KR20080030070A - 안정화된 전색 매질 - Google Patents

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Abstract

특정 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염 첨가제가 존재함으로써 자외선에 노출시키는 동안 열화 및 황변에 대해 안정화된 조성물, 당해 첨가제를 첨가하여 당해 조성물을 안정화시키는 방법, 전색 소자 및 전기영동 소자와 같은 전기활성 소자의 매질로서의 당해 조성물의 용도 및 이들 매질로 이루어진 전기활성 소자가 기재되어 있다.
니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염 첨가제, 전기활성 소자, 전색 소자, 전기영동 소자, 매질

Description

안정화된 전색 매질{Stabilized electrochromic media}
본 발명은 자외선에 노출시키는 동안 열화 및 황변에 대해 안정화된 조성물, 당해 조성물을 안정화시키는 방법, 전색 소자(electrochromic device) 및 전기영동 소자(electrophoretic device)와 같은 전기활성 소자의 매질로서의 당해 조성물의 용도, 및 이들 매질로 이루어진 전기활성 소자에 관한 것이다.
자외선(UV)에 노출된 재료의 유용성 및 유효 수명을 제한하는 주요 문제점은 노출과 관련된 열화이다. 이러한 열화는 자외선의 흡수에 의해 개시된 재료의 분해 및 기타 화학 반응으로 인해 야기된다. 이러한 화학 반응의 목적하지 않은 결과들 중의하나는 재료의 변색일 수 있다. 특히 UV에 의해 유도된 변색에 의해 영향을 받는 재료들 중에는 전색 소자 및 전기영동 소자를 포함하는 전기활성 소자와 같은 기능성 소자의 매질을 포함하는 용매이다.
국제공개공보 제WO 06/005691호에는 UV 흡수제 및 N-H, N-OR 및 N-알킬 장애된 아민 광 안정화제(HALS)에 의해 안정화된 전기활성에서 유용한 매질이 기재되어 있다.
전색 소자는 익히 공지되어 있다[참조: 미국 특허 제4,902,108호 및 제 6,178,034호]. 이들 소자는 전기 자극의 적용시 전자기 방사선 투과량이 변하고 다수의 시판품에 사용될 수 있는 것으로 밝혀졌다. 예를 들면, 이는 글레이징(glazing), 예를 들면, 건축 또는 자동차용 에너지 효율적인 프라이버시 창(privacy window), 자동차의 백미러, 디스플레이, 필터, 안경류, 눈부심방지 소자 및 안개 투과 소자 및 가변 광 투과도가 요망되는 기타 용도에서 사용될 수 있다. 다수의 이들 용도에서, 소자는 태양으로부터의 UV광에 대한 노출을 포함하여 유해한 환경 조건에 일상적으로 노출된다.
전색 소자는 통상적으로 색의 현저한 변화와 관련된다. 투명도 및 불투명도및 IR의 흡수율과 같은 기타 광학 특성의 변화가 또한 이러한 소자의 특성이다. 본 발명의 조성물은, 예를 들면, 전자 종이 및 프라이버시 창을 포함하여 액정 및 현탁 입자 소자와 같은 유사한 활성과 관련된 기타 전기활성 소자의 성분으로서 또한 사용될 수 있다.
미국 특허 제6,614,578호, 제5,770,114호, 제6,207,083호 및 제6,045,724호에는 용매의 고유 특성을 통해 또는 UV 흡수 첨가제(UVA), 예를 들면, 벤조트리아졸, 벤조페논, 시아노아크릴레이트 등의 첨가에 의해 UV광을 흡수함으로써 소자를 보호하는, 전색 소자용 용매 함유 매질이 개시되어 있다.
미국 특허 제5,148,305호에는 특정 벤조트리아졸, 벤조페논 및/또는 옥사닐리드를 함유하는 유사한 용액보다 큰 용해도로 인해 특정 전색 용액에 특정 시아노아크릴레이트 UVA를 포함하는 조성물이 청구되어 있다.
미국 특허 제6,614,578호 및 제5,770,114호에는 향상된 용해도를 제공하는 그룹으로 치환된 벤조트리아졸 UVA를 함유하는 전색 소자용 매질이 기재되어 있다.
미국 특허 제5,239,406호에는 하나 이상의 층이 자외선의 흡수, 차단 및/또는 차폐용 첨가제를 포함하는 다층 전색 글레이징 어셈블리가 기재되어 있다. 이들 첨가제는 해당 발명의 중합체 층들 중 하나에 존재하거나 전색 매질 자체에 존재할 수 있다.
미국 특허 제6,143,209호, 제6,327,069호, 제6,404,532호 및 제6,545,793호에는 용매와 임의로 벤조페논, 시아노아크릴레이트, 살리실레이트 및 벤조트리아졸을 포함하는 UV 흡수제를 포함하는 전색 소자가 기재되어 있다.
UV 흡수성 첨가제를 가하더라도 UV 광에 노출시 매질의 변색은 여전히 문제이다. UVA 이외에 장애 아민 광 안정제(HALS)를 포함하는 기타 안정화 첨가제가 전색 매질에 사용되었다[참조: 미국 특허 제6,178,034호 및 제5,239,406호 및 미국 공개특허공보 제2002/0141032호].
전기영동 소자 또한 익히 알려져 있으며, 특히 현탁된 입자로 이루어진 소자가 알려져 있다[참조: 미국 특허 제4,772,103호, 제6,753,844호 및 제6,753,999호]. 이들은 전색 소자와 동일한 다양한 용도로, 예를 들면, 글레이징용으로 통상 사용될 수 있고 유사한 광분해가 일어난다. 미국 특허 제5,467,217호에는 UV광 흡수제로 안정화된 전기영동 광 밸브 조성물이 기재되어 있다.
미국 특허 제6,599,326호는 디알킬하이드록실아민 또는 치환된 디알킬하이드록실아민 또는 이들의 염에 의한 펄프 또는 종이의 안정화를 교시하고 있다.
미국 특허원 제10/512,528호(2003년 4월 24일) 및 미국 특허원 제10/970,112 호(2004년 10월 21일)는 장애 니트록실, 입체 장애 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염 및 디알킬하이드록실아민 또는 치환된 디알킬하이드록실아민 또는 이들의 염에 의한 신체 보호 제품, 가정용 제품, 텍스타일 및 직물의 안정화를 교시한다.
특정 니트론, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염이 전기활성 소자에서 발견되는 UVA 함유 용액의 황변을 효과적으로 억제한다는 것을 밝혀내었다.
본 발명은 (i) 전기활성 소자의 매질로서 적합한 1종 이상의 용매, (ii) 자외선 흡수제들로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물 및 (iii) 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염, 예를 들어, 니트록실, 예를 들어, 하이드록실 아민, 예를 들어, 하이드록실 아민 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는, 전기활성 소자의 매질로서 적합한 조성물에 관한 것이다.
다음 화학식 I 내지 V의 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염이 중요하다.
Figure 112008007871803-PCT00001
Figure 112008007871803-PCT00002
Figure 112008007871803-PCT00003
Figure 112008007871803-PCT00004
Figure 112008007871803-PCT00005
본 발명은 또한 (i) 전기활성 소자의 매질로서 적합한 1종 이상의 용매 및 (ii) 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는 조성물에 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 첨가함을 포함하는, 전기활성 소자에 유용한 안정화된 매질의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 (i) 전기활성 소자의 매질로서 적합한 1종 이상의 용매 및 (ii) 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는 조성물에 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로 이루어 진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 첨가함을 포함하는, 전기활성 소자에서 매질을 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 본 발명의 안정화된 조성물을 포함하는, 전색 소자 및 전기영동 소자와 같은 전기활성 소자에 관한 것이다.
본 발명의 논의에서, 다음과 같은 정의가 적용된다:
"애노드(anode)성 재료"는 원자가가 산화로 인해 변하는 경우, 가역적 색 변화를 일으킬 수 있는 화합물 또는 조성물을 나타낸다.
"캐소드(cathode)성 재료"는 원자가가 환원으로 인해 변하는 경우, 가역적 색 변화를 일으킬 수 있는 화합물 또는 조성물을 나타낸다.
"전기활성"은 전기적인 자극을 가했을 때 조성 또는 특성, 예를 들면, 특히 색, 산화 상태, 전도도, 불투명도, 광학 투명도, 회절도, 전자기 투과도, 탄성률, 접착도, pH, 투과성의 가역적 변화를 일으킬 수 있는 화합물, 화합물들의 혼합물, 용액, 조성물 또는 소자를 나타낸다. 전기활성 소자의 예로는 전색 소자 및 전기영동 소자가 있다.
"전색"은 전기적 자극을 가했을 때 전자기 흡수율/투과율의 가역적 변화를 일으킬 수 있는 화합물, 화합물들의 혼합물, 용액, 조성물 또는 소자를 나타낸다.
"전기영동"은 전기적 자극을 가했을 때 하나 이상의 성분의 기하학적 배향의 가역적 변화를 일으킬 수 있는 화합물, 화합물들의 혼합물, 입자, 현탁액, 용액, 조성물 또는 소자를 나타낸다. 현탁 입자 소자가, 예를 들면, 미국 특허원 제2003/0020844호의 전기영동 디스플레이에서와 같이 본 발명에 가장 적합하다.
"황변"은 시간이 지남에 따라 용액의 색이 증가하는 것을 나타낸다. 통상적으로, 형성된 색은 사실상 황색이지만, 유기 열화 반응 특성이 있는 경우, 형성된 색은 다양한 색조의 황색일 수도 있고 갈색을 포함하여 다른 색일 수도 있다.
전색 소자는 전기적 자극을 가할 때 또는 가한 후에 투과율을 변화시키는 하나 이상의 화합물 또는 재료와 한쌍의 전극을 필요로 한다.
본 발명의 전색 소자는 통상적으로 (a) 관련된 전기 전도성 재료를 갖는 실질적으로 투명한 제1 기판, (b) 관련된 전기 전도성 재료를 갖는 제2 기판 및 (c)(1) 하나 이상의 용매, (2) 하나 이상의 애노드성 재료, (3) 하나 이상의 캐소드성 재료(여기서, 애노드성 재료 및 캐소드성 재료 중의 하나 또는 둘 다는 전기활성이고 이들 중 하나 이상은 전색성이다) 및 (4) 비전색성 전류 전송 전해질을 포함하는 전색성 매질을 포함한다.
예는 문헌에서 찾을 수 있다: 미국 특허 제4,902,108호에는 단일 구획 자체 삭제(self-erasing) 용액상 전색 소자가 기재되어 있다. 미국 특허 제6,178,034호에는 대면적 글레이징에 유용한 다층 전색 소자가 기재되어 있다. 미국 특허원 제2002/0241032호에는 전색 매질 및 소자가 기재되어 있다. 미국 특허 제6,143,209호, 제6,327,069호, 제6,404,532호 및 제6,545,793호에는 용매 및 UV 흡수성 첨가제를 포함하는 전색 소자가 기재되어 있다.
애노드성 재료 및 캐소드성 재료가 또한 미국 특허 제6,241,916호에 기재되어 있는 브릿징 유닛(bridging unit)에 의해 결합되거나 연결될 수 있다. 애노드성 재료들 또는 캐소드성 재료들을 유사한 방법으로 연결시킬 수도 있다. 기재된 개념은 애노드성 재료 및/또는 캐소드성 재료에 색 안정화 잔기를 연결시키는 것과 같은 산화환원 완충제의 연결을 포함하여 연결되거나 커플링되는 각종 전기활성 재료를 수득하는 것과 합해질 수 있다. 애노드성 및 캐소드성 전색 재료는 미국 특허 제6,249,369호에 기재되어 있는 커플링된 재료를 또한 포함할 수 있다.
전색 소자는 미국 특허 제6,193,912호에 기재되어 있는 바와 같이 근적외선(NIR) 흡수성 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 또한, 전색 매질은 열 안정화제, 산화방지제, 증점제, 점도 개질제, 색 부여제, 산화환원 완충제 및 이들의 혼합물과 같은 기타 물질을 포함할 수 있다.
추가로, 단일층 단일상 매질은 미국 특허 제6,569,361호에 기재되어 있는 바와 같이 애노드성 재료 및 캐소드성 재료가 중합체 매트릭스에 혼입되어 있는 매질을 포함할 수 있다. 애노드성 재료 또는 캐소드성 재료는 고유의 전색 활성을 갖는 전도성 중합체를 또한 포함할 수 있다.
다층 소자는 공지되어 있다. 매질이 층에 충전될 수 있고 전기 전도성 전극에 직접 부착되거나 이에 근접하게 한정되어 전기화학적으로 산화되거나 환원되는 경우에 부착되거나 한정된 채 유지되는 재료를 포함한다.
다중상 매질도 공지되어 있다. 매질의 하나 이상의 재료는 소자가 작동하는 동안 상이 변화한다. 예를 들면, 이온 전도성 전해질에서 용액에 함유되어 있는 재료는 전기화학적으로 산화되거나 환원되는 경우에 전기 전도성 전극에 층을 형성한다.
본 발명의 목적상, 전색 소자의 성분 함유 용매는 전색 소자의 기능성 부재, 전기활성 부재 또는 기타 부재를 포함할 필요가 없다. 그러나, 사실상 용매가 전색성 재료용 매질로서 유용한 경우에 이는 전해질, 애노드성 재료, 캐소드성 재료 또는 이들의 배합물인 소자의 특정 기능성 양태를 함유할 것이고 전색 소자 분야에서 이해되는 바와 같이 기타 성분들을 포함할 수 있을 것으로 예상된다.
전색 소자의 애노드 활성 재료, 캐소드 활성 재료 및 전해질 재료 뿐만 아니라 기타 재료들 및 사용되는 농도는 본원에 인용된 특허문헌에서 찾을 수 있다.
본 발명에 적합한 용매들 중에는 전색 소자의 전기활성 매질을 제공하기 위해서 하나 이상의 애노드성 전색 화합물, 캐소드성 전색 화합물 및/또는 전하 수송 전해질로서 작용하는 물질의 용해에 적합한 것으로 용액상 전색 소자 분야에 공지되어 있는 것들이 있다. 예를 들면, 1종 이상의 용매들 중의 하나 이상은 설폰, 아미드, 설폭사이드, 에테르, 폴리에테르, 알콜, 폴리올, 니트릴, 케톤, 알데히드, 카복실산, 사이클릭 에스테르, 사이클릭 카보네이트, 글리시딜 에테르 카보네이트 및 규소/폴리올 공중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
예를 들면, 1종 이상의 용매들 중의 하나 이상은 설폰, 케톤, 니트릴 및 사이클릭 카보네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
이러한 용매로는 특히 시판되는 3-메틸설폰란, 테트라메틸렌 설폰, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 설폭사이드, 테트라글림 및 기타 폴리에테르, 알콜, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에톡시에탄올, 니트릴, 예를 들어, 아세토니트릴, 글루타로니트릴, 3-하이드록시프로피오니트릴, 메톡시프로피오니트릴, 3-에톡시프로피오니트릴, 2-메틸글루타로니트릴, 시아노에틸 수크로스, 케톤(예: 아세톤, 메틸 에틸 케 톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 벤조일 아세톤, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온, 아세토페논), 카복실산, 예를 들어, 아세트산, 사이클릭 에스테르(예: β-프로피오락톤, 2-아세틸부티로락톤, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 4-에테닐-1,3-디옥살란-2-온), 프로필렌 카보네이트(PC), 에틸렌 카보네이트, 1,2-부틸렌 카보네이트, 글리시딜 에테르 카보네이트(예: 미국 텍사스주 오스틴에 소재하는 텍사코 케미칼 캄파니(Texaco Chemical Company)가 시판하는 것들), 규소/폴리올 공중합체(예: 미국 미시간주 플린트에 소재하는 제네스 폴리머즈(Genesse Polymers)가 시판하는 것들) 및 이들의 배합물 및 균질한 혼합물이 있다.
예를 들면, 1종 이상의 용매들 중의 하나 이상은 3-메틸설폰란, 테트라메틸렌 설폰, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 설폭사이드, 테트라글림, 메탄올, 에탄올, 에톡시에탄올, 아세토니트릴, 글루타로니트릴, 3-하이드록시프로피오니트릴, 메톡시프로피오니트릴, 3-에톡시프로피오니트릴, 2-메틸글루타로니트릴, 시아노에틸 수크로스, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아밀 케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 벤조일 아세톤, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온, 아세토페논, 아세트산, β-프로피오락톤, 2-아세틸부티로락톤, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 4-에테닐-1,3-디옥살란-2-온, 프로필렌 카보네이트, 에틸렌 카보네이트 및 1,2-부틸렌 카보네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
예를 들면, 1종 이상의 용매들 중의 하나 이상은 3-메틸설폴란, 테트라메틸렌 설폰, 테트라글림, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아밀 케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 아세토니트릴, 글루타로니트릴, 3-하이드록시프로피오니트릴, 메 톡시프로피오니트릴, 3-에톡시프로피오니트릴, 2-메틸글루타로니트릴, 4-에테닐-1,3-디옥살란-2-온, 프로필렌 카보네이트, 에틸렌 카보네이트 및 1,2-부틸렌 카보네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
예를 들면, 1종 이상의 용매들 중의 하나 이상은 테트라글림, 메틸 아밀 케톤, 아세토니트릴 및 프로필렌 카보네이트로 이루어진 그룹으로부터, 특히 프로필렌 카보네이트로부터 선택된다.
1종 이상의 용매가 사용될 수 있다.
용매를 포함하는 매질은, 예를 들면, 미국 특허 제5,928,572호에 기재되어 있는 바와 같이 중합체 또는 공중합체 매트릭스에 분산될 수도 있다. 이러한 산재된 층은 독립형(free standing) 겔로서 존재할 수 있다.
적합한 중합 개시제와 함께 단량체는 단량체 조성물로서 사용되어 전지가 방사선, 열 또는 전기발생된 개시제에 의해 충전된 후에 당해 조성물이 동일 반응계 내에서 중합되어 고형물을 형성시킬 수 있도록 할 수 있다. 이러한 공정은, 예를 들면, 미국 특허 제6,020,987호에 기재되어 있다.
미국 특허 제6,020,987호에는 3종 이상의 전기활성 재료의 농도를 개별적으로 선택함으로써 전색 매질의 색을 예비선택할 수 있도록 함께 첨가되어 활성화시 흡수 스펙트럼을 갖는 3종 이상의 전기활성 재료를 포함하는 개선된 전색 매질이 기재되어 있다.
본 발명의 목적상, 용매 조성물은 UV 안정제를 제외하고는 전색 소자의 기능성 부재, 전기활성 부재 또는 기타 부재를 함유할 필요가 없다. 그러나, 사실상, 소자의 특정 기능성 양태용 매질로서 사용되는 용매는 전해질, 애노드성 재료(들), 캐소드성 재료(들) 또는 이들의 배합물이고 전색 소자 분야에서 통상적인 기타 성분, 예를 들면, 착색재, 열 안정화제, 적외선 흡수성 염료, 수분 스캐빈저(scavenger), 충전재, 점도 개질제 등을 포함할 수 있다고 기대된다. 디스플레이 용품에서와 같이 불투명 층이 필요한 경우, 용매는 불활성 무기 산화물 충전재, 무기 설페이트 충전재, 무기 카보네이트 충전재, 무기 안료, 유기 안료, 계면활성제, 가소제 및 분산제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 함유할 수 있다.
본 발명의 조성물은 또한 전기영동 소자의 현탁 유체로서 또한 유용하며, 이의 예는 미국 특허 제4,247,175호, 제4,407,565호, 제4,772,103호, 제6,753,844호 및 제6,753,999호와 미국 특허원 제2003/002084호에서 찾을 수 있다.
전기영동 소자에 유용한 용매로는 할로겐화 유기 용매, 포화 직쇄 또는 측쇄 탄화수소, 실리콘 오일 및 저분자량 할로겐 함유 중합체와 같은 유기 용매가 있으며, 일부는 유용한 현탁 유체이다.
유용한 유기 용매로는 에폭사이드, 예를 들면, 데칸 에폭사이드 및 도데칸 에폭사이드; 비닐 에테르, 예를 들면, 사이클로헥실 비닐 에테르; 방향족 탄화수소, 예를 들면, 톨루엔 및 나프탈렌이 포함되지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 할로겐화 유기 용매로는 테트라플루오로디브로모에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 트리플루오로클로로에틸렌, 1,2,4-트리클로로벤젠 및 사염화탄소가 포함되지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 포화된 직쇄 또는 측쇄 탄화수소로는 도데칸, 테트라데칸, 정상 파라핀 액체, 나프타 및 기타 석유 용매가 포함되지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 실리콘 오일로는 옥타메틸 사이클로실록산 및 고분자량 사이클릭 실록산, 폴리 (메틸 페닐 실록산), 헥사메틸디실록산 및 폴리디메틸실록산이 포함되지만, 이들로 제한되는 것은 아니다. 저분자량 할로겐 함유 중합체로는 폴리(클로로트리플루오로에틸렌) 중합체 및 과불소화 에테르가 포함되지만, 이들로 제한되는 것은 아니다.
알콜로는 메탄올 및 2-에틸헥산올이 포함된다. 에스테르로는 알킬 아세테이트(예: 이소펜틸 아세테이트), 알킬페닐 아세테이트(예: p-노닐페닐 아세테이트), 디에스테르(예: 디옥틸프탈레이트, 디이소데실 아디페이트, 디옥틸 세바케이트) 및 장애 에스테르(예: 3,5,5-트리메틸헥실 이소부티레이트, 3,5,5-트리메틸헥실 네오펜타노에이트, 네오펜틸 네오펜타노에이트 및 이소부틸 네오펜타노에이트)가 있다. 유용한 에테르로는 디-2-에틸헥실 에테르, 디-3,5,5-트리메틸헥실 에테르, 디-네오펜틸 에테르 및 비대칭성 측쇄 에테르가 포함된다.
전기영동 현탁 유체는 하나 이상의 용매를 포함할 수 있다. 당해 기술분야에서 통상적인 기타 재료, 예를 들면, 계면활성제, 물, 중합체, 표면 개질제, 전하 조절제 및 전하 보강제(charge adjuvant)가 또한 존재할 수 있다. 미세캡슐화 공정용 반응물 또는 용매(예: 유용성 단량체)가 또한 현탁 유체에 함유될 수 있다.
액체 현탁액은 광 조절 부재로서 그대로 사용될 수 있지만, 중합체 매트릭스에 분포된 액체 현탁액의 액적을 가짐으로써 광 조절막을 생성시킬 수도 있다[참조: 미국 특허 제3,257,905호, 제3,341,274호, 제4,919,521호, 제5,463,491호 및 제5,463,492호].
따라서, 전기영동 소자에서 사용하기에 적합한 막은 매트릭스에 분포된 전기영동 현탁액의 액적을 갖는 가교결합된 중합체 매트릭스를 포함할 수 있다. 당해 막은 적합한 액체로 팽윤시킬 수 있다. 이는 생성된 막의 주파수 응답 특성을 향상시키고 광 산란을 감소시킨다.
미국 특허 제5,467,217호 및 제4,407,565호에는 UVA, 구체적으로 벤조트리아졸 및 시아노아크릴레이트 UVA를 각각 혼입시킴으로써 광분해에 대해 안정화된 전기영동 소자용 유체 현탁액이 기재되어 있다. 다른 안정화제는 언급되어 있지 않다.
본 발명의 조성물용으로 선택된 UVA는 유효량으로 함유되는 선택된 용매에서의 용해도가 충분해야 한다. 예를 들면, 미국 특허 제5,148,305호, 제6,614,578호 및 제5,770,114호에는 전색 매질 용매에서의 UVA의 용해도를 기준으로 한 특정 UVA 화합물의 선택도를 기준으로 한다.
자외선 흡수제(UVA)는 하이드록시페닐벤조트리아졸, 벤조페논, 벤즈옥사존, α-시아노아크릴레이트, 옥사닐리드, 트리스-아릴-s-트리아진, 신나메이트, 말로네이트, 벤조에이트, 테레프탈산 및 이소프탈산과 레조르시놀 및 페놀, 벤질리덴 및 살리실레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
하나 이상의 UVA가 선택되어 함께 사용될 수 있다.
예를 들면, 1종 이상의 자외선 흡수제들 중의 하나 이상은 하이드록시페닐벤조트리아졸, 벤조페논 및 트리스-아릴-s-트리아진으로 이루어진 그룹으로부터, 특 히 하이드록시페닐벤조트리아졸로부터 선택된다.
하이드록시페닐벤조트리아졸 UV 흡수제는, 예를 들면, 미국 특허 제3,004,896호, 제3,055,896호, 제3,072,585호, 제3,074,910호, 제3,189,615호, 제3,218,332호, 제3,230,194호, 제4,127,586호, 제4,226,763호, 제4,275,004호, 제4,278,589호, 제4,315,848호, 제4,347,180호, 제4,383,863호, 제4,675,352호, 제4,681,905호, 제4,853,471호, 제5,268,450호, 제5,278,314호, 제5,280,124호, 제5,319,091호, 제5,410,071호, 제5,436,349호, 제5,516,914호, 제5,554,760호, 제5,563,242호, 제5,574,166호, 제5,607,987호, 제5,770,114호, 제5,977,219호, 제6,166,218호, 제6,262,151호, 제6,392,056호, 제6,451,887호, 제6,458,872호 및 제6,614,578호에 기재되어 있다.
트리스-아릴-s-트리아진 UV 흡수제는, 예를 들면, 미국 특허 제3,843,371호, 제4,619,956호, 제4,740,542호, 제5,096,489호, 제5,106,891호, 제5,298,067호, 제5,300,414호, 제5,354,794호, 제5,461,151호, 제5,476,937호, 제5,489,503호, 제5,543,518호, 제5,556,973호, 제5,597,854호, 제5,681,955호, 제5,726,309호, 제5,736,597호, 제5,942,626호, 제5,959,008호, 제5,998,116호, 제6,013,704호, 제6,060,543호, 제6,242,598호 및 제6,255,483호에 기재되어 있다.
벤조페논 UV 흡수제는, 예를 들면, 2,4-디하이드록시 벤조페논, 2,2',4-트리하이드록시 벤조페논 및 2,2',4,4-테트라하이드록시벤조페논의 유도체이며, 이들은 당해 기술분야 및 본원에 인용되어 있는 특허문헌에서 찾을 수 있다.
시아노아크릴레이트, 신나메이트 및 말로네이트 UV 흡수제는, 예를 들면, α -시아노-β,β-디페닐아크릴산, 신남산, α-시아노-β-메틸신남산 및 벤질리덴말로네이트의 유도체이며, 이들은 당해 기술분야 및 본원에 인용되어 있는 특허문헌에서 찾을 수 있다.
예를 들면, 본 발명에 유용한 UV 흡수제는 미국 특허 제5,148,305호, 제6,614,578호, 제5,770,114호, 제6,143,209호, 제6,327,069호, 제6,545,793호 및 제6,404,532호에 기재되어 있는 것들이다.
예를 들면, 본 발명에 유용한 UV 흡수제는 미국 특허 제6,614,578호 및 제5,770,114호에 기재되어 있는 것들이다.
예를 들면, 본 발명에 유용한 UV 흡수제는
하이드록시, C1-C12 알콕시, C1-C12 측쇄 알콕시, 또는 하나 이상의 하이드록시로 치환되고/치환되거나 하나 이상의 산소원자에 의해 차단된 C1-C12 알콕시 또는 C1-C12 측쇄 알콕시로 4번 위치에서 치환된 2-하이드록시벤조페논,
옥틸 3-(3-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록실하이드로신나메이트,
2-[2-하이드록시-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-하이드록시-3-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)-페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-하이드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-하이드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)]-2H- 벤조트리아졸,
3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신남산의 C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬 에스테르,
2-메톡시에틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-(2-메톡시에톡시)에틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-{2-하이드록시-3-3급-부틸-5-[2-(ω-하이드록시-옥타(에틸렌옥시)카보닐)에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸,
5-클로로-2-[2-하이드록시-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)페닐]-2H-벤조트리아졸,
5-클로로-2-[2-하이드록시-3-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)페닐]-2H-벤조트리아졸,
5-클로로-2-[2-하이드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸,
5-클로로-2-[2-하이드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)]-2H-벤조트리아졸,
3-(5-클로로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신남산의 C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬 에스테르,
2-메톡시에틸 3-(5-클로로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-(2-메톡시에톡시)에틸 3-(5-클로로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에틸 3-(5-클로로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
5-클로로-2-{2-하이드록시-3-3급-부틸-5-[2-(ω-하이드록시-옥타(에틸렌옥시)카보닐)-에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸,
5-트리플루오로-2-[2-하이드록시-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)페닐]-2H-벤조트리아졸,
5-트리플루오로-2-[2-하이드록시-3-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)페닐]-2H-벤조트리아졸,
5-트리플루오로-2-[2-하이드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸,
5-트리플루오로-2-[2-하이드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)]-2H-벤조트리아졸,
3-(5-트리플루오로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신 남산의 C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬 에스테르,
2-메톡시에틸 3-(5-트리플루오로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-(2-메톡시에톡시)에틸 3-(5-트리플루오로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에틸 3-(5-트리플루오로-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
5-트리플루오로-2-{2-하이드록시-3-3급-부틸-5-[2-(ω-하이드록시-옥타(에틸렌옥시)카보닐)-에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸,
p-메톡시신남산의 C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬 에스테르,
p-메톡시벤질리덴말론산의 C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬 에스테르,
2-시아노-3,3-디페닐아크릴산의 C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬 에스테르,
디-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) p-메톡시벤질리덴말로네이트,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-하이드록시-4-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)옥시페닐)-s-트리아진,
2,4-디페닐-6-(2-하이드록시-4-(C1-C12 알킬 또는 측쇄 알킬)옥시페닐)-s-트리아진,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-하이드록시-4-(3-도데실옥시/트리데실옥시- 2-하이드록시프로폭시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-하이드록시-4-(3-도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-5-α-쿠밀페닐]-s-트리아진,
2-[2-하이드록시-4-(1-(C1-C18 알킬 또는 측쇄 알킬)옥시카보닐에톡시)페닐]-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진 및
2,4,6-트리스(2,4-디하이드록시페닐)-s-트리아진과 옥틸 α-할로아세테이트와의 반응 생성물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
예를 들면, 본 발명에 유용한 UV 흡수제는
4-메톡시-2-하이드록시벤조페논,
4-옥틸옥시-2-하이드록시벤조페논,
4-도데실옥시-2-하이드록시벤조페논,
4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시벤조페논,
2,4-디하이드록시벤조페논,
4-메톡시-2,2'-디하이드록시벤조페논,
4,4'-디메톡시-2,2'-디하이드록시벤조페논,
2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸,
2-(2-하이드록시-5-3급-옥틸페닐-2H-벤조트리아졸,
2-(2-하이드록시-3,5-디-3급-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸,
2-(2-하이드록시-3-2급-부틸-5-3급-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸,
2-(2-하이드록시-3-도데실-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸,
2-[2-하이드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-하이드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-3급-옥틸페닐]-2H-벤조트리아졸,
옥틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
부틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
펜틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-메톡시에틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-(2-메톡시에톡시)에틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-{2-하이드록시-3-3급-부틸-5-[2-(ω-하이드록시-옥타(에틸렌옥시)카보닐)에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸,
5-클로로-2-(2-하이드록시-3-3급-부틸-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸,
5-클로로-2-(2-하이드록시-3,5-디-3급-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸,
옥틸 3-(5-클로로벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
옥틸 3-(5-트리플루오로메틸-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
부틸 3-(5-트리플루오로메틸-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
펜틸 3-(5-트리플루오로메틸-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
5-트리플루오로메틸-2-{2-하이드록시-3-3급-부틸-5-[2-(ω-하이드록시-옥타(에틸렌옥시)-카보닐)에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸,
2-(2-메톡시에톡시)에틸 3-(5-트리플루오로메틸벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에틸 3-(5-트리플루오로메틸벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진,
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-하이드록시-4-(3-도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)페닐]-s-트리아진,
2-[2-하이드록시-4-(1-옥틸옥시카보닐에톡시)페닐]-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진 및
2,4,6-트리스(2,4-디하이드록시페닐)-s-트리아진과 옥틸 α-할로아세테이트와의 반응 생성물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
예를 들면, UV 흡수제는 옥틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트이다.
UVA와 같이, 본 발명의 조성물용으로 선택된 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염은 유효량으로 함유되는 선택 용매에 대해 충분한 용해도를 가져야 한다. 이들은 또한 소자의 기능성에 간섭하지 않아야 한다. 예를 들어, 이들은 전색 소자의 색 변화를 방해하지 않아야 한다.
1종 이상의 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염이 선택되어 함께 사용될 수 있다.
화학식 IV의 디알킬하이드록실아민 안정화제, 예를 들면, N,N,-디알킬하이드록실아민 및 N,N-디벤질하이드록실아민은, 예를 들면, 미국 특허 제4,590,231호, 제4,668,721호, 제4,782,105호, 제4,876,300호 및 제5,013,510호에 교시된 바와 같은 각종 중합체성 기판에 대한 유용한 안정화제로서 익히 공지되어 있다.
미국 특허 제4,649,221호 및 제4,703,073호는 폴리올레핀을 안정화시키기 위해 각각 폴리하이드록실아민 화합물 및 알킬화 N,N-디벤질하이드록실아민 유도체의 사용을 교시한다.
에스테르, 아미드 또는 티오 치환된 N,N-디알킬하이드록실아민은 미국 특허 제4,612,393호, 제4,720,517호 및 제5,019,285호에 기재되어 있다.
예를 들어, 본 발명의 화학식 IV의 디알킬하이드록실아민 안정화제는 상기한 미국 특허 문헌들에 기재된 것들이고, 예를 들면, 다음 화학식의 것들이다
Figure 112008007871803-PCT00006
상기 화학식에서,
R1은 탄소수 1 내지 36의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬 또는 탄소 수 7 내지 9의 아르알킬이거나, R1은 탄소수 1 내지 12의 알킬, 할로겐, 시아노, E1O-, E1CO-, E1OCO-, E1COO-, E1S-, E1SO-, E1SO2-, -NH2, -NHE1, -NE1E2, -PO(OE1)(OE2) 또는 -OPO(OE1)(OE2) 그룹 중의 1 내지 6개에 의해 치환된 탄소수 1 내지 36의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬 또는 탄소수 7 내지 9의 아르알킬이고,
R2는 수소이거나 독립적으로 R1과 동일한 의미를 갖고, 여기서, R1 및 R2 중의 하나 이상은 -NOH 잔기에 대해 알파 위치 수소를 함유하거나,
R1 및 R2는 함께 -NOH 잔기에 대해 알파 위치 탄소 치환된 수소를 하나 이상 함유하는 C2-12헤테로사이클릭 환을 형성하고, 여기서 C2-12헤테로사이클릭 환은 치환되지 않거나, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 할로겐, 시아노, E1O-, E1CO-, E1OCO-, E1COO-, E1S-, E1SO-, E1SO2-, -NH2, -NHE1, -NE1E2, -PO(OE1)(OE2) 또는 -OPO(OE1)(OE2) 그룹 중의 1 내지 3개에 의해 치환되거나, C2-12헤테로사이클릭 환은 1 내지 3개의 -0-, -NE1-, -CO-, -CONE1-, -S-, -SO-, -SO2-, -COO-, -PO3- 또는 -PO4E1 그룹에 의해 차단되거나, 헤테로사이클릭 환은 상기한 그룹에 의해 치환되고 차단되고,
E1 및 E2는 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 1 내지 3개의 하 이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, E1 및 E2는 독립적으로 하이드록실, 메톡시, 아세테이트 또는 프로피오네이트로 종결된 폴리(에틸렌 글리콜) 또는 폴리(프로필렌 글리콜)의 올리고머이고, 여기서 올리고머의 분자량은 약 500 이하이다.
"R1 및 R2 중의 하나 이상은 -NOH 잔기에 대해 알파 위치 수소를 함유한다"는 절은 본 디알킬하이드록실아민이 디-3급-알킬하이드록실아민이 아님을 의미한다.
본 디알킬하이드록실아민 안정화제는, 예를 들어, N,N-디하이드로카빌하이드록실아민이고, 여기서 R1 및 R2는 독립적으로 벤질, 메틸, 에틸, 옥틸, 라우릴, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 헵타데실 또는 옥타데실이거나, R1 및 R2는 각각 수소화 우지 아민에서 발견되는 알킬 혼합물이다.
본 디알킬하이드록실아민 안정화제는, 예를 들어, N,N-디벤질하이드록실아민, N,N-디메틸하이드록실아민, N,N-디에틸하이드록실아민, N,N-비스(2-하이드록시프로필)하이드록실아민, N,N-비스(3-하이드록시프로필)하이드록실아민, N,N-비스(2-카복시에틸)하이드록실아민, N,N-비스(벤질티오메틸)하이드록실아민, N,N-디옥틸하이드록실아민, N,N-디라우릴하이드록실아민, N,N-디도데실하이드록실아민, N,N-디테트라데실하이드록실아민, N,N-디헥사데실하이드록실아민, N,N-디옥타데실하이드록실아민, N-헥사데실-N-테트라데실하이드록실아민, N-헥사데실-N-헵타데실하이드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실하이드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실하 이드록실아민, N-메틸-N-옥타데실하이드록실아민, N,N-디(수소화 우지)하이드록실아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 N,N-디하이드로카빌하이드록실아민이다.
예를 들어, 본 디알킬하이드록실아민 안정화제는 N,N-디에틸하이드록실아민, N,N-비스(2-하이드록시프로필)하이드록실아민, N,N-비스(3-하이드록시프로필)하이드록실아민 또는 N,N-디벤질하이드록실아민 또는 N,N-디(수소화 우지)아민의 직접 산화로 생성된 N,N-디(알킬)하이드록실아민이다. 최종 칭명된 디알킬하이드록실아민, 즉 N,N-디(수소화 우지)하이드록실아민은 미국 특허 제5,013,510호의 작용 실시예에서 제조된 것이다.
화학식 V의 디알킬하이드록실아민 안정화제 염은 본 발명의 화학식 IV의 디알킬하이드록실아민의 무기 또는 유기 산 염이다. 예를 들어, 디알킬하이드록실아민 안정화제 염은 화학식 V에 상응한다.
화학식 V
Figure 112008007871803-PCT00007
상기 화학식 V에서,
R1 및 R2는 디알킬하이드록실아민 안정화제에 대해 정의된 바와 같고,
HY는 무기 또는 유기 산이다.
예를 들어, Y는 포스페이트, 포스포네이트, 카보네이트, 비카보네이트, 니트레이트, 클로라이드, 브로마이드, 비설파이트, 설파이트, 비설페이트, 설페이트, 보레이트, 포르메이트, 아세테이트, 벤조에이트, 시트레이트, 옥살레이트, 타르트 레이트, 아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 푸마레이트, 말레에이트, 이타코네이트, 글리콜레이트, 글루코네이트, 말레이트, 만델레이트, 티글레이트, 아스코르베이트, 폴리메타크릴레이트, 니트릴로트리아세트산(NTA), 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스폰산(DTPMPA), 하이드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산(HEDTA), 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA), 디에틸렌트리아민펜타아세트산(DTPA), 디에틸렌디아민테트라아세트산 또는 디에틸렌트리아민펜타아세트산의 카복실레이트, 알킬설포네이트 또는 아릴설포네이트, 특히 시트레이트이다.
예를 들어, HY가 염산일 때, Y는 클로라이드이고, 디알킬하이드록실아민 염은 디알킬하이드록실암모늄 클로라이드 염이다.
예를 들어, Y는 클로라이드, 비설페이트, 설페이트, 포스페이트, 니트레이트, 아스코르베이트, 포르메이트, 아세테이트, 벤조에이트, 옥살레이트, 시트레이트, 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 디에틸렌트리아민펜타아세트산의 카복실레이트 또는 폴리아크릴레이트이고, 예를 들어, Y는 클로라이드, 비설페이트 또는 시트레이트이다.
예를 들어, 본 디알킬하이드록실아민 안정화제 염은 상기한 특정 디알킬하이드록실아민 안정화제의 염이다.
예를 들어, 본 디알킬하이드록실아민 안정화제 염은 트리스(N,N-디에틸하이드록실암모늄)시트레이트 또는 트리스(N,N-디벤질하이드록실암모늄)시트레이트이다.
니트록실 및 입체 장애 하이드록실 아민 및 이들의 염은 화학식 I, II 또는 III의 화합물이다.
화학식 I
Figure 112008007871803-PCT00008
화학식 II
Figure 112008007871803-PCT00009
화학식 III
Figure 112008007871803-PCT00010
상기 화학식 I 내지 III에서,
G1 및 G2는 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, 함께 펜타메틸렌을 형성하고,
Z1 및 Z2는 각각 메틸이거나, Z1 및 Z2는 함께, 에스테르, 에테르, 하이드록시, 옥소, 시아노하이드린, 아미드, 아미노, 카복시 또는 우레탄 그룹으로 추가로 치환될 수 있는 결합 잔기를 형성하고,
X는 무기 또는 유기 음이온, 예를 들어, 포스페이트, 포스포네이트, 카보네 이트, 비카보네이트, 니트레이트, 클로라이드, 브로마이드, 비설파이트, 설파이트, 비설페이트, 설페이트, 보레이트, 포르메이트, 아세테이트, 벤조에이트, 시트레이트, 옥살레이트, 타르트레이트, 아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 푸마레이트, 말레에이트, 이타코네이트, 글리콜레이트, 글루코네이트, 말레이트, 만델레이트, 티글레이트, 아스코르베이트, 폴리메타크릴레이트, 니트릴로트리아세트산, 하이드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산, 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 디에틸렌트리아민펜타아세트산의 카복실레이트, 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트, 알킬설포네이트 또는 아릴설포네이트이고,
양이온 h의 총 전하량은 음이온 j의 총 전하량과 같다.
예를 들어, X는 클로라이드, 비설파이트, 비설페이트, 설페이트, 포스페이트, 니트레이트, 아스코르베이트, 아세테이트, 시트레이트 또는 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 디에틸렌트리아민펜타아세트산의 카복실레이트이고, 예를 들어, X는 비설페이트 또는 시트레이트이다.
니트록실, 하이드록실아민 및 하이드록실아민 염 화합물은, 예를 들어, 화학식 A 내지 EE 및 A* 내지 EE*의 화합물이다.
Figure 112008007871803-PCT00011
[화학식 A*]
Figure 112008007871803-PCT00012
Figure 112008007871803-PCT00013
[화학식 B*]
Figure 112008007871803-PCT00014
Figure 112008007871803-PCT00015
[화학식 C*]
Figure 112008007871803-PCT00016
Figure 112008007871803-PCT00017
[화학식 D*]
Figure 112008007871803-PCT00018
Figure 112008007871803-PCT00019
[화학식 E*]
Figure 112008007871803-PCT00020
Figure 112008007871803-PCT00021
[화학식 F*]
Figure 112008007871803-PCT00022
Figure 112008007871803-PCT00023
[화학식 G*]
Figure 112008007871803-PCT00024
Figure 112008007871803-PCT00025
[화학식 H*]
Figure 112008007871803-PCT00026
[화학식 I]
Figure 112008007871803-PCT00027
[화학식 I*]
Figure 112008007871803-PCT00028
Figure 112008007871803-PCT00029
[화학식 J*]
Figure 112008007871803-PCT00030
Figure 112008007871803-PCT00031
[화학식 K*]
Figure 112008007871803-PCT00032
Figure 112008007871803-PCT00033
[화학식 L*]
Figure 112008007871803-PCT00034
Figure 112008007871803-PCT00035
[화학식 M*]
Figure 112008007871803-PCT00036
Figure 112008007871803-PCT00037
[화학식 O*]
Figure 112008007871803-PCT00038
Figure 112008007871803-PCT00039
[화학식 P*]
Figure 112008007871803-PCT00040
Figure 112008007871803-PCT00041
[화학식 Q*]
Figure 112008007871803-PCT00042
Figure 112008007871803-PCT00043
[화학식 R*]
Figure 112008007871803-PCT00044
Figure 112008007871803-PCT00045
[화학식 S*]
Figure 112008007871803-PCT00046
Figure 112008007871803-PCT00047
[화학식 T*]
Figure 112008007871803-PCT00048
Figure 112008007871803-PCT00049
[화학식 U*]
Figure 112008007871803-PCT00050
[화학식 V]
Figure 112008007871803-PCT00051
[화학식 V*]
Figure 112008007871803-PCT00052
Figure 112008007871803-PCT00053
[화학식 W*]
Figure 112008007871803-PCT00054
Figure 112008007871803-PCT00055
[화학식 X*]
Figure 112008007871803-PCT00056
Figure 112008007871803-PCT00057
[화학식 Y*]
Figure 112008007871803-PCT00058
Figure 112008007871803-PCT00059
[화학식 Z*]
Figure 112008007871803-PCT00060
Figure 112008007871803-PCT00061
[화학식 AA*]
Figure 112008007871803-PCT00062
Figure 112008007871803-PCT00063
[화학식 BB*]
Figure 112008007871803-PCT00064
Figure 112008007871803-PCT00065
[화학식 CC*]
Figure 112008007871803-PCT00066
Figure 112008007871803-PCT00067
[화학식 DD*]
Figure 112008007871803-PCT00068
Figure 112008007871803-PCT00069
[화학식 EE*]
Figure 112008007871803-PCT00070
상기 화학식 A 내지 EE 및 A* 내지 EE*에서,
E는 옥실 또는 하이드록실이고,
R은 수소 또는 메틸이고,
화학식 A 및 A*에서,
n은 1 또는 2이고,
n이 1일 경우,
R1은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬, 탄소수 2 내지 18의 알케닐, 프로파 킬, 글리시딜; 1 내지 20개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 10개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 산소원자에 의해 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 2 내지 50의 알킬이거나,
R1은 카복시 그룹 또는 -COOZ에 의해 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서, Z는 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 페닐이거나, Z는 -(COO-)nMn+에 의해 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서 n은 1 내지 3이고, M은 주기율표의 제1족, 제2족 또는 제3족 금속 이온이거나 Zn, Cu, Ni 또는 Co이거나, M은 그룹 Nn+(R2)4이고, 여기서 R2는 탄소수 1 내지 8의 알킬 또는 벤질이고,
n이 2일 경우,
R1은 탄소수 1 내지 12의 알킬렌, 탄소수 4 내지 12의 알케닐렌, 크실릴렌, 또는 1 내지 20개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 10개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 산소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 50의 알킬렌이고,
화학식 B 및 B*에서,
m은 1 내지 4이고,
m이 1일 경우,
R2는 탄소수 1 내지 18의 알킬, -COO-에 의해 차단된 탄소수 3 내지 18의 알 킬이거나, R2는 -CH2(OCH2CH2)nOCH3이고, 여기서 n은 1 내지 12이거나,
R2는 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 6 내지 12의 아릴, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹 1 내지 4개로 치환된 탄소수 6 내지 12의 아릴이거나,
R2는 -NHR3이고, 여기서 R3은 탄소수 1 내지 18의 사이클로알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 6 내지 12의 아릴, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹 1 내지 4개로 치환된 탄소수 6 내지 12의 아릴이거나,
R2는 -N(R3)2이고, 여기서 R3은 상기 정의된 바와 같고,
m이 2일 경우,
R2는 탄소수 1 내지 12의 알킬렌, 탄소수 4 내지 12의 알케닐렌, 크실릴렌, -COO-에 의해 차단된 탄소수 2 내지 12의 알킬렌이거나, R2는 -CH2(OCH2CH2)nOCH2-이고, 여기서 n은 1 내지 12이거나,
R2는 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬렌, 탄소수 7 내지 15의 아르알킬렌 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴렌이거나,
R2는 -NHR4NH-이고, 여기서 R4는 탄소수 2 내지 18의 알킬렌, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬렌, 탄소수 8 내지 15의 아르알킬렌 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴렌이거나,
R2는 -N(R3)R4N(R3)-이고, 여기서 R3 및 R4는 상기 정의된 바와 같거나,
R2는 -CO- 또는 -NH-CO-NH-이고,
m이 3일 경우,
R2는 탄소수 3 내지 8의 알칸트리일 또는 벤젠트리일이고,
m이 4일 경우,
R2는 탄소수 5 내지 8의 알칸테트라일 또는 벤젠테트라일이고,
화학식 C 및 C*에서,
R10은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 7 내지 15의 아르알킬, 탄소수 2 내지 18의 알칸오일, 탄소수 3 내지 5의 알켄오일 또는 벤조일이고,
x는 1 또는 2이고,
x가 1일 경우,
R11은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬, 탄소수 2 내지 18의 알케닐, 프로파킬, 글리시딜; 1 내지 20개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 10개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 산소원자에 의해 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 2 내지 50의 알킬이거나,
R11은 카복시 그룹 또는 -COOZ에 의해 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서, Z는 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 페닐이거나, Z는 -(COO-)nMn+에 의 해 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서 n은 1 내지 3이고, M은 주기율표의 제1족, 제2족 또는 제3족 금속 이온이거나 Zn, Cu, Ni 또는 Co이거나, M은 그룹 Nn+(R2)4이고, 여기서 R2는 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 또는 벤질이고,
x가 2일 경우,
R11은 탄소수 1 내지 12의 알킬렌, 탄소수 4 내지 12의 알케닐렌, 크실릴렌, 또는 1 내지 20개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 10개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 산소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 50의 알킬렌이고,
화학식 D 및 D*에서,
R10은 상기 정의된 바와 같고,
y는 1 내지 4이고,
R12는 상기 R2에 대해 정의된 바와 같고,
화학식 E 및 E*에서,
k는 1 또는 2이고,
k가 1일 경우,
R20 및 R21은 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬, 탄소수 2 내지 12의 알케닐 또는 탄소수 7 내지 15의 아르알킬이거나, R20은 또한 수소이거나,
R20 및 R21은 함께 탄소수 2 내지 8의 알킬렌 또는 하이드록실에 의해 치환된 탄소수 2 내지 8의 알킬렌이거나, 탄소수 4 내지 22의 아실옥시-알킬렌이고,
k가 2일 경우,
R20 및 R21은 (-CH2)2C(CH2-)2이고,
화학식 F 및 F*에서,
R30은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬, 벤질, 글리시딜 또는 탄소수 2 내지 6의 알콕시알킬이고,
g는 1 또는 2이고,
g가 1일 경우, R31은 n이 1일 경우 상기 R1에 대해 정의된 바와 같고,
g가 2일 경우, R31은 n이 2일 경우 상기 R1에 대해 정의된 바와 같고,
화학식 G 및 G*에서,
Q1은 -NR41- 또는 -O-이고,
E1은 탄소수 1 내지 3의 알킬렌이거나, E1은 -CH2-CH(R42)-O-이고, 여기서 R42는 수소, 메틸 또는 페닐이거나, E1은 -(CH2)3-NH-이거나 E1은 직접 결합이고,
R40은 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬이고,
R41은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 7 내지 15의 아르알킬, 탄소수 6 내지 10의 아릴이거나, R41은 -CH2-CH(R42)- OH이고, 여기서 R42는 상기 정의된 바와 같고,
화학식 H 및 H*에서,
p는 1 또는 2이고,
T4는 x가 1 또는 2일 경우 R11에 대해 정의된 바와 같고,
M 및 Y는 독립적으로 메틸렌 또는 카보닐이고, 예를 들어, M은 메틸렌이고, Y는 카보닐이고,
화학식 I 및 I*에서,
당해 화학식은 T1이 에틸렌 또는 1,2-프로필렌인 중합체의 순환 구조 단위이거나 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 갖는 알파-올레핀 공중합체로부터 유도된 반복 구조 단위를 나타내고,
q는 2 내지 100이고,
Q1은 -N(R41)- 또는 -O-이고, 여기서 R41은 상기 정의된 바와 같고,
화학식 J 및 J*에서,
r은 1 또는 2이고,
T7은 화학식 A에서 n이 1 또는 2일 경우 R1에 대해 정의된 바와 같고, 예를 들어, r이 2일 경우 T7은 옥타메틸렌이고,
화학식 L 및 L*에서,
u는 1 또는 2이고,
T13은 화학식 A에서 n이 1 또는 2일 경우 R1에 대해 정의된 바와 같고, 단 T13은, u가 1일 경우 수소가 아니고,
화학식 M 및 M*에서,
E1 및 E2는 상이하고, 각각 -CO- 또는 -N(E5)-이고, 여기서 E5는 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬 또는 탄소수 4 내지 22의 알콕시카보닐알킬이고, 예를 들어, E1은 -CO-이고, E2는 -N(E5)-이고,
E3은 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬, 페닐, 나프틸, 염소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬로 치환된 페닐 또는 나프틸, 또는 탄소수 7 내지 12의 페닐알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬로 치환된 탄소수 7 내지 12의 페닐알킬이거나,
E4는 수소, 탄소수 1 내지 30의 알킬, 페닐, 나프틸 또는 탄소수 7 내지 12의 페닐알킬이거나,
E3 및 E4는 함께 탄소수 4 내지 17의 폴리메틸렌, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬, 예를 들어, 메틸 1 내지 4개로 치환된 탄소수 4 내지 17의 폴리메틸렌이고,
화학식 O 및 O*에서,
R10은 화학식 C에서 R10에서 정의된 바와 같고,
화학식 P 및 P*에서,
E6은 지방족 또는 방향족 4가 라디칼, 예를 들어, 네오펜탄테트라일 또는 벤젠테트라일이고,
화학식 T 및 T*에서,
R51은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴이고,
R52는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬이거나,
R51 및 R52는 함께 탄소수 4 내지 8의 알킬렌을 형성하고,
f는 1 또는 2이고,
f가 1일 경우,
R50은 x가 1일 경우 화학식 C에서 R11에 대해 정의된 바와 같거나, R50은 -(CH2)zCOOR54이고, 여기서 z는 1 내지 4이고, R54는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬이거나, R54는 주기율표의 제1족, 제2족 또는 제3족의 금속 이온이거나 그룹 -N(R55)4이고, 여기서 R55는 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬 또는 벤질이고,
f가 2일 경우,
R50은 x가 2일 경우 화학식 C에서 R11에 대해 정의된 바와 같고,
화학식 U 및 U*에서,
R53, R54, R55 및 R56은 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, 함께 펜타메틸렌을 형성하고,
화학식 V 및 V*에서,
R57, R58, R59 및 R60은 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, 함께 펜타메틸렌을 형성하고,
화학식 W 및 W*에서,
R61, R62, R63 및 R64는 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, 함께 펜타메틸렌을 형성하고,
R65는 탄소수 1 내지 5의 알킬이고,
M은 수소 또는 산소이고,
화학식 X 내지 CC 및 X* 내지 CC*에서,
n은 2 내지 3이고,
G1은 수소, 메틸, 에틸, 부틸 또는 벤질이고,
m은 1 내지 4이고,
x는 1 내지 4이고,
x가 1일 경우,
R1 및 R2는 독립적으로 탄소수 1 내지 18의 알킬; 1 내지 5개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 5개의 하이드록실 그룹에 의해 치환되거나, 상기한 산소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹에 의해 치환된 탄소수 1 내지 18의 알킬; 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 7 내지 15의 아르알킬, 탄소수 6 내지 10의 아릴 또는 탄소수 1 내지 8의 알킬 1 내지 3개로 치환된 탄소수 6 내지 10의 아릴이 거나, R1은 또한 수소이거나,
R1 및 R2는 함께 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌 또는 3-옥사펜타메틸렌이고,
x가 2일 경우,
R1은 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬, 또는 1 또는 2개의 산소원자로 차단되거나, 1개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 1 또는 2개의 산소원자로 차단되고 1개의 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 8의 알킬이거나,
R2는 탄소수 2 내지 18의 알킬렌; 1 내지 5개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 5개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 수소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 2 내지 18의 알킬렌; o-, m- 또는 p-페닐렌 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬 1 또는 2개로 치환된 o-, m- 또는 p-페닐렌이거나,
R2는 -(CH2)kO[(CH2)kO]h(CH2)k-이고, 여기서 k는 2 내지 4이고, h는 1 내지 40이거나,
R1 및 R2는 이들이 결합된 2개의 N 원자와 함께 피페라진-1,4-디일을 형성하고,
x가 3일 경우,
R1은 수소이고,
R2는 1개의 질소원자로 차단된 탄소수 4 내지 8의 알킬렌이고,
x가 4일 경우,
R1은 수소이고,
R2는 2개의 질소원자로 차단된 탄소수 6 내지 12의 알킬렌이고,
R3은 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬, 1 또는 2개의 산소원자로 차단되거나, 1개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 1 또는 2개의 산소원자로 차단되고 1개의 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 8의 알킬이고,
p는 2 또는 3이고,
Q는 알칼리 금속 염, 암모늄 또는 N+(G1)4이고,
화학식 DD 및 DD*에서,
m은 2 또는 3이고,
m이 2일 경우, G는 -(CH2CHR-O)rCH2CHR-이고, 여기서 r은 0 내지 3이고, R은 수소 또는 메틸이고,
m이 3일 경우, G는 글리세릴이고,
화학식 EE 및 EE*에서,
G2는 -CN, -CONH2 또는 -COOG3이고, 여기서 G3은 수소, 탄소수 1 내지 18의 알킬 또는 페닐이고,
X는 무기 또는 유기 음이온, 예를 들어, 포스페이트, 포스포네이트, 카보네이트, 비카보네이트, 니트레이트, 클로라이드, 브로마이드, 비설파이트, 설파이트, 비설페이트, 설페이트, 보레이트, 포르메이트, 아세테이트, 벤조에이트, 시트레이트, 옥살레이트, 타르트레이트, 아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 푸마레이트, 말레에이트, 이타코네이트, 글리콜레이트, 글루코네이트, 말레이트, 만델레이트, 티글레이트, 아스코르베이트, 폴리메타크릴레이트, 니트릴로트리아세트산, 하이드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산, 에틸렌디아민테트라아세트산 또는 디에틸렌트리아민펜타아세트산의 카복실레이트, 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트, 알킬설포네이트 또는 아릴설포네이트이고,
양이온 h의 총 전하량은 음이온 j의 총 전하량과 같다.
예를 들어, 성분 (iii)의 화합물은
R이 수소이고,
화학식 A 및 A*
n이 1 또는 2이고,
n이 1일 경우,
R1이 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬, 탄소수 2 내지 6의 알케닐, 프로파길, 글리시딜; 1 내지 10개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 5개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 산소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 2 내지 20의 알킬이거나,
R1은 카복시 그룹 또는 -COOZ로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서 Z는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,
n이 2일 경우,
R1이 탄소수 1 내지 8의 알킬렌, 탄소수 4 내지 8의 알케닐렌, 또는 1 내지 10개의 산소원자로 차단되거나, 1 내지 5개의 하이드록실 그룹에 의해 치환되거나, 상기한 산소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬렌이고,
화학식 B 및 B*에서,
m이 1 또는 2이고,
m이 1일 경우, R2가 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, R2가 CH2(OCH2CH2)nOCH3이고, 여기서 n은 1 내지 12이거나, R2가 페닐, 또는 1개 내지 3개의 메틸 그룹으로 치환된 페닐이거나, R2가 -NHR3이고, 여기서 R3은 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 페닐, 또는 1 또는 2개의 메틸 그룹에 의해 치환된 페닐이고,
m이 2일 경우, R2가 탄소수 1 내지 8의 알킬렌, 탄소수 4 내지 8의 알케닐렌이거나, R2가 -CH2(OCH2CH2)nOCH2-이고, 여기서 n은 1 내지 12이거나, R2가 NHR4NH이고, 여기서 R4는 탄소수 2 내지 6의 알킬렌, 탄소수 8 내지 15의 아르알킬렌 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴렌이거나, R2가 -CO- 또는 -NHCONH이고,
화학식 C 및 C*에서,
R10이 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알칸오일이고,
x가 1 또는 2이고,
x가 1일 경우, R11이 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬 또는 글리시딜이거나, R11이 카복시 그룹 또는 COOZ에 의해 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서 Z는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,
x가 2일 경우, R11이 탄소수 1 내지 6의 알킬렌이고,
화학식 D 및 D*에서,
R10이 수소이고, y가 1 또는 2이고, R12가 상기 R2에 대해 정의된 바와 같고,
화학식 Y, Y*, Z 및 Z*에서,
x가 1 또는 2이고,
x가 1일 경우, R1 및 R2가 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, R1 및 R2가 함께 테트라메틸렌 또는 펜타메틸렌을 형성하거나, R2가 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬, 또는 1개의 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹이고,
x가 2일 경우, R1이 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 1개의 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,
R2가 탄소수 2 내지 6의 알킬렌이고,
R3이 상기한 바와 같은 화학식 A, A*, B, B*, C, C*, D, D*, Q, Q*, R, R*, S, S*, X, X*, Y, Y*, Z 및 Z*의 화합물이다.
예를 들어, 성분(b)의 화합물은
R이 수소이고,
화학식 A 및 A*에서,
h가 1이고, R1이 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 글리시딜; 1 또는 2개의 산소원자로 차단되거나, 1 또는 2개의 하이드록실 그룹으로 치환되거나, 상기한 산소원자로 차단되고 상기한 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 2 내지 4의 알킬이거나, R1이 -COOZ로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서 Z는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,
화학식 B 및 B*에서,
m이 1 또는 2이고,
m이 1일 경우, R2가 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, R2가 CH2(OCH2CH2)nOCH3이고, 여기서 n은 1 내지 4이고,
m이 2일 경우, R2가 탄소수 1 내지 8의 알킬렌이고,
화학식 C 및 C*에서,
R10이 수소 또는 탄소수 1 또는 2의 알칸오일이고,
x가 1 또는 2이고,
x가 1일 경우, R11이 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 글리시딜이거나, R11이 COOZ로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, 여기서 Z는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,
x가 2일 경우, R11이 탄소수 1 내지 6의 알킬렌이고,
화학식 D 및 D*에서,
R10이 수소이고, y가 1 또는 2이고, R12가 상기 R2에 대해 정의된 바와 같은 화학식 A, A*, B, B*, C, C*, D, D*, Q, Q*, R 및 R*의 화합물이다.
예를 들어, 화학식 I, II 및 III의 니트록실, 하이드록실아민 및 하이드록실아민 염은 다음 화합물로부터 선택된다:
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리듐 시트레이트;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 비설페이트;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 아세테이트;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리딘;
1-하이드록실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리디늄 아세테이트;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리디늄 아세테이트;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 클로라이드;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 비설페이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 에틸렌디 아민테트라아세테이트;
테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌 트리아민펜타메틸렌포스포네이트; 및
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트.
예를 들어, 화학식 I, II 및 III의 화합물은 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다:
비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리딘;
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리딘; 및
1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘.
예를 들어, 화학식 I, II 및 III의 화합물은 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다:
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리딘; 및
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘.
예를 들어, 화학식 I, II 및 III의 화합물은 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다:
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리듐 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) 시트레이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 비설페이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) 시트레이트;
1-하이드록실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 클로라이드;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 비설페이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 시트레이트;
테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트;
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트; 및
펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트.
예를 들어, 화학식 I, II 및 III의 화합물은 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다:
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이 트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 DTPA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) DTPA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) DTPA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) DTPA;
펜타키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) DTPA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 EDTA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) EDTA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) EDTA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) EDTA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 DTPA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) DTPA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) DTPA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) DTPA;
펜타키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) DTPA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 EDTA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) EDTA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) EDTA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) EDTA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 DTPA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) DTPA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) DTPA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) DTPA;
펜타키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) DTPA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 EDTA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) EDTA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) EDTA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) EDTA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리듐 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) 시트레이트;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) 시트레이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄 DTPA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) DTPA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) DTPA;
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) DTPA;
펜타키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) DTPA;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄 EDTA;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) EDTA;
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) EDTA; 및
테트라키스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) EDTA.
상기 명명된 반대이온은 에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA), 디에틸렌트리아민펜타아세트산(DTPA), 하이드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산(HEDTA), 니트릴로트리아세트산(NTA) 또는 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스폰산(DTPMPA)이다.
예를 들어, 화학식 I, II 및 III의 화합물은 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다:
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리듐 시트레이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 비설페이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 클로라이드;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 아세테이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 비설페이트;
1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트;
비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트; 및
트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트.
예를 들어, 화학식 III의 화합물은 1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트이다.
본 발명의 안정화제는, 경우에 따라, 승온에서 표준 기법을 사용하여 용해시킴으로써 혼입된다.
본 발명의 UV 흡수제는, 용매 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 25중량%, 바람직하게는 0.1 내지 20중량%, 1 내지 10중량%, 특히 3 내지 6중량%로 존재할 수 있다.
본 발명의 장애된 니트록실, 하이드록실 아민 또는 하이드록실아민 염은 매우 적은 양으로, 예를 들어, 용매의 중량을 기준으로 하여, 0.001중량% 만큼 적게 존재할 수 있지만, 또한, 용매의 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 10중량%, 특히 0.05 내지 5중량%, 특히 0.1 내지 2중량%의 양으로 존재한다.
본 발명의 UVA 및 하이드록실 아민 또는 하이드록실아민 염은, 전체로, 예를 들어, 용매의 중량을 기준으로 하여, 0.05 내지 30중량%, 예를 들어, 0.1 내지 30중량%, 예를 들어, 0.1 내지 15중량%, 또는 1 내지 15중량%, 또는 0.2 내지 10중 량%, 또는 3 내지 8중량% 또는 1 내지 5중량%로 존재한다.
니트록실, 하이드록실 아민 또는 하이드록실아민 염 성분은 UVA 성분을 포함하는 잔기에 공유 결합을 통해 결합될 수 있다.
본 조성물은 추가의 첨가제, 예를 들어, 장애 아민 광 안정화제(HALS)를 포함할 수 있다. HALS는, 예를 들어, 미국 특허 제3,640,928호; 제3,992,390호; 제5,204,473호; 제5,980,783호; 제6,046,304호; 제6,297,299호; 제5,844,026호; 제6,271,377호; 제5,980,783호; 제6,046,304호 및 제6,297,299호에 기재되어 있다. 조성물 중에 포함된 HALS는 이러한 첨가제 또는 HALS의 혼합물일 수 있고, 이들 중 다수가 당해 기술 분야에 익히 공지되어 있다. HALS는 또한 올리고머성 또는 중합체성일 수 있다.
본 발명은 또한 화학식 I, II, III, IV 또는 V의 화합물 하나 이상을 혼입시킴을 포함하는, 광활성 조성물을 안정화시키는 방법에 관한 것이기도 하다.
실시예
다음 작용 실시예는 전기활성 소자에 유용한 UV 안정화된 용매 시스템의 황변을 억제하는 데 있어서의 본 발명의 조성물의 유효성을 예시하는 것을 돕는다.
용액은 표준 조건을 사용하여 공기 중에서 제조되고, 경우에 따라 가열할 수 있다. UV 노출은 내부 자동 조건 J 1885하에 아틀라스(Atlas) 4,000 크세논 기후계(xenon weatherometer)로 수행했다. 황변은 직접 관찰하거나 가드너 색 측정에 의해 측정했다. 가드너 색수는 DIN ISO 4630으로 규정했고, 낮은 수는 낮은 색상 과 관련된다. UVA는 통상적 제품이거나 참조된 특허문헌에서와 같이 제조된다.
퍼센트는 다르게 기술되지 않는 한, 중량%이다.
실시예 1
프로필렌 카보네이트 중의 옥틸 3-(벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트의 용액(용매의 총 중량을 기본으로 하여, 3.8중량% UVA)을 제조했다. 1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트를 용매의 총 중량을 기준으로 하여, 0.2 및 0.4중량% 가한다. 생성되는 용액을 상기한 바와 같은 아틀라스 4,000 크세논 기후계에 노출시키고, 생성되는 색상을 지시된 총 발광에서 측정하여 하이드록실아민 시트레이트가 없는 용액과 비교한다.
하이드록실아민 시트레이트의 농도 가드너 수
128시간 256시간 512시간 640시간
--- 1.3 3.0 4.5 5.1
0.2% 0.7 0.6 0.5 0.4
0.4% 0.6 0.7 0.7 ---

Claims (16)

  1. i) 설폰, 아미드, 설폭사이드, 에테르, 폴리에테르, 폴리올, 니트릴, 케톤, 알데히드, 카복실산, 사이클릭 에스테르, 사이클릭 카보네이트, 글리시딜 에테르 카보네이트 및 규소/폴리올 공중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택된, 전자활성 소자에서 매질로서 적합한 1종 이상의 용매,
    ii) 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물 및
    iii) 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는, 전기활성 소자에서 매질로서 적합한 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 1종 이상의 용매 중의 하나 이상이 3-메틸설폴란, 테트라메틸렌 설폰, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 설폭사이드, 테트라글림, 에톡시에탄올, 아세토니트릴, 글루타로니트릴, 3-하이드록시프로피오니트릴, 메톡시프로피오니트릴, 3-에톡시프로피오니트릴, 2-메틸글루타로니트릴, 시아노에틸 수크로스, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아밀 케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 벤조일 아세톤, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온, 아세토페논, 아세트산, β-프로피오락톤, 2-아세틸부티로락톤, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 4-에테닐-1,3-디옥살란-2-온, 프로필렌 카보네이트, 에틸렌 카보네이트 및 1,2-부틸렌 카보네이트로 이루어진 그 룹으로부터 선택되는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 1종 이상의 용매 중의 하나 이상이 3-메틸설폴란, 테트라메틸렌 설폰, 테트라글림, 아세토니트릴, 글루타로니트릴, 3-하이드록시프로피오니트릴, 메톡시프로피오니트릴, 3-에톡시프로피오니트릴, 2-메틸글루타로니트릴, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아밀 케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 4-에테닐-1,3-디옥살란-2-온, 프로필렌 카보네이트, 에틸렌 카보네이트 및 1,2-부틸렌 카보네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 1종 이상의 자외선 흡수제 중의 하나 이상이 하이드록시페닐벤조트리아졸, 벤조페논, 벤족사존, α-시아노아크릴레이트, 옥사닐리드, 트리스-아릴-s-트리아진, 신나메이트, 말로네이트, 벤조에이트, 테레프탈산 및 이소프탈산과 레조르시놀 및 페놀, 벤질리덴 및 살리실레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 1종 이상의 자외선 흡수제 중의 하나 이상이 하이드록시페닐벤조트리아졸, 벤조페논 및 트리스-아릴-s-트리아진으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 성분 (c)의 1종 이상의 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이 드록실 아민 염 중의 하나 이상이 화학식 I, II 또는 III의 화합물인 조성물.
    화학식 I
    Figure 112008007871803-PCT00071
    화학식 II
    Figure 112008007871803-PCT00072
    화학식 III
    Figure 112008007871803-PCT00073
    상기 화학식 I 내지 III에서,
    G1 및 G2는 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, 함께 펜타메틸렌을 형성하고,
    Z1 및 Z2는 각각 메틸이거나, Z1 및 Z2는 함께, 에스테르, 에테르, 하이드록시, 옥소, 시아노하이드린, 아미드, 아미노, 카복시 또는 우레탄 그룹으로 추가로 치환될 수 있는 결합 잔기를 형성하고,
    X는 무기 또는 유기 음이온이고,
    양이온 h의 총 전하량은 음이온 j의 총 전하량과 같다.
  7. 제6항에 있어서, 성분 (c)의 1종 이상의 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염 중의 하나 이상이 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물:
    비스(1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
    비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리듐 시트레이트;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 비설페이트;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리딘;
    1-하이드록시 -2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 아세테이트;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리딘;
    1-하이드록실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리디늄 아세테이트;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리딘;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리디늄 아세테이트;
    1-옥실-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 클로라이드;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 비설페이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트;
    비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
    트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
    테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
    테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
    테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 에틸렌디아민테 트라아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
    트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
    트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
    트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트; 및
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트.
  8. 제6항에 있어서, 성분 (c)의 1종 이상의 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염 중의 하나 이상이 다음 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물:
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리듐 시트레이트;
    비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) 시트레이트;
    트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리디늄) 시트레이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 비설페이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄 시트레이트;
    비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) 시트레이트;
    트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소-피페리디늄) 시트레이트;
    1 -하이드록실-2,2,6,6-테트라메틸-4-메톡시-피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-프로폭시-피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2-하이드록시-4-옥사펜톡시)피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 클로라이드;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 아세테이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 비설페이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄 시트레이트;
    비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
    트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 시트레이트;
    1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄 시트레이트;
    비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 시트레이트;
    트리스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 시트레이트;
    테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
    테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
    테트라(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 에틸렌디아민테트라아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민 펜타아세테이트;
    트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
    트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
    트리(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 니트릴로트리아세테이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트;
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세트아미도피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트; 및
    펜타(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-옥소피페리디늄) 디에틸렌트리아민펜타메틸렌포스포네이트.
  9. 제1항에 있어서, 성분 (c)의 1종 이상의 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염 중의 하나 이상이 화학식 IV 또는 V의 하이드록실 아민 또는 하이드록실 아민 염인 조성물.
    화학식 IV
    Figure 112008007871803-PCT00074
    화학식 V
    Figure 112008007871803-PCT00075
    상기 화학식 IV 및 V에서,
    R1은 탄소수 1 내지 36의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬 또는 탄소수 7 내지 9의 아르알킬이거나, R1은 탄소수 1 내지 12의 알킬, 할로겐, 시아노, E1O-, E1CO-, E1OCO-, E1COO-, E1S-, E1SO-, E1SO2-, -NH2, -NHE1, -NE1E2, -PO(OE1)(OE2) 또는 -OPO(OE1)(OE2) 그룹 중의 1 내지 6개에 의해 치환된 탄소수 1 내지 36의 알킬, 탄소수 5 내지 12의 사이클로알킬 또는 탄소수 7 내지 9의 아르알킬이고,
    R2는 수소이거나 독립적으로 R1과 동일한 의미를 갖고, 여기서, R1 및 R2 중의 하나 이상은 -NOH 잔기에 대해 알파 위치 수소를 함유하거나,
    R1 및 R2는 함께 -NOH 잔기에 대해 알파 위치 탄소 치환된 수소를 하나 이상 함유하는 C2-12헤테로사이클릭 환을 형성하고, 여기서 C2-12헤테로사이클릭 환은 치환되지 않거나, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 할로겐, 시아노, E1O-, E1CO-, E1OCO-, E1COO-, E1S-, E1SO-, E1SO2-, -NH2, -NHE1, -NE1E2, -PO(OE1)(OE2) 또는 -OPO(OE1)(OE2) 그룹 중 1 내지 3개에 의해 치환되거나, C2-12헤테로사이클릭 환은 1 내지 3개의 -0-, -NE1-, -CO-, -CONE1-, -S-, -SO-, -SO2-, -COO-, -PO3- 또는 -PO4E1 그룹에 의해 차단되거나, 헤테로사이클릭 환은 상기한 그룹에 의해 치환되고 차단되고,
    E1 및 E2는 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬 또는 1 내지 3개의 하이드록실 그룹으로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬이거나, E1 및 E2는 독립적으로 하이드록실, 메톡시, 아세테이트 또는 프로피오네이트로 종결된 폴리(에틸렌 글리콜) 또는 폴리(프로필렌 글리콜)의 올리고머이고, 여기서 올리고머의 분자량은 약 500 이하이고,
    Y는 무기 또는 유기 음이온이다.
  10. 제1항에 있어서, 자외선 흡수제가, 용매의 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 25중량%로 존재하는 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로부터 선택된 첨가제가, 용매의 중량을 기준으로 하여, 0.001 내지 10중량%로 존재하는 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로부터 선택된 자외선 흡수제 및 첨가제가, 전체로, 용매의 중량을 기준으로 하여, 0.05 내지 30중량%로 존재하는 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 1종 이상의 용매 중의 하나 이상이 에스테르, 에폭사이드, 비닐 에테르, 방향족 탄화수소, 수소화 유기 용매, 포화된 직쇄 또는 측쇄 탄화수소, 실리콘 오일 및 저분자량 할로겐 함유 중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  14. i) 전기활성 소자에서 매질로서 적합한 1종 이상의 용매 및
    ii) 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는 조성물에 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 첨가함을 포함하는, 전기활성 소자에서 유용한 안정화된 매질의 제조방법.
  15. i) 전기활성 소자에서 매질로서 적합한 1종 이상의 용매 및
    ii) 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는 조성물에 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 첨가함을 포함하는, 전기활성 소자에서 매질을 안정화시키는 방법.
  16. i) 전기활성 소자에서 매질로서 적합한 1종 이상의 용매 및
    ii) 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물 및
    iii) 니트록실, 하이드록실 아민 및 하이드록실 아민 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제 화합물을 포함하는 조성물을 포함하는 전기활성 소자.
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