리카를 포함할 수 있다.
작동시, 용융 유리는 조절 트윌(regulating tweel) 바로 아래의 채널을 따라, 조절된 양으로 주석 배쓰의 표면 상으로 아래를 향해 유동된다. 주석 배쓰 상에서, 용융 유리는 중력 및 표면 장력의 영향 뿐 아니라 특정한 기계적 영향 하에 측방향으로 산포되며, 배쓰를 가로질러 진행하여 리본을 형성한다. 리본은 리프트를 넘어 롤 밖으로 제거되고, 그 후 정렬된 롤 상의 냉각 구역 및 어닐링 레어를 통해 수송된다. 본 발명의 코팅의 도포는 플로트 배쓰 구역 내에서 이루어질 수 있거나, 제조 라인을 더욱 지나, 예를 들어 플로트 배쓰와 어닐링 레어 사이의 간극에서, 또는 어닐링 레어에서 이루어질 수 있다.
적합한 비산화성 대기, 일반적으로 질소, 또는 질소와 수소 혼합물(질소가 우세함)이 배쓰 봉입구조 중에서 유지되어 주석 배쓰의 산화를 방지한다. 대기 기체는 분배 설비에 작동가능하게 연결된 도관을 통해 수용된다. 비산화성 기체는 정상적인 손실을 보상하고 약간의 양압, 주위 대기압보다 약 0.001 내지 약 0.01 atm 정도 더 높은 압력을 유지하기에 충분한 속도로 도입됨으로써, 바깥 대기의 침투를 방지한다. 본 발명의 목적에 있어서, 상기 언급한 압력 범위는 정상 대기압을 구성하는 것으로 생각된다. 주석 배쓰 및 봉입구조 내에서 원하는 온도 상황을 유지하기 위한 열은 봉입구조 내의 복사 가열기에 의해 제공될 수 있다. 냉각 구역이 폐쇄되지 않고 유리 리본이 주위 대기로 개방되어 있으므로, 레어 내의 분위기는 전형적으로는 대기 공기이다. 주위 공기는 냉각 구역에서, 예를 들어 팬에 의해 유리 리본을 향할 수 있다. 유리 리본의 온도를, 수송되어 옴에 따라 소정 상황에 따라 점차적으로 감소시키기 위해, 가열기가 또한 어닐링 레어 내에 구비될 수 있다.
기체 분배 빔은 일반적으로, 유리 리본 기판 상에 다양한 코팅들을 도포하기 위하여 플로트 배쓰 중에 위치시키지만, 플로트 배쓰의 하류에 위치시킬 수 있다. 기체 분배 빔은 본 발명의 공정을 수행하는데 사용될 수 있는 반응기의 한 유형이다.
본 발명에 따라 전구 재료를 공급하는데 적합한 분배 빔에 대한 통상적인 배열은 일반적으로, 이격된 내부 및 외부 벽에 의해 형성되고 2 이상의 폐쇄된 공동을 정의하는 뒤집어지고 일반적으로 채널 형상인 프레임구조이다. 적합한 열 교환 매질은 원하는 온도에서 분배 빔을 유지시키기 위해 폐쇄된 공동을 통해 순환된다. 바람직한 분배 빔은 호퍼(Hofer) 등의 미국 특허 No. 4,504,526에 개시되어 있으며, 이는 참고문헌으로 본원에 포함된다.
전구 기체 혼합물은 유체 냉각된 공급 도관을 통해 공급된다. 공급 도관은 분배 빔을 따라 연장되고, 공급 도관을 따라 이격된 적하 라인(drop line)을 통해 기체를 수용한다. 공급 도관은 프레임구조가 갖는 헤드부 내의 전달 챔버로 이어진다. 적하 라인을 통해 수용된 전구 기체는 증기 공간 개구를 정의하는 코팅 챔버를 향하는 통로를 통해 전달 챔버로부터, 유리 표면을 따라 유동하는 유리 상으로 배출된다.
분배 빔을 가로지르는 전구 재료들의 흐름을 균일화시킴으로써 재료들이 분배 빔을 전체적으로 가로질러 부드럽고 균일한 층류로 유리를 향해 배출되는 것을 확실하게 하기 위하여 배플 플레이트가 전달 챔버 내에 구비될 수 있다. 소비된 전구 재료는 수집되고, 분배 빔의 측면을 따라 배기 챔버를 통해 제거된다.
화학 증착에 사용되는 다양한 형태의 분배 빔들이 본 발명에 적합하며, 선행기술에서 공지되어 있다.
그러한 한 가지 선택적인 분배 빔 배열은 일반적으로, 냉각관을 통해 순환되는 냉각 유체에 의해 냉각되는 기체 공급관을 통해 전구 기체 혼합물을 도입시킨다. 기체 공급관은 신장된 개구를 통해 기체 유동 제한기 내로 개방된다.
기체 유동 제한기는 사인파 형태로 종방향으로 권축되고, 분배기 길이를 따라 연장되는 서로 접속된 관계로 수직으로 탑재된 복수개의 금속 스트립들을 포함한다. 인접한 권축된 금속 스트립들은 "상 밖으로" 배열되어 그들 사이의 복수개의 수직 채널들을 정의한다. 이러한 수직 채널들은, 기체가 분배기의 길이를 따라 실질적으로 일정한 압력으로 기체 유동 제한기로부터 방출될 수 있도록, 기체 공급관의 단면적에 비해 작은 단면적을 갖는다.
코팅 기체는 기체 유동 제한기로부터, 유입구 레그(leg), 코팅될 고온 유리 기판 상으로 개방된 코팅 챔버, 및 배기 레그를 일반적으로 포함하는 실질적으로 U자 형상의 가이드 채널의 유입구 측면 내로 방출됨으로써, 사용된 코팅 기체는 유리로부터 회수된다. 코팅 채널을 정의하는 블록의 둥근 모서리는 코팅될 유리 표면을 가로지르는, 유리 표면에 평행한 코팅의 균일한 층류를 촉진한다.
<실시예>
본 발명을 실시하기 위해 발명자들에 의해 현재로서 고려된 최상의 방식을 구성하는 하기 실시예들은 단지, 본 발명을 추가로 예시하고 개시하고자 하는 목적으로 제시되는 것이며, 본 발명을 제한하는 것으로 이해되어서는 안 된다.
표 1-4에 설명된 실시예들은 본 코팅 유리 물품의 막 적층체의 다양한 배열 뿐 아니라, 본 발명과 비교하기 위한 유용한 기초를 제공할 수 있는 본 코팅 유리의 범위 밖에 있는 막 적층체 배열들에 대한 컴퓨터 생성 모델링의 결과이다.
표 - 실시예 1-16에서 사용되는 표시된 용어들은 하기의 의미를 갖는다:
Rg는 박막이 전혀 도포되지 않은 유리 시트의 주된 표면으로부터의 가시광의 반사 백분율을 의미한다.
Rg(a*) 및 Rg(b*)는 각각 CIELAB 색 좌표 a* 및 b*에 따른 유리 시트의 비막화된 표면으로부터의 반사광의 색을 의미한다.
ABS는 코팅 유리 시트 상에 도포된 하나 이상의 박막에 의해 흡수된 가시광의 백분율을 의미한다.
T는 전기 에너지로 변환될 수 있는 본질적으로 무정형인 태양 규소 전지에 의해 흡수된 가시광의 백분율을 의미한다.
구체적으로, 실시예 1-4는 본 발명의 범위 내에 든다. 실시예 1-4는 실시예 5-8과 대비될 수 있고, 실시예 1-4에서는 본 발명의 막 적층체가, 주로 무정형인 규소 태양전지를 대표하는 바와 같이, 두께가 5000 Å인 규소 층으로 이용되었다. 관찰되는 바와 같이, 실시예 1-4의 모델링된 구조의 유리측 반사율(Rg)은 매우 낮았으며, 약 5.2-8.0% 범위 내이었다. 그러한 낮은 반사율은 태양전지 구조 중에 보유되고 전기 에너지로의 변환에 이용될 수 있는 태양 방사선을 최대화하는 데에 도움이 될 것이다.
또한, 실시예 1-8 모두는 진주광 억제 구조를 이용하는 것이 관찰될 것이다. 이용가능한 실시예들 중, 미도핑된 SnO2 층이 보다 얇은(250 Å v 600 Å) 실시예 2 및 3이 가장 낮은 Rg를 제공하는 것으로 보인다. 실시예 2 및 3은 또한, 도핑된 SnO2 층의 두께에 있어 상이하다. 불소가 이들 실시예들에서 모델링될 도핑제로서 선택된다. SnO2:F 층의 두께에 있어서 2000 Å의 차이가 있음에도 불구하고, Rg의 차이는 매우 적은 것으로 예측된다.
실시예 5-8은 광 투과 최적화 중간층 사이의 상호작용이 어떻게 무정형 규소 층과 작용하여 반사를 통한 광 소실을 감소시키고 광 투과/흡수도를 증강시키는지를 비교적으로 보여준다. 실시예 5-8에서의 Rg는 실시예 1-4에서보다 20% 정도 더 높다.
실시예 9-12 및 13-16은 광 투과 최적화 중간층이 전혀 나타나 있지 않기 때문에, 광 투과 최적화 중간층을 이용하는 실시예와의 비교를 위한 기초를 제공한다. 특히 실시예 13-16에서 언급되는 바와 같이, Rg는 실시예 1-4에서보다 실질적으로, 그리고 바람직하지 않게도, 더 높다. 실제로, 실시예 13-16의 Rg는 평균적으로, 실시예 1-4에서의 Rg보다 2배 넘게 더 높다. 따라서, TiO2의 광 투과 최적화 중간층은 광 반사량을 감소시키는데 있어서 현저하고도 고도로 유익한 효과를 갖는다는 것을 알 수 있다. 실시예 1-4에서의 광 흡수율은 실시예 13-16에서보다 6-10% 더 높은 범위이며, 이는 본 발명을 이용하는 태양전지의 효율을 현저하게 개선시킨다.
Figure 112008015354785-PCT00001
표 1 - 실시예 1-4는 무정형 규소 태양전지의 부품으로서의 본 발명의 용도 및 그의 광학 분석 결과를 보여준다.
Figure 112008015354785-PCT00002
표2 - 실시예 5-8은 불소 도핑된 주석 산화물 TCO 층을 갖지만, 무정형 실리카 코팅과 조합되지 않은 본 발명의 측정된 광학 특성들을 보여준다.
Figure 112008015354785-PCT00003
표 3 - 실시예 9-12는 광 투과 최적화 중간층을 사용하지 않고 예상될 수 있는 광학 특성들을 보여준다.
Figure 112008015354785-PCT00004
표 4 - 실시예 13-16은 광 투과 최적화 중간층이 없는 공지된 무정형 규소 태양전지의 화학적 조성과 광학 특성들을 보여준다.
표 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 광 반사 최적화 중간층을 포함하는 그러한 샘플들은 반사 최적화 중간층을 갖지 않는 샘플들에 비해 7-8% 감소된 유입 태양 방사선 반사율을 갖는다. 그러한 반사율 감소는 8-9% 증가된 변환 효율이 얻어지는 결과를 가져올 수 있으며, 이는 통상적인 태양전지의 변환 효율이 10-12% 정도인 상황에서 매우 현저한 것이다.
본 발명은 바람직한 실시태양으로 여겨지는 실시태양으로 개시되었다. 하지만, 구체적인 실시태양들은 예시적인 목적으로만 제공된 것이며, 본 발명은 그의 취지 및 범위를 벗어나지 않으면서 구체적으로 예시된 것과 다르게 수행될 수 있다고 이해되어야 한다.

Claims (22)

  1. 투명 유전성 기판;
    굴절율이 2.0 미만이고 유전성 기판 상에 도포된 투명 전기 전도성 금속 산화물 층;
    굴절률이 2.3과 3.5 사이이고 전도성 금속 산화물 층 상에 도포된 광 투과 최적화 중간층; 및
    굴절률이 4.5 이상이고 광 투과 최적화 중간층 상에 도포된 규소 층
    을 포함하는, 태양전지 부품으로서 사용하기에 적합한 코팅 물품.
  2. 제1항에 있어서, 전기 전도성 층이 불소 도핑된 금속 산화물을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  3. 제1항에 있어서, 광 투과 최적화 중간층이 금속 산화물 층을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  4. 제3항에 있어서, 광 투과 최적화 중간층이 티탄 산화물을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  5. 제1항에 있어서, 규소 층이 무정형 규소를 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  6. 제1항에 있어서, 유전성 기판과 전기 전도성 층 사이에 개재된 색 억제 막을 추가로 포함하는 코팅 유리 물품.
  7. 제6항에 있어서, 색 억제 막이 단일 금속 산화물 층, 금속 산화물 층과 실리카 층, 및 구배 층으로 이루어진 군으로부터 선택되는 한 가지를 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  8. 제6항에 있어서, 색 억제 막이 두께가 250-600 Å인 주석 산화물 층 및 두께가 250-350 Å인 실리카 층을 포함하는 코팅 유리 물품.
  9. 제4항에 있어서, 광 투과 최적화 막이 평균 두께가 300-600 Å인 티탄 산화물 층을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  10. 제9항에 있어서, 광 투과 최적화 막 적층체가 평균 두께가 450-500 Å인 티탄 산화물 층을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  11. 제2항에 있어서, 도핑된 금속 산화물 층이 두께가 5,000-7,500 Å인 불소 도핑된 주석 산화물을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  12. 제3항에 있어서, 광 투과 최적화 중간층의 굴절률이 2.3과 3.0 사이인 코팅 유리 물품.
  13. 제2항에 있어서, 도핑된 금속 산화물 층이 두께가 3000-5,500 Å인 불소 도핑된 주석 산화물을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  14. 제1항에 있어서, 규소 층의 굴절률이 5.0 이상인 코팅 유리 물품.
  15. 제1항에 있어서, 전기 전도성 층이 주석 도핑된 인듐 산화물을 포함하는 것인 코팅 유리 물품.
  16. 가열된 유전성 기판을 제공하는 단계;
    굴절률이 2.0 미만인 투명 전기 전도성 금속 산화물 층을 기판 상에 도포하는 단계;
    굴절률이 2.3과 3.5 사이인 광 투과 최적화 중간층을 전도성 금속 산화물 층 상에 도포하는 단계;
    굴절률이 4.5 이상인 규소 층을 광 투과 최적화 중간층 상에 도포하는 단계
    를 포함하는, 태양전지 부품으로서 사용하기에 적합한 코팅 물품을 형성하는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 각 층을 플로트 유리 제조 공정 동안에 온라인으로 도포하는 형성 방법.
  18. 제16항에 있어서, 각 층을 대기 화학 증착에 의해 도포하는 형성 방법.
  19. 투명 유전성 기판;
    굴절율이 2.0 미만이고 유전성 기판 상에 도포된 투명 전기 전도성 금속 산화물 층;
    굴절률이 2.3과 3.5 사이이고 전도성 금속 산화물 층 상에 도포된 광 투과 최적화 중간층; 및
    굴절률이 4.5 이상이고 광 투과 최적화 중간층 상에 도포된 규소 층
    을 포함하며; 유리측 반사율이 5.2 내지 8.0인, 태양전지 부품으로서 사용하기에 적합한 투명 코팅 물품.
  20. 투명 유전성 기판;
    굴절율이 2.0 미만이고 유전성 기판 상에 도포된 투명 전기 전도성 금속 산화물 층;
    굴절률이 2.3과 3.5 사이이고 전도성 금속 산화물 층 상에 도포된 광 투과 최적화 중간층; 및
    굴절률이 4.5 이상이고 광 투과 최적화 중간층 상에 도포된 규소 층
    을 포함하는, 태양전지 부품으로서 사용하기에 적합한 코팅 물품.
  21. 투명 유전성 기판;
    굴절율이 2.0 미만이고 유전성 기판 상에 도포된 투명 전기 전도성 주석 산화물 층;
    300 Å 내지 600 Å의 두께로 도포된 티탄 산화물을 포함하고 전도성 주석 산화물 상에 직접 도포된 광 투과 최적화 중간층; 및
    굴절률이 4.5 이상이고 광 투과 최적화 중간층 상에 도포된 규소 층
    을 포함하는, 태양전지 부품으로서 사용하기에 적합한 코팅 물품.
  22. 투명 유리 기판;
    굴절율이 2.0 미만이고 유전성 기판 상에 도포된 투명 전기 전도성 주석 산화물 층;
    450 Å 내지 500 Å의 두께로 도포된 TiO2를 포함하고 전도성 주석 산화물 상에 직접 도포된 광 투과 최적화 중간층; 및
    굴절률이 4.5 이상이고 광 투과 최적화 중간층 상에 도포된 규소 층
    을 포함하는, 태양전지 부품으로서 사용하기에 적합한 코팅 물품.
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