KR20080038242A

KR20080038242A - 엠보싱 어셈블리 및 제조 방법

Info

Publication number: KR20080038242A
Application number: KR1020087007000A
Authority: KR
Inventors: 게리 와이 엠 캉; 존 하난 리우; 위-숭 차우그
Original assignee: 사이픽스 이미징, 인코포레이티드
Priority date: 2005-08-22
Filing date: 2006-08-15
Publication date: 2008-05-02
Also published as: EP1943297A2; KR101291996B1; CN101588916B; JP2009508710A; US7767126B2; US20070042129A1; WO2007024643A2; WO2007024643A3; CN101588916A

Abstract

본 발명은, 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 슬리브, 팽창가능한 삽입물, 및 상기 슬리브와 상기 팽창가능한 슬리브가 탑재된 드럼을 포함하는 엠보싱 어셈블리에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 전기도금 공정에서 드럼 또는 슬리브의 표면상의 도금 재료의 두께를 제어하는 방법에 관한 것이다.

엠보싱 어셈블리, 엠보싱 드럼, 엠보싱 슬리브, 포토리소그래피

Description

엠보싱 어셈블리 및 제조 방법{EMBOSSING ASSEMBLY AND METHODS OF PREPARATION}

발명의 배경

발명의 분야

본 발명은 엠보싱 어셈블리 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.

관련 기술의 설명

미국특허번호 제4,923,572호 (이하, '572 특허로 지칭) 는, 웹상에 재료를 엠보싱하기 위해 이용될 수 있는 일반적으로 원통형의 이미지 엠보싱 툴을 개시한다. 이미지 엠보싱 툴의 제조 방법은 다수의 단계들을 포함하는데, 그 다수의 단계들은, (1) 강성 실린더의 표면 주위에 엠보싱가능 재료 (embossable material) 를 위치시킨 후, 그 위에 은과 같은 얇은 금속을 코팅하는 단계, (2) 엠보싱가능 재료 위에 스탬퍼 (stamper) 를 이용하여 원하는 이미지 또는 패턴을 스탬핑하는 단계, (3) 엠보싱가능 층의 외표면 (outer surface) 상에 니켈 전기주조 (nickel electroform) 를 형성하도록 전기주조하는 단계, (4) 그 전기주조 위에 보강층 (reinforcement layer) 을 도포하는 단계, (5) 강성 실린더를 제거하는 단계, (6) 도금 맨드릴 (plating mandrel) 을 형성하기 위해 엠보싱가능 층을 스트립핑하는 단계, (7) 도금 맨드릴의 내부 상에 제 2 전기주조를 형성하는 단계, 및 (8) 제 2 전기주조로부터 도금 맨드릴을 분리하는 단계를 포함한다. '572 특허에 의하 면, 제 2 전기주조의 다수의 카피 (copy) 들은 동일 방식으로 제조된 후, 연속적인 엠보싱을 허용하기 위한 엠보싱 툴을 형성하기 위해 캐리어 실린더 또는 복수의 롤러 위에 위치될 수 있다. 그러나, 이런 엠보싱 툴 및 그의 제작 공정은 몇몇 단점들이 있다. 예를 들어, 이 공정은, 스탬퍼의 스탬핑 표면 (stamping surface) 이 강성 실린더 상의 엠보싱가능 재료의 곡률 (curvature) 과 동일한 곡률을 갖도록 요구한다. 실제로 이것은 달성하기가 어렵다. 둘째로, 스탬퍼 상에 결함이 있다면, 그 결함은 동일 스탬퍼로부터 제조된 전기주조의 카피들로 옮겨질 것이다. 셋째로, 2 개의 인접한 스탬프들 사이에서 결함이 없는 조인트 라인 (defect-free joint line) 을 획득하기가 또한 어렵다.

미국특허번호 제5,327,825호 (이하, '825 특허로 지칭) 는, 엠보싱 또는 마이크로엠보싱을 통해 다이를 제작하는 방법을 개시한다. 더 상세하게는, 이 방법은, 은층 (silver layer) 위에 부여될 패턴 또는 설계 (design) 를 지니고 원통형 표면의 반경과 일치하는 반경을 갖는 오목 형상의 스탬핑 표면의 사용을 통해, 원통형 표면상에 코팅된 은층 위에 패턴 또는 설계를 엠보싱하는 단계를 포함한다. 이런 방법으로부터 제조된 다이 (die) 가 오목 형상의 스탬핑 표면으로부터 반복된 패턴 또는 설계를 갖도록 이 마이크로엠보싱 단계가 다수 회 수행된다. 이 방법은, '572 특허의 공정과 유사한 단점들, 예를 들어, 스탬핑 표면과 원통형 표면의 곡률의 일치에 있어서의 어려움; 결함이 있는 스탬핑 표면으로부터 발생되는 반복된 결함들; 및 인접한 스탬프들 사이의 결함이 없는 조인트 라인을 획득하는데 있어서의 어려움이 있다.

미국특허번호 제5,156,863호 (이하, '863 특허로 지칭) 는, 연속적인 엠보싱 벨트를 제작하는 방법을 개시한다. 이 방법은, 일련의 "마스터들" 또는 "카피들" 을 클러스터로 결합하여, 클러스터로 제작된 픽스쳐 (fixture) 및 전기주조 스트립에 원하는 패턴을 제공하는 단계를 포함한다. 엠보싱 벨트는, 마스터 클러스터 픽스쳐로부터 시작하는 다수의 전기주조 단계 이후에 형성된다. 이 방법의 결점들 중 하나는, 클러스터에 대한 개별 마스터들 또는 카피들을 동일 두께로 생성하는데 어려움이 있다는 것이다. 따라서, 인접한 마스터들 또는 스트립들 사이의 높이 차가 존재할 것이며, 이는 최종 엠보싱된 제품상에 결함 라인의 형성을 초래할 것이다. 또한, 특히, 딥 3D 프로파일을 가진 복잡한 마이크로구조가 포함될 때, 분리 (separation) 동안, 슬리브 형 맨드릴과 심 (shim) 에 대한 손상을 피하기가 어렵다.

미국특허번호 제5,881,444호 및 제6,006,415호는, 홀로그램을 지닌 (bearing) 인쇄 롤을 형성하는 방법을 개시한다. 홀로그램 패턴은, 평탄한 유리 또는 금속 기판의 일 조각상에 코팅된 포토레지스트의 표면상에 레이저 에칭함으로써 형성된다. 마더 심 (mother shim) 과 후속 시스터 심 (sister shim) 들이 평탄 플레이트로서 전기주조된다. 그 후, 시스터 심이 인쇄 롤 상에 탑재되어 엠보싱 툴이 획득된다. 이 방법의 단점들은, 평탄한 심을 롤링하여 실린더에 용접하는 것으로부터 발생되는 결함이 있는 조인트 라인의 형성, 및 시스터 심과 인쇄 롤의 동심도 (concentricity) 의 조정에 있어서의 어려움을 포함한다. 심과 롤이 동심 (concentric) 이 아니라면, 엠보싱 압력은 균일하지 않을 것이며, 이는 열악한 충실도를 가진 엠보싱된 마이크로구조를 생성할 것이다.

발명의 요약

본 발명은, 엠보싱 어셈블리 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.

본 발명의 제 1 양태는, 외표면 상에 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 제조하는 방법에 관한 것이다. 포토리소그래피와 성막법 (deposition) (예를 들어, 전기도금, 무전해 도금, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착) 을 결합한 이 방법은, 3 차원 패턴이 상기 드럼 또는 슬리브 상에 직접 형성되기 때문에, 반복적인 결함이 있는 스폿이 없고, 결함이 있는 조인트 라인이 없으며, 분리 결함이 없는, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 생성한다.

본 발명의 제 2 양태는, 엠보싱 어셈블리에서 이용될 수도 있는, 외표면 상에 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 슬리브에 관한 것이다.

본 발명의 제 3 양태는, 외표면 상에 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 슬리브, 팽창가능한 삽입물 (insert) 및 엠보싱 슬리브와 팽창가능한 삽입물이 탑재되어 있는 드럼을 포함하는 엠보싱 어셈블리에 관한 것이다.

본 발명의 제 4 양태는, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상에 균일한 성막 (deposit) 두께를 제공할 수 있는 전기도금 메커니즘에 관한 것이다.

도면의 간단한 설명

도 1A 내지 도 1F 는, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상에 3 차원 패턴을 형성하는 방법을 나타낸 도면이다.

도 2 는, 캐소드와 애노드 사이에 삽입된 비도전성 두께 유니포머 (non-conductive thickness uniformer) 를 포함하는 전기도금 메커니즘을 나타낸 도면이다.

도 3 은, 소형화된 애노드를 포함하는 또 다른 전기도금 메커니즘을 나타낸 도면이다.

도 4 는, 암페어×시간 대 L-방향에서의 위치에 대한 차트이다.

도 5a 는, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브의 외표면 상의 마이크로 포스트들의 어레이를 나타낸 도면이다.

도 5b 는, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브의 외표면 상의 마이크로 바들의 어레이를 나타낸 도면이다.

도 5c 는, 단계적 노광 공정 또는 연속적 노광 공정 시에 사용될 수도 있는 포토마스크를 나타낸 도면이다.

도 6 은, 감광성 재료의 단계적 노광을 나타낸 도면이다.

도 7a 및 도 7b 는, 노광 공정을 위한 또 다른 광원들을 나타낸 도면이다.

도 8a 는, 외표면 상에 마이크로 포스트들을 갖는 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 나타낸 도면으로, 마이크로 포스트들의 y 축은 상기 드럼 또는 슬리브의 세로축으로부터 45°의 투영 각도를 갖는다.

도 8b 는, 외표면 상에 마이크로 포스트들을 갖는 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 나타낸 도면으로, 마이크로 포스트들의 y 축은, 상기 드럼 또는 슬리브의 세로 축으로부터 0°의 투영 각도를 갖는다.

도 8c 는, 감광성 재료의 사선 노광 (angled exposure) 을 나타낸 도면이다.

도 9 는, 마스크 재료를 이용한 포토리소그래피 방법을 나타낸 도면이다.

도 10a 및 도 10b 는, 팽창가능한 삽입물들을 나타낸 도면이다.

도 10c 는, 3 차원적인 시각에서 본 발명의 엠보싱 어셈블리를 나타낸 도면이다.

발명의 상세한 설명

엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상에의 패턴 형성 방법

이 방법은 도 1 에서 설명된다. 이 방법은, 외표면 상에 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 생성한다.

도 1 에서는 엠보싱 슬리브의 제조만이 명시되어 있지만, 엠보싱 드럼의 제조를 위해서도 이 방법이 사용될 수 있다는 것이 이해된다. "엠보싱" 드럼 또는 "엠보싱" 슬리브란 용어는, 그 외표면 상에 3 차원 패턴을 갖는 드럼 또는 슬리브를 지칭한다. "엠보싱 드럼" 또는 "엠보싱 슬리브" 란 용어는, 외표면 상에 3 차원 패턴을 갖지 않는 평평한 드럼 또는 평평한 슬리브와 구별하기 위해 사용된다. 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브가 엠보싱될 표면에 적용될 때, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브의 외표면 상의 3 차원 패턴과 상보적인 3 차원 패턴이 엠보싱된 표면상에 형성된다.

엠보싱 드럼이 직접 엠보싱 툴 (또는 엠보싱 어셈블리로 지칭) 로서 사용될 수도 있다. 엠보싱 슬리브가 엠보싱을 위해 사용되는 경우, 보통은, 엠보싱 슬리브의 회전을 허용하기 위해 평평한 드럼 상에 탑재된다.

엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 (11) 는 보통, 도전성 재료, 이를 테면, 금속 (예를 들어, 알루미늄, 구리, 아연, 니켈, 크롬, 철, 티타늄, 코발트 등), 전술된 금속들 중 임의의 금속으로부터 얻어진 합금, 또는 스테인레스 강철로 형성된다. 드럼 또는 슬리브를 형성하기 위해 다른 재료들이 사용될 수도 있다. 예를 들어, 드럼 또는 슬리브의 중심부는 강철로 형성될 수도 있고, 그 강철과, 구리층일 수도 있는 최외층과의 사이에는 니켈층이 샌드위치된다.

다른 방법으로, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 (11) 는, 외표면 상에 도전성 코팅층 또는 도전성 시드층을 가진 비도전성 재료로 형성될 수도 있다. 또 다른 방법으로, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 (11) 는, 외표면 상에 도전성 재료 없이 비도전성 재료로 형성될 수도 있다.

도 1B 의 단계에서 나타낸 것처럼, 드럼 또는 슬리브 (11) 의 외표면 상에 감광성 재료 (12) 를 코팅하기 전에, 드럼 또는 슬리브의 외표면의 평활도 (smoothness) 를 확보하기 위해 정밀한 연마 (grinding) 및 폴리싱이 이용될 수도 있다.

도 1B 의 단계에서, 감광성 재료 (12), 예를 들어, 포토레지스트가 드럼 또는 슬리브 (11) 의 외표면 상에 코팅된다. 감광성 재료는, 포지티브 톤 (positive tone), 네거티브 톤 (negative tone) 또는 듀얼 톤 (dual tone) 의 것일 수도 있다. 감광성 재료는 또한 화학적으로 증폭된 포토레지스트일 수도 있다. 딥 코팅, 스프레이 코팅, 드레인 코팅 또는 링 코팅을 이용하여 코팅이 수행될 수도 있다. 감광성 재료의 두께는, 형성될 3 차원 패턴의 깊이 또는 높이보다 큰 것이 바람직하다. 건조 및/또는 베이킹 후에, 감광성 재료는 도 1C 에 나타낸 것처럼 노광되게 된다. 다른 방법으로, 감광성 재료 (12) 는, 드럼 또는 슬리브 (11) 의 외표면 상에 적층되는 (보통 상업상 입수가능한) 건식 필름 포토레지스트일 수 있다.

도 1C 의 단계에서는, 적절한 광원 (light source; 13), 예를 들어, IR, UV, e-빔 또는 레이저가 드럼 또는 슬리브 상에 코팅된 감광성 재료 (12) 를 노광시키기 위해 이용된다. 포토마스크 (14) 는, 감광성 재료상에 형성될 3 차원 패턴을 한정하기 위해 선택적으로 이용된다. 이 패턴에 따라, 노광은, 단계적, 연속적, 또는 이들의 조합일 수도 있으며, 이들의 상세한 설명은 이하 제공된다.

노광 후에, 감광성 재료 (12) 는, 현상 전에, 사후 노광 처리, 예를 들면, 베이킹될 수도 있다. 감광성 재료의 톤에 따라, 노광된 영역 또는 비노광된 영역 중 하나의 영역이 현상액을 사용함으로써 제거될 것이다. 현상 후에, (도 1D 에 나타낸 것처럼) 외표면 상에 패터닝된 감광성 재료 (15) 를 가진 드럼 또는 슬리브는, 성막 (예를 들어, 전기도금, 무전해 도금, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착) 전에, 베이킹 또는 블랭킷 노광될 수도 있다.

다양한 금속 또는 합금 (예를 들어, 니켈, 코발트, 크롬, 구리, 아연, 철, 주석, 은, 금 또는 전술된 금속들 중 임의의 금속으로부터 얻어진 합금) 이 드럼 또는 슬리브 상에 전기도금 및/또는 무전해 도금될 수 있다. 도금 재료 (16) 는, 패터닝된 감광성 재료에 의해 커버되지 않은 영역에서 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 성막 (depositing) 된다. 성막 두께는, 도 1E 에 나타낸 것처럼, 감 광성 재료의 두께보다 작은 것이 바람직하다. 전체 드럼 또는 슬리브 영역 위의 성막의 두께 변화는, 도금 조건들, 예를 들어, 전기도금이 이용된다면 애노드와 캐소드 (즉, 드럼 또는 슬리브) 사이의 거리, 드럼 또는 슬리브의 회전 속도, 및/또는 도금 용액의 순환을 조정함으로써 1% 미만으로 제어될 수 있다.

다른 방법으로, 도금 재료 (16) 를 성막하기 위해 전기도금을 이용한 경우에, 드럼 또는 슬리브의 전면 위의 성막의 두께 변화는, 도 2 에 나타낸 것처럼, 캐소드 (즉, 드럼 또는 슬리브; 21) 와 애노드 (22) 사이에 비도전성 두께 유니포머 (20) 를 삽입함으로써 제어될 수도 있다. 유니포머 (20) 는, 캐소드와 애노드의 레이아웃에 따라, 평평한 층 또는 곡선모양의 층 (curved layer) 일 수도 있고, 또는 원형 형상 (즉, 슬리브의 형상) 일 수도 있다. 유니포머는, 협폭의 개구 또는 개구들 (23) 을 갖는다. 전기도금 단계 동안, 유니포머는 드럼 또는 슬리브의 세로 방향으로 앞뒤로 이동하는 한편 드럼 또는 슬리브는 회전한다. 유니포머는, 비도전성 재료, 예를 들어, PVC (PolyVinyl Chloride; 폴리염화비닐) 로 형성되기 때문에, 개구들 (23) 을 통하여 거의 수직으로 애노드에 직접 노출되는 드럼 또는 슬리브의 영역들만이 전기도금된다. 다시 말해, 패터닝된 감광성 재료 (도 1 에서 15) 에 의해 커버되지 않은 드럼 또는 슬리브의 외표면 영역들이 연속적으로 번갈아 가며 전기도금되게 된다. 이런 유니포머 (20) 를 이용함으로써, 드럼 또는 슬리브의 전면 위의 전류 분포가 균질화 (homogenize) 되며, 이로써 도금 재료의 균일한 성막이 확보된다.

또 다른 방법으로, 도 3 에 나타낸 것처럼 비교적 소형의 애노드 (30) 가 성 막 두께를 균질화하기 위해 사용될 수도 있다. 애노드는, 캐소드 (즉, 드럼 또는 슬리브; 32) 를 향하는 측면을 제외하고는 비도전성 재료 (31) 로 커버된다. 다른 방법으로, 애노드의 2 개의 측면만이 비도전성 재료로 커버되는데, 이 경우에는, 캐소드를 향하는 측면과 그의 대향 측면이 비도전성 재료에 의해 커버되지 않는다. 전기도금 단계 동안, 애노드는, 드럼 또는 슬리브의 세로 방향으로 비도전성 재료와 함께 앞뒤로 이동하는 한편 드럼 또는 슬리브는 회전한다. 애노드는 캐소드를 향하는 평평한 측면 또는 곡선모양의 측면을 가질 수도 있다.

도 4 는, 전기도금 동안, 암페어-시간 미터 및 애노드 위치 계측기 또는 변환기로부터 수신된 데이터의 모니터링 차트를 나타낸 것이다. 전기도금 공정 동안, 암페서-시간의 값은 성막 두께에 비례한다. 모니터링 차트는 전기도금 동안 연속적으로 업데이트되며, 따라서, 전체 드럼 또는 슬리브 위의 두께 균일도 가 인시츄 (in situ) 로 모니터링될 수도 있고 필요하다면 조정될 수도 있다. 예를 들어, 도 4 는, 구역 1 및 구역 3 의 도금된 성막이 구역 2 의 성막보다 두껍다는 것을 나타낸다. 이런 상황이 검출되는 경우, 전체 드럼 또는 슬리브 위의 성막 두께를 균질화하기 위해, 2 개의 공정들에서 사용된 유니포머 (도 2 에서 20) 또는 애노드 (도 3 에서 30) 가, 구역 1 및 구역 3 에서는 더 빨리 이동하도록 조정될 수도 있고, 및/또는 구역 2 에서는 더 느리게 이동하도록 조정될 수도 있다.

외표면 상에 도전성 코팅층 또는 도전성 시드층을 가진 도전성 재료 또는 비도전성 재료로 이루어진 드럼 또는 슬리브 상에 도금이 수행될 수 있다는 것이 이해된다. 비도전성 드럼 또는 슬리브의 경우, 3 차원 패턴은, 포토리소그래피와 에칭을 결합한 방법에 의해 제조될 수도 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 이하 제공된다.

도금 후에, 패터닝된 감광성 재료 (15) 는, 스트립퍼 (예를 들어, 유기 용제 또는 수용액) 에 의해 스트립핑될 수 있다.

전체 드럼 또는 슬리브 위의 성막의 허용가능한 두께 변화 및 거칠기 정도를 확보하기 위해 정밀한 폴리싱이 선택적으로 사용될 수도 있다.

도 1F 는, 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브의 단면도를 나타낸 것이다. 도금된 재료, 예를 들어, 구리 또는 아연이 비교적 연성 (soft) 이거나 습기에 영향받기 쉽다면, 비교적 마모성 있는 (wearable) 층 또는 불활성 층, 예를 들어, 니켈 또는 크롬이 이어서 성막될 수도 있다. 제 2 층의 성막은, 전기도금, 무전해 도금, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착에 의해, 드럼 또는 슬리브의 전체 외표면 상에 수행될 수도 있다.

다른 방법으로, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브의 외표면 상의 3 차원 패턴의 높이 (또는 두께) 가 비교적 작다면 (예를 들어, 1 미크론 미만), 도 1E 의 도금 단계는, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착으로 대체될 수도 있다. 드럼 또는 슬리브의 전체 외표면 상에 성막이 수행된다. 그 성막은 몹시 얇기 때문에, 감광성 재료 위에 성막된 재료가 스트립핑 단계에서 감광성 재료와 함께 제거될 수도 있다.

또 다른 방법으로, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브는, 포토리소그래피와 성막법 대신에 포토리소그래피와 에칭을 결합한 방법에 의해 제조될 수도 있다. 감광성 재료의 코팅, 노광 및 현상 (즉, 감광성 재료의 선택적 영역들의 제거) 후에, 감광성 재료에 의해 커버되지 않은 영역에서 에칭 단계가 이어서 수행된다. 에칭의 깊이는, 액상 타입의 에천트 (이를 테면, 구리 드럼 또는 슬리브를 에칭하기 위한 염화 제2철 용액) 가 사용된다면, 사용된 에천트의 농도에 의해, 또는 건식 에칭 (화학적 플라즈마 에칭, 공동 작용성의 반응성 이온 에칭 또는 물리적 이온 빔 에칭) 이 사용된다면, 에칭 플럭스 강도에 의해 제어될 수도 있다. 에칭의 깊이는 또한, 온도 및 에칭 시간에 의해 제어될 수도 있다. 다른 방법으로, 에칭의 깊이는, 선택적 에칭 방법을 이용함으로써 균일하게 되도록 제어될 수도 있다. 예를 들어, 이런 방법으로, 니켈층이 먼저 슬리브 또는 드럼 상에 도금된 후, 그 니켈층 위에 원하는 두께의 구리층이 도금된다. 니켈이 구리 에천트들 중 임의의 에천트, 예를 들면, 염화 제2철에 의해 공격 (attack) 받지 않기 때문에, 에칭 깊이가 적절하게 제어될 수 있다. 에칭 단계 후에, 나머지 감광성 재료는, 스트립퍼를 이용하여 제거되고, 이어서, 비교적 마모성 있는 층 또는 불활성 층, 예를 들어, 니켈 또는 크롬이 상기 설명한 것처럼, 드럼 또는 슬리브의 전체 외표면 상에 선택적으로 성막될 수도 있다.

실제로, 부가적인 (즉, 전기도금, 무전해 도금, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착) 단계를 포함하는 상기 설명한 것과 같은 공정으로부터 제조된 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상의 3 차원 패턴은, 공제 (subtractive; 즉, 에칭) 단계를 포함하는 상기 설명한 것과 같은 공정으로부터 제조된 3 차원 패턴과 구조적으로 상보적일 것이다.

상기 언급한 것처럼, 도 1C 의 노광 단계는, 단계적, 연속적 또는 이들의 조합으로 수행될 수도 있다. 도면을 간략화하기 위해, 드럼 또는 슬리브의 외표면의 곡률은 도 5a 및 도 5b 에 도시되어 있지 않다. 도 5a 는, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상의 마이크로 포스트들의 어레이를 나타낸 것이다. 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상에 마이크로 포스트들을 제작하기 위해, 도 5c 에 나타낸 것과 같은 포토마스크가 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 코팅된 감광성 재료를 단계적으로 노광하기 위해 사용될 수도 있다. 단계적인 노광에 대한 다수의 방법들이 존재한다.

그 방법들 중 하나가 펄스 타입의 광원의 사용을 포함한다. 도 6 에 나타낸 것과 같은 방법에 있어서, 포토마스크 (60) 는 공정 전반에 걸쳐 고정된 채로 있다. 그러나, 드럼 또는 슬리브 (미도시) 는 스탑 앤 고 (stop-and-go) 방식으로 회전한다. 드럼 또는 슬리브가 "스탑" 모드에 있고, 펄스 타입의 광원이 온 (ON) 일 때, 포토마스크를 통한, 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 코팅된 감광성 재료 (61, 곡률은 미도시) 의 노광이 발생한다. 그 결과, 감광성 재료상의 영역들 (1a 내지 1d) 이 포토마스크의 개구들 (a 내지 d) 에 대응하여 노광된다. 그 후, 드럼 또는 슬리브가 2a 내지 2d 의 노광을 허용하기 위해 회전된다. 그러나, 포토마스크의 개구들 (a 내지 d) 이 컬럼 1 (즉, 1a 내지 1d) 과 정렬되는 위치에서 포토마스크의 동일 개구들이 컬럼 2 (즉, 2a 내지 2d) 와 정렬되는 위치로 드럼 또는 슬리브가 이동(즉, 회전) 할 때의 간격 동안, 펄스 광원은 오프 (OFF) 가 된다. 펄스 광원의 온 및 오프 상태와 함께 드럼 또는 슬리브의 스탑 앤 고의 사이클에 따라, 감광성 재료가 단계적으로 노광된다.

광원이 포토마스크의 개구들 (a 내지 d) 을 동시에 커버할 수 없다면, 펄스 타입의 광원이 온인 동안, 광원의 주사가 노광을 위해 구현될 수도 있다.

다른 방법으로, 광원의 온 및 오프 상태를 제어하기 위해 셔터 (shutter) 가 또한 사용될 수도 있다.

드럼 또는 슬리브 상의 패턴이 도 5b 에 나타낸 것처럼 병렬의 마이크로 바들이라면, 도 5c 와 동일 포토마스크가 노광을 위해 사용될 수도 있다. 그러나, 이 경우에, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브는 회전하고 있는 동안, 노광이 연속적이다.

마이크로 포스트들 및 마이크로 바들이 도면에 도시되어 있지만, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상의 3 차원 패턴이 임의의 형상 또는 사이즈일 수도 있음을 이해하게 된다. 3 차원 패턴 상의 엘리먼트들 (이를 테면, 마이크로 포스트들) 에 대해, 서브미크론에서 훨씬 더 큰 범위에 이르는 다양한 사이즈가 획득될 수도 있다.

상기 언급된 방법들 외에, 3 차원 패턴의 치수를 보다 정밀하게 제어하기 위해 사용될 수도 있는 광원 및 포토마스크의 몇몇 결합들이 존재한다. 도 7a 에 나타낸 것처럼, 노광을 위해 일직선 광원 (73A; 예를 들어, 레이저) 이 사용된다면, 투명한 기판 (74; 예를 들어, 유리) 의 일 측면 상의 불투명한 패터닝된 얇은 층 (75; 예를 들어, 크롬) 이 사용될 수도 있다. 일직선 광원 (73A) 의 형상 및 스폿 사이즈가 거울 및 렌즈의 결합에 의해 제어될 수 있다면, 드럼 또는 슬리 브 (71) 상에 코팅된 감광성 재료 (72) 의 노광을 위해 포토마스크를 사용할 필요가 없을 것이다. 광원 (73B) 이 발산한다면, 투명한 기판 (74) 은, 도 7b 에 나타낸 것과 같은 입사 광 (impinging light) 을 일직선으로 하기 위해 2 개의 불투명한 패터닝된 얇은 층들 (75A 및 75B) 사이에 샌드위치된다. 포토마스크는 또한, 광이 통과하도록 하기에 적절한 개구들을 가진 단일의 불투명한 층으로 이루어질 수도 있다.

3 차원 패턴이 마이크로 포스트들일 때, "사선 (angled)" 노광에 의해 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 마이크로 포스트들을 형성하는 것이 또한 가능하다. "사선 노광" 에 의해 제조되는 마이크로 포스트들의 경우에, 마이크로 포스트들의 y 축은, 드럼 또는 슬리브의 세로 축 (L) 으로부터 투영 각도를 갖는다. 투영 각도 (θ) 는 경사 각도 (oblique angle) 이고, 바람직하게는 약 10°내지 약 80°이고, 더 바람직하게는 약 30°내지 약 60°이며, 가장 바람직하게는 약 45°이다.

도 8a 는, 45°의 투영 각도를 가진 마이크로 포스트들을 나타낸 것이다. 반면에, 도 8b 는, 0°(즉, 마이크로 포스트들의 y 축이 드럼 또는 슬리브의 세로 축에 대해 평행) 의 투영 각도를 가진 마이크로 포스트들을 나타낸 것이다.

사선 노광이 도 8c 에 도시된다. 도면에서, 연속적인 나선선 (81) 이 광원 (80) 에 대한 감광성 재료의 노광을 통해, 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 코팅된 감광성 재료상에 형성된다. 감광성 재료는 네거티브 톤인 것이 바람직하다. 네거티브 톤의 감광성 재료가 사용될 때, 감광성 재료를 현상하는 후속 단계는, 나선선에 의해 커버되지 않은 영역들을 제거할 것이다. 다시 말해, 나선 선의 영역은, 결과적으로 형성되는 마이크로 포스트들 사이의 홈 (groove) 에 해당한다. 따라서, 나선선 (81) 의 폭은, 마이크로 포스트들 사이의 홈의 폭과 실질적으로 동일할 것이다.

"사선 노광" 에 의해 돌출 엘리먼트들을 갖는 마이크로 포스트들의 형성과 반대로, 포지티브 톤의 감광성 재료를 이용함으로써 마이크로 공동 (cavity) 을 형성하는 것 또한 가능하다. 포지티브 톤의 감광성 재료가 사용될 때, 감광성 재료의 현상 단계는, 나선선에 의해 커버되는 영역들을 제거할 것이다. 다시 말해, 나선선의 영역들은, 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브 상에 결과적으로 형성되는 공동들 사이의 파티션 벽 (partition wall) 에 해당한다.

도 1E 및 도 1F 의 단계들은 변형될 수도 있다. 일부 경우에, 도금 재료 (16) 의 두께는, 감광성 재료 (15) 의 높이를 초과할 수도 있다. 이런 경우에, 감광성 재료를 넘어선 도금 재료의 최상부 영역은, 저부 영역보다 넓어질 수도 있는데, 그 이유는, 그 최상부 영역에 도금 재료의 폭을 제한하는 감광성 재료가 없기 때문이다. 이런 방법으로부터 제조된 구조는, 인쇄 잉크를 기판에 전사하는 그라비어 실린더 (gravure cylinder) 상의 셀 벽과 같은 다른 애플리케이션에 대해 유용한다.

일 예로서, 도 8c 의 연속적인 나선선 (81) 은 드럼 또는 슬리브의 세로 축 (L) 으로부터 45°의 투영 각도를 갖는다. 나선선을 형성하는 방법들 중 하나의 방법에서, 광원 (80) 은, 드럼 또는 슬리브의 세로 축의 방향으로 (왼쪽에서 오른쪽으로 또는 오른쪽에서 왼쪽으로) 끊임없이 이동하고, 동시에 드럼 또는 슬리브 는 (시계방향으로 또는 반시계방향으로) 회전한다. 다른 방법에서, 광원 (80) 은 계속 고정되는 한편, 드럼 또는 슬리브의 세로 축 방향으로 드럼 또는 슬리브를 이동시키는 동시에, 드럼 또는 슬리브를 회전시킴으로써 노광이 수행될 수 있다. 또 다른 방법에서, 드럼 또는 슬리브가 세로 축 방향으로 이동하는 동안 광원이 슬리브 또는 드럼 주위를 회전하고 있을 수도 있다.

동일 방향으로의 제 2 또는 후속 나선선 (81a) 의 형성을 위해, 노광의 개시점이 이미 노광된 이전의 나선선 (81) 으로부터 1 피치 간격 떨어져 시프팅된다. 일 방향의 나선선들 모두가 노광된 후에, (드럼 또는 슬리브의 세로축으로부터 45°뺀) 반대 방향의 나선선들 (82 및 82a) 은, 광원 또는 드럼 또는 슬리브가 노광 동안 반대 방향으로 이동하는 것을 제외하고는, 라인들 (81 및 81a) 의 노광을 위한 공정과 유사한 방식의 노광에 의해 형성된다. 라인들 (82 및 82a) 은, 라인들 (81 및 81a) 에 대해 수직이다.

일 예로서, 나선선들 (81 및 81a) 은, 일 방향의 광원을 일정 속도로 왼쪽에서 오른쪽으로 이동시키는 동시에, 드럼 또는 슬리브를 일정 속도로 반시계방향으로 회전시킴으로써 노광될 수도 있고, 나선선들 (82 및 82a) 은, 광원의 이동 방향을 ("왼쪽에서 오른쪽으로" 에서 "오른쪽에서 왼쪽으로" 로) 바꾸지만, 드럼 또는 슬리브에 대해 동일 회전 방향 (반시계방향) 을 유지시킴으로써 노광될 수도 있다. 다른 방법으로, 나선선들 (82 및 82a) 은, 드럼 또는 슬리브의 회전 방향을 (반시계방향에서 시계방향으로) 바꾸지만, 광원의 이동 방향을 (왼쪽에서 오른쪽으로) 유지시킴으로써 노광될 수도 있다.

상기 공정에서, 광원의 스폿 사이즈가 인접한 마이크로 포스트들 사이의 홈들의 폭보다 작다면, 나선선들은, 몇몇 중첩 광 주사에 의해 노광될 수도 있다. 광원의 스폿 사이즈가 홈들의 폭보다 크다면, 노광을 한정하기 위해 포토마스크를 필요로 수도 있다.

임의의 경우에, 포토마스크가 사용된다면, 포토마스크의 이동은, 광원의 이동과 동기화되어야 한다.

사선 노광에 의해 제조된 마이크로 포스트들을 갖는 엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브는, 그 각도가 엠보싱 공정에서 사용된 엠보싱가능 구성물의 흐름을 도와주어, 크로스 웹 방향에 대해 포획된 공기 (trapped air) 를 없애는 이점이 있다.

상기 언급한 것처럼 감광성 재료의 단일 층을 이용하는 것 외에, 마스크 재료 (90) 의 부가적인 층이 링 코팅, 드레인 코팅, 스프레이 코팅, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착을 이용함으로써, 도 9A 에 나타낸 것처럼, 감광성 재료 (91) 위에 위치될 수도 있다. 감광성 재료 (91) 는 드럼 또는 슬리브 (곡률은 미도시) 의 표면 (92) 위에 코팅된다. 마스크 재료는 또한 감광성 재료일 수도 있는데, 이 감광성 재료는, 한편으론, 감광성 재료 (91) 의 노광을 위해 필요한 것과 다른 파장을 갖는 광원을 이용함으로써 이미징될 수 있고, 다른 한편으론, 감광성 재료 (91) 를 노광하기 위해 사용되는 파장 범위에서 높은 광학 밀도를 갖는다. 마스크 재료의 노광 및 현상 후에, 패터닝된 마스크 재료 (90a) 는, 그 아래에 있는 감광성 재료 (91) 를 노광하기 위한 포토마스크로서 이용한다. 할로겐화은 (silver halide) 코팅 및 i 라인 포토레지스트가 각각 마스크 재료 (90) 및 감광성 재료 (91) 로서 함께 사용될 수도 있다. 할로겐화은 코팅은, 670nm 의 파장의 레이저 다이오드를 이용하여 이미징될 수 있고, i 라인 포토레지스트는 단지 365nm 의 파장의 UV 광을 이용하여 이미징될 수 있다. 노광 및 현상 후에, 할로겐화은 코팅은, 불투명한 패터닝된 금속성 은층에 전사되고 그 아래에 있는 i 라인 포토레지스트의 노광에 대한 포토마스크로서 사용될 수 있다. 다른 방법으로, 마스크 재료는, 탄소 안료 (carbon pigment) 및 자외선 흡수 염료 (ultraviolet absorbing dye) 를 갖는 중합체 매트릭스 (polymeric matrix) 를 포함하는 레이저 어블레이션가능한 재료 (laser ablatable material; 도 9A 에서 90) 일 수도 있다. 패터닝된 어블레이션가능한 재료 (90a) 는, 그 아래에 있는 감광성 재료 (91) 의 노광에 대한 포토마스크로서 사용된다. 공정에 대해 유용한, 가능한 재료들의 예는, 미국특허번호 제6,828,067호에 개시되며, 이들의 내용은 여기에 전체 참조로 포함된다. 감광성 재료의 현상 후에, 도금 재료 (93) 는, 패터닝된 감광성 재료 (91a) 에 의해 커버되지 않은 영역들에서 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 성막된다.

일부 경우에, 장벽층이 감광성 재료 (91) 와 마스크 재료 (90) 사이에 코팅될 수도 있다. 장벽층의 용도는, 코팅 공정 동안, 마스크 재료 (90) 내의 용제에 의한 감광성 재료 (91) 에 대해 가능한 공격을 회피하는 것이다. 예를 들어, 물에 용해되는 PVOH (폴리비닐 알코올) 의 층은, 감광성 재료에 대한 마스크 재료의 공격을 막기 위한 장벽층으로서 사용될 수도 있는데, 그 이유는 마스크 재료 용액 내의 용제가 PVOH 와 혼합가능하지 않기 때문이다. 이 경우에, 마스크 재료 내의 용제는, 감광성 재료를 공격하기 위해 장벽층을 침투할 수 없다.

Ⅱ. 엠보싱 슬리브

엠보싱 슬리브가 엠보싱을 위해 사용되는 경우, 보통은, 슬리브의 회전을 허용하기 위해 평평한 드럼 상에 탑재된다. 따라서, 엠보싱 슬리브는, 슬리브를 드럼 상에 탑재하도록 허용하기 위하여, 평평한 드럼의 외부 직경보다 약간 더 큰 내부 직경을 갖는 것이 바람직하다.

3 차원 패턴이 엠보싱 슬리브 상에 형성된다는 사실은, 엠보싱 드럼 상에 패턴이 직접 형성되어 있다는 것 이상의 많은 이점이 있다. 첫째로, 슬리브는, 단지 드럼의 무게의 대략 1/10 이하로 드럼보다 훨씬 더 가볍기 때문에, 취급하기가 훨씬 더 쉽다. 둘째로, 엠보싱을 위해 사용될 때, 엠보싱 드럼의 표면에 적절한 고온을 제공하기 위하여, 엠보싱 드럼 내부에 전기 가열 코일 또는 유체 가열 튜브가 존재할 수도 있다. 3 차원 패턴이 엠보싱 드럼의 외표면 상에 직접 형성된다면, 전기 가열 코일 또는 유체 가열 튜브가 엠보싱 드럼의 제조 동안 보호되어야 한다. 엠보싱 슬리브를 이용하는 다른 이점은, 상이한 슬리브들이 동일한 평평한 드럼 상에서 사용되도록 피팅될 수도 있다는 것인데, 이는, 요구되는 드럼의 수를 감소시키고, 따라서 제조 비용을 절감시킨다.

엠보싱 슬리브의 두께는, 바람직하게는 1mm 내지 100mm 의 범위일 수도 있고, 더 바람직하게는 3mm 내지 50mm 의 범위일 수도 있다.

엠보싱 슬리브가 엠보싱을 위해 사용될 때, 슬리브는 평평한 드럼 상에 충분히 피팅되어야 한다. 꽉 죄인 피팅 (tight fitting) 은, 다른 열팽창 계수를 갖는 다른 재료를 포함한 압력 피트에 의해 달성될 수도 있다. 다른 방법으로, 꽉 죄인 피팅은 기계적 테이퍼 피트에 의해 달성될 수도 있다.

Ⅲ. 엠보싱 어셈블리

엠보싱 슬리브와 드럼 사이에 꽉 죄인 피팅 및 동심도를 확보하기 위해 팽창가능한 삽입물이 사용될 수도 있다. 도 10a 및 도 10b 는, 이런 팽창가능한 삽입물 (100) 을 나타낸 것이다. 삽입물은, 도면에 나타낸 것처럼, 하나 또는 다수의 갭 (101) 을 가질 수도 있는 원형 형상의 층이다. 삽입물의 양단에는, 드럼 위에 삽입물을 고정시키기 위한 스크류와 같은 조임 수단 (102) 이 있다. 스크류의 조임 또는 풀림 (loosing) 에 의해, 삽입물의 직경은, 삽입물 위의 엠보싱 슬리브의 꽉 죄인 피팅, 그와 동시에 드럼에 대한 엠보싱 슬리브의 동심도를 확보하기 위해 조정될 수도 있다. 최선의 결과를 위해, 원 주위에 분포 (spread) 하는 적어도 3 개의 스크류가 있는데, 그 스크류들은 바람직하게는 서로의 사이에 동일 간격을 갖는다.

삽입물은, 금속 (예를 들어, 알루미늄, 구리, 아연, 니켈, 철, 티타늄, 코발트 등), 전술된 금속들로부터 얻어진 합금 또는 금속 산화물, 또는 스테인레스 강철과 같은 재료로 형성된다. 삽입물 재료, 예를 들어, 구리 또는 철이 비교적 습기 또는 화학 작용에 영향받기 쉽다면, 비교적으로 불활성인 층이 그를 보호하기 위해 사용될 수도 있다. 불활성 재료의 성막은, 삽입물의 전표면 위에, 전기도금, 무전해 도금, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착에 의해 수행될 수도 있다. 다른 방법으로, 삽입물은, 플라스틱 재료, 예를 들어, PVC (폴리염화비닐) 또는 ABS (Acrylonitrile Butadiene Styrene) 로 형성될 수도 있다.

팽창가능한 삽입물의 두께는, 바람직하게는 1mm 내지 100mm 의 범위일 수도 있고, 더 바람직하게는, 3mm 내지 50mm 의 범위일 수도 있다.

삽입물 (100) 은, 도 10c 에 나타낸 것처럼, 평평한 드럼 (103) 과 엠보싱 슬리브 (104) 사이에 위치된다. 삽입물 (100) 과 슬리브 (104) 는 드럼 (103) 위에 순차적으로 탑재될 수도 있다. 또한, 도 10c 에 나타낸 것처럼, 엠보싱 슬리브는 삽입물보다 짧아, 그 슬리브는 스크류 (102) 가 존재하는 삽입물 상의 영역들을 커버하지 않을 것이다.

삽입물의 팽창은, 스크류의 적절한 조임 (tightness) 을 확보하기 위해, 스크류 (102) 의 조정에 의해, 바람직하게는 토크 렌치를 이용하여 제어된다. 스크류가 조여지는 (즉, 스크류 다운) 경우, 삽입물은, 그 삽입물의 외표면과 슬리브의 내표면 사이에서 더 접촉하게 하기 위해 팽창할 것이며, 이로써 위치적으로 슬리브를 꽉 죄이게 홀딩할 것이다. 스크류 모두의 조임은, 평평한 드럼 (103) 에 대한 엠보싱 슬리브의 동심도가 동시에 유지될 수도 있도록 신중하게 지향 (orient) 되어야 한다. 앞서 언급한 것처럼, 평평한 드럼에 대한 엠보싱 슬리브의 동심도는, 엠보싱 어셈블리로부터 제조된 엠보싱된 마이크로구조물의 품질에 대해 결정적으로 중요하다.

전술한 발명이 이해를 명확히 하기 위해 일부 상세하게 설명되고 있지만, 일정 변경 및 변형이 첨부된 특허청구범위 내에서 실시될 수도 있다는 것이 명백할 것이다. 본 발명의 공정과 장치 모두를 구현하는 많은 다른 방법들이 존재한다. 따라서, 본 실시형태들은, 제한으로서가 아닌 예시로서 간주될 것이며, 본 발명은, 여기에 주어진 상세한 설명들로 제한되지 않고, 첨부된 특허청구의 범위 및 등가물 내에서 변형될 수도 있다.

Claims

a) 3 차원 패턴이 형성되어 있는 엠보싱 슬리브 (embossing sleeve);

b) 팽창가능한 삽입물; 및

c) 상기 엠보싱 슬리브 및 상기 팽창가능한 삽입물이 탑재된 드럼을 포함하는, 엠보싱 어셈블리.
제 1 항에 있어서,

상기 엠보싱 슬리브는, 포토리소그래피를 성막법 (deposition) 과 결합한 방법에 의해 제조되는, 엠보싱 어셈블리.
제 1 항에 있어서,

상기 엠보싱 슬리브는, 포토리소그래피를 에칭과 결합한 방법에 의해 제조되는, 엠보싱 어셈블리.
제 2 항에 있어서,

상기 성막법은, 전기도금, 무전해 도금, 물리 기상 증착, 화학 기상 증착 또는 스퍼터링 증착인, 엠보싱 어셈블리.
제 2 항에 있어서,

상기 엠보싱 슬리브는, 단계적 노광 또는 연속적 노광에 의해 제조되는, 엠보싱 어셈블리.
제 1 항에 있어서,

상기 3 차원 패턴은, 마이크로 포스트 (micro-post) 들을 가진, 엠보싱 어셈블리.
제 6 항에 있어서,

상기 마이크로 포스트들의 y 축은, 상기 엠보싱 슬리브의 세로 축으로부터 투영 각도를 갖는, 엠보싱 어셈블리.
제 7 항에 있어서,

상기 투영 각도는, 약 0°인, 엠보싱 어셈블리.
제 7 항에 있어서,

상기 투영 각도는, 약 10°내지 약 80°인, 엠보싱 어셈블리.
제 7 항에 있어서,

상기 투영 각도는, 약 45°인, 엠보싱 어셈블리.
제 1 항에 있어서,

상기 팽창가능한 삽입물은, 적어도 하나의 갭을 갖는, 엠보싱 어셈블리.
제 11 항에 있어서,

상기 팽창가능한 삽입물은, 다수의 조임 수단을 갖는, 엠보싱 어셈블리.
엠보싱 드럼 또는 엠보싱 슬리브를 제조하는 방법으로서,

a) 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 감광성 재료를 코팅 또는 적층하는 단계;

b) 상기 감광성 재료를 선택적으로 노광하는 단계;

c) 노광된 영역이나 노광되지 않은 영역 중 어느 하나의 영역에서 상기 감광성 재료를 제거하는 단계;

d) 감광성 재료가 존재하고 있지 않은 상기 드럼 또는 슬리브의 외표면 상에 금속 또는 합금을 성막 (depositing) 하는 단계; 및

e) 상기 금속 또는 합금 사이에 잔존하는 상기 감광성 재료를 제거하는 단계를 포함하는, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 단계 a) 에서의 상기 감광성 재료는, 포지티브 톤, 네거티브 톤, 또는 듀얼 톤의 것인, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 감광성 재료는, 화학적으로 증폭된 포토레지스트인, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 단계 b) 의 상기 노광하는 단계는, 단계적 또는 연속적으로 수행되는, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 단계 b) 의 상기 노광하는 단계는, IR, UV, e-빔 또는 레이저에 의해 수행되는, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 금속 또는 합금은, 니켈, 코발트, 크롬, 구리, 아연, 철, 주석, 은, 금 또는 이들로부터 유도된 합금인, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 단계 e) 는, 스트립퍼 (stripper) 에 의해 수행되는, 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 단계 b) 는, 상기 감광성 재료 위에 마스크 재료를 코팅하고, 상기 마스크 재료를 패터닝하여 패터닝된 마스크 재료를 형성하며, 상기 패터닝된 마스크 재료를 통해 상기 감광성 재료를 노광함으로써 수행되는, 제조 방법.
제 20 항에 있어서,

상기 패터닝은, 포토리소그래피 또는 어블레이션 (ablation) 에 의해 수행되는, 제조 방법.
제 20 항에 있어서,

상기 마스크 재료와 상기 감광성 재료 사이에 장벽 층을 코팅하는 단계를 더 포함하는, 제조 방법.
전기도금 공정에서 드럼 또는 슬리브의 외표면 상의 도금 재료의 두께를 제어하는 방법으로서,

a) 상기 드럼 또는 슬리브와, 애노드(들) 사이에 비도전성 두께 유니포머 (non-conductive thickness uniformer) 를 삽입하는 단계로서, 상기 유니포머는 적어도 하나의 개구를 갖는, 삽입 단계;

b) 상기 드럼 또는 슬리브의 세로 방향으로 상기 유니포머를 이동시키고 동시에 상기 드럼 또는 슬리브를 회전시키는 단계; 및

c) 상기 유니포머의 개구(들) 를 통해 상기 애노드(들) 에 직접 노출되는 상 기 드럼 또는 슬리브의 영역들만을 전기도금하는 단계를 포함하는, 제어 방법.
전기도금 공정에서 드럼 또는 슬리브의 표면상의 도금 재료의 두께를 제어하는 방법으로서,

a) 캐소드를 향하는 측면, 또는 상기 캐소드를 향하는 측면과 그 대향 측면을 제외하고는 비도전성 재료로 각각 커버되는 적어도 하나의 애노드를 제공하는 단계; 및

b) 상기 드럼 또는 슬리브의 세로 방향으로 상기 애노드(들) 를 앞뒤로 이동시키고 동시에 상기 드럼 또는 슬리브를 회전시키는 단계를 포함하는, 제어 방법.