JP6121167B2 - 電子ビーム露光用ロールおよびその製造方法 - Google Patents
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2…母材
3…アモルファスメッキ層
Claims (4)
- オーステナイト系ステンレスからなる非磁性母材の表面にアモルファスメッキ層が設けられ、当該アモルファスメッキ層が研磨された後、さらにレジストが塗布されてなる、電子ビーム露光用ロール。
- 前記アモルファスメッキ層の表面粗さが10nm未満である、請求項1に記載の電子ビーム露光用ロール。
- 前記アモルファスメッキ層が、アモルファスNi-Pメッキ層である、請求項1または2に記載の電子ビーム露光用ロール。
- オーステナイト系ステンレスからなる非磁性母材の表面にアモルファスメッキ層を設け、当該アモルファスメッキ層を研磨した後、さらにレジストを塗布する、電子ビーム露光用ロールの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014135443A JP2014135443A (ja) | 2014-07-24 |
JP6121167B2 true JP6121167B2 (ja) | 2017-04-26 |
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JP (1) | JP6121167B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63262213A (ja) * | 1987-04-21 | 1988-10-28 | Kobe Steel Ltd | プラスチツク成形用鏡面金型 |
US7767126B2 (en) * | 2005-08-22 | 2010-08-03 | Sipix Imaging, Inc. | Embossing assembly and methods of preparation |
JP5408649B2 (ja) * | 2008-02-20 | 2014-02-05 | 学校法人東京理科大学 | 無端状パターンの作製方法 |
JP5354668B2 (ja) * | 2009-06-09 | 2013-11-27 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムの製造方法、防眩フィルムおよび金型の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2014135443A (ja) | 2014-07-24 |
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