KR20080036989A - 폴리에틸렌 조성물 - Google Patents

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KR20080036989A
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마니바캄 제이 샨케르나라야난
마이클 더블유 린취
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에퀴스타 케미칼즈, 엘피
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Abstract

본 발명은 폴리에틸렌 조성물을 개시한다. 상기 조성물은 고분자량 폴리에틸렌 성분 및 저분자량 폴리에틸렌 성분을 포함한다. 저분자량 성분에는 장쇄 분지들이 집중되어 있다. 본 발명의 조성물은 장쇄 분지들이 고분자량 성분에 집중되어 있는 것과 비교하여 탁월한 유변학적 및 물리적 특성을 나타낸다.

Description

폴리에틸렌 조성물{POLYETHYLENE COMPOSITIONS}
본 발명은 목표로 하는 장쇄 분지도를 갖는 폴리에틸렌에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 장쇄 분지가 저분자량 성분에 집중되어 있는 폴리에틸렌 조성물에 관한 것이다.
고분자 폴리에틸렌은 개선된 기계적 특성을 가지나 가공이 어려울 수 있다. 다른 한편, 저분자량 폴리에틸렌은 개선된 가공 특성을 가지나 기계적 특성이 만족스럽지 못하다. 따라서, 이중 모드(bimodal) 또는 다중 모드(multimodal) 분자량 분포를 갖는 폴리에틸렌이 바람직한데, 이들이 고분자량 성분의 유리한 기계적 특성과 저분자량 성분의 개선된 가공 특성을 겸비할 수 있기 때문이다.
다중 모드 폴리에틸렌의 제조 방법은 공지되어 있다. 예를 들어, 지글러(Ziegler) 촉매는 2 이상의 반응기를 직렬로 사용하여 이중 모드 또는 다중 모드 폴리에틸렌을 제조하는 데 이용되어 왔다. 일반적으로, 제1 반응기에서, 높은 수소 농도 하에 저분자량 에틸렌 단독중합체가 형성된다. 수소는, 생성물이 제2 반응기로 이송되기 전에 제1 반응기로부터 제거된다. 제2 반응기에서, 고분자량의, 에틸렌/α-올레핀 공중합체가 제조된다.
다중 모드 폴리에틸렌의 제조에 메탈로센 또는 단일 활성점(single-site) 촉 매를 사용하는 것 역시 공지되어 있다. 예를 들어, 미국 특허 제6,861,415호는 다중 촉매계를 교시한다. 상기 촉매계는 촉매 A 및 촉매 B를 포함한다. 촉매 A는 지지된 가교형 인데노인돌릴 전이 금속 착체를 포함한다. 촉매 B는 지지된 비가교형 인데노인돌릴 전이 금속 착체를 포함한다. 상기 촉매계는 이중 모드 또는 다중 모드 분자량 분포를 갖는 폴리에틸렌을 생성한다.
또한, 장쇄 분지를 증가시켜 폴리에틸렌 가공 특성을 개선할 수 있는 것으로 공지되어 있다. 예를 들어, WO 93/08221호는 기하 구속(constrained-geometry) 단일 활성점 촉매를 사용하여 폴리에틸렌 내의 장쇄 분지의 농도를 증가시키는 방법을 교시한다. 미국 특허 제6,583,240호는 보라아릴 리간드를 함유하는 단일 활성점 촉매를 사용하는, 장쇄 분지가 증가된 폴리에틸렌의 제조 방법을 교시한다.
장쇄 분지가 고분자량 성분에 위치하는, 다중 모드 폴리에틸렌은 공지되어 있다. 예를 들어, WO 03/037941호는 2-단계 공정을 교시한다. 제1 단계에서, 고분자량 및 높은 장쇄 분지도를 갖는 폴리에틸렌이 제조된다. 제2 단계에서 제조된 폴리에틸렌은 분자량이 더 낮고 장쇄 분지를 실질적으로 갖지 않는다.
고분자량 성분에 장쇄 분지를 배치하는 것은 가공 특성이 개선된 다중 모드 폴리에틸렌을 제공할 수 있긴 하나, 본 발명자들은 이러한 다중 모드 폴리에틸렌이 환경 응력 균열에 대한 내성과 같은 바람직한 기계적 특성이 더 부족함을 발견하였다. 신규한 다중 모드 폴리에틸렌이 필요하다. 이상적으로는, 다중 모드 폴리에틸렌은 개선된 가공 특성 및 기계적 특성 모두를 가질 수 있다.
발명의 개요
본 발명은 목표로 하는 장쇄 분지도를 갖는 폴리에틸렌 조성물에 관한 것이다. 상기 폴리에틸렌 조성물은 고분자량 성분 및 저분자량 성분을 포함한다. 저분자량 성분은 장쇄 분지의 농도가 더 높다. 상기 조성물은 탁월한 가공 특성 및 기계적 특성을 갖는다.
상세한 설명
본 발명의 폴리에틸렌 조성물은, 고분자량 폴리에틸렌 성분 및 저분자량 폴리에틸렌 성분을 포함한다. 저분자량 성분은 더 높은 농도의 장쇄 분지를 함유한다.
분자량 및 분자량 분포는 겔 침투 크로마토그래피(Gel Permeation Chromatography; GPC)로 측정할 수 있다. 대안으로, 분자량 및 분자량 분포는 용융 지수(melt index)로 표시할 수 있다. 용융 지수(MI2)는, 분자량 및 용융 유동비(Melt Flow Ratio; MFR)를 측정하여 분자량 분포를 측정하는 데 통상적으로 사용된다. 더 큰 MI2는 더 낮은 분자량을 나타낸다. 더 큰 MFR은 더 넓은 분자량 분포를 나타낸다. MFR은 MI2에 대한 고하중 용융 지수(High-Load Melt Index; HLMI)의 비율이다. MI2 및 HLMI는 ASTM D-1238에 따라 측정할 수 있다. MI2는 2.16 kg 압력 하에 19O℃에서 측정한다. HLMI는 21.6 kg 압력 하에 19O℃에서 측정한다.
바람직하게는, 고분자량 성분은 MI2가 0.5 dg/min 미만이다. 더 바람직하게는, 고분자량 성분은 MI2가 0.01∼0.5 dg/min 범위 내이다. 가장 바람직하게는, 고분자량 성분은 MI2가 0.01∼0.1 dg/min 범위 내이다.
바람직하게는, 저분자량 성분은 MI2가 0.5 dg/min 이상이다. 더 바람직하게는, 저분자량 성분은 MI2가 0.5∼500 dg/min 범위 내이다. 가장 바람직하게는, 저분자량 성분은 MI2가 0.5∼50 dg/min 범위 내이다.
바람직하게는, 폴리에틸렌 조성물은 다중 모드 분자량 분포를 갖는다. "다중 모드 분자량 분포"로, 본 발명자들은 조성물이 2 이상의 피크 분자량을 갖는 것을 나타내고자 한다. 더 바람직하게는, 폴리에틸렌 조성물은 이중 모드 분자량 분포를 갖는다.
본 발명의 폴리에틸렌 조성물은 저분자량 성분 상에 더 높은 농도의 장쇄 분지들을 갖는다. 장쇄 분지도는 NMR, 3D-GPC 및 유변학적 방법(rheology)으로 측정할 수 있다. NMR은 직접 분지의 개수를 측정하나, 6 개 이상의 탄소로 이루어진 분지들을 구별하지 못한다. 광산란 검출 및 고유 점도를 이용한 3D-GPC는 모든 분지들이 주어진 회전 반경에서 질량을 실질적으로 증가시킨다는 것을 설명할 수 있다. 유변학적 방법은 낮은 장쇄 분지도를 검출하는 데 특히 적합하다.
장쇄 분지의 농도는 장쇄 분지 지수(Long Chain Branch Index; LCBI)로 측정할 수 있다. LCBI는 낮은 장쇄 분지도의 특성을 나타내는 데 사용되는 유변학적 지수이다. LCBI는 하기 식으로 정의된다:
Figure 112008003681213-PCT00001
상기 식에서, η0은 19O℃에서의 제한적인 영점 전단 점도(푸아즈)이고, [η]은 135℃의 트리클로로벤젠에서의 고유 점도(dL/g)이다. LCBI는, 다른 선형 중합체에서 낮은 장쇄 분지도에 기인하여 고유 점도([η])의 변화없이 용융 점도(η0)가 크게 증가한다는 관찰에 입각한다. 문헌[R. N. Shroff 및 H. Mavridis, "Long-Chain-Branching Index for Essentially Linear Polyethylenes," Macromolecules, Vol. 32 (25), pp. 8454-8464 (1999)]을 참조하라. 더 높은 LCBI는 중합체 쇄당 장쇄 분지의 수가 더 많음을 의미한다.
바람직하게는, 고분자량 성분은 LCBI가 0.5 미만이다. 더 바람직하게는, 고분자량 성분은 실질적으로 장쇄 분지를 갖지 않는다.
바람직하게는, 저분자량 성분은 LCBI가 0.5 이상이다. 더 바람직하게는, 저분자량 성분은 LCBI가 0.5∼1.0 범위 내이다.
바람직한 고분자량 성분은 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌을 포함한다. 적합한 지글러 촉매는 티타늄 할라이드, 티타늄 알콕시드, 및 이의 혼합물을 포함한다. 지글러 촉매에 적합한 활성화제는 트리알킬알루미늄 화합물 및 디알킬알루미늄 할라이드, 예컨대 트리에틸알루미늄, 트리메틸알루미늄, 디에틸 알루미늄 클로라이드 등을 포함한다.
바람직한 고분자량 성분은 비가교형 인데노인돌릴 전이 금속 착체를 사용하여 제조하는 단일 활성점 폴리에틸렌을 포함한다. 바람직하게는, 비가교형 인데노인돌릴 전이 금속 착체는 하기의 일반 구조를 갖는다:
Figure 112008003681213-PCT00002
R은 알킬, 아릴, 아르알킬, 보릴 및 실릴 기로 이루어진 군에서 선택되고, M은 4∼6족 전이 금속이며, L은 치환 또는 비치환된 시클로펜타디에닐, 인데닐, 플루오르에닐, 보라아릴, 피롤릴, 아자보롤리닐, 퀴놀리닐, 인데노인돌릴 및 포스핀이민으로 이루어진 군에서 선택되고, X는 알킬, 아릴, 알콕시, 아릴옥시, 할라이드, 디알킬아미노 및 실록시 기로 이루어진 군에서 선택되며, n은 M의 원자가를 충족시키고, 나머지 고리 원자 중 1 이상은 알킬, 아릴, 아르알킬, 알킬아릴, 실릴, 할로겐, 알콕시, 아릴옥시, 실록시, 니트로, 디알킬 아미노, 또는 디아릴 아미노 기로 임의로 치환된다.
바람직한 저분자량 성분은 자유 라디칼 중합으로 제조하는 저밀도 폴리에틸렌(Low Density Polyethylene; LDPE)을 포함한다. LDPE의 제조 방법은 업계에 널리 공지되어 있다. LDPE는 분지형 구조를 갖는 것으로 공지되어 있다.
바람직한 저분자량 성분은, 슬러리 또는 기상 공정으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌을 포함한다. 크로뮴 촉매는 공지되어 있다. 미국 특허 6,632,896호를 참조하라. 슬러리 및 기상 공정으로 제조한 크로뮴 폴리에틸렌은 장쇄 분지형 구조를 갖는 것으로 공지되어 있는 반면, 용액 공정으로 제조한 크로뮴 폴리에틸렌은 실질적으로 선형이다.
바람직한 저분자량 성분은 바나듐계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌을 포함한다. 바나듐계 지글러 촉매는 공지되어 있다. 미국 특허 5,534,472호를 참조하라. 바나듐계 지글러 폴리에틸렌은 장쇄 분지형 구조를 갖는 것으로 공지되어 있다.
바람직한 저분자량 성분은 가교형 인데노인돌릴 전이 금속 착체를 사용하여 제조하는 단일 활성점 폴리에틸렌을 포함한다. 바람직하게는, 착체는 하기 화학식 I, II, III 또는 IV의 일반 구조를 갖는다:
Figure 112008003681213-PCT00003
Figure 112008003681213-PCT00004
Figure 112008003681213-PCT00005
Figure 112008003681213-PCT00006
M은 전이 금속이고, G는 디알킬실릴, 디아릴실릴, 메틸렌, 에틸렌, 이소프로필리덴 및 디페닐메틸렌으로 이루어진 군에서 선택되는 가교기(bridge group)이며, L은 G 및 M에 공유 결합된 리간드이고, R은 알킬, 아릴, 아르알킬, 보릴 및 실릴 기로 이루어진 군에서 선택되며, X는 알킬, 아릴, 알콕시, 아릴옥시, 할라이드, 디알킬아미노 및 실록시 기로 이루어진 군에서 선택되고, n은 M의 원자가를 충족시키며, 나머지 고리 원자 중 1 이상은 알킬, 아릴, 아르알킬, 알킬아릴, 실릴, 할로겐, 알콕시, 아릴옥시, 실록시, 니트로, 디알킬 아미노, 또는 디아릴 아미노 기로 임의로 독립적으로 치환된다.
바람직하게는, 폴리에틸렌 조성물은 슬러리 또는 기상 공정으로, 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 고분자량의 고밀도 폴리에틸렌 및 크로뮴 촉매를 사용하여 제조한 저분자량의 고밀도 폴리에틸렌을 포함한다.
바람직하게는, 폴리에틸렌 조성물은 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 고분자량의 고밀도 폴리에틸렌 및 가교형 인데노인돌릴 전이 금속 착체를 포함하는 단일 활성점 촉매를 사용하여 제조한 저분자량의 고밀도 폴리에틸렌을 포함한다.
본 발명의 폴리에틸렌 조성물은 고분자량 성분과 저분자량 성분을 열적으로 혼합하여 제조할 수 있다. 상기 혼합은 압출기 또는 임의의 다른 적합한 블렌딩 장치에서 실시할 수 있다.
폴리에틸렌 조성물은 병렬식 다중 반응기 공정으로 제조할 수 있다. 2-반응기 공정을 예로 든다. 고분자량 성분을 한 반응기에서 제조하고, 저분자량 성분을 다른 반응기에서 제조한다. 해교에 앞서 상기 두 중합체를 다른 하나의 반응기 또는 제3의 반응기에서 혼합한다.
폴리에틸렌 조성물은 연속 다중 반응기 공정으로 제조할 수 있다. 2-반응기 연속 공정을 예로 든다. 저분자량 성분을 제1 반응기에서 제조한다. 상기 저분자량 성분은 제2 반응기로 이송되며, 여기서 중합이 계속 진행되어 계내에서 고분자량 성분이 제조된다. 대안으로, 고분자량 성분을 제1 반응기에서 제조하고 저분자량 성분을 제2 반응기에서 제조할 수 있다.
또한, 폴리에틸렌 조성물은 다단계 공정으로 제조할 수 있다. 2-단계 공정을 예로 든다. 고분자량 성분은 반응기에서 제1 단계에서 제조할 수 있다. 반응기에서 중합을 지속하여 저분자량 성분을 제조한다. 대안으로, 저분자량 성분을 제1 단계에서 제조하고, 고분자량 성분을 제2 단계에서 제조할 수 있다.
바람직하게는, 폴리에틸렌 조성물은 고분자량 성분 대 저분자량 성분의 중량비가 10/90∼90/10 범위 내이다. 더 바람직하게는, 상기 조성물은 고분자량 성분 대 저분자량 성분의 중량비가 30/70∼70/30 범위 내이다.
본 발명자들은, 장쇄 분지들이 저분자량 성분에 집중되어 있는 것을 특징으로 하는 본 발명의 폴리에틸렌 조성물이, 장쇄 분지들이 고분자량 성분 중에 집중되어 있는 것들보다 탁월한 유변학적 특성, 예컨대 용융 탄성(Er) 및 물리적 특성, 예컨대 환경 응력 균열 내성(Environmental Stress Crack Resistance; ESCR)을 나타냄을 놀랍게도 발견하였다. ESCR은 ASTM D1693으로 측정할 수 있다. 일반적으로, ESCR 값은 10% 또는 100% Igepal® 용액 중 어느 쪽에서든 측정된다.
유변학적 측정은, 주파수 스윕(frequency sweep) 방식으로 동적 유동성 데이터를 측정하는 ASTM 4440-95a에 따라 실시할 수 있다. Rheometrics ARES 유량계를 150∼190℃에서 작동시켜 질소 하에 평행 플레이트 방식으로 사용함으로써 샘플 산화를 최소로 한다. 평행 플레이트 구조 내의 간격은 일반적으로 1.2∼1.4 mm이고, 플레이트 직경은 25 mm 또는 50 mm이며, 변형 진폭은 10∼20%이다. 주파수는 0.0251∼398.1 rad/sec 범위이다.
ER은 Shroff 등(미국 특허 5,534,472호의 컬럼 10, 20∼30 행을 참조하라)의 방법으로 측정한다. 이렇게, 저장 탄성률(G') 및 손실 탄성률(G")을 측정한다. 9 개의 최저 주파수 지점이 사용되고(10배수 주파수당 5 개의 지점), 1차 방정식은 최소 제곱 회귀(least-squares regression)에 의해 로그 G' 대 로그 G"로 맞추어진 다. 이 때, ER은 G"=5,000 dyn/cm2의 값에서 하기로부터 계산된다:
ER = (1.781 × 1O-3) x G'
당업자가 인식할 바와 같이, 최저 G" 값이 5,000 dyn/cm2 초과일 경우, ER의 측정은 외삽법을 포함한다. 이 때, 계산되는 ER 값은 로그 G' 대 로그 G" 플롯에서 비선형인 도(degree)에 좌우될 것이다.
온도, 플레이트 직경 및 주파수 범위는, 유량계 분해능 내에서 최저 G" 값이 5,000 dyn/cm2에 가깝거나 그 미만이도록 선택된다. 하기의 실시예들은 19O℃의 온도, 50 mm의 플레이트 직경, 10%의 변형 진폭 및 0.0251∼398.1 rad/sec의 주파수 범위를 사용한다.
본 발명의 폴리에틸렌 조성물은, 사출 성형, 중공 성형, 회전 성형 및 압축 성형으로 물품을 제조하는 데 유용하다. 또한, 상기 폴리에틸렌 조성물은 필름, 압출 코팅, 파이프, 시트 및 섬유의 제조에 유용하다. 수지로부터 제조할 수 있는 제품으로 식품점 봉지, 쓰레기 봉투, 상품 봉지, 양동이, 크레이트(crate), 세제 용기, 장난감, 냉장고, 파형(corrugated pipe) 파이프, 하우스랩(housewrap), 배송 봉투, 보호 포장, 와이어/케이블 제품, 및 그 외 다수가 있다.
하기의 실시예들은 단지 본 발명을 예시한다. 당업자들은 본 발명의 개념 및 청구의 범위 내인 다수의 변형예를 인식하게 될 것이다.
실시예 1
장쇄 분지들이 저분자량 성분에 집중되어 있는 폴리에틸렌 조성물
고분자량 성분: MI2: 0.075 dg/min, 밀도: 0.949, LCBI: 0.48; 티타늄계 지글러 촉매로 제조함(L 4907, Equistar Chemicals 제품).
저분자량 성분: MI2: 0.8 dg/min, 밀도: 0.960 g/cm3, 장쇄 분지 지수(LCBI): 0.58; 슬러리 공정으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조함(LM 6007, Equistar Chemicals 제품).
비교예 2
장쇄 분지들이 고분자량 성분에 집중되어 있는 폴리에틸렌 조성물
고분자량 성분: MI2: 0.1 dg/min, 밀도: 0.950, LCBI: 0.96; 슬러리 공정으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조함(LP 5100, Equistar Chemicals 제품).
저분자량 성분: MI2: 0.95 dg/min, 밀도: 0.958 g/cm3, 장쇄 분지 지수(LCBI): 0.27; 티타늄계 촉매를 사용하여 제조함(M 6210, Equistar Chemicals 제품).
실시예 3
장쇄 분지들이 저분자량 성분에 집중되어 있는 폴리에틸렌 조성물
고분자량 성분: MI2: 0.08 dg/min, 밀도: 0.950, LCBI: 0.34; 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조함(L5008, Equistar Chemicals 제품).
저분자량 성분: MI2: 0.8 dg/min, 밀도: 0.960 g/cm3, 장쇄 분지 지수 (LCBI): 0.58; 슬러리 공정으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조함(LM6007).
비교예 4
장쇄 분지들이 고분자량 성분에 집중되어 있는 폴리에틸렌 조성물
고분자량 성분: MI2: 0.1 dg/min, 밀도: 0.950, LCBI: 0.96; 슬러리 공정으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조함(LP 5100, Equistar Chemicals 제품).
저분자량 성분: MI2: 0.70 dg/min, 밀도: 0.960 g/cm3, 장쇄 분지 지수(LCBI): 0; 티타늄계 촉매를 사용하여 제조함(M 6070, Equistar Chemicals 제품).
상기 실시예들의 폴리에틸렌 조성물은, 각각, 압출기에서 성분들을 완전히 혼합하여 제조한다. 폴리에틸렌 조성물로 유변학적 특성 및 환경 응력 균열 내성(ESCR)을 시험한다. ESCR 시험은 블렌드로 제조된 병에 대해 실시한다. 상기 병은 중공 성형 공정으로 제조한다. 결과는 표 1에 열거한다. 표 1로부터, 장쇄 분지들이 저분자량 성분에 집중되어 있는 본 발명의 폴리에틸렌 조성물(실시예 1 및 3)이, 장쇄 분지들이 고분자량 성분에 집중되어 있는 것들(비교예 2 및 4)보다 훨씬 더 높은 Er 및 ESCR을 가짐을 알 수 있다.
Figure 112008003681213-PCT00007

Claims (19)

  1. 고분자량 폴리에틸렌 성분 및 저분자량 폴리에틸렌 성분을 포함하는 조성물로서, 상기 저분자량 성분은 상기 고분자량 성분보다 더 높은 농도의 장쇄 분지들을 갖는 것인 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분은 용융 지수(MI2)가 0.5 dg/min 미만이고 장쇄 분지 지수(Long Chain Branching Index; LCBI)가 0.5 미만이며, 상기 저분자량 성분은 MI2가 0.5 dg/min 이상이고 LCBI가 0.5 이상인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분은 MI2가 0.01∼0.5 dg/min 범위 내이고 장쇄 분지를 실질적으로 갖지 않으며, 상기 저분자량 성분은 MI2가 0.5∼50 dg/min 범위 내이고 LCBI가 0.5∼1 범위 내인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분은 티타늄계 지글러(Ziegler) 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌 및 비가교형 인데노인돌릴 리간드 함유 단일 활성점(single-site) 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 저분자량 성분은 자유 라디칼 중합으로 제조한 폴리에틸렌, 슬러리 또는 기상(gas phase)으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌, 바나듐계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌 및 가교형 인데노인돌릴 리간드 함유 단일 활성점 촉매를 사용하여 제조한 폴리에틸렌으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분은 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌이고, 상기 저분자량 성분은 슬러리 또는 기상으로 크로뮴 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분은 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌이고, 상기 저분자량 폴리에틸렌은 가교형 인데노인돌릴 리간드 함유 단일 활성점 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌인 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분은 티타늄계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌이고, 상기 저분자량 폴리에틸렌은 바나듐계 지글러 촉매를 사용하여 제조한 고밀도 폴리에틸렌인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 다중 모드(multimodal) 분자량 분포를 갖는 것인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 이중 모드(bimodal) 분자량 분포를 갖는 것인 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분 대 상기 저분자량 성분의 중량비가 10/90∼90/10 범위 내인 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 상기 고분자량 성분 대 상기 저분자량 성분의 중량비가 30/70∼70/30 범위 내인 조성물.
  13. 고분자량 성분과 저분자량 성분을 열적으로 혼합하는 것을 포함하는, 제1항의 조성물을 제조하는 방법.
  14. 2 이상의 병렬식 반응기에서 고분자량 성분 및 저분자량 성분을 제조한 다음, 이들을 블렌딩하는 것을 포함하는, 제1항의 조성물을 제조하는 방법.
  15. 2 이상의 반응기에서 고분자량 성분 및 저분자량 성분을 연속적으로 제조하는 것을 포함하는, 제1항의 조성물을 제조하는 방법.
  16. 2 이상의 단계에서 고분자량 성분 및 저분자량 성분을 제조하는 것을 포함하는, 제1항의 조성물을 제조하는 방법.
  17. 제1항의 조성물을 포함하는 물품.
  18. 제1항의 조성물을 포함하는 필름.
  19. 제1항의 조성물을 포함하는 파이프.
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