KR20070026623A - 수성/유기 금속 산화물 분산액 및 이로써 제조된 코팅 기판및 성형물 - Google Patents

수성/유기 금속 산화물 분산액 및 이로써 제조된 코팅 기판및 성형물 Download PDF

Info

Publication number
KR20070026623A
KR20070026623A KR1020067026907A KR20067026907A KR20070026623A KR 20070026623 A KR20070026623 A KR 20070026623A KR 1020067026907 A KR1020067026907 A KR 1020067026907A KR 20067026907 A KR20067026907 A KR 20067026907A KR 20070026623 A KR20070026623 A KR 20070026623A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal oxide
binder
oxide dispersion
dispersion
free metal
Prior art date
Application number
KR1020067026907A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100841880B1 (ko
Inventor
이 뎅
모니카 오스발트
클라우스 델러
Original Assignee
데구사 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 데구사 게엠베하 filed Critical 데구사 게엠베하
Publication of KR20070026623A publication Critical patent/KR20070026623A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100841880B1 publication Critical patent/KR100841880B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1283Control of temperature, e.g. gradual temperature increase, modulation of temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216Metal oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256Coating containing TiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1675Process conditions
    • C23C18/168Control of temperature, e.g. temperature of bath, substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/212TiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/111Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

금속 산화물의 함량이 15 중량%를 초과하고, 분산액 중의 금속 산화물 분말이 200 nm 미만의 수평균 응집체 직경을 가지며, 액체상으로서 물과 수혼화성 유기 용매의 혼합물을 포함하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액이 제공된다. 상기 금속 산화물 분산액으로 제조된 코팅된 기판 및 성형물이 제공된다.
결합제-부재 금속 산화물 분산액, 응집체, 수평균 응집체 직경, 금속 산화물 분말

Description

수성/유기 금속 산화물 분산액 및 이로써 제조된 코팅 기판 및 성형물{AQUEOUS/ORGANIC METAL OXIDE DISPERSION AND COATED SUBSTRATES AND MOULDINGS PRODUCED THEREWITH}
본 발명은 금속 산화물 분말, 물 및 수혼화성 유기 용매를 함유하는 금속 산화물 분산액, 및 이로써 제조된 코팅 기판 및 성형물에 관한 것이다.
졸-겔 공정에 의한 금속 산화물 층, 특히 이산화규소 층의 생산은 공지되어 있다. 여기서, 알콕시화 규소(Silicon alkoxide)는 촉매의 존재하에, 물을 첨가함으로써 부분적으로 또는 완전히 가수분해된다. 이러한 방식으로 수득한 졸은 예를 들어, 침지 코팅 또는 스핀 코팅 방법에 의한 코팅에 사용된다. 졸의 생산 공정은 복잡하다. 이는 일반적으로 알콕시화 금속의 가수분해에 의한 졸의 생산, 후속적인 겔화 단계를 포함하고, 졸의 화학적 조성에 따라 몇 초부터 몇 일에 걸쳐 지속될 수 있다. 만일 겔화가 너무 빨리 진행되지 않는다면, 졸로부터 기판 상에 층을 도포할 수 있다. 이러한 방식으로 제조된 층은 얇고, 일반적으로는 기껏해야 몇백 나노미터이다.
만일 더 두꺼운 층을 제조하려면 반복된 코팅 작업이 필요하다. 이러한 방식으로 제조된 층은 후속적인 건조 및 소결시, 흔히 균열을 일으키고 불규칙적인 층 두께를 야기하는 경향이 있다. 알콕시화 금속의 가수분해로 수득한 이러한 졸은 복잡한 "살아있는" 시스템으로, 그 거동은 온도, 습도, 알코올 함량 및 기타 변수들에 의해 민감하게 좌우되며, 조절 및 재현하기 어렵다는 점을 유의해야 한다.
WO 00/14013은 상기한 바와 같이 제조된 졸에 극미분된, 발열성 제조된(pyrogenically produced) 이산화규소 분말을 첨가하는 방법을 개시하고 있다. 이 방식에서는 졸의 충전제 함량을 증가시킬 수 있고, 단일 코팅 작업으로 수 마이크로미터 두께의 층을 생산할 수 있다. 이러한 방법에서 문제의 소지가 있는 특징은, 미분된 발열성 제조된 이산화규소 분말의 혼입이다.
발열성 제조된 금속 산화물 분말은 일반적으로, 폭발성 기체 화염에서 금속 산화물 전구체로부터 화염 가수분해 또는 화염 산화로 얻어지는 것으로 이해된다. 이러한 방법에서, 처음에는 대략 구형인 1차 입자들이 얻어지고, 이들은 반응 과정에 걸쳐 서로 함께 소결되어 응집체(aggregate)를 형성한다. 그 다음, 응집체가 결합되어 응괴물(agglomerate)을 형성할 수 있다. 일반적으로 에너지의 인입에 의해 응집체로 쉽게 파괴될 수 있는 응괴물과 달리, 응집체는 적어도 파괴된다면 강력한 에너지의 인입에 의해서만 추가로 파괴될 수 있다.
만일 발열성 제조된 상기 금속 산화물 분말을 이후 교반 에너지로 졸에 도입하면, 너무 이른 겔화가 일어날 위험성이 있다. 또한, 도입된 분말을 졸 내에 균일하게 분산시키기 어려운데, 이는 비균일 층을 야기할 수 있다.
다른 선행기술상의 접근 방법은, 결합제를 첨가함으로써 분산액의 도포를 개선시키는 것이다. 이 경우의 단점은, 소결 단계에서 결합제를 완전히 제거하기가 일반적으로 어렵다는 점이다. 변색 및 균열(cracking)이 발생할 수도 있다.
본 발명의 목적은 층의 도포에 적합하고 종래 기술의 단점을 회피하는 분산액을 제공하는 것이다. 분산액은 특히, 두껍고 균열이 없는(crack-free) 유리질 또는 세라믹 층의 생산에 적합해야 한다. 또한, 균열이나 비균일성이 없는 성형물의 생산에 적합해야 한다.
이러한 목적은 금속 산화물의 함량이 15 중량%를 초과하고, 분산액 중의 금속 산화물 분말이 200 nm 미만의 수평균 응집체 직경을 가지며, 액체상으로서 물과 수혼화성 유기 용매의 혼합물을 포함하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액에 의해 달성되는 것으로 밝혀졌다.
고품질의 층 및 성형물을 얻기 위해서는, 분산액 중의 금속 산화물 입자의 수평균 응집체 직경이 200 nm 미만이어야 할 필요가 있다. 더 굵은 응집체는 비균일한 코팅을 야기하여 코팅에 균열을 일으킨다. 분산액 중의 금속 산화물 분말은 바람직하게는, 100 nm 미만의 수평균 응집체 직경을 갖는다. 이렇게 작은 크기의 입자를 갖는 분산액은 특별한 분산 방법으로 제조될 수 있다. 적합한 분산 장치는 예를 들어, 회전자-고정자 기계 또는 플라네타리 혼련기일 수 있고, 여기서 특히, 100 nm 미만 직경의 응집체에 대해서는 고에너지 압연기가 특히 바람직할 수 있다. 이 장치에서는, 2개의 가압되고, 사전분산된 분산액 스트림이 노즐을 통해 감압된다. 2개의 분산액 제트는 서로 정확하게 충돌하여, 입자들이 서로를 분쇄시킨다. 다른 실시양태에서는, 이와 유사하게 사전분산액(predispersion)의 압력을 상승시키지만, 입자가 벽의 피복 부위(armoured area)와 충돌한다. 보다 작은 크기의 입자를 얻기 위해서는 바람직한 정도로 여러 번 작업을 반복할 수 있다.
본 발명에 따른 분산액은 먼저 바람직하게는, 고에너지 압연기를 사용하여 물 중의 금속 산화물의 분산액을 제조한 다음, 낮은 수준의 에너지를 가하면서, 예컨대 교반함으로써 여기에 유기 용매를 첨가하여 수득할 수 있다. 또한, 처음부터 물과 유기 용매를 목적하는 비율로 도입하고, 고에너지 압연기로 금속 산화물 분말을 분쇄할 수도 있다.
본 발명에 따른 분산액 중의 금속 산화물 분말의 함량은, 바람직한 실시양태에서는 분산액의 총량에 대해 10 내지 50 중량%이다.
사용된 금속 산화물 분말의 출처는, 본 발명에 따른 분산액에 대해 중요한 인자는 아니다. 그러나, 발열성 제조된 금속 산화물 분말이 바람직하게 사용될 수 있는 것으로 밝혀졌다. 예시적으로, 사염화규소의 화염 가수분해에 의한 이산화규소의 생산을 언급할 수 있다. 화염 가수분해 또는 화염 산화의 결합에 의한 발열성 공정에서 혼합 산화물을 수득할 수도 있다.
SiO2, Al2O3, TiO2, CeO2, ZrO2, In2O3, SnO, 또는 상기 언급한 금속의 혼합 산화물이 특히 바람직하다. 본원에서 혼합 산화물은 도핑된 금속 산화물, 예를 들어 은-도핑된 이산화규소도 포함한다.
발열성 금속 산화물 분말은 바람직하게는, 30 내지 200 m2/g의 BET 표면적을 갖는다.
본 발명에 따른 분산액에서 유기 용매의 선택은, 수혼화성이라면 중요한 것은 아니다. 본 발명에 따른 분산액은 바람직하게는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소-프로판올, n-부탄올, 글리콜, tert-부탄올, 2-프로판온, 2-부탄온, 디에틸 에테르, tert-부틸 메틸 에테르, 테트라히드로푸란 및(또는) 에틸 아세테이트를 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 분산액에서 물에 대한 유기 용매의 비율은, 주로 금속 산화물 및 분산액에서의 그의 바람직한 함량에 의해 결정된다. 물에 대한 유기 용매의 부피비가 0.5 내지 5인 것이, 높은 품질의 코팅 및 성형물을 생산하는 것으로 밝혀졌다.
본 발명에 따른 분산액은 또한, 산 작용을 하는 성분, 염기 작용을 하는 성분 및(또는) 염을, 각각의 경우, 용해된 형태로 추가로 함유할 수 있다.
특히 바람직한 분산액은 이하의 특징을 갖는 것이다:
- 금속 산화물 분말은 40 내지 120 m2/g의 BET 표면적을 갖는 발열성 제조된 이산화티타늄이고,
- 전체 분산액에 대한 이산화티타늄의 함량은 15 중량% 이상이며,
- 분산액 중의 수평균 응집체 직경은 100 nm 미만이고,
- 유기 용매는 에탄올이며,
- 물에 대한 에탄올의 부피비(ratio by volume)가 0.5 내지 2.5이고,
- pH 값이 2.5 내지 9이다.
본 발명은 또한, 본 발명에 따른 분산액으로 코팅된 기판을 제공한다.
상기 코팅된 기판을 생산하는 방법은 분산액을 침지 코팅, 브러쉬 도포, 분무 또는 나이프 코팅으로 기판 상에 도포한 후, 층을 건조시켜 기판에 접착시키고, 이어 소결하는 것을 포함한다.
적합한 기판은 금속 또는 합금 기판, 열팽창 계수가 매우 낮은 물질(초저팽창 물질), 붕규산 유리, 석영 유리, 유리질 세라믹 또는 실리콘 웨이퍼일 수 있다.
본 발명은 또한, 본 발명에 따른 분산액으로 제조된 성형물을 제공한다.
성형물의 생산 방법은 본 발명에 따른 분산액을 바람직하게는, 소수성 물질의 금형에 부은 다음, 100℃ 미만의 온도에서 건조시키고, 금형으로부터 제거한 후 임의로 60℃ 내지 120℃의 온도에서 후건조시키고, 이어서 소결하는 것을 포함한다.
출발 분산액 D-90-0: BET 표면적이 약 90 m2/g, (수-)평균 응집체 직경이 87 nm, pH 값이 7.2인, 발열성 제조된 이산화티타늄 분말의 물 중의 30 중량% 분산액.
출발 분산액 D-50-0: BET 표면적이 약 50 m2/g, (수-)평균 응집체 직경이 69 nm, pH 값이 6.2인, 발열성 제조된 이산화티타늄 분말의 물 중의 40 중량% 분산액.
분산액 D-90-1(비교): 물 100 ml를 분산액 D-90-0 150 ml 내에서 교반했다.
분산액 D-50-1(비교): 물 100 ml를 분산액 D-50-0 150 ml 내에서 교반했다.
분산액 D-90-2(본 발명에 따른): 에탄올 100 ml를 분산액 D-90-0 150 ml 내 에서 교반했다.
분산액 D-50-2(본 발명에 따른): 에탄올 100 ml를 분산액 D-90-0 150 ml 내에서 교반했다.
물 또는 에탄올로 희석한 샘플 중의 수평균 응집체 직경은 출발 분산액의 값과 동일했다.
유리 기판을 물- 또는 에탄올-희석한 분산액으로 침지-코팅한 다음, 100℃ 미만의 온도에서 건조시키고, 이어서 약 500℃의 온도에서 열처리했다.
균열, 표면 균일성 및 층 두께와 관련한 층의 품질을 광학 현미경 및 주사 전자 현미경(SEM)으로 분석했다.
그 결과, 출발 분산액으로 제조된 층은 단지 건조시키기만 한 후에도 부분적으로 분리된 것으로 나타났다. 물로 희석한 분산액은 균열이 없는 층을 생산했지만, 층 두께가 균일하지 않았다(변화함). 반면, 에탄올로 희석한 분산액으로 제조된 층은 균열이 없고 두께가 균일한 층이 되었다. 도 1은 분산액 D-90-2로 코팅된 유리가 균일한 층 두께를 가짐을 보여주는 SEM 현미경 사진이다.

Claims (14)

  1. 금속 산화물의 함량이 15 중량%를 초과하고, 분산액 중의 금속 산화물 분말이 200 nm 미만의 수평균 응집체 직경을 가지며, 액체상으로서 물과 수혼화성 유기 용매의 혼합물을 포함하는, 결합제-부재(binder-free) 금속 산화물 분산액.
  2. 제1항에 있어서, 평균 2차 입자 크기가 100 nm 미만임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 금속 산화물 분말의 함량이 10 내지 50 중량%임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 금속 산화물 분말이 발열성 제조된(pyrogenically produced) 것임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  5. 제4항에 있어서, 상기 발열성 제조된 금속 산화물 분말이 SiO2, Al2O3, TiO2, CeO2, ZrO2, In2O3, SnO, SbO, 또는 상기 금속의 혼합 산화물임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 발열성 제조된 금속 산화물 분말이 30 내지 200 m2/g의 BET 표면적을 갖는 것을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 용매가 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소-프로판올, n-부탄올, 글리콜, tert-부탄올, 2-프로판온, 2-부탄온, 디에틸 에테르, tert-부틸 메틸 에테르, 테트라히드로푸란 및(또는) 에틸 아세테이트임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  8. 제1항 내지 제7항에 있어서, 물에 대한 유기 용매의 부피비가 0.5 내지 5임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  9. 제1항 내지 제8항에 있어서, 산 작용을 하는 성분, 염기 작용 하는 성분 및(또는) 염을 함유하는 것을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  10. 제1항에 있어서,
    - 금속 산화물 분말이 40 내지 120 m2/g의 BET 표면적을 갖는 발열성 제조된 이산화티타늄이고,
    - 전체 분산액에 대한 이산화티타늄의 함량이 15 중량% 이상이며,
    - 분산액 중의 평균 2차 입자 크기가 100 nm 미만이고,
    - 유기 용매가 에탄올이며,
    - 물에 대한 에탄올의 부피비(ratio by volume)가 0.5 내지 2.5이고,
    - pH 값이 2.5 내지 9.0
    임을 특징으로 하는, 결합제-부재 금속 산화물 분산액.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 결합제-부재 금속 산화물 분산액으로 코팅된 기판.
  12. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 결합제-부재 금속 산화물 분산액을 침지 코팅, 브러쉬 도포, 분무 또는 나이프 코팅으로 기판 상에 도포한 후, 층을 건조시켜 기판에 접착시키고, 이어서 소결하는 것을 포함하는, 제11항에 따른 코팅된 기판의 생산 방법.
  13. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 결합제-부재 금속 산화물 분산액으로 제조된 성형물.
  14. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 결합제-부재 금속 산화물 분산액을 바람직하게는, 소수성 물질의 금형에 부은 다음, 100℃ 미만의 온도에서 건조시키 고, 금형으로부터 제거한 후 임의로 60℃ 내지 120℃의 온도에서 후건조시키고, 이어서 소결하는 것을 특징으로 하는, 제13항에 따른 성형물의 제조 방법.
KR1020067026907A 2004-06-22 2005-06-11 수성/유기 금속 산화물 분산액 및 이로써 제조된 코팅 기판및 성형물 KR100841880B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004030104A DE102004030104A1 (de) 2004-06-22 2004-06-22 Wässerig/organische Metalloxid-Dispersion und mit damit hergestellte beschichtete Substrate und Formkörper
DE102004030104.2 2004-06-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070026623A true KR20070026623A (ko) 2007-03-08
KR100841880B1 KR100841880B1 (ko) 2008-06-27

Family

ID=34971598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067026907A KR100841880B1 (ko) 2004-06-22 2005-06-11 수성/유기 금속 산화물 분산액 및 이로써 제조된 코팅 기판및 성형물

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20080032117A1 (ko)
EP (1) EP1759037A2 (ko)
JP (1) JP2008503430A (ko)
KR (1) KR100841880B1 (ko)
CN (1) CN101087901B (ko)
DE (1) DE102004030104A1 (ko)
WO (1) WO2005123980A2 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2633809A1 (en) 2005-12-11 2007-06-14 Scf Technologies A/S Production of nanosized materials
DE102006017700A1 (de) * 2006-04-15 2007-10-25 Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxid enthaltende Dispersion zur Herstellung titanhaltiger Zeolithe
JP5193229B2 (ja) * 2007-01-29 2013-05-08 エボニック デグサ ゲーエムベーハー インベストメント鋳造のためのフュームド金属酸化物
DE102010021648A1 (de) 2009-05-26 2011-01-05 Auth, Matthias, Dr. Verfahren zur Beschichtung von Glasfasern oder Halbzeugen für die optische Industrie
BE1020692A3 (fr) * 2012-05-16 2014-03-04 Prayon Sa Procede de fabrication d'un materiau composite.
KR102361241B1 (ko) * 2014-09-05 2022-02-09 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 산화지르코늄 입자의 유기 용매 분산체와 그 제조 방법
BE1023239B1 (fr) * 2014-12-19 2017-01-06 Prayon Procédé pour le dépôt de films minces par voie humide
CN106325020A (zh) * 2016-09-23 2017-01-11 深圳市科洛德打印耗材有限公司 涂液、涂液的制作方法、清洁刮刀的制作方法及清洁刮刀

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6454613A (en) * 1987-08-25 1989-03-02 Catalysts & Chem Ind Co Application liquid for forming transparent superconductive film and manufacture thereof
WO1988006331A1 (en) * 1987-02-10 1988-08-25 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating fluid for forming electroconductive coat
JPS63195686A (ja) * 1987-02-10 1988-08-12 触媒化成工業株式会社 表示装置及びその製造法
IL86604A (en) * 1988-06-02 1994-01-25 Bromine Compounds Ltd Flame-retardant preparations containing pentbromobenzyl acrylate or the reaction products in place of the acrylate
JP4019453B2 (ja) * 1996-07-30 2007-12-12 日産化学工業株式会社 結晶性酸化第二セリウムの製造方法
KR100510815B1 (ko) * 1997-05-07 2005-10-24 제이에스알 가부시끼가이샤 무기입자의 수성분산체 및 그의 제조방법
KR100696201B1 (ko) * 1998-05-14 2007-03-20 쇼와 덴코 가부시키가이샤 산화티탄졸, 박막 및 그들의 제조법
CA2398876A1 (en) * 2000-01-24 2001-07-26 Yazaki Corporation Sol-gel process for producing synthetic silica glass
WO2001053225A1 (en) * 2000-01-24 2001-07-26 Yazaki Corporation Sol-gel process for producing synthetic silica glass
TWI272249B (en) * 2001-02-27 2007-02-01 Nissan Chemical Ind Ltd Crystalline ceric oxide sol and process for producing the same
JP4117448B2 (ja) * 2001-02-27 2008-07-16 日産化学工業株式会社 結晶性酸化第二セリウムゾル及びその製造方法
DE10225125A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-18 Goldschmidt Ag Th Wässerige Dispersion enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel
DE10304849A1 (de) * 2003-02-06 2004-08-19 Institut für Neue Materialien gemeinnützige Gesellschaft mit beschränkter Haftung Chemomechanische Herstellung von Funktionskolloiden
DE10360464A1 (de) * 2003-12-22 2005-07-14 Wacker-Chemie Gmbh Dispersion die mindestens 2 Arten von Partikeln enthält
DE102004030093A1 (de) * 2004-06-22 2006-01-12 Degussa Ag Metalloxid-Sol, damit hergestellte Schicht und Formkörper
US7687401B2 (en) * 2006-05-01 2010-03-30 Ferro Corporation Substantially spherical composite ceria/titania particles

Also Published As

Publication number Publication date
DE102004030104A1 (de) 2006-01-12
WO2005123980A3 (en) 2007-07-26
JP2008503430A (ja) 2008-02-07
EP1759037A2 (en) 2007-03-07
CN101087901A (zh) 2007-12-12
WO2005123980A2 (en) 2005-12-29
US20080032117A1 (en) 2008-02-07
KR100841880B1 (ko) 2008-06-27
CN101087901B (zh) 2010-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100841880B1 (ko) 수성/유기 금속 산화물 분산액 및 이로써 제조된 코팅 기판및 성형물
US20070259176A1 (en) Metal Oxide Sol, Layer Produced Therewith and Shaped Article
CA2947499C (fr) Particules inorganiques individualisees
US20070166226A1 (en) Process for preparing mesoporous materials
JP2007512217A (ja) 断熱材
CN112645699B (zh) 晶须协同max相增韧的稀土硅酸盐材料及其制备方法
JP5490748B2 (ja) ペロブスカイト型酸化物多孔質体の製造方法
US9469806B2 (en) Sintering aid coated YAG powders and agglomerates and methods for making
EP2122008B1 (de) Feinste interferenzpigmente enthaltende glasschichten auf metall-, glas- und keramikoberflächen und verfahren zu deren herstellung
JP4015543B2 (ja) 火炎加水分解により製造される珪素−チタン混合酸化物粉末を含有する層、その製造方法、珪素−チタン混合酸化物粉末の分散液および層の使用
KR100855809B1 (ko) 금속 산화물 졸, 이를 사용하여 생성된 층 및 성형품
KR100477200B1 (ko) 초음파 분무 열분해법을 이용한 실리카 분말의 제조방법
KR20080047020A (ko) 액적낙하장치를 이용한 구형의 실리카 에어로겔 제조방법
EP1694610A1 (en) Dispersion of a metal-oxide powder containing binding agent and layer obtained therewith
KR20130026466A (ko) 실리케이트 글라스 버블 복합입자의 제조방법
JPH0551539B2 (ko)
JP2017109908A (ja) 多孔質酸化チタン被膜の製造方法及び多孔質酸化チタン被膜
KR20010027999A (ko) 졸-겔 공정용 실리카 글래스 조성물
JP2010036469A (ja) 水酸化フッ素化マグネシウム超微粒子層を有する積層構造体及び製法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120611

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130607

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee