CN108957961A - 全息镭射圆筒版制作方法 - Google Patents

全息镭射圆筒版制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种全息镭射圆筒版制作方法,包括以下步骤:圆筒光刻胶涂布;圆筒全息光刻;圆筒光刻胶版显影;圆筒光刻胶版喷银:使用配置的银镜药水,进行金属圆筒光刻胶版表面喷银;圆筒光刻胶版电铸:将喷银完成的金属圆筒光刻胶版固定于圆筒版导电支架上,放入圆筒电铸槽中;在圆筒电铸槽中采用分段电流模式进行电铸,在圆筒光刻胶版上电铸完成圆筒镍版;取出圆筒镍版并与金属圆筒光刻胶版进行分离。本发明与传统的平面全息镭射版不同,开发一种真正无缝的全息镭射圆筒版,用于真正无版缝镭射膜、纸的生产,能够满足柔印、凹印等各种卷状印刷模式的材料要求,同时针对多规格同类平张胶印印刷产品可随意切割,无原材版距匹配的约束。

Description

全息镭射圆筒版制作方法
技术领域
本发明涉及全息镭射技术领域,特别是涉及一种全息镭射圆筒版制作方法。
背景技术
激光全息定位烫印、全息印刷、定位全息印刷在烟包及其他包装印刷中已得到越来越广泛的应用,不同于早期的彩虹素面、光柱等公版(通版)应用方式,需针对客户需求融入个性化设计,开发高防伪功能专版,随着技术的不断发展,各种非常规光栅(低频光栅、闪耀光栅等)结构也渐渐的应用到全息防伪产品中。
菲涅尔透镜(猫眼)效果作为非常规光栅结构应用的代表,在UV模压工艺逐渐成熟的基础上,也越来越多的使用在各类纸、膜包装和标签等全息防伪产品上。具体应用方式是通过UV组版把用金刚石制版设备雕刻的菲涅尔透镜和普通镭射结合在一起,充分利用菲涅尔透镜的透亮凸感配合印刷创造出夺人眼球的特殊质感。
高精度深纹路显微投影制版技术使用lcos液晶灰度掩膜,通过计算机辅助设计及控制,多次曝光完成菲涅尔透镜结构的制作,同时还可以跳出金刚石雕刻光栅时只能完成圆形、椭圆形或直线形的闪耀光栅的限制,完成各种形态、不同深度的对称或闪耀光栅结构,如文字、图案等,同时还可直接与普通镭射效果一并完成制版,极大的提升组合的品质及防伪门槛。
然而,原有各种制版工艺仅能制作相近深度及频率的光栅结构,不能够用于真正无版缝镭射膜、纸的生产,不能够满足柔印、凹印等各种卷状印刷模式的材料要求,不能够同时针对多规格同类平张胶印印刷产品可随意切割,有原材版距匹配的约束。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种全息镭射圆筒版制作方法,与传统的平面全息镭射版不同,开发一种真正无缝的全息镭射圆筒版,用于真正无版缝镭射膜、纸的生产,能够满足柔印、凹印等各种卷状印刷模式的材料要求,同时针对多规格同类平张胶印印刷产品可随意切割,无原材版距匹配的约束。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种全息镭射圆筒版制作方法,包括以下步骤:
(1)圆筒光刻胶涂布:准备一个表面镜面的金属圆筒,在金属圆筒表面涂布光刻胶;
(2)圆筒全息光刻:将金属圆筒固定在辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,进行光刻,得到金属圆筒光刻胶版;
(3)圆筒光刻胶版显影:将金属圆筒光刻胶版置于显影槽内显影,取出金属圆筒光刻胶版迅速用纯水清洗干净;
(4)圆筒光刻胶版喷银:使用配置的银镜药水,进行金属圆筒光刻胶版表面喷银;
(5)圆筒光刻胶版电铸:将喷银完成的金属圆筒光刻胶版固定于圆筒版导电支架上,放入圆筒电铸槽中;
(6)在圆筒电铸槽中采用分段电流模式进行电铸,在圆筒光刻胶版上电铸完成圆筒镍版;
(7)取出圆筒镍版并与金属圆筒光刻胶版进行分离。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(1)中使用提拉旋转的方式在金属圆筒表面涂布光刻胶。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(1)中涂布的光刻胶的厚度为1.5~2.5μm。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(2)中圆筒全息光刻的具体过程:将金属圆筒固定在气涨轴辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,光刻机头金属沿圆筒横向移动,金属圆筒随辊轮旋转;辊轮旋转一周,测量圆筒圆周尺寸;将设计好的光刻文件导入光刻机系统,同步控制光刻机头及辊轮运动,进行光刻。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(3)中显影的温度25~30℃,显影时间为25~35s。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(4)中喷银的厚度28~32 nm。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(6)中的电铸的温度为42~47℃,电铸时间为7~9小时。
本发明的有益效果是:本发明与传统的平面全息镭射版不同,开发一种真正无缝的全息镭射圆筒版,用于真正无版缝镭射膜、纸的生产,能够满足柔印、凹印等各种卷状印刷模式的材料要求,同时针对多规格同类平张胶印印刷产品可随意切割,无原材版距匹配的约束。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种全息镭射圆筒版制作方法,包括以下步骤:
(1)圆筒光刻胶涂布:准备一个表面镜面的金属圆筒,使用提拉旋转的方式在金属圆筒表面涂布光刻胶,涂布的光刻胶的厚度为1.5μm;
(2)圆筒全息光刻:将金属圆筒固定在气涨轴辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,光刻机头金属沿圆筒横向移动,金属圆筒随辊轮旋转;辊轮旋转一周,测量圆筒圆周尺寸;将设计好的光刻文件导入光刻机系统,同步控制光刻机头及辊轮运动,进行光刻,得到金属圆筒光刻胶版;
(3)圆筒光刻胶版显影:将金属圆筒光刻胶版置于显影槽内显影,显影的温度25℃,显影时间为35s,取出金属圆筒光刻胶版迅速用纯水清洗干净;
(4)圆筒光刻胶版喷银:使用配置的银镜药水,进行金属圆筒光刻胶版表面喷银,喷银的厚度28 nm;
(5)圆筒光刻胶版电铸:将喷银完成的金属圆筒光刻胶版固定于圆筒版导电支架上,放入圆筒电铸槽中;
(6)在圆筒电铸槽中采用分段电流模式进行电铸,在圆筒光刻胶版上电铸完成圆筒镍版,电铸的温度为47℃,电铸时间为7小时;
(7)取出圆筒镍版并与金属圆筒光刻胶版进行分离。
实施例2
一种全息镭射圆筒版制作方法,包括以下步骤:
(1)圆筒光刻胶涂布:准备一个表面镜面的金属圆筒,使用提拉旋转的方式在金属圆筒表面涂布光刻胶,涂布的光刻胶的厚度为2.5μm;
(2)圆筒全息光刻:将金属圆筒固定在气涨轴辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,光刻机头金属沿圆筒横向移动,金属圆筒随辊轮旋转;辊轮旋转一周,测量圆筒圆周尺寸;将设计好的光刻文件导入光刻机系统,同步控制光刻机头及辊轮运动,进行光刻,得到金属圆筒光刻胶版;
(3)圆筒光刻胶版显影:将金属圆筒光刻胶版置于显影槽内显影,显影的温度30℃,显影时间为25s,取出金属圆筒光刻胶版迅速用纯水清洗干净;
(4)圆筒光刻胶版喷银:使用配置的银镜药水,进行金属圆筒光刻胶版表面喷银,喷银的厚度32 nm;
(5)圆筒光刻胶版电铸:将喷银完成的金属圆筒光刻胶版固定于圆筒版导电支架上,放入圆筒电铸槽中;
(6)在圆筒电铸槽中采用分段电流模式进行电铸,在圆筒光刻胶版上电铸完成圆筒镍版,电铸的温度为42℃,电铸时间为9小时;
(7)取出圆筒镍版并与金属圆筒光刻胶版进行分离。
实施例3
一种全息镭射圆筒版制作方法,包括以下步骤:
(1)圆筒光刻胶涂布:准备一个表面镜面的金属圆筒,使用提拉旋转的方式在金属圆筒表面涂布光刻胶,涂布的光刻胶的厚度为2.0μm;
(2)圆筒全息光刻:将金属圆筒固定在气涨轴辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,光刻机头金属沿圆筒横向移动,金属圆筒随辊轮旋转;辊轮旋转一周,测量圆筒圆周尺寸;将设计好的光刻文件导入光刻机系统,同步控制光刻机头及辊轮运动,进行光刻,得到金属圆筒光刻胶版;
(3)圆筒光刻胶版显影:将金属圆筒光刻胶版置于显影槽内显影,显影的温度28℃,显影时间为30s,取出金属圆筒光刻胶版迅速用纯水清洗干净;
(4)圆筒光刻胶版喷银:使用配置的银镜药水,进行金属圆筒光刻胶版表面喷银,喷银的厚度30 nm;
(5)圆筒光刻胶版电铸:将喷银完成的金属圆筒光刻胶版固定于圆筒版导电支架上,放入圆筒电铸槽中;
(6)在圆筒电铸槽中采用分段电流模式进行电铸,在圆筒光刻胶版上电铸完成圆筒镍版,电铸的温度为45℃,电铸时间为8小时;
(7)取出圆筒镍版并与金属圆筒光刻胶版进行分离。
本发明与传统的平面全息镭射版不同,开发一种真正无缝的全息镭射圆筒版,用于真正无版缝镭射膜、纸的生产,能够满足柔印、凹印等各种卷状印刷模式的材料要求,同时针对多规格同类平张胶印印刷产品可随意切割,无原材版距匹配的约束。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)圆筒光刻胶涂布:准备一个表面镜面的金属圆筒,在金属圆筒表面涂布光刻胶;
(2)圆筒全息光刻:将金属圆筒固定在辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,进行光刻,得到金属圆筒光刻胶版;
(3)圆筒光刻胶版显影:将金属圆筒光刻胶版置于显影槽内显影,取出金属圆筒光刻胶版迅速用纯水清洗干净;
(4)圆筒光刻胶版喷银:使用配置的银镜药水,进行金属圆筒光刻胶版表面喷银;
(5)圆筒光刻胶版电铸:将喷银完成的金属圆筒光刻胶版固定于圆筒版导电支架上,放入圆筒电铸槽中;
(6)在圆筒电铸槽中采用分段电流模式进行电铸,在圆筒光刻胶版上电铸完成圆筒镍版;
(7)取出圆筒镍版并与金属圆筒光刻胶版进行分离。
2.根据权利要求1所述的全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,步骤(1)中使用提拉旋转的方式在金属圆筒表面涂布光刻胶。
3.根据权利要求1所述的全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,步骤(1)中涂布的光刻胶的厚度为1.5~2.5μm。
4.根据权利要求1所述的全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,步骤(2)中圆筒全息光刻的具体过程:将金属圆筒固定在气涨轴辊轮上,Lcd投影式双光束光刻聚焦于金属圆筒的光刻胶上,光刻机头金属沿圆筒横向移动,金属圆筒随辊轮旋转;辊轮旋转一周,测量圆筒圆周尺寸;将设计好的光刻文件导入光刻机系统,同步控制光刻机头及辊轮运动,进行光刻。
5.根据权利要求1所述的全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,步骤(3)中显影的温度25~30℃,显影时间为25~35s。
6.根据权利要求1所述的全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,步骤(4)中喷银的厚度28~32 nm。
7.根据权利要求1所述的全息镭射圆筒版制作方法,其特征在于,步骤(6)中的电铸的温度为42~47℃,电铸时间为7~9小时。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110576697A (zh) * 2019-07-23 2019-12-17 南通胜景光学科技发展有限公司 凹版印刷图案与光学图案对花压纹工艺
CN112776493A (zh) * 2020-12-30 2021-05-11 中丰田光电科技(珠海)有限公司 一种具有立体透镜定位图案效果的包装材料的制作方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101016634A (zh) * 2006-12-30 2007-08-15 苏州大学 一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法
CN101241204A (zh) * 2007-02-09 2008-08-13 深圳市泛彩溢实业有限公司 圆筒式全息图的制作方法、制作装置及制得的全息图
CN101588916A (zh) * 2005-08-22 2009-11-25 矽峰成像股份有限公司 压花组件及其制备方法
CN105172408A (zh) * 2015-10-15 2015-12-23 江苏兴广包装科技有限公司 一种全息烫印膜生产方法
CN107031170A (zh) * 2017-03-30 2017-08-11 绍兴青运激光制版有限公司 一种高光膜版的制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101588916A (zh) * 2005-08-22 2009-11-25 矽峰成像股份有限公司 压花组件及其制备方法
CN101016634A (zh) * 2006-12-30 2007-08-15 苏州大学 一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法
CN101241204A (zh) * 2007-02-09 2008-08-13 深圳市泛彩溢实业有限公司 圆筒式全息图的制作方法、制作装置及制得的全息图
CN105172408A (zh) * 2015-10-15 2015-12-23 江苏兴广包装科技有限公司 一种全息烫印膜生产方法
CN107031170A (zh) * 2017-03-30 2017-08-11 绍兴青运激光制版有限公司 一种高光膜版的制作方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110576697A (zh) * 2019-07-23 2019-12-17 南通胜景光学科技发展有限公司 凹版印刷图案与光学图案对花压纹工艺
CN112776493A (zh) * 2020-12-30 2021-05-11 中丰田光电科技(珠海)有限公司 一种具有立体透镜定位图案效果的包装材料的制作方法

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